JP4729428B2 - セリウム系研磨剤の再生方法 - Google Patents
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Description
また、本発明の目的は、使用済みセリウム系研磨剤を、研磨剤粒子を凝集させる等の問題があり、また、セリウム系研磨剤の研磨レートを低下させる原因となっているSi成分やAl成分の除去率が低いアルカリを使用しない再生処理方法を提供することである。
〔1〕
使用済みセリウム系研磨剤を処理して再生研磨剤を得る方法において、当該使用済み研磨剤粒子を水で再分散したスラリーを、スラリー状態のまま少なくとも二種類以上の無機酸を併用して処理する工程を含むことを特徴とするセリウム系研磨剤の再生方法。
使用済みセリウム系研磨剤を処理して再生研磨剤を得る方法であって、
(1) 当該使用済み研磨剤粒子を水で再分散したスラリーとする工程
(2) 当該再分散スラリーを二種類以上の無機酸を併用して処理する工程、
(3) 得られた酸処理スラリーを固液分離する工程、及び
(4) 得られたケーキを乾燥し、解砕する工程からなることを特徴とするセリウム系研磨剤の再生方法。
使用済みセリウム系研磨剤を処理して再生研磨剤を得る方法であって、
(1) 当該使用済み研磨剤粒子を水で再分散したスラリーとする工程、
(2) 当該再分散スラリーを二種類以上の無機酸を併用して処理する工程、
(3) 得られた酸処理スラリーを固液分離する工程、
(4) 得られたケーキを乾燥する工程、及び
(5) 当該乾燥ケーキをさらに焼成し、解砕する工程からなることを特徴とするセリウム系研磨剤の再生方法。
塩酸、硫酸及び硝酸の一種とフッ酸を併用する〔1〕乃至〔3〕のいずれか1つに記載のセリウム系研磨剤の再生方法。
本発明において、使用済み研磨剤とは、研磨レートが大幅に低下したセリウム系研磨剤スラリーに、凝集剤を添加して、研磨剤粒子を凝集させ、固液分離手段で回収され湿ケーキ(脱水ケーキ)または乾燥ケーキ状の研磨剤粒子である。
このスラリー化処理を行うための装置としては撹拌手段を備えた容器が好ましい。
当該再分散された使用済み研磨剤の再分散スラリー16に酸18が添加され処理される。酸処理工程20に使用される酸としては、当該研磨剤表面に被着したガラス成分(Si成分)や不純物成分(Al成分、Fe成分等)を溶解、分解または洗浄等により可溶化又は遊離させ、研磨剤粒子より除去しうるものであれば無機酸でも有機酸でもよいが、効果の点でより作用の強い無機酸が好ましい。無機酸としてはフッ酸、塩酸、臭素酸、硫酸、硝酸、リン酸等が例示される。これらの酸は2種類以上を併用する。例えば、フッ酸と塩酸、フッ酸と硫酸等を併用することにより、ガラス成分(Si成分)を主としてフッ酸により除去し、他の不純物成分(Al成分、Fe成分等)を主として塩酸や硫酸で除去するようにして、それぞれの成分を選択的に除去し全体としてより除去効率を高めることができる。
かくして酸処理された処理スラリー22は、固液分離工程24に処され、研磨剤粒子ケーキ26と濾液25に分離される。当該濾液25(母液または上澄み液)には、研磨剤粒子中のガラス成分(Si成分)、その他の不純物成分(Al成分、Fe成分等)の大部分が酸により可溶化又は遊離して移行している。かくして研磨剤粒子と不純物成分が分離される。
研磨剤粒子ケーキ26を乾燥工程28、解砕工程30のみにより最終的な再生研磨剤とするものである。乾燥を実施するための装置としては特に限定するものではなく、例えば、箱形乾燥機、バンド乾燥機、真空乾燥機、気流乾燥機、噴霧乾燥機、撹拌型乾燥機、振動乾燥機、熱風乾燥機等が適用される。
フロー2のスキームは、フロー1の乾燥工程28に引き続いて、焼成工程29を行うものである。当該焼成工程を実施することにより、後記実施例に示すように、その比表面積(3.45m2/g)、結晶子径(198Å)に示されているような劣化していた物性が、当該再生工程によりほぼ完全に回復することが特筆される。
(1)(使用済み研磨剤A)
(i)再生試験に使用する使用済み研磨剤Aとして、ガラスカレットや研磨パッドの繊維屑などのごみが除去され、研磨剤スラリーを濾過した湿ケーキ(含水率21.7質量%)を使用した。使用済み研磨剤Aのドライベースでの成分組成は、TREO(Total Rare Earth Oxide/全酸化希土)(=CeO2+La2O3+Nd2O3+Pr6O11)(以下の実施例において同じ)93.8%、(なお、TREOに対する上記各酸化物の質量比率は、CeO2 60.3%、La2O3 33.3%、Nd2O3 0.9%、Pr6O11 5.7%)であり、その他フッ素分(F)6.1%、Si分0.66%、Al分0.33%、Fe分0.33%であった。
a)BET法による比表面積(島津製作所社製、装置名Micro Meritics Flow SorbII 2300により測定。以下同じ)は、11.34m2/gであった。
b)結晶子径(粉末X線回装置(リガク社製、CuKα線、Rint−2000型)により、Scherrer法で測定。以下同じ。)は、166Åであった。
(i)脱水ケーキ状の使用済み研磨剤Aの2kgを、ポリエチレン製ビーカーに秤り取り、スラリー濃度が約30%になるよう水3Lを加え撹拌して再分散スラリーとした。(第1工程、スラリー化工程)
(ii)当該再分散スラリーを以下のようにして酸処理した。すなわち、35%塩酸35mL(ケーキ中の含有Al、Fe成分に対し1.3当量)を徐々に加え、室温で2時間撹拌し塩酸による酸処理を行った。
さらに、当該スラリーに、46%フッ酸58g(ケーキ中の含有Si成分に対し1.3当量)を徐々に加え、50℃に加温し5時間撹拌し、フッ酸による酸処理を行った。(第2工程、酸処理工程)
(i)再生した研磨剤A’の成分組成は、TREO(=CeO2+La2O3+Nd2O3+Pr6O11)94.8質量%、(なお、TREOに対する上記各酸化物の質量比率は、CeO2 59.4%、La2O3 33.5%、Nd2O3 0.9%、Pr6O11 5.9%)であり、その他フッ素分(F)6.0%、Si分0.09%、Al分0.03%以下、Fe分含有量0.09%であった。
a)BET法による比表面積は、10.92m2/gであった。
b)結晶子径は、169Åであった。
以上の再生研磨剤A’の物性を表1〜4にまとめて示した。
(i)研磨試験機は、浜井産業社製両面ポリシングマシン、6BF型を用いた。試験に用いた被研磨ガラス板は、旭硝子社製の無アルカリ硝子(商品名:AN−100(ガラス組成中のSiO2含有量約60質量%%、試験板寸法(正方形):100mm/100mm/0.7mm)を用いた。
(iii) 研磨剤スラリーは、研磨剤濃度を15質量%(残部は水)とし、供給量1.8L/minとして循環させながら使用した。
(i)フロー1の工程(乾燥、解砕)を含む再生処理工程による実施例1では、再生研磨剤A’については、未使用の新品研磨剤A0 と比較して成分組成、粒度については、ほとんど差異は認められないが、その比表面積(10.92m2/g)、結晶子径(169Å)にかかる物性が、A0の値(3.82m2/g、202Å)と比較して、比表面積が増大し、また結晶子径が大きく低下しているという事実から、研磨剤粒子A’は使用済み研磨剤Aの劣化が当該フロー1の工程により完全に回復してはいないと思われる。
(ii)表5に示すように、A’により研削量の相対値87は、未使用の新品研磨剤A0100に対する約10%低い結果となった。しかしながら、当該相対値87を有している再生研磨剤A’は、研磨剤として十分に使用できるものである。
(1)(使用済み研磨剤A)
再生試験に使用する使用済み研磨剤Aは実施例1におけるものと同様のものを使用した。
(i)脱水ケーキ状の使用済み研磨剤Aの2kgを、ポリエチレン製ビーカーに秤り取り、スラリー濃度が約30%になるよう水3Lを加え撹拌して再分散スラリーとした。(第1工程、スラリー化工程)
さらに、当該スラリーに、46%フッ酸58g(ケーキ中の含有Si成分に対し1.3当量)を徐々に加え、50℃に加温し5時間撹拌し、フッ酸による酸処理を行った。(第2工程、酸処理工程)
(i)再生した研磨剤A’’の成分組成は、TREO(=CeO2+La2O3+Nd2O3+Pr6O11)94.7%、(なお、TREOに対する上記各酸化物の質量比率は、CeO2 59.7%、La2O3 33.2%、Nd2O3 0.9%、Pr6O11 5.8%)であり、その他フッ素分(F)6.0%、Si分0.07%、Al分0.03%以下、Fe分0.15%であった。
a)BET法による比表面積は、3.45m2/gであった。
b)結晶子径は、198Åであった。
以上の再生研磨剤A’’の物性を表1〜4にまとめて示した。
(i)研磨試験は、実施例1と同じ研磨試験機を使用し、実施例1と同様にして行った。
(ii)実施例1と同様にして、被研磨ガラス板の質量差から研削量を算出した。当該研削量を未使用研磨剤(新品研磨剤)A0の研削量を100としたときの相対表示として示すと98であった。結果を表5に示した。
(i)フロー2の焼成、解砕工程を含む再生処理工程による実施例2においては、再生研磨剤A’’については、未使用の新品研磨剤A0 と比較して成分組成、粒度については、ほとんど差異は認められないばかりでなく、その比表面積(3.45m2/g)、結晶子径(198Å)にかかる物性が、A0の値(3.82m2/g、202Å)と比較しても、ほぼ実質的に回復している事実が認められる。研磨剤粒子A’’は、使用済み研磨剤の劣化が当該再生工程によりほぼ完全に回復していると思われる。
(1)(使用済み研磨剤B)
(i)再生試験に使用する使用済み研磨剤Bとして、ガラスカレットや研磨パッドの繊維屑などのごみが除去され、研磨剤スラリーを濾過した湿ケーキ(含水率47.5質量%)を使用した。使用済み研磨剤Bのドライベースでの成分組成は、TREO(=CeO2+La2O3+Nd2O3+Pr6O11)81.5%、(なお、TREOに対する上記各酸化物の質量比率は、CeO2 60.9%、La2O3 33.0%、Nd2O3 1.0%、Pr6O11 6.0%)であり、その他フッ素分(F)5.2%、Si分2.70%、Al分0.90%、Fe分6.88%であった
a)BET法による比表面積は、18.7m2/gであった。
b)結晶子径は、167Åであった。
以上の使用済み研磨剤Bの物性を表6〜9にまとめて示した。また、未使用の新品研磨剤B0の物性についても、表6〜9にあわせて示した。
(i)脱水ケーキ状の使用済み研磨剤Bの3kgを、ポリエチレン製ビーカーに秤り取り、スラリー濃度が約30%になるよう水3Lを加え撹拌して再分散スラリーとした。(第1工程、スラリー化工程)
さらに、当該スラリーに、46%フッ酸240g(ケーキ中の含有Si成分に対し1.3当量)を徐々に加え、50℃に加温し5時間撹拌し、フッ酸による酸処理を行った。
(第2工程、酸処理工程)
上記の第2工程と第3工程とを再度繰り返した。
(i)再生した研磨剤B’の成分組成は、TREO(=CeO2+La2O3+Nd2O3+Pr6O11)93.7%、(なお、TREOに対する上記各酸化物の質量比率は、CeO2 60.5%、La2O3 32.1%、Nd2O3 1.0%、Pr6O11 6.2%)であり、その他フッ素分(F)5.2%、Si分0.10%、Al分0.03%以下、Fe分0.17%であった。
a)BET法による比表面積は、19.1m2/gであった。
b)結晶子径は、176Åであった。
以上の再生研磨剤B’の物性を表6〜9にまとめて示した。また、未使用の新品研磨剤B0の物性についても、表6〜9にあわせて示した。なお、表6は研磨剤の組成(質量%)、表7は研磨剤の粒度(μm)、表8は研磨剤の比表面積(m2/g)、表9は研磨剤粒子の結晶子径(Å)である。
(i)研磨試験は、実施例1と同じ研磨試験機を使用し、実施例1と同様にして行った。
(ii)実施例1と同様にして、被研磨ガラス板の質量差から研削量を算出した。当該研削量を未使用研磨剤(新品研磨剤)の研削量を100としたときの相対表示として示すと84であった。結果を表10に示した。
(i)フロー1の工程(乾燥、解砕)を含む再生処理工程による実施例3では、再生研磨剤B’については、未使用の新品研磨剤B0 と比較して成分組成、粒度については、ほとんど差異は認められないが、その比表面積(19.1m2/g)、結晶子径(176Å)にかかる物性が、B0の値(3.82m2/g、202Å)と比較して、比表面積が増大し、また結晶子径が大きく低下しているという事実から、研磨剤粒子B’は使用済み研磨剤の劣化が当該再生工程により完全に回復してはいないと思われる。
(1)(使用済み研磨剤B)
再生試験に使用する使用済み研磨剤Bと実施例3におけるものと同様のものを使用した。
(2)(使用済み研磨剤Bの再生処理)
さらに、当該スラリーに、46%フッ酸240g(ケーキ中の含有Si成分に対し1.3当量)を徐々に加え、50℃に加温し5時間撹拌し、フッ酸による酸処理を行った。
(第2工程、酸処理工程)
(i)再生した研磨剤B’’の成分組成は、TREO(=CeO2+La2O3+Nd2O3+Pr6O11)94.5%、(なお、TREOに対する上記各酸化物の質量比率は、CeO2 60.2%、La2O3 32.8%、Nd2O3 0.9%、Pr6O11 5.9%)であり、その他フッ素分(F)5.1%、Si分0.09%、Al分0.03%以下、Fe分0.13%であった。
a)BET法による比表面積は、3.26m2/gであった。
b)結晶子径は、213Åであった。
以上の再生研磨剤B’’の物性を表6〜9にまとめて示した。
(i)研磨試験は、実施例1と同じ研磨試験機を使用し、実施例1と同様にして行った。
(ii)実施例1と同様にして、被研磨ガラス板の質量差から研削量を算出した。当該研削量を未使用研磨剤(新品研磨剤)の研削量を100としたときの相対表示として示すと97であった。結果を表10に示した。
(i)フロー2の焼成、解砕工程を含む再生処理工程による実施例4においては、再生研磨剤B’’については、未使用の新品研磨剤B0 と比較して成分組成、粒度については、ほとんど差異は認められないばかりでなく、その比表面積(3.26m2/g)、結晶子径(213Å)にかかる物性が、B0の値(3.82m2/g、202Å)と比較しても、ほぼ未使用研磨剤並みに回復している事実が認められる。研磨剤粒子B’’は、使用済み研磨剤の劣化が当該再生工程によりほぼ完全に回復していると思われる。
Claims (4)
- 使用済みセリウム系研磨剤を処理して再生研磨剤を得る方法において、当該使用済み研磨剤粒子を水で再分散したスラリーを、スラリー状態のまま少なくとも二種類以上の無機酸を併用して処理する工程を含むことを特徴とするセリウム系研磨剤の再生方法。
- 使用済みセリウム系研磨剤を処理して再生研磨剤を得る方法であって、
(1)当該使用済み研磨剤粒子を水で再分散したスラリーとする工程
(2)当該再分散スラリーを二種類以上の無機酸を併用して処理する工程、
(3)得られた酸処理スラリーを固液分離する工程、及び
(4)得られたケーキを乾燥し、解砕する工程からなることを特徴とするセリウム系研磨剤の再生方法。 - 使用済みセリウム系研磨剤を処理して再生研磨剤を得る方法であって、
(1)当該使用済み研磨剤粒子を水で再分散したスラリーとする工程、
(2)当該再分散スラリーを二種類以上の無機酸を併用して処理する工程、
(3)得られた酸処理スラリーを固液分離する工程、
(4)得られたケーキを乾燥する工程、及び
(5)当該乾燥ケーキをさらに焼成し、解砕する工程からなることを特徴とするセリウム系研磨剤の再生方法。 - 塩酸、硫酸及び硝酸の一種とフッ酸を併用する請求項1乃至3のいずれか1項に記載のセリウム系研磨剤の再生方法。
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