JP4659829B2 - 高純度ニッケルを生成する方法 - Google Patents
高純度ニッケルを生成する方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4659829B2 JP4659829B2 JP2007522898A JP2007522898A JP4659829B2 JP 4659829 B2 JP4659829 B2 JP 4659829B2 JP 2007522898 A JP2007522898 A JP 2007522898A JP 2007522898 A JP2007522898 A JP 2007522898A JP 4659829 B2 JP4659829 B2 JP 4659829B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- solution
- purity nickel
- electrodeposition
- purity
- nickel
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 147
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 title claims description 73
- 238000000034 method Methods 0.000 title description 13
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 38
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 claims description 36
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims description 23
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 claims description 21
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 claims description 17
- 238000000746 purification Methods 0.000 claims description 14
- 239000003957 anion exchange resin Substances 0.000 claims description 13
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 11
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims description 9
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 6
- 239000003350 kerosene Substances 0.000 claims description 6
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 claims description 6
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 claims description 6
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 claims description 5
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 claims description 5
- 239000000284 extract Substances 0.000 claims description 5
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 claims description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 claims description 3
- 239000012510 hollow fiber Substances 0.000 claims description 2
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 claims 1
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 88
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 31
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 description 11
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 10
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 10
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 10
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 8
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 229910052776 Thorium Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910052770 Uranium Inorganic materials 0.000 description 6
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 6
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 4
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 4
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 4
- 150000004965 peroxy acids Chemical class 0.000 description 4
- 239000011550 stock solution Substances 0.000 description 4
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 4
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 238000005349 anion exchange Methods 0.000 description 2
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000001036 glow-discharge mass spectrometry Methods 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005477 sputtering target Methods 0.000 description 2
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 2
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001030 Iron–nickel alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018100 Ni-Sn Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018532 Ni—Sn Inorganic materials 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012620 biological material Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000000502 dialysis Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 238000013094 purity test Methods 0.000 description 1
- 230000002285 radioactive effect Effects 0.000 description 1
- -1 radioactive elements Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 229910000601 superalloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 1
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
- C22B23/00—Obtaining nickel or cobalt
- C22B23/06—Refining
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25C—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC PRODUCTION, RECOVERY OR REFINING OF METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25C1/00—Electrolytic production, recovery or refining of metals by electrolysis of solutions
- C25C1/06—Electrolytic production, recovery or refining of metals by electrolysis of solutions or iron group metals, refractory metals or manganese
- C25C1/08—Electrolytic production, recovery or refining of metals by electrolysis of solutions or iron group metals, refractory metals or manganese of nickel or cobalt
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
- C22B3/00—Extraction of metal compounds from ores or concentrates by wet processes
- C22B3/20—Treatment or purification of solutions, e.g. obtained by leaching
- C22B3/42—Treatment or purification of solutions, e.g. obtained by leaching by ion-exchange extraction
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/20—Recycling
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
Description
高純度ニッケルを生成する方法であって、３Ｎ電解ニッケルを原料とし塩酸溶液体系を用いて高純度ニッケルを電着生成する方法に関する。
新規高度技術産業の更なる発展には十分な特殊材料を提供することが要求され、既に種々の金属が新規高度技術産業の戦略的物質とすることができるものとして知られており、その純度に対する要求は、極めて高い純度にまで達している。高純度及び超高純度の金属の生成、特性及び応用は、現代の材料科学及び工業技術の分野において、最新で、かつ活力があり、絶えず成長している分野に該当する。５Ｎ以上の高純度金属は、半導体素子及び超大規模集積素子の生産において広範に応用される。電子部品やプリント基板の生産には、およそ高純度のガリウム、インジウム、ヒ素、アンチモン、カドミウム、錫、鉛、錫、テルリウム、ビスマス、硫黄、亜鉛、銅、セレン、リン等の２０余りの高純度金属及びその化合物や合金材料が必要になる。
ニッケルは、通常は、従来のステンレス鋼や合金等の分野に用いられる。近年の特殊な分野では高純度ニッケルに対する要求が次第に高まってきている。例えば、高純度ニッケルで製造された超合金は航空エンジンの製造に用いられ、原子炉の保護材料に用いられ、生物材料に用いられ、低膨張合金に用いられる。電子工業用の高純度ニッケルも次第に増加している。例えば、一種の特殊な鉄ニッケル系合金はリードフレームに広範に用いられ、他の種類のＣｕ−Ｎｉ−Ｓｎ合金は接続インターフェースに用いられる。高純度ニッケルは、更に水素化触媒及びその他の化学製剤に用いられる。高純度ニッケルが大規模集積回路及びその配線材料、磁性薄膜、特殊封入材料に用いられる際には、アルカリ金属、放射性元素、遷移金属元素、気体元素等の不純物の含有量が非常に低いことが要求される。
現在のところ、高純度ニッケルを生成する方法について公開した文献はまだ少ない。ＷＯ０３／０１４４２１Ａ１の「高純度ニッケルの製造方法、高純度ニッケル、高純度ニッケルからなるスパッタリングターゲット及び該スパッタリングターゲットにより形成した薄膜」の日本特許では、可溶性アノードを用いて高純度ニッケルを電解生成する方法が開示されている。そのアノードは可溶性ニッケル原料であり、カソードには隔膜バッグが被せられ、水酸化物沈殿、ニッケル箔置換及び予備電解の方法を用いて電解液中の不純物元素を除去し、電解液を浄化して、５Ｎ（９９．９９９％）の高純度ニッケルを電解生成する。高純度ニッケルの不純物元素の含有量は、Ｏが３０ｐｐｍ以下であり、Ｃ、Ｎ、Ｓ、Ｐ、Ｆがいずれも１０ｐｐｍ以下であり、その他の不純物元素の含有量については説明されていない。
また、特許番号が２０００−２１９９８８Ａである「高純度ニッケル材の製造法及び薄膜形成用高純度ニッケル材」の日本特許では、可溶性アノードを用いて高純度ニッケルを電解生成する方法が開示されている。それは、同一電解槽内で、そのカソードとアノードとの間を二層の隔膜で仕切り、陰イオン交換樹脂で電解液を浄化し、かつ拡散透析又は蒸発乾固によって電解液中の塩酸濃度を低下させる方法を用いており、電解液を浄化して、高純度ニッケルを電解生成する。高純度ニッケルの不純物元素の含有量は、アルカリ金属元素が１ｐｐｍ以下であり、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｃｒがそれぞれ１０ｐｐｍ以下であり、Ｕ、Ｔｈがそれぞれ１ｐｐｂ以下であり、Ｃが５０ｐｐｍ以下であり、Ｏが１００ｐｐｍ以下である。
現在既にある高純度ニッケルを生成する方法では、電気溶解原液の過酸の問題を解決するために、沸騰脱酸及び中和減酸の方法を採用しているので、生産コストが高くなり、かつ汚染を生じやすい。従って、溶剤浄化は理想的ではない。可溶性アノードを用いると、電解カソードとアノライトとの相互の汚染が発生する場合が生じ、これによって高純度ニッケルの不純物の含有量が高くなってしまう。
本発明の目的は、上記の従来技術に存在する欠陥に対するものであり、電気溶解原液の過酸問題を有効に解決し、生産コストを低くし、汚染をなくすことができ、溶液浄化がよく、電解カソードとアノライトとの相互の汚染を有効に防止し、高純度ニッケルの不純物の含有量を低くすることができる、高純度ニッケルを生成する方法を提供することである。
本発明の目的は、以下の技術案によって実現される。
高純度ニッケルを生成する方法であって、その生成工程は、順に、
ａ．塩酸体系を用いて、３Ｎ電解ニッケルをアノードとし、耐腐食チタン金網をカソードとし、ＮｉＣｌ2溶液を電気溶解生成し、その電気溶解の電流密度は１００Ａ／ｍ2〜２００Ａ／ｍ2とし、かつ溶液のＨ+濃度が１ｇ／ｌ〜２ｇ／ｌとなるまで電気溶解する製液最終段階において３０Ａ／ｍ2〜７０Ａ／ｍ2の電流密度で電気溶解により製液し、溶液のＰＨを１〜３とし、
ｂ．逆抽出後の溶液を活性炭柱に通して脱油した後に、陰イオン交換樹脂３３１、７１７、Ｄ３０１及びＤ４０１が混合された複数の陰イオン交換樹脂で成るイオン交換柱に順に通して浄化を行い、交換流速を≦２ＢＶ／ｈに制御し、溶液をＣｏ、Ｆｅ含有量が０．００１ｇ／ｌ以下まで低下し、溶液のＣｕ、Ｐｂ、Ｚｎ含有量が０．０００２ｇ／ｌ以下まで低下するまで浄化し、
ｃ．イオン交換浄化後の溶液を電解槽に通して電着を行い、電着溶液のｐＨ値を１〜３、電流密度を１００Ａ／ｍ2〜２００Ａ／ｍ2、電着液温度を４０℃〜６０℃に制御するとともに、電着後の液を抽出し、溶液を電解槽内で衡量循環させ、電着によって高純度ニッケルを得る、
であることを特徴とする高純度ニッケルを生成する方法。
ａ．塩酸体系を用いて、３Ｎ電解ニッケルをアノードとし、耐腐食チタン金網をカソードとし、ＮｉＣｌ2溶液を電気溶解生成し、その電気溶解の電流密度は１００Ａ／ｍ2〜２００Ａ／ｍ2とし、かつ溶液のＨ+濃度が１ｇ／ｌ〜２ｇ／ｌとなるまで電気溶解する製液最終段階において３０Ａ／ｍ2〜７０Ａ／ｍ2の電流密度で電気溶解により製液し、溶液のＰＨを１〜３とし、
ｂ．逆抽出後の溶液を活性炭柱に通して脱油した後に、陰イオン交換樹脂３３１、７１７、Ｄ３０１及びＤ４０１が混合された複数の陰イオン交換樹脂で成るイオン交換柱に順に通して浄化を行い、交換流速を≦２ＢＶ／ｈに制御し、溶液をＣｏ、Ｆｅ含有量が０．００１ｇ／ｌ以下まで低下し、溶液のＣｕ、Ｐｂ、Ｚｎ含有量が０．０００２ｇ／ｌ以下まで低下するまで浄化し、
ｃ．イオン交換浄化後の溶液を電解槽に通して電着を行い、電着溶液のｐＨ値を１〜３、電流密度を１００Ａ／ｍ2〜２００Ａ／ｍ2、電着液温度を４０℃〜６０℃に制御するとともに、電着後の液を抽出し、溶液を電解槽内で衡量循環させ、電着によって高純度ニッケルを得る、
であることを特徴とする高純度ニッケルを生成する方法。
高純度ニッケルを生成する方法であって、電気溶解で製液した後に陰イオン抽出剤で電気溶解溶液に三段の向流抽出を行い、抽出比を１：２とし、抽出平衡１０分間の後に純水で逆抽出することを特徴とする高純度ニッケルを生成する方法。
本発明の高純度ニッケルを生成する方法は、２０％〜４０％の第三アミン、２０％〜４５％のブチル、その他はスルホン化ケロシンで構成された陰イオン抽出剤を用いることを特徴とする。
本発明の高純度ニッケルを生成する方法は、その陰イオン抽出剤の有機相は、洗浄純化した後に、４Ｎの高純度塩酸を用いて有機相を酸飽和させて、ＮｉＣｌ2溶液を抽出したものであることを特徴とする。
本発明の高純度ニッケルを生成する方法は、その溶液は中空繊維球で脱油したものであることを特徴とする。
本発明の高純度ニッケルを生成する方法は、組合せ陰イオン交換樹脂を用いて、立体的で交差する浄化構造を実現し、溶液を浄化する。
本発明の方法は、イオン交換浄化後の高純度溶液で電着生成により高純度ニッケルを得る。高純度ニッケルのサンプルはグロー放電質量分析法−ＧＤＭＳ分析では、５Ｎの高純度ニッケルに達している。生成過程では、電気溶解の製液最終段階において低電流で製液して溶液の酸含有量を低減したため、電気溶解原液の過酸問題を成功裏に解決し、沸騰脱酸及び中和減酸の方法を排除して、コストを減少させ、生成過程での汚染を防止している。有機相を洗浄純化した後に、高純度塩酸を用いてこの有機相を酸飽和させて、この有機相を用いて高濃度ＮｉＣｌ2溶液を抽出するので、溶液の浄化のコバルト除去が実現される。イオン交換製法は組合せ陰イオン樹脂を用いて、立体的で交差する高純度溶液洗浄構造を実現する。電気溶解による製液、溶剤抽出、イオン交換及び電着製法の相互関連が実現されており、溶液を浄化し、不溶性アノード電着で５Ｎ以上のレベルの高純度ニッケルを生成する。可溶性アノード電解と比べると、不溶性アノード電着槽内には浄化後の高純度ＮｉＣｌ2溶液しかなく、これよって可溶性アノード電解カソードとアノライトとが相互に汚染する状況の発生を有効に防止し、不溶性アノードによって電着精錬して生成した高純度ニッケルの不純物含有量は更に低くなる。アルカリ金属元素は０．１ｐｐｍ以下であり、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｃｒはそれぞれ１ｐｐｍ以下であり、Ｕ、Ｔｈはそれぞれ０．１ｐｐｂ以下であり、Ｃは６０ｐｐｍ以下であり、Ｏは１００ｐｐｍ以下である。
本発明の高純度ニッケルで観察された不純物元素には、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ａｓ、Ｃｄ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ａｌ、Ｍｎ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｐ、Ｓの合計１６種類の不純物元素が含まれ、一つの不純物元素の最高含有量は１ｐｐｍより低くなっている。主金属元素ニッケルの含有量（減量）は、９９．９９９％より高くなっている。高純度ＮｉＣｌ2溶液の生成は、高純度ニッケルの開発の先決条件であり、１６種類の不純物元素の中から選択した最も除去が困難なＦｅ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｐｂ、Ｚｎの５種類の不純物を主要不純物元素として観察し、浄化後の溶液の不純物含有量によって溶液浄化程度を評価する。試験によって、代表的な不純物元素を主要除去目標として選択することで、計測効果が向上することが分かった。
高純度ニッケルを生成する方法であって、その生成過程は、順に、
ａ．塩酸体系を用いて、３Ｎ電解ニッケルをアノードとし、耐腐食チタン金網をカソードとし、ＮｉＣｌ2溶液を電気溶解生成し、その電気溶解の電流密度は１００Ａ／ｍ2〜２００Ａ／ｍ2とし、かつ溶液のＨ+濃度が１ｇ／ｌ〜２ｇ／ｌとなるまで電気溶解する製液最終段階において３０Ａ／ｍ2〜７０Ａ／ｍ2の電流密度で電気溶解により製液し、溶液のＰＨを１〜３とした。電気溶解の製液最終段階において低電流で製液して溶液の酸含有量を低減したため、電気溶解原液の過酸問題を成功裏に解決し、沸騰脱酸及び中和減酸の方法を排除して、コストを減少させ、生成過程での汚染も防止している。電気溶解で製液されたＮｉＣｌ2溶液の不純物元素の含有量は、Ｃｏが０．００６ｇ／ｌ〜０．００９ｇ／ｌであり、Ｃｕが０．００２ｇ／ｌであり、Ｆｅが０．００２ｇ／ｌであり、Ｐｂが０．００１ｇ／ｌであり、Ｚｎが０．００２ｇ／ｌである。
ａ．塩酸体系を用いて、３Ｎ電解ニッケルをアノードとし、耐腐食チタン金網をカソードとし、ＮｉＣｌ2溶液を電気溶解生成し、その電気溶解の電流密度は１００Ａ／ｍ2〜２００Ａ／ｍ2とし、かつ溶液のＨ+濃度が１ｇ／ｌ〜２ｇ／ｌとなるまで電気溶解する製液最終段階において３０Ａ／ｍ2〜７０Ａ／ｍ2の電流密度で電気溶解により製液し、溶液のＰＨを１〜３とした。電気溶解の製液最終段階において低電流で製液して溶液の酸含有量を低減したため、電気溶解原液の過酸問題を成功裏に解決し、沸騰脱酸及び中和減酸の方法を排除して、コストを減少させ、生成過程での汚染も防止している。電気溶解で製液されたＮｉＣｌ2溶液の不純物元素の含有量は、Ｃｏが０．００６ｇ／ｌ〜０．００９ｇ／ｌであり、Ｃｕが０．００２ｇ／ｌであり、Ｆｅが０．００２ｇ／ｌであり、Ｐｂが０．００１ｇ／ｌであり、Ｚｎが０．００２ｇ／ｌである。
ｂ．体積百分比が、２０％〜４０％の第三アミン、２０％〜４５％のブチル、その他はスルホン化ケロシンで構成された陰イオン抽出剤を用いて、溶液に三段の向流抽出を行い、抽出比を１：２とし、抽出平衡１０分間の後に純水で逆抽出をする。溶液中のＣｌ-の濃度が向上するため、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｐｂ、Ｚｎ等の不純物は十分に錯陰イオンを形成する。溶液は、陰イオン抽出剤が不純物を抽出した後には不純物元素の含有量が低減し、溶液に含まれるＣｏは０．００１ｇ／ｌまで低減し、溶液に含まれるＣｕ、Ｚｎは０．０００３ｇ／ｌまで低減する。
ｃ．抽出後の溶液を活性炭柱に通して脱油した後に、陰イオン交換樹脂３３１、７１７、Ｄ３０１及びＤ４０１が混合された複数の陰イオン交換樹脂で成るイオン交換柱に通して浄化を行い、交換流速を≦２ＢＶ／ｈに制御した。溶液に含まれるＣｏ、Ｆｅは０．００１ｇ／ｌ以下まで低減し、溶液に含まれるＣｕ、Ｐｂ、Ｚｎを０．０００２ｇ／ｌ以下まで低減する。イオン交換システムの設計原則は、交換柱システム自体が不純物元素による汚染を生じないようにすることである。清浄材料を選んでこれを用いてイオン交換柱本体及びシステムを製造する。汚染防止計量ポンプが定量の溶液を輸送し、イオン交換溶液の流量を精密に制御する。特殊な陰イオン交換樹脂を選択して溶液の浄化を実現する。
抽残液に脱油、酸調整の処理をした後にイオン交換を行い、交換流速を１ＢＶ／ｈ〜２ＢＶ／ｈに制御する。流速が早すぎる場合は、不純物元素は十分に交換されず、樹脂は容易に貫通することになる。交換流速が遅すぎると、経済効果が劣ることになる。交換後の溶液中の鉛、亜鉛、銅、鉄、コバルトの含有量はいずれも低下している。溶液では、Ｃｏが０．００６ｇ／ｌ〜０．００９ｇ／ｌであり、Ｃｕが０．００２ｇ／ｌであり、Ｐｂが０．００１ｇ／ｌであり、Ｚｎが０．００２ｇ／ｌである。
ｄ．イオン交換後の溶液を電解槽に通して電着を行い、電着溶液のｐＨ値を１〜３、電流密度を１００Ａ／ｍ2〜２００Ａ／ｍ2、電着液温度を４０℃〜６０℃に制御するとともに、電着後の液を抽出し、溶液を電解槽内で衡量循環させ、電着によって高純度ニッケルを得る。高純度ニッケルのサンプルはグロー放電質量分析法−ＧＤＭＳの分析では、５Ｎの高純度ニッケルに達している。
電解槽の製造は、槽体自体及び外部環境が高純度試験過程において不純物元素の汚染を生じないことが要求される。電解槽は清浄材料で製造する。電解槽には、防塵キャップが設けられ、キャップと槽体の間に防水密結合を有する密封式の構造設計を採用する。カソード及びアノードの極板に導電棒を組み付け、キャップに吊り下げる。カソード及びアノードの極板及び導電棒のセットは、すべて清浄防腐食材料を採用し、それによって酸の腐食及び溶液の汚染を有効に防止する。作業時の槽の電圧及び電流の安定を保ち、かつ境界抵抗を除去するために、回路の接続点はすべてネジで硬く接続し、高精度のシリコン整流電源を選択する。
以下、実例と合わせて本発明の方法について更に説明する。
実施例１
３Ｎの電解ニッケルを用い、塩酸体系において電気溶解によってＮｉＣｌ2溶液を生成する。その通電電流密度は１００Ａ／ｍ2とし、溶液中のＨ+濃度が１ｇ／ｌとなるまで電気溶解した製液最終段階で３０Ａ／ｍ2の電流密度で製液し、溶液のｐＨは３とした。溶液のＣｌ-の濃度は６ｍｏｌ／Ｌまで達した。溶液の不純物元素の含有量については表１を参照。
３Ｎの電解ニッケルを用い、塩酸体系において電気溶解によってＮｉＣｌ2溶液を生成する。その通電電流密度は１００Ａ／ｍ2とし、溶液中のＨ+濃度が１ｇ／ｌとなるまで電気溶解した製液最終段階で３０Ａ／ｍ2の電流密度で製液し、溶液のｐＨは３とした。溶液のＣｌ-の濃度は６ｍｏｌ／Ｌまで達した。溶液の不純物元素の含有量については表１を参照。
体積百分比が第三アミン２５％、ブチル４５％、スルホン化ケロシン３０％の陰イオン抽出剤を用い、抽出剤は高純度水洗浄を経た後、４ｍｏｌ／ｌの高純度塩酸飽和を経て、溶液に三段の向流抽出を行う。抽出比は１：２とし、抽出平衡１０分間の後に純水で逆抽出をする。溶液は、陰イオン抽出剤が不純物を抽出して取り除いた後に、溶液に含まれるＣｏが０．００９ｇ／ｌから０．００１ｇ／ｌまで減少した。抽残液の溶液成分については表２を参照。
抽出後の溶液を活性炭柱に通して脱油した後に、それぞれ陰イオン交換樹脂３３１、７１７、Ｄ３０１及びＤ４０１である混合陰イオン交換樹脂のイオン交換柱に通して浄化を行い、交換流速を２ＢＶ／ｈに制御した。交換後の溶液の成分については表３を参照。
電着技術条件：電流密度を１００Ａ／ｍ2に制御し、ＮｉＣｌ2溶液のｐＨ値を３とし、電着温度を５０℃とした。イオン交換浄化後の高純度溶液を用いて不溶性アノード電着生成を行って５Ｎの高純度ニッケルを得た。高純度ニッケルに含まれるアルカリ金属元素は０．１ｐｐｍ以下であり、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｃｒはそれぞれ１ｐｐｍ以下であり、Ｕ、Ｔｈはそれぞれ０．１ｐｐｂ以下であり、Ｃは６０ｐｐｍ以下であり、Ｏは１００ｐｐｍ以下である。高純度ニッケルの一部の不純物元素の含有量については表４を参照。
実施例２
３Ｎの電解ニッケルを用い、塩酸体系において電気溶解によってＮｉＣｌ2溶液を生成した。その通電電流密度は１５０Ａ／ｍ2とし、溶液中のＨ+濃度が１．５ｇ／ｌとなるまで電気溶解した製液最終段階で５０Ａ／ｍ2の電流密度で製液し、溶液のｐＨは２とした。溶液のＣｌ-の濃度は６ｍｏｌ／Ｌまで達した。溶液の不純物元素の含有量については表５を参照。
３Ｎの電解ニッケルを用い、塩酸体系において電気溶解によってＮｉＣｌ2溶液を生成した。その通電電流密度は１５０Ａ／ｍ2とし、溶液中のＨ+濃度が１．５ｇ／ｌとなるまで電気溶解した製液最終段階で５０Ａ／ｍ2の電流密度で製液し、溶液のｐＨは２とした。溶液のＣｌ-の濃度は６ｍｏｌ／Ｌまで達した。溶液の不純物元素の含有量については表５を参照。
体積百分比が第三アミン４０％、ブチル２０％、スルホン化ケロシン４０％の陰イオン抽出剤を用い、抽出剤は高純度水洗浄を経た後、４ｍｏｌ／ｌの高純度塩酸飽和を経て、溶液に三段の向流抽出を行う。抽出比は１：２とし、抽出平衡１０分間の後に純水で逆抽出をする。溶液は、陰イオン抽出剤が不純物を抽出して取り除いた後に、溶液に含まれるＣｏが０．００８ｇ／ｌから０．００１ｇ／ｌまで減少した。抽残液の溶液成分については表６を参照。
抽出後の溶液を活性炭柱に通して脱油した後に、それぞれ陰イオン交換樹脂３３１、７１７、Ｄ３０１及びＤ４０１である混合陰イオン交換樹脂のイオン交換柱に通して浄化を行い、交換流速を１．５ＢＶ／ｈに制御した。交換後の溶液の成分については表７を参照。
このＮｉＣｌ2溶液を用いて、不溶性アノード電着を行った。電着技術条件は、電流密度を１６０Ａ／ｍ2に制御し、ＮｉＣｌ2溶液のｐＨ値を２とし、電着温度を４０℃とした。不溶性アノードによって電着生成して５Ｎの高純度ニッケルを得た。高純度ニッケルに含まれるアルカリ金属元素は０．１ｐｐｍ以下であり、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｃｒはそれぞれ１ｐｐｍ以下であり、Ｕ、Ｔｈはそれぞれ０．１ｐｐｂ以下であり、Ｃは６０ｐｐｍ以下であり、Ｏは１００ｐｐｍ以下である。高純度ニッケルの一部の不純物元素の含有量については表７を参照。
実施例３
陰イオン抽出剤の体積百分比は、第三アミン２０％、ブチル４５％、スルホン化ケロシン３５％とし、その他の条件は実施例２と同様とし、実施例２のイオン交換後の液を用いた。交換後の溶液成分については表８を参照。
陰イオン抽出剤の体積百分比は、第三アミン２０％、ブチル４５％、スルホン化ケロシン３５％とし、その他の条件は実施例２と同様とし、実施例２のイオン交換後の液を用いた。交換後の溶液成分については表８を参照。
このＮｉＣｌ2溶液を用いて、不溶性アノード電着を行った。電着技術条件は、電流密度を２００Ａ／ｍ2に制御し、ＮｉＣｌ2溶液のｐＨ値を２とし、電着温度を６０℃とした。不溶性アノードによって電着生成して５Ｎの高純度ニッケルを得た。高純度ニッケルに含まれるアルカリ金属元素は０．１ｐｐｍ以下であり、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｃｒはそれぞれ１ｐｐｍ以下であり、Ｕ、Ｔｈはそれぞれ０．１ｐｐｂ以下であり、Ｃは６０ｐｐｍ以下であり、Ｏは１００ｐｐｍ以下である。高純度ニッケルの一部の不純物元素の含有量については表９を参照。
実施例４
３Ｎの電解ニッケルを用い、塩酸体系で電気溶解によってＮｉＣｌ2溶液を生成する。その通電電流密度は２００Ａ／ｍ2とし、溶液中のＨ+濃度が２ｇ／ｌとなるまで電気溶解した製液最終段階で７０Ａ／ｍ2の電流密度で製液し、溶液のｐＨは１とした。溶液のＣｌ-の濃度は６ｍｏｌ／Ｌまで達した。溶液の不純物元素の含有量については表１０を参照。
３Ｎの電解ニッケルを用い、塩酸体系で電気溶解によってＮｉＣｌ2溶液を生成する。その通電電流密度は２００Ａ／ｍ2とし、溶液中のＨ+濃度が２ｇ／ｌとなるまで電気溶解した製液最終段階で７０Ａ／ｍ2の電流密度で製液し、溶液のｐＨは１とした。溶液のＣｌ-の濃度は６ｍｏｌ／Ｌまで達した。溶液の不純物元素の含有量については表１０を参照。
この後、イオン交換を行った。交換流速は１ＢＶ／ｈに制御した。交換後の溶液の成分については表１１を参照。
イオン交換浄化後の高純度溶液を用いて、不溶性アノード電着を行った。電着技術条件は、電流密度を１６０Ａ／ｍ2に制御し、ＮｉＣｌ2溶液のｐＨ値を１とし、電着温度を５０℃とした。不溶性アノード電着生成によって５Ｎの高純度ニッケルを得た。高純度ニッケルに含まれるアルカリ金属元素は０．１ｐｐｍ以下であり、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｃｒはそれぞれ１ｐｐｍ以下であり、Ｕ、Ｔｈはそれぞれ０．１ｐｐｂ以下であり、Ｃは６０ｐｐｍ以下であり、Ｏは１００ｐｐｍ以下である。高純度ニッケルの一部の不純物元素の含有量については表１２を参照。
Claims (5)
- 高純度ニッケルを生成する方法であって、その生成工程は、順に、
ａ．塩酸体系を用いて、３Ｎ電解ニッケルをアノードとし、耐腐食チタン金網をカソードとし、ＮｉＣｌ2溶液を電気溶解生成し、その電気溶解の通電電流密度は１００Ａ／ｍ2〜２００Ａ／ｍ2とし、かつ溶液のＨ+濃度１ｇ／ｌ〜２ｇ／ｌとなるまで電気溶解する製液最終段階において３０Ａ／ｍ2〜７０Ａ／ｍ2の電流密度で電気溶解により製液し、溶液のｐＨを１〜３とし、
ｂ．逆抽出後の溶液を活性炭柱に通して脱油した後に、陰イオン交換樹脂３３１、７１７、Ｄ３０１及びＤ４０１が混合された複数の陰イオン交換樹脂で成るイオン交換柱に順に通して浄化を行い、交換流速を≦２ＢＶ／ｈに制御し、溶液をＣｏ、Ｆｅ含有量が０．００１ｇ／ｌ以下まで低下、溶液のＣｕ、Ｐｂ、Ｚｎ含有量が０．０００２ｇ／ｌ以下まで低下するまで浄化し、
ｃ．イオン交換浄化後の溶液を電解槽に通して電着を行い、電着溶液のｐＨ値を１〜３、電流密度を１００Ａ／ｍ2〜２００Ａ／ｍ2、電着液温度を４０℃〜６０℃に制御するとともに、電着後の液を抽出し、溶液を電解槽内で衡量循環させ、電着によって高純度ニッケルを得る、
であることを特徴とする高純度ニッケルを生成する方法。 - 電気溶解製液後の溶液は、陰イオン抽出剤を用いて電気溶解溶液に三段の向流抽出を行い、抽出比を１：２とし、抽出平衡１０分間の後に純水で逆抽出をすることを特徴とする請求項１に記載の高純度ニッケルを生成する方法。
- ２０％〜４０％の第三アミン、２０％〜４５％のブチル、その他はスルホン化ケロシンで構成された陰イオン抽出剤を用いることを特徴とする請求項１又は２に記載の高純度ニッケルを生成する方法。
- その陰イオン抽出剤の有機相を洗浄純化した後に、高純度塩酸で有機相を酸飽和させ、さらにＮｉＣｌ2溶液に対して抽出を行うことを特徴とする請求項１に記載の高純度ニッケルを生成する方法。
- 溶液は、中空繊維球が脱油したものであることを特徴とする請求項１に記載の高純度ニッケルを生成する方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CNB2004100706482A CN1276129C (zh) | 2004-07-28 | 2004-07-28 | 一种制备高纯镍的方法 |
| PCT/CN2005/000488 WO2006010305A1 (fr) | 2004-07-28 | 2005-04-13 | Procede d'obtention d'un nickel de grande purete |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2008507628A JP2008507628A (ja) | 2008-03-13 |
| JP4659829B2 true JP4659829B2 (ja) | 2011-03-30 |
Family
ID=34604510
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2007522898A Active JP4659829B2 (ja) | 2004-07-28 | 2005-04-13 | 高純度ニッケルを生成する方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20090272651A1 (ja) |
| JP (1) | JP4659829B2 (ja) |
| CN (1) | CN1276129C (ja) |
| WO (1) | WO2006010305A1 (ja) |
Families Citing this family (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101063210B (zh) * | 2006-04-25 | 2010-05-26 | 襄樊化通化工有限责任公司 | 以含镍废料再生为原料制造高活性镍饼工艺 |
| CN102268691B (zh) * | 2011-08-04 | 2012-12-05 | 苏州晶纯新材料有限公司 | 一种高纯镍的生产方法 |
| CN102995094A (zh) * | 2011-09-19 | 2013-03-27 | 代芳 | 电镀槽中金属离子浓度稳定的方法 |
| CN102643990B (zh) * | 2012-05-18 | 2014-03-12 | 南京大学 | 一种螯合树脂去除高纯镍中微量铜的方法 |
| CN103726069A (zh) * | 2012-10-13 | 2014-04-16 | 江西江锂科技有限公司 | 一种新型电解镍的生产方法 |
| CN103046076B (zh) * | 2012-12-26 | 2016-06-08 | 浙江华友钴业股份有限公司 | 一种电积镍的制备方法 |
| CN103320622A (zh) * | 2013-07-18 | 2013-09-25 | 海南金亿新材料股份有限公司 | 一种利用镍废料制备电子级甲基磺酸镍的工艺方法 |
| CN104018183B (zh) * | 2014-05-30 | 2016-08-24 | 成都易态科技有限公司 | 镍的可溶阳极电解生产工艺 |
| CN104611720A (zh) * | 2015-01-28 | 2015-05-13 | 江苏理工学院 | 一种由锡镍铁合金废料生产电解镍并回收锡和铁的方法 |
| CN105441974B (zh) * | 2015-11-20 | 2017-12-01 | 金川集团股份有限公司 | 一种生产电积镍的方法 |
| CN106283108B (zh) * | 2016-08-31 | 2018-04-03 | 中南大学 | 一种用离子交换树脂从镍电解阳极液中深度除铜的方法 |
| CN108977669B (zh) * | 2018-09-13 | 2020-07-17 | 中南大学 | 一种深度脱除高浓度硫酸钴溶液中镉并回收镉的方法 |
| CN110129572B (zh) * | 2019-06-18 | 2021-01-05 | 中国科学院兰州化学物理研究所 | 一种利用废旧镍基高温合金制备高纯铼酸铵的方法 |
| CN113061938A (zh) * | 2021-03-09 | 2021-07-02 | 金川集团股份有限公司 | 一种生产高品质镍扣的方法 |
| CN114807609B (zh) * | 2022-04-11 | 2023-04-18 | 重庆文理学院 | 一种高效回收废水中镍的方法 |
| CN115573003A (zh) * | 2022-10-12 | 2023-01-06 | 金川集团股份有限公司 | 一种6n超纯镍的制备方法 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07280998A (ja) * | 1991-12-20 | 1995-10-27 | Westinghouse Electric Corp <We> | 遷移金属の汚染除去方法 |
| JPH11106842A (ja) * | 1997-09-30 | 1999-04-20 | Nippon Mining & Metals Co Ltd | 溶媒抽出法を用いた銅電解液の浄液方法 |
| JPH11152592A (ja) * | 1997-11-18 | 1999-06-08 | Japan Energy Corp | 高純度ニッケルの製造方法及び薄膜形成用高純度ニッケル材料 |
| JP2000219988A (ja) * | 1999-02-01 | 2000-08-08 | Japan Energy Corp | 高純度ニッケル材の製造法及び薄膜形成用高純度ニッケル材 |
| JP2004043946A (ja) * | 2002-05-21 | 2004-02-12 | Nikko Materials Co Ltd | 高純度金属の製造方法及び装置 |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2208983B2 (ja) * | 1972-12-01 | 1978-06-02 | Nickel Le | |
| CA1064856A (en) * | 1975-02-12 | 1979-10-23 | Alexander Illis | Purification of nickel electrolyte by electrolytic oxidation |
| US4203964A (en) * | 1977-07-20 | 1980-05-20 | Mx-Processer Reinhardt & Co. Ab | Re-extracting metal chloride complex from an organic extraction solution |
| US4956154A (en) * | 1988-03-09 | 1990-09-11 | Unc Reclamation | Selective removal of chromium, nickel, cobalt, copper and lead cations from aqueous effluent solutions |
| DE4110128A1 (de) * | 1990-04-09 | 1991-11-07 | Westinghouse Electric Corp | Dekontamination von radioaktiv verseuchten metallen |
| JP2570076B2 (ja) * | 1992-10-28 | 1997-01-08 | 住友金属鉱山株式会社 | 高純度ニッケルの製造方法 |
| JP3151194B2 (ja) * | 1999-03-19 | 2001-04-03 | 株式会社ジャパンエナジー | コバルトの精製方法 |
| WO2002002848A2 (en) * | 2000-06-30 | 2002-01-10 | Honeywell International Inc. | Method and apparatus for processing metals, and the metals so produced |
| EP1413651A4 (en) * | 2001-08-01 | 2006-10-25 | Nippon Mining Co | METHOD FOR THE PRODUCTION OF HIGH-PURITY NICKEL, HIGHLY NICKEL, THE HIGH-NICKEL CONTAINING SPUTTER TARGET AND THIN FILM SHOWN BY USING THE SPUTTER TARGET |
| AU2003235362B2 (en) * | 2002-12-27 | 2007-08-02 | Lg Household & Healthcare Co., Ltd | Carbon nanoball for deodorization |
-
2004
- 2004-07-28 CN CNB2004100706482A patent/CN1276129C/zh active Active
-
2005
- 2005-04-13 JP JP2007522898A patent/JP4659829B2/ja active Active
- 2005-04-13 WO PCT/CN2005/000488 patent/WO2006010305A1/zh active Application Filing
- 2005-04-13 US US11/658,626 patent/US20090272651A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07280998A (ja) * | 1991-12-20 | 1995-10-27 | Westinghouse Electric Corp <We> | 遷移金属の汚染除去方法 |
| JPH11106842A (ja) * | 1997-09-30 | 1999-04-20 | Nippon Mining & Metals Co Ltd | 溶媒抽出法を用いた銅電解液の浄液方法 |
| JPH11152592A (ja) * | 1997-11-18 | 1999-06-08 | Japan Energy Corp | 高純度ニッケルの製造方法及び薄膜形成用高純度ニッケル材料 |
| JP2000219988A (ja) * | 1999-02-01 | 2000-08-08 | Japan Energy Corp | 高純度ニッケル材の製造法及び薄膜形成用高純度ニッケル材 |
| JP2004043946A (ja) * | 2002-05-21 | 2004-02-12 | Nikko Materials Co Ltd | 高純度金属の製造方法及び装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2008507628A (ja) | 2008-03-13 |
| CN1587441A (zh) | 2005-03-02 |
| WO2006010305A1 (fr) | 2006-02-02 |
| CN1276129C (zh) | 2006-09-20 |
| US20090272651A1 (en) | 2009-11-05 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4659829B2 (ja) | 高純度ニッケルを生成する方法 | |
| KR101623629B1 (ko) | 구리 또는 구리 합금, 본딩 와이어, 구리의 제조 방법, 구리 합금의 제조 방법 및 본딩 와이어의 제조 방법 | |
| KR100512644B1 (ko) | 금속의 고 순도화 방법 | |
| CN101302585A (zh) | 一种制备高纯钴的方法 | |
| JP5777494B2 (ja) | 金属回収方法 | |
| WO2005073434A1 (ja) | 超高純度銅及びその製造方法 | |
| EP2528704B1 (en) | Method and arrangement for producing metal powder | |
| JP2013185214A (ja) | α線量が少ないビスマス又はビスマス合金及びその製造方法 | |
| WO2016130675A1 (en) | Electrowinning process to recover high purity lead | |
| JP2012087407A (ja) | Ｐｂ−ｆｒｅｅ廃はんだからの有価金属の回収方法 | |
| CN101538721A (zh) | 一种制备高纯钴的方法 | |
| CN111826525B (zh) | 一种硫酸体系电积生产金属钴的方法 | |
| JP3825983B2 (ja) | 金属の高純度化方法 | |
| JP2007254800A (ja) | 高純度ニッケルの製造方法及びそれにより得られる高純度ニッケル | |
| KR102211986B1 (ko) | 스크랩으로부터의 금속의 회수 방법 | |
| JP3878402B2 (ja) | 金属の高純度化方法 | |
| JP6471072B2 (ja) | 低α線高純度亜鉛及び低α線高純度亜鉛の製造方法 | |
| CN112359226A (zh) | 一种制备高纯镍的方法 | |
| JP3151194B2 (ja) | コバルトの精製方法 | |
| US3857763A (en) | Recovery of electrolytic deposits of rhodium | |
| JP3878407B2 (ja) | 金属の高純度化方法 | |
| JP2007290937A (ja) | 塩化ニッケル水溶液の精製方法 | |
| JP7180039B1 (ja) | 錫およびニッケルを含む混合物からの錫とニッケルとの分離方法 | |
| JP6067855B2 (ja) | 低α線ビスマス及び低α線ビスマスの製造方法 | |
| JP2000227497A (ja) | 白金族元素、テクネチウム、テルル及びセレンの分離回収方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080411 |
|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20080414 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080711 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20091201 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100810 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101028 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20101028 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20101207 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20101227 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140107 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4659829 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |