JP4601172B2 - 中間細孔または組合された中間細孔と微小孔を持つ無機酸化物およびその調製方法 - Google Patents
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Description
【技術分野】
本発明は、中間細孔と微小孔(マイクロポア)とを持つ無機酸化物、または中間細孔とそれより少ない数の微小孔を持つ無機酸化物、あるいは微小孔とそれより少ない数の中間細孔を持つ無機酸化物に関し、またその調製のための方法に関する。
【0002】
【背景技術】
ゼオライトと関連物質は十分に配列された孔システムを有し、均一な孔サイズを提示する。しかしこれらの物質は微小孔または中間細孔のみを所有する傾向にある。更にこれらの物質は製造するのにかなり高価なものとなる。
【0003】
無機物質、とりわけ中間細孔およびまたは微小孔を含む特定の触媒物質(または触媒支持材)の必要性が存在する。
【0004】
中間細孔およびまたは微小孔を含む無機物質を製造する新しい方法の必要性も存在する。
【0005】
【発明の開示】
従って本発明に基づき孔構造を持つ無機酸化物物質が提供され、ここでその孔の少なくとも一部が中間細孔のサイズ範囲にあり、また一部は微小孔サイズ範囲にあり、かつそのような物質と、基本的に中間細孔のみ(微小孔の割合が3容積%以下、一般には2容積%以下のもの)を含む物質とを簡単に安価で再生産できるように製造する方法が提供される。
【0006】
更に有利な物性を持つように簡単に修飾できるケイ酸塩物質を提供することが本発明の目的であり、その例には例えばケイ素原子の一部を金属原子、例えばアルミニウム、チタン、バナジウム、ガリウム、鉄、およびその他で置換して特異的な触媒性能を持つよう修飾できるものである。
【0007】
他の目的および利点は以下の詳細な説明から明らかになるであろう。
【0008】
本発明の一つの見地に従って、微小孔と中間細孔を含む無機酸化物をある種の化合物を用いて簡単にかつ単純なやり方で調製することができ、表面およびその物質内で特異な孔構造と高い孔量、修飾できる能力などの有利な物性を持つ物質を生成することができる。
【0009】
望ましい実施例において、本発明の物質は非晶質無機酸化物(望ましくはケイ酸塩)であり、微小孔と中間細孔の双峰構造を持ち、前記微小孔領域は前記中間細孔と接続され、ここでN2多孔度測定で決定される平均中間細孔サイズは2乃至25nmであり、またN2多孔度測定で決定される平均微小孔サイズは0.7乃至2.0nmで、望ましくは0.5乃至1.5nmである。
【0010】
本発明の一つの見地に従って、物質の中間細孔は決定された孔サイズ分布を有している。より詳細には、中間細孔の孔サイズ分布は、孔サイズ分布プロットにおいて、孔量の導関数がy軸にプロットされ、孔径はx軸にプロットされ、このようなプロットで、プロットの最大高さでの孔径に対するプロットの高さの1/2であるy軸の点でのプロットの幅の比は0.75以下であり、望ましくは0.01以上である。より望ましくはこのような比率は0.5以下になる。
【0011】
中間細孔と微小孔の両方を含む双峰無機物質は、一般に少なくとも3容積%の微小孔(望ましくは少なくとも5容積%の微小孔)を含み、一般に60容積%以上の微小孔を含まず(望ましくは50%以下)、このような容積%は中間細孔と微小孔の組合わせ量に基づいている。
【0012】
本発明の一つの見地に基づき、中間細孔と微小孔の両方を含む無機酸化物が提供され、これは(1)水中での無機酸化物および(2)酸化物とうまく混和し、望ましくはそれと水素結合を形成する有機物質との混合物を加熱して調製される。選択肢として、前記混合物は更にモレキュラーシーブ(とりわけゼオライト)を形成する際に微小孔を生産するために使用される型のテンプレートを含み、前記加熱は中間細孔と微小孔の両方を含むケイ酸塩を生産するのに十分な温度水準と時間で行われる。
【0013】
出発原料は一般に非晶質物質であり、また追加の金属酸化物あり、もしくは無しでのシリコン酸化物あるいはアルミニウム酸化物などのような1個もしくはそれ以上の無機酸化物よりなる。追加の金属は中間細孔と微小孔を含む構造を生産するためのプロセスを開始する前に物質に取込まれ、およびまたは金属は中間細孔と微小孔の両方を含む無機酸化物を生産するために使用される調合物に加えることができる。
【0014】
水素結合により無機酸化物と結合する有機化合物は望ましくはグリコール(2個もしくはそれ以上の水酸基を含む化合物)、あるいはトリエタノールアミン,スルホラン,テトラエチレンペンタミンおよびジエチルグリコールジベンゾエートよりなるグループの部材である。
【0015】
無機酸化物と水素結合する物質と組合わされ、あるいは組合わせられないテンプレートまたは微小孔形成剤は、ケイ酸塩からモレキュラーシーブまたはゼオライトを生産するのに一般に使用される型のものである。このようなテンプレートは従来の技術で一般に公知である。
【0016】
一般に、微小孔を生産するためのテンプレート剤は、元素の周期表のVAグループの元素、とりわけ窒素、リン、ヒ素、およびアンチモニー、望ましくはNまたはP、もっとも望ましいのはNを含む有機化合物である。化合物は更に炭素原子1乃至8個を持つアルキレン、アルキルまたはアリル基を含有する。テンプレート剤として使用されるとりわけ望ましい窒素含有化合物はアミンと第四アンモニウム化合物であり、後者は一般に式R4N+で表示され、ここでRは1乃至8個の炭素原子を含むアルキルまたはアリル基、またはモノアミン、ジアミン、およびトリアミンを単独でもしくは第四アンモニウム化合物またはも一つのテンプレート化合物と併用して使用される。実例となるテンプレート剤は以下のものである:テトラメチルアンモニウム(“TMA”),テトラエチルアンモニウム(“TEA”),テトラ−n−プロピルアンモニウム(“TPA”),テトライソプロピルアンモニウムとテトラブチルアンモニウム塩,ジ−n−プロピルアミン,ジ−n−ブチルアミン,トリ−n−プロピルアミン,トリエチルアミン,トリブチルアミン,キヌクリジン(“Q”),メチルキヌクリジンヒドロキシド,シクロヘキシルアミン,ネオペンチルアミン,N,N−ジメチルベンジルアミン,N,N−ジメチルエタノールアミン,ジ−n−ペンチルアミン,イソプロピルアミン,t−ブチリルアミン,エチレンジアミン,ヘキサメチレンジアミン,ピロリジン,2−イミダゾリドン,ピペリジン,2−メチルピリジン,N,N′−ジメチルピペラジン,N−メチルジエタノールアミン,N−メチルエタノールアミン,N−メチルピペリジン,3−メチルピペリジン,N−メチルシクロヘキシルアミン,3−メチルピリジン,4−メチルピリジン,ジエチルピペリジニウム(“DEPP”),トリメチルベンジルアンモニウム(“TMBA”),テトラメチルホスホニウム(“TMP”),5−アゾニアスピロ(4,4)ノナンまたはビスピロリジニウム(“BP”),(2−ヒドロキシエチル)トリメチルアンモニウム(“コリン”)1,4−ジメチル−1,4−ジアゾニアビシクロ(2,2,2)オクタン“DDO”,1,4−ジアゾニアビシクロ(2,2,2)オクタン(“DO”または“DABCO”),N,N′−ジメチル−1,4−ジアゾアビシクロ(2,2,2)オクタンイオン,などがそれである。
【0017】
微小孔を持つモレキュラーシーブを生産するための使用される型のテンプレートは、本発明で水素結合物質と併用して使用され、また多くの場合このような物質は結晶構造を生産するものとして公知であるけれども,本発明で使用される場合には、このようなテンプレートはある場合には結晶構造を生産したけれども結晶構造を産出することなく微小孔の形成を高めることになる。多くの場合、微小孔と中間細孔の両方を含む生成無機酸化物は、結晶構造になることなく三次元パターンでの規則正しい構造を含む擬似結晶物質である。
【0018】
本発明に限定されることなく、水素結合により無機酸化物と結合する物質は、(単独でまたは「テンプレート」と組合わせて)酸化物を薄壁構造に形成し、その壁に形成される中間細孔と微小孔を持つようになると考えられる。結晶状構造が薄壁に存在することも存在しないこともあるが、もし存在する場合には長期の順序付けが欠除しているためX線回折で検出されないことがある。
【0019】
本発明の物質は従って中間細孔−微小孔非晶質無機酸化物質(望ましくはケイ酸塩)であり、これは選択肢として中間細孔構造の一部として、アルミニウムあるいはチタンなどのようなIVB−IIBとIIIA族の金属イオンを含むことができ、それは調製時あるいは合成時に直接加えられ、または生産の後に格子に存在する金属イオンとの交換で格子に導入されることもある。他の金属イオンの性質に依存しながら、物質の性質は異なる。例えば、ケイ酸塩にアルミニウムをとり込むことにより、物質に酸性をもたらし、一方他のある金属はアルカリ性となり、こうしてその物質を酸化触媒として利用することができる。
【0020】
物質は一方で相互接続中間細孔すなわち2乃至25nmの間の孔径を持つ孔を含む双峰孔構造を持つ。中間細孔は相互接続されており、一種の「ソーセージ構造」を持つケージにより形成されているものと考えられ、孔はいくらか球形形状を持ち、一般にその2個の対向端部で他の孔と2個もしくはそれ以上の接続部を持つ。一方物質はまた中間細孔と接続される微小孔の領域あるいはフェーズを含む。かくして本発明の一つの見地に従って、双峰孔システムを生産するワンステップ法が提供される。望ましい実施例において、本発明の無機物質は中間細孔と微小孔両方を含み、このような中間細孔と微小孔は微小孔が限られた小さい領域、すなわち微小孔の領域の幅が一般に5nm以下であるようなやり方で存在する。
【0021】
双峰(分布)である本発明の無機物質では、孔サイズに対する孔量の導関数のプロットで中間細孔の異なったピークと微小孔の異なったピークが存在する。一般に半分の高さでの微小孔ピークの幅は2オングストローム以下であり、一般には1オングストローム以下である。
【0022】
本発明の中間細孔物質および中間細孔−微小孔物質は擬似結晶物質である(現在利用できるX線回折技術では結晶性は観察されない)。1実施例に従って、物質はXRD回折パターンで1個のピークを持ち、ここで2θは0.5と2.5°の間にある。1個のピークの存在は物質が結晶性を持つことなしで極端に規則正しい構造を持つことを意味する。前記規則正しい構造は中間細孔のサイズの細いサイズ分布と組合わせて壁厚の分布により決定される。中間細孔の壁から壁まで全体の距離は望ましくは3nmと25nmの間にある。基本的に微小孔のみを含む本発明に基づき生産される物質はX線回折パターンでのピークを持たない。
【0023】
双峰孔構造を持つ物質は、一方で大きい孔を、他方では小孔を必要とするすべての種類の化学反応を実行するのに適している。その例は、高分子が中間細孔を経由してたやすくシステムに入ることができ、次いで微小孔で反応あるいは転換される場合の反応がその例である。これは選択的な反応で起こり得る。物質は高い接近性と従って高い固有の容積活性に帰着する大型孔と組合わせて高い表面積を本来持っている。中間細孔構造の壁に規則正しい微小孔領域を作るもう一つの利点はこれまで単に中間細孔物質のみで可能であった高い酸強度を触媒部位にもたらす可能性である。
【0024】
この物質の適応性のもう一つの例は石油化学においてあり、ここで高分子はまず中間細孔でより小さな分子に転換され、次いで微小孔で反応する。このように、例えば石油分留での非常に制御され、選択された転換を得ることができるであろう。
【0025】
無機酸化物はケイ素と酸素のみよりなることもある。ケイ素の一部は、望ましくはその物質の調製の間に金属源を加えることにより前記他の金属で置換される。適切な金属の例はチタン,バナジウム,ジルコニウム,ガリウム,マンガン,亜鉛,鉄,アルミニウムである。
【0026】
更に物質の調製後に、システム内の陽イオンを他のイオン、例えばアルカリ金属イオンなどと交換することも可能である。このように、注意深く制御された物性を創り出すことができる。例えばケイ酸塩での追加成分としてのチタンの存在は物質の内表面での追加の触媒物性(例えば酸化特性)を創り出し、これはとりわけファインケミカルでは非常に興味深い特性である。
【0027】
高度に規則正しい微小領域が同じく中間細孔構造の壁に形成される場合には、それは一般にX線検出に対して不可視となるであろう。何故なら、微小領域構造の反復ユニットはあまりに小さすぎて検出することは難しい。しかし微小領域は物質の酸性度に影響をあたえるであろう。
【0028】
本発明に基づく物質は一般にBET(N2)で規定されているように400乃至1200m2/gの平均表面域を持つ。窒素吸収で規定される複合微小孔−中間孔細量は一般に0.3乃至2.2m1/gである。
【0029】
本発明の物質の重要な利点はその安定性にある。物質は標準中間細孔物質、例えばモービルのMCM−41などよりもずっと安定していることがわかった。この安定性は例えば沸騰水で約2時間物質を処置した後のXRD、孔量および孔サイズでのもっとも重要なピークの強度の低下により決定される。
【0030】
より詳細には、例えばシリカ源などの無機酸化物前駆物質を分散させた液相を提供することを含む方法で調製される。望ましくはこれは適切なケイ酸塩溶液である。一般に液相のpHは望ましくは約7以上である。選択肢としては、この液相は例えばアルミニウム塩から誘導されるような他の金属イオンを含むことができる。液相は更にとりわけ水素結合によりケイ酸塩と結合する有機物を含み、またある場合には、更にゼオライト生産で微小孔を生産するのに使用される型の微小孔形成剤を含むことができる。シリカと結合する物質は別の相を形成するためにあまりにも疎水性であってはならない。最後に、もしそのような物質が相対的に高い沸点、例えば少なくとも150℃を有するならば有利である。適切な物質の例は、トリエタノールアミン,スルホラン,テトラエチレンペンタミン,ジエチルグリコールジベンゾネートもしくはグリコール(2個もしくはそれ以上の水酸基を持つ化合物)、例えばグリセリン,ジエチレングリコール,トリエチレングリコールおよびテトラエチレングリコールである。無機酸化物前駆物質溶液と液状水素結合化合物/テンプレート混合物との間のよい混合を達成するためには、テンプレート,水素結合溶液の無機酸化物相への滴状追加が望ましい。追加速度は一般に2乃至20g/分であり、望ましくは3乃至8g/分である。
【0031】
望ましい実施例において、混合物は更にアルコール、望ましくはアルカノールを含む。アルコールは混合物に添加されるか、もしくは金属酸化物源として使用される物質の分解で生産される。例えばシリカ源としてオルソケイ酸テトラエチルを使用する時、加熱でエタノールが生産され、またアルミニウムイソプロポキシドをアルミニウム源として使用する時は、プロパノールが生産される。かくして望ましい実施例において、アルコールが混合物に含まれるか、または工程中に使用された物質の一つから生成される。
【0032】
無機酸化物源の型に依存して、物質はまずある温度、例えば5℃乃至45℃で、例えば室温で無機酸化物源(例えばオルソケイ酸テトラエチルなど)から何れかの有機化合物を排除するための期間、例えば48時間熟成される。熟成期間の後、物質は続いて徐々に水のほぼ沸点にまで高められる。これにより水と、無機酸化物から生成した有機成分(メタノールあるいはエタノールなど)は蒸発する。望ましい完全性の高い製品を得るために、物質は均一な加熱速度と前駆物質フェーズでの温度プロファイルの欠除がこの乾燥段階で達成されることが望ましい。これは蒸発時のゲルの伝熱表面域を、例えば浅い床を利用して最大化し、乾燥後固定相を解体し、あるいはロータリ式蒸発器を用いることにより達成される。乾燥段階では、微小孔および中間細孔を形成する助けとなる有機物質はシステムからある程度までは除去されてはならない。従って無機酸化物と結合する有機物質は望ましくは沸点が、少なくとも150℃のものでなければならない。乾燥は例えば6乃至48時間を要するであろう。
【0033】
例えば、保持された水を除去する約6時間乃至48時間の乾燥段階の後、未だ中間細孔形成剤を保持している無機酸化物は中間細孔生産が行われる温度、すなわち、水の沸点以上で中間細孔形成剤の沸点まで加熱される。システムの温度はカ焼温度、例えば300℃乃至1000℃、望ましくは少なくとも400℃まで高められ、そのような物質のカ焼を実行するのに十分な時間その温度を保持される。ホットスポットを避けるために、加熱速度は十分低くしサンプルベッドの高さは限定される。カ焼の間の加熱速度は望ましくは0.1乃至25℃/分で、より望ましくは0.5乃至15℃/分であり、もっとも望ましくは1乃至5℃/分であった。物質は乾燥前または乾燥後、およびカ焼前、例えば自己圧力の密封容器で100℃以上で一般に350℃を越えない温度で熱水処理を受ける。中間細孔のサイズと最終製品での微小孔の量は熱水段階での長さと温度により影響を受ける。一般に最終製品において、温度が増加し熱水処理の期間が増加するにつれて中間細孔の割合は増加し微小孔の割合は減少することが観察された。望ましくは微小孔の量を保持するためには熱水処理は使用されない。微小孔量がほんの僅かなものになり、物質が基本的に中間細孔のみを含むようになるように熱水処理を延長することも可能である。
【0034】
例えば中間細孔も含むが20Å以下の孔を持つ物質の形成に導く抽出により中間細孔が十分に形成される温度に到達する前に、無機酸化物からテンプレート分子を除去することは本発明の範囲内にある。しかし孔サイズに対する孔量の導関数に関してプロットが準備される時に、中間細孔の際立ったピークは存在しない。例えば中間細孔は100℃以下の温度では実質的には形成されないが、中間細孔形成なしで100℃をいく分越えた温度まで加熱することは可能である。
【0035】
カ焼の間に物質の構造は最終的に形成され、一方更に有機分子はシステムから排除され、再使用のために回収することができる。必要とあれば物質は洗浄されるが、一般に成分の型は洗浄が必要でないものであり、システム内に追加の成分も存在しない。こうした調製方法により廃水は排出されない。シリカを100%利用し、有機化合物の回収でできることで、この調製法が高度に効率的なものになる、というのが本発明の更なる利点である。
【0036】
もし必要とあれば、G.Wスキールス,E.M フレニゲン記載のM.オクセリ,他編.A.C.S.シンポジウムシリーズ,398巻,バターワース,420−435ページ(1989年)にあるように、金属イオン例えば、チタン,バナジウム,ジルコニウム,ガリウム,マンガン,亜鉛,ニッケル,コバルト,クロム,モリブデン,あるいは鉄などの金属イオンを加え、または含浸、イオン交換により、あるいは格子原子の部分を置換することにより更なる段階をとることも可能である。ケイ酸塩構造に対しては、ケイ酸塩物質が、例えばテンプレートの水溶液で含浸することによりゼオライト構造に転換されるようなやり方で孔の内側の表面層を処理することも可能である。このようにして双峰孔サイズを持ちゼオライト内部構造の孔を持つ物質が得られる。これは「スキン修飾」により行われつまり、適切な金属あるいはテンプレートイオンが壁に配置され、次いで熱処理が行われることを意味する。このスキン修飾方法は1998年7月、ボルチモアで開催された第12回IZC(第12回IZC紀要、ボルチモア,M.M.J.トリーシー他編,MRS ウォーレンデール(ペンシルバニア)(1999年)I,603−611ページ)でのJ.C.ジャンセンによる全体講義「ゼオライトコーティング」で開示され、この講義で引用された文献に記載されている。
【0037】
含浸またはイオン交換と還元の組合わせで、貴金属などの触媒活性物質にこの物質を適合させることも可能である。更に、界面ヒドロキシル基をガス相または液相での化合物と反応させることで壁に官能成分を付着(グラフト)することも可能である。
【0038】
この明細書では、微小孔サイズと中間細孔サイズに言及がなされている。微小孔サイズは2.0nm以下の径を持つ孔として定義される。本発明により調製される物質の孔サイズ分布は窒素吸着と脱着により定義され、得られたデータから孔径の関数として孔量の導関数のプロットを産出する。
【0039】
窒素吸着と脱着のデータは従来の技術(例えばマイクロメトリクスASAP2010)で利用できる器具を用いて得ることができ、この器具はまた孔径の関数として孔量の導関数のプロットを生産することができる。微小孔の範囲で、このようなプロットはG.ホーバス,K.カワゾエ,ジャーナル・オブ.ケミカル・エンジニアリング,ジャパン16(6),1983年,470ページに記載されるように、ホーバス−カワゾエモデルのスリット孔幾何学的配列を用いて生成される。中間細孔の範囲では、このようなプロットは、E.P.バレット,L.S.ジョイナー,P.P.−ハレンダ,ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサイエティ 73巻(1951年)373−380ページに記載された方法で生成される。
【0040】
本発明の実施例において、本発明で生産される中間細孔範囲での物質の孔サイズ分布は、孔径の関数としての孔量(dV)の導関数の孔サイズ分布曲線がその高さの半分(最大孔量の半分)である曲線の幅の点で、(前に記載の)プロットの最大高さでの孔径に対する曲線の幅の比(半分の高さでの最大孔径と最小孔径との間の差)は0.75以下である。
【0041】
本発明は以下に述べる実施例と関連して記載されるであろう。しかし発明の範囲はそれにより限定されるものではない。
【0042】
【発明を実施するための最良の形態】
本発明をより詳細に記述するために、添付の図面に従ってこれを説明する。
【0044】
【実施例】
(実施例1)
トリエタノールアミン(75%,ACROS)17.37gの滴状追加が4−6g/分の速度でオルソケイ酸テトラエチル(98%,ACROS)94.72gと水136.87gの混合物に攪拌しながら行われた。均質混合物は室温で16時間熟成された。窒素孔測定の結果は表1で示される。
【0045】
【表1】
【0046】
熟成混合物は1.8−2.0cmの高さの層を形成するために皿に移され、固定空気炉で100℃、24時間乾燥された。次いで、乾燥製品は190℃で48時間熱水処理された。カ焼が1℃/分で550℃まで加熱され10時間維持された。
【0047】
X線回折パターンは図4(A)で示される。窒素孔測定結果は図5(B),図6(C)及び表1で示される。
【0048】
(実施例2)
アルミニウムイソプロポキシド2.1gとイソプロパノール60.6gの混合物が作られた。この混合物にオルソケイ酸テトラエチル53.06g(98%,ACROS)が滴状(8−10g/分)で加えられた。次いでトリエタノールアミン(97%,ACROS)38.39gと水114.37gの混合物が前記混合物に滴状(8−10g/分)で加えられた。最後に水酸化アンモニウムテトラエチル31.5gがゆっくり(4−6g/分)攪拌しながら加えられた。最終混合物は室温で24時間熟成された。混合物は1.8−2.0cmの高さの層を形成するために皿に移され、固定空気炉で100℃、24時間乾燥された。乾燥製品は190℃、24時間熱水処理された。カ焼が空気中で1℃/分で500℃までの加熱速度で行われ、4時間維持され、次いで1℃/分で600℃まで加熱され10時間維持された。図7(A),図8(B),図9(C)は製品のX線回折パターンを示す。窒素孔測定結果は図8(B),図9(C)及び表1で示される。
【0049】
(実施例3)
テトラエチレングリコール(99%,ACROS)29.12gと水107.46gの混合物がゆっくり(4−6g/分)オルソケイ酸テトラエチル(98%,ACROS)63.42gに攪拌されながら加えられた。この合成混合物は室温で22時間熟成された。合成混合物は約1.8−2.0cmの層を形成するために皿に移され、固定空気炉で100℃、24時間乾燥された。熱水処理がオートクレーブで190℃、24時間行われた。サンプルは空気中で10時間カ焼され、カ焼は1℃/分の加熱速度で行われた。図10はこの製品のX線回折パターンを示す。窒素孔測定結果は表1で示される。
【0050】
以下、熱水処理を行わない場合について、比較例として説明する。窒素孔測定結果は実施例と共に表1に示される。
(比較例1)
まず、アルミニウムイソプロポキシド1.3gがテトラプロピルアンモニウムヒドロキシドTPAOH(40%)水溶液39.1gに溶解された。次いでトリエタノールアミン(97%,ACROS)47.88gと水14.0gが混合された。トリエタノールアミン混合物はアルミニウム含有混合物に滴状(8−10g/分)で攪拌しながら加えられた。最後にオルソケイ酸テトラエチル(98%,ACROS)33.1gが滴状(4−6g/分)で攪拌しながら生成混合物に加えられた。最終混合物は、室温で48時間熟成され、1.0−1.2cmの高さを持つ層を形成するように皿にひろげられ、100℃で18時間固定空気炉で乾燥された。生成物質は下記の手順を用いて空気中でカ焼された。1℃/分で500℃までの加熱速度,4時間持続、1℃/分で550℃までに、10時間持続。生成物のX線パターンは図1(A)で示される。窒素孔測定の結果は図2(B),図3(C)及び表1で示される。
(比較例2)
トリエタノールアミン25.29g、水酸化アンモニウムテトラエチル(25%)17.29g、と水18.01gの混合物が滴状(4−6g/分)で別の混合物であるチタン(IV)N−ブトキシド1.1gとTEOS,34.95gの混合物に攪拌しながら加えられた。最終均質物質混合物は室温で24時間熟成された。混合物は約1.8−2.0cmの層を形成するために皿に移され固定空気炉で100℃,24時間乾燥された。乾燥製品はランプ速度1℃/分の空中で600℃で10時間カ焼された。
【0051】
この多孔度は窒素吸収等温線を用いて決定され、それはマイクロメリティクスASAP2000を用いて77Kで測定された。図11(A)はこの製品のX線回折パターンを示している。窒素孔測定結果は図12(B),図13(C)と表1で示される。化学組成物は誘導結合プラズマで原子分光分析を用いて分析され1.65重量%Tiを示した。
【0052】
触媒活性はモデル反応としてシクロヘキセンエポキシ化を用いて評価され、それは還流凝縮器を使ってフラスコ内でN2フローの下で40℃で行われた。酸化剤としてターシャルブチルヒドロペルオキシド(TBHP)(70%水溶液)が使用の前に無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥された。シクロヘキセン(99%)10mmol,TBHP11mmolが内標準としてメシチレン5mmolを含むジクロロメタン10mlに加えられた。温度が40℃に達すると、触媒0.11gが反応混合物に導入された。サンプルはGC(WAX52CB)で分析された。時間当りチタンのモル当り転換されたシクロヘキセンのモル量で定義される遷移周波数は6時間後に20.2h−1に達した。これはC.H.リー,J.S.リー,Catal.Lett.,1996年,40巻,261−264ページに記載の同一反応条件の下でのチタン含有MCM−41より約5倍も高いものであった。
【0053】
(比較例3)
オルソケイ酸テトラエチル(98%,ACROS)25.55gがゆっくり(4−6g/分)トリエタノールアミン(97%,ACROS)17.37gと水56.98gの混合物に攪拌しながら加えられた。得られた等質合成混合物は室温で24時間熟成された。次いで混合物は1.8−2.0cm高の層を形成するために皿に移され、固定空気炉で100℃、18時間乾燥された。乾燥サンプルは1℃/分のランプ速度で空気中で550℃でカ焼された。
【0054】
図14はこの製品のX線回折パターンを示す。窒素孔測定データは表1で与えられる。
【0055】
(比較例4)
テトラエチレングリコール(99%,AROS)29.12gと水107.46gの混合物がゆっくり(4〜6g/分)オルソケイ酸テトラエチル(98%,ACROS)63.42gに攪拌されながら加えられた。合成混合物は約1.8−2.0cmの層を形成するために皿に移され、固定空気炉で100℃、24時間乾燥された。乾燥サンプルは2日間クロロホルムを用いてソックスレス抽出され、100℃で空気乾燥された。製品は2θ=0.5°,2θ=50°の間のX線回折パターンでピークを持たなかった。窒素孔測定結果は表1で与えられる。
【0056】
望ましい実施例において、無機物質はシリカのみからまたは他の金属酸化物と組合わせて生産されたけれども、他の金属単独(例えばアルミナ,チタン(二酸化チタン)、ジリコニア(酸化ジルコニウム)等)から、またはシリカを含まない金属との組合せから無機酸化物を生成することはこの発明の精神と範囲内にあることは理解されるであろう。
【0057】
本発明の数多くの修飾と変更が前記の教示の光の下で可能であり、従って同じく請求項の範囲内で特に記載されたもの以外にも実施可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】(A) 実施例1で生産される物質のX線パターンを示す図
【図2】(B) 実施例1の物質の微小孔孔径の関数としての孔量導関数のプロットを示す図
【図3】(C) 実施例1の物質の中間細孔孔径の関数としての孔量の導関数のプロットを示す図
【図4】(A) 実施例2で生産された物質のX線パターンを示す図
【図5】(B) 実施例2の物質の微小孔孔径の関数としての孔量の導関数のプロットを示す図
【図6】(C) 実施例2の物質の中間細孔孔径の関数としての孔量の導関数のプロットを示す図
【図7】(A) 実施例3で生産された物質のX線パターンを示す図
【図8】(B) 実施例3の物質の微小孔孔径の関数しての孔量の導関数のプロットを示す図
【図9】(C) 実施例3の物質の中間細孔孔径の関数としての孔量の導関数のプロットを示す図
【図10】 実施例4で生産された物質のX線パターンを示す図
【図11】(A) 実施例5で生産された物質のX線パターンを示す図
【図12】(B) 実施例5の物質の微小孔孔径の関数としての孔量の導関数のプロットを示す図
【図13】(C) 実施例5の物質の中間細孔孔径の関数としての孔量の導関数のプロットを示す図
【図14】 実施例6で生産された物質のX線パターンを示す図
Claims (14)
- 微小孔と中間細孔を含む無機酸化物を製造する方法であって、
水、無機酸化物、および水素結合により無機酸化物と結合する少なくとも1個の化合物とを含む混合物を調整する工程、
前記混合物を微小孔と中間細孔の両方を含む無機酸化物を製造するための温度と時間とで加熱する工程、
前記無機酸化物を乾燥する工程、
前記乾燥された無機酸化物をカ焼する工程、及び
無機酸化物に所定の量の微小孔が含まれるように前記カ焼する工程の前に無機酸化物を熱水で加熱する工程を含む、
ことを特徴とする方法。 - 前記化合物がトリエタノールアミン,スルホラン,テトラエチレンペンタミン,ジエチルグリコールジベンゾネートあるいはグリコールであることを特徴とする請求項1記載の方法。
- 前記混合物が更に微小孔形成剤を含むことを特徴とする請求項1記載の方法。
- 前記微小孔形成剤が第四アンモニウム塩であることを特徴とする請求項3記載の方法。
- 前記無機酸化物が非晶質ケイ酸塩であることを特徴とする請求項1記載の方法。
- 前記化合物がグリコールであることを特徴とする請求項2記載の方法。
- 前記グリコールが少なくとも150℃の沸点を持つことを特徴とする請求項6記載の方法。
- 前記加熱する工程において無機酸化物前駆物質から水分と揮発性有機物を蒸発させるためにほぼ水の沸点に前記混合物を維持し、次いで前記混合物を乾燥した後に300℃の温度でカ焼することを含むことを特徴とする請求項1記載の方法。
- 前記無機酸化物がオルソケイ酸テトラエチル、燻蒸シリカ,ケイ酸ナトリウムおよびシリカゾルよりなるグループから選択されるケイ酸塩物質であることを特徴とする請求項1記載の方法。
- 前記グリコールがグリセリン,ジエチレングリコール,トリエチレングリコールおよびテトラエチレングリコールよりなるグループから選択されることを特徴とする請求項7記載の方法。
- 前記混合物がIVA,VB,VIB,VIIB,VIII,IB,IIBおよびIIIA元素のグループから選択されるイオン源を更に含むことを特徴とする請求項10記載の方法。
- 前記混合物がアルミニウムイオン源を更に含むことを特徴とする請求項10記載の方法。
- 前記無機酸化物がアルミナを含むことを特徴とする請求項1記載の方法。
- 請求項1ないし請求項13に記載のいずれか1つの方法により製造された中間細孔と3容積%以下の微小孔のみを含む無機酸化物。
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