JPH0920513A - ミクロ−メソ多孔質ゲルの製造方法 - Google Patents
ミクロ−メソ多孔質ゲルの製造方法Info
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- B01J35/60—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties characterised by their surface properties or porosity
- B01J35/64—Pore diameter
- B01J35/647—2-50 nm
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- Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【課題】 製油、石油化学、基礎化学及びファインケミ
ストリーの分野の工業プロセスにおいて不均一触媒、吸
収剤又は触媒担体として有利に使用できるミクロ−メソ
多孔質ゲルを製造すること。 【解決手段】 一種以上の金属酸化物が分散されていて
もよいシリカマトリックスからなるミクロ−メソ多孔質
ゲルの製造方法であって、(a)テトラアルキルオルト
珪酸塩を、式R(CH3)3N−OH(式中、Rはn−
ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシル及びn−ヘプチル
から選択される)で表されるアルキルトリメチルアンモ
ニウム水酸化物で、必要に応じて一種以上の金属化合物
の存在下で、加水分解及びゲル化させる工程と、(b)
工程(a)で得られたゲル又は固形物を乾燥及びか焼す
る工程とを含んでなる製造方法。
ストリーの分野の工業プロセスにおいて不均一触媒、吸
収剤又は触媒担体として有利に使用できるミクロ−メソ
多孔質ゲルを製造すること。 【解決手段】 一種以上の金属酸化物が分散されていて
もよいシリカマトリックスからなるミクロ−メソ多孔質
ゲルの製造方法であって、(a)テトラアルキルオルト
珪酸塩を、式R(CH3)3N−OH(式中、Rはn−
ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシル及びn−ヘプチル
から選択される)で表されるアルキルトリメチルアンモ
ニウム水酸化物で、必要に応じて一種以上の金属化合物
の存在下で、加水分解及びゲル化させる工程と、(b)
工程(a)で得られたゲル又は固形物を乾燥及びか焼す
る工程とを含んでなる製造方法。
Description
【発明の詳細な説明】
【0001】本発明は、触媒活性を有する一種以上の金
属酸化物が分散していてもよいシリカマトリックスから
なるミクロ−メソ多孔質ゲルの製造方法に関する。より
詳細には、本発明は、単一モード細孔分布により特徴付
けられる遷移金属及び第IIIA、IVA及びVA族に
属する金属から選択される一種以上の金属酸化物が均一
に分散していてもよいシリカマトリックスからなるミク
ロ−メソ多孔質ゲルの製造方法に関する。不均一触媒、
液体又は気体の分離、イオン交換等の種々の分野で使用
できる当該技術分野において公知の材料の中に、天然又
は合成の多孔質結晶性アルミノシリケートであるゼオラ
イトがある。ゼオライトに特有な特徴は、微孔性が制御
されており、チャンネルの寸法が約3〜7オングストロ
ームであることにある。ある特定のゼオライト構造で
は、より大きな寸法、即ち約13オングストローム以下
の空孔がある。チャンネルの平均寸法に基づいて、ゼオ
ライトは、小孔、中孔及び大孔に分類され、大孔の平均
孔径は約7オングストロームである。
属酸化物が分散していてもよいシリカマトリックスから
なるミクロ−メソ多孔質ゲルの製造方法に関する。より
詳細には、本発明は、単一モード細孔分布により特徴付
けられる遷移金属及び第IIIA、IVA及びVA族に
属する金属から選択される一種以上の金属酸化物が均一
に分散していてもよいシリカマトリックスからなるミク
ロ−メソ多孔質ゲルの製造方法に関する。不均一触媒、
液体又は気体の分離、イオン交換等の種々の分野で使用
できる当該技術分野において公知の材料の中に、天然又
は合成の多孔質結晶性アルミノシリケートであるゼオラ
イトがある。ゼオライトに特有な特徴は、微孔性が制御
されており、チャンネルの寸法が約3〜7オングストロ
ームであることにある。ある特定のゼオライト構造で
は、より大きな寸法、即ち約13オングストローム以下
の空孔がある。チャンネルの平均寸法に基づいて、ゼオ
ライトは、小孔、中孔及び大孔に分類され、大孔の平均
孔径は約7オングストロームである。
【0002】チャンネルの平均径が7オングストローム
を超えるゼオライトの製造は、これらの材料が現在公知
の微孔系では可能でない立体障害有機分子を含む反応に
まで広げて使用できることから、不均一触媒の分野でま
だ大きな関心がもたれている。これらの材料は、ファイ
ンケミカルの化学工業用中間体の製造用工業プロセス、
とりわけ、製油供給原料の転換及び「流動接触分解」
(FCC)と呼ばれるプロセスに使用できる。この種の
ゼオライトを合成する試みは、M.E.Davis、
C.Saldarriaga、C.Montes、J.
Garces及びC.Crowder、Nature
(1988年)、第331巻、第698頁に記載されて
いるような平均孔径約12.1オングストロームのVP
I−5と呼ばれるリン酸アルミニウムや、M.Este
rmann、L.B.McCusker、Ch.Bae
rlocher、A.Merrouche及びH.Ke
ssler及びNature(1991年)、第352
巻、第320頁に記載されているようなCloveri
te(直径6〜13.2オングストロームの細孔により
特徴付けられるリン酸ガリウム)が製造されたにもかか
わらず成功しなかった。しかしながら、上記した生成物
を酸触媒反応において実用に供することは、酸力が弱い
こと、熱安定性が低いこと及び水熱処理耐性が限られて
いることにより問題がある。
を超えるゼオライトの製造は、これらの材料が現在公知
の微孔系では可能でない立体障害有機分子を含む反応に
まで広げて使用できることから、不均一触媒の分野でま
だ大きな関心がもたれている。これらの材料は、ファイ
ンケミカルの化学工業用中間体の製造用工業プロセス、
とりわけ、製油供給原料の転換及び「流動接触分解」
(FCC)と呼ばれるプロセスに使用できる。この種の
ゼオライトを合成する試みは、M.E.Davis、
C.Saldarriaga、C.Montes、J.
Garces及びC.Crowder、Nature
(1988年)、第331巻、第698頁に記載されて
いるような平均孔径約12.1オングストロームのVP
I−5と呼ばれるリン酸アルミニウムや、M.Este
rmann、L.B.McCusker、Ch.Bae
rlocher、A.Merrouche及びH.Ke
ssler及びNature(1991年)、第352
巻、第320頁に記載されているようなCloveri
te(直径6〜13.2オングストロームの細孔により
特徴付けられるリン酸ガリウム)が製造されたにもかか
わらず成功しなかった。しかしながら、上記した生成物
を酸触媒反応において実用に供することは、酸力が弱い
こと、熱安定性が低いこと及び水熱処理耐性が限られて
いることにより問題がある。
【0003】中間(メソ)細孔性の狭い分布(孔径が3
7〜150オングストロームの範囲内)により特徴付け
られる高表面積の非晶質シリカ−アルミナの合成の可能
性が、M.R.Manton及びJ.C.Davidt
z、Journal ofCatalysis(197
9年)、第60巻、第156〜166頁に記載されてい
る。しかしながら、これらの材料も、実用的用途がな
い。より最近では、ヨ−ロッパ特許第463,673及
び米国特許第4,992,608号及び第5,049,
536号には、かなり狭い細孔分布(平均径が約10オ
ングストローム以下であり、直径が30オングストロー
ムを超える細孔が基本的にない)を有し且つ酸触媒反応
で優れた触媒性能を示す非晶質アルミノシリケートを得
る可能性について記載されている。これらの性能は、使
用される製造方法によりアルミニウムが四面配位に均一
に分布できることによるものと思われる。これにより、
上記した非晶質アルミノシリケートはゼオライト状材料
として分類できる。上記材料の合成方法は、実際には、
ある種のゼオライトに典型的に使用される方法と類似し
ているが、水熱処理が基本的にない点で異なる。この方
法では、シリカ源(好ましくは、テトラエチルオルトシ
リケート)及びアルミニウム源(トリアルコキシド、好
ましくはトリ−n−プロポキシド又はトリイソプロポキ
シド)を、テトラアルキルアンモニウム水酸化物[R4
N−OH(式中、Rはエチル、n−プロピル又はn−ブ
チルである)]の水溶液と混合することなどが行われ
る。続いて、得られた溶液を、50〜70℃の温度に加
熱することによりゲル化する。このように、試薬の加水
分解により生じたアルコールが部分蒸発される。次に、
得られたゲルを乾燥し、か焼して最終生成物を得る。
7〜150オングストロームの範囲内)により特徴付け
られる高表面積の非晶質シリカ−アルミナの合成の可能
性が、M.R.Manton及びJ.C.Davidt
z、Journal ofCatalysis(197
9年)、第60巻、第156〜166頁に記載されてい
る。しかしながら、これらの材料も、実用的用途がな
い。より最近では、ヨ−ロッパ特許第463,673及
び米国特許第4,992,608号及び第5,049,
536号には、かなり狭い細孔分布(平均径が約10オ
ングストローム以下であり、直径が30オングストロー
ムを超える細孔が基本的にない)を有し且つ酸触媒反応
で優れた触媒性能を示す非晶質アルミノシリケートを得
る可能性について記載されている。これらの性能は、使
用される製造方法によりアルミニウムが四面配位に均一
に分布できることによるものと思われる。これにより、
上記した非晶質アルミノシリケートはゼオライト状材料
として分類できる。上記材料の合成方法は、実際には、
ある種のゼオライトに典型的に使用される方法と類似し
ているが、水熱処理が基本的にない点で異なる。この方
法では、シリカ源(好ましくは、テトラエチルオルトシ
リケート)及びアルミニウム源(トリアルコキシド、好
ましくはトリ−n−プロポキシド又はトリイソプロポキ
シド)を、テトラアルキルアンモニウム水酸化物[R4
N−OH(式中、Rはエチル、n−プロピル又はn−ブ
チルである)]の水溶液と混合することなどが行われ
る。続いて、得られた溶液を、50〜70℃の温度に加
熱することによりゲル化する。このように、試薬の加水
分解により生じたアルコールが部分蒸発される。次に、
得られたゲルを乾燥し、か焼して最終生成物を得る。
【0004】さらにより最近では、イタリア特許出願第
MI 93 A 002696号は、ゲル化を、試薬混
合物からアルコール自体を除去することなく、試薬の加
水分解により生じたアルコールの沸点(又は沸点よりも
わずかに高い温度)で実施する方法により得られたミク
ロ−メソポアの分布が寸法的に非常に狭いことによって
特徴付けられる非晶質アルミノシリケートを記載してい
る。この方法は、還流冷却器を備えた反応器又は自己発
生圧力で操作されるオートクレーブで容易に実施でき
る。ここでも、請求の範囲に記載のアンモニウム塩基
は、R4N−OH型(式中、Rはエチル、n−プロピ
ル、n−ブチル又はn−ペンチルである)である。アル
コールの存在が上記非晶質アルミノシリケートに多孔特
性に明確な影響を及ぼすことも、アルコール、好ましく
はエタノールを反応混合物に、添加アルコールとSiO
2とのモル比8:1以下の量で添加することにより立証
された。アルコールの存在により、反応混合物が混合開
始後すぐに均一になる。これらの条件下では、加水分解
及びゲル化速度は、不均一条件下でよりもはるかに速
い。さらに、ゲル化は、試薬の加水分解により生じるア
ルコールの沸点よりも低い温度で(室温でさえ)、不均
一相において60℃で実施される類似の方法で使用され
る時間よりも必ずしも長くない時間でも生じることがあ
る。特許出願第WO91/11390号は、平均細孔径
が20〜100オングストロームで、六方構造(MCM
−41)又は立方構造(MCM−48)に応じて材料に
規則的に組織化される新しい部類のメソ多孔質アルミノ
シリケート(M41Sと称される)を得る可能性につい
て記載している。
MI 93 A 002696号は、ゲル化を、試薬混
合物からアルコール自体を除去することなく、試薬の加
水分解により生じたアルコールの沸点(又は沸点よりも
わずかに高い温度)で実施する方法により得られたミク
ロ−メソポアの分布が寸法的に非常に狭いことによって
特徴付けられる非晶質アルミノシリケートを記載してい
る。この方法は、還流冷却器を備えた反応器又は自己発
生圧力で操作されるオートクレーブで容易に実施でき
る。ここでも、請求の範囲に記載のアンモニウム塩基
は、R4N−OH型(式中、Rはエチル、n−プロピ
ル、n−ブチル又はn−ペンチルである)である。アル
コールの存在が上記非晶質アルミノシリケートに多孔特
性に明確な影響を及ぼすことも、アルコール、好ましく
はエタノールを反応混合物に、添加アルコールとSiO
2とのモル比8:1以下の量で添加することにより立証
された。アルコールの存在により、反応混合物が混合開
始後すぐに均一になる。これらの条件下では、加水分解
及びゲル化速度は、不均一条件下でよりもはるかに速
い。さらに、ゲル化は、試薬の加水分解により生じるア
ルコールの沸点よりも低い温度で(室温でさえ)、不均
一相において60℃で実施される類似の方法で使用され
る時間よりも必ずしも長くない時間でも生じることがあ
る。特許出願第WO91/11390号は、平均細孔径
が20〜100オングストロームで、六方構造(MCM
−41)又は立方構造(MCM−48)に応じて材料に
規則的に組織化される新しい部類のメソ多孔質アルミノ
シリケート(M41Sと称される)を得る可能性につい
て記載している。
【0005】これらの材料は、少なくともシリカ源、ア
ルミナ源、式R1R2R3R4Q−OH(式中、Qは窒
素又はリンであり、R1、R2、R3及びR4のうちの
少なくとも一つは炭素数6〜36のアリール又はアルキ
ル基を表し、残りのR1、R2、R3及びR4の各々は
水素及び炭素数1〜5のアルキル基から選択される)で
表される有機化合物を含有する混合物を原料として調製
できる。WO91/11390に準じて使用できる式R
1R2R3R4Q+で表されるカチオンとしては、例え
ばセチルトリメチルアンモニウム、セチルトリメチルホ
スホニウム、オクタデシルトリメチルホスホニウム、ベ
ンジルトリメチルアンモニウム、セチルピリジニウム、
ミリスチルトリメチルアンモニウム、デシルトリメチル
アンモニウム、ドデシルトリメチルアンモニウム及びジ
メチルジドデシルアンモニウムがある。また、上記式R
1R2R3R4N−OH(但し、R1、R2、R3及び
R4は水素及びC1−C5アルキル基から選択される
か、アルキル基のうちの2つが一緒に環状化合物を形成
してもよい)で表される4級アンモニウム塩基も存在し
てもよい。混合物を、25〜250℃の温度で5分〜1
4日間水熱処理に附する。得られた生成物は、粉末X線
回析スペクトル(XRD)で、二次元オーダーの六方構
造か、対称立方構造を有することにより特徴付けられ
る。高解像透過型電子顕微鏡(HREM)を用いて実施
した分析から、六方対称を有する中間細孔アルミノシリ
ケート)(MCM−41と称される)の場合には、ハニ
カム六方構造に準じて規則的に組織化された一次元中間
細孔が存在することが明かである。これらのアルミニウ
ム材料では、材料を酸性とする四面配位がある。さら
に、これらの材料は、熱処理に対して極めて安定であ
る。
ルミナ源、式R1R2R3R4Q−OH(式中、Qは窒
素又はリンであり、R1、R2、R3及びR4のうちの
少なくとも一つは炭素数6〜36のアリール又はアルキ
ル基を表し、残りのR1、R2、R3及びR4の各々は
水素及び炭素数1〜5のアルキル基から選択される)で
表される有機化合物を含有する混合物を原料として調製
できる。WO91/11390に準じて使用できる式R
1R2R3R4Q+で表されるカチオンとしては、例え
ばセチルトリメチルアンモニウム、セチルトリメチルホ
スホニウム、オクタデシルトリメチルホスホニウム、ベ
ンジルトリメチルアンモニウム、セチルピリジニウム、
ミリスチルトリメチルアンモニウム、デシルトリメチル
アンモニウム、ドデシルトリメチルアンモニウム及びジ
メチルジドデシルアンモニウムがある。また、上記式R
1R2R3R4N−OH(但し、R1、R2、R3及び
R4は水素及びC1−C5アルキル基から選択される
か、アルキル基のうちの2つが一緒に環状化合物を形成
してもよい)で表される4級アンモニウム塩基も存在し
てもよい。混合物を、25〜250℃の温度で5分〜1
4日間水熱処理に附する。得られた生成物は、粉末X線
回析スペクトル(XRD)で、二次元オーダーの六方構
造か、対称立方構造を有することにより特徴付けられ
る。高解像透過型電子顕微鏡(HREM)を用いて実施
した分析から、六方対称を有する中間細孔アルミノシリ
ケート)(MCM−41と称される)の場合には、ハニ
カム六方構造に準じて規則的に組織化された一次元中間
細孔が存在することが明かである。これらのアルミニウ
ム材料では、材料を酸性とする四面配位がある。さら
に、これらの材料は、熱処理に対して極めて安定であ
る。
【0006】イタリア特許出願第MI 94 A 01
399号では、イタリア特許出願第MI 93 A 0
02696号に記載の非晶質アルミノシリケートの製造
方法由来の方法であり且つ特許出願第WO91/113
90号に記載のメソ多孔質アルミノシリケート(M41
Sと称される)の製造方法よりもはるかに簡単な方法に
より、ミクロ−メソ多孔質金属シリケートであって、細
孔寸法の分布が狭いことにより特徴付けられ且つ部分的
に上記オーダーにあるのもを製造可能であることが判明
した。実際、上記イタリア特許出願に記載されている方
法で得られるアルミノシリケートは完全に非晶質である
が、ERS−8と称せられるこれらの新規な材料は、粉
末X線回析スペクトル(XRD)により、低角で散漫反
射を示し短範囲オーダーのメソ多孔質構造であることに
より特徴付けられる。短範囲構造オーダーが存在するこ
とから、この部類の材料は、類似のオーダー(規則)材
料(M41S)と完全に不規則な材料(非晶質アルミノ
シリケート)の間の中間体として同定できる。したがっ
て、MI94 01399に記載の材料は、単一モード
細孔分布を特徴とする、遷移金属及び第IIIA、IV
A及びVA族に属する金属から選択される一種以上の金
属の酸化物が均一に分散していてもよいシリカマトリッ
クスからなるミクロ−メソ多孔質ゲルからなる。この金
属−シリカゲルは、製油、石油化学、基礎化学及びファ
インケミストリーの分野の工業プロセスにおいて、不均
一触媒、吸収剤又は触媒担体として都合よく使用でき
る。
399号では、イタリア特許出願第MI 93 A 0
02696号に記載の非晶質アルミノシリケートの製造
方法由来の方法であり且つ特許出願第WO91/113
90号に記載のメソ多孔質アルミノシリケート(M41
Sと称される)の製造方法よりもはるかに簡単な方法に
より、ミクロ−メソ多孔質金属シリケートであって、細
孔寸法の分布が狭いことにより特徴付けられ且つ部分的
に上記オーダーにあるのもを製造可能であることが判明
した。実際、上記イタリア特許出願に記載されている方
法で得られるアルミノシリケートは完全に非晶質である
が、ERS−8と称せられるこれらの新規な材料は、粉
末X線回析スペクトル(XRD)により、低角で散漫反
射を示し短範囲オーダーのメソ多孔質構造であることに
より特徴付けられる。短範囲構造オーダーが存在するこ
とから、この部類の材料は、類似のオーダー(規則)材
料(M41S)と完全に不規則な材料(非晶質アルミノ
シリケート)の間の中間体として同定できる。したがっ
て、MI94 01399に記載の材料は、単一モード
細孔分布を特徴とする、遷移金属及び第IIIA、IV
A及びVA族に属する金属から選択される一種以上の金
属の酸化物が均一に分散していてもよいシリカマトリッ
クスからなるミクロ−メソ多孔質ゲルからなる。この金
属−シリカゲルは、製油、石油化学、基礎化学及びファ
インケミストリーの分野の工業プロセスにおいて、不均
一触媒、吸収剤又は触媒担体として都合よく使用でき
る。
【0007】このミクロ−メソ多孔質金属−シリカゲル
(ERS−8と称される)の粉末X線回折スペクトル
(XRD)(フィリップス縦型回折計、比例パルスカウ
ンター装備、発散及び受入れスレッド1/6°、CuK
α線(λ=1.54178オングストローム))は、単
一の大きく広がった回折線が存在するか2θ=5°以下
の角度で散漫散乱があるの(図1)に対して、より高角
度では他の干渉性散乱現象が観察されない(図2)こと
により特徴付けられる。このことから、短範囲オーダー
のメソ多孔質構造が存在し、最初の隣接原子のみに基本
的に構造の相関が限定されると解釈される。また、この
ミクロ−メソ多孔質金属−シリカゲルは、Carlo
Erba Sorptomatic 1900計測器を
用いて液体窒素温度(77K)での窒素の吸着−脱着サ
イクルによるBET法を用いて測定したときの表面積が
500m2/g〜1200m2/gであること及び細孔
容積が0.3cm3/g〜1.3cm3/gであること
によっても特徴付けられる。細孔径は、40オングスト
ローム未満である。ミクロポアを直径20オングストロ
ームの細孔として定義し、メソポアを直径20〜500
オングストロームの細孔として定義しているIUPAC
“Manual of Symbols and Te
rminology”(1972年)、付録2、第1部
Coll.Surface Chem.Pure Ap
pl.Chem.第31巻、第578頁で提案されてい
る用語を用いて、この金属−シリカゲルを、ミクロ−メ
ソ多孔質固体として分類した。
(ERS−8と称される)の粉末X線回折スペクトル
(XRD)(フィリップス縦型回折計、比例パルスカウ
ンター装備、発散及び受入れスレッド1/6°、CuK
α線(λ=1.54178オングストローム))は、単
一の大きく広がった回折線が存在するか2θ=5°以下
の角度で散漫散乱があるの(図1)に対して、より高角
度では他の干渉性散乱現象が観察されない(図2)こと
により特徴付けられる。このことから、短範囲オーダー
のメソ多孔質構造が存在し、最初の隣接原子のみに基本
的に構造の相関が限定されると解釈される。また、この
ミクロ−メソ多孔質金属−シリカゲルは、Carlo
Erba Sorptomatic 1900計測器を
用いて液体窒素温度(77K)での窒素の吸着−脱着サ
イクルによるBET法を用いて測定したときの表面積が
500m2/g〜1200m2/gであること及び細孔
容積が0.3cm3/g〜1.3cm3/gであること
によっても特徴付けられる。細孔径は、40オングスト
ローム未満である。ミクロポアを直径20オングストロ
ームの細孔として定義し、メソポアを直径20〜500
オングストロームの細孔として定義しているIUPAC
“Manual of Symbols and Te
rminology”(1972年)、付録2、第1部
Coll.Surface Chem.Pure Ap
pl.Chem.第31巻、第578頁で提案されてい
る用語を用いて、この金属−シリカゲルを、ミクロ−メ
ソ多孔質固体として分類した。
【0008】MI 94 10399に記載のこのミク
ロ−メソ多孔質金属−シリカゲルの製造方法は、(a)
テトラアルキルオルトシリケートのアルコール溶液を、
式(I): R´4N−OH (I) (式中、R´はC3−C7アルキル基を表す)で表され
るテトラアルキルアンモニウムの水酸化物及び任意に酸
化物が触媒活性を有する遷移金属及び第IIIA、IV
A及びVA族に属する金属から選択される一種以上の金
属の一種以上の可溶性又は加水分解性化合物の水溶液で
あって、前記溶液の成分量は以下のモル比 : H2O/SiO2=5〜30 R−OH/SiO2=5〜10 R´4N+/SiO2=0.05〜0.5 酸化鉄/SiO2=0〜0.05 を満足するような量であり、一方、H2O/R´4N+
比はR´アルキル鎖の炭素数との関係で以下の表1及び
図3のグラフ: 表1 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− R´4N−OH H2O/R´4N+ −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− THexylA−OH ≦ 133 TPentylA−OH ≦ 100 TButylA−OH ≦ 73 TPropylA−OH ≦ 53 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− に示すように変化させた溶液により、テトラアルキルオ
ルトシリケートの溶液で使用されるアルコール及び上記
加水分解反応の副生成物として形成されるアルコールの
大気圧での沸点に近い温度で、反応媒体からこれらのア
ルコールを除去しないか実質的に除去することなく、好
ましくは20〜80℃の温度で加水分解及びゲル化させ
る工程と、(b)工程(a)で得られたゲルを乾燥及び
か焼する工程と、を含んでなる。
ロ−メソ多孔質金属−シリカゲルの製造方法は、(a)
テトラアルキルオルトシリケートのアルコール溶液を、
式(I): R´4N−OH (I) (式中、R´はC3−C7アルキル基を表す)で表され
るテトラアルキルアンモニウムの水酸化物及び任意に酸
化物が触媒活性を有する遷移金属及び第IIIA、IV
A及びVA族に属する金属から選択される一種以上の金
属の一種以上の可溶性又は加水分解性化合物の水溶液で
あって、前記溶液の成分量は以下のモル比 : H2O/SiO2=5〜30 R−OH/SiO2=5〜10 R´4N+/SiO2=0.05〜0.5 酸化鉄/SiO2=0〜0.05 を満足するような量であり、一方、H2O/R´4N+
比はR´アルキル鎖の炭素数との関係で以下の表1及び
図3のグラフ: 表1 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− R´4N−OH H2O/R´4N+ −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− THexylA−OH ≦ 133 TPentylA−OH ≦ 100 TButylA−OH ≦ 73 TPropylA−OH ≦ 53 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− に示すように変化させた溶液により、テトラアルキルオ
ルトシリケートの溶液で使用されるアルコール及び上記
加水分解反応の副生成物として形成されるアルコールの
大気圧での沸点に近い温度で、反応媒体からこれらのア
ルコールを除去しないか実質的に除去することなく、好
ましくは20〜80℃の温度で加水分解及びゲル化させ
る工程と、(b)工程(a)で得られたゲルを乾燥及び
か焼する工程と、を含んでなる。
【0009】本発明者等は、今般予想外にも、MI 9
4 01399に記載の材料は、適当な条件下で、ゲル
化剤として式R(CH3)3N−OH(式中、Rはn−
ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシル及びn−ヘプチル
から選択される直鎖アルキル基である)で表されるアル
キルトリメチルアンモニウムの水酸化物を用いて得るこ
とができることを見出だした。したがって、本発明は、
単一モード細孔分布により特徴付けられる、遷移金属及
び第IIIA、IVA及びVA族に属する金属から選択
される一種以上の金属酸化物が均一に分散されていても
よいシリカマトリックスからなるミクロ−メソ多孔質ゲ
ルの製造方法であって、(a)テトラアルキルオルトシ
リケートをそのまま純粋な形態かアルコール溶液とし
て、式(I): R(CH3)3N−OH (I) (式中、Rはn−ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシル
及びn−ヘプチルから選択される直鎖アルキル基であ
る)で表されるアルキルトリメチルアンモニウムの水酸
化物及び所望により、酸化物が触媒活性を有する遷移金
属及び第IIIA、IVA及びVA族に属する金属から
選択される一種以上の金属の一種以上の可溶性又は加水
分解性化合物の水溶液であって、前記溶液の成分量は以
下のモル比: H2O/SiO2=5〜40 R−OH/SiO2=0〜10 R(CH3)3N−OH/SiO2=0.05〜0.4 メタルオキシド/SiO2=0〜0.02 を満足するような量であり、一方、H2O/R(C
H3)3N−OH比はRアルキル鎖の炭素数との関係で
以下の表2及び図4: 表2 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− R H2O/R(CH3)3N−OH −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− n−ブチル ≦ 35 n−ペンチル < 70 n−ヘキシル < 102 n−ヘプチル ≦ 136 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− に示すように変化させた溶液により、20〜80℃の温
度で加水分解及びゲル化させる工程と、(b)工程
(a)で得られたゲル又は固形物を乾燥及びか焼する工
程と、を含んでなることを特徴とするミクロ−メソ多孔
質ゲルの製造方法に関する。
4 01399に記載の材料は、適当な条件下で、ゲル
化剤として式R(CH3)3N−OH(式中、Rはn−
ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシル及びn−ヘプチル
から選択される直鎖アルキル基である)で表されるアル
キルトリメチルアンモニウムの水酸化物を用いて得るこ
とができることを見出だした。したがって、本発明は、
単一モード細孔分布により特徴付けられる、遷移金属及
び第IIIA、IVA及びVA族に属する金属から選択
される一種以上の金属酸化物が均一に分散されていても
よいシリカマトリックスからなるミクロ−メソ多孔質ゲ
ルの製造方法であって、(a)テトラアルキルオルトシ
リケートをそのまま純粋な形態かアルコール溶液とし
て、式(I): R(CH3)3N−OH (I) (式中、Rはn−ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシル
及びn−ヘプチルから選択される直鎖アルキル基であ
る)で表されるアルキルトリメチルアンモニウムの水酸
化物及び所望により、酸化物が触媒活性を有する遷移金
属及び第IIIA、IVA及びVA族に属する金属から
選択される一種以上の金属の一種以上の可溶性又は加水
分解性化合物の水溶液であって、前記溶液の成分量は以
下のモル比: H2O/SiO2=5〜40 R−OH/SiO2=0〜10 R(CH3)3N−OH/SiO2=0.05〜0.4 メタルオキシド/SiO2=0〜0.02 を満足するような量であり、一方、H2O/R(C
H3)3N−OH比はRアルキル鎖の炭素数との関係で
以下の表2及び図4: 表2 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− R H2O/R(CH3)3N−OH −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− n−ブチル ≦ 35 n−ペンチル < 70 n−ヘキシル < 102 n−ヘプチル ≦ 136 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− に示すように変化させた溶液により、20〜80℃の温
度で加水分解及びゲル化させる工程と、(b)工程
(a)で得られたゲル又は固形物を乾燥及びか焼する工
程と、を含んでなることを特徴とするミクロ−メソ多孔
質ゲルの製造方法に関する。
【0010】本発明の目的に適当なテトラアルキルオル
トシリケートは、テトラメチルオルトシリケート、テト
ラエチルオルトシリケート、テトラプロピルオルトシリ
ケート及びテトライソプロピルオルトシリケートから選
択され、これらのうち、テトラエチルオルトシリケート
(TES)が好ましい。上記テトラアルキルオルトシリ
ケートを溶解するのに任意に使用される前記アルコール
は好ましくはエタノール(EtOH)である。本発明の
目的に適当な、酸化物が触媒活性を有する一種以上の金
属の可溶性又は加水分解性化合物は、金属自体の水溶性
又は加水分解性塩若しくは酸から選択される。これらの
うち、アルミニウムトリプロポキシド及びトリイソプロ
ポキシドが好ましい。上記方法の工程(a)の実施態様
では、まず式(1)で表されるテトラアルキルアンモニ
ウム水酸化物及び任意の一種以上の金属の一種以上の可
溶性又は加水分解性化合物の水溶液を調製し、単一又は
複数の金属化合物(存在するとき)が完全に溶解した
ら、テトラアルキルオルトシリケートを純粋な形態又は
アルコール溶液として添加する。この添加後、ゲル又は
固形物の沈殿が形成するまで、試薬混合物の粘度の増加
が観察される。このときの粘度の増加速度は、混合物自
体の温度及び組成物に直接依存する。ゲル化工程は、1
分〜3時間で完了する。ゲル又は沈殿を、続いて、20
〜80℃で1〜72時間熟成させる。沈殿が形成した
ら、これを濾過又は遠心分離により溶媒から分離する。
上記方法の工程(b)において、工程(a)で得たゲル
又は固体を、真空下60〜150℃の温度で乾燥し、最
後に空気中450〜550℃で6〜12時間か焼する。
トシリケートは、テトラメチルオルトシリケート、テト
ラエチルオルトシリケート、テトラプロピルオルトシリ
ケート及びテトライソプロピルオルトシリケートから選
択され、これらのうち、テトラエチルオルトシリケート
(TES)が好ましい。上記テトラアルキルオルトシリ
ケートを溶解するのに任意に使用される前記アルコール
は好ましくはエタノール(EtOH)である。本発明の
目的に適当な、酸化物が触媒活性を有する一種以上の金
属の可溶性又は加水分解性化合物は、金属自体の水溶性
又は加水分解性塩若しくは酸から選択される。これらの
うち、アルミニウムトリプロポキシド及びトリイソプロ
ポキシドが好ましい。上記方法の工程(a)の実施態様
では、まず式(1)で表されるテトラアルキルアンモニ
ウム水酸化物及び任意の一種以上の金属の一種以上の可
溶性又は加水分解性化合物の水溶液を調製し、単一又は
複数の金属化合物(存在するとき)が完全に溶解した
ら、テトラアルキルオルトシリケートを純粋な形態又は
アルコール溶液として添加する。この添加後、ゲル又は
固形物の沈殿が形成するまで、試薬混合物の粘度の増加
が観察される。このときの粘度の増加速度は、混合物自
体の温度及び組成物に直接依存する。ゲル化工程は、1
分〜3時間で完了する。ゲル又は沈殿を、続いて、20
〜80℃で1〜72時間熟成させる。沈殿が形成した
ら、これを濾過又は遠心分離により溶媒から分離する。
上記方法の工程(b)において、工程(a)で得たゲル
又は固体を、真空下60〜150℃の温度で乾燥し、最
後に空気中450〜550℃で6〜12時間か焼する。
【0011】以下、本発明及びその実施態様のよりよい
理解のために、いくつかの具体的な例をあげるが、本発
明自体の範囲はこれらには限定されない。例1 n−ヘプチル−トリメチル−アンモニウム水酸化物によ
るゲル化 n−ヘプチル−トリメチル−アンモニウム水酸化物1
3.7g(水溶液、濃度27.6重量%)、水43g及
びアルミニウムイソプロポキシド0.8gを、容量40
0cm3の実験ビーカー内で約60℃に加熱する。アル
ミニウム塩が完全に溶解したら、ビーカーを加熱板から
はずし、オルトケイ酸テトラエチル40.9gを、得ら
れた溶液に攪拌しながら添加する。混合物の組成比(モ
ル比)は以下の通りである: Al2O3/SiO2=100 n−ヘプチル−トリメチル−アンモニウム−OH/Si
O2=0.11 H2O/SiO2=15 H2O/n−ヘプチル−トリメチル−アンモニウム水酸
化物=136 約50分間攪拌後、沈殿が生成し、それを次の日まで熟
成し、濾過し、真空下オーブン中で乾燥後、空気中、5
00℃で8時間か焼する。XRDスペクトルから、2θ
=3.0°(d=29.5オングストローム)を中心と
した反射があることが分かる(図5)。比表面積は65
5m2/gに等しく、比細孔容積は0.394cm3/
gであり、細孔径は40オングストローム未満である。
理解のために、いくつかの具体的な例をあげるが、本発
明自体の範囲はこれらには限定されない。例1 n−ヘプチル−トリメチル−アンモニウム水酸化物によ
るゲル化 n−ヘプチル−トリメチル−アンモニウム水酸化物1
3.7g(水溶液、濃度27.6重量%)、水43g及
びアルミニウムイソプロポキシド0.8gを、容量40
0cm3の実験ビーカー内で約60℃に加熱する。アル
ミニウム塩が完全に溶解したら、ビーカーを加熱板から
はずし、オルトケイ酸テトラエチル40.9gを、得ら
れた溶液に攪拌しながら添加する。混合物の組成比(モ
ル比)は以下の通りである: Al2O3/SiO2=100 n−ヘプチル−トリメチル−アンモニウム−OH/Si
O2=0.11 H2O/SiO2=15 H2O/n−ヘプチル−トリメチル−アンモニウム水酸
化物=136 約50分間攪拌後、沈殿が生成し、それを次の日まで熟
成し、濾過し、真空下オーブン中で乾燥後、空気中、5
00℃で8時間か焼する。XRDスペクトルから、2θ
=3.0°(d=29.5オングストローム)を中心と
した反射があることが分かる(図5)。比表面積は65
5m2/gに等しく、比細孔容積は0.394cm3/
gであり、細孔径は40オングストローム未満である。
【0012】例2 n−ヘプチル−トリメチル−アンモニウム水酸化物によ
るゲル化 n−ヘプチル−トリメチル−アンモニウム水酸化物1
7.5g(水溶液、濃度27.6重量%)、水33g及
びアルミニウムイソプロポキシド1.02gを、容量4
00cm3の実験ビーカー内で約60℃に加熱する。ア
ルミニウム塩が完全に溶解したら、ビーカーを加熱板か
らはずし、オルトケイ酸テトラエチル52g及びエタノ
ール100gを、得られた溶液に攪拌しながら添加す
る。混合物の組成比(モル比)は以下の通りである: Al2O3/SiO2=0.01 n−ヘプチル−トリメチル−アンモニウム−OH/Si
O2=0.11 H2O/SiO2=10 H2O/n−ヘプチル−トリメチル−アンモニウム水酸
化物=73 EtOH/SiO2=8 約7分後、ゲルが生成し、それを次の日まで熟成させた
後、真空下オーブン中120℃で乾燥し、最後に空気
中、550℃で8時間か焼する。XRDスペクトルか
ら、2θ1〜4°の範囲で弱く且つ散漫な散乱があるこ
とがわかる(図6)。比表面積は827m2/gに等し
く、比細孔容積は0.849cm3/gであり、細孔径
は40オングストローム未満である。
るゲル化 n−ヘプチル−トリメチル−アンモニウム水酸化物1
7.5g(水溶液、濃度27.6重量%)、水33g及
びアルミニウムイソプロポキシド1.02gを、容量4
00cm3の実験ビーカー内で約60℃に加熱する。ア
ルミニウム塩が完全に溶解したら、ビーカーを加熱板か
らはずし、オルトケイ酸テトラエチル52g及びエタノ
ール100gを、得られた溶液に攪拌しながら添加す
る。混合物の組成比(モル比)は以下の通りである: Al2O3/SiO2=0.01 n−ヘプチル−トリメチル−アンモニウム−OH/Si
O2=0.11 H2O/SiO2=10 H2O/n−ヘプチル−トリメチル−アンモニウム水酸
化物=73 EtOH/SiO2=8 約7分後、ゲルが生成し、それを次の日まで熟成させた
後、真空下オーブン中120℃で乾燥し、最後に空気
中、550℃で8時間か焼する。XRDスペクトルか
ら、2θ1〜4°の範囲で弱く且つ散漫な散乱があるこ
とがわかる(図6)。比表面積は827m2/gに等し
く、比細孔容積は0.849cm3/gであり、細孔径
は40オングストローム未満である。
【0013】例3 n−ヘプチル−トリメチル−アンモニウム水酸化物によ
るゲル化 n−ヘプチル−トリメチル−アンモニウム水酸化物3
4.9g(水溶液、濃度27.6重量%)、水42g及
びアルミニウムイソプロポキシド1.02gを、容量4
00cm3の実験ビーカー内で約60℃に加熱する。ア
ルミニウム塩が完全に溶解したら、ビーカーを加熱板か
らはずし、オルトケイ酸テトラエチル52gを、得られ
た溶液に攪拌しながら添加する。混合物の組成比(モル
比)は以下の通りである: Al2O3/SiO2=0.01 n−ヘプチル−トリメチル−アンモニウム−OH/Si
O2=0.22 H2O/SiO2=15 H2O/n−ヘプチル−トリメチル−アンモニウム水酸
化物=68 約2分後、ゲルが生成し、それを次の日まで熟成させた
後、真空下オーブン中120℃で乾燥し、最後に空気
中、550℃で8時間か焼する。XRDスペクトルか
ら、2θ=3.0°(d=29.5オングストローム)
を中心として広がった反射があることが分かる(図
7)。比表面積は1023m2/gに等しく、比細孔容
積は0.607cm3/gであり、細孔径は40オング
ストローム未満である。
るゲル化 n−ヘプチル−トリメチル−アンモニウム水酸化物3
4.9g(水溶液、濃度27.6重量%)、水42g及
びアルミニウムイソプロポキシド1.02gを、容量4
00cm3の実験ビーカー内で約60℃に加熱する。ア
ルミニウム塩が完全に溶解したら、ビーカーを加熱板か
らはずし、オルトケイ酸テトラエチル52gを、得られ
た溶液に攪拌しながら添加する。混合物の組成比(モル
比)は以下の通りである: Al2O3/SiO2=0.01 n−ヘプチル−トリメチル−アンモニウム−OH/Si
O2=0.22 H2O/SiO2=15 H2O/n−ヘプチル−トリメチル−アンモニウム水酸
化物=68 約2分後、ゲルが生成し、それを次の日まで熟成させた
後、真空下オーブン中120℃で乾燥し、最後に空気
中、550℃で8時間か焼する。XRDスペクトルか
ら、2θ=3.0°(d=29.5オングストローム)
を中心として広がった反射があることが分かる(図
7)。比表面積は1023m2/gに等しく、比細孔容
積は0.607cm3/gであり、細孔径は40オング
ストローム未満である。
【0014】例4 n−ヘプチル−トリメチル−アンモニウム水酸化物によ
るゲル化 n−ヘプチル−トリメチル−アンモニウム水酸化物3
4.9g(水溶液、濃度27.6重量%)、水21g及
びアルミニウムイソプロポキシド1.02gを、容量4
00cm3の実験ビーカー内で約60℃に加熱する。ア
ルミニウム塩が完全に溶解したら、ビーカーを加熱板か
らはずし、オルトケイ酸テトラエチル52g及びエタノ
ール100gを、得られた溶液に攪拌しながら添加す
る。混合物の組成比(モル比)は以下の通りである: Al2O3/SiO2= 0.01 n−ヘプチル−トリメチル−アンモニウム−OH/Si
O2=0.22 H2O/SiO2=10 H2O/n−ヘプチル−トリメチル−アンモニウム水酸
化物=45 EtOH/SiO2=8 約3分後、ゲルが生成し、それを次の日まで熟成させた
後、真空下オーブン中120℃で乾燥し、最後に空気
中、550℃で8時間か焼する。XRDスペクトルか
ら、2θ1〜5°の範囲に散漫散乱があることが分かる
(図8)。比表面積は953m2/gに等しく、比細孔
容積は0.625cm3/gであり、細孔径は30オン
グストローム未満である。
るゲル化 n−ヘプチル−トリメチル−アンモニウム水酸化物3
4.9g(水溶液、濃度27.6重量%)、水21g及
びアルミニウムイソプロポキシド1.02gを、容量4
00cm3の実験ビーカー内で約60℃に加熱する。ア
ルミニウム塩が完全に溶解したら、ビーカーを加熱板か
らはずし、オルトケイ酸テトラエチル52g及びエタノ
ール100gを、得られた溶液に攪拌しながら添加す
る。混合物の組成比(モル比)は以下の通りである: Al2O3/SiO2= 0.01 n−ヘプチル−トリメチル−アンモニウム−OH/Si
O2=0.22 H2O/SiO2=10 H2O/n−ヘプチル−トリメチル−アンモニウム水酸
化物=45 EtOH/SiO2=8 約3分後、ゲルが生成し、それを次の日まで熟成させた
後、真空下オーブン中120℃で乾燥し、最後に空気
中、550℃で8時間か焼する。XRDスペクトルか
ら、2θ1〜5°の範囲に散漫散乱があることが分かる
(図8)。比表面積は953m2/gに等しく、比細孔
容積は0.625cm3/gであり、細孔径は30オン
グストローム未満である。
【0015】例5 n−ペンチル−トリメチル−アンモニウム水酸化物によ
るゲル化 n−ペンチル−トリメチル−アンモニウム水酸化物2
1.3g(水溶液、濃度38.45重量%)、水54.
5g及びアルミニウムイソプロポキシド1.02gを、
容量400cm3の実験ビーカー内で約60℃に加熱す
る。アルミニウム塩が完全に溶解したら、ビーカーを加
熱板からはずし、オルトケイ酸テトラエチル52gを、
得られた溶液に攪拌しながら添加する。混合物の組成比
(モル比)は以下の通りである: Al2O3/SiO2=0.01 n−ペンチル−トリメチル−アンモニウム−OH/Si
O2=0.22 H2O/SiO2=15 H2O/n−ペンチル−トリメチル−アンモニウム水酸
化物=68 約4分後、ゲルが生成し、それを次の日まで熟成させた
後、真空下オーブン中120℃で乾燥し、最後に空気
中、550℃で8時間か焼する。XRDスペクトルか
ら、2θ=2.2°(d=40.2オングストローム)
を中心として弱く且つ広がった反射があることが分かる
(図9)。比表面積は773m2/gに等しく、比細孔
容積は0.386cm3/gであり、細孔径は30オン
グストローム未満である。
るゲル化 n−ペンチル−トリメチル−アンモニウム水酸化物2
1.3g(水溶液、濃度38.45重量%)、水54.
5g及びアルミニウムイソプロポキシド1.02gを、
容量400cm3の実験ビーカー内で約60℃に加熱す
る。アルミニウム塩が完全に溶解したら、ビーカーを加
熱板からはずし、オルトケイ酸テトラエチル52gを、
得られた溶液に攪拌しながら添加する。混合物の組成比
(モル比)は以下の通りである: Al2O3/SiO2=0.01 n−ペンチル−トリメチル−アンモニウム−OH/Si
O2=0.22 H2O/SiO2=15 H2O/n−ペンチル−トリメチル−アンモニウム水酸
化物=68 約4分後、ゲルが生成し、それを次の日まで熟成させた
後、真空下オーブン中120℃で乾燥し、最後に空気
中、550℃で8時間か焼する。XRDスペクトルか
ら、2θ=2.2°(d=40.2オングストローム)
を中心として弱く且つ広がった反射があることが分かる
(図9)。比表面積は773m2/gに等しく、比細孔
容積は0.386cm3/gであり、細孔径は30オン
グストローム未満である。
【0016】例6 n−ペンチル−トリメチル−アンモニウム水酸化物によ
るゲル化 n−ペンチル−トリメチル−アンモニウム水酸化物2
1.3g(水溶液、濃度38.45重量%)、水33g
及びアルミニウムイソプロポキシド1.02gを、容量
400cm3の実験ビーカー内で約60℃に加熱する。
アルミニウム塩が完全に溶解したら、ビーカーを加熱板
からはずし、テトラエチルオルトシリケート52g及び
エタノール100gを、得られた溶液に攪拌しながら添
加する。混合物の組成比(モル比)は以下の通りであ
る: Al2O3/SiO2=0.01 n−ペンチル−トリメチル−アンモニウム−OH/Si
O2=0.22 H2O/SiO2=10 H2O/n−ペンチル−トリメチル−アンモニウム水酸
化物=45 EtOH/SiO2=8 約4分後、ゲルが生成し、それを次の日まで熟成させた
後、真空下オーブン中120℃で乾燥し、最後に空気
中、550℃で8時間か焼する。XRDスペクトルか
ら、2θ1〜5°の範囲に散漫拡散があることが分かる
(図10)。比表面積は703m2/gに等しく、比細
孔容積は0.359cm3/gであり、細孔径は40オ
ングストローム未満である。
るゲル化 n−ペンチル−トリメチル−アンモニウム水酸化物2
1.3g(水溶液、濃度38.45重量%)、水33g
及びアルミニウムイソプロポキシド1.02gを、容量
400cm3の実験ビーカー内で約60℃に加熱する。
アルミニウム塩が完全に溶解したら、ビーカーを加熱板
からはずし、テトラエチルオルトシリケート52g及び
エタノール100gを、得られた溶液に攪拌しながら添
加する。混合物の組成比(モル比)は以下の通りであ
る: Al2O3/SiO2=0.01 n−ペンチル−トリメチル−アンモニウム−OH/Si
O2=0.22 H2O/SiO2=10 H2O/n−ペンチル−トリメチル−アンモニウム水酸
化物=45 EtOH/SiO2=8 約4分後、ゲルが生成し、それを次の日まで熟成させた
後、真空下オーブン中120℃で乾燥し、最後に空気
中、550℃で8時間か焼する。XRDスペクトルか
ら、2θ1〜5°の範囲に散漫拡散があることが分かる
(図10)。比表面積は703m2/gに等しく、比細
孔容積は0.359cm3/gであり、細孔径は40オ
ングストローム未満である。
【0017】例7 n−ブチル−トリメチル−アンモニウム水酸化物による
ゲル化 n−ブチル−トリメチル−アンモニウム水酸化物16.
9g(水溶液、濃度30重量%)、水12.1g及びア
ルミニウムイソプロポキシド0.67gを、容量200
cm3の実験ビーカー内で約60℃に加熱する。アルミ
ニウム塩が完全に溶解したら、ビーカーを加熱板からは
ずし、テトラエチルオルトシリケート34.6g及びエ
タノール62gを、得られた溶液に攪拌しながら添加す
る。混合物の組成比(モル比)は以下の通りである: Al2O3/SiO2=0.01 n−ブチル−トリメチル−アンモニウム−OH/SiO
2=0.23 H2O/SiO2=8 H2O/n−ブチル−トリメチル−アンモニウム水酸化
物=35 EtOH/SiO2=8 約2分後、ゲルが生成し、それを次の日まで熟成させた
後、真空下オーブン中120℃で乾燥し、最後に空気
中、550℃で8時間か焼する。XRDスペクトルか
ら、2θ2〜5°の範囲に弱く且つ散漫な拡散があるこ
とが分かる(図11)。比表面積は605m2/gに等
しく、比細孔容積は0.345cm3/gであり、細孔
径は40オングストローム未満である。
ゲル化 n−ブチル−トリメチル−アンモニウム水酸化物16.
9g(水溶液、濃度30重量%)、水12.1g及びア
ルミニウムイソプロポキシド0.67gを、容量200
cm3の実験ビーカー内で約60℃に加熱する。アルミ
ニウム塩が完全に溶解したら、ビーカーを加熱板からは
ずし、テトラエチルオルトシリケート34.6g及びエ
タノール62gを、得られた溶液に攪拌しながら添加す
る。混合物の組成比(モル比)は以下の通りである: Al2O3/SiO2=0.01 n−ブチル−トリメチル−アンモニウム−OH/SiO
2=0.23 H2O/SiO2=8 H2O/n−ブチル−トリメチル−アンモニウム水酸化
物=35 EtOH/SiO2=8 約2分後、ゲルが生成し、それを次の日まで熟成させた
後、真空下オーブン中120℃で乾燥し、最後に空気
中、550℃で8時間か焼する。XRDスペクトルか
ら、2θ2〜5°の範囲に弱く且つ散漫な拡散があるこ
とが分かる(図11)。比表面積は605m2/gに等
しく、比細孔容積は0.345cm3/gであり、細孔
径は40オングストローム未満である。
【0018】例8 n−ブチル−トリメチル−アンモニウム水酸化物による
ゲル化 n−ブチル−トリメチル−アンモニウム水酸化物29.
5g(水溶液、濃度30重量%)、水3.3g及びアル
ミニウムイソプロポキシド0.67gを、容量200c
m3の実験ビーカー内で約60℃に加熱する。アルミニ
ウム塩が完全に溶解したら、ビーカーを加熱板からはず
し、テトラエチルオルトシリケート34.6g及びエタ
ノール62gを、得られた溶液に攪拌しながら添加す
る。混合物の組成比(モル比)は以下の通りである: Al2O3/SiO2=0.01 n−ブチル−トリメチル−アンモニウム−OH/SiO
2=0.4 H2O/SiO2=8 H2O/n−ブチル−トリメチル−アンモニウム水酸化
物=20 EtOH/SiO2=8 得られた生成物の外観はさほど粘ちょうでない液体であ
り、その生成物を次の日まで熟成し、回転乾燥器で乾燥
し、最後に空気中、550℃で8時間か焼する。XRD
スペクトルから、2θ1〜5°の範囲に弱く且つ散漫な
散乱があることが分かる(図12)。比表面積は494
m2/gに等しく、比細孔容積は0.337cm3/g
であり、細孔径は30オングストローム未満である。
ゲル化 n−ブチル−トリメチル−アンモニウム水酸化物29.
5g(水溶液、濃度30重量%)、水3.3g及びアル
ミニウムイソプロポキシド0.67gを、容量200c
m3の実験ビーカー内で約60℃に加熱する。アルミニ
ウム塩が完全に溶解したら、ビーカーを加熱板からはず
し、テトラエチルオルトシリケート34.6g及びエタ
ノール62gを、得られた溶液に攪拌しながら添加す
る。混合物の組成比(モル比)は以下の通りである: Al2O3/SiO2=0.01 n−ブチル−トリメチル−アンモニウム−OH/SiO
2=0.4 H2O/SiO2=8 H2O/n−ブチル−トリメチル−アンモニウム水酸化
物=20 EtOH/SiO2=8 得られた生成物の外観はさほど粘ちょうでない液体であ
り、その生成物を次の日まで熟成し、回転乾燥器で乾燥
し、最後に空気中、550℃で8時間か焼する。XRD
スペクトルから、2θ1〜5°の範囲に弱く且つ散漫な
散乱があることが分かる(図12)。比表面積は494
m2/gに等しく、比細孔容積は0.337cm3/g
であり、細孔径は30オングストローム未満である。
【0019】例9(比較例) n−ヘプチル−トリメチル−アンモニウム水酸化物によ
るゲル化 n−ヘプチル−トリメチル−アンモニウム水酸化物1
0.8g(水溶液、濃度20.2重量%)、水27.4
g及びアルミニウムイソプロポキシド1.04gを、容
量200cm3の実験ビーカー内で約60℃に加熱す
る。アルミニウム塩が完全に溶解したら、ビーカーを加
熱板からはずし、テトラエチルオルトシリケート52g
及びエタノール92gを、得られた溶液に攪拌しながら
添加する。混合物の組成比(モル比)は以下の通りであ
る: Al2O3/SiO2=0.01 n−ヘプチル−トリメチル−アンモニウム−OH/Si
O2=0.05 H2O/SiO2=8 H2O/n−ヘプチル−トリメチル−アンモニウム水酸
化物=160 EtOH/SiO2=8 約15分後、不透明ゲルが生成し、それを次の日まで熟
成させた後、回転乾燥器で乾燥し、最後に空気中、55
0℃で8時間か焼する。XRDスペクトルでは、低角に
は顕著な散乱現象は観察されず(図13)、一方、BE
T分析では、比表面積は775m2/gであり、比細孔
容積は1183cm3/gである。細孔分布はメソポア
領域で完全に大きく広がっており、細孔径は100オン
グストローム未満である。
るゲル化 n−ヘプチル−トリメチル−アンモニウム水酸化物1
0.8g(水溶液、濃度20.2重量%)、水27.4
g及びアルミニウムイソプロポキシド1.04gを、容
量200cm3の実験ビーカー内で約60℃に加熱す
る。アルミニウム塩が完全に溶解したら、ビーカーを加
熱板からはずし、テトラエチルオルトシリケート52g
及びエタノール92gを、得られた溶液に攪拌しながら
添加する。混合物の組成比(モル比)は以下の通りであ
る: Al2O3/SiO2=0.01 n−ヘプチル−トリメチル−アンモニウム−OH/Si
O2=0.05 H2O/SiO2=8 H2O/n−ヘプチル−トリメチル−アンモニウム水酸
化物=160 EtOH/SiO2=8 約15分後、不透明ゲルが生成し、それを次の日まで熟
成させた後、回転乾燥器で乾燥し、最後に空気中、55
0℃で8時間か焼する。XRDスペクトルでは、低角に
は顕著な散乱現象は観察されず(図13)、一方、BE
T分析では、比表面積は775m2/gであり、比細孔
容積は1183cm3/gである。細孔分布はメソポア
領域で完全に大きく広がっており、細孔径は100オン
グストローム未満である。
【0020】例10(比較例) n−ヘキシル−トリメチル−アンモニウム水酸化物によ
るゲル化 n−ヘキシル−トリメチル−アンモニウム水酸化物3
1.8g(水溶液、濃度.39重量%)、水31.8g
及びアルミニウムイソプロポキシド1.04gを、容量
400cm3の実験ビーカー内で約60℃に加熱する。
アルミニウム塩が完全に溶解したら、ビーカーを加熱板
からはずし、テトラエチルオルトシリケート52g及び
エタノール92gを、得られた溶液に攪拌しながら添加
する。混合物の組成比(モル比)は以下の通りである: Al2O3/SiO2=0.01 n−ヘキシル−トリメチル−アンモニウム−OH/Si
O2=0.066 H2O/SiO2=8 H2O/n−ヘキシル−トリメチル−アンモニウム水酸
化物=120 EtOH/SiO2=8 約5分後、白色ゲルが生成し、それを次の日まで熟成
し、真空下オーブン中で乾燥後、空気中、550℃で8
時間か焼する。XRDスペクトルでは、低角には顕著な
散乱現象は観察されず(図14)、一方、BET分析で
は、比表面積は766m2/gであり、比細孔容積は
0.996cm3/gである。細孔分布はメソポア領域
で完全に大きく広がっており、細孔径は100オングス
トローム未満である。
るゲル化 n−ヘキシル−トリメチル−アンモニウム水酸化物3
1.8g(水溶液、濃度.39重量%)、水31.8g
及びアルミニウムイソプロポキシド1.04gを、容量
400cm3の実験ビーカー内で約60℃に加熱する。
アルミニウム塩が完全に溶解したら、ビーカーを加熱板
からはずし、テトラエチルオルトシリケート52g及び
エタノール92gを、得られた溶液に攪拌しながら添加
する。混合物の組成比(モル比)は以下の通りである: Al2O3/SiO2=0.01 n−ヘキシル−トリメチル−アンモニウム−OH/Si
O2=0.066 H2O/SiO2=8 H2O/n−ヘキシル−トリメチル−アンモニウム水酸
化物=120 EtOH/SiO2=8 約5分後、白色ゲルが生成し、それを次の日まで熟成
し、真空下オーブン中で乾燥後、空気中、550℃で8
時間か焼する。XRDスペクトルでは、低角には顕著な
散乱現象は観察されず(図14)、一方、BET分析で
は、比表面積は766m2/gであり、比細孔容積は
0.996cm3/gである。細孔分布はメソポア領域
で完全に大きく広がっており、細孔径は100オングス
トローム未満である。
【0021】例11(比較例) n−ペンチル−トリメチル−アンモニウム水酸化物によ
るゲル化 n−ペンチル−トリメチル−アンモニウム水酸化物1
0.6g(水溶液、濃度38.45重量%)、水60.
9g及びアルミニウムイソプロポキシド1.02gを、
容量400cm3の実験ビーカー内で約60℃に加熱す
る。アルミニウム塩が完全に溶解したら、ビーカーを加
熱板からはずし、オルトケイ酸テトラエチル52gを、
得られた溶液に攪拌しながら添加する。混合物の組成比
(モル比)は以下の通りである: Al2O3/SiO2=0.01 n−ペンチル−トリメチル−アンモニウム−OH/Si
O2=0.11 H2O/SiO2=15 H2O/n−ペンチル−トリメチル−アンモニウム水酸
化物=136 約25分後、ゲルが生成し、それを次の日まで熟成させ
た後、真空下オーブン中で乾燥後、空気中、550℃で
8時間か焼する。XRDスペクトルでは、低角には顕著
な散乱現象は観察されず(図15)、一方、BET分析
では、比表面積は659m2/gであり、比細孔容積は
0.583cm3/gである。細孔分布は全く狭く、中
心が約40オングストロームである。
るゲル化 n−ペンチル−トリメチル−アンモニウム水酸化物1
0.6g(水溶液、濃度38.45重量%)、水60.
9g及びアルミニウムイソプロポキシド1.02gを、
容量400cm3の実験ビーカー内で約60℃に加熱す
る。アルミニウム塩が完全に溶解したら、ビーカーを加
熱板からはずし、オルトケイ酸テトラエチル52gを、
得られた溶液に攪拌しながら添加する。混合物の組成比
(モル比)は以下の通りである: Al2O3/SiO2=0.01 n−ペンチル−トリメチル−アンモニウム−OH/Si
O2=0.11 H2O/SiO2=15 H2O/n−ペンチル−トリメチル−アンモニウム水酸
化物=136 約25分後、ゲルが生成し、それを次の日まで熟成させ
た後、真空下オーブン中で乾燥後、空気中、550℃で
8時間か焼する。XRDスペクトルでは、低角には顕著
な散乱現象は観察されず(図15)、一方、BET分析
では、比表面積は659m2/gであり、比細孔容積は
0.583cm3/gである。細孔分布は全く狭く、中
心が約40オングストロームである。
【0022】例12(比較例) n−ブチル−トリメチル−アンモニウム水酸化物による
ゲル化 n−ブチル−トリメチル−アンモニウム水酸化物9.6
g(水溶液、濃度30重量%)、水17.3g及びアル
ミニウムイソプロポキシド0.67gを、容量200c
m3の実験ビーカー内で約60℃に加熱する。アルミニ
ウム塩が完全に溶解したら、ビーカーを加熱板からはず
し、テトラエチルオルトシリケート34.6g及びノー
ル62gを、得られた溶液に攪拌しながら添加する。混
合物の組成比(モル比)は以下の通りである: Al2O3/SiO2=0.01 n−ブチル−トリメチル−アンモニウム−OH/SiO
2=0.13 H2O/SiO2=8 H2O/n−ブチル−トリメチル−アンモニウム水酸化
物=60 EtOH/SiO2=8 約4分後、混濁ゲルが生成し、それを次の日まで熟成さ
せた後、真空下オーブン中で乾燥後、空気中、550℃
で8時間か焼する。XRDスペクトルでは、低角には顕
著な散乱現象は観察されず(図16)、一方、BET分
析では、比表面積は695m2/gであり、比細孔容積
は1.072cm3/gである。細孔分布は中間細孔領
域で完全に大きく広がっており、細孔径は150オング
ストローム未満である。
ゲル化 n−ブチル−トリメチル−アンモニウム水酸化物9.6
g(水溶液、濃度30重量%)、水17.3g及びアル
ミニウムイソプロポキシド0.67gを、容量200c
m3の実験ビーカー内で約60℃に加熱する。アルミニ
ウム塩が完全に溶解したら、ビーカーを加熱板からはず
し、テトラエチルオルトシリケート34.6g及びノー
ル62gを、得られた溶液に攪拌しながら添加する。混
合物の組成比(モル比)は以下の通りである: Al2O3/SiO2=0.01 n−ブチル−トリメチル−アンモニウム−OH/SiO
2=0.13 H2O/SiO2=8 H2O/n−ブチル−トリメチル−アンモニウム水酸化
物=60 EtOH/SiO2=8 約4分後、混濁ゲルが生成し、それを次の日まで熟成さ
せた後、真空下オーブン中で乾燥後、空気中、550℃
で8時間か焼する。XRDスペクトルでは、低角には顕
著な散乱現象は観察されず(図16)、一方、BET分
析では、比表面積は695m2/gであり、比細孔容積
は1.072cm3/gである。細孔分布は中間細孔領
域で完全に大きく広がっており、細孔径は150オング
ストローム未満である。
【0023】例13(比較例) n−プロピル−トリメチル−アンモニウム水酸化物によ
るゲル化 n−プロピル−トリメチル−アンモニウム水酸化物4
5.3g(水溶液、濃度21重量%)及びアルミニウム
イソプロポキシド0.2gを、容量200cm3の実験
ビーカー内で約60℃に加熱する。アルミニウム塩が完
全に溶解したら、ビーカーを加熱板からはずし、テトラ
エチルオルトシリケート34.6g及びエタノール62
gを、得られた溶液に攪拌しながら添加する。混合物の
組成比(モル比)は以下の通りである: Al2O3/SiO2=0.01 n−プロピル−トリメチル−アンモニウム−OH/Si
O2=1.6 H2O/SiO2=39.7 H2O/n−プロピル−トリメチル−アンモニウム水酸
化物=5 EtOH/SiO2=8 約4分後、混濁ゲルが生成し、それを次の日まで熟成さ
せた後、真空下オーブン中で乾燥後、空気中、550℃
で8時間か焼する。XRDスペクトルでは、低角には顕
著な散乱現象は観察されず(図17)、一方、BET分
析では、比表面積は308m2/gであり、比細孔容積
は0.337cm3/gである。細孔分布はメソポア領
域ではかなり狭く、細孔径は主に約50オングストロー
ムである。
るゲル化 n−プロピル−トリメチル−アンモニウム水酸化物4
5.3g(水溶液、濃度21重量%)及びアルミニウム
イソプロポキシド0.2gを、容量200cm3の実験
ビーカー内で約60℃に加熱する。アルミニウム塩が完
全に溶解したら、ビーカーを加熱板からはずし、テトラ
エチルオルトシリケート34.6g及びエタノール62
gを、得られた溶液に攪拌しながら添加する。混合物の
組成比(モル比)は以下の通りである: Al2O3/SiO2=0.01 n−プロピル−トリメチル−アンモニウム−OH/Si
O2=1.6 H2O/SiO2=39.7 H2O/n−プロピル−トリメチル−アンモニウム水酸
化物=5 EtOH/SiO2=8 約4分後、混濁ゲルが生成し、それを次の日まで熟成さ
せた後、真空下オーブン中で乾燥後、空気中、550℃
で8時間か焼する。XRDスペクトルでは、低角には顕
著な散乱現象は観察されず(図17)、一方、BET分
析では、比表面積は308m2/gであり、比細孔容積
は0.337cm3/gである。細孔分布はメソポア領
域ではかなり狭く、細孔径は主に約50オングストロー
ムである。
【図1】ミクロ−メソ多孔質金属−シリカゲルのX線回
折スペクトルである。
折スペクトルである。
【図2】ミクロ−メソ多孔質金属−シリカゲルの図1よ
りも高角度でのX線回折スペクトルである。
りも高角度でのX線回折スペクトルである。
【図3】従来のミクロ−メソ多孔質金属−シリカゲルの
製造方法において用いられるテトラアルキルアンモニウ
ム水酸化物(R´4N−OH)のアルキル基R´の炭素
数とH2O/R´比との関係を示す。
製造方法において用いられるテトラアルキルアンモニウ
ム水酸化物(R´4N−OH)のアルキル基R´の炭素
数とH2O/R´比との関係を示す。
【図4】本発明のミクロ−メソ多孔質ゲルの製造方法に
おいて用いられるアルキルトリメチルアンモニウム水酸
化物[R(CH3)3N−OH]のアルキル基Rの炭素
数とH2O/R比との関係を示す。
おいて用いられるアルキルトリメチルアンモニウム水酸
化物[R(CH3)3N−OH]のアルキル基Rの炭素
数とH2O/R比との関係を示す。
【図5】実施例で得られたミクロ−メソ多孔質ゲルのX
線回折スペクトルである。
線回折スペクトルである。
【図6】実施例で得られたミクロ−メソ多孔質ゲルのX
線回折スペクトルである。
線回折スペクトルである。
【図7】実施例で得られたミクロ−メソ多孔質ゲルのX
線回折スペクトルである。
線回折スペクトルである。
【図8】実施例で得られたミクロ−メソ多孔質ゲルのX
線回折スペクトルである。
線回折スペクトルである。
【図9】比較例で得られたミクロ−メソ多孔質ゲルのX
線回折スペクトルである。
線回折スペクトルである。
【図10】比較例で得られたミクロ−メソ多孔質ゲルの
X線回折スペクトルである。
X線回折スペクトルである。
【図11】比較例で得られたミクロ−メソ多孔質ゲルの
X線回折スペクトルである。
X線回折スペクトルである。
【図12】比較例で得られたミクロ−メソ多孔質ゲルの
X線回折スペクトルである。
X線回折スペクトルである。
【図13】比較例で得られたミクロ−メソ多孔質ゲルの
X線回折スペクトルである。
X線回折スペクトルである。
【図14】比較例で得られたミクロ−メソ多孔質ゲルの
X線回折スペクトルである。
X線回折スペクトルである。
【図15】比較例で得られたミクロ−メソ多孔質ゲルの
X線回折スペクトルである。
X線回折スペクトルである。
【図16】比較例で得られたミクロ−メソ多孔質ゲルの
X線回折スペクトルである。
X線回折スペクトルである。
【図17】比較例で得られたミクロ−メソ多孔質ゲルの
X線回折スペクトルである。
X線回折スペクトルである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ロベルト、ミリーニ イタリー国ミラノ、セルロ、アル、ランブ ロ、リオッソォ、プロブ、ペル、エッセ、 アンジェロ、17/ビ (72)発明者 カルロ、ペレーゴ イタリー国ミラノ、ビア、エッセエッセ、 コルネルロ、エ、チプリアーノ、カルナー テ、15エ (72)発明者 ジョバンニ、ペレゴ イタリー国ミラノ、ピ、レ、サントルレ、 ディ、サンタローサ、4 (72)発明者 ジュゼッペ、ベルルーシ イタリー国ピアチェンツァ、ビア、ア.ス コット、44
Claims (7)
- 【請求項1】単一モード細孔分布により特徴付けられ
る、遷移金属及び第IIIA、IVA及びVA族に属す
る金属から選択される一種以上の金属酸化物が均一に分
散されていてもよいシリカマトリックスからなるミクロ
−メソ多孔質ゲルの製造方法であって、 (a)テトラアルキルオルトシリケートをそのまま純粋
な形態かアルコール溶液として式(I): R(CH3)3N−OH (I) (式中、Rはn−ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシル
及びn−ヘプチルから選択される直鎖アルキル基であ
る)で表されるアルキルトリメチルアンモニウムの水酸
化物及び所望により、酸化物が触媒活性を有する遷移金
属及び第IIIA、IVA及びVA族に属する金属から
選択される一種以上の金属の一種以上の可溶性又は加水
分解性化合物の水溶液であって、前記溶液の成分量は以
下のモル比: H2O/SiO2=5〜40 R−OH/SiO2=0〜10 R(CH3)3N−OH/SiO2=0.05〜0.4 金属酸化物/SiO2=0〜0.02 を満足するような量であり、一方、H2O/R(C
H3)3N−OH比はRアルキル鎖の炭素数との関係で
以下の表2: 表2 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− R H2O/R(CH3)3N−OH −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− n−ブチル ≦ 35 n−ペンチル < 70 n−ヘキシル < 102 n−ヘプチル ≦ 136 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− に示すように変化させた溶液により、20〜80℃の温
度で加水分解及びゲル化させる工程と、 (b)工程(a)で得られたゲル又は固形物を乾燥及び
か焼する工程と、を含んでなることを特徴とするミクロ
−メソ多孔質ゲルの製造方法。 - 【請求項2】前記テトラアルキルオルトシリケートがテ
トラメチルオルトシリケート、テトラエチルオルトシリ
ケート、テトラプロピルオルトシリケート及びテトライ
ソプロピルオルトシリケートから選択される請求項1に
記載の製造方法。 - 【請求項3】前記テトラアルキルオルトシリケートがテ
トラエチルオルトシリケートである請求項2に記載の製
造方法。 - 【請求項4】テトラアルキルオルトシリケートを溶解す
るのに使用される前記アルコールがエタノールである請
求項1に記載の製造方法。 - 【請求項5】前記酸化物が触媒活性を有する一種以上の
金属の可溶性又は加水分解性化合物が前記金属自体の水
溶性又は加水分解性の塩若しくは酸から選択される請求
項1に記載の製造方法。 - 【請求項6】前記一種以上の金属の可溶性又は加水分解
性化合物がアルミニウムトリプロポキシド及びアルミニ
ウムトリイソプロポキシドから選択される請求項5に記
載の製造方法。 - 【請求項7】工程(b)において、工程(a)で得られ
るゲル又は固形物を真空下60〜150℃の温度で乾燥
し、空気中、450〜550℃で6〜12時間か焼する
請求項6に記載の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
IT95A000712 | 1995-04-07 | ||
ITMI950712A IT1273514B (it) | 1995-04-07 | 1995-04-07 | Procedimento per la preparazione di un gel micro-mesoporoso |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0920513A true JPH0920513A (ja) | 1997-01-21 |
Family
ID=11371252
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8085571A Pending JPH0920513A (ja) | 1995-04-07 | 1996-04-08 | ミクロ−メソ多孔質ゲルの製造方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6204217B1 (ja) |
EP (1) | EP0736323A3 (ja) |
JP (1) | JPH0920513A (ja) |
CN (1) | CN1147421A (ja) |
EA (1) | EA000013B1 (ja) |
IT (1) | IT1273514B (ja) |
UA (1) | UA41375C2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006347866A (ja) * | 2005-05-20 | 2006-12-28 | Kao Corp | メソポーラスシリカ |
JP2013523583A (ja) * | 2010-03-31 | 2013-06-17 | ユーオーピー エルエルシー | Uzm−37アルミノシリケートゼオライト |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
IT1284007B1 (it) * | 1996-06-13 | 1998-05-08 | Eniricerche Spa | Procedimento per la preparazione di un materiale micro-meso poroso ad alta area superficiale con distribuzione controllata della |
US5922299A (en) * | 1996-11-26 | 1999-07-13 | Battelle Memorial Institute | Mesoporous-silica films, fibers, and powders by evaporation |
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