JP2003525188A5

JP2003525188A5 -

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Publication number: JP2003525188A5
Application number: JP2000570096A
Authority: JP
Filing date: 1999-09-15
Publication date: 2006-10-12
Anticipated expiration: 2019-09-15

Description

【書類名】明細書
【発明の名称】中間細孔または組合された中間細孔と微小孔を持つ無機酸化物およびその調製方法
【特許請求の範囲】
【請求項１】微小孔と中間細孔を含む無機酸化物を製造する方法であって、
水、無機酸化物、および水素結合により無機酸化物と結合する少なくとも１個の化合物とを含む混合物を加熱し、前記加熱が微小孔と中間細孔の両方を含む無機酸化物を製造するための温度と時間とで行われる、
ことを特徴とする方法。
【請求項２】前記化合物がトリエタノールアミン，スルホラン，テトラエチレンペンタミン，ジエチルグリコールジベンゾネートあるいはグリコールであることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】前記混合物が更に微小孔形成剤を含むことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項４】前記微小孔形成剤が第四アンモニウム塩であることを特徴とする請求項３記載の方法。
【請求項５】前記無機酸化物が非晶質ケイ酸塩であることを特徴とする請求項３記載の方法。
【請求項６】前記化合物がグリコールであることを特徴とする請求項５記載の方法。
【請求項７】前記ここでグリコールが少なくとも１５０℃の沸点を持つことを特徴とする請求項５記載の方法。
【請求項８】加熱が無機酸化物前駆物質から水分と揮発性有機物を蒸発させるためにほぼ水の沸点で混合物を維持し、次いで約３００℃の温度でカ焼することを含むことを特徴とする請求項５記載の方法。
【請求項９】前記無機酸化物がオルソケイ酸テトラエチル、燻蒸シリカ，ケイ酸ナトリウムおよびシリカゾルよりなるグループから選択されるケイ酸塩物質であることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項１０】前記グリコールがグリセリン，ジエチレングリコール，トリエチレングリコールおよびテトラエチレングリコールよりなるグループから選択されることを特徴とする請求項７記載の方法。
【請求項１１】前記混合物がＩＶＡ，ＶＢ，ＶＩＢ，ＶＩＩＢ，ＶＩＩＩ，ＩＢ，ＩＩＢおよびＩＩＩＡ元素のグループから選択されるイオン源を更に含むことを特徴とする請求項１０記載の方法。
【請求項１２】前記混合物がアルミニウムイオン源を更に含むことを特徴とする請求項１０記載の方法。
【請求項１３】前記無機酸化物がアルミナを含むことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項１４】非晶質無機酸化物を含む産物であって、前記非晶質無機酸化物が中間細孔と微小孔を含み、前記微小孔が微小孔と中間細孔合計の孔量の３％乃至６０％の量で存在する、
ことを特徴とする産物。
【請求項１５】ＢＥＴ比表面積が５０乃至１２５０ｍ^２／ｇであることを特徴とする請求項１４記載の産物。
【請求項１６】前記組合わされた微小孔と中間細孔の孔量の合計が０．３乃至２．２ｍｌ／ｇであることを特徴とする請求項１４記載の産物。
【請求項１７】前記中間細孔の孔サイズ分布が、プロットの最大高での孔サイズに対するプロットの半分の高さでのプロットの幅の比率で０．７５以下である孔サイズ分布プロットを産出することを特徴とする請求項１４記載の産物。
【請求項１８】中間細孔と微小孔の孔サイズ分布プロットが異なる中間細孔と微小孔のピークを含むことを特徴とする請求項１４記載の産物。
【請求項１９】中間細孔と３容積％以下の微小孔のみを含む無機酸化物を製造する方法であって、
水、無機酸化物および水素結合により無機酸化物と結合する少なくとも１個の化合物とを含む混合物を加熱し、前記加熱が微小孔と中間細孔の両方を含む無機酸化物を製造するための温度と時間とで行われ、また微小孔を中間細孔と微小孔の孔量合計の３％以下に減少させるように前記無機酸化物を熱水で加熱する
ことを特徴とする方法。
【請求項２０】微小孔と３容積％以下の中間細孔を含む無機酸化物を製造する一つの方法であって、
水、無機酸化物および水素結合により無機酸化物と結合する少なくとも１個の化合物とを含む混合物を加熱し、前記加熱は中間細孔の十分な形成が行われる温度以下の温度にされ、微小孔と中間細孔を含む無機酸化物を製造するために中間細孔の十分な形成が行われる温度以下の温度で前記化合物を除去する、
ことよりなることを特徴とする方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【技術分野】
本発明は、中間細孔と微小孔（マイクロポア）とを持つ無機酸化物、または中間細孔とそれより少ない数の微小孔を持つ無機酸化物、あるいは微小孔とそれより少ない数の中間細孔を持つ無機酸化物に関し、またその調製のための方法に関する。
【０００２】
【背景技術】
ゼオライトと関連物質は十分に配列された孔システムを有し、均一な孔サイズを提示する。しかしこれらの物質は微小孔または中間細孔のみを所有する傾向にある。更にこれらの物質は製造するのにかなり高価なものとなる。
【０００３】
無機物質、とりわけ中間細孔およびまたは微小孔を含む特定の触媒物質（または触媒支持材）の必要性が存在する。
【０００４】
中間細孔およびまたは微小孔を含む無機物質を製造する新しい方法の必要性も存在する。
【０００５】
【発明の開示】
従って本発明に基づき孔構造を持つ無機酸化物物質が提供され、ここでその孔の少なくとも一部が中間細孔のサイズ範囲にあり、また一部は微小孔サイズ範囲にあり、かつそのような物質と、基本的に中間細孔のみ（微小孔の割合が３容積％以下、一般には２容積％以下のもの）を含む物質とを簡単に安価で再生産できるように製造する方法が提供される。
【０００６】
更に有利な物性を持つように簡単に修飾できるケイ酸塩物質を提供することが本発明の目的であり、その例には例えばケイ素原子の一部を金属原子、例えばアルミニウム、チタン、バナジウム、ガリウム、鉄、およびその他で置換して特異的な触媒性能を持つよう修飾できるものである。
【０００７】
他の目的および利点は以下の詳細な説明から明らかになるであろう。
【０００８】
本発明の一つの見地に従って、微小孔と中間細孔を含む無機酸化物をある種の化合物を用いて簡単にかつ単純なやり方で調製することができ、表面およびその物質内で特異な孔構造と高い孔量、修飾できる能力などの有利な物性を持つ物質を生成することができる。
【０００９】
望ましい実施例において、本発明の物質は非晶質無機酸化物（望ましくはケイ酸塩）であり、微小孔と中間細孔の双峰構造を持ち、前記微小孔領域は前記中間細孔と接続され、ここでＮ_２多孔度測定で決定される平均中間細孔サイズは２乃至２５ｎｍであり、またＮ_２多孔度測定で決定される平均微小孔サイズは０．７乃至２．０ｎｍで、望ましくは０．５乃至１．５ｎｍである。
【００１０】
本発明の一つの見地に従って、物質の中間細孔は決定された孔サイズ分布を有している。より詳細には、中間細孔の孔サイズ分布は、孔サイズ分布プロットにおいて、孔量の導関数がｙ軸にプロットされ、孔径はｘ軸にプロットされ、このようなプロットで、プロットの最大高さでの孔径に対するプロットの高さの１／２であるｙ軸の点でのプロットの幅の比は０．７５以下であり、望ましくは０．０１以上である。より望ましくはこのような比率は０．５以下になる。
【００１１】
中間細孔と微小孔の両方を含む双峰無機物質は、一般に少なくとも３容積％の微小孔（望ましくは少なくとも５容積％の微小孔）を含み、一般に６０容積％以上の微小孔を含まず（望ましくは５０％以下）、このような容積％は中間細孔と微小孔の組合わせ量に基づいている。
【００１２】
本発明の一つの見地に基づき、中間細孔と微小孔の両方を含む無機酸化物が提供され、これは（１）水中での無機酸化物および（２）酸化物とうまく混和し、望ましくはそれと水素結合を形成する有機物質との混合物を加熱して調製される。選択肢として、前記混合物は更にモレキュラーシーブ（とりわけゼオライト）を形成する際に微小孔を生産するために使用される型のテンプレートを含み、前記加熱は中間細孔と微小孔の両方を含むケイ酸塩を生産するのに十分な温度水準と時間で行われる。
【００１３】
出発原料は一般に非晶質物質であり、また追加の金属酸化物あり、もしくは無しでのシリコン酸化物あるいはアルミニウム酸化物などのような１個もしくはそれ以上の無機酸化物よりなる。追加の金属は中間細孔と微小孔を含む構造を生産するためのプロセスを開始する前に物質に取込まれ、およびまたは金属は中間細孔と微小孔の両方を含む無機酸化物を生産するために使用される調合物に加えることができる。
【００１４】
水素結合により無機酸化物と結合する有機化合物は望ましくはグリコール（２個もしくはそれ以上の水酸基を含む化合物）、あるいはトリエタノールアミン，スルホラン，テトラエチレンペンタミンおよびジエチルグリコールジベンゾエートよりなるグループの部材である。
【００１５】
無機酸化物と水素結合する物質と組合わされ、あるいは組合わせられないテンプレートまたは微小孔形成剤は、ケイ酸塩からモレキュラーシーブまたはゼオライトを生産するのに一般に使用される型のものである。このようなテンプレートは従来の技術で一般に公知である。
【００１６】
一般に、微小孔を生産するためのテンプレート剤は、元素の周期表のＶＡグループの元素、とりわけ窒素、リン、ヒ素、およびアンチモニー、望ましくはＮまたはＰ、もっとも望ましいのはＮを含む有機化合物である。化合物は更に炭素原子１乃至８個を持つアルキレン、アルキルまたはアリル基を含有する。テンプレート剤として使用されるとりわけ望ましい窒素含有化合物はアミンと第四アンモニウム化合物であり、後者は一般に式Ｒ_４Ｎ^＋で表示され、ここでＲは１乃至８個の炭素原子を含むアルキルまたはアリル基、またはモノアミン、ジアミン、およびトリアミンを単独でもしくは第四アンモニウム化合物またはも一つのテンプレート化合物と併用して使用される。実例となるテンプレート剤は以下のものである：テトラメチルアンモニウム（“ＴＭＡ”），テトラエチルアンモニウム（“ＴＥＡ”），テトラ−ｎ−プロピルアンモニウム（“ＴＰＡ”），テトライソプロピルアンモニウムとテトラブチルアンモニウム塩，ジ−ｎ−プロピルアミン，ジ−ｎ−ブチルアミン，トリ−ｎ−プロピルアミン，トリエチルアミン，トリブチルアミン，キヌクリジン（“Ｑ”），メチルキヌクリジンヒドロキシド，シクロヘキシルアミン，ネオペンチルアミン，Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン，Ｎ，Ｎ−ジメチルエタノールアミン，ジ−ｎ−ペンチルアミン，イソプロピルアミン，ｔ−ブチリルアミン，エチレンジアミン，ヘキサメチレンジアミン，ピロリジン，２−イミダゾリドン，ピペリジン，２−メチルピリジン，Ｎ，Ｎ′−ジメチルピペラジン，Ｎ−メチルジエタノールアミン，Ｎ−メチルエタノールアミン，Ｎ−メチルピペリジン，３−メチルピペリジン，Ｎ−メチルシクロヘキシルアミン，３−メチルピリジン，４−メチルピリジン，ジエチルピペリジニウム（“ＤＥＰＰ”），トリメチルベンジルアンモニウム（“ＴＭＢＡ”），テトラメチルホスホニウム（“ＴＭＰ”），５−アゾニアスピロ（４，４）ノナンまたはビスピロリジニウム（“ＢＰ”），（２−ヒドロキシエチル）トリメチルアンモニウム（“コリン”）１，４−ジメチル−１，４−ジアゾニアビシクロ（２，２，２）オクタン“ＤＤＯ”，１，４−ジアゾニアビシクロ（２，２，２）オクタン（“ＤＯ”または“ＤＡＢＣＯ”），Ｎ，Ｎ′−ジメチル−１，４−ジアゾアビシクロ（２，２，２）オクタンイオン，などがそれである。
【００１７】
微小孔を持つモレキュラーシーブを生産するための使用される型のテンプレートは、本発明で水素結合物質と併用して使用され、また多くの場合このような物質は結晶構造を生産するものとして公知であるけれども，本発明で使用される場合には、このようなテンプレートはある場合には結晶構造を生産したけれども結晶構造を産出することなく微小孔の形成を高めることになる。多くの場合、微小孔と中間細孔の両方を含む生成無機酸化物は、結晶構造になることなく三次元パターンでの規則正しい構造を含む擬似結晶物質である。
【００１８】
本発明に限定されることなく、水素結合により無機酸化物と結合する物質は、（単独でまたは「テンプレート」と組合わせて）酸化物を薄壁構造に形成し、その壁に形成される中間細孔と微小孔を持つようになると考えられる。結晶状構造が薄壁に存在することも存在しないこともあるが、もし存在する場合には長期の順序付けが欠除しているためＸ線回折で検出されないことがある。
【００１９】
本発明の物質は従って中間細孔−微小孔非晶質無機酸化物質（望ましくはケイ酸塩）であり、これは選択肢として中間細孔構造の一部として、アルミニウムあるいはチタンなどのようなＩＶＢ−ＩＩＢとＩＩＩＡ族の金属イオンを含むことができ、それは調製時あるいは合成時に直接加えられ、または生産の後に格子に存在する金属イオンとの交換で格子に導入されることもある。他の金属イオンの性質に依存しながら、物質の性質は異なる。例えば、ケイ酸塩にアルミニウムをとり込むことにより、物質に酸性をもたらし、一方他のある金属はアルカリ性となり、こうしてその物質を酸化触媒として利用することができる。
【００２０】
物質は一方で相互接続中間細孔すなわち２乃至２５ｎｍの間の孔径を持つ孔を含む双峰孔構造を持つ。中間細孔は相互接続されており、一種の「ソーセージ構造」を持つケージにより形成されているものと考えられ、孔はいくらか球形形状を持ち、一般にその２個の対向端部で他の孔と２個もしくはそれ以上の接続部を持つ。一方物質はまた中間細孔と接続される微小孔の領域あるいはフェーズを含む。かくして本発明の一つの見地に従って、双峰孔システムを生産するワンステップ法が提供される。望ましい実施例において、本発明の無機物質は中間細孔と微小孔両方を含み、このような中間細孔と微小孔は微小孔が限られた小さい領域、すなわち微小孔の領域の幅が一般に５ｎｍ以下であるようなやり方で存在する。
【００２１】
双峰（分布）である本発明の無機物質では、孔サイズに対する孔量の導関数のプロットで中間細孔の異なったピークと微小孔の異なったピークが存在する。一般に半分の高さでの微小孔ピークの幅は２オングストローム以下であり、一般には１オングストローム以下である。
【００２２】
本発明の中間細孔物質および中間細孔−微小孔物質は擬似結晶物質である（現在利用できるＸ線回折技術では結晶性は観察されない）。１実施例に従って、物質はＸＲＤ回折パターンで１個のピークを持ち、ここで２θは０．５と２．５°の間にある。１個のピークの存在は物質が結晶性を持つことなしで極端に規則正しい構造を持つことを意味する。前記規則正しい構造は中間細孔のサイズの細いサイズ分布と組合わせて壁厚の分布により決定される。中間細孔の壁から壁まで全体の隔離は望ましくは３ｎｍと２５ｎｍの間にある。基本的に微小孔のみを含む本発明に基づき生産される物質はＸ線回折パターンでのピークを持たない。
【００２３】
双峰孔構造を持つ物質は、一方で大きい孔を、他方では小孔を必要とするすべての種類の化学反応を実行するのに適している。その例は、高分子が中間細孔を経由してたやすくシステムに入ることができ、次いで微小孔で反応あるいは転換される場合の反応がその例である。これは選択的な反応で起こり得る。物質は高い接近性と従って高い固有の容積活性に帰着する大型孔と組合わせて高い表面積を本来持っている。中間細孔構造の壁に規則正しい微小孔領域を作るもう一つの利点はこれまで単に中間細孔物質のみで可能であった高い酸強度を触媒部位にもたらす可能性である。
【００２４】
この物質の適応性のもう一つの例は石油化学においてあり、ここで高分子はまず中間細孔でより小さな分子に転換され、次いで微小孔で反応する。このように、例えば石油分留での非常に制御され、選択された転換を得ることができるであろう。
【００２５】
無機酸化物はケイ素と酸素のみよりなることもある。ケイ素の一部は、望ましくはその物質の調製の間に金属源を加えることにより前記他の金属で置換される。適切な金属の例はチタン，バナジウム，ジルコニウム，ガリウム，マンガン，亜鉛，鉄，アルミニウムである。
【００２６】
更に物質の調製後に、システム内の陽イオンを他のイオン、例えばアルカリ金属イオンなどと交換することも可能である。このように、注意深く制御された物性を創り出すことができる。例えばケイ酸塩での追加成分としてのチタンの存在は物質の内表面での追加の触媒物性（例えば酸化特性）を創り出し、これはとりわけファインケミカルでは非常に興味深い特性である。
【００２７】
高度に規則正しい微小領域が同じく中間細孔構造の壁に形成される場合には、それは一般にＸ線検出に対して不可視となるであろう。何故なら、微小領域構造の反復ユニットはあまりに小さすぎて検出することは難しい。しかし微小領域は物質の酸性度に影響をあたえるであろう。
【００２８】
本発明に基づく物質は一般にＢＥＴ（Ｎ_２）で規定されているように４００乃至１２００ｍ^２／ｇの平均表面域を持つ。窒素吸収で規定される複合微小孔−中間孔細量は一般に０．３乃至２．２ｍ１／ｇである。
【００２９】
本発明の物質の重要な利点はその安定性にある。物質は標準中間細孔物質、例えばモービルのＭＣＭ−４１などよりもずっと安定していることがわかった。この安定性は例えば沸騰水で約２時間物質を処置した後のＸＲＤ、孔量および孔サイズでのもっとも重要なピークの強度の低下により決定される。
【００３０】
より詳細には、例えばシリカ源などの無機酸化物前駆物質を分散させた液相を提供することを含む方法で調製される。望ましくはこれは適切なケイ酸塩溶液である。一般に液相のｐＨは望ましくは約７以上である。選択肢としては、この液相は例えばアルミニウム塩から誘導されるような他の金属イオンを含むことができる。液相は更にとりわけ水素結合によりケイ酸塩と結合する有機物を含み、またある場合には、更にゼオライト生産で微小孔を生産するのに使用される型の微小孔形成剤を含むことができる。シリカと結合する物質は別の相を形成するためにあまりにも疎水性であってはならない。最後に、もしそのような物質が相対的に高い沸点、例えば少なくとも１５０℃を有するならば有利である。適切な物質の例は、トリエタノールアミン，スルホラン，テトラエチレンペンタミン，ジエチルグリコールジベンゾネートもしくはグリコール（２個もしくはそれ以上の水酸基を持つ化合物）、例えばグリセリン，ジエチレングリコール，トリエチレングリコールおよびテトラエチレングリコールである。無機酸化物前駆物質溶液と液状水素結合化合物／テンプレート混合物との間のよい混合を達成するためには、テンプレート，水素結合溶液の無機酸化物相への滴状追加が望ましい。追加速度は一般に２乃至２０ｇ／分であり、望ましくは３乃至８ｇ／分である。
【００３１】
望ましい実施例において、混合物は更にアルコール、望ましくはアルカノールを含む。アルコールは混合物に添加されるか、もしくは金属酸化物源として使用される物質の分解で生産される。例えばシリカ源としてオルソケイ酸テトラエチルを使用する時、加熱でエタノールが生産され、またアルミニウムイソプロポキシドをアルミニウム源として使用する時は、プロパノールが生産される。かくして望ましい実施例において、アルコールが混合物に含まれるか、または工程中に使用された物質の一つから生成される。
【００３２】
無機酸化物源の型に依存して、物質はまずある温度、例えば５℃乃至４５℃で、例えば室温で無機酸化物源（例えばオルソケイ酸テトラエチルなど）から何れかの有機化合物を排除するための期間、例えば４８時間熟成される。熟成期間の後、物質は続いて徐々に水のほぼ沸点にまで高められる。これにより水と、無機酸化物から生成した有機成分（メタノールあるいはエタノールなど）は蒸発する。望ましい完全性の高い製品を得るために、物質は均一な加熱速度と前駆物質フェーズでの温度プロファイルの欠除がこの乾燥段階で達成されることが望ましい。これは蒸発時のゲルの伝熱表面域を、例えば浅い床を利用して最大化し、乾燥後固定相を解体し、あるいはロータリ式蒸発器を用いることにより達成される。乾燥段階では、微小孔および中間細孔を形成する助けとなる有機物質はシステムからある程度までは除去されてはならない。従って無機酸化物と結合する有機物質は望ましくは沸点が、少なくとも１５０℃のものでなければならない。乾燥は例えば６乃至４８時間を要するであろう。
【００３３】
例えば、保持された水を除去する約６時間乃至４８時間の乾燥段階の後、未だ中間細孔形成剤を保持している無機酸化物は中間細孔生産が行われる温度、すなわち、水の沸点以上で中間細孔形成剤の沸点まで加熱される。システムの温度はカ焼温度、例えば３００℃乃至１０００℃、望ましくは少なくとも４００℃まで高められ、そのような物質のカ焼を実行するのに十分な時間その温度を保持される。ホットスポットを避けるために、加熱速度は十分低くしサンプルベッドの高さは限定される。カ焼の間の加熱速度は望ましくは０．１乃至２５℃／分で、より望ましくは０．５乃至１５℃／分であり、もっとも望ましくは１乃至５℃／分であった。物質は乾燥前または乾燥後、およびカ焼前、例えば自己圧力の密封容器で１００℃以上で一般に３５０℃を越えない温度で熱水処理を受ける。中間細孔のサイズと最終製品での微小孔の量は熱水段階での長さと温度により影響を受ける。一般に最終製品において、温度が増加し熱水処理の期間が増加するにつれて中間細孔の割合は増加し微小孔の割合は減少することが観察された。望ましくは微小孔の量を保持するためには熱水処理は使用されない。微小孔量がほんの僅かなものになり、物質が基本的に中間細孔のみを含むようになるように熱水処理を延長することも可能である。
【００３４】
例えば中間細孔も含むが２０Å以下の孔を持つ物質の形成に導く抽出により中間細孔が十分に形成される温度に到達する前に、無機酸化物からテンプレート分子を除去することは本発明の範囲内にある。しかし孔サイズに対する孔量の導関数に関してプロットが準備される時に、中間細孔の際立ったピークは存在しない。例えば中間細孔は１００℃以下の温度では実質的には形成されないが、中間細孔形成なしで１００℃をいく分越えた温度まで加熱することは可能である。
【００３５】
カ焼の間に物質の構造は最終的に形成され、一方更に有機分子はシステムから排除され、再使用のために回収することができる。必要とあれば物質は洗浄されるが、一般に成分の型は洗浄が必要でないものであり、システム内に追加の成分も存在しない。こうした調製方法により廃水は排出されない。シリカを１００％利用し、有機化合物の回収でできることで、この調製法が高度に効率的なものになる、というのが本発明の更なる利点である。
【００３６】
もし必要とあれば、Ｇ．Ｗスキールス，Ｅ．Ｍフレニゲン記載のＭ．オクセリ，他編．Ａ．Ｃ．Ｓ．シンポジウムシリーズ，３９８巻，バターワース，４２０−４３５ページ（１９８９年）にあるように、金属イオン例えば、チタン，バナジウム，ジルコニウム，ガリウム，マンガン，亜鉛，ニッケル，コバルト，クロム，モリブデン，あるいは鉄などの金属イオンを加え、または含浸、イオン交換により、あるいは格子原子の部分を置換することにより更なる段階をとることも可能である。ケイ酸塩構造に対しては、ケイ酸塩物質が、例えばテンプレートの水溶液で含浸することによりゼオライト構造に転換されるようなやり方で孔の内側の表面層を処理することも可能である。このようにして双峰孔サイズを持ちゼオライト内部構造の孔を持つ物質が得られる。これは「スキン修飾」により行われつまり、適切な金属あるいはテンプレートイオンが壁に配置され、次いで熱処理が行われることを意味する。このスキン修飾方法は１９９８年７月、ボルチモアで開催された第１２回ＩＺＣ（第１２回ＩＺＣ紀要、ボルチモア，Ｍ．Ｍ．Ｊ．トリーシー他編，ＭＲＳウォーレンデール（ペンシルバニア）（１９９９年）Ｉ，６０３−６１１ページ）でのＪ．Ｃ．ジャンセンによる全体講義「ゼオライトコーティング」で開示され、この講義で引用された文献に記載されている。
【００３７】
含浸またはイオン交換と還元の組合わせで、貴金属などの触媒活性物質にこの物質を適合させることも可能である。更に、界面ヒドロキシル基をガス相または液相での化合物と反応させることで壁に官能成分を付着（グラフト）することも可能である。
【００３８】
この明細書では、微小孔サイズと中間細孔サイズに言及がなされている。微小孔サイズは２．０ｎｍ以下の径を持つ孔として定義される。本発明により調製される物質の孔サイズ分布は窒素吸着と脱着により定義され、得られたデータから孔径の関数として孔量の導関数のプロットを産出する。
【００３９】
窒素吸着と脱着のデータは従来の技術（例えばマイクロメトリクスＡＳＡＰ２０１０）で利用できる器具を用いて得ることができ、この器具はまた孔径の関数として孔量の導関数のプロットを生産することができる。微小孔の範囲で、このようなプロットはＧ．ホーバス，Ｋ．カワゾエ，ジャーナル・オブ．ケミカル・エンジニアリング，ジャパン１６（６），１９８３年，４７０ページに記載されるように、ホーバス−カワゾエモデルのスリット孔幾何学的配列を用いて生成される。中間細孔の範囲では、このようなプロットは、Ｅ．Ｐ．バレット，Ｌ．Ｓ．ジョイナー，Ｐ．Ｐ．−ハレンダ，ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサイエティ７３巻（１９５１年）３７３−３８０ページに記載された方法で生成される。
【００４０】
本発明の実施例において、本発明で生産される中間細孔範囲での物質の孔サイズ分布は、孔径の関数としての孔量（ｄＶ）の導関数の孔サイズ分布曲線がその高さの半分（最大孔量の半分）である曲線の幅の点で、（前に記載の）プロットの最大高さでの孔径に対する曲線の幅の比（半分の高さでの最大孔径と最小孔径との間の差）は０．７５以下である。
【００４１】
本発明は以下に述べる実施例と関連して記載されるであろう。しかし発明の範囲はそれにより限定されるものではない。
【００４２】
【発明を実施するための最良の形態】
本発明をより詳細に記述するために、添付の図面に従ってこれを説明する。
【００４３】
【実施例】
（実施例１）
まず、アルミニウムイソプロポキシド１．３ｇがテトラプロピルアンモニウムヒドロキシドＴＰＡＯＨ（４０％）水溶液３９．１ｇに溶解された。次いでトリエタノールアミン（９７％，ＡＣＲＯＳ）４７．８８ｇと水１４．０ｇが混合された。トリエタノールアミン混合物はアルミニウム含有混合物に滴状（８−１０ｇ／分）で攪拌しながら加えられた。最後にオルソケイ酸テトラエチル（９８％，ＡＣＲＯＳ）３３．１ｇが滴状（４−６ｇ／分）で攪拌しながら生成混合物に加えられた。最終混合物は、室温で４８時間熟成され、１．０−１．２ｃｍの高さを持つ層を形成するように皿にひろげられ、１００℃で１８時間固定空気炉で乾燥された。生成物質は下記の手順を用いて空気中でカ焼された。１℃／分で５００℃までの加熱速度，４時間持続、１℃／分で５５０℃までに、１０時間持続。生成物のＸ線パターンは図１（Ａ），図２（Ｂ），図３（Ｃ）で示される。Ｎ_２孔測定の結果は表１で与えられる。
【００４４】
（実施例２）
トリエタノールアミン（７５％，ＡＣＲＯＳ）１７．３７ｇの滴状追加が４−６ｇ／分の速度でオルソケイ酸テトラエチル（９８％，ＡＣＲＯＳ）９４．７２ｇと水１３６．８７ｇの混合物に攪拌しながら行われた。均質混合物は室温で１６時間熟成された。
【００４５】
【表１】

【００４６】
熟成混合物は１．８−２．０ｃｍの高さの層を形成するために皿に移され、固定空気炉で１００℃、２４時間乾燥された。次いで、乾燥製品は１９０℃で４８時間熱水処理された。カ焼が１℃／分で５５０℃まで加熱され１０時間維持された。
【００４７】
Ｘ線回折パターンは図４（Ａ），図５（Ｂ），図６（Ｃ）で示される。窒素孔測定結果は図５（Ｂ），図６（Ｃ）と表１で示される。
【００４８】
（実施例３）
アルミニウムイソプロポキシド２．１ｇとイソプロパノール６０．６ｇの混合物が作られた。この混合物にオルソケイ酸テトラエチル５３．０６ｇ（９８％，ＡＣＲＯＳ）が滴状（８−１０ｇ／分）で加えられた。次いでトリエタノールアミン（９７％，ＡＣＲＯＳ）３８．３９ｇと水１１４．３７ｇの混合物が前記混合物に滴状（８−１０ｇ／分）で加えられた。最後に水酸化アンモニウムテトラエチル３１．５ｇがゆっくり（４−６ｇ／分）攪拌しながら加えられた。最終混合物は室温で２４時間熟成された。混合物は１．８−２．０ｃｍの高さの層を形成するために皿に移され、固定空気炉で１００℃、２４時間乾燥された。乾燥製品は１９０℃、２４時間熱水処理された。カ焼が空気中で１℃／分で５００℃までの加熱速度で行われ、４時間維持され、次いで１℃／分で６００℃まで加熱され１０時間維持された。図７（Ａ），図８（Ｂ），図９（Ｃ）は製品のＸ線回折パターンを示す。Ｎ_２孔測定結果は図８（Ｂ），図９（Ｃ）及び表１で示される。
【００４９】
（実施例４）
テトラエチレングリコール（９９％，ＡＣＲＯＳ）２９．１２ｇと水１０７．４６ｇの混合物がゆっくり（４−６ｇ／分）オルソケイ酸テトラエチル（９８％，ＡＣＲＯＳ）６３．４２ｇに攪拌されながら加えられた。この合成混合物は室温で２２時間熟成された。合成混合物は約１．８−２．０ｃｍの層を形成するために皿に移され、固定空気炉で１００℃、２４時間乾燥された。熱水処理がオートクレーブで１９０℃、２４時間行われた。サンプルは空気中で１０時間カ焼され、カ焼は１℃／分の加熱速度で行われた。図１０はこの製品のＸ線回折パターンを示す。窒素孔測定結果は表１で示される。
【００５０】
（実施例５）
トリエタノールアミン２５．２９ｇ、水酸化アンモニウムテトラエチル（２５％）１７．２９ｇ、と水１８．０１ｇの混合物が滴状（４−６ｇ／分）で別の混合物であるチタン（ＩＶ）Ｎ−ブトキシド１．１ｇとＴＥＯＳ，３４．９５ｇの混合物に攪拌しながら加えられた。最終均質物質混合物は室温で２４時間熟成された。混合物は約１．８−２．０ｃｍの層を形成するために皿に移され固定空気炉で１００℃，２４時間乾燥された。乾燥製品はランプ速度１℃／分の空中で６００℃で１０時間カ焼された。
【００５１】
この多孔度は窒素吸収等温線を用いて決定され、それはマイクロメリティクスＡＳＡＰ２０００を用いて７７Ｋで測定された。図１１（Ａ）はこの製品のＸ線回折パターンを示している。窒素孔測定結果は図１２（Ｂ），図１３（Ｃ）と表１で示される。化学組成物は誘導結合プラズマで原子分光分析を用いて分析され１．６５重量％Ｔｉを示した。
【００５２】
触媒活性はモデル反応としてシクロヘキセンエポキシ化を用いて評価され、それは還流凝縮器を使ってフラスコ内でＮ_２フローの下で４０℃で行われた。酸化剤としてターシャルブチルヒドロペルオキシド（ＴＢＨＰ）（７０％水溶液）が使用の前に無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥された。シクロヘキセン（９９％）１０ｍｍｏｌ，ＴＢＨＰ１１ｍｍｏｌが内標準としてメシチレン５ｍｍｏｌを含むジクロロメタン１０ｍｌに加えられた。温度が４０℃に達すると、触媒０．１１ｇが反応混合物に導入された。サンプルはＧＣ（ＷＡＸ５２ＣＢ）で分析された。時間当りチタンのモル当り転換されたシクロヘキセンのモル量で定義される遷移周波数は６時間後に２０．２ｈ^−１に達した。これはＣ．Ｈ．リー，Ｊ．Ｓ．リー，Ｃａｔａｌ．Ｌｅｔｔ．，１９９６年，４０巻，２６１−２６４ページに記載の同一反応条件の下でのチタン含有ＭＣＭ−４１より約５倍も高いものであった。
【００５３】
（実施例６）
オルソケイ酸テトラエチル（９８％，ＡＣＲＯＳ）２５．５５ｇがゆっくり（４−６ｇ／分）トリエタノールアミン（９７％，ＡＣＲＯＳ）１７．３７ｇと水５６．９８ｇの混合物に攪拌しながら加えられた。得られた等質合成混合物は室温で２４時間熟成された。次いで混合物は１．８−２．０ｃｍ高の層を形成するために皿に移され、固定空気炉で１００℃、１８時間乾燥された。乾燥サンプルは１℃／分のランプ速度で空気中で５５０℃でカ焼された。
【００５４】
図１４はこの製品のＸ線回折パターンを示す。窒素孔測定データは表１で与えられる。
【００５５】
（実施例７）
テトラエチレングリコール（９９％，ＡＲＯＳ）２９．１２ｇと水１０７．４６ｇの混合物がゆっくり（４〜６ｇ／分）オルソケイ酸テトラエチル（９８％，ＡＣＲＯＳ）６３．４２ｇに攪拌されながら加えられた。合成混合物は約１．８−２．０ｃｍの層を形成するために皿に移され、固定空気炉で１００℃、２４時間乾燥された。乾燥サンプルは２日間クロロホルムを用いてソックスレス抽出され、１００℃で空気乾燥された。製品は２θ＝０．５°，２θ＝５０°の間のＸ線回折パターンでピークを持たなかった。Ｎ２孔測定結果は表１で与えられる。
【００５６】
望ましい実施例において、無機物質はシリカのみからまたは他の金属酸化物と組合わせて生産されたけれども、他の金属単独（例えばアルミナ，チタン（二酸化チタン）、ジリコニア（酸化ジルコニウム）等）から、またはシリカを含まない金属との組合せから無機酸化物を生成することはこの発明の精神と範囲内にあることは理解されるであろう。
【００５７】
本発明の数多くの修飾と変更が前記の教示の光の下で可能であり、従って同じく請求項の範囲内で特に記載されたもの以外にも実施可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】（Ａ）実施例１で生産される物質のＸ線パターンを示す図
【図２】（Ｂ）実施例１の物質の微小孔孔径の関数としての孔量導関数のプロットを示す図
【図３】（Ｃ）実施例１の物質の中間細孔孔径の関数としての孔量の導関数のプロットを示す図
【図４】（Ａ）実施例２で生産された物質のＸ線パターンを示す図
【図５】（Ｂ）実施例２の物質の微小孔孔径の関数としての孔量の導関数のプロットを示す図
【図６】（Ｃ）実施例２の物質の中間細孔孔径の関数としての孔量の導関数のプロットを示す図
【図７】（Ａ）実施例３で生産された物質のＸ線パターンを示す図
【図８】（Ｂ）実施例３の物質の微小孔孔径の関数しての孔量の導関数のプロットを示す図
【図９】（Ｃ）実施例３の物質の中間細孔孔径の関数としての孔量の導関数のプロットを示す図
【図１０】実施例４で生産された物質のＸ線パターンを示す図
【図１１】（Ａ）実施例５で生産された物質のＸ線パターンを示す図
【図１２】（Ｂ）実施例５の物質の微小孔孔径の関数としての孔量の導関数のプロットを示す図
【図１３】（Ｃ）実施例５の物質の中間細孔孔径の関数としての孔量の導関数のプロットを示す図
【図１４】実施例６で生産された物質のＸ線パターンを示す図