JP4561782B2 - 半導体メモリ装置、半導体メモリ装置の動作方法 - Google Patents

半導体メモリ装置、半導体メモリ装置の動作方法 Download PDF

Info

Publication number
JP4561782B2
JP4561782B2 JP2007164195A JP2007164195A JP4561782B2 JP 4561782 B2 JP4561782 B2 JP 4561782B2 JP 2007164195 A JP2007164195 A JP 2007164195A JP 2007164195 A JP2007164195 A JP 2007164195A JP 4561782 B2 JP4561782 B2 JP 4561782B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
buffer
memory
interface
mode
input
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2007164195A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2009004032A (ja
Inventor
浩太郎 柏
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP2007164195A priority Critical patent/JP4561782B2/ja
Priority to US12/153,056 priority patent/US7898835B2/en
Priority to TW097118923A priority patent/TWI389119B/zh
Priority to KR1020080053010A priority patent/KR20080112943A/ko
Priority to CNA2008101102505A priority patent/CN101329902A/zh
Publication of JP2009004032A publication Critical patent/JP2009004032A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4561782B2 publication Critical patent/JP4561782B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
    • G11C11/40Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
    • G11C11/401Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
    • G11C11/4063Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing
    • G11C11/407Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing for memory cells of the field-effect type
    • G11C11/4076Timing circuits
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
    • G11C11/40Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
    • G11C11/401Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
    • G11C11/4063Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing
    • G11C11/407Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing for memory cells of the field-effect type
    • G11C11/409Read-write [R-W] circuits 
    • G11C11/4093Input/output [I/O] data interface arrangements, e.g. data buffers
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
    • G11C11/40Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
    • G11C11/41Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming static cells with positive feedback, i.e. cells not needing refreshing or charge regeneration, e.g. bistable multivibrator or Schmitt trigger
    • G11C11/413Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing, timing or power reduction
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C5/00Details of stores covered by group G11C11/00
    • G11C5/02Disposition of storage elements, e.g. in the form of a matrix array
    • G11C5/04Supports for storage elements, e.g. memory modules; Mounting or fixing of storage elements on such supports
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C7/00Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
    • G11C7/10Input/output [I/O] data interface arrangements, e.g. I/O data control circuits, I/O data buffers
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C7/00Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
    • G11C7/10Input/output [I/O] data interface arrangements, e.g. I/O data control circuits, I/O data buffers
    • G11C7/1015Read-write modes for single port memories, i.e. having either a random port or a serial port
    • G11C7/1045Read-write mode select circuits

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Dram (AREA)

Description

本発明は、半導体メモリ装置とその動作方法に関する。
特開2006−65533号公報 特開2004−318500号公報
各種電子機器でRAMチップとして利用される半導体メモリ装置としては、現在、回路構成、動作機能などが異なるものとして多様なメモリタイプが知られている。
回路構成的及び動作的には大きく分けてDRAM(Dynamic Random Access Memory)、SRAM(Static Random Access Memory)が知られている。またDRAMの一種であり、外部から供給されるクロックに同期してデータを出力するSDRAM(Synchronous Dynamic Random Access Memory)としては、SDR−SDRAM(Single Data Rate SDRAM)、DDR−SDRAM(Double Data Rate SDRAM)、DDR2−SDRAM、DDR3−SDRAM・・・DDR(n)−SDRAMなどが知られている。
また構造的にみれば複数のアクセスポートを備えるDPRAM(Dual Port RAM)も存在し、さらに機能的にみればアドレス指定を必要としないFIFO(First in First out)タイプのRAMも存在する。
これら各種のメモリタイプは、電子機器内での必要性に応じて使い分けられる。
なお、本明細書では説明上、SDR−SDRAMを「SDR」、DDR−SDRAMを「DDR」、DDR2−SDRAMを「DDR2」、DDR3−SDRAM・・・DDR(n)−SDRAMを「DDR3」・・・「DDR(n)」、FIFOタイプを「FIFO」と呼ぶこととする。
各種電子機器では、その設計上、必要とされる機能、性能、或いはコスト等を参酌して、搭載する半導体メモリ装置(半導体メモリICチップ)のメモリタイプを決定する。そして、或るメモリタイプの半導体メモリ装置を搭載する場合、そのメモリチップに対して情報の書込/読出を行うメモリコントローラ(メモリ制御装置)は、当然ながら、メモリタイプに応じたメモリアクセス動作を行うものとして設計或いは選定される。
ところが各種事情により、次のような問題が生ずることが多い。
各種の半導体メモリ装置は、全てが常に安定供給されるとは限らない。特に近年では技術革新や市場の要求などに応じて、半導体メモリ装置の多様化が急速に広がり、しかも新たなタイプの開発が積極的に行われている。逆に、需要の低下したタイプの半導体メモリ装置は、メモリメーカにおいて製造中止とされることも頻繁にある。
或るタイプの半導体メモリ装置を電子機器に組み込んで製品化する機器メーカーにとっては、採用しているメモリタイプの半導体メモリ装置の製造中止は、大きな問題となる。
例えば機器メーカーがSDRを採用して或る機器を製造しているとする。仮にSDRの供給が不安定になったとすると、機器メーカーはSDRに代わる半導体メモリ装置を当該機器に搭載することを検討しなければならない。そこで例えばSDRに代えてDDRを搭載することとする。するとこの場合、単に半導体メモリ装置としてのチップをSDRからDDRに変更するだけではなく、その半導体メモリ装置にアクセスを行うメモリコントローラの仕様変更が必要になる。場合によっては、メモリコントローラや周辺回路を再設計しなければならないなど、製造上、効率やコストなどの点で多大な負担が生ずることもある。
また、新たな電子機器の設計を行う際にも、将来的な半導体メモリ装置の供給状況を見越さなければならないが、そのために必要以上に処理能力の高い半導体メモリ装置の採用を余儀なくされたり、或いはメモリコントローラの仕様変更等を予め想定して回路設計を行わなければならないなどから、適切かつ効率的な設計のための自由度が阻害されることもある。
本発明ではこれらの問題に鑑みて、各種のメモリタイプのメモリとして使用できる半導体メモリ装置を実現することを目的とする。
本発明の半導体メモリ装置は、情報記憶領域として形成されるメモリアレイ部と、外部のメモリ制御装置と上記メモリアレイ部との間のインターフェースを行うインターフェース部とが、パッケージ内に封入されて設けられている。そして上記インターフェース部は、複数のメモリタイプにそれぞれ対応した複数のインターフェースモジュールを有している。
また上記メモリアレイ部と、上記インターフェース部とは、1つのシリコンダイ上に形成された状態でパッケージ内に封入されている。
或いは上記メモリアレイ部と、上記インターフェース部とは、それぞれ個別のシリコンダイ上に形成され、結線された状態でパッケージ内に封入されている。
また上記複数のインターフェースモジュールのうちの1つは、上記メモリタイプとしてのSDR、DDR、DDR2〜DDR(n)、SRAM、DPRAM、FIFOのいずれかに対応するインターフェースモジュールである。
また上記インターフェース部には、外部のメモリ制御装置に対しての信号の入出力を行う入出力バッファ部が設けられ、上記入出力バッファ部を介して、上記外部のメモリ制御装置と、上記複数のインターフェースモジュールの間の信号伝送が行われる。
この場合、上記複数のインターフェースモジュールのうちで上記入出力バッファ部と接続する1つのインターフェースモジュールを選択するセレクタを有し、上記入出力バッファ部を介して、上記外部のメモリ制御装置と、上記セレクタで選択されたインターフェースモジュールの間で、信号伝送が行われる。
或いはこの場合、上記入出力バッファ部は、上記複数のインターフェースモジュールのそれぞれに対応して複数設けられ、上記外部のメモリ制御装置が、或る1つの上記入出力バッファ部と接続されることで、その入出力バッファ部が対応するインターフェースモジュールと、上記外部のメモリ制御装置との間で信号伝送が行われる。
また上記インターフェース部には、外部のメモリ制御装置から供給されるシステムクロックに基づいて、上記複数のインターフェースモジュールのうち上記セレクタで選択されたインターフェースモジュールが用いる複数の処理クロックを生成、当該インターフェースモジュールの上記複数の処理クロックごとの出力用接続端子と接続して該処理クロックを供給するとともに、上記セレクタで選択されない他のインターフェースモジュールの複数の処理クロックごとの出力用接続端子を固定電圧端子と接続するように接続状態を切り換えるクロック生成部が設けられ、上記クロック生成部は、上記セレクタで選択されない他のインターフェースモジュールの複数の処理クロックごとの出力用接続端子を固定電圧端子と接続するように接続状態を切り換え、上記インターフェース部には、入力されるモード指定信号から、上記メモリタイプの別を示すモードの解釈を行うモード解釈部が設けられ、上記モード解釈部で解釈されたメモリタイプのモードに応じて、上記複数のインターフェースモジュールのうちの1つが、上記メモリアレイ部に対する書込又は読出のアクセス処理を実行するように形成されている。
本発明の半導体メモリ装置の動作方法は、情報記憶領域として形成されるメモリアレイ部と、外部のメモリ制御装置と上記メモリアレイ部との間のインターフェースを行うインターフェース部とが、パッケージ内に封入されて設けられているとともに、上記インターフェース部は、複数のメモリタイプにそれぞれ対応した複数のインターフェースモジュールを有している半導体メモリ装置の動作方法として、接続される外部のメモリ制御装置の仕様に合致するメモリタイプに応じて、上記複数のインターフェースモジュールのうちの1つが選択され、選択されたインターフェースモジュールが、上記外部のメモリ制御装置からの書込又は読出の要求に応じて、上記メモリアレイ部に対して書込又は読出のアクセス処理を実行する。
このような本発明は、半導体メモリ装置としてのメモリICチップのパッケージ内に、例えばDRAM又はSRAMとしての構造のメモリアレイ部が設けられていることに加え、例えばSDR、DDR、DDR2・・・DDR(n)、SRAM、DPRAM、FIFO等の各種のメモリタイプに応じた複数のインターフェースモジュールも設けられている。
各インターフェースモジュールは、それぞれ外部のメモリ制御回路からのアクセス要求に応じて、対応するメモリタイプに合致するタイミングでデータ書込/読出を行う。例えばSDR用のインターフェースモジュールは、メモリアレイ部に対する書込/読出を、外部からはSDRメモリアレイと見られるようにする入出力を行う。またDDR用のインターフェースモジュールは、メモリアレイ部に対する書込/読出を、外部からはDDRメモリアレイと見られるようにする入出力を行う。
例えばDRAM,SRAMは回路構造は異なるが、アクセス動作を工夫することで、外部から見れば異なるタイプのメモリと同様に働かせることができる。FIFO、DPRAMも同様である。従って各インターフェースモジュールの動作によって、例えばメモリアレイ部が実際にはDRAMで構成されていても、これをSRAMとして動作させたり、或いはSDR、DDRなどのDRAMの各タイプの状態で動作させることができる。
つまり本発明の半導体メモリ装置は、動作するインターフェースモジュールによってメモリタイプが変化するような動作を行う。従って外部のメモリ制御回路の仕様等に応じたメモリタイプのメモリとして機能させることができる。
本発明によれば、半導体メモリ装置を用いて機器製造や設計の効率化や、製造の安定化を実現できる。
例えば或るメモリタイプのメモリを搭載している電子機器において、そのメモリタイプのメモリの供給が不安定になった場合、そのメモリを本発明の半導体メモリ装置に置き換え、それまでのメモリと同様の動作を実行させることで、メモリ制御回路や周辺回路の設計変更なしに、引き続き機器製造を継続できる。
また、新規に電子機器の設計を行う場合には、搭載するメモリチップとして本発明の半導体メモリ装置を採用することで、自由度の高い設計や効率的な設計が可能となり、また将来メモリ自体の仕様変更を行いたい場合にも容易に対応できることになる。
以下、本発明の実施の形態を、次の順序で説明する。
[1.半導体メモリ装置の概要]
[2.半導体メモリ装置の内部構成及び動作]
[3.PLL部のモード動作]
[4.セレクタのモード動作]
[5.IOバッファのモード動作]
[6.半導体メモリ装置の他の構成例]
[1.半導体メモリ装置の概要]

図1(a)は、メモリコントローラ100と、本実施の形態の半導体メモリ装置1とを示している。半導体メモリ装置1は、或る電子機器内においてメモリICとして使用されるものであり、その電子機器内に搭載されたメモリコントローラ100によって書込/読出のためにアクセスされる。
メモリコントローラ100は、その設計仕様に応じて、半導体メモリ装置1を特定のメモリタイプのメモリとして扱う。例えば或る電子機器において、メモリコントローラ100が、DDRを対象としたアクセス処理を行うように設計されている場合、本例の半導体メモリ装置1は、DDRと同様の入出力をメモリコントローラ100に対して行う。つまりその電子機器の回路上にマウントされ、メモリコントローラ100と電気的に接続された後は、本例の半導体メモリ装置1は、DDRとして機能する。
また、他の或る電子機器において、メモリコントローラ100が、SDRを対象としたアクセス処理を行うように設計されている場合、本例の半導体メモリ装置1は、SDRと同様の入出力をメモリコントローラ100に対して行う。つまりその電子機器の回路上にマウントされ、メモリコントローラ100と電気的に接続された後は、本例の半導体メモリ装置1は、SDRとして機能する。
このため、例えばそれまでSDRをマウントした電子機器を製造していた場合において、SDRの供給元でSDRの製造が中止されたような事態となったとしても、その後は、SDRに代えて本例の半導体メモリ装置1をマウントし、半導体メモリ装置1にSDRとして動作させることで、その電子機器の製造を、メモリコントローラ100等の変更なしに継続することができる。
また、新規に開発する電子機器において、本例の半導体メモリ装置1を採用すれば、メモリコントローラ100や周辺回路の設計の自由度が向上し、さらに将来的なメモリタイプの変更の必要性が生じても、容易に対応できる。
半導体メモリ装置1は、1パッケージにモノリシック化されたメモリICとされるが、内部にインターフェース部2とメモリアレイ部3が形成されている。
メモリアレイ部3は、DRAM或いはSRAMとしての構造で形成される。
インターフェース部2は、メモリコントローラ100に対する入出力バッファや、各種のメモリタイプに応じた複数のインターフェースモジュール等を有する。
即ち本例の半導体メモリ装置1は、複数のメモリタイプにそれぞれ対応した複数のインターフェースモジュールを有するインターフェース部2と、情報記憶領域として形成されるメモリアレイ部3とが、パッケージ内に封入されて設けられている。
パッケージ内の構造としては、図1(b)(c)に示す例が考えられる。
図1(b)は、メモリアレイ部3とインターフェース部2が、1つのシリコンダイ4上に形成された状態でパッケージ内に封入されている例である。
一方、図1(c)は、メモリアレイ部3とインターフェース部2が、それぞれ個別のシリコンダイ4a,4b上に形成され、メモリアレイ部3とインターフェース部2の間が結線された状態でパッケージ内に封入されている例である。
[2.半導体メモリ装置の内部構成及び動作]

半導体メモリ装置1の内部の回路構成を図2に示す。
上述のように半導体メモリ装置1にはインターフェース部2とメモリアレイ部3が設けられる。メモリアレイ部3は、RAMアレイ30とラッパー(Wrapper)31を有する。
またインターフェース部2は、複数のインターフェースモジュール21(21a、21b・・・21h)と、IOバッファ22と、セレクタ23と、PLL部24と、モード解釈部25を有する。
RAMアレイ30は、例えばDRAM又はSRAMによる情報記憶領域として形成される。
ラッパー31は、RAMアレイ30と、インターフェースモジュール21(21a〜21h)の間の制御信号変換を行う。RAMアレイ30は、そのセル構造などは各種都合に応じて自由な設計が可能であるが、ラッパー31は、RAMアレイ30の仕様に応じて信号変換を行って、例えばDRAM又はSRAMとしての一般的なインターフェースを実現するために設けられるものである。
インターフェース部2において、IOバッファ22は、この半導体メモリ装置1と外部デバイス(例えばメモリコントローラ100)の電気的なインターフェースを行う。
IOバッファ22は、例えばメモリコントローラ100との間では、コマンドCMD、入出力データDQ、データストローブ信号DQSのやりとりを行う。
またIOバッファ22は、例えばメモリコントローラ100から供給されるシステムクロックCLKを入力し、PLL部24に供給する。
またIOバッファ22はモード指定信号Mdを入力し、モード解釈部25に供給する。モード指定信号Mdは、半導体メモリ装置1の動作モード(動作させるメモリタイプの別)を指示する信号であるが、例えば半導体メモリ装置1のパッケージ上に形成された小型のディップスイッチ(DIPスイッチ)などで設定される論理値の信号とされればよい。或いはパッケージにモード設定用の所定数のピンを形成し、その各ピンの接続状態による論理値(例えばH/L/ハイインピーダンスによる論理値)をモード指定信号Mdとしてもよい。さらには、メモリコントローラ100がモード指定信号Mdを半導体メモリ装置1に供給する構成とすることも考えられる。
セレクタ23は、各種インターフェースモジュール21(21a〜21h)のうちの1つを選択してIOバッファ22と接続する。選択はモード解釈部25からのモード信号Smdに基づく。
各種インターフェースモジュール21(21a〜21h)として、それぞれ異なるメモリタイプのインターフェースモジュールが設けられる。例えばこの図2の例ではSDR−IFモジュール21a、DDR−IFモジュール21b、DDR2−IFモジュール21c、DDR3−IFモジュール21d、・・・DDR(n)−IFモジュール21e、SRAM−IFモジュール21f、DPRAM−IFモジュール21g、FIFO−IFモジュール21hが設けられている。
各インターフェースモジュール21a〜21fは、この半導体メモリ装置1が、それぞれ対応するメモリタイプのメモリとして動作するように、メモリコントローラ100に要求されるタイミングでの入出力を行う。
例えばSDR−IFモジュール21aは、RAMアレイ30に対する書込/読出アクセス動作が、外部のメモリコントローラ100から見てSDRとして動作するように処理を行う。またDDR−IFモジュール21bは、RAMアレイ30に対する書込/読出アクセス動作が、外部のメモリコントローラ100から見てDDRとして動作するように処理を行う。
PLL部24は、例えばメモリコントローラ100から供給されるシステムクロックCLKに基づいて、各種インターフェースモジュール21(21a〜21h)で使用する各種の処理クロックCKを生成し、インターフェースモジュール21に出力する。
モード解釈部25は、入力されるモード指定信号Mdとしての論理値の解釈を行い、半導体メモリ装置1の動作として要求されるモードを判別する。そしてそのモードを示すモード信号Smdを各部に供給する。
この半導体メモリ装置1では、IOバッファ22、セレクタ23、PLL部24、及びインターフェースモジュール21は、モード解釈部25から出力されるモード信号Smdに従って所要の動作を行うことで、例えば外部のメモリコントローラ100から見て、特定のメモリタイプのメモリとして機能する。
仮に、或る電子機器の回路基板に、図1(a)のようにメモリコントローラ100と、本例の半導体メモリ装置1がマウントされる場合に、メモリコントローラ100は、DDR2を対象としたメモリ制御処理を行うものとされているとする。
その場合、ディップスイッチの設定、もしくはメモリコントローラ100からの信号として、DDR2というメモリタイプのモードを示すモード指定信号Mdが、モード解釈部25に入力される。
この場合を図3に示す。モード解釈部25はDDR2モードを示すモード信号Smdを出力する。
後述するが、IOバッファ22は、モード信号Smdに応じて、内部の電気特性、例えば電源電圧や遅延特性を、DDR2に対応する状態に切り換える。
またセレクタ23は、モード信号Smdに応じて、DDR2に対応するDDR2−IFモジュール21cを選択する状態となる。
PLL部24は、モード信号Smdに応じて、DDR2−IFモジュール21cに対する処理クロック群を生成し、DDR2−IFモジュール21cに供給する。また、他のインターフェースモジュール(21a,21b、21d〜21h)に対する処理クロックの供給を停止する。
すると、この半導体メモリ装置1は、メモリコントローラ100から見て、DDR2として動作することになる。つまり、メモリコントローラ100は、DDR2に対する制御としてコマンドCMDを出力し、また入出力データDQ、データストローブ信号DQSをDDR2のタイミングで扱う。この場合に、DDR2−IFモジュール21cは、メモリコントローラ100からのコマンドCMに応じてRAMアレイ30に対する書込/読出を行うが、メモリコントローラ100に対しては、DDR2としてのタイミングで入出力を行うことで、メモリコントローラ100にとって支障の無いアクセス動作が実現されることになる。
各インターフェースモジュール(21a〜21h)は、それぞれ対応するメモリタイプの動作タイミングでの入出力をメモリコントローラ100に対して実現するものであるが、ここで、SDRに対応するSDR−IFモジュール21aと、DDRに対応するDDR−IFモジュール21bの動作を例に挙げて説明する。
まず、図4,図5でSDR,DDRのリード/ライト処理のタイミングを述べる。
図4(a)(b)は通常のSDR−SDRAMのリードサイクルタイミングとライトサイクルタイミングの一例を示している。特にこれは、キャスレイテンシ(Cas Latency)CL=2、バースト長(Burst Length)=4とした場合における、システムクロックCLK、コマンド、データ入出力DQのタイミング例を示している。
SDRAMは、入力されるクロックCLKの立ち上がりエッジで各制御信号をラッチし、またクロックCLKに同期してデータの入出力を行う。クロックCLKの立ち上がりエッジのタイミングをT1、T2・・・で示している。
図4(a)のリードサイクルタイミングとしては、ホスト側(例えばメモリコントローラ100に相当するメモリ制御デバイス)から供給されるリードコマンドを例えばタイミングT1でラッチする。キャスレイテンシCL=2の場合、2クロック後のタイミングT3以降において、リードコマンドに応じて読み出したデータQ0,Q1,Q2,Q3を、ホスト側に出力することになる。
また図4(b)のライトサイクルタイミングとしては、ホスト側から供給されるライトコマンドを例えばタイミングT1でラッチする。また、ホスト側から供給されるデータQ0,Q1,Q2,Q3を、タイミングT1以降ラッチして、書込処理することになる。
一方、図5(a)(b)はDDR−SDRAMのリードサイクルタイミングとライトサイクルタイミングの一例を示している。これも、キャスレイテンシCL=2、バースト長=4とした場合とし、システムクロックCLK1,CLK2、コマンド、データ入出力DQ、データストローブ信号DQSのタイミング例を示している。クロックCLK2は、クロックCLK1の位相反転クロックである。
DDR−SDRAMは、SDR−SDRAMと同様に、入力されるクロックCLKの立ち上がりエッジでコマンドを入力して制御するが、データ入出力のタイミングがSDR−SDRAMと異なる。
DDR−SDRAMでは、高速データ転送を実現するために、位相反転させた2つのクロックCLK1,CLK2と、データストローブ信号DQSを用いる。データストローブ信号DQSはクロックCLK1に同期し、データ入出力DQは、データストローブ信号DQSの立ち上がりと立ち下がりの両エッジに同期することになる。
図5(a)のリードサイクルタイミングでは、例えばタイミングT1としてクロックCLK1の立ち上がりに同期してコマンド処理を行う。キャスレイテンシCL=2の場合、2クロック後のタイミングT3から読出データを出力するが、この場合、データストローブ信号DQSの両エッジに同期して、データQ0,Q1,Q2,Q3が出力される。
また図5(b)のライトサイクルタイミングでは、ホスト側から供給されるライトコマンドを例えばタイミングT1でラッチする。また、データストローブ信号DQSの両エッジに同期して、データQ0,Q1,Q2,Q3の書込処理が行われる。
なお、DDR2,DDR3・・・は基本的にはDDRと同様の動作であり、選択できるキャスレイテンシCLと、動作周波数が異なるものである。
例えばSDR、DDRといったメモリタイプの違いによって、このような処理タイミングの相違が存在する。
そして本例の半導体メモリ装置1では、このような違いを吸収して、各種メモリタイプとして動作すべく、各インターフェースモジュール21が機能する。
SDR−IFモジュール21aが機能する場合の入出力動作タイミングと、DDR−IFモジュール21bが機能する場合の入出力動作タイミングを図6,図7に示す。
図6,図7は、RAMアレイ30が、アドレス入力からデータ読出出力までのアクセスタイムtAC=3nsecという性能とされている場合を例に挙げている。またキャスレイテンシCL=2が求められる場合を示している。
図6は、例えばメモリコントローラ100が半導体メモリ装置1をSDRとみなして読出要求を行った場合のタイミングを示している。即ち半導体メモリ装置1がSDRモードとされてSDR−IFモジュール21aが機能する場合である。
図6(a)は基本クロックBFであり、例えば100MHzとされる。この基本クロックBFは、メモリコントローラ100が半導体メモリ装置1に供給するシステムクロックCLKに同期した同位相かつ同周波数のクロックである。
また図6(b)のクロック2BFは、基本クロックBFの2倍の周波数のクロックであり、また図6(c)のクロック2BF+πは、クロック2BFを180°位相シフトした反転クロックである。
これらのクロックBF、2BF、2BF+πは、入力されるシステムクロックCLKに基づいてPLL部24が生成し、SDR−IFモジュール21aに対して処理クロック群として供給するものである。
図6(d)は、SDR−IFモジュール21aがIOバッファ22を介して行うメモリコントローラ100に対する入出力を示している。
図6(e)は、SDR−IFモジュール21aがRAMアレイ30(ラッパー31)に対してアドレスを発行するタイミングを示している。
図6(f)は、RAMアレイ30からの読出データがSDR−IFモジュール21aに転送されてくるタイミングを示している。
図6(g)は、SDR−IFモジュール21aが、読出データを展開してIOバッファ22に受け渡すタイミングを示している。
例えばタイミングT1において、メモリコントローラ100からのリードコマンドが取り込まれたとする。この場合、SDR−IFモジュール21aは、コマンド解釈や読出アドレスの認識処理を行い、5nsec後のタイミングT2において、RAMアレイ30に対するアドレス発行を行う。
RAMアレイ30はアクセスタイムtAC=3nsecであるため、3nsec後に読出データがSDR−IFモジュール21aに転送されてくる。するとSDR−IFモジュール21aは、読出データQ0,Q1,Q2,Q3を展開して出力する。この場合、4.5nsec後のタイミングT3以降、基準クロックBFの立ち上がりタイミングで各読出データQ0,Q1,Q2,Q3を展開し、IOバッファ22を介してメモリコントローラ100に出力する。
このような動作により、キャスレイテンシCL=2としてのSDR−SDRAMと同等の読出動作が、半導体メモリ装置1によって実現される。換言すれば、メモリコントローラ100は、半導体メモリ装置1をSDRとみなしてコマンド発行を行えばよく、一方、半導体メモリ装置1はSDR−IFモジュール21aの処理により、コマンドに応じてSDRとしての動作を要求されるキャスレイテンシで行う。
なお、この図6はRAMアレイ30のアクセスタイムtAC=3nsecとした場合の例であるが、アクセスタイムtACが遅い場合は、SDR−IFモジュール21aにおける処理を高速化して対応する。例えばアクセスタイムtAC=5nsecであって、キャスレイテンシCL=2が要求されるのであれば、SDR−IFモジュール21aは読出データの展開出力を2.5nsec後から行うことで、タイミングT3からの読出データQ0,Q1,Q2,Q3の出力が可能となる。
また例えばアクセスタイムtAC=8nsecであって、キャスレイテンシCL=2が要求されるのであれば、SDR−IFモジュール21aは、タイミングT1のリードコマンドのラッチから2.5nsec後にRAMアレイ30に対してアドレス発行を行う。そして8nsec後に転送されてくる読出データの展開出力を、2nsec後のタイミングT3からの実行するようにすればよい。
次に図7は、メモリコントローラ100が半導体メモリ装置1をDDRとみなして読出要求を行った場合のタイミングを示している。即ち半導体メモリ装置1がDDRモードとされてDDR−IFモジュール21bが機能する場合である。
図7(a)の基本クロックBFは、メモリコントローラ100が半導体メモリ装置1に供給するシステムクロックCLKと同位相で同周波数のクロックであり、例えば133MHzとされる。また図7(b)のクロック2BFは、基本クロックBFの2倍の周波数のクロックであり、図7(c)のクロック2BF+πは、クロック2BFを180°位相シフトした反転クロックである。
これらのクロックBF、2BF、2BF+πは、入力されるシステムクロックCLKに基づいてPLL部24が生成し、DDR−IFモジュール21bに対して処理クロック群として供給するものである。
図7(d)は、DDR−IFモジュール21bがIOバッファ22を介して行うメモリコントローラ100に対する入出力を示している。
図7(e)は、DDR−IFモジュール21bのアドレス処理タイミングを示している。
図7(f)は、DDR−IFモジュール21bがRAMアレイ30(ラッパー31)に対してアドレスを発行するタイミングを示している。
図7(g)は、RAMアレイ30からの読出データがDDR−IFモジュール21aに転送されてくるタイミングを示している。
図7(h)は、DDR−IFモジュール21bが、読出データの展開処理のタイミングを示している。
図7(i)は、DDR−IFモジュール21bが、展開した読出データをIOバッファ22に受け渡すタイミングを示している。
例えばタイミングT1において、メモリコントローラ100からのリードコマンドが入力されたとする。DDR−IFモジュール21bは、アドレス処理を3.76nsecの間に行ってRAMアレイ30に対するアドレス発行を行う。
RAMアレイ30はアクセスタイムtAC=3nsecであるため、3nsec後に読出データがDDR−IFモジュール21bに転送されてくる。するとDDR−IFモジュール21bは、0.76nsec後から読出データQ0,Q1,Q2,Q3を展開し、これを5.6nsec後のタイミングT3以降、基準クロックBFの立ち上がり及び立ち下がりの両エッジのタイミングで各読出データQ0,Q1,Q2,Q3を、IOバッファ22を介してメモリコントローラ100に出力する。
このような動作により、キャスレイテンシCL=2としてのDDR−SDRAMと同等の読出動作が、半導体メモリ装置1によって実現される。換言すれば、メモリコントローラ100は、半導体メモリ装置1をDDRとみなしてコマンド発行を行えばよく、一方、半導体メモリ装置1はDDR−IFモジュール21bの処理により、コマンドに応じてDDRとしての動作を要求されるキャスレイテンシで行う。
なお、この図7はRAMアレイ30のアクセスタイムtAC=3nsecとした場合の例であるが、この場合も、アクセスタイムtACが遅い場合は、DDR−IFモジュール21bにおける処理を高速化して対応すればよい。
以上では、SDR−IFモジュール21a、DDR−IFモジュール21bが機能する場合の読出動作タイミングを示したが、DDR2−IFモジュール21c等の他のインターフェースモジュールが機能する場合も、それぞれ対応するメモリタイプに応じた動作が実現されるようにすればよい。
そして図2の構成の場合、メモリタイプに応じたモードにより、1つのインターフェースモジュール21が機能する状態となることで、半導体メモリ装置1は、メモリコントローラ100から見て、SDR、DDR、DDR2〜DDR(n)、SRAM、DPRAM、FIFOのいずれかとして動作することができる。
[3.PLL部のモード動作]

ところで、半導体メモリ装置1が各種のメモリタイプとして動作するにあたっては、上述のようにモード解釈部25からのモード信号Smdに応じて、各部がモードに応じた処理を行うことになる。特には、PLL部24、セレクタ23、IOバッファ22が、モード信号Smdに対応した動作を行う。このモード動作について説明していく。
まず、ここではPLL部24のモード動作を述べる。
図8は、PLL部24の内部構成例を示している。なお、図示及び説明の簡略化のため、ここではクロック出力系として、SDR−IFモジュール21a、DDR−IFモジュール21b、DDR2−IFモジュール21cの3つのインターフェースモジュールに対応する部分のみを参照して、PLL部24のモード動作について説明していく。
メモリコントローラ100から供給されるシステムクロックCLKは、バッファアンプ31を介してクロック生成用PLL回路32に供給される。クロック生成用PLL回路32は、例えば位相比較器、ループフィルタ、VCO(電圧制御発振器)、2逓倍器を備えたPLL(Phase Locked Loop)回路として形成される。
クロック生成用PLL回路32は、システムクロックCLKと、1/2分周器33の出力の位相比較を行いながら、システムクロックCLKに同期した、2倍の周波数のクロック2BFを出力する。このクロック2BFは切換回路35に供給される。
また、クロック2BFは、1/2分周器33により分周されて、システムクロックCLKと同周波数とされた後、位相比較用のクロックとしてクロック生成用PLL回路32にフィードバックされるとともに、この1/2分周器33により分周されたクロックが、システムクロックCLKと同位相で同周波数の基準クロックBFとして切換回路37に供給される。
さらに、クロック生成用PLL回路32から出力されるクロック2BFは、フェイズシフタ34で移相処理が行われ、位相反転されたクロック2BF+πが生成される。このクロック2BF+πは切換回路36に供給される。
切換回路35,36,37は出力端子として、それぞれS端子、D1端子、D2端子を備える。
S端子はSDR−IFモジュール21aに接続される端子である。
D1端子はDDR−IFモジュール21bに接続される端子である。
D2端子はDDR2−IFモジュール21cに接続される端子である。
また、切換回路35,36,37には、それぞれHレベル電圧Hiが供給される固定電圧端子Fが用意されている。なお、この固定電圧端子Fは、Lレベル電圧とされてもよい。或いはハイインピーダンス状態とされてもよい。
なお上述のようにこの図8では、3つのインターフェースモジュール(21a,21b,21c)に対するクロック出力系のみを示しているため、切換回路35,36,37は3つの出力端子としているが、実際にはこの切換回路35,36,37には、他のインターフェースモジュール(21d〜21h)に対する出力端子も形成され、選択可能とされている。
このようなPLL部24に対して、モード解釈部25からのモード信号Smdは、切換回路35,36,37に供給される。切換回路35,36,37は、モード信号Smdに応じて、接続状態を切り換える。
例えばモード信号SmdがSDRモードを示す信号であった場合、切換回路35,36,37は、出力端子としてそれぞれS端子を選択する。モードで選択されない出力端子(D1端子、D2端子及び図示しない他の出力端子)は、固定電圧端子Fに接続される。
この状態を図8で示しているが、これによって、クロック2BF、2BF+π、BFが、それぞれSDR−IFモジュール21a用の処理クロック群として、各S端子からSDR−IFモジュール21aに供給されることになる。例えば100MHzのシステムクロックCLKがメモリコントローラ100から供給される場合、図6に示した100MHzの基準クロックBFと、2倍周波数のクロック2BF、2BF+πがSDR−IFモジュール21aに供給される。
そして処理クロック群が供給されることで、SDR−IFモジュール21aが機能する。一方、DDR−IFモジュール21b、DDR2−IFモジュール21c(及び図示しない他のインターフェースモジュール21d〜21h)は、処理クロックが供給されない状態となり、動作機能はオフとなる。
また例えば、モード信号SmdがDDRモードを示す信号であった場合、切換回路35,36,37は、出力端子としてそれぞれD1端子を選択し、他の出力端子(S端子、D2端子及び図示しない他の出力端子)は、固定電圧端子Fに接続される。これによって、クロック2BF、2BF+π、BFが、それぞれDDR−IFモジュール21b用の処理クロック群として、各D1端子からDDR−IFモジュール21bに供給される。例えば133MHzのシステムクロックCLKがメモリコントローラ100から供給される場合、図7に示した133MHzの基準クロックBFと、2倍周波数のクロック2BF、2BF+πがDDR−IFモジュール21bに供給される。
そして処理クロック群が供給されることで、DDR−IFモジュール21bが機能し、一方、SDR−IFモジュール21a、DDR2−IFモジュール21c(及び図示しない他のインターフェースモジュール21d〜21h)は、処理クロックが供給されず動作機能はオフとなる。
例えば以上のように、PLL部24がインターフェースモジュール21a〜21hに対して、モード信号Smdに応じたクロック供給を行うようにすることで、必要な1つのインターフェースモジュールが機能し、他のインターフェースモジュールは動作オフ状態となる。
[4.セレクタのモード動作]

セレクタ23のモード動作を図9で説明する。図9においては、上記図8の場合と同様に、インターフェースモジュールとしてSDR−IFモジュール21a、DDR−IFモジュール21b、DDR2−IFモジュール21cの3つのインターフェースモジュールに対応する部分のみを示している。
上述したようにメモリコントローラ100とIOバッファ22の間は、コマンドCMD、入出力データDQ、データストローブ信号DQSの入出力を行うが、セレクタ22におけるこれらの信号の転送としては、コマンドCMD、データ入力DQin、データ出力DQout、ストローブ信号入力DQSin、ストローブ信号出力DQSoutの転送を行うことになる。
即ち、セレクタ22は、メモリコントローラ100からIOバッファ22に入力されるコマンドCMDを、インターフェースモジュール21に転送する。
またコマンドCMDが書込コマンドである場合、メモリコントローラ100から書込データがIOバッファ22に入力されるが、セレクタ23は、この書込データをデータ入力DQinとしてインターフェースモジュール21に転送する。
またコマンドCMDが読出コマンドであった場合、インターフェースモジュール21によってRAMアレイ30からデータが読み出されるが、セレクタ23は、この読出データをデータ出力DQoutとしてIOバッファ22に転送する。
また、モードがDDR〜DDR(n)の場合、データストローブ信号DQSが用いられるが、セレクタ23は、このデータストローブ信号DQSの入力、出力をストローブ信号入力DQSin、ストローブ信号出力DQSoutとして転送する。
セレクタ23には、これらの信号に応じて、選択スイッチ回路23a〜23eが設けられている。
選択スイッチ回路23aはコマンドCMDに対応し、インターフェースモジュール21に対する出力端子としてS端子、D1端子、D2端子が形成されている。
選択スイッチ回路23bはデータ入力DQinに対応し、インターフェースモジュール21に対する出力端子としてS端子、D1端子、D2端子が形成されている。
選択スイッチ回路23cはデータ出力DQoutに対応し、インターフェースモジュール21からの入力端子としてS端子、D1端子、D2端子が形成されている。
選択スイッチ回路23dはストローブ信号入力DQSinに対応し、インターフェースモジュール21に対する出力端子としてD1端子、D2端子が形成されている。
選択スイッチ回路23eはストローブ信号出力DQSoutに対応し、インターフェースモジュール21からの入力端子としてD1端子、D2端子が形成されている。
なお、この図9では、3つのインターフェースモジュール(21a,21b,21c)に対する入出力系のみを示しているため、選択スイッチ回路23a〜23eには、他のインターフェースモジュール(21d〜21h)に対する出力端子又は入力端子を示していないが、実際は、他のインターフェースモジュール(21d〜21h)に対する出力端子又は入力端子も形成され、選択可能とされている。
セレクタ23の各選択スイッチ回路23a〜23eは、モード解釈部25からのモード信号Smdに応じて、出力端子又は入力端子を選択する。
例えばモード信号SmdがSDRモードを示す信号であった場合、選択スイッチ回路23a、23b、23cは、それぞれS端子を選択する。なお、SDRではデータストローブ信号DQSは使用されないため、選択スイッチ回路23d、23eは非接続状態でよい。
これにより、IOバッファ22とSDR−IFモジュール21aの間で、コマンドCMD、データ入力DQin、データ出力DQoutの転送が実現される。
また例えば、モード信号SmdがDDRモードを示す信号であった場合、選択スイッチ回路23a〜23eは、それぞれD1端子を選択する。図9ではこの状態を示しているが、この状態で、IOバッファ22とDDR−IFモジュール21bの間で、コマンドCMD、データ入力DQin、データ出力DQout、ストローブ信号入力DQSin、ストローブ信号出力DQSoutの転送が実現される。
例えば以上のように、セレクタ23の選択スイッチ回路23a〜23eがモード信号Smdに応じた接続選択を行うことで、機能している1つのインターフェースモジュールと、IOバッファ22の間での信号転送が行われ、当該機能している1つのインターフェースモジュールとメモリコントローラ100の間の信号の入出力が実行される。
[5.IOバッファのモード動作]

IOバッファ22のモード動作としては、モード(実行するメモリタイプ)に応じたバッファ電源電圧特性や遅延特性の切換が行われる。
バッファ電源電圧は、メモリタイプによって異なっており、例えばSDRでは3.3V又は2.5V、DDRでは2.5V、DDR2では1.8V、DDR3では1.5Vなどとされている。従って、本例の半導体メモリ装置1の場合、IOバッファ22はモードに応じて動作電源電圧の切換が必要になる。
図10〜図14は、それぞれ電源電圧や遅延特性の切換のためのIOバッファ22の構成例を示している。各図では、タイプA、タイプBとして2つの電源電圧を切り換える動作を説明する。例えば図中「A」を付したバッファアンプは、電源電圧3.3Vで遅延特性がτ1とされるタイプAのバッファであり、図中「B」を付したバッファアンプは、電源電圧2.5Vで遅延特性がτ2とされるタイプBのバッファであるとする。
なお、ここではタイプA、タイプBとしての電気特性切換を説明するが、実際には、半導体メモリ装置1が対応可能なメモリタイプの数や種類に応じて、必要なタイプ数の電気特性切換が行われる構成となることはいうまでもない。
また、各図では信号経路として入力系、出力系、双方向系として3つを示しているが、具体的な信号経路は、これらのいずれかに相当すると考えればい。例えばコマンドCMDやデータ入力DQinの信号経路としては、それぞれ図の入力系の構成が採られると考えればよい。
また図10〜図14における内部ロジック30とは、セレクタ23、PLL部24、インターフェースモジュール21(21a〜21h)を包括的に示したブロックである。
まず図10の例を説明する。
IOバッファ22には、入力系として、タイプAバッファ44,タイプBバッファ、スイッチ41、53が設けられる。
またIOバッファ22には、出力系として、タイプAバッファ45,タイプBバッファ49,スイッチ42,54が設けられる。
またIOバッファ22には、双方向系として、タイプAバッファ46,タイプA・3ステートバッファ47、タイプBバッファ50,タイプB・3ステートバッファ51、スイッチ43,55,56が設けられる。
モード指示信号Mdは、バッファアンプ52を介してモード解釈部25に供給される。
また、半導体メモリ装置1の外部からの導入される電源ラインとしては。タイプAバッファ用電源ライン70と、タイプBバッファ用電源ライン71と、内部ロジック用電源ライン72と、モードバッファ用電源ライン73が形成されている。
例えばタイプAバッファ用電源ライン70は、3.3Vの電源ラインとされ、このタイプAバッファ用電源ライン70は、タイプAバッファ44,45,46、タイプA・3ステートバッファ47、スイッチ41,42,43に対する電源供給を行う。
また、タイプBバッファ用電源ライン71は、例えば2.5Vの電源ラインとされ、このタイプBバッファ用電源ライン71は、タイプBバッファ48,49,50、タイプB・3ステートバッファ51に対する電源供給を行う。
内部ロジック用電源ライン72は、内部ロジック30内の各回路部(インターフェースモジュール21やPLL部24)やモード解釈部25に動作電源電圧を供給するとともに、スイッチ53,54,55,56のスイッチング動作のための動作電源電圧供給を行う。
モードバッファ用電源ライン73は、バッファアンプ52に動作電源電圧を供給する。
なお、この例ではスイッチ41、42、43にはタイプAバッファ用電源ライン70による動作電源電圧の供給が行われるが、これはスイッチ41、42,43のスイッチング動作を可能とする電源電圧が供給されればよく、他の電源ラインからスイッチ41、42,43の動作電源電圧を供給してもよい。
各スイッチ41,42,43,53,54,55,56は、タイプAに対応するa端子と、タイプBに対応するb端子を切換可能な構成とされる。
そして各スイッチ41,42,43,53,54,55,56はモード解釈部25からのモード信号Smdにより、接続端子を切り換える。
例えばモード信号SmdによりタイプAに相当するメモリタイプが指示される場合は、各スイッチ41,42,43,53,54,55,56はa端子を選択する。これによって、IOバッファ22では、タイプAバッファ44,45,46、タイプA・3ステートバッファ47が機能して各種信号の入出力を行うことになり、つまりタイプAに相当するメモリタイプに応じた入出力バッファ動作が実現される。
またモード信号SmdによりタイプBに相当するメモリタイプが指示される場合は、各スイッチ41,42,43,53,54,55,56はb端子を選択する。これによって、IOバッファ22では、タイプBバッファ48,49,50、タイプB・3ステートバッファ51が機能して各種信号の入出力を行うことになり、つまりタイプBに相当するメモリタイプに応じた入出力バッファ動作が実現される。
なお、ここででは、タイプA、タイプBとして、2つの電気特性タイプの切換というモデルで説明したが、実際には、搭載されるインターフェースモジュール21の数や種類によってバッファ電気特性として切換を実行すべきタイプ数はより多数となることが想定される。
例えば電源電圧や遅延特性の異なる電気特性タイプとして、タイプC、タイプD・・・というように多数のタイプが必要となるが、その場合、各タイプに応じたバッファアンプが上記タイプA,Bと同様に搭載されるとともに、スイッチ41,42,43,53,54,55,56により、それらが選択される構成とされればよい。
以降、図11〜図14で他の構成を述べるが、このようにより多数の電気特性タイプに対応するように構成を拡張的に考えるべきであることは同様である。
続いてIOバッファ22の他の構成例を図11で説明する。なお、図10と同一部分は同一符号を付して重複説明を避ける。
この図11の例では、半導体メモリ装置1に外部から導入する電源ラインを3本としている。即ちバッファ用電源ライン74,モードバッファ用電源ライン73、内部ロジック用電源ライン72である。
そしてバッファ用電源ライン74は、スイッチ41、42,43への電源ラインとされるとともに、電源ラインスイッチ57によって、接続先がAタイプ系とBタイプ系に切り換えられるようにしている。
モード信号Smdは、各スイッチ41,42,43,53,54,55,56と、電源ラインスイッチ57に供給される。
バッファ用電源ライン74には、電子機器の回路基板に半導体メモリ装置1がマウントされる際、この半導体メモリ装置1がどのようなメモリタイプとして使用されるかに応じて、所定の電源電圧が供給される。
例えばその電子機器において、半導体メモリ装置1をSDRとして扱う場合、このバッファ用電源ライン74は、回路基板配線によって3.3Vの電源ラインに固定接続されることになる。一方、例えばその電子機器において、半導体メモリ装置1をDDRとして扱う場合、このバッファ用電源ライン74は、回路基板配線によって2.5Vの電源ラインに固定接続されることになる。
そして、例えばモード信号SmdによりタイプAに相当するメモリタイプが指示される場合は、各スイッチ41,42,43,53,54,55,56はa端子を選択し、電源ラインスイッチ57もa端子を選択する。
この場合、バッファ用電源ライン74は、3.3V電源ラインとされているため、タイプAバッファ44,45,46、タイプA・3ステートバッファ47には3.3V電源電圧が供給される。従ってIOバッファ22では、タイプAバッファ44,45,46、タイプA・3ステートバッファ47が機能して各種信号の入出力を行うことになり、タイプAに相当するメモリタイプに応じた入出力バッファ動作が実現される。
またモード信号SmdによりタイプBに相当するメモリタイプが指示される場合は、各スイッチ41,42,43,53,54,55,56はb端子を選択し、電源ラインスイッチ57もb端子を選択する。
この場合、バッファ用電源ライン74は、2.5V電源ラインとされているため、タイプBバッファ48,49,50、タイプB・3ステートバッファ51には2.5V電源電圧が供給される。従ってIOバッファ22では、タイプBバッファ48,49,50、タイプB・3ステートバッファ51が機能して各種信号の入出力を行うことになり、タイプBに相当するメモリタイプに応じた入出力バッファ動作が実現される。
続いて図12の例を説明する。
この図12の例は、半導体メモリ装置1に外部から導入する電源ラインを、共通電源ライン76のみとしている。そしてIOバッファ22内にDC/DCコンバータ58を備えるようにする。
DC/DCコンバータ58は、共通電源ライン76からの電源電圧に対して電圧変換を行い、各電源ラインにそれぞれ所定電圧の電源供給を行う。
即ちDC/DCコンバータ58は、スイッチ用電源ライン75により、スイッチ41、42,43に対する電源電圧供給を行う。
またDC/DCコンバータ58は、タイプAバッファ用電源ライン70により、タイプAバッファ44,45,46、タイプA・3ステートバッファ47に対する3.3Vの電源電圧供給を行う。
またDC/DCコンバータ58は、タイプBバッファ用電源ライン71により、タイプBバッファ48,49,50、タイプB・3ステートバッファ51に対する2.5Vの電源電圧供給を行う。
またDC/DCコンバータ58は、モードバッファ用電源ライン73により、バッファアンプ52に対する電源電圧供給を行う。
またDC/DCコンバータ58は、内部ロジック用電源ライン72により、内部ロジック30、スイッチ53,54,55,56、モード解釈部25に対する電源電圧供給を行う。
モード解釈部25からのモード信号Smdは、各スイッチ41,42,43,53,54,55,56と、DC/DCコンバータ58に供給される。DC/DCコンバータ58は、タイプAバッファ用電源ライン70への電源電圧出力と、タイプBバッファ用電源ライン71への電源電圧出力を、モード信号Smdに応じて選択的に実行する。
そして、例えばモード信号SmdによりタイプAに相当するメモリタイプが指示される場合は、各スイッチ41,42,43,53,54,55,56はa端子を選択し、またDC/DCコンバータ58は、スイッチ用電源ライン75、モードバッファ用電源ライン73、内部ロジック用電源ライン72への各動作電源電圧の供給とともに、タイプAバッファ用電源ライン70への3.3Vの電源電圧供給を行う。
従ってIOバッファ22では、タイプAバッファ44,45,46、タイプA・3ステートバッファ47が機能して各種信号の入出力を行うことになり、タイプAに相当するメモリタイプに応じた入出力バッファ動作が実現される。
またモード信号SmdによりタイプBに相当するメモリタイプが指示される場合は、各スイッチ41,42,43,53,54,55,56はb端子を選択し、またDC/DCコンバータ58は、スイッチ用電源ライン75、モードバッファ用電源ライン73、内部ロジック用電源ライン72への各動作電源電圧の供給とともに、タイプBバッファ用電源ライン71への2.5Vの電源電圧供給を行う。
従ってIOバッファ22では、タイプBバッファ48,49,50、タイプB・3ステートバッファ51が機能して各種信号の入出力を行うことになり、タイプBに相当するメモリタイプに応じた入出力バッファ動作が実現される。
次に図13の例を説明する。但し、この図13の例は、IOバッファ22についてはモード信号Smdによる内部的な切換を行わない構成例である。
この場合、IOバッファ22には、入力系として、共通バッファ81が設けられる。また出力系として、共通バッファ82が設けられる。また双方向系として、共通バッファ83と共通3ステートバッファ84が設けられる。
共通バッファ81,82,83及び共通3ステートバッファ84は、印加電圧にて電圧レンジも遅延も許容できるバッファアンプである。
そして半導体メモリ装置1に外部から導入する電源ラインは、バッファ用電源ライン74,モードバッファ用電源ライン73、内部ロジック用電源ライン72の3本である。
バッファ用電源ライン74は、共通バッファ81,82,83及び共通3ステートバッファ84に電源供給を行う電源ラインとされる。
内部ロジック用電源ライン72は、内部ロジック30内の各部と、モード解釈部25に電源供給を行う電源ラインとされる。
モードバッファ用電源ライン73は、バッファアンプ52に電源供給を行う電源ラインとされる。
バッファ用電源ライン74には、電子機器の回路基板に半導体メモリ装置1がマウントされる際、この半導体メモリ装置1がどのようなメモリタイプとして使用されるかに応じて、所定の電源電圧が供給される。
例えばその電子機器において、半導体メモリ装置1をSDRとして扱う場合、このバッファ用電源ライン74は、回路基板配線によって3.3Vの電源ラインに固定接続されることになる。一方、例えばその電子機器において、半導体メモリ装置1をDDRとして扱う場合、このバッファ用電源ライン74は、回路基板配線によって2.5Vの電源ラインに固定接続されることになる。
この構成の場合、IOバッファ22は、モード解釈部25からのモード信号Smdに基づく切換動作を行う必要はない。モード信号Smdによる切換動作は、内部ロジック30内のセレクタ23及びPLL部24において行われることになる。
例えば半導体メモリ装置1をSDRとして扱う場合、バッファ用電源ライン74は3.3Vの電源ラインとされ、共通バッファ81,82,83及び共通3ステートバッファ84が3.3Vの電源電圧で動作する。また例えば半導体メモリ装置1をDDRとして扱う場合、バッファ用電源ライン74は2.5Vの電源ラインとされ、共通バッファ81,82,83及び共通3ステートバッファ84が2.5Vの電源電圧で動作する。
次に図14の例を説明する。この例は、上記図13と同様に共通バッファ81,82,83及び共通3ステートバッファ84を備えるものであるが、半導体メモリ装置1に外部から導入する電源ラインは、共通電源ライン76のみとする。そしてIOバッファ22内にDC/DCコンバータ85を備えるようにする。
DC/DCコンバータ85は、共通電源ライン76からの電源電圧に対して電圧変換を行い、各電源ラインにそれぞれ所定電圧の電源供給を行う。
即ちDC/DCコンバータ85は、バッファ用電源ライン74により、共通バッファ81,82,83及び共通3ステートバッファ84に対する電源電圧供給を行う。
またDC/DCコンバータ85は、モードバッファ用電源ライン73により、バッファアンプ52に対する電源電圧供給を行う。
またDC/DCコンバータ85は、内部ロジック用電源ライン72により、内部ロジック30、モード解釈部25に対する電源電圧供給を行う。
モード解釈部25からのモード信号Smdは、IOバッファ22内においてはDC/DCコンバータ85に供給される。DC/DCコンバータ85は、バッファ用電源ライン74へ供給する電源電圧を、モード信号Smdに応じて切り換える。
例えばモード信号SmdによりSDRモードが指示される場合は、DC/DCコンバータ85は、モードバッファ用電源ライン73、内部ロジック用電源ライン72への各動作電源電圧の供給を行うとともに、バッファ用電源ライン74へ印加する電源電圧を3.3Vとする。
これにより共通バッファ81,82,83及び共通3ステートバッファ84が、SDRに応じた入出力バッファ動作を行う。
また例えばモード信号SmdによりDDRモードが指示される場合は、DC/DCコンバータ85は、モードバッファ用電源ライン73、内部ロジック用電源ライン72への各動作電源電圧の供給を行うとともに、バッファ用電源ライン74へ印加する電源電圧を2.5Vとする。
これにより共通バッファ81,82,83及び共通3ステートバッファ84が、DDRに応じた入出力バッファ動作を行う。
以上、IOバッファ22としては図10〜図14のような構成を採ることで、各モード(メモリタイプ)に応じた入出力バッファ動作を実行できることになる。
[6.半導体メモリ装置の他の構成例]

本実施の形態の半導体メモリ装置1の構成を図2に示したが、半導体メモリ装置1としては、他の構成例も考えられる。図15に他の構成例を例示する。なお、図2と同一部分は同一符号を付し、説明を省略する。
図15の構成例は、各インターフェースモジュール21a〜21hのそれぞれに専用のIOバッファを設ける用にした例である。
即ち、SDR−IFモジュール21a用のIOバッファ22a、DDR−IFモジュー21b用のIOバッファ22b、DDR2−IFモジュール21c用のIOバッファ22c、DDR3−IFモジュー21d用のIOバッファ22d、DDR(n)−IFモジュール21e用のIOバッファ22e、SRAM−IFモジュール21f用のIOバッファ22f、DPRAM−IFモジュール21g用のIOバッファ22g、FIFO−IFモジュール21h用のIOバッファ22hが設けられる。
また、システムクロックCLKに対応する入力バッファ22iが設けられ、システムクロックCLKは入力バッファ22iを介してPLL部24に供給される。
またモード指示信号Mdに対応する入力バッファ22jが設けられ、モード指示信号Mdは入力バッファ22jを介してモード解釈部25に供給される。
この場合、IOバッファ22a〜22hは、それぞれ対応するインターフェースモジュール21a〜21hに応じた専用の入出力信号系やバッファアンプ、及び接続端子を有する。
例えばSDR−IFモジュール21aに対応するIOバッファ22aは、コマンドCMDの入力端子及び入力バッファと、データ入力DQinについての入力端子及び入力バッファと、データ出力DQoutについての出力端子及び出力バッファを有する。もちろんIOバッファ22a内の各バッファは、SDRに応じた電気特性とされる。
また例えばDDR−IFモジュール21bに対応するIOバッファ22bは、コマンドCMDの入力端子及び入力バッファと、データ入力DQinについての入力端子及び入力バッファと、データ出力DQoutについての出力端子及び出力バッファと、データストローブ信号DQSについての入出力端子及び入出力バッファを有する。もちろんIOバッファ22b内の各バッファは、DDRに応じた電気特性とされる。
このような構成の場合、この半導体メモリ装置1を電子機器の回路基板にマウントするにあたっては、半導体メモリ装置1をどのメモリタイプで用いるかに応じて、メモリコントローラ100と接続するIOバッファを、IOバッファ22a〜22hのうちから選択することになる。例えばその電子機器において半導体メモリ装置1をDDRとして使用する場合、IOバッファ22bの端子がメモリコントローラ100と接続されるように、例えば基板配線の設計を行う。すると、その場合図16に示すように、IOバッファ22bを介してメモリコントローラ100aとDDR−IFモジュール21bの間で各種信号の入出力が行われる状態となる。このとき他のIOバッファ22a、22c〜22hは使用されない。
当然、モード指示信号MdはDDRモードを示す信号とされ、モード解釈部25はDDRモードとしてのモード信号SmdをPLL部24に与える。これによりPLL部24はDDR−IFモジュール21bに処理クロック群を与えてDDR−IFモジュール21bを機能させるとともに、他のインターフェースモジュール21a、21c〜21hについてはクロック供給を停止し、動作オフ状態とさせる。
これにより、半導体メモリ装置1はDDRとして機能する。
そしてこの構成の場合、図2で示したセレクタ23は不要となる。
なお、IOバッファ22a〜22hの電源供給構成によっては、モード信号Smdにより、IOバッファ22bに、例えば2.5Vのバッファ動作電源が供給されるようにする。或いはIOバッファ22a〜22hに共通の電源ラインが形成されている場合、基板設計により、その電源ラインが、2.5V系の電源ラインに接続されるようにすればよい。
また、図17のような構成例も考えられる。なお、各部は図15と同一符号を付している。
この図17の構成は、モード指示信号Mdの入力系やモード解釈部25を持たず、モード信号Smdによる切換制御を不要とすることができる構成である。
上記図15と同様、IOバッファ22a〜22hは、それぞれインターフェースモジュール21a〜21hに対応して専用に設けられているため、この半導体メモリ装置1をどのメモリタイプで使用するかにより、メモリコントローラ100と接続するIOバッファ22を選択すればよい。
PLL部24は、モード信号Smdによるクロック供給の切換を行わない。従って、常時全てのインターフェースモジュール21a〜21hに、それぞれ必要な処理クロックを供給する構成とすればよい。
以上、実施の形態について説明してきたが、実施の形態の半導体メモリ装置1を用いることで、機器製造や設計の効率化や、製造の安定化を実現できる。
例えば或るメモリタイプのメモリを搭載している電子機器において、そのメモリタイプのメモリの供給が不安定になった場合、そのメモリを半導体メモリ装置1に置き換え、それまでのメモリと同様の動作を実行させることで、メモリ制御回路や周辺回路の設計変更なしに、引き続き機器製造を継続できる。
また、新規に電子機器の設計を行う場合には、搭載するメモリチップとして半導体メモリ装置1を採用することで、自由度の高い設計や効率的な設計が可能となり、また将来メモリ自体の仕様変更(メモリタイプの変更)を行いたい場合にも容易に対応できることになる。
なお、本発明の半導体メモリ装置は実施の形態の構成に限定されるものではなく、更なる変形例は各種考えられる。
搭載するインターフェースモジュール21は、少なくとも2つ以上であり、少なくとも2種類以上のメモリタイプとして機能できるようにすればよい。
本発明の実施の形態の半導体メモリ装置の概略の説明図である。 実施の形態の半導体メモリ装置のブロック図である。 実施の形態の半導体メモリ装置の動作状態の説明図である。 SDRのリード/ライトサイクルタイミングの説明図である。 DDRのリード/ライトサイクルタイミングの説明図である。 実施の形態のSDR−IFモジュール機能時の動作の説明図である。 実施の形態のDDR−IFモジュール機能時の動作の説明図である。 実施の形態のPLL部のモード動作の説明図である。 実施の形態のセレクタのモード動作の説明図である。 実施の形態のIOバッファのモード動作の説明図である。 実施の形態のIOバッファのモード動作の説明図である。 実施の形態のIOバッファのモード動作の説明図である。 実施の形態のIOバッファのモード動作の説明図である。 実施の形態のIOバッファのモード動作の説明図である。 実施の形態の半導体メモリ装置の他の構成例のブロック図である。 実施の形態の半導体メモリ装置の他の構成例の動作状態の説明図である。 実施の形態の半導体メモリ装置のさらに他の構成例のブロック図である。
符号の説明
1 半導体メモリ装置、2 インターフェース部、3 メモリアレイ部、21 インターフェースモジュール、21a SDR−IFモジュール、21b DDR−IFモジュール、21c DDR2−IFモジュール、21d DDR3−IFモジュール、21e DDR(n)−IFモジュール、21f SRAM−IFモジュール、21g DPRAM−IFモジュール、21h FIFO−IFモジュール、22 IOバッファ、23 セレクタ、24 PLL部、25 モード解釈部

Claims (4)

  1. 情報記憶領域として形成されるメモリアレイ部と、外部のメモリ制御装置と上記メモリアレイ部との間のインターフェースを行うインターフェース部とが、パッケージ内に封入されて設けられているとともに、
    上記インターフェース部は、
    少なくともメモリタイプとしてのSDR、DDR、DDR2〜DDR(n)、SRAM、DPRAM、FIFOのいずれかに対応するインターフェースモジュールを含む、複数のメモリタイプにそれぞれ対応した複数のインターフェースモジュールと、
    外部のメモリ制御装置に対しての信号の入出力を行う入出力バッファ部と、
    上記複数のインターフェースモジュールのうちで上記入出力バッファ部と接続する1つのインターフェースモジュールを選択するセレクタと、
    上記外部のメモリ制御装置から供給されるシステムクロックに基づいて、上記複数のインターフェースモジュールのうち上記セレクタで選択されたインターフェースモジュールが用いる複数の処理クロックを生成、当該インターフェースモジュールの上記複数の処理クロックごとの出力用接続端子と接続して該処理クロックを供給するクロック生成部と、
    入力されるモード指定信号から、上記メモリタイプの別を示すモードの解釈を行うモード解釈部と、
    が設けられ、
    上記クロック生成部は、上記セレクタで選択されない他のインターフェースモジュールの複数の処理クロックごとの出力用接続端子を固定電圧端子と接続するように接続状態を切り換え、
    上記複数のインターフェースモジュールのうちで上記モード解釈部で解釈されたメモリタイプのモードに応じて上記セレクタで選択されたインターフェースモジュールと、上記外部のメモリ制御装置との間の信号伝送が上記入出力バッファ部を介して行われ、
    上記セレクタで選択されたインターフェースモジュールが、上記メモリアレイ部に対する書込又は読出のアクセス処理を実行するように形成されている
    半導体メモリ装置。
  2. 上記メモリアレイ部と、上記インターフェース部とは、1つのシリコンダイ上に形成された状態でパッケージ内に封入されている請求項1に記載の半導体メモリ装置。
  3. 上記メモリアレイ部と、上記インターフェース部とは、それぞれ個別のシリコンダイ上に形成され、結線された状態でパッケージ内に封入されている請求項1に記載の半導体メモリ装置。
  4. 情報記憶領域として形成されるメモリアレイ部と、外部のメモリ制御装置と上記メモリアレイ部との間のインターフェースを行うインターフェース部とが、パッケージ内に封入されて設けられているとともに、
    上記インターフェース部は、
    少なくともメモリタイプとしてのSDR、DDR、DDR2〜DDR(n)、SRAM、DPRAM、FIFOのいずれかに対応するインターフェースモジュールを含む、複数のメモリタイプにそれぞれ対応した複数のインターフェースモジュールと、
    外部のメモリ制御装置に対しての信号の入出力を行う入出力バッファ部と、
    上記複数のインターフェースモジュールのうちで上記入出力バッファ部と接続する1つのインターフェースモジュールを選択するセレクタと、
    上記外部のメモリ制御装置から供給されるシステムクロックに基づいて、上記複数のインターフェースモジュールのうち上記セレクタで選択されたインターフェースモジュールが用いる複数の処理クロックを生成、当該インターフェースモジュールの上記複数の処理クロックごとの出力用接続端子と接続して該処理クロックを供給するクロック生成部と、
    入力されるモード指定信号から、上記メモリタイプの別を示すモードの解釈を行うモード解釈部と、
    が設けられている半導体メモリ装置の動作方法として、
    接続される外部のメモリ制御装置の仕様に合致するメモリタイプとして上記モード解釈部で解釈されたメモリタイプのモードに応じて上記セレクタにより上記複数のインターフェースモジュールのうちの1つが選択され、
    上記セレクタで選択されない他のインターフェースモジュールの複数の処理クロックごとの出力用接続端子を固定電圧端子と接続するように接続状態を切り換え、
    選択されたインターフェースモジュールが、上記入出力バッファ部を介して上記外部のメモリ制御装置との間の信号伝送を行い、
    該選択されたインターフェースモジュールが、上記外部のメモリ制御装置からの書込又は読出の要求に応じて、上記メモリアレイ部に対して書込又は読出のアクセス処理を実行する
    半導体メモリ装置の動作方法。
JP2007164195A 2007-06-21 2007-06-21 半導体メモリ装置、半導体メモリ装置の動作方法 Expired - Fee Related JP4561782B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007164195A JP4561782B2 (ja) 2007-06-21 2007-06-21 半導体メモリ装置、半導体メモリ装置の動作方法
US12/153,056 US7898835B2 (en) 2007-06-21 2008-05-13 Semiconductor memory device and method for operating semiconductor memory device
TW097118923A TWI389119B (zh) 2007-06-21 2008-05-22 A semiconductor memory device, and a method of operating the semiconductor memory device
KR1020080053010A KR20080112943A (ko) 2007-06-21 2008-06-05 반도체 메모리 장치, 반도체 메모리 장치의 동작 방법
CNA2008101102505A CN101329902A (zh) 2007-06-21 2008-06-23 半导体存储器器件和用于操作半导体存储器器件的方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007164195A JP4561782B2 (ja) 2007-06-21 2007-06-21 半導体メモリ装置、半導体メモリ装置の動作方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009004032A JP2009004032A (ja) 2009-01-08
JP4561782B2 true JP4561782B2 (ja) 2010-10-13

Family

ID=40136296

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007164195A Expired - Fee Related JP4561782B2 (ja) 2007-06-21 2007-06-21 半導体メモリ装置、半導体メモリ装置の動作方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US7898835B2 (ja)
JP (1) JP4561782B2 (ja)
KR (1) KR20080112943A (ja)
CN (1) CN101329902A (ja)
TW (1) TWI389119B (ja)

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008299476A (ja) * 2007-05-30 2008-12-11 Fujitsu Microelectronics Ltd 半導体集積回路
JP2009181669A (ja) * 2008-01-31 2009-08-13 Sony Corp 半導体メモリ装置およびその動作方法
JP2009181666A (ja) * 2008-01-31 2009-08-13 Sony Corp 半導体メモリ装置およびその動作方法
CN101807429B (zh) * 2009-02-13 2012-09-05 南亚科技股份有限公司 动态随机存取内存行命令地址的控制电路及方法
CN101866695B (zh) * 2010-06-21 2013-01-16 苏州国芯科技有限公司 一种NandflashU盘控制器读写Norflash存储器的方法
CN102546560A (zh) * 2010-12-29 2012-07-04 中国科学院微电子研究所 无损数据采集系统
JP2012238992A (ja) * 2011-05-11 2012-12-06 Sony Corp クロック乗せ換え回路およびクロック乗せ換え方法
US9304953B2 (en) 2012-06-29 2016-04-05 Cypress Semiconductor Corporation Memory controller devices, systems and methods for translating memory requests between first and second formats for high reliability memory devices
KR20140142607A (ko) * 2013-06-04 2014-12-12 삼성전자주식회사 메모리 모듈과 이를 포함하는 메모리 시스템
CN103685961B (zh) * 2013-12-24 2017-01-25 南京理工大学 一种利用单片sram实现视频数据同步实时处理的系统
US11294572B2 (en) 2017-07-06 2022-04-05 Seagate Technology, Llc Data storage system with late read buffer assignment after arrival of data in cache
CN114068517B (zh) * 2020-08-05 2023-03-24 圣邦微电子(北京)股份有限公司 半导体芯片
CN116844606B (zh) * 2022-03-23 2024-05-17 长鑫存储技术有限公司 一种信号采样电路以及半导体存储器

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002074948A (ja) * 2000-08-28 2002-03-15 Mitsubishi Electric Corp 半導体集積回路装置
JP2007004967A (ja) * 2005-06-22 2007-01-11 Qimonda Ag 並列データ経路アーキテクチャ

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05120884A (ja) * 1991-10-28 1993-05-18 Nec Corp 半導体集積回路
JPH08167703A (ja) * 1994-10-11 1996-06-25 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体装置及びその製造方法、ならびにメモリコアチップ及びメモリ周辺回路チップ
KR100278653B1 (ko) * 1998-01-23 2001-02-01 윤종용 이중 데이터율 모드 반도체 메모리 장치
US6545891B1 (en) * 2000-08-14 2003-04-08 Matrix Semiconductor, Inc. Modular memory device
JP2004318500A (ja) 2003-04-16 2004-11-11 Sony Corp メモリ回路
JP2004348817A (ja) * 2003-05-20 2004-12-09 Sharp Corp 半導体記憶装置、そのページバッファリソース割当方法及び回路、コンピュータシステム並びに携帯電子機器
US7353329B2 (en) * 2003-09-29 2008-04-01 Intel Corporation Memory buffer device integrating refresh logic
KR100640579B1 (ko) * 2004-01-05 2006-10-31 삼성전자주식회사 메모리 에뮬레이션 모듈을 이용하여 고속으로 테스트가능한 임베디드 mcu 및 그 테스트 방법
US20050204091A1 (en) * 2004-03-11 2005-09-15 Kilbuck Kevin M. Non-volatile memory with synchronous DRAM interface
JP5007485B2 (ja) 2004-08-26 2012-08-22 ソニー株式会社 半導体記憶装置およびそのアクセス方法、並びにメモリ制御システム
US7123521B1 (en) * 2005-04-27 2006-10-17 Micron Technology, Inc. Random cache read
KR100843142B1 (ko) * 2006-09-19 2008-07-02 삼성전자주식회사 반도체 메모리 장치 및 이를 포함하는 메모리 시스템
JP4561783B2 (ja) * 2007-06-21 2010-10-13 ソニー株式会社 半導体メモリ装置、半導体メモリ装置の動作方法
JP2009181666A (ja) * 2008-01-31 2009-08-13 Sony Corp 半導体メモリ装置およびその動作方法
JP2009181669A (ja) * 2008-01-31 2009-08-13 Sony Corp 半導体メモリ装置およびその動作方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002074948A (ja) * 2000-08-28 2002-03-15 Mitsubishi Electric Corp 半導体集積回路装置
JP2007004967A (ja) * 2005-06-22 2007-01-11 Qimonda Ag 並列データ経路アーキテクチャ

Also Published As

Publication number Publication date
US20080316788A1 (en) 2008-12-25
US7898835B2 (en) 2011-03-01
TW200912926A (en) 2009-03-16
KR20080112943A (ko) 2008-12-26
TWI389119B (zh) 2013-03-11
JP2009004032A (ja) 2009-01-08
CN101329902A (zh) 2008-12-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4561782B2 (ja) 半導体メモリ装置、半導体メモリ装置の動作方法
JP4561783B2 (ja) 半導体メモリ装置、半導体メモリ装置の動作方法
JP4700636B2 (ja) 半導体メモリ装置を装着したメモリモジュールを有するシステム
JP2009181666A (ja) 半導体メモリ装置およびその動作方法
KR100626375B1 (ko) 고주파로 동작하는 반도체 메모리 장치 및 모듈
US20050278490A1 (en) Memory access control apparatus and method of controlling memory access
JPH08123717A (ja) 半導体記憶装置
JP2003345647A (ja) 半導体メモリシステム、半導体メモリのデータ書込み方法、メモリ制御回路及びメモリ制御方法
US20090097329A1 (en) Semiconductor storage device and high-speed address-latching method
JP2008112434A (ja) メモリクロック信号を送信するための、方法および回路
JP2007048281A (ja) 非多重型メモリコントローラと多重型のメモリとをインタフェーシングするためのラッパ回路及び方法
JP2009181669A (ja) 半導体メモリ装置およびその動作方法
JP2006275616A (ja) 半導体装置及びスキュー調整方法
JP2009181667A (ja) 半導体メモリ装置およびその動作方法
JPH10143424A (ja) メモリシステム
KR100396885B1 (ko) 고주파 클럭 신호의 주파수를 낮추어 어드레스 및커맨드의 동작 주파수로 사용하고 서로 다른 주파수의클럭 신호들을 수신하는 반도체 메모리 장치, 이를포함하는 메모리 모듈 및 시스템 메모리 모듈
JP2009181473A (ja) 半導体メモリ装置
JP2009181668A (ja) 半導体メモリ装置およびその動作方法
JP2008192264A (ja) 半導体記憶装置
JP2000174210A (ja) 半導体装置
JP2008251060A (ja) 半導体記憶装置
KR100408397B1 (ko) 데이터 지연시간을 외부에서 조절할 수 있는 반도체메모리장치 및 이를 구비하는 메모리모듈
JP2006065470A (ja) メモリ制御方法および装置
JPH10340222A (ja) メモリ装置の入力回路及び出力回路
KR20070074342A (ko) 싱글 데이터 레이트 쓰기 모드시 더블 데이터 레이트방식으로 기입하는 반도체 메모리 장치

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20090413

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090421

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090604

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20091124

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100114

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100706

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100719

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130806

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130806

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees