JP4561782B2 - 半導体メモリ装置、半導体メモリ装置の動作方法 - Google Patents
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Description
回路構成的及び動作的には大きく分けてDRAM(Dynamic Random Access Memory)、SRAM(Static Random Access Memory)が知られている。またDRAMの一種であり、外部から供給されるクロックに同期してデータを出力するSDRAM(Synchronous Dynamic Random Access Memory)としては、SDR−SDRAM(Single Data Rate SDRAM)、DDR−SDRAM(Double Data Rate SDRAM)、DDR2−SDRAM、DDR3−SDRAM・・・DDR(n)−SDRAMなどが知られている。
また構造的にみれば複数のアクセスポートを備えるDPRAM(Dual Port RAM)も存在し、さらに機能的にみればアドレス指定を必要としないFIFO(First in First out)タイプのRAMも存在する。
これら各種のメモリタイプは、電子機器内での必要性に応じて使い分けられる。
なお、本明細書では説明上、SDR−SDRAMを「SDR」、DDR−SDRAMを「DDR」、DDR2−SDRAMを「DDR2」、DDR3−SDRAM・・・DDR(n)−SDRAMを「DDR3」・・・「DDR(n)」、FIFOタイプを「FIFO」と呼ぶこととする。
各種の半導体メモリ装置は、全てが常に安定供給されるとは限らない。特に近年では技術革新や市場の要求などに応じて、半導体メモリ装置の多様化が急速に広がり、しかも新たなタイプの開発が積極的に行われている。逆に、需要の低下したタイプの半導体メモリ装置は、メモリメーカにおいて製造中止とされることも頻繁にある。
或るタイプの半導体メモリ装置を電子機器に組み込んで製品化する機器メーカーにとっては、採用しているメモリタイプの半導体メモリ装置の製造中止は、大きな問題となる。
また上記メモリアレイ部と、上記インターフェース部とは、1つのシリコンダイ上に形成された状態でパッケージ内に封入されている。
或いは上記メモリアレイ部と、上記インターフェース部とは、それぞれ個別のシリコンダイ上に形成され、結線された状態でパッケージ内に封入されている。
また上記複数のインターフェースモジュールのうちの1つは、上記メモリタイプとしてのSDR、DDR、DDR2〜DDR(n)、SRAM、DPRAM、FIFOのいずれかに対応するインターフェースモジュールである。
この場合、上記複数のインターフェースモジュールのうちで上記入出力バッファ部と接続する1つのインターフェースモジュールを選択するセレクタを有し、上記入出力バッファ部を介して、上記外部のメモリ制御装置と、上記セレクタで選択されたインターフェースモジュールの間で、信号伝送が行われる。
或いはこの場合、上記入出力バッファ部は、上記複数のインターフェースモジュールのそれぞれに対応して複数設けられ、上記外部のメモリ制御装置が、或る1つの上記入出力バッファ部と接続されることで、その入出力バッファ部が対応するインターフェースモジュールと、上記外部のメモリ制御装置との間で信号伝送が行われる。
各インターフェースモジュールは、それぞれ外部のメモリ制御回路からのアクセス要求に応じて、対応するメモリタイプに合致するタイミングでデータ書込/読出を行う。例えばSDR用のインターフェースモジュールは、メモリアレイ部に対する書込/読出を、外部からはSDRメモリアレイと見られるようにする入出力を行う。またDDR用のインターフェースモジュールは、メモリアレイ部に対する書込/読出を、外部からはDDRメモリアレイと見られるようにする入出力を行う。
例えばDRAM,SRAMは回路構造は異なるが、アクセス動作を工夫することで、外部から見れば異なるタイプのメモリと同様に働かせることができる。FIFO、DPRAMも同様である。従って各インターフェースモジュールの動作によって、例えばメモリアレイ部が実際にはDRAMで構成されていても、これをSRAMとして動作させたり、或いはSDR、DDRなどのDRAMの各タイプの状態で動作させることができる。
つまり本発明の半導体メモリ装置は、動作するインターフェースモジュールによってメモリタイプが変化するような動作を行う。従って外部のメモリ制御回路の仕様等に応じたメモリタイプのメモリとして機能させることができる。
例えば或るメモリタイプのメモリを搭載している電子機器において、そのメモリタイプのメモリの供給が不安定になった場合、そのメモリを本発明の半導体メモリ装置に置き換え、それまでのメモリと同様の動作を実行させることで、メモリ制御回路や周辺回路の設計変更なしに、引き続き機器製造を継続できる。
また、新規に電子機器の設計を行う場合には、搭載するメモリチップとして本発明の半導体メモリ装置を採用することで、自由度の高い設計や効率的な設計が可能となり、また将来メモリ自体の仕様変更を行いたい場合にも容易に対応できることになる。
[1.半導体メモリ装置の概要]
[2.半導体メモリ装置の内部構成及び動作]
[3.PLL部のモード動作]
[4.セレクタのモード動作]
[5.IOバッファのモード動作]
[6.半導体メモリ装置の他の構成例]
図1(a)は、メモリコントローラ100と、本実施の形態の半導体メモリ装置1とを示している。半導体メモリ装置1は、或る電子機器内においてメモリICとして使用されるものであり、その電子機器内に搭載されたメモリコントローラ100によって書込/読出のためにアクセスされる。
また、他の或る電子機器において、メモリコントローラ100が、SDRを対象としたアクセス処理を行うように設計されている場合、本例の半導体メモリ装置1は、SDRと同様の入出力をメモリコントローラ100に対して行う。つまりその電子機器の回路上にマウントされ、メモリコントローラ100と電気的に接続された後は、本例の半導体メモリ装置1は、SDRとして機能する。
また、新規に開発する電子機器において、本例の半導体メモリ装置1を採用すれば、メモリコントローラ100や周辺回路の設計の自由度が向上し、さらに将来的なメモリタイプの変更の必要性が生じても、容易に対応できる。
メモリアレイ部3は、DRAM或いはSRAMとしての構造で形成される。
インターフェース部2は、メモリコントローラ100に対する入出力バッファや、各種のメモリタイプに応じた複数のインターフェースモジュール等を有する。
即ち本例の半導体メモリ装置1は、複数のメモリタイプにそれぞれ対応した複数のインターフェースモジュールを有するインターフェース部2と、情報記憶領域として形成されるメモリアレイ部3とが、パッケージ内に封入されて設けられている。
図1(b)は、メモリアレイ部3とインターフェース部2が、1つのシリコンダイ4上に形成された状態でパッケージ内に封入されている例である。
一方、図1(c)は、メモリアレイ部3とインターフェース部2が、それぞれ個別のシリコンダイ4a,4b上に形成され、メモリアレイ部3とインターフェース部2の間が結線された状態でパッケージ内に封入されている例である。
半導体メモリ装置1の内部の回路構成を図2に示す。
上述のように半導体メモリ装置1にはインターフェース部2とメモリアレイ部3が設けられる。メモリアレイ部3は、RAMアレイ30とラッパー(Wrapper)31を有する。
またインターフェース部2は、複数のインターフェースモジュール21(21a、21b・・・21h)と、IOバッファ22と、セレクタ23と、PLL部24と、モード解釈部25を有する。
ラッパー31は、RAMアレイ30と、インターフェースモジュール21(21a〜21h)の間の制御信号変換を行う。RAMアレイ30は、そのセル構造などは各種都合に応じて自由な設計が可能であるが、ラッパー31は、RAMアレイ30の仕様に応じて信号変換を行って、例えばDRAM又はSRAMとしての一般的なインターフェースを実現するために設けられるものである。
IOバッファ22は、例えばメモリコントローラ100との間では、コマンドCMD、入出力データDQ、データストローブ信号DQSのやりとりを行う。
またIOバッファ22は、例えばメモリコントローラ100から供給されるシステムクロックCLKを入力し、PLL部24に供給する。
またIOバッファ22はモード指定信号Mdを入力し、モード解釈部25に供給する。モード指定信号Mdは、半導体メモリ装置1の動作モード(動作させるメモリタイプの別)を指示する信号であるが、例えば半導体メモリ装置1のパッケージ上に形成された小型のディップスイッチ(DIPスイッチ)などで設定される論理値の信号とされればよい。或いはパッケージにモード設定用の所定数のピンを形成し、その各ピンの接続状態による論理値(例えばH/L/ハイインピーダンスによる論理値)をモード指定信号Mdとしてもよい。さらには、メモリコントローラ100がモード指定信号Mdを半導体メモリ装置1に供給する構成とすることも考えられる。
各インターフェースモジュール21a〜21fは、この半導体メモリ装置1が、それぞれ対応するメモリタイプのメモリとして動作するように、メモリコントローラ100に要求されるタイミングでの入出力を行う。
例えばSDR−IFモジュール21aは、RAMアレイ30に対する書込/読出アクセス動作が、外部のメモリコントローラ100から見てSDRとして動作するように処理を行う。またDDR−IFモジュール21bは、RAMアレイ30に対する書込/読出アクセス動作が、外部のメモリコントローラ100から見てDDRとして動作するように処理を行う。
仮に、或る電子機器の回路基板に、図1(a)のようにメモリコントローラ100と、本例の半導体メモリ装置1がマウントされる場合に、メモリコントローラ100は、DDR2を対象としたメモリ制御処理を行うものとされているとする。
その場合、ディップスイッチの設定、もしくはメモリコントローラ100からの信号として、DDR2というメモリタイプのモードを示すモード指定信号Mdが、モード解釈部25に入力される。
この場合を図3に示す。モード解釈部25はDDR2モードを示すモード信号Smdを出力する。
後述するが、IOバッファ22は、モード信号Smdに応じて、内部の電気特性、例えば電源電圧や遅延特性を、DDR2に対応する状態に切り換える。
またセレクタ23は、モード信号Smdに応じて、DDR2に対応するDDR2−IFモジュール21cを選択する状態となる。
PLL部24は、モード信号Smdに応じて、DDR2−IFモジュール21cに対する処理クロック群を生成し、DDR2−IFモジュール21cに供給する。また、他のインターフェースモジュール(21a,21b、21d〜21h)に対する処理クロックの供給を停止する。
すると、この半導体メモリ装置1は、メモリコントローラ100から見て、DDR2として動作することになる。つまり、メモリコントローラ100は、DDR2に対する制御としてコマンドCMDを出力し、また入出力データDQ、データストローブ信号DQSをDDR2のタイミングで扱う。この場合に、DDR2−IFモジュール21cは、メモリコントローラ100からのコマンドCMに応じてRAMアレイ30に対する書込/読出を行うが、メモリコントローラ100に対しては、DDR2としてのタイミングで入出力を行うことで、メモリコントローラ100にとって支障の無いアクセス動作が実現されることになる。
まず、図4,図5でSDR,DDRのリード/ライト処理のタイミングを述べる。
SDRAMは、入力されるクロックCLKの立ち上がりエッジで各制御信号をラッチし、またクロックCLKに同期してデータの入出力を行う。クロックCLKの立ち上がりエッジのタイミングをT1、T2・・・で示している。
図4(a)のリードサイクルタイミングとしては、ホスト側(例えばメモリコントローラ100に相当するメモリ制御デバイス)から供給されるリードコマンドを例えばタイミングT1でラッチする。キャスレイテンシCL=2の場合、2クロック後のタイミングT3以降において、リードコマンドに応じて読み出したデータQ0,Q1,Q2,Q3を、ホスト側に出力することになる。
また図4(b)のライトサイクルタイミングとしては、ホスト側から供給されるライトコマンドを例えばタイミングT1でラッチする。また、ホスト側から供給されるデータQ0,Q1,Q2,Q3を、タイミングT1以降ラッチして、書込処理することになる。
DDR−SDRAMは、SDR−SDRAMと同様に、入力されるクロックCLKの立ち上がりエッジでコマンドを入力して制御するが、データ入出力のタイミングがSDR−SDRAMと異なる。
DDR−SDRAMでは、高速データ転送を実現するために、位相反転させた2つのクロックCLK1,CLK2と、データストローブ信号DQSを用いる。データストローブ信号DQSはクロックCLK1に同期し、データ入出力DQは、データストローブ信号DQSの立ち上がりと立ち下がりの両エッジに同期することになる。
図5(a)のリードサイクルタイミングでは、例えばタイミングT1としてクロックCLK1の立ち上がりに同期してコマンド処理を行う。キャスレイテンシCL=2の場合、2クロック後のタイミングT3から読出データを出力するが、この場合、データストローブ信号DQSの両エッジに同期して、データQ0,Q1,Q2,Q3が出力される。
また図5(b)のライトサイクルタイミングでは、ホスト側から供給されるライトコマンドを例えばタイミングT1でラッチする。また、データストローブ信号DQSの両エッジに同期して、データQ0,Q1,Q2,Q3の書込処理が行われる。
そして本例の半導体メモリ装置1では、このような違いを吸収して、各種メモリタイプとして動作すべく、各インターフェースモジュール21が機能する。
SDR−IFモジュール21aが機能する場合の入出力動作タイミングと、DDR−IFモジュール21bが機能する場合の入出力動作タイミングを図6,図7に示す。
また図6(b)のクロック2BFは、基本クロックBFの2倍の周波数のクロックであり、また図6(c)のクロック2BF+πは、クロック2BFを180°位相シフトした反転クロックである。
これらのクロックBF、2BF、2BF+πは、入力されるシステムクロックCLKに基づいてPLL部24が生成し、SDR−IFモジュール21aに対して処理クロック群として供給するものである。
図6(e)は、SDR−IFモジュール21aがRAMアレイ30(ラッパー31)に対してアドレスを発行するタイミングを示している。
図6(f)は、RAMアレイ30からの読出データがSDR−IFモジュール21aに転送されてくるタイミングを示している。
図6(g)は、SDR−IFモジュール21aが、読出データを展開してIOバッファ22に受け渡すタイミングを示している。
RAMアレイ30はアクセスタイムtAC=3nsecであるため、3nsec後に読出データがSDR−IFモジュール21aに転送されてくる。するとSDR−IFモジュール21aは、読出データQ0,Q1,Q2,Q3を展開して出力する。この場合、4.5nsec後のタイミングT3以降、基準クロックBFの立ち上がりタイミングで各読出データQ0,Q1,Q2,Q3を展開し、IOバッファ22を介してメモリコントローラ100に出力する。
このような動作により、キャスレイテンシCL=2としてのSDR−SDRAMと同等の読出動作が、半導体メモリ装置1によって実現される。換言すれば、メモリコントローラ100は、半導体メモリ装置1をSDRとみなしてコマンド発行を行えばよく、一方、半導体メモリ装置1はSDR−IFモジュール21aの処理により、コマンドに応じてSDRとしての動作を要求されるキャスレイテンシで行う。
また例えばアクセスタイムtAC=8nsecであって、キャスレイテンシCL=2が要求されるのであれば、SDR−IFモジュール21aは、タイミングT1のリードコマンドのラッチから2.5nsec後にRAMアレイ30に対してアドレス発行を行う。そして8nsec後に転送されてくる読出データの展開出力を、2nsec後のタイミングT3からの実行するようにすればよい。
これらのクロックBF、2BF、2BF+πは、入力されるシステムクロックCLKに基づいてPLL部24が生成し、DDR−IFモジュール21bに対して処理クロック群として供給するものである。
図7(e)は、DDR−IFモジュール21bのアドレス処理タイミングを示している。
図7(f)は、DDR−IFモジュール21bがRAMアレイ30(ラッパー31)に対してアドレスを発行するタイミングを示している。
図7(g)は、RAMアレイ30からの読出データがDDR−IFモジュール21aに転送されてくるタイミングを示している。
図7(h)は、DDR−IFモジュール21bが、読出データの展開処理のタイミングを示している。
図7(i)は、DDR−IFモジュール21bが、展開した読出データをIOバッファ22に受け渡すタイミングを示している。
RAMアレイ30はアクセスタイムtAC=3nsecであるため、3nsec後に読出データがDDR−IFモジュール21bに転送されてくる。するとDDR−IFモジュール21bは、0.76nsec後から読出データQ0,Q1,Q2,Q3を展開し、これを5.6nsec後のタイミングT3以降、基準クロックBFの立ち上がり及び立ち下がりの両エッジのタイミングで各読出データQ0,Q1,Q2,Q3を、IOバッファ22を介してメモリコントローラ100に出力する。
このような動作により、キャスレイテンシCL=2としてのDDR−SDRAMと同等の読出動作が、半導体メモリ装置1によって実現される。換言すれば、メモリコントローラ100は、半導体メモリ装置1をDDRとみなしてコマンド発行を行えばよく、一方、半導体メモリ装置1はDDR−IFモジュール21bの処理により、コマンドに応じてDDRとしての動作を要求されるキャスレイテンシで行う。
そして図2の構成の場合、メモリタイプに応じたモードにより、1つのインターフェースモジュール21が機能する状態となることで、半導体メモリ装置1は、メモリコントローラ100から見て、SDR、DDR、DDR2〜DDR(n)、SRAM、DPRAM、FIFOのいずれかとして動作することができる。
ところで、半導体メモリ装置1が各種のメモリタイプとして動作するにあたっては、上述のようにモード解釈部25からのモード信号Smdに応じて、各部がモードに応じた処理を行うことになる。特には、PLL部24、セレクタ23、IOバッファ22が、モード信号Smdに対応した動作を行う。このモード動作について説明していく。
図8は、PLL部24の内部構成例を示している。なお、図示及び説明の簡略化のため、ここではクロック出力系として、SDR−IFモジュール21a、DDR−IFモジュール21b、DDR2−IFモジュール21cの3つのインターフェースモジュールに対応する部分のみを参照して、PLL部24のモード動作について説明していく。
クロック生成用PLL回路32は、システムクロックCLKと、1/2分周器33の出力の位相比較を行いながら、システムクロックCLKに同期した、2倍の周波数のクロック2BFを出力する。このクロック2BFは切換回路35に供給される。
また、クロック2BFは、1/2分周器33により分周されて、システムクロックCLKと同周波数とされた後、位相比較用のクロックとしてクロック生成用PLL回路32にフィードバックされるとともに、この1/2分周器33により分周されたクロックが、システムクロックCLKと同位相で同周波数の基準クロックBFとして切換回路37に供給される。
さらに、クロック生成用PLL回路32から出力されるクロック2BFは、フェイズシフタ34で移相処理が行われ、位相反転されたクロック2BF+πが生成される。このクロック2BF+πは切換回路36に供給される。
S端子はSDR−IFモジュール21aに接続される端子である。
D1端子はDDR−IFモジュール21bに接続される端子である。
D2端子はDDR2−IFモジュール21cに接続される端子である。
また、切換回路35,36,37には、それぞれHレベル電圧Hiが供給される固定電圧端子Fが用意されている。なお、この固定電圧端子Fは、Lレベル電圧とされてもよい。或いはハイインピーダンス状態とされてもよい。
この状態を図8で示しているが、これによって、クロック2BF、2BF+π、BFが、それぞれSDR−IFモジュール21a用の処理クロック群として、各S端子からSDR−IFモジュール21aに供給されることになる。例えば100MHzのシステムクロックCLKがメモリコントローラ100から供給される場合、図6に示した100MHzの基準クロックBFと、2倍周波数のクロック2BF、2BF+πがSDR−IFモジュール21aに供給される。
そして処理クロック群が供給されることで、SDR−IFモジュール21aが機能する。一方、DDR−IFモジュール21b、DDR2−IFモジュール21c(及び図示しない他のインターフェースモジュール21d〜21h)は、処理クロックが供給されない状態となり、動作機能はオフとなる。
そして処理クロック群が供給されることで、DDR−IFモジュール21bが機能し、一方、SDR−IFモジュール21a、DDR2−IFモジュール21c(及び図示しない他のインターフェースモジュール21d〜21h)は、処理クロックが供給されず動作機能はオフとなる。
セレクタ23のモード動作を図9で説明する。図9においては、上記図8の場合と同様に、インターフェースモジュールとしてSDR−IFモジュール21a、DDR−IFモジュール21b、DDR2−IFモジュール21cの3つのインターフェースモジュールに対応する部分のみを示している。
即ち、セレクタ22は、メモリコントローラ100からIOバッファ22に入力されるコマンドCMDを、インターフェースモジュール21に転送する。
またコマンドCMDが書込コマンドである場合、メモリコントローラ100から書込データがIOバッファ22に入力されるが、セレクタ23は、この書込データをデータ入力DQinとしてインターフェースモジュール21に転送する。
またコマンドCMDが読出コマンドであった場合、インターフェースモジュール21によってRAMアレイ30からデータが読み出されるが、セレクタ23は、この読出データをデータ出力DQoutとしてIOバッファ22に転送する。
また、モードがDDR〜DDR(n)の場合、データストローブ信号DQSが用いられるが、セレクタ23は、このデータストローブ信号DQSの入力、出力をストローブ信号入力DQSin、ストローブ信号出力DQSoutとして転送する。
選択スイッチ回路23aはコマンドCMDに対応し、インターフェースモジュール21に対する出力端子としてS端子、D1端子、D2端子が形成されている。
選択スイッチ回路23bはデータ入力DQinに対応し、インターフェースモジュール21に対する出力端子としてS端子、D1端子、D2端子が形成されている。
選択スイッチ回路23cはデータ出力DQoutに対応し、インターフェースモジュール21からの入力端子としてS端子、D1端子、D2端子が形成されている。
選択スイッチ回路23dはストローブ信号入力DQSinに対応し、インターフェースモジュール21に対する出力端子としてD1端子、D2端子が形成されている。
選択スイッチ回路23eはストローブ信号出力DQSoutに対応し、インターフェースモジュール21からの入力端子としてD1端子、D2端子が形成されている。
なお、この図9では、3つのインターフェースモジュール(21a,21b,21c)に対する入出力系のみを示しているため、選択スイッチ回路23a〜23eには、他のインターフェースモジュール(21d〜21h)に対する出力端子又は入力端子を示していないが、実際は、他のインターフェースモジュール(21d〜21h)に対する出力端子又は入力端子も形成され、選択可能とされている。
例えばモード信号SmdがSDRモードを示す信号であった場合、選択スイッチ回路23a、23b、23cは、それぞれS端子を選択する。なお、SDRではデータストローブ信号DQSは使用されないため、選択スイッチ回路23d、23eは非接続状態でよい。
これにより、IOバッファ22とSDR−IFモジュール21aの間で、コマンドCMD、データ入力DQin、データ出力DQoutの転送が実現される。
IOバッファ22のモード動作としては、モード(実行するメモリタイプ)に応じたバッファ電源電圧特性や遅延特性の切換が行われる。
バッファ電源電圧は、メモリタイプによって異なっており、例えばSDRでは3.3V又は2.5V、DDRでは2.5V、DDR2では1.8V、DDR3では1.5Vなどとされている。従って、本例の半導体メモリ装置1の場合、IOバッファ22はモードに応じて動作電源電圧の切換が必要になる。
なお、ここではタイプA、タイプBとしての電気特性切換を説明するが、実際には、半導体メモリ装置1が対応可能なメモリタイプの数や種類に応じて、必要なタイプ数の電気特性切換が行われる構成となることはいうまでもない。
また、各図では信号経路として入力系、出力系、双方向系として3つを示しているが、具体的な信号経路は、これらのいずれかに相当すると考えればい。例えばコマンドCMDやデータ入力DQinの信号経路としては、それぞれ図の入力系の構成が採られると考えればよい。
また図10〜図14における内部ロジック30とは、セレクタ23、PLL部24、インターフェースモジュール21(21a〜21h)を包括的に示したブロックである。
IOバッファ22には、入力系として、タイプAバッファ44,タイプBバッファ、スイッチ41、53が設けられる。
またIOバッファ22には、出力系として、タイプAバッファ45,タイプBバッファ49,スイッチ42,54が設けられる。
またIOバッファ22には、双方向系として、タイプAバッファ46,タイプA・3ステートバッファ47、タイプBバッファ50,タイプB・3ステートバッファ51、スイッチ43,55,56が設けられる。
モード指示信号Mdは、バッファアンプ52を介してモード解釈部25に供給される。
例えばタイプAバッファ用電源ライン70は、3.3Vの電源ラインとされ、このタイプAバッファ用電源ライン70は、タイプAバッファ44,45,46、タイプA・3ステートバッファ47、スイッチ41,42,43に対する電源供給を行う。
また、タイプBバッファ用電源ライン71は、例えば2.5Vの電源ラインとされ、このタイプBバッファ用電源ライン71は、タイプBバッファ48,49,50、タイプB・3ステートバッファ51に対する電源供給を行う。
内部ロジック用電源ライン72は、内部ロジック30内の各回路部(インターフェースモジュール21やPLL部24)やモード解釈部25に動作電源電圧を供給するとともに、スイッチ53,54,55,56のスイッチング動作のための動作電源電圧供給を行う。
モードバッファ用電源ライン73は、バッファアンプ52に動作電源電圧を供給する。
そして各スイッチ41,42,43,53,54,55,56はモード解釈部25からのモード信号Smdにより、接続端子を切り換える。
例えば電源電圧や遅延特性の異なる電気特性タイプとして、タイプC、タイプD・・・というように多数のタイプが必要となるが、その場合、各タイプに応じたバッファアンプが上記タイプA,Bと同様に搭載されるとともに、スイッチ41,42,43,53,54,55,56により、それらが選択される構成とされればよい。
以降、図11〜図14で他の構成を述べるが、このようにより多数の電気特性タイプに対応するように構成を拡張的に考えるべきであることは同様である。
この図11の例では、半導体メモリ装置1に外部から導入する電源ラインを3本としている。即ちバッファ用電源ライン74,モードバッファ用電源ライン73、内部ロジック用電源ライン72である。
モード信号Smdは、各スイッチ41,42,43,53,54,55,56と、電源ラインスイッチ57に供給される。
バッファ用電源ライン74には、電子機器の回路基板に半導体メモリ装置1がマウントされる際、この半導体メモリ装置1がどのようなメモリタイプとして使用されるかに応じて、所定の電源電圧が供給される。
例えばその電子機器において、半導体メモリ装置1をSDRとして扱う場合、このバッファ用電源ライン74は、回路基板配線によって3.3Vの電源ラインに固定接続されることになる。一方、例えばその電子機器において、半導体メモリ装置1をDDRとして扱う場合、このバッファ用電源ライン74は、回路基板配線によって2.5Vの電源ラインに固定接続されることになる。
この場合、バッファ用電源ライン74は、3.3V電源ラインとされているため、タイプAバッファ44,45,46、タイプA・3ステートバッファ47には3.3V電源電圧が供給される。従ってIOバッファ22では、タイプAバッファ44,45,46、タイプA・3ステートバッファ47が機能して各種信号の入出力を行うことになり、タイプAに相当するメモリタイプに応じた入出力バッファ動作が実現される。
この場合、バッファ用電源ライン74は、2.5V電源ラインとされているため、タイプBバッファ48,49,50、タイプB・3ステートバッファ51には2.5V電源電圧が供給される。従ってIOバッファ22では、タイプBバッファ48,49,50、タイプB・3ステートバッファ51が機能して各種信号の入出力を行うことになり、タイプBに相当するメモリタイプに応じた入出力バッファ動作が実現される。
この図12の例は、半導体メモリ装置1に外部から導入する電源ラインを、共通電源ライン76のみとしている。そしてIOバッファ22内にDC/DCコンバータ58を備えるようにする。
DC/DCコンバータ58は、共通電源ライン76からの電源電圧に対して電圧変換を行い、各電源ラインにそれぞれ所定電圧の電源供給を行う。
即ちDC/DCコンバータ58は、スイッチ用電源ライン75により、スイッチ41、42,43に対する電源電圧供給を行う。
またDC/DCコンバータ58は、タイプAバッファ用電源ライン70により、タイプAバッファ44,45,46、タイプA・3ステートバッファ47に対する3.3Vの電源電圧供給を行う。
またDC/DCコンバータ58は、タイプBバッファ用電源ライン71により、タイプBバッファ48,49,50、タイプB・3ステートバッファ51に対する2.5Vの電源電圧供給を行う。
またDC/DCコンバータ58は、モードバッファ用電源ライン73により、バッファアンプ52に対する電源電圧供給を行う。
またDC/DCコンバータ58は、内部ロジック用電源ライン72により、内部ロジック30、スイッチ53,54,55,56、モード解釈部25に対する電源電圧供給を行う。
従ってIOバッファ22では、タイプAバッファ44,45,46、タイプA・3ステートバッファ47が機能して各種信号の入出力を行うことになり、タイプAに相当するメモリタイプに応じた入出力バッファ動作が実現される。
従ってIOバッファ22では、タイプBバッファ48,49,50、タイプB・3ステートバッファ51が機能して各種信号の入出力を行うことになり、タイプBに相当するメモリタイプに応じた入出力バッファ動作が実現される。
この場合、IOバッファ22には、入力系として、共通バッファ81が設けられる。また出力系として、共通バッファ82が設けられる。また双方向系として、共通バッファ83と共通3ステートバッファ84が設けられる。
共通バッファ81,82,83及び共通3ステートバッファ84は、印加電圧にて電圧レンジも遅延も許容できるバッファアンプである。
バッファ用電源ライン74は、共通バッファ81,82,83及び共通3ステートバッファ84に電源供給を行う電源ラインとされる。
内部ロジック用電源ライン72は、内部ロジック30内の各部と、モード解釈部25に電源供給を行う電源ラインとされる。
モードバッファ用電源ライン73は、バッファアンプ52に電源供給を行う電源ラインとされる。
例えばその電子機器において、半導体メモリ装置1をSDRとして扱う場合、このバッファ用電源ライン74は、回路基板配線によって3.3Vの電源ラインに固定接続されることになる。一方、例えばその電子機器において、半導体メモリ装置1をDDRとして扱う場合、このバッファ用電源ライン74は、回路基板配線によって2.5Vの電源ラインに固定接続されることになる。
例えば半導体メモリ装置1をSDRとして扱う場合、バッファ用電源ライン74は3.3Vの電源ラインとされ、共通バッファ81,82,83及び共通3ステートバッファ84が3.3Vの電源電圧で動作する。また例えば半導体メモリ装置1をDDRとして扱う場合、バッファ用電源ライン74は2.5Vの電源ラインとされ、共通バッファ81,82,83及び共通3ステートバッファ84が2.5Vの電源電圧で動作する。
DC/DCコンバータ85は、共通電源ライン76からの電源電圧に対して電圧変換を行い、各電源ラインにそれぞれ所定電圧の電源供給を行う。
即ちDC/DCコンバータ85は、バッファ用電源ライン74により、共通バッファ81,82,83及び共通3ステートバッファ84に対する電源電圧供給を行う。
またDC/DCコンバータ85は、モードバッファ用電源ライン73により、バッファアンプ52に対する電源電圧供給を行う。
またDC/DCコンバータ85は、内部ロジック用電源ライン72により、内部ロジック30、モード解釈部25に対する電源電圧供給を行う。
これにより共通バッファ81,82,83及び共通3ステートバッファ84が、SDRに応じた入出力バッファ動作を行う。
これにより共通バッファ81,82,83及び共通3ステートバッファ84が、DDRに応じた入出力バッファ動作を行う。
本実施の形態の半導体メモリ装置1の構成を図2に示したが、半導体メモリ装置1としては、他の構成例も考えられる。図15に他の構成例を例示する。なお、図2と同一部分は同一符号を付し、説明を省略する。
即ち、SDR−IFモジュール21a用のIOバッファ22a、DDR−IFモジュー21b用のIOバッファ22b、DDR2−IFモジュール21c用のIOバッファ22c、DDR3−IFモジュー21d用のIOバッファ22d、DDR(n)−IFモジュール21e用のIOバッファ22e、SRAM−IFモジュール21f用のIOバッファ22f、DPRAM−IFモジュール21g用のIOバッファ22g、FIFO−IFモジュール21h用のIOバッファ22hが設けられる。
また、システムクロックCLKに対応する入力バッファ22iが設けられ、システムクロックCLKは入力バッファ22iを介してPLL部24に供給される。
またモード指示信号Mdに対応する入力バッファ22jが設けられ、モード指示信号Mdは入力バッファ22jを介してモード解釈部25に供給される。
例えばSDR−IFモジュール21aに対応するIOバッファ22aは、コマンドCMDの入力端子及び入力バッファと、データ入力DQinについての入力端子及び入力バッファと、データ出力DQoutについての出力端子及び出力バッファを有する。もちろんIOバッファ22a内の各バッファは、SDRに応じた電気特性とされる。
また例えばDDR−IFモジュール21bに対応するIOバッファ22bは、コマンドCMDの入力端子及び入力バッファと、データ入力DQinについての入力端子及び入力バッファと、データ出力DQoutについての出力端子及び出力バッファと、データストローブ信号DQSについての入出力端子及び入出力バッファを有する。もちろんIOバッファ22b内の各バッファは、DDRに応じた電気特性とされる。
当然、モード指示信号MdはDDRモードを示す信号とされ、モード解釈部25はDDRモードとしてのモード信号SmdをPLL部24に与える。これによりPLL部24はDDR−IFモジュール21bに処理クロック群を与えてDDR−IFモジュール21bを機能させるとともに、他のインターフェースモジュール21a、21c〜21hについてはクロック供給を停止し、動作オフ状態とさせる。
これにより、半導体メモリ装置1はDDRとして機能する。
そしてこの構成の場合、図2で示したセレクタ23は不要となる。
この図17の構成は、モード指示信号Mdの入力系やモード解釈部25を持たず、モード信号Smdによる切換制御を不要とすることができる構成である。
上記図15と同様、IOバッファ22a〜22hは、それぞれインターフェースモジュール21a〜21hに対応して専用に設けられているため、この半導体メモリ装置1をどのメモリタイプで使用するかにより、メモリコントローラ100と接続するIOバッファ22を選択すればよい。
PLL部24は、モード信号Smdによるクロック供給の切換を行わない。従って、常時全てのインターフェースモジュール21a〜21hに、それぞれ必要な処理クロックを供給する構成とすればよい。
例えば或るメモリタイプのメモリを搭載している電子機器において、そのメモリタイプのメモリの供給が不安定になった場合、そのメモリを半導体メモリ装置1に置き換え、それまでのメモリと同様の動作を実行させることで、メモリ制御回路や周辺回路の設計変更なしに、引き続き機器製造を継続できる。
また、新規に電子機器の設計を行う場合には、搭載するメモリチップとして半導体メモリ装置1を採用することで、自由度の高い設計や効率的な設計が可能となり、また将来メモリ自体の仕様変更(メモリタイプの変更)を行いたい場合にも容易に対応できることになる。
搭載するインターフェースモジュール21は、少なくとも2つ以上であり、少なくとも2種類以上のメモリタイプとして機能できるようにすればよい。
Claims (4)
- 情報記憶領域として形成されるメモリアレイ部と、外部のメモリ制御装置と上記メモリアレイ部との間のインターフェースを行うインターフェース部とが、パッケージ内に封入されて設けられているとともに、
上記インターフェース部は、
少なくともメモリタイプとしてのSDR、DDR、DDR2〜DDR(n)、SRAM、DPRAM、FIFOのいずれかに対応するインターフェースモジュールを含む、複数のメモリタイプにそれぞれ対応した複数のインターフェースモジュールと、
外部のメモリ制御装置に対しての信号の入出力を行う入出力バッファ部と、
上記複数のインターフェースモジュールのうちで上記入出力バッファ部と接続する1つのインターフェースモジュールを選択するセレクタと、
上記外部のメモリ制御装置から供給されるシステムクロックに基づいて、上記複数のインターフェースモジュールのうち上記セレクタで選択されたインターフェースモジュールが用いる複数の処理クロックを生成し、当該インターフェースモジュールの上記複数の処理クロックごとの出力用接続端子と接続して該処理クロックを供給するクロック生成部と、
入力されるモード指定信号から、上記メモリタイプの別を示すモードの解釈を行うモード解釈部と、
が設けられ、
上記クロック生成部は、上記セレクタで選択されない他のインターフェースモジュールの複数の処理クロックごとの出力用接続端子を固定電圧端子と接続するように接続状態を切り換え、
上記複数のインターフェースモジュールのうちで上記モード解釈部で解釈されたメモリタイプのモードに応じて上記セレクタで選択されたインターフェースモジュールと、上記外部のメモリ制御装置との間の信号伝送が上記入出力バッファ部を介して行われ、
上記セレクタで選択されたインターフェースモジュールが、上記メモリアレイ部に対する書込又は読出のアクセス処理を実行するように形成されている
半導体メモリ装置。 - 上記メモリアレイ部と、上記インターフェース部とは、1つのシリコンダイ上に形成された状態でパッケージ内に封入されている請求項1に記載の半導体メモリ装置。
- 上記メモリアレイ部と、上記インターフェース部とは、それぞれ個別のシリコンダイ上に形成され、結線された状態でパッケージ内に封入されている請求項1に記載の半導体メモリ装置。
- 情報記憶領域として形成されるメモリアレイ部と、外部のメモリ制御装置と上記メモリアレイ部との間のインターフェースを行うインターフェース部とが、パッケージ内に封入されて設けられているとともに、
上記インターフェース部は、
少なくともメモリタイプとしてのSDR、DDR、DDR2〜DDR(n)、SRAM、DPRAM、FIFOのいずれかに対応するインターフェースモジュールを含む、複数のメモリタイプにそれぞれ対応した複数のインターフェースモジュールと、
外部のメモリ制御装置に対しての信号の入出力を行う入出力バッファ部と、
上記複数のインターフェースモジュールのうちで上記入出力バッファ部と接続する1つのインターフェースモジュールを選択するセレクタと、
上記外部のメモリ制御装置から供給されるシステムクロックに基づいて、上記複数のインターフェースモジュールのうち上記セレクタで選択されたインターフェースモジュールが用いる複数の処理クロックを生成し、当該インターフェースモジュールの上記複数の処理クロックごとの出力用接続端子と接続して該処理クロックを供給するクロック生成部と、
入力されるモード指定信号から、上記メモリタイプの別を示すモードの解釈を行うモード解釈部と、
が設けられている半導体メモリ装置の動作方法として、
接続される外部のメモリ制御装置の仕様に合致するメモリタイプとして上記モード解釈部で解釈されたメモリタイプのモードに応じて上記セレクタにより上記複数のインターフェースモジュールのうちの1つが選択され、
上記セレクタで選択されない他のインターフェースモジュールの複数の処理クロックごとの出力用接続端子を固定電圧端子と接続するように接続状態を切り換え、
選択されたインターフェースモジュールが、上記入出力バッファ部を介して上記外部のメモリ制御装置との間の信号伝送を行い、
該選択されたインターフェースモジュールが、上記外部のメモリ制御装置からの書込又は読出の要求に応じて、上記メモリアレイ部に対して書込又は読出のアクセス処理を実行する
半導体メモリ装置の動作方法。
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