JP4503270B2 - プラズマ処理容器内部材 - Google Patents
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Description
前記第1の観点において、前記封孔処理は、周期律表第3a族に属する元素から選択されたものを用いて行うことが好ましい。
本発明の第2の観点では、基材と、その表面に形成された被膜とを有するプラズマ処理容器内部材であって、前記被膜は、セラミックスの溶射によって形成された主層と、B、Mg、Al、Si、Ca、Cr、Y、Zr、Ta、CeおよびNdからなる群から選択された元素を含むセラミックスからなるバリアコート層とを有し、前記バリアコート層は、その前記基材との接合面側のみが樹脂によって封孔処理された溶射被膜であることを特徴とする、プラズマ処理容器内部材を提供する。
前記第2の観点において、前記樹脂としては、SI、PTFE、PI、PAI、PEI、PBI、およびPFAからなる群から選択されたものが好適である。
図1は、本発明の対象となるプラズマ処理容器内部材を有するプラズマ処理装置であるプラズマエッチング処理装置の一例を示す縦断面図である。図中2は処理容器をなす真空チャンバであり、アルミニウムなどの導電性材料により気密構造をなすように形成されており、真空チャンバ2は保安接地されている。また、真空チャンバ2の内面には、円筒形状のデポシールド2aが配置され、内面がプラズマにより損傷されるのを防止する。そして、真空チャンバ2内には、上部電極を兼用するガスシャワーヘッド3と、下部電極を兼用する載置台4とが対向して設けられており、底面には、たとえばターボ分子ポンプやドライポンプなどからなる真空排気手段21と連通する真空排気路としての排気管22が接続される。また、真空チャンバ2の側壁部には、被処理体たとえば半導体ウエハWを搬入出するための開口部23が形成され、ゲートバルブGにより開閉自在とされている。この側壁部の外方には、開口部23を上下に挟む位置に、たとえば夫々リング状をなす永久磁石24,25が設けられている。
(1)第1の実施形態
このような処理容器内部材として基材の上に溶射被膜を形成したものを用いた場合、従来、溶射被膜の剥がれが生じていたが、本発明者らの検討結果によれば、プラズマ処理容器内部材の溶射被膜の剥がれは、溶射被膜の貫通気孔(微細孔)、溶射被膜との境界部、あるいは、プラズマやガス等により損傷した部位などから、プロセスガスや洗浄液が侵入し基材に到達して、基材表面が腐食することにより発生することに想到した。
まず、第1の例に係るプラズマ処理容器内部材は、図2に示すように、基本的に、基材71と、その表面に形成された被膜72とからなる。被膜72は、溶射によって形成された主層73と、基材71と主層との間のプロセスガスまたは洗浄液に曝されても腐食し難いバリア機能を有するバリアコート層74とを有している。
第2の例では、図4の(a)、(b)、(c)に示すように、基材71の表面に、セラミックスの溶射により被膜76を形成し、被膜76の少なくとも一部分に封孔処理部76aを形成するようにしている。図4の(a)の例では、被膜76の基材71側に封孔処理部76aを形成しており、図4の(b)の例では、被膜76の表面側に封孔処理部76aを形成しており、図4(c)の例では、被膜76の全体を封孔処理部76aとしている。
第3の例では、図6の(a)、(b)に示すように、基材71の表面に、セラミックスの溶射により被膜77を形成し、被膜77を、第1のセラミックス層78と第2のセラミックス層79の2層構造とし、その少なくとも一方の少なくとも一部分に封孔処理部を形成するようにしている。図6の(a)の例では、表面側の第1のセラミックス層78に封孔処理部78aを形成しており、図6の(b)では、基材71側の第2のセラミックス層79に封孔処理部79aを形成している。
プラズマ処理容器の壁材や他のプラズマ処理容器内部材にAl2O3やY2O3を用いる場合には、空気中の水分との反応性が高いため、処理容器である真空チャンバを大気開放したときや真空チャンバをウェットクリーニングするときに水分を大量に取り込み、種々の問題を生じるが、本発明者らの検討結果によれば、Y2O3等の周期律表第3a族に属する元素を含むセラミックスに水化処理を施すことにより、またはこれら元素を含む水酸化物を形成することにより、このような不都合が解消されることを知見した。
Y2O3+H2O→Y2O3・(H2O)n→2(YOOH)→Y(OH)3…(1)
ただし、上記(1)式は価数を考慮していない。
この(1)式に示すように、水化処理により、最終的にYの水酸化物が形成される。他の周期律表第3a族に属する元素の場合も、ほぼ同様な反応によってこのような水酸化物を形成する。このような水酸化物としてはY(OH)3、Ce(OH)3、Nd(OH)3が好ましい。
水化処理は、水蒸気が豊富な環境で熱処理を行うか、沸騰した水中で処理することにより行うことができる。これにより、例えばイットリア(Y2O3)分子の周囲に数個の水分子を引きつけて結合し、安定した一つの分子集団にすることができる。このとき、水蒸気の分圧、熱処理温度、熱処理時間などがパラメーターとなる。例えば、相対湿度が90%以上の環境で100〜300℃程度の炉の中で、24時間程度、加熱処理を行うことにより安定した水酸化物を形成することができる。もし、相対湿度や熱処理温度が低い場合には、処理時間を長くすればよい。水化処理を効率的に行うためには、高温・高圧で処理することが好ましい。イットリア表面での水和反応は、基本的に室温程度でも長時間行えば十分に進行するので、上記条件以外でも、同じ最終状態を得ることができる。また、水化処理する際、純水を用いて水化処理するよりも、イオンを含む水(pH7より大きいアルカリ水)を用いて水化処理を施したほうが、疎水性がより優れたものとなる。
第2の例では、図14の(a)、(b)に示すように、基材81の表面に、被膜84を形成し、被膜84を、第1のセラミックス層85と第2のセラミックス層86の2層構造とし、その少なくとも一方の少なくとも一部分に水化処理部を形成するようにしている。図14の(a)の例では、表面側の第1のセラミックス層85に水化処理部85aを形成しており、図14の(b)では、基材81側の第2のセラミックス層86に水化処理部86aを形成している。
第3の例では、図16に示すように、基材81の表面に、被膜87を形成し、被膜87を、周期律表第3a族に属する少なくとも1種の元素を含むセラミックスからなる第1セラミックス層88と、セラミックスの溶射で形成された第2のセラミックス層89とを有し、第1セラミックス層88の表面部分に水化処理部88aが形成されている。
この実施形態に係るプラズマ処理容器内部材は、図20に示すように、周期律表第3a族に属する元素を含むセラミックス焼結体90の表面に、水化処理部91が形成されている。水化処理部91は、第2の実施形態と全く同様に形成することができ、水化処理によって周期律表第3a族に属する元素を含む水酸化物が形成される。
2a;デポシールド
3;ガスシャワーヘッド
4;載置台
42;静電チャック
43;フォーカスリング
44;排気プレート
71,81;基材
72,76,77,82,84,87;被膜
74;バリアコート層
75,83;陽極酸化被膜
76a,78a,79a;封孔処理部
82a,86a,88a,91;水化処理部
Claims (9)
- 基材と、その表面に形成された被膜とを有するプラズマ処理容器内部材であって、
前記被膜は、セラミックスの溶射によって形成された主層と、B、Mg、Al、Si、Ca、Cr、Y、Zr、Ta、CeおよびNdからなる群から選択された元素を含むセラミックスからなるバリアコート層とを有し、
前記バリアコート層は、その前記基材との接合面側のみがゾルゲル法によって封孔処理された溶射被膜であることを特徴とする、プラズマ処理容器内部材。 - 前記封孔処理は、周期律表第3a族に属する元素から選択されたものを用いて行うことを特徴とする、請求項1に記載のプラズマ処理容器内部材。
- 基材と、その表面に形成された被膜とを有するプラズマ処理容器内部材であって、
前記被膜は、セラミックスの溶射によって形成された主層と、B、Mg、Al、Si、Ca、Cr、Y、Zr、Ta、CeおよびNdからなる群から選択された元素を含むセラミックスからなるバリアコート層とを有し、
前記バリアコート層は、その前記基材との接合面側のみが樹脂によって封孔処理された溶射被膜であることを特徴とする、プラズマ処理容器内部材。 - 前記樹脂は、SI、PTFE、PI、PAI、PEI、PBI、およびPFAからなる群から選択されたものであることを特徴とする、請求項3に記載のプラズマ処理容器内部材。
- 前記バリアコート層は、B4C、MgO、Al2O3、SiC、Si3N4、SiO2、CaF2、Cr2O3、Y2O3、YF3、ZrO2、TaO2、CeO2、Ce2O3、CeF3およびNd2O3からなる群から選択された少なくとも1種のセラミックスで構成されていることを特徴とする、請求項1から請求項4のいずれか1項に記載のプラズマ処理容器内部材。
- 前記主層は、B4C、MgO、Al2O3、SiC、Si3N4、SiO2、CaF2、Cr2O3、Y2O3、YF3、ZrO2、TaO2、CeO2、Ce2O3、CeF3およびNd2O3からなる群から選択された少なくとも1種のセラミックスで構成されていることを特徴とする、請求項1から請求項5のいずれか1項に記載のプラズマ処理容器内部材。
- 前記基材と前記被膜との間に、陽極酸化被膜を有することを特徴とする、請求項1から請求項6のいずれか1項に記載のプラズマ処理容器内部材。
- 前記陽極酸化被膜は、金属塩水溶液により封孔処理されていることを特徴とする、請求項7に記載のプラズマ処理容器内部材。
- 前記陽極酸化被膜は、SI、PTFE、PI、PAI、PEI、PBI、およびPFAからなる群から選択された樹脂により封孔処理されていることを特徴とする、請求項7に記載のプラズマ処理容器内部材。
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