JP4500646B2 - 試料観察方法及び電子顕微鏡 - Google Patents
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Description
図1は、本発明による走査電子顕微鏡の例を示す模式図である。本例の走査電子顕微鏡は、3つのエネルギーフィルタ101a,101b,101cを備え、対をなすエネルギーフィルタ間にそれぞれ1つずつ二次電子検出用の電子検出器102a,102bを設置し、さらに、最も電子線源107に近いエネルギーフィルタ101cの上方に反射電子を検出する電子検出器102cを配置して、試料120から発生する電子を検出する。エネルギーフィルタの役割として、フィルタ101cは反射電子と二次電子を分離するためのフィルタであり、フィルタ101bは高エネルギー側の二次電子106bと低エネルギー側の二次電子106aを分離するフィルタであり、フィルタ101aは低エネルギー側の二次電子を検出するために二次電子を減速させるためのフィルタである。また、一次電子線を試料に照射するプリチャージによって、試料を効率よく帯電させるために、試料に負のリターディング電圧を印加するシステム103と、試料上方に正電圧を印加する電極104を備えている。また、プリチャージを実施する前から試料自身が持っている帯電電圧を計測するために、静電電位計105を備えている。
図8は、本発明による走査電子顕微鏡の他の例を示す摸式図である。本実施例においては、プリチャージ前の帯電量の事前計測において、静電電位計を用いず、電子線を用いて帯電量を測定する。
本発明の他の実施例について説明する。本実施例では、実施例1におけるプリチャージ前の帯電量の事前計測において、エネルギーフィルタ101を用いてフィルタ電圧を変更しながら電子検出器で検出される二次電子のエネルギーを求めて帯電量を計測する。
Claims (14)
- 電子顕微鏡を用いた試料観察方法において、
試料の観察箇所の帯電電圧を計測する工程と、
前記計測された帯電電圧にあわせて試料に印加するリターディング電圧を調整する工程と、
試料に一次電子線を照射しながら、エネルギーフィルタを用いて試料から発生した高エネルギーの二次電子と低エネルギーの二次電子を分離し、検出する工程と、
高エネルギーの二次電子の検出信号と低エネルギーの二次電子の検出信号を用いて前記試料の観察箇所が所望の帯電量に達したか否かを判定し、所望の帯電量になるまで一次電子線を照射して前記試料の観察箇所をプリチャージする工程と、を含み、
プリチャージによって前記試料の観察箇所を正に帯電させるべく、前記エネルギーフィルタに印加するフィルタ電圧を、プリチャージによる所望の帯電電圧増加量Vpzと、前記計測された帯電電圧Vsと、前記試料に印加するリターディング電圧Vrの和よりも高い電圧に設定することを特徴とする試料観察方法。 - 電子顕微鏡を用いた試料観察方法において、
試料の観察箇所の帯電電圧を計測する工程と、
前記計測された帯電電圧にあわせて試料に印加するリターディング電圧を調整する工程と、
試料に一次電子線を照射しながら、エネルギーフィルタを用いて試料から発生した高エネルギーの二次電子と低エネルギーの二次電子を分離し、検出する工程と、
高エネルギーの二次電子の検出信号と低エネルギーの二次電子の検出信号を用いて前記試料の観察箇所が所望の帯電量に達したか否かを判定し、所望の帯電量になるまで一次電子線を照射して前記試料の観察箇所をプリチャージする工程と、を含み、
プリチャージによって前記試料の観察箇所を負に帯電させるべく、前記エネルギーフィルタに印加するフィルタ電圧を、プリチャージによる所望の帯電電圧増加量Vpzと、前記計測された帯電電圧Vsと、前記試料に印加するリターディング電圧Vrの和よりも低い電圧に設定することを特徴とする試料観察方法。 - 請求項1又は2記載の試料観察方法において、前記計測された帯電電圧とリターディング電圧の和が設定値と等しくなるように前記リターディング電圧を調整することを特徴とする試料観察方法。
- 請求項1又は2記載の試料観察方法において、高エネルギーの二次電子を検出する第一の電子検出器の信号増幅量と低エネルギーの二次電子を検出する第二の電子検出器の信号増幅量を同一にして検出することを特徴とする試料観察方法。
- 請求項1又は2記載の試料観察方法において、観察視野を1回あるいは複数回走査して得られる高エネルギーの二次電子の検出信号の和と低エネルギーの二次電子の検出信号の和を用いて前記試料の観察箇所が所望の帯電量に達したか否かを判定することを特徴とする試料観察方法。
- 請求項1又は2記載の試料観察方法において、高エネルギーの二次電子の検出信号と低エネルギーの二次電子の検出信号の比率Rを算出し、当該比率が予め設定した値に達したときに、前記試料の観察箇所が所望の帯電量に達したと判定することを特徴とする試料観察方法。
- 請求項1又は2記載の試料観察方法において、
前記試料の観察箇所の帯電電圧の計測は、前記試料の観察箇所の高さ変化を計測する工程、電子顕微鏡の対物レンズを調整して前記高さ変化の分だけ焦点位置をずらす工程、その後さらに試料に印加するリターディング電圧を変化させて一次電子線の焦点を前記試料の観察箇所に合わせる工程を有し、前記リターディング電圧の変化量から前記帯電電圧を計測することを特徴とする試料観察方法。 - 請求項1又は2記載の試料観察方法において、静電電位計を用いて試料の複数の観察箇所の帯電電圧を計測して記憶し、前記リターディング電圧の調整にあたって前記記憶しておいた複数の帯電電圧の中から該当する観察箇所の帯電電圧を読み出すことを特徴とする試料観察方法。
- 請求項1又は2記載の試料観察方法において、前記試料の観察箇所の帯電電圧の計測にあたっては、前記試料の観察箇所の帯電が起こりにくい照射条件で試料に一次電子線を照射し、前記エネルギーフィルタを用いて帯電電圧を計測することを特徴とする試料観察方法。
- 電子線源と、
試料を保持する試料ステージと、
前記電子線源から放出された一次電子線を収束して前記試料ステージに保持された試料上に走査する電子光学系と、
試料にリターディング電圧を印加するリターディング電圧印加手段と、
一次電子線の照射によって試料から発生した二次電子の経路中に配置されたエネルギーフィルタと、
前記エネルギーフィルタを通過しない低エネルギーの二次電子を検出する第1の電子検出器と、
前記エネルギーフィルタを通過した高エネルギーの二次電子を検出する第2の電子検出器と、
前記第1の電子検出器の出力と前記第2の電子検出器の出力を処理する信号処理部と、
前記リターディング電圧印加手段及び前記エネルギーフィルタを制御する制御部と、を備え、
前記制御部は、予め計測した試料の帯電電圧とリターディング電圧の和が設定値と等しくなるように前記リターディング電圧印加手段を制御し、
前記制御部は、プリチャージによって前記試料の観察箇所を正に帯電させるべく、前記エネルギーフィルタに印加するフィルタ電圧を、プリチャージによる所望の帯電電圧増加量Vpzと、前記予め計測した帯電電圧Vsと、前記試料に印加するリターディング電圧Vrの和よりも高い電圧に設定し、
前記信号処理部は、前記第1の電子検出器と第2の電子検出器の出力を用いて試料の観察箇所が所望の帯電量に達したか否かを判定することを特徴とする電子顕微鏡。 - 電子線源と、
試料を保持する試料ステージと、
前記電子線源から放出された一次電子線を収束して前記試料ステージに保持された試料上に走査する電子光学系と、
試料にリターディング電圧を印加するリターディング電圧印加手段と、
一次電子線の照射によって試料から発生した二次電子の経路中に配置されたエネルギーフィルタと、
前記エネルギーフィルタを通過しない低エネルギーの二次電子を検出する第1の電子検出器と、
前記エネルギーフィルタを通過した高エネルギーの二次電子を検出する第2の電子検出器と、
前記第1の電子検出器の出力と前記第2の電子検出器の出力を処理する信号処理部と、
前記リターディング電圧印加手段及び前記エネルギーフィルタを制御する制御部と、を備え、
前記制御部は、予め計測した試料の帯電電圧とリターディング電圧の和が設定値と等しくなるように前記リターディング電圧印加手段を制御し、
前記制御部は、プリチャージによって前記試料の観察箇所を負に帯電させるべく、前記エネルギーフィルタに印加するフィルタ電圧を、プリチャージによる所望の帯電電圧増加量Vpzと、前記予め計測した帯電電圧Vsと、前記試料に印加するリターディング電圧Vrの和よりも低い電圧に設定し、
前記信号処理部は、前記第1の電子検出器と第2の電子検出器の出力を用いて試料の観察箇所が所望の帯電量に達したか否かを判定することを特徴とする電子顕微鏡。 - 請求項10又は11記載の電子顕微鏡において、反射電子と二次電子を分離する反射電子用エネルギーフィルタを備えることを特徴とする電子顕微鏡。
- 請求項10又は11記載の電子顕微鏡において、前記制御部は、予め計測した試料の帯電電圧とリターディング電圧の和が設定値と等しくなるように前記リターディング電圧印加手段を制御することを特徴とする電子顕微鏡。
- 請求項10又は11記載の電子顕微鏡において、前記信号処理部は、前記第1の電子検出器の検出信号と前記第2の電子検出器の検出信号の比率Rを算出し、当該比率が予め設定した値に達したときに、前記試料の観察箇所が所望の帯電量に達したと判定することを特徴とする電子顕微鏡。
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JP4843413B2 (ja) * | 2006-08-28 | 2011-12-21 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 電子線検査装置及び電子線検査方法 |
JP5117080B2 (ja) * | 2007-03-07 | 2013-01-09 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 試料観察条件設定方法及び装置、並びに試料観察方法及び装置 |
JP2008262882A (ja) * | 2007-04-16 | 2008-10-30 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線装置および荷電粒子線像生成方法 |
JP5055015B2 (ja) * | 2007-05-09 | 2012-10-24 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
JP5147327B2 (ja) * | 2007-07-31 | 2013-02-20 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子ビーム照射装置 |
JP5241168B2 (ja) * | 2007-08-09 | 2013-07-17 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 電子顕微鏡 |
JP2009099540A (ja) * | 2007-09-27 | 2009-05-07 | Hitachi High-Technologies Corp | 試料の検査,測定方法、及び走査電子顕微鏡 |
JP5368006B2 (ja) * | 2008-05-02 | 2013-12-18 | 株式会社アドバンテスト | 走査型電子顕微鏡及び試料観察方法 |
JP5055234B2 (ja) * | 2008-09-24 | 2012-10-24 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 試料帯電制御方法、及び走査電子顕微鏡 |
JP2010175249A (ja) * | 2009-01-27 | 2010-08-12 | Hitachi High-Technologies Corp | 試料高さ測定方法及び試料高さ測定装置 |
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JP5324270B2 (ja) * | 2009-03-16 | 2013-10-23 | 日本電子株式会社 | 電子線装置 |
DE112011100306B4 (de) | 2010-01-20 | 2019-06-19 | Hitachi High-Technologies Corporation | Ladungsteilchenstrahlvorrichtung |
JP5576406B2 (ja) * | 2010-01-27 | 2014-08-20 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
JP5695917B2 (ja) * | 2011-01-26 | 2015-04-08 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
JP2011243587A (ja) * | 2011-08-23 | 2011-12-01 | Hitachi High-Technologies Corp | 電子線検査装置、記憶媒体及び電子線検査方法 |
JP5948084B2 (ja) * | 2012-02-28 | 2016-07-06 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 走査電子顕微鏡 |
DE102013006535A1 (de) * | 2013-04-15 | 2014-10-30 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Raster-Partikelstrahlmikroskop mit energiefilterndem Detektorsystem |
JP7008671B2 (ja) * | 2019-09-13 | 2022-01-25 | 日本電子株式会社 | 荷電粒子線装置および分析方法 |
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Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000133194A (ja) * | 1998-10-29 | 2000-05-12 | Hitachi Ltd | 走査形電子顕微鏡 |
JP2000200579A (ja) * | 1999-01-04 | 2000-07-18 | Hitachi Ltd | 走査形電子顕微鏡 |
JP2001052642A (ja) * | 1999-08-11 | 2001-02-23 | Toshiba Corp | 走査型電子顕微鏡及び微細パターン測定方法 |
WO2001075929A1 (fr) * | 2000-03-31 | 2001-10-11 | Hitachi, Ltd. | Microscope electronique a balayage |
WO2003007330A1 (en) * | 2001-07-12 | 2003-01-23 | Hitachi, Ltd. | Sample electrification measurement method and charged particle beam apparatus |
JP2003100823A (ja) * | 2001-09-27 | 2003-04-04 | Hitachi Ltd | 荷電粒子ビームを用いた検査方法およびそれを用いた検査装置 |
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000133194A (ja) * | 1998-10-29 | 2000-05-12 | Hitachi Ltd | 走査形電子顕微鏡 |
JP2000200579A (ja) * | 1999-01-04 | 2000-07-18 | Hitachi Ltd | 走査形電子顕微鏡 |
JP2001052642A (ja) * | 1999-08-11 | 2001-02-23 | Toshiba Corp | 走査型電子顕微鏡及び微細パターン測定方法 |
WO2001075929A1 (fr) * | 2000-03-31 | 2001-10-11 | Hitachi, Ltd. | Microscope electronique a balayage |
WO2003007330A1 (en) * | 2001-07-12 | 2003-01-23 | Hitachi, Ltd. | Sample electrification measurement method and charged particle beam apparatus |
JP2003100823A (ja) * | 2001-09-27 | 2003-04-04 | Hitachi Ltd | 荷電粒子ビームを用いた検査方法およびそれを用いた検査装置 |
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