JP2011243587A - 電子線検査装置、記憶媒体及び電子線検査方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】微小ピクセルによる高感度検査を、ステージをスキャン移動させながら効率的に行える電子線検査装置、方法及び記憶媒体を提供する。
【解決手段】本発明による電子線検査装置では、検査対象物がステージ移動方向と垂直な方向に分割された非連続な2つ以上の検査領域を有する場合、電子線走査制御手段は、電子線走査手段が検査領域に挟まれた非検査領域に照射電子線を照射しないように、照射電子線の走査幅を制御する。
【選択図】図3
【解決手段】本発明による電子線検査装置では、検査対象物がステージ移動方向と垂直な方向に分割された非連続な2つ以上の検査領域を有する場合、電子線走査制御手段は、電子線走査手段が検査領域に挟まれた非検査領域に照射電子線を照射しないように、照射電子線の走査幅を制御する。
【選択図】図3
Description
本発明は、半導体ウェーハ等の検査対象物に電子線を照射して画像を取得し、検査対象物を検査する電子線検査装置及び電子線検査方法に関する。
半導体ウェーハ製造プロセスの歩留まり向上のため、さまざまな検査装置が半導体製造工程において活用されている。検査装置はそのウェーハ観察手段により、電子線式ウェーハ検査装置、明視野光学式ウェーハ検査装置、暗視野光学式ウェーハ検査装置に大別される。
電子線式ウェーハ検査装置はSEM(走査型電子顕微鏡)画像の比較により欠陥検査を行う。SEM画像を取得する方法としては、ステージをステップ&リピート移動させるとともに各ステージ停止位置にて電子線を2次元に走査して画像を取得する方法と、ステージを一定速度で一方向にスキャン移動させると同時に電子線をステージ移動方向と垂直方向に1次元走査しながら連続的に画像を取得する方法が存在するが、電子線式ウェーハ検査装置においてはスループットに優れた後者の方法が主に利用されている。
後者の方法に係る電子線式ウェーハ検査装置は、通常のSEMの100倍以上(10nA以上)の電子線を導電性基板に照射し、発生する2次電子・反射電子・透過電子のいずれかを検出して、その信号から形成される画像を隣接する同一パターン間にて比較検査するものである(特許文献1)。ステップ&リピート移動ではステージの移動時間により検査時間が長くなる問題があるため、電子線式検査装置においてはステージをスキャン移動させると同時に電子線をステージ移動方向と垂直方向に1次元走査しながら連続的に画像を取得するのである。
ところで、特許文献1に開示の電子線検査装置では、スキャン移動のスピードは(検査ピクセルサイズ×電子線走査の走査周波数)によって決まる。ここで、ピクセルサイズとは、あるエリアの画像を取るときにどの位の間隔(距離)でそのエリアから出てくる電子を取るかを示すものである(電子を取るときのサンプリング間隔)。このため、検査ピクセルサイズが小さい場合にはステージの移動スピードを遅く制御することになるが、300mmウェーハ対応の長い移動距離を有するステージを低速領域にて一定速度で連続移動させることは技術的(機構的・物理的に限界があるため)に困難である。また、ステージ速度を上げるために電子線走査の周波数を高くすることは、電子線の偏向速度の限界から困難な状況にある。
また、ステップ&リピートによる検査ではステージの移動時間により検査時間が長くなるため、ステージを連続移動させながら検査を行う必要がある。しかしながら、ステージを低速度にて高精度で連続移動させることが難しいため、ステージ速度が遅くなる小さいピクセルサイズで検査することが困難となっている。このため、大きいピクセルでの高速検査と小さいピクセルでの高感度検査を両立させるためには、小さいピクセルでの検査時にステージ速度を遅くしなくても画像を形成できる方法が必要である。
本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、微小ピクセルによる高感度検査を、ステージをスキャン移動させながら効率的に行える電子線検査装置を提供するものである。
上記課題を解決するために、本発明による電子線検査装置では、ステージをスキャン移動させる方向と同一の方向(水平方向)にて電子線を走査させることで、電子線の偏向周波数の限界に関係なく走査数によりステージ移動速度が調整可能となる。ステージ移動方向に帯状のエリアの画像を連続取得するときの画像取得幅は、走査ピッチ、すなわちピクセルサイズと走査数により決まるが、例えば走査数を1/2とすることによりステージ速度を2倍とすることが可能である。
つまり、本発明による電子線検査装置は、検査対象物に電子線を照射して画像を取得し、検査対象物を検査する電子線検査装置であって、検査対象物が載置され、その検査対象物を移動させるためのステージと、照射電子線を検査対象物に対して収束させて照射し、検査対象物に対して照射電子線を走査させる電子線走査手段と、検査対象物からの2次電子を検出するための2次電子検出器と、2次電子検出器からの信号を処理する画像処理部と、電子線走査手段による照射電子線の走査方向を制御する電子線走査制御手段と、を備えている。そして、電子線走査制御手段は、電子線走査手段が、一方向に連続移動する前記ステージの移動軸と同一の軸上で、ステージの連続移動と同時に、検査対象物に照射電子線を連続走査するように制御する。
また、電子線走査制御手段は、ステージの移動方向に、照射電子線の各走査間におけるステージ移動距離分だけ照射電子線の走査開始位置をずらすように電子線走査手段を制御し、画像処理部が前記検査対象物上において長方形領域の画像を取得する。
電子線走査制御手段は、検査対象物の所定の幅においてN本の照射電子線を走査させる場合、電子線走査手段の走査幅を、N本の照射電子線の照射終了時におけるステージの移動距離と同一になるように制御する。
そして、検査対象物がステージ移動方向と垂直な方向に分割された非連続な2つ以上の検査領域を有する場合、電子線走査制御手段は、電子線走査手段が前記検査領域に挟まれた非検査領域に前記照射電子線を照射しないように、照射電子線の走査幅を制御する。
また、検査対象物がステージ移動方向と水平な方向に分割された非連続な2つ以上の検査領域を有する場合には、電子線走査制御手段は、電子線走査手段が検査領域に挟まれた非検査領域に照射電子線を照射しないように、照射電子線の照射開始位置を制御する。
さらに、電子線走査制御手段は、電子線走査手段による前記照射電子線の走査を、画像を取得するための画像取得照射部と検査対象物に電位差を生じさせるための事前照射部とで構成されるように制御し、画像処理部は、画像取得照射部からの信号を用いて画像を生成する。
また、画像処理部は、さらに事前照射部からの信号を用いて画像を生成し、この生成された画像と事前照射部と同一部位における画像取得照射部の取得画像とを重ね合わせることによりS/Nを向上させる。
さらなる本発明の特徴は、以下本発明を実施するための最良の形態および添付図面によって明らかになるものである。
本発明の電子線検査装置及び電子線検査方法によれば、微小ピクセルによる高感度検査を、ステージをスキャン移動させながら効率的に行うことができるようになる。また、微笑ピクセルの高感度検査も効率的に行えるので、大きいピクセルでの高速検査と小さいピクセルでの高感度検査を両立させることができるようになる。
以下、本発明の実施形態について添付図面を参照しながら詳細に説明する。
<実施形態>
図1は、本発明の実施形態に係る電子線検査装置(電子線式ウェーハ検査装置)100の概略構成を示す図である。電子線検査措置100は、電子光学系であるカラム1と、XYステージ2と、ビーム走査コントローラ11と、ステージコントローラ12と、画像処理ユニット13と、制御PC(CPU、ROM及びRAMを含む)14で構成される。
<実施形態>
図1は、本発明の実施形態に係る電子線検査装置(電子線式ウェーハ検査装置)100の概略構成を示す図である。電子線検査措置100は、電子光学系であるカラム1と、XYステージ2と、ビーム走査コントローラ11と、ステージコントローラ12と、画像処理ユニット13と、制御PC(CPU、ROM及びRAMを含む)14で構成される。
カラム1は、照射電子9を発生させるための電子銃3と、照射電子9をウェーハ8に対して収束させて照射するためのコンデンサレンズ4及び対物レンズ5と、照射電子9をウェーハ8に対して走査させるディフレクタ6と、ウェーハ8からの2次電子10を検出するための2次電子検出器7とを有している。ディフレクタ6は、ビーム走査コントローラ11からの信号に従って照射電子9をウェーハ8に対して走査させる。
XYステージ2は、ステージコントローラ12からの信号に従ってカラム1に対してウェーハ8を移動させる。また、2次電子検出器7からの信号は画像処理ユニット13に送られ、ビーム走査コントローラ11ならびにステージコントローラ12からの位置情報とリンクさせることで欠陥検出のための画像処理が実行される。また、装置全体は制御PC14によって制御される。
図2は、従来の電子線検査装置の検査方法(スキャン方法)を示している。照射電子21は、図に示されていないディフレクタによりX方向に連続走査されながらウェーハ22に照射される。このとき、図に示されていないステージによりウェーハ22を矢印23のようにY方向にスキャンさせることにより、照射電子21は矢印24で示される軌跡にて前記ウェーハ22上に照射される。このように、従来の検査は、ウェーハ22の移動方向と垂直(X方向)に電子線をスキャンさせることによって実行されている。
次に、図3を用いて本発明の実施形態による電子線検査装置の検査方法を説明する。図3において、照射電子25は、図に示されていないディフレクタによりY方向に連続走査されながらウェーハ26に照射されるが、電子線走査方法の詳細については図4以降にて説明する。また、図に示されていないステージによりウェーハ26を矢印27のようにY方向にスキャンさせることにより、照射電子25は矢印28で示される軌跡にて前記ウェーハ26上に照射される。このように、本発明による検査は、ウェーハ26の移動方向と同じ軸上(Y方向)で電子線をスキャンさせることによって実行される。
本発明の検査方法におけるウェーハ上での照射電子の軌跡を図4に示す。ウェーハがXYステージによりカラムに対して矢印31の方向(図で上から下方向)に移動(走査)された場合、ウェーハ上での照射電子の照射位置は矢印31と反対方向(図で下から上方向)に移動していく。また、走査線(1)から(6)の順にビームを走査することにより、X方向(幅)A、Y方向(長さ)Bの長方形のエリアをカバーし、(6)の走査後には(7)により次の長方形エリアの走査を開始する。ここで、(1)の走査開始から(7)の走査開始までのステージの移動距離がBになるようにステージ速度を設定することにより(1)と(7)のカラム内での走査位置を同一にすることができる。
次にカラムでの照射電子の軌跡を図5により説明する。図5において、ウェーハはカラムに対してXYステージにより矢印32で示される方向に移動(走査)されるとする。ウェーハ上でX方向(幅)A、Y方向(長さ)Bの長方形のエリアに照射電子を当てるためにはステージの移動を考慮して照射電子を走査する必要があるため、図に示されている走査線(1)から(6)までステージの移動方向に走査位置をずらしながら順次走査する。ここで、走査線(1)と(2)間での走査位置のY方向オフセットは、「B/6」になり、(2)と(3)の間、(3)と(4)の間、(4)と(5)の間、(5)と(6)の間も同様となる。このようにすれば、(6)の走査終了後幅Aだけビームの走査位置をX方向にずらせば(7)の走査開始位置にビームが位置するようになる。
なお、図4および図5での説明において、幅Aのエリアをカバーするための走査数を図の簡略化のため6本としたが、これに限定されるものではなく、例えば長方形のエリアをカバーする走査数として1000本以上を用いることも可能である。
メモリデバイスの検査においては、メモリセルエリアのみを検査範囲とする場合がある。従来の検査方法においては、メモリ間の非検査エリアを含めて2次電子画像を取得した後に画像処理ユニットにおいて検査領域のみを処理していたため、非検査エリアの走査時間分だけ検査時間が余分に掛かかっていた。本発明の検査方法においてはメモリセルのみを走査することが可能であり、その方法(概念)を図6ならびに図7により説明する。
図6においてメモリセル41とメモリセル42にまたがる部分を1回のステージスキャンで検査する場合、走査線(1)と(2)により前記メモリセル41内を走査した後、走査線(3)と(4)により前記メモリセル42内を走査する。(2)と(3)間の距離が開いているが、(1)から(4)までの全体の距離Aがカラムの走査可能距離以内である限りは問題にならない。ウェーハがXYステージによりカラムに対して矢印43の方向(図で上から下方向)にスキャンされるとすると、ウェーハ上での照射電子の照射位置は矢印43と反対方向(図で下から上方向)に移動していくため、(4)に続いて(5)を走査することで連続的に長方形のエリアをカバーすることができる。ここで、(1)の走査開始から(5)の走査開始までのステージの移動距離がBになるようにステージ速度を設定することにより(1)と(5)のカラム内での走査位置を同一にすることができる。
次にステージのスキャン方向に分割されたメモリセル領域を検査する場合を図7により説明する。走査線(1)から(4)の走査によりメモリセル44内を検査した後に走査線(5)から(8)によりメモリセル45内を検査する。ここで、(1)の走査の終点と(5)の走査の始点の間に間隔を空けることにより、メモリセル44とメモリセル45の間の領域を走査しないようにする。また同様にして、(8)の走査後に(9)から(12)の走査によりメモリセル46内の検査を行う。このとき、ステージ走査方向のメモリセルの幅をB、メモリセル間の間隔をCとすると、(1)の走査開始から(5)の走査開始までのステージの移動距離がB+Cになるようにステージ速度を設定することにより(1)と(5)のカラム内での走査位置を同一にすることができる。なお、従来の垂直走査(ステージ移動方向と垂直にビーム走査)の場合には、走査の幅が一定にならざるを得ないので、走査する必要のない領域を飛ばして走査することが困難である。よって、本発明のような走査方法は非常に有効である。
ところで、電子線検査装置においては、ウェーハ表面に電位コントラストを形成するために事前にビームを照射する場合がある。従来の検査方法では、事前のビーム照射時と検査時の2回にわたって同一領域のステージスキャンを行う必要があったが、本発明では1回のステージ走査で事前のビーム照射(電位差を作るためのダミーの照射)を行うことが可能となる。つまり、図8において、走査線(1)から(4)の走査により長方形のエリアを検査した後、走査線(5)から(8)の走査により次の長方形のエリアを検査するとする。(1)から(8)の各ビーム走査において各走査の前半を画像取り込み部51、各走査の後半を事前ビーム照射部52とし、事前ビーム照射部52では画像の取り込みは行わないダミースキャンとする。ここで、(5)の走査の画像取り込み部51は、(1)の走査の事前ビーム照射部により事前のビーム照射がなされているために画像取得時には十分な電位コントラストが形成されている。同様にして、(6)は(2)により、(7)は(3)により、(8)は(4)により事前のビーム照射がなされ、(5)から(8)では次の長方形検査エリアのための事前ビーム照射がなされる。また、事前ビーム照射部においても画像取得することも可能であり、例えば(1)の事前ビーム照射部での取得画像と(5)の画像取り込み部での取得画像を重ねあわせることによりS/Nを向上させることができる。
以下、図9および図10のフローチャートを用いて、本発明の電子線検査装置(電子線式ウェーハ検査装置)における検査処理動作について説明する。まず、図9により全体の流れを説明する。図示されていないGUIによりオペレータより検査開始のコマンドが入力されると、制御PC14はハードディスク等の大容量記憶媒体よりレシピ情報を読み出して、高速読み出し可能なSRAM等の別の記憶媒体へレシピ情報を記憶させる(S61)。このレシピ情報には、検査対象物の形状やその対象物のどの部分を検査するかについての情報(例えば、図6や7に示されるような検査対象エリアと非検査対象エリアの情報)が含まれる。通常の電子線式ウェーハ検査においては複数回のSwath(ステージ移動)により検査エリア全体をカバーするが、取得したレシピ情報に基づいて必要なSwath数および各Swathにおける検査エリアの計算を行う(S62)。ここで、必要なSwath数がN個の場合、Swath実行(S63)をN回繰り返す必要があるが、各Swath終了時に現在何回目が終了したのかを確認し(S64)、N−1回目までであれば次のSwathを実行し、N回目であれば検査を終了する(S65)。
次に図10により各Swathにおける処理動作について説明する。制御PC14は、実行すべきSwathの検査エリアとステージ移動位置等の情報を取得し(S70)、取得した情報からビーム走査方法を計算してビーム走査コントローラ11へ結果を転送する(S71)。例えば、図4におけるビーム走査の幅Bを決定し、或いは、図6において走査(2)の終了後走査開始位置を(3)の位置にするように電子線走査を制御する。さらに、画像処理実行エリアの計算をして画像処理ユニット13へ結果を転送する(S72)とともに、ステージの移動速度を計算してステージコントローラ12へ結果を転送する(S73)。
ビーム走査コントローラ11は、制御PC14より受け取った情報に基づいてビーム走査の準備を行い、準備完了のコマンドを制御PC14へ伝送する(S74)。同様に、ステージコントローラ12および画像処理ユニット13は、ステージ移動や画像処理の準備を行い、準備完了のコマンドを制御PC14へ伝送する(S75、S76)。
制御PC14は、ビーム走査コントローラ11とステージコントローラ12と画像処理ユニット13から準備完了のコマンドを受け取ったことを確認した後、Swath開始命令を発行し(S77)、ステージコントローラ12によるステージ移動(S78)とビーム走査コントローラ11によるビーム走査(S79)と画像処理ユニット13による画像処理(S80)を実行する。ステージコントローラ12は、ステージ2が移動終了位置に達したことを確認した後、制御PC14とビーム走査コントローラ11に対してステージ移動終了コマンドを発行する(S81)。
ビーム走査コントローラ11は、ステージコントローラ12からのステージ移動終了コマンドによりビーム走査を終了する(S82)。また、画像処理が終了すると、画像処理ユニット13は制御PC14に対して画像処理終了コマンドを発行する(S83)。制御PC14は、ステージ移動終了コマンドと画像処理終了コマンドを受け取ったことを確認した後に現在のSwathの終了処理を行う(S84)。
なお、実施形態の機能を実現するソフトウェアのプログラムコードによっても本発明は実現できる。この場合、プログラムコードを記録した記憶媒体をシステム或は装置に提供し、そのシステム或は装置のコンピュータ(又はCPUやMPU)が記憶媒体に格納されたプログラムコードを読み出す。この場合、記憶媒体から読み出されたプログラムコード自体が前述した実施形態の機能を実現することになり、そのプログラムコード自体、及びそれを記憶した記憶媒体は本発明を構成することになる。このようなプログラムコードを供給するための記憶媒体としては、例えば、フロッピィ(登録商標)ディスク、CD−ROM、DVD−ROM、ハードディスク、光ディスク、光磁気ディスク、CD−R、磁気テープ、不揮発性のメモリカード、ROMなどが用いられる。
また、プログラムコードの指示に基づき、コンピュータ上で稼動しているOS(オペレーティングシステム)などが実際の処理の一部又は全部を行い、その処理によって前述した実施の形態の機能が実現されるようにしてもよい。さらに、記憶媒体から読み出されたプログラムコードが、コンピュータ上のメモリに書きこまれた後、そのプログラムコードの指示に基づき、コンピュータのCPUなどが実際の処理の一部又は全部を行い、その処理によって前述した実施の形態の機能が実現されるようにしてもよい。
また、実施の形態の機能を実現するソフトウェアのプログラムコードがネットワークを介して配信されることにより、システム又は装置のハードディスクやメモリ等の記憶手段又はCD-RW、CD-R等の記憶媒体に格納され、そのシステム又は装置のコンピュータ(又はCPUやMPU)が当該記憶手段や当該記憶媒体に格納されたプログラムコードを読み出して実行することによっても、達成されるようにしてもよい。
<まとめ>
本実施形態では、一方向に連続移動するステージの移動軸と同一の軸上で、ステージの連続移動と同時に、検査対象物(ウェーハ)に対して照射電子線を連続走査するようにしているので、微小ピクセルによる高感度検査を効率的行うことができる。従って、本実施形態による電子線検査装置は、大きいピクセルでの高速検査と小さいピクセルでの高感度検査の両方に対応できるようになる。
本実施形態では、一方向に連続移動するステージの移動軸と同一の軸上で、ステージの連続移動と同時に、検査対象物(ウェーハ)に対して照射電子線を連続走査するようにしているので、微小ピクセルによる高感度検査を効率的行うことができる。従って、本実施形態による電子線検査装置は、大きいピクセルでの高速検査と小さいピクセルでの高感度検査の両方に対応できるようになる。
また、本実施形態の電子線検査装置では、ステージの移動方向に、照射電子線の各走査間におけるステージ移動距離分だけ照射電子線の走査開始位置をずらすようにして、検査対象物上において長方形領域の画像を取得するようにしている。さらに、検査対象物の所定の幅においてN本の照射電子線を走査させる場合、照射電子線の走査幅を、N本の照射電子線の照射終了時におけるステージの移動距離と同一になるようにしている。よって、その長方形領域の走査が終了したときに、照射電子線を走査幅分だけ真横に移動させれば次の長方形領域における最初の走査開始位置に照射電子線を配置することができ、電子線の照射位置の制御が非常に容易となる。
さらに、検査対象物がステージ移動方向と垂直な方向に分割された非連続な2つ以上の検査領域を有する場合、検査領域に挟まれた非検査領域に照射電子線を照射しないように、照射電子線の走査幅を制御する。また、検査対象物がステージ移動方向と水平な方向に分割された非連続な2つ以上の検査領域を有する場合、検査領域に挟まれた非検査領域に照射電子線を照射しないように、照射電子線の照射開始位置を制御する。よって、非検査領域に電子線を無駄に照射することもなく、検査領域(メモリセル)のみに電子線を照射することができるので、検査領域のみの明瞭な画像を取得することができる。
また、照射電子線の走査を、画像を取得するための画像取得照射部と検査対象物に電位差を生じさせるための事前照射部とで構成し、画像取得照射部からの信号を用いて画像を生成する。このように、最初に事前照射によって画像取得部分の電位を上げることができるので、十分な電位コントラストを有する画像の取得が可能となる。さらに、事前照射部からの信号をも用いて画像を生成し、この生成された画像と、この事前照射部と同一部位(対応する部位)における画像取得照射部の取得画像とを重ね合わせることによりS/Nを向上させることが可能となる。
1・・・カラム、2・・・XYステージ、3・・・電子銃、4・・・コンデンサレンズ、5・・・対物レンズ、6・・・ディフレクタ、7・・・2次電子検出器、8・・・ウェーハ、9・・・照射電子、10・・・2次電子、11・・・ビーム走査コントローラ、12・・・ステージコントローラ、13・・・画像処理ユニット、14・・・制御PC、21・・・照射電子、22・・・ウェーハ、23・・・矢印、24・・・矢印、25・・・照射電子、26・・・ウェーハ、27・・・矢印、28・・・矢印、31・・・矢印、32・・・矢印、41・・・メモリセル、42・・・メモリセル、43・・・矢印、44・・・メモリセル、45・・・メモリセル、46・・・メモリセル、51・・・画像取り込み部、52・・・事前ビーム照射部
Claims (9)
- 検査対象物に電子線を照射して画像を取得し、前記検査対象物を検査する電子線検査装置であって、
前記検査対象物が載置され、その検査対象物を移動させるためのステージと、
電子銃で発生した照射電子線を前記検査対象物に対して収束させて照射し、前記検査対象物に対して前記照射電子線を走査させる電子線走査手段と、
前記検査対象物からの2次電子を検出するための2次電子検出器と、
前記2次電子検出器からの信号を処理する画像処理部と、
前記電子線走査手段による前記照射電子線の走査方向を制御する電子線走査制御手段と、を備え、
前記検査対象物がステージ移動方向と垂直な方向に分割された非連続な2つ以上の検査領域を有する場合、前記電子線走査制御手段は、前記電子線走査手段が前記検査領域に挟まれた非検査領域に前記照射電子線を照射しないように、前記照射電子線の走査幅を制御することを特徴とする電子線検査装置。 - 検査対象物に電子線を照射して画像を取得し、前記検査対象物を検査する電子線検査装置であって、
前記検査対象物が載置され、その検査対象物を移動させるためのステージと、
電子銃で発生した照射電子線を前記検査対象物に対して収束させて照射し、前記検査対象物に対して前記照射電子線を走査させる電子線走査手段と、
前記検査対象物からの2次電子を検出するための2次電子検出器と、
前記2次電子検出器からの信号を処理する画像処理部と、
前記電子線走査手段による前記照射電子線の走査方向を制御する電子線走査制御手段と、を備え、
前記検査対象物がステージ移動方向と水平な方向に分割された非連続な2つ以上の検査領域を有する場合、前記電子線走査制御手段は、前記電子線走査手段が前記検査領域に挟まれた非検査領域に前記照射電子線を照射しないように、前記照射電子線の照射開始位置を制御することを特徴とする電子線検査装置。 - 検査対象物に電子線を照射して画像を取得し、前記検査対象物を検査する電子線検査装置であって、
前記検査対象物が載置され、その検査対象物を移動させるためのステージと、
電子銃で発生した照射電子線を前記検査対象物に対して収束させて照射し、前記検査対象物に対して前記照射電子線を走査させる電子線走査手段と、
前記検査対象物からの2次電子を検出するための2次電子検出器と、
前記2次電子検出器からの信号を処理する画像処理部と、
前記電子線走査手段による前記照射電子線の走査方向を制御する電子線走査制御手段と、を備え、
前記電子線走査制御手段は、前記電子線走査手段による前記照射電子線の走査を、画像を取得するための画像取得照射部と前記検査対象物に電位差を生じさせるための事前照射部とで構成されるように制御し、
前記画像処理部は、前記事前照射部からの信号を用いて画像を生成し、この生成された画像と前記事前照射部と同一部位における前記画像取得照射部の取得画像とを重ね合わせることを特徴とする電子線検査装置。 - 検査対象物に電子線を照射して画像を取得し、前記検査対象物を検査する電子線検査装置のコンピュータに実行させるためのプログラムコードが記憶された記憶媒体であって、
電子銃が照射電子線を発生させる工程と、
前記検査対象物が載置されたステージが、その検査対象物を移動させる工程と、
電子線走査手段が前記照射電子線を前記検査対象物に対して収束させて照射し、前記検査対象物に対して前記照射電子線を走査させる工程と、
2次電子検出器が前記検査対象物からの2次電子を検出する工程と、
画像処理部が前記2次電子検出器からの信号を処理する工程と、
電子線走査制御手段が前記電子線走査手段による前記照射電子線の走査方向を制御する工程と、を備え、
前記制御する工程において、前記検査対象物がステージ移動方向と垂直な方向に分割された非連続な2つ以上の検査領域を有する場合、前記電子線走査制御手段は、前記電子線走査手段が前記検査領域に挟まれた非検査領域に前記照射電子線を照射しないように、前記照射電子線の走査幅を制御することをコンピュータに実行させるためのプログラムコードが記憶された記憶媒体。 - 検査対象物に電子線を照射して画像を取得し、前記検査対象物を検査する電子線検査装置のコンピュータに実行させるためのプログラムコードが記憶された記憶媒体であって、
電子銃が照射電子線を発生させる工程と、
前記検査対象物が載置されたステージが、その検査対象物を移動させる工程と、
電子線走査手段が前記照射電子線を前記検査対象物に対して収束させて照射し、前記検査対象物に対して前記照射電子線を走査させる工程と、
2次電子検出器が前記検査対象物からの2次電子を検出する工程と、
画像処理部が前記2次電子検出器からの信号を処理する工程と、
電子線走査制御手段が前記電子線走査手段による前記照射電子線の走査方向を制御する工程と、を備え、
前記制御する工程において、前記検査対象物がステージ移動方向と水平な方向に分割された非連続な2つ以上の検査領域を有する場合、前記電子線走査制御手段は、前記電子線走査手段が前記検査領域に挟まれた非検査領域に前記照射電子線を照射しないように、前記照射電子線の照射開始位置を制御することをコンピュータに実行させるためのプログラムコードが記憶された記憶媒体。 - 検査対象物に電子線を照射して画像を取得し、前記検査対象物を検査する電子線検査装置のコンピュータに実行させるためのプログラムコードが記憶された記憶媒体であって、
電子銃が照射電子線を発生させる工程と、
前記検査対象物が載置されたステージが、その検査対象物を移動させる工程と、
電子線走査手段が前記照射電子線を前記検査対象物に対して収束させて照射し、前記検査対象物に対して前記照射電子線を走査させる工程と、
2次電子検出器が前記検査対象物からの2次電子を検出する工程と、
画像処理部が前記2次電子検出器からの信号を処理する工程と、
電子線走査制御手段が前記電子線走査手段による前記照射電子線の走査方向を制御する工程と、を備え、
前記制御する工程において、前記電子線走査制御手段は、前記電子線走査手段による前記照射電子線の走査を、画像を取得するための画像取得照射部と前記検査対象物に電位差を生じさせるための事前照射部とで構成されるように制御し、
前記信号を処理する工程において、前記画像処理部は、さらに前記事前照射部からの信号を用いて画像を生成し、この生成された画像と前記事前照射部と同一部位における前記画像取得照射部の取得画像とを重ね合わせることをコンピュータに実行させるためのプログラムコードが記憶された記憶媒体。 - 検査対象物に電子線を照射して画像を取得し、前記検査対象物を検査する電子線検査方法であって、
電子銃が照射電子線を発生させる工程と、
前記検査対象物が載置されたステージが、その検査対象物を移動させる工程と、
電子線走査手段が前記照射電子線を前記検査対象物に対して収束させて照射し、前記検査対象物に対して前記照射電子線を走査させる工程と、
2次電子検出器が前記検査対象物からの2次電子を検出する工程と、
画像処理部が前記2次電子検出器からの信号を処理する工程と、
電子線走査制御手段が前記電子線走査手段による前記照射電子線の走査方向を制御する工程と、を備え、
前記制御する工程において、前記検査対象物がステージ移動方向と垂直な方向に分割された非連続な2つ以上の検査領域を有する場合、前記電子線走査制御手段は、前記電子線走査手段が前記検査領域に挟まれた非検査領域に前記照射電子線を照射しないように、前記照射電子線の走査幅を制御することを特徴とする電子線検査方法。 - 検査対象物に電子線を照射して画像を取得し、前記検査対象物を検査する電子線検査方法であって、
電子銃が照射電子線を発生させる工程と、
前記検査対象物が載置されたステージが、その検査対象物を移動させる工程と、
電子線走査手段が前記照射電子線を前記検査対象物に対して収束させて照射し、前記検査対象物に対して前記照射電子線を走査させる工程と、
2次電子検出器が前記検査対象物からの2次電子を検出する工程と、
画像処理部が前記2次電子検出器からの信号を処理する工程と、
電子線走査制御手段が前記電子線走査手段による前記照射電子線の走査方向を制御する工程と、を備え、
前記制御する工程において、前記検査対象物がステージ移動方向と水平な方向に分割された非連続な2つ以上の検査領域を有する場合、前記電子線走査制御手段は、前記電子線走査手段が前記検査領域に挟まれた非検査領域に前記照射電子線を照射しないように、前記照射電子線の照射開始位置を制御することを特徴とする電子線検査方法。 - 検査対象物に電子線を照射して画像を取得し、前記検査対象物を検査する電子線検査方法であって、
電子銃が照射電子線を発生させる工程と、
前記検査対象物が載置されたステージが、その検査対象物を移動させる工程と、
電子線走査手段が前記照射電子線を前記検査対象物に対して収束させて照射し、前記検査対象物に対して前記照射電子線を走査させる工程と、
2次電子検出器が前記検査対象物からの2次電子を検出する工程と、
画像処理部が前記2次電子検出器からの信号を処理する工程と、
電子線走査制御手段が前記電子線走査手段による前記照射電子線の走査方向を制御する工程と、を備え、
前記制御する工程において、前記電子線走査制御手段は、前記電子線走査手段による前記照射電子線の走査を、画像を取得するための画像取得照射部と前記検査対象物に電位差を生じさせるための事前照射部とで構成されるように制御し、
前記信号を処理する工程において、前記画像処理部は、さらに前記事前照射部からの信号を用いて画像を生成し、この生成された画像と前記事前照射部と同一部位における前記画像取得照射部の取得画像とを重ね合わせることを特徴とする電子線検査方法。
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- 2011-08-23 JP JP2011181533A patent/JP2011243587A/ja active Pending
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