JP2005345272A - 試料像取得方法及び走査電子顕微鏡 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 試料の表面電界強度や画像取得時の一次電子ビームの走査方法を制御する事で、一次電子ビーム照射によって生成される帯電を緩和若しくは安定化し、一次電子ビームの照射によって生成される動的な帯電の影響を受けにくくする。
【選択図】 図8
Description
1.試料から放出された二次電子が試料に引き戻される事によって生じる局所的な輝度の低下
2.試料から放出された二次電子の軌道の変化から生じる局所的な検出効率の変動
3.一次電子ビームが偏向される事によって生じる局所的な倍率変動。
・走査方向を画像取得時の走査方向に対し、90°回転した走査方法
・走査方向を画像取得時の走査方向に対し、180°回転した走査方法
・画像取得時の倍率よりも低倍率の走査方法
・一次電子ビームを任意の方向に傾斜した走査方法
F(Xscan)=Aexp(-(Xscan/b)a)+C
ただしA,a,b,Cはフィッティングパラメータである。
Claims (10)
- 走査電子顕微鏡を用いた試料観察方法において、
試料の表面電界強度を一定にした条件で複数の試料像を取得し、前記複数の試料像から試料上の所定のパターンの寸法変動量を求めるステップと、
前記表面電界強度を変化させて前記ステップを反復し、前記表面電界強度と前記寸法変動量の間の関係を求めるステップと、
前記関係から前記寸法変動量が小さい表面電界強度を求めるステップと、
求めた表面電界強度を走査電子顕微鏡に設定して試料像を観察するステップと、
を有することを特徴とする試料観察方法。 - 請求項1記載の試料観察方法において、試料に印加する負のリターディング電圧及び/又は走査電子顕微鏡の対物レンズに組み込んだブースタ電極に印加する正のブースタ電圧を変化させることにより試料の表面電界強度を変化させることを特徴とする試料観察方法。
- 請求項1又は2記載の試料観察方法において、前記寸法変動量が小さい表面電界強度を記憶手段に記憶するステップと、次に前記試料と同種の試料の試料像を取得する際に、前記記憶手段に記憶した表面電界強度を読み出して走査電子顕微鏡に設定するステップとを有することを特徴とする試料観察方法。
- 走査電子顕微鏡を用いた試料観察方法において、
走査方法を一定にした条件で複数の試料像を取得し、各前記複数の試料像から試料上の所定のパターンの寸法変動量を計測するステップと、
前記走査方法を変更して前記ステップを反復し、前記走査方法と前記寸法変動量の関係を求めるステップと、
前記関係から前記寸法変動量が小さい走査方法を求めるステップと、
求めた走査方法を走査電子顕微鏡に設定して試料像を観察するステップと、
を有することを特徴とする試料観察方法。 - 請求項4記載の試料観察方法において、前記走査方法は、走査方向を周期的に変更する走査方法、一次電子ビームの傾斜角度を周期的に変更する走査方法、又は1フレームもしくは複数のフレーム画像取得毎に試料に一次電子ビームを低倍率で走査する走査方法であることを特徴とする試料観察方法。
- 請求項4又は5記載の試料観察方法において、前記寸法変動量が小さい走査方法を記憶手段に記憶するステップと、次に前記試料と同種の試料の試料像を取得する際に、前記記憶手段に記憶した走査方法を読み出して走査電子顕微鏡に設定するステップとを有することを特徴とする試料観察方法。
- 走査電子顕微鏡を用いた試料観察方法において、
一次電子ビームを試料上に往復走査して試料像を得、前記試料像から試料上の所定のパターンの寸法を計測するステップと、
復路走査時の走査速度を変更して前記ステップを反復し、往路走査と復路走査の走査速度比が1の時の寸法計測値との比較で、往路走査と復路走査の最適な走査速度比を求めるステップと、
求めた走査速度比を走査電子顕微鏡に設定して試料像を観察するステップと、
を有することを特徴とする試料観察方法。 - 請求項7記載の試料観察方法において、前記最適な走査速度比を記憶手段に記憶するステップと、次に前記試料と同種の試料の試料像を取得する際に、前記記憶手段に記憶した走査速度比を読み出して走査電子顕微鏡に設定するステップとを有することを特徴とする試料観察方法。
- 電子源と、前記電子源から発生した一次電子ビームを試料上に走査する走査偏向器と、前記一次電子ビームを試料上に収束する対物レンズと、一次電子ビームの照射により試料から発生する二次電子を検出する二次電子検出器とを有し、試料の二次元走査像を得る走査電子顕微鏡において、
前記二次電子検出器は、検出器の前方に配置されたレンズ作用を有する軸対称電極と、前記一次電子ビームに対して前記軸対称電極から発生する電場を遮蔽するメッシュグランド電極と、前記メッシュグランド電極と前記軸対称電極の間に配置されたメッシュ減速電極とを備えることを特徴とする走査電子顕微鏡。 - 電子源と、前記電子源から発生した一次電子ビームを試料上に走査する走査偏向器と、前記一次電子ビームを試料上に収束する対物レンズと、一次電子ビームの照射により試料から発生する二次電子を検出する二次電子検出器を有し、試料の二次元走査像を得る走査電子顕微鏡において、
前記二次電子検出器は、前記対物レンズの中心側に前記一次電子ビームを囲むようにして配置されたシンチレータを有することを特徴とする走査電子顕微鏡。
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Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008004367A (ja) * | 2006-06-22 | 2008-01-10 | Advantest Corp | 電子ビーム寸法測定装置及び電子ビーム寸法測定方法 |
JP2008027737A (ja) * | 2006-07-21 | 2008-02-07 | Hitachi High-Technologies Corp | パターン検査・計測装置 |
JP2008282630A (ja) * | 2007-05-09 | 2008-11-20 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線装置 |
JP2009037804A (ja) * | 2007-07-31 | 2009-02-19 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子ビーム照射装置 |
JP2009192345A (ja) * | 2008-02-14 | 2009-08-27 | Hitachi High-Technologies Corp | 外観検査方法及び検査装置 |
WO2010095392A1 (ja) * | 2009-02-20 | 2010-08-26 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 試料観察方法および走査電子顕微鏡 |
WO2011105015A1 (ja) * | 2010-02-26 | 2011-09-01 | 株式会社 日立ハイテクノロジーズ | 走査電子顕微鏡の光学条件設定方法、及び走査電子顕微鏡 |
JP2012043816A (ja) * | 2011-12-02 | 2012-03-01 | Hitachi High-Technologies Corp | 試料電位情報検出方法及び荷電粒子線装置 |
US8766182B2 (en) | 2006-12-19 | 2014-07-01 | Hitachi High-Technologies Corporation | Method for detecting information of an electric potential on a sample and charged particle beam apparatus |
US9472376B2 (en) | 2012-03-28 | 2016-10-18 | Hitachi High-Technologies Corporation | Scanning electron microscope |
WO2018134870A1 (ja) * | 2017-01-17 | 2018-07-26 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 走査電子顕微鏡および走査電子顕微鏡による試料観察方法 |
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Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103217446A (zh) * | 2013-04-16 | 2013-07-24 | 内蒙古包钢钢联股份有限公司 | 镶嵌交截法 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61294748A (ja) * | 1985-06-24 | 1986-12-25 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 荷電ビ−ム照射装置 |
JPS6312146A (ja) * | 1986-07-02 | 1988-01-19 | Nec Corp | パタ−ン寸法計測方法 |
JPH02159508A (ja) * | 1988-12-12 | 1990-06-19 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 荷電ビームを用いた測定装置における照射条件決定方法およびそれに用いる評価パタン |
JPH10125271A (ja) * | 1996-10-16 | 1998-05-15 | Hitachi Ltd | 走査型電子顕微鏡 |
JP2000337846A (ja) * | 1999-05-24 | 2000-12-08 | Hitachi Ltd | 走査形電子顕微鏡による測長方法 |
JP2005037255A (ja) * | 2003-07-15 | 2005-02-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | パターン寸法測定方法およびパターン寸法測定装置 |
JP2005183881A (ja) * | 2003-12-24 | 2005-07-07 | Jeol Ltd | 荷電粒子ビームを用いた半導体ウェハ試料の検査方法および装置 |
JP2005257542A (ja) * | 2004-03-12 | 2005-09-22 | Fujitsu Ltd | 走査型電子顕微鏡を用いた測長方法 |
-
2004
- 2004-06-03 JP JP2004165547A patent/JP4418304B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61294748A (ja) * | 1985-06-24 | 1986-12-25 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 荷電ビ−ム照射装置 |
JPS6312146A (ja) * | 1986-07-02 | 1988-01-19 | Nec Corp | パタ−ン寸法計測方法 |
JPH02159508A (ja) * | 1988-12-12 | 1990-06-19 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 荷電ビームを用いた測定装置における照射条件決定方法およびそれに用いる評価パタン |
JPH10125271A (ja) * | 1996-10-16 | 1998-05-15 | Hitachi Ltd | 走査型電子顕微鏡 |
JP2000337846A (ja) * | 1999-05-24 | 2000-12-08 | Hitachi Ltd | 走査形電子顕微鏡による測長方法 |
JP2005037255A (ja) * | 2003-07-15 | 2005-02-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | パターン寸法測定方法およびパターン寸法測定装置 |
JP2005183881A (ja) * | 2003-12-24 | 2005-07-07 | Jeol Ltd | 荷電粒子ビームを用いた半導体ウェハ試料の検査方法および装置 |
JP2005257542A (ja) * | 2004-03-12 | 2005-09-22 | Fujitsu Ltd | 走査型電子顕微鏡を用いた測長方法 |
Cited By (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008004367A (ja) * | 2006-06-22 | 2008-01-10 | Advantest Corp | 電子ビーム寸法測定装置及び電子ビーム寸法測定方法 |
JP2008027737A (ja) * | 2006-07-21 | 2008-02-07 | Hitachi High-Technologies Corp | パターン検査・計測装置 |
US8766182B2 (en) | 2006-12-19 | 2014-07-01 | Hitachi High-Technologies Corporation | Method for detecting information of an electric potential on a sample and charged particle beam apparatus |
JP2008282630A (ja) * | 2007-05-09 | 2008-11-20 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線装置 |
US7714288B2 (en) | 2007-05-09 | 2010-05-11 | Hitachi High-Technologies Corporation | Charged particle beam apparatus |
JP2009037804A (ja) * | 2007-07-31 | 2009-02-19 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子ビーム照射装置 |
JP2009192345A (ja) * | 2008-02-14 | 2009-08-27 | Hitachi High-Technologies Corp | 外観検査方法及び検査装置 |
JP5222994B2 (ja) * | 2009-02-20 | 2013-06-26 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 試料観察方法および走査電子顕微鏡 |
US8309923B2 (en) | 2009-02-20 | 2012-11-13 | Hitachi High-Technologies Corporation | Sample observing method and scanning electron microscope |
WO2010095392A1 (ja) * | 2009-02-20 | 2010-08-26 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 試料観察方法および走査電子顕微鏡 |
JP2011181188A (ja) * | 2010-02-26 | 2011-09-15 | Hitachi High-Technologies Corp | 走査電子顕微鏡の光学条件設定方法、及び走査電子顕微鏡 |
US20120318977A1 (en) * | 2010-02-26 | 2012-12-20 | Hitachi High-Technologies Corporation | Scanning Electron Microscope Optical Condition Setting Method and Scanning Electron Microscope |
WO2011105015A1 (ja) * | 2010-02-26 | 2011-09-01 | 株式会社 日立ハイテクノロジーズ | 走査電子顕微鏡の光学条件設定方法、及び走査電子顕微鏡 |
US8692197B2 (en) | 2010-02-26 | 2014-04-08 | Hitachi High-Technologies Corporation | Scanning electron microscope optical condition setting method and scanning electron microscope |
JP2012043816A (ja) * | 2011-12-02 | 2012-03-01 | Hitachi High-Technologies Corp | 試料電位情報検出方法及び荷電粒子線装置 |
US9472376B2 (en) | 2012-03-28 | 2016-10-18 | Hitachi High-Technologies Corporation | Scanning electron microscope |
WO2018134870A1 (ja) * | 2017-01-17 | 2018-07-26 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 走査電子顕微鏡および走査電子顕微鏡による試料観察方法 |
JPWO2018134870A1 (ja) * | 2017-01-17 | 2019-11-07 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 走査電子顕微鏡および走査電子顕微鏡による試料観察方法 |
US11211224B2 (en) | 2018-04-26 | 2021-12-28 | Hitachi High-Tech Corporation | Charged particle beam apparatus |
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