JP4418304B2 - 試料観察方法 - Google Patents
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Description
1.試料から放出された二次電子が試料に引き戻される事によって生じる局所的な輝度の低下
2.試料から放出された二次電子の軌道の変化から生じる局所的な検出効率の変動
3.一次電子ビームが偏向される事によって生じる局所的な倍率変動。
・走査方向を画像取得時の走査方向に対し、90°回転した走査方法
・走査方向を画像取得時の走査方向に対し、180°回転した走査方法
・画像取得時の倍率よりも低倍率の走査方法
・一次電子ビームを任意の方向に傾斜した走査方法
F(Xscan)=Aexp(-(Xscan/b)a)+C
ただしA,a,b,Cはフィッティングパラメータである。
Claims (2)
- 走査電子顕微鏡を用いた試料観察方法において、
一次電子ビームを試料上に往復走査し、該一次電子ビームの往路走査によって、往路方向側に帯電するパターンを含む試料像を得、前記試料像から試料上の所定のパターンの寸法を計測するステップと、
復路走査時の走査速度を変更して前記ステップを反復し、前記パターンの往路側のエッジピークの尾引き長さが所定の値となる往路走査と復路走査の走査速度比を求めるステップと、
求めた走査速度比を走査電子顕微鏡に設定して試料像を観察するステップと、
を有することを特徴とする試料観察方法。 - 請求項1記載の試料観察方法において、前記走査速度比を記憶手段に記憶するステップと、次に前記試料と同種の試料の試料像を取得する際に、前記記憶手段に記憶した走査速度比を読み出して走査電子顕微鏡に設定するステップとを有することを特徴とする試料観察方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004165547A JP4418304B2 (ja) | 2004-06-03 | 2004-06-03 | 試料観察方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004165547A JP4418304B2 (ja) | 2004-06-03 | 2004-06-03 | 試料観察方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005345272A JP2005345272A (ja) | 2005-12-15 |
JP4418304B2 true JP4418304B2 (ja) | 2010-02-17 |
Family
ID=35497799
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004165547A Expired - Fee Related JP4418304B2 (ja) | 2004-06-03 | 2004-06-03 | 試料観察方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4418304B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103217446A (zh) * | 2013-04-16 | 2013-07-24 | 内蒙古包钢钢联股份有限公司 | 镶嵌交截法 |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4906409B2 (ja) * | 2006-06-22 | 2012-03-28 | 株式会社アドバンテスト | 電子ビーム寸法測定装置及び電子ビーム寸法測定方法 |
JP4795883B2 (ja) * | 2006-07-21 | 2011-10-19 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | パターン検査・計測装置 |
JP4969231B2 (ja) | 2006-12-19 | 2012-07-04 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 試料電位情報検出方法及び荷電粒子線装置 |
JP5055015B2 (ja) | 2007-05-09 | 2012-10-24 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
JP5147327B2 (ja) * | 2007-07-31 | 2013-02-20 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子ビーム照射装置 |
JP4764436B2 (ja) * | 2008-02-14 | 2011-09-07 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 外観検査方法及び検査装置 |
US8309923B2 (en) | 2009-02-20 | 2012-11-13 | Hitachi High-Technologies Corporation | Sample observing method and scanning electron microscope |
JP5624774B2 (ja) * | 2010-02-26 | 2014-11-12 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 走査電子顕微鏡の光学条件設定方法、及び走査電子顕微鏡 |
JP5470360B2 (ja) * | 2011-12-02 | 2014-04-16 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 試料電位情報検出方法及び荷電粒子線装置 |
JP5932428B2 (ja) | 2012-03-28 | 2016-06-08 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 走査電子顕微鏡 |
JP6782795B2 (ja) * | 2017-01-17 | 2020-11-11 | 株式会社日立ハイテク | 走査電子顕微鏡および走査電子顕微鏡による試料観察方法 |
DE112018007343B4 (de) | 2018-04-26 | 2023-11-23 | Hitachi High-Tech Corporation | Mit einem strahl geladener teilchen arbeitende vorrichtung |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61294748A (ja) * | 1985-06-24 | 1986-12-25 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 荷電ビ−ム照射装置 |
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JP2607652B2 (ja) * | 1988-12-12 | 1997-05-07 | 日本電信電話株式会社 | 荷電ビームを用いた測定装置における照射条件決定方法およびそれに用いる評価パタン |
JPH10125271A (ja) * | 1996-10-16 | 1998-05-15 | Hitachi Ltd | 走査型電子顕微鏡 |
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JP4401200B2 (ja) * | 2004-03-12 | 2010-01-20 | 富士通マイクロエレクトロニクス株式会社 | 走査型電子顕微鏡を用いた測長方法 |
-
2004
- 2004-06-03 JP JP2004165547A patent/JP4418304B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103217446A (zh) * | 2013-04-16 | 2013-07-24 | 内蒙古包钢钢联股份有限公司 | 镶嵌交截法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20061002 |
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A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20081203 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090406 |
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A02 | Decision of refusal |
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A521 | Written amendment |
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A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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