JP5932428B2 - 走査電子顕微鏡 - Google Patents
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Description
2 スペース
3 材料A
4 材料B
5 材料C
6 材料D
7 材料E
8 信号波形
9 予備照射場所の選択
10 予備照射、観察条件設定
11 パターン底の照射
12 場所の変更(観察場所へ移動)
13 観察
14 設計データ(下層のレイアウト)
15 溝の側壁(負帯電)
16 下層のレイアウト(溝)
17 観察画像
18 穴パターンでの下層のレイアウト
19 予備照射領域
20 観察場所(1)
21 観察場所(2)
22 第1の信号波形(予備照射無しで観察した際の信号波形)
23 第2の信号波形(予備照射後、観察した際の信号波形)
24 差分プロファイル(差波形((2)−(1))))
25 信号波形(予備照射無しで観察した際の検出電子のエネルギー分布)
26 信号波形(予備照射後、観察した際の検出電子のエネルギー分布)
27 信号波形(エネルギー弁別なしでの信号波形)
28 信号波形(EF1でエネルギー弁別した際の信号波形)
29 信号波形(EF2でエネルギー弁別した際の信号波形)
30 差分プロファイル(エネルギー弁別画像間の差波形((2)−(3)))
Claims (11)
- 電子源と、当該電子源から放出された電子ビームを集束する対物レンズと、当該電子ビームの走査位置を偏向する偏向器と、試料を搭載するための試料ステージを備えた走査電子顕微鏡において、
測定対象であるホールパターン、或いは溝状パターンに対しビームを走査する前に、当該ホールパターン、或いは溝状パターンと共通の下層パターンを有する他のパターンに、帯電用のビーム照射を行うように、前記偏向器、或いは試料ステージを制御する制御装置を備えたことを特徴とする走査電子顕微鏡。 - 請求項1において、
前記制御装置は、前記ホールパターン、或いは溝状パターンの走査領域と離間した位置に位置する前記他のパターンに前記ビームを照射するように、前記偏向器、或いは試料ステージを制御することを特徴とする走査電子顕微鏡。 - 電子源から放出される電子ビームを試料に照射することによって、当該試料に含まれるパターンの信号波形を形成する走査電子顕微鏡を用いたパターンの測定方法において、
深溝、或いは深孔パターンであって、溝底、或いは穴底に絶縁体に包囲された浮き電極が位置する測定対象パターンに前記電子ビームを走査する前に、当該測定対象パターンと共通の浮き電極が下層に位置する他のパターンに、前記電子ビームを照射して、当該浮き電極を帯電させることを特徴とするパターン測定方法。 - 請求項3において、
前記試料は表面が導電体であることを特徴とするパターン測定方法。 - 請求項4において、
前記導電体と浮き電極との間に絶縁体が配置されていることを特徴とするパターン測定方法。 - 電子源と、当該電子源から放出された電子ビームを集束する対物レンズと、当該電子ビームの走査位置を偏向する偏向器と、試料を搭載するための試料ステージを備えた走査電子顕微鏡において、
測定対象であるホールパターン、或いは溝状パターンに前記電子ビームを走査して第1の信号波形を形成し、当該ホールパターン、或いは溝状パターンに対する電子ビームの走査後、当該ホールパターン、或いは溝状パターンと共通の下層パターンを有する他のパターンに、帯電用のビーム照射を行い、当該帯電用のビームの照射後、前記ホールパターン、或いは溝状パターンに前記電子ビームを走査して第2の信号波形を形成し、当該第2の信号波形から、前記第1の信号波形を減算する制御装置を備えたことを特徴とする走査電子顕微鏡。 - 請求項6において、
前記制御装置は、前記ホールパターン、或いは溝状パターンの走査領域と離間した位置に位置する前記他のパターンに前記ビームを照射するように、前記偏向器、或いは試料ステージを制御することを特徴とする走査電子顕微鏡。 - 電子源と、当該電子源から放出された電子ビームを集束する対物レンズと、当該電子ビームの走査位置を偏向する偏向器と、試料を搭載するための試料ステージと、前記試料から放出される電子をエネルギー弁別するエネルギー弁別器を備えた走査電子顕微鏡において、
測定対象であるホールパターン、或いは溝状パターンに対しビームを走査する前に、当該ホールパターン、或いは溝状パターンと共通の下層パターンを有する他のパターンに、帯電用のビーム照射を行うように、前記偏向器、或いは試料ステージを制御すると共に、前記エネルギー弁別器によって弁別された第1のエネルギーバンドの電子に基づく第1の信号波形、及び/又は第2のエネルギーバンドの電子に基づく第2の信号波形を形成する制御装置を備えたことを特徴とする走査電子顕微鏡。 - 請求項8において、
前記第2のエネルギーバンドは、前記第1のエネルギーバンドよりエネルギーが高く、前記制御装置は第2の信号波形から前記第1の信号波形を減算することを特徴とする走査電子顕微鏡。 - 請求項8において、
前記制御装置は、前記第1の信号波形、前記第2の信号波形、及び/又は第2の信号波形から第1の信号波形を減算した差波形を用いて前記パターンの寸法測定を実行することを特徴とする走査電子顕微鏡。 - 電子源と、当該電子源から放出された電子ビームを集束する対物レンズと、当該電子ビームの走査位置を偏向する偏向器と、試料を搭載するための試料ステージを備えた走査電子顕微鏡において、
測定対象であるホールパターン、或いは溝状パターンに対しビームを走査する前に、当該ホールパターン、或いは溝状パターンと共通の下層パターンを有する他のパターンを帯電させるときのビーム条件を入力する入力装置と、
当該入力装置によって入力されたビーム条件に基づいて、前記他のパターンを帯電させるようにビームを照射し、当該他のパターンへのビーム照射後、前記ホールパターン、或いは溝状パターンにビームを走査するように前記偏向器、或いは試料ステージを制御する制御装置を備えたことを特徴とする走査電子顕微鏡。
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