JP5619118B2 - 荷電粒子線装置 - Google Patents
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- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
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Description
よって、プリドーズ電位(表面電位)を制御することによって、任意の高さにてパターンの形状を観察することができる。具体的には、ホールパターンの場合、予め表面電位と、電子が放出される部分の高さとの関係式を求めておき、当該関係式と実際に測定を希望する高さの情報に基づいて、表面電位に関する情報を算出する。この算出を実現するための一例として、表面帯電を発生するためのビーム条件(例えば試料に対するビームの到達エネルギー)と、当該表面帯電によってホール外に電子が放出され、観察が可能となるホール深さとの関係を、複数のビーム条件ごとに求めておく。当該ビーム条件ごとのホールの深さ情報について、フィッティング等を行うことによって、ビーム条件と深さ情報との関数を作成し、記憶装置に記憶する。
図3のグラフはパターンの形状を反映している。あらかじめ同じプロセスで作製されたパターンを割って断面形状の寸法を高さごとに計測しておき、グラフ形状と断面形状を比較しておけば、プリドーズ電位だけで高さの絶対値を求めることが可能である。
3 試料から放出された電子
11 電界放出陰極
12 引出電極
13 加速電極
14 コンデンサレンズ
15 二次電子変換電極
16 イメージシフト偏向器
17 対物レンズ
18 加速円筒
21 上走査偏向器
22 下走査偏向器
23 試料
24 試料ホールダ
29 検出器
40 増幅器
41 制御装置
43 試料印加電圧制御電源
44 印加電圧制御電源
46 走査偏向器制御電源
Claims (2)
- 荷電粒子源から放出された荷電粒子線を試料に走査することによって、当該試料から放出される荷電粒子の検出に基づいて、前記試料の画像を形成する荷電粒子線装置において、
前記試料の高さと、前記試料に対する予備帯電条件を関連付けて記憶する記憶媒体を備えた制御装置を備え、当該制御装置は、前記試料に形成されたホールの内、当該ホールの入り口から当該ホールの底までの範囲で、測定対象となる部位の指定に基づいて、当該指定された部位に対応する予備帯電条件による予備帯電を実施することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1において、
前記記憶媒体には、前記試料高さと前記予備帯電条件が関連づけて機構されていることを特徴とする荷電粒子線装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012261844A JP5619118B2 (ja) | 2012-11-30 | 2012-11-30 | 荷電粒子線装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012261844A JP5619118B2 (ja) | 2012-11-30 | 2012-11-30 | 荷電粒子線装置 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009014876A Division JP2010175249A (ja) | 2009-01-27 | 2009-01-27 | 試料高さ測定方法及び試料高さ測定装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013076705A JP2013076705A (ja) | 2013-04-25 |
JP5619118B2 true JP5619118B2 (ja) | 2014-11-05 |
Family
ID=48480265
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2012261844A Active JP5619118B2 (ja) | 2012-11-30 | 2012-11-30 | 荷電粒子線装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5619118B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11276554B2 (en) | 2019-08-07 | 2022-03-15 | Hitachi High-Tech Corporation | Scanning electron microscope and method for measuring pattern |
US11302513B2 (en) | 2018-04-06 | 2022-04-12 | Hitachi High-Tech Corporation | Electron microscope apparatus, inspection system using electron microscope apparatus, and inspection method using electron microscope apparatus |
US11545336B2 (en) | 2018-04-06 | 2023-01-03 | Hitachi High-Tech Corporation | Scanning electron microscopy system and pattern depth measurement method |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61239107A (ja) * | 1985-04-17 | 1986-10-24 | Hitachi Ltd | 深さ測定方式 |
JPH01243351A (ja) * | 1988-03-24 | 1989-09-28 | Sanyo Electric Co Ltd | 分析装置 |
JP2789399B2 (ja) * | 1991-11-27 | 1998-08-20 | 株式会社日立製作所 | 走査型電子顕微鏡およびその観察方法 |
JP2546500B2 (ja) * | 1993-06-30 | 1996-10-23 | 日本電気株式会社 | 膜厚測定方法 |
JP4093662B2 (ja) * | 1999-01-04 | 2008-06-04 | 株式会社日立製作所 | 走査形電子顕微鏡 |
JP3973372B2 (ja) * | 2001-03-23 | 2007-09-12 | 株式会社日立製作所 | 荷電粒子線を用いた基板検査装置および基板検査方法 |
US6946656B2 (en) * | 2001-07-12 | 2005-09-20 | Hitachi, Ltd. | Sample electrification measurement method and charged particle beam apparatus |
JP4500653B2 (ja) * | 2003-11-25 | 2010-07-14 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 試料の観察方法及びその装置 |
JP5117080B2 (ja) * | 2007-03-07 | 2013-01-09 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 試料観察条件設定方法及び装置、並びに試料観察方法及び装置 |
JP4936985B2 (ja) * | 2007-05-14 | 2012-05-23 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 走査電子顕微鏡およびそれを用いた三次元形状測定装置 |
JP2009099540A (ja) * | 2007-09-27 | 2009-05-07 | Hitachi High-Technologies Corp | 試料の検査,測定方法、及び走査電子顕微鏡 |
JP2010118564A (ja) * | 2008-11-14 | 2010-05-27 | Hitachi High-Technologies Corp | パターンの検査装置、およびパターンの検査方法 |
-
2012
- 2012-11-30 JP JP2012261844A patent/JP5619118B2/ja active Active
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11302513B2 (en) | 2018-04-06 | 2022-04-12 | Hitachi High-Tech Corporation | Electron microscope apparatus, inspection system using electron microscope apparatus, and inspection method using electron microscope apparatus |
US11545336B2 (en) | 2018-04-06 | 2023-01-03 | Hitachi High-Tech Corporation | Scanning electron microscopy system and pattern depth measurement method |
US11276554B2 (en) | 2019-08-07 | 2022-03-15 | Hitachi High-Tech Corporation | Scanning electron microscope and method for measuring pattern |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2013076705A (ja) | 2013-04-25 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20131015 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Request for written amendment filed |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
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|
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|
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