JP4470504B2 - 積層型圧電素子及びその製造方法 - Google Patents
積層型圧電素子及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4470504B2 JP4470504B2 JP2004027162A JP2004027162A JP4470504B2 JP 4470504 B2 JP4470504 B2 JP 4470504B2 JP 2004027162 A JP2004027162 A JP 2004027162A JP 2004027162 A JP2004027162 A JP 2004027162A JP 4470504 B2 JP4470504 B2 JP 4470504B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- internal electrode
- ceramic
- stress relaxation
- piezoelectric element
- outer peripheral
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 21
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 12
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 153
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 89
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 60
- 238000004080 punching Methods 0.000 claims description 50
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 37
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 24
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 20
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 claims description 15
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 14
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 14
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 14
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 claims description 13
- 238000003475 lamination Methods 0.000 claims description 13
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 claims description 11
- 239000011146 organic particle Substances 0.000 claims description 11
- 230000008034 disappearance Effects 0.000 claims description 7
- 238000005304 joining Methods 0.000 claims description 7
- 230000002040 relaxant effect Effects 0.000 claims description 6
- 238000010000 carbonizing Methods 0.000 claims description 3
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 claims 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 94
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 11
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 7
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 5
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 5
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 4
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 4
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 4
- 244000068988 Glycine max Species 0.000 description 3
- 235000010469 Glycine max Nutrition 0.000 description 3
- 240000008042 Zea mays Species 0.000 description 3
- 235000005824 Zea mays ssp. parviglumis Nutrition 0.000 description 3
- 235000002017 Zea mays subsp mays Nutrition 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 235000005822 corn Nutrition 0.000 description 3
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 3
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 3
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 3
- 241000209140 Triticum Species 0.000 description 2
- 235000021307 Triticum Nutrition 0.000 description 2
- 238000007606 doctor blade method Methods 0.000 description 2
- 229910052451 lead zirconate titanate Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 2
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000032798 delamination Effects 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N lead zirconate titanate Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ti+4].[Zr+4].[Pb+2] HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 239000005445 natural material Substances 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 238000004382 potting Methods 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
- H10N30/50—Piezoelectric or electrostrictive devices having a stacked or multilayer structure
- H10N30/508—Piezoelectric or electrostrictive devices having a stacked or multilayer structure adapted for alleviating internal stress, e.g. cracking control layers
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
- H10N30/01—Manufacture or treatment
- H10N30/05—Manufacture of multilayered piezoelectric or electrostrictive devices, or parts thereof, e.g. by stacking piezoelectric bodies and electrodes
- H10N30/053—Manufacture of multilayered piezoelectric or electrostrictive devices, or parts thereof, e.g. by stacking piezoelectric bodies and electrodes by integrally sintering piezoelectric or electrostrictive bodies and electrodes
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- General Electrical Machinery Utilizing Piezoelectricity, Electrostriction Or Magnetostriction (AREA)
Description
さらに、セラミック積層体の外周面における電気的な絶縁信頼性を高くするため、例えば、上記接合面以外の上記セラミック積層体の外周面においても内部電極部の外周端部が露出しないように構成した積層型圧電素子がある。
そのため、上記積層型圧電素子を長期間に渡って使用すると、上記応力集中に起因して上記セラミック積層体の層間においてクラック等を生じる場合があった。
したがって、上記従来の積層型圧電素子では、高性能と、高耐久性とを両立することが容易ではなかった。
上記内部電極層は、導電性を有する内部電極部と、該内部電極部の外周端部が上記セラミック積層体の外周面よりも内方に控えた控え部とを有してなり、
上記セラミック積層体は、少なくとも一部の上記内部電極層と積層方向に隣接して、上記セラミック層よりも形状を容易に変化し得る応力緩和部を有してなり、
該応力緩和部は、上記セラミック積層体の積層方向において、いずれかの上記内部電極層の上記控え部に重合するように配置してあることを特徴とする積層型圧電素子にある(請求項1)。
この応力緩和部は、上記のごとく上記セラミック層よりも形状を容易に変化し得るため、上記積層型圧電素子の圧電変位による伸びしろの少なくとも一部を吸収できる。
そのため、この応力緩和部に対して積層方向に重合する上記控え部では、圧電変位に応じて発生する歪みによる応力が低減される。それ故、上記セラミック積層体では、上記控え部に作用する過大な応力に起因して、層間クラック等が発生するおそれを抑制できる。
換言すれば、層間クラック等が生じるおそれが少ない上記セラミック積層体を用いることにより、圧電変位量の大きい高性能の積層型圧電素子を得ることができる。
上記セラミック積層体を形成するに当たっては、焼成前の中間積層体として積層するシート片を打ち抜くためのセラミクス原料よりなるグリーンシートを形成するグリーンシート形成工程と、
上記グリーンシートのうち上記シート片を得るための打ち抜き領域において、上記控え部を形成するよう、上記打ち抜き領域の外縁から内方に控えて上記内部電極部を形成するための電極材料を配設する電極配設工程と、
該電極配設工程を施した少なくとも一部の上記打ち抜き領域について、該打ち抜き領域の外周部の少なくとも一部に、焼成により消失する消失材料を含む緩和材料を配設する緩和材配設工程と、
上記グリーンシートから上記打ち抜き領域を打ち抜いて上記シート片を得る打ち抜き工程と、
打ち抜いた上記シート片を積層して上記中間積層体を形成する積層工程と、
上記中間積層体を焼成し、上記緩和材料中の上記消失材料を消失させてなる上記応力緩和部を有する上記セラミック積層体を得る焼成工程とを行うことを特徴とする積層型圧電素子の製造方法にある(請求項11)。
そして、その後、積層した上記中間積層体を焼成する上記焼成工程により、上記緩和材料中の上記消失材料を消失させることで上記応力緩和部を形成している。
このように、焼成により消失する上記消失材料を少なくも一部に含む上記緩和材料を用いれば、上記中間積層体の焼成と同時に、効率良く上記応力緩和部を形成することができる。
そして、間隙としての上記応力緩和部や、多孔質性の上記応力緩和部などを形成し、該応力緩和部を上記セラミック層よりも変形し易いように形成すると、上記第1の発明のごとく耐久性と性能とを両立した優れた品質を有する積層型圧電素子を得ることができる。
そのため、上記セラミック積層体を作製するに当たっては、例えば、1枚の上記シート片のみにより上記各セラミック層を形成し、かつ、焼成により上記応力緩和部をなす部材を2枚の上記シート片の層間に配置することができる。
一方、上記セラミック層の積層方向の中間の位置に上記応力緩和部を形成する場合には、例えば、2枚以上のシート片から1層の上記セラミック層を形成し、そのシート片の層間に上記応力緩和部を形成するための部材を配置する必要がある。
なお、当然ながら、上記セラミック積層体を作製するに当たって、複数の上記シート片を積層して上記各セラミック層を形成することもできる。
この場合には、上記各接合面において、上記一層おきの内部電極層に上記控え部を設けることにより、上記接合面における電気的な絶縁性の確保が容易になる。
この場合には、上記接合面において、上記控え部を形成した上記内部電極層の上記内部電極部をセラミクス材料により完全に近く密封でき、電気的な絶縁信頼性を向上できる。
この場合には、上記各接合面に設けた上記控え部に作用する応力の大きさを、効果的に低減することができる。
この場合には、上記絶縁外周面に設けた上記控え部により、上記絶縁外周面における電気的な絶縁性の確保を容易にできると共に、上記絶縁外周面に設けた上記応力緩和部により、上記絶縁外周面に設けた上記控え部に過大な応力が作用するおそれを抑制することができる。
この場合には、上記応力緩和部を配置したことにより、上記控え部での応力集中を効果的に抑制することができる。
特に、全ての上記内部電極層に沿って上記応力緩和部を形成した場合には、上記控え部に作用する応力を最も効果的に抑制することができる。
一方、上記1層以上12層以下おきの上記内部電極層に沿って上記応力緩和部を配置する場合には、上記控え部において応力集中を抑制するという作用効果と、上記セラミック積層体の形状精度や焼成効率等とを両立することができる。
この場合には、上記応力緩和部の形状変更のし易さを無限大にして、上記控え部に作用する応力を最も効果的に低減することができる。
この場合には、上記多孔質性のセラミクス材料により上記応力緩和部を形成すれば、該応力緩和部は、確実性高く、稠密なセラミクス材料よりなる上記セラミック層よりも弾性変形し易い部分になる。
この場合には、上記絶縁材料を充填した上記応力緩和部により、該応力緩和部と積層方向に隣接する上記内部電極層の電気的な絶縁性を向上できる。
この場合には、上記セラミック層の厚さを十分に確保しながら、効率良く上記応力緩和部を形成することができる。
この場合には、焼成により上記セラミック積層体を得ると同時に、スリット状の間隙としての上記応力緩和部を効率良く形成することができる。
この場合には、焼成により上記セラミック積層体を得ると同時に、上記消失材料が消失してなる孔を多数有する多孔性を呈する上記応力緩和部を効率良く形成することができる。
上記消失材料として上記カーボン粒子を用いる場合には、熱による形状変化が少ないという上記カーボン粒子の特性が有効に作用するため、形状精度良く上記応力緩和部を形成することができる。
なお、上記有機物粒子としては、例えば、大豆や、トウモロコシを粉砕してなる粒子や、樹脂材料を粉砕してなる粒子等がある。
さらになお、上記炭化有機物粒子とは、上記有機物粒子が含有する水分の一部を除去することにより、ある程度炭化させて、流動性及び分散性が良好な微粒子の状態となった粒子をいう。
本例は、圧電変位時に発生する応力を緩和するための応力緩和部13を備えた積層型圧電素子1及び、その製造方法に関する例である。この内容について、図1〜図13を用いて説明する。
本例の積層型圧電素子1は、図1及び図2に示すごとく、セラミック層11と内部電極層12とを交互に積層してなるセラミック積層体10と、該セラミック積層体10の外周面に形成した一対の接合面15にそれぞれ接合した一対の外部電極18とを有するものである。
そして、上記セラミック積層体10は、少なくとも一部の内部電極層12と積層方向に隣接して、セラミック層11よりも形状を容易に変化し得る応力緩和部13を有してなる。
そして、該応力緩和部13は、セラミック積層体10の積層方向において、いずれかの内部電極層12の控え部129に重合するように配置してある。
以下に、この内容について詳しく説明する。
そして、このセラミック積層体10は、図1に示すごとく、略円柱状を呈する積層体の外周面に、相互に対面する一対の接合面15を形成してなる断面樽形状を呈している。
なお、セラミック積層体10の断面形状としては、本例の樽形に限定されるものではなく、用途、使用状況に合わせて四角形などの多角形等に変更可能である。
そして、一方の接合面15において内部電極部120を露出している一層おきの内部電極層12は、他方の接合面15においては内部電極部120の外周端部を控えた控え部129を形成しており、かつ、上記他方の接合面15において内部電極部を露出している一層おきの内部電極層12は、上記一方の接合面15においては内部電極部120の外周端部を控えた控え部129を形成している。
本例では、図2に示すごとく、セラミック積層体10の積層方向において、応力緩和部13が控え部129を包含しつつ重合するよう、控え部129の形成幅G=0.25mmに対して応力緩和部13の形成幅W=0.3mmとし、応力緩和部13の形成幅Wを若干、幅広くしてある。
また、本例では、厚さ80μmのセラミック層11に対して、およそ厚さ6μmのスリット状の間隙として応力緩和部13を形成してある。
なお、本例で使用した樹脂銀180及びモールド樹脂185としては、その使用状態においてある程度の粘性を呈するものを使用した。すなわち、上記6μm厚の応力緩和部13に対して毛細管現象等を生じるおそれが少なく、その内部に浸入するおそれが極めて少ないような粘性を呈するものを使用した。
そのため、本例では、セラミック積層体10においてスリット状の間隙として形成した応力緩和部13は、積層型圧電素子1に組み込まれた後にも、そのまま間隙の状態を維持している。
ここでは、特に、本例の積層型圧電素子1を特徴付ける上記セラミック積層体10を形成する工程を中心に説明する。
上記セラミック積層体10を形成するに当たっては、図3に示すごとく、セラミクス材料よりなるシート状のグリーンシート50を形成するグリーンシート形成工程と、グリーンシート50のうちシート片24(図4)を打ち抜く打ち抜き領域52のうち上記控え部129(図1)を形成する部分を残し、焼成により内部電極部120を形成する電極材料31を配設する電極配設工程と、図5に示すごとく、該電極配設工程を施した少なくとも一部の上記打ち抜き領域52の一部に、焼成により消失する消失材料を少なくとも一部に含む緩和材料33を配設する緩和材配設工程と、上記打ち抜き領域52を打ち抜いてシート片24、26(図4、図6)を得る打ち抜き工程と、図9に示すごとく、打ち抜いたシート片24、26を積層し、焼成によりセラミック積層体10となる中間積層体30を形成する積層工程と、図1及び図10に示すごとく、中間積層体30を焼成し、緩和材料33中の消失材料を消失させてなる応力緩和部13を有するセラミック積層体10を得る焼成工程とを行う。
なお、スラリーからグリーンシート50を生成する方法としては、本例のドクターブレード法の他、押出成形法その他種々の方法を採ることができる。
なお、本例では、打ち抜き領域52における電極材料31を配設した部分と、他の部分との印刷高さを略一致させるため、電極材料31を配設した領域の外縁と、打ち抜き領域52の外縁との隙間に上記スラリーよりなるスペーサ部32を印刷した。
なお、このスペーサ部32は、焼成したセラミック積層体10において上記控え部129(図1)を形成する部分である。
なお、本例では、緩和材料33を配設した外周部との印刷高さと略一致させることと、積層する際の接着効果を高めることとを目的として、打ち抜き領域52の内周部には上記スラリーよりなる接着部34を配設した。
なお、本例のカーボン粒子のほか、炭化させたパウダー状の炭化有機物粒子を用いることができる。この炭化有機物粒子は、パウダー状の有機物粒子を炭化して得ることができるほか、炭化させた有機物を粉砕して得ることもできる。
さらに、上記有機物としては、樹脂等の高分子材料や、コーンや大豆や小麦等を用いることができる。この場合には、製造コストを抑制することができる。特に、コーンや大豆や小麦等を用いれば、環境にとって優しい自然の材料を用いて上記セラミック積層体10を製造することができる。
なお、上記緩和材料33を配設した外周部は、焼成したセラミック積層体10においてスリット状の間隙をなす応力緩和部13(図1)を形成する部分である。
なお、シート片24用の打ち抜き領域52において電極材料31が接する直線部521と、シート片26用の打ち抜き領域52において電極材料31が接する直線部521とが、交互に逆方向を向くように配置してある。
この打ち抜き積層装置6は、中空構造の図示しない積層ホルダと、該積層ホルダに向けてストロークするパンチ61と、該パンチ61を挿通する穴620を有し、積層ホルダの下端に配設されたダイ62と、該ダイ62と対面するようにグリーンシート50を載置する載置テーブル66とを有している。
さらに、上記積層ホルダの内部には、下端面に吸着面を形成してなるウェイト部材としてのガイド65を、パンチ61のストローク方向に摺動可能に配置してある。このガイド65によれば、形成した中間積層体30を積層方向に加圧しながら保持できる。
その後、グリーンシート50を長手方向に前進させながら、シート片24とシート片26とを交互に打ち抜き、上記積層ホルダの内部において積層していく。そして、図9に示すごとく、該積層ホルダの内部において中間積層体30を形成する。
なお、本例の中間積層体30では、同図に示すごとく、その積層方向の両端において、2枚のセラミクス原料層240を重ね合わせてある。該2枚のセラミクス原料層240は、図10に示すごとく、焼成により、セラミック積層体10の両端部の保護層25を形成する。
そして、炉内温度1050℃に到達するまで15時間かけて徐々に加熱していき、その後、炉内温度を2時間保持して焼成した後、炉冷を実施した。
さらに、電極材料31は焼成により内部電極部120を形成し、上記スラリーよりなるスペーサ部32はセラミクス材料よりなる控え部129を形成する。そして、内部電極部120と控え部129とは、内部電極層120を形成する。
特に、本例のカーボン粒子よりなる緩和材料33によれば、熱による変形が少ないため、形状精度良く応力緩和部13を形成できる。
セラミック積層体10の接合面15に対しては、樹脂銀180を用いて外部電極18を接合してある。また、外部電極18を接合した後のセラミック積層体10の外周面は、その全周に渡ってモールド樹脂185を用いて覆ってある。
すなわち、上記セラミック積層体10では、その積層方向において、圧電効果を生じない上記控え部129に対して、上記応力緩和部13が重合するように配置してある。
特に、本例のように多積層のセラミック積層体10では、積層方向に多数の控え部129が重合していることに起因して、上記の応力が積層方向に重畳して、さらに大きくなるおそれが高い。
そのため、本例の積層型圧電素子1では、控え部129に作用する応力の抑制に対して、応力緩和部13が極めて有効に作用し得る。
そのため、上記セラミック積層体10を組み込んだ本例の積層型圧電素子1では、応力緩和部13と隣接する控え部129に対して、応力が作用するおそれが格段に少ない。
そのため、上記の応力緩和部13に隣接していない控え部129では、積層方向から重畳して応力が作用することを防止できる。それ故、控え部129に作用する応力が過大となるのを効果的に抑制できるのである。
したがって、上記応力緩和部13に隣接しない内部電極層12についても、その控え部129に作用する応力は格段に小さくなる。
また、圧電効果を阻害する上記応力を抑制した本例の積層型圧電素子1は、圧電効率の高い優れた性能を有するものとなる。
この絶縁材料としては、例えば、シリコーンポッティング剤(例えば、株式会社スリーボンド製スリーボンド1230)や、ポリイミド系樹脂等の柔軟性に優れた材料を用いることが好ましい。これらの絶縁材料によれば、該絶縁材料を充填した後、加熱乾燥して絶縁材料を収縮させることで、若干の空隙を内部に有する応力緩和部13を形成できる。この場合には、内部に形成した空隙により、この応力緩和部13による応力抑制効果を高く維持しながら電気的な絶縁信頼性を向上することができる。
すなわち、スリット状の応力緩和部の開口部にディペンスノズルを近接させて液状の絶縁材料を吐出すれば、毛細管現象により非常に効率良く絶縁材料を充填することができる。
特に、1層以上3層以下おきの内部電極層12に沿って応力緩和部13を形成すれば、控え部129に作用する応力を低減する効果と、セラミック積層体10の積層精度及び強度とを高いレベルで両立して優れた品質の積層型圧電素子1を得ることができる。
本例は、実施例1のセラミック積層体を基にして、積層断面における応力緩和部の配設形状を変更した例である。この内容について、図14〜図19を用いて説明する。
本例の上記緩和材配設工程では、図14に示すごとく、打ち抜き領域52の樽形状をなす一対の直線部521のうち電極材料31を控えた一方の直線部521には、緩和材料33を配設しない。
したがって、後工程の上記打ち抜き工程において、実施例1と同様の電極配設工程を施した後、上記の緩和材配設工程を施した打ち抜き領域52を打ち抜けば、図15に示すごとく、電極材料を含み、焼成により内部電極層12(図17)を形成する層に沿って、上記一方の直線部521(図14)を除く外周部に緩和材料33を配設したシート片26が得られる。
なお、シート片24用の打ち抜き領域52において電極材料31が接する直線部521と、シート片26用の打ち抜き領域52において電極材料31が接する直線部521とが、交互に逆方向を向くように配置してある。
その後、この中間積層体を焼成すれば、図17に示すごとく、控え部129を形成した接合面15において応力緩和部13を形成せず、かつ、内部電極部120の外周端部を露出させた接合面15及び、接合面15を除く外周面において応力緩和部13を形成したセラミック積層体10を得る。
そのため、本例のセラミック積層体10の全ての内部電極層12は、控え部129を設けた側の接合面15においてセラミクス材料により完全に近く密閉される。
それ故、本例のセラミック積層体10によれば、接合面15における電気的な絶縁性を高く確保して、積層型圧電素子1の電気的な信頼性を向上することができる。
また、本例では、セラミック積層体10の積層方向における応力緩和部13の配置は、1層おきの内部電極層12に沿うようにした。これに代えて、実施例1と同様、この配置間隔を変更することができる。例えば、図18に示すごとく、2層の内部電極層12おきに、すなわち、3層の内部電極層12ごとの1層の内部電極層12に沿って応力緩和部13を配置することもできる。
すなわち、同図の応力緩和部13は、積層方向に略直交する断面において、半円状に近い配設形状を呈している。
それ故、本例のセラミック積層体10の外周面では、隣り合う内部電極層12に沿う各応力緩和部13が、積層方向に隣り合って開口していないのである。
上記のように応力緩和部13を形成すれば、全ての内部電極層12に沿って応力緩和部13を形成した場合であっても、セラミック積層体10の外周面における電気的絶縁性を確保し易くできるのである。
本例は、実施例1或いは実施例2のセラミック積層体の応力緩和部を、多孔性セラミクス材料により形成した例である。本例の内容について、図20及び図21を用いて説明する。
本例では、消失材料のみよりなる緩和材料に代えて、図20に示すごとく、実施例1のセラミック原料よりなるスラリー中に、消失材料としてのカーボン粒子333を分散させてなる緩和材料33を用いている。
なお、図20は、中間積層体30における緩和材料33を配設した部分の周辺を拡大した断面構造を図示しており、図21は、セラミック積層体10における応力緩和部13の周辺を拡大した断面構造を図示している。
さらに、多孔性セラミクス材料によれば、焼成時において応力緩和部13となる部分の形状を精度高く維持することができ、焼成したセラミック積層体10の形状精度を高くすることができる。また、焼成後のセラミック積層体10において、上記応力緩和部13は、多孔性構造に基づく適度な柔軟性を発揮し得る部分になる。
なお、その他の構成及び作用効果については実施例1或いは実施例2と同様である。
消失材料をなす粒子の平均粒子径を上記の範囲とすることにより、セラミクス材料中に適切な大きさの孔を形成することができ、形成する応力緩和部13の形状精度と、強度とを両立することができる。
消失材料の体積割合を上記の範囲とすることにより、形成する応力緩和部13の形状精度と、強度とを両立することができる。
特に、100体積%の緩和材料33中の消失材料の体積割合を10体積%以上40体積%以内の範囲にすれば、応力緩和部13を形状精度高く形成することができる。また、100体積%の緩和材料33中の消失材料の体積割合を10体積%以上30体積%以内の範囲にすれば、応力緩和部13についてある程度の強度を確保することができる。
10 セラミック積層体
11 セラミック層
12 内部電極層
120 内部電極部
129 控え部
13 応力緩和部
15 接合面
18 外部電極
180 樹脂銀
185 モールド樹脂
24、26 シート片
240 セラミクス原料層
241 直線部
30 中間積層体
31 電極材料
32 スペーサ部
33 緩和材料
34 接着部
50 グリーンシート
52 打ち抜き領域
521 直線部
6 打ち抜き積層装置
Claims (14)
- セラミック層と内部電極層とを交互に積層してなるセラミック積層体と、該セラミック積層体の外周面に形成した一対の接合面にそれぞれ接合した一対の外部電極とを有する積層型圧電素子において、
上記内部電極層は、導電性を有する内部電極部と、該内部電極部の外周端部が上記セラミック積層体の外周面よりも内方に控えた控え部とを有してなり、
上記セラミック積層体は、少なくとも一部の上記内部電極層と積層方向に隣接して、上記セラミック層よりも形状を容易に変化し得る応力緩和部を有してなり、
該応力緩和部は、上記セラミック積層体の積層方向において、いずれかの上記内部電極層の上記控え部に重合するように配置してあることを特徴とする積層型圧電素子。 - 請求項1において、上記各接合面のうち一方の接合面において上記内部電極部を露出している一層おきの上記内部電極層は、他方の接合面において上記控え部を有してなり、かつ、上記他方の接合面において上記内部電極部を露出している一層おきの上記内部電極層は、上記一方の接合面において上記控え部を有してなることを特徴とする積層型圧電素子。
- 請求項2において、上記各接合面では、上記控え部と積層方向に隣接する箇所を避けて、上記内部電極部と積層方向に隣接する箇所に上記応力緩和部を形成してあることを特徴とする積層型圧電素子。
- 請求項2において、上記応力緩和部は、積層方向において該応力緩和部が隣接する上記内部電極層に沿って、上記各接合面の両方に面して形成してあることを特徴とする積層型圧電素子。
- 請求項1〜4のいずれか1項において、上記各内部電極層の上記控え部は、上記セラミック積層体の外周面のうち上記各接合面を除く外周面である絶縁外周面の周方向のおける全範囲に渡って形成してあり、かつ、上記応力緩和部は、上記絶縁外周面の周方向における全範囲に渡って形成してあることを特徴とする積層型圧電素子。
- 請求項1〜5のいずれか1項において、上記応力緩和部は、積層方向の全ての上記内部電極層又は、1層以上12層以下おきの上記内部電極層と積層方向に隣接して形成してあることを特徴とする積層型圧電素子。
- 請求項1〜6のいずれか1項において、上記応力緩和部は、スリット状を呈する間隙であることを特徴とする積層型圧電素子。
- 請求項1〜6のいずれか1項において、上記応力緩和部は、多孔質性のセラミクス材料よりなる薄い層状を呈する部分であることを特徴とする積層型圧電素子。
- 請求項1〜6のいずれか1項において、上記応力緩和部は、スリット状を呈する間隙に電気的な絶縁性を有する絶縁材料を充填した部分であることを特徴とする積層型圧電素子。
- 請求項1〜9のいずれか1項において、上記応力緩和部の積層方向の厚さは、1μm以上18μm以下であることを特徴とする積層型圧電素子。
- セラミック層と内部電極層とを交互に積層してなるセラミック積層体と、該セラミック積層体の外周面に形成した一対の接合面にそれぞれ接合した一対の外部電極とを有し、上記セラミック積層体が、導電性を有する内部電極部と、該内部電極部の外周端部が上記セラミック積層体の外周面よりも内方に控えて位置した控え部とよりなる上記内部電極層を有してなると共に、積層方向において上記控え部に重合するよう、少なくとも一部の上記内部電極層と積層方向に隣接して、上記セラミック層よりも形状を容易に変化し得る応力緩和部を形成してなる積層型圧電素子の製造方法において、
上記セラミック積層体を形成するに当たっては、焼成前の中間積層体として積層するシート片を打ち抜くためのセラミクス原料よりなるグリーンシートを形成するグリーンシート形成工程と、
上記グリーンシートのうち上記シート片を得るための打ち抜き領域において、上記控え部を形成するよう、上記打ち抜き領域の外縁から内方に控えて上記内部電極部を形成するための電極材料を配設する電極配設工程と、
該電極配設工程を施した少なくとも一部の上記打ち抜き領域について、該打ち抜き領域の外周部の少なくとも一部に、焼成により消失する消失材料を含む緩和材料を配設する緩和材配設工程と、
上記グリーンシートから上記打ち抜き領域を打ち抜いて上記シート片を得る打ち抜き工程と、
打ち抜いた上記シート片を積層して上記中間積層体を形成する積層工程と、
上記中間積層体を焼成し、上記緩和材料中の上記消失材料を消失させてなる上記応力緩和部を有する上記セラミック積層体を得る焼成工程とを行うことを特徴とする積層型圧電素子の製造方法。 - 請求項11において、上記緩和材料は、焼成により消失する上記消失材料のみからなることを特徴とする積層型圧電素子の製造方法。
- 請求項11において、上記緩和材料は、上記セラミクス原料中に上記消失材料を分散してなるものであることを特徴とする積層型圧電素子の製造方法。
- 請求項11〜13のいずれか1項において、上記消失材料は、パウダー状を呈するカーボン粒子、樹脂粒子、又は、パウダー状の有機物粒子を炭化させてなる炭化有機物粒子よりなることを特徴とする積層型圧電素子の製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004027162A JP4470504B2 (ja) | 2004-02-03 | 2004-02-03 | 積層型圧電素子及びその製造方法 |
US11/046,699 US7309945B2 (en) | 2004-02-03 | 2005-02-01 | Laminated-type piezoelectric element and a manufacturing method thereof |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004027162A JP4470504B2 (ja) | 2004-02-03 | 2004-02-03 | 積層型圧電素子及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005223013A JP2005223013A (ja) | 2005-08-18 |
JP4470504B2 true JP4470504B2 (ja) | 2010-06-02 |
Family
ID=34805867
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004027162A Expired - Fee Related JP4470504B2 (ja) | 2004-02-03 | 2004-02-03 | 積層型圧電素子及びその製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7309945B2 (ja) |
JP (1) | JP4470504B2 (ja) |
Families Citing this family (29)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4470504B2 (ja) * | 2004-02-03 | 2010-06-02 | 株式会社デンソー | 積層型圧電素子及びその製造方法 |
JP4847039B2 (ja) * | 2004-05-28 | 2011-12-28 | 日本碍子株式会社 | 圧電/電歪構造体及び圧電/電歪構造体の製造方法 |
JP2006165193A (ja) * | 2004-12-06 | 2006-06-22 | Denso Corp | 中空積層型圧電素子及びその製造方法 |
JP4736422B2 (ja) * | 2004-12-24 | 2011-07-27 | 株式会社デンソー | 積層型圧電素子の製造方法 |
EP1930962B1 (en) | 2005-08-29 | 2013-03-20 | Kyocera Corporation | Layered piezoelectric element and injection device using the same |
WO2007049697A1 (ja) * | 2005-10-28 | 2007-05-03 | Kyocera Corporation | 積層型圧電素子およびこれを用いた噴射装置 |
JP2007157849A (ja) * | 2005-12-01 | 2007-06-21 | Denso Corp | 積層型圧電素子の製造方法 |
JP5162119B2 (ja) * | 2006-01-23 | 2013-03-13 | 日本碍子株式会社 | 積層型圧電/電歪素子 |
US7443080B2 (en) | 2006-01-23 | 2008-10-28 | Ngk Insulators, Ltd. | Laminated piezoelectric/electrostrictive device |
JP5011898B2 (ja) * | 2006-02-24 | 2012-08-29 | 株式会社デンソー | 積層型圧電素子及びその製造方法 |
JP5153095B2 (ja) * | 2006-07-27 | 2013-02-27 | 京セラ株式会社 | 積層型圧電素子およびこれを用いた噴射装置 |
JP2008053467A (ja) * | 2006-08-24 | 2008-03-06 | Denso Corp | 積層型圧電素子及びその製造方法 |
JP2008066391A (ja) * | 2006-09-05 | 2008-03-21 | Denso Corp | 積層型圧電素子及びその製造方法 |
WO2008038683A1 (en) * | 2006-09-28 | 2008-04-03 | Kyocera Corporation | Laminated piezoelectric element, injection apparatus and fuel injection system using the laminated piezoelectric element, and method for manufacturing laminated piezoelectric element |
JP2008108990A (ja) * | 2006-10-27 | 2008-05-08 | Denso Corp | 圧電アクチュエータ |
JP5066098B2 (ja) * | 2006-11-29 | 2012-11-07 | 京セラ株式会社 | 積層型圧電素子、これを備えた噴射装置及び燃料噴射システム |
JP5087914B2 (ja) * | 2006-12-06 | 2012-12-05 | Tdk株式会社 | 積層型圧電素子 |
DE102007004813B4 (de) * | 2007-01-31 | 2016-01-14 | Continental Automotive Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines piezokeramischen Vielschichtaktors |
JP4930410B2 (ja) * | 2007-02-26 | 2012-05-16 | 株式会社デンソー | 積層型圧電素子 |
JP4911066B2 (ja) | 2007-02-26 | 2012-04-04 | 株式会社デンソー | 積層型圧電素子 |
CN101681985B (zh) * | 2007-05-30 | 2012-10-31 | 京瓷株式会社 | 层叠型压电元件、喷射装置、燃料喷射系统以及层叠型压电元件的制造方法 |
DE102007060167A1 (de) * | 2007-12-13 | 2009-06-25 | Robert Bosch Gmbh | Piezoaktor mit einem Multilagenaufbau von Piezoelementen und ein Verfahren zu dessen Herstellung |
US8217553B2 (en) * | 2008-08-18 | 2012-07-10 | New Scale Technologies | Reduced-voltage, linear motor systems and methods thereof |
JP5605553B2 (ja) * | 2010-07-02 | 2014-10-15 | セイコーエプソン株式会社 | 圧電素子、圧電アクチュエーター、液体噴射ヘッド、および液体噴射装置 |
DE102010047302B3 (de) * | 2010-10-01 | 2012-03-29 | Epcos Ag | Piezoelektrisches Vielschichtbauelement und Verfahren zu dessen Herstellung |
JP5890676B2 (ja) * | 2011-12-16 | 2016-03-22 | 株式会社日本セラテック | 積層型圧電アクチュエータおよびその製造方法 |
DE102012105287B4 (de) * | 2012-06-18 | 2020-07-02 | Tdk Electronics Ag | Verfahren zur Herstellung eines elektrischen Bauelements und Elektrisches Bauelement |
DE102012107341B4 (de) | 2012-08-09 | 2020-07-09 | Tdk Electronics Ag | Verfahren zum Befüllen von mindestens einer Kavität eines Vielschichtbauelements mit einem Füllmaterial |
DE102019201650A1 (de) | 2019-02-08 | 2020-08-13 | Pi Ceramic Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines piezoelektrischen Stapelaktors und piezoelektrischer Stapelaktor, vorzugsweise hergestellt nach dem Verfahren |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
ES2087089T3 (es) * | 1989-11-14 | 1996-07-16 | Battelle Memorial Institute | Metodo para fabricar un accionador piezoelectrico apilado multicapa. |
WO1992005593A1 (en) * | 1990-09-13 | 1992-04-02 | Hitachi Metals, Ltd. | Method for manufacturing electrostrictive effect element |
US5175465A (en) * | 1991-10-18 | 1992-12-29 | Aura Systems, Inc. | Piezoelectric and electrostrictive actuators |
JPH08274381A (ja) | 1995-03-31 | 1996-10-18 | Chichibu Onoda Cement Corp | 積層型圧電アクチュエータ及びその製造方法 |
EP1041616A4 (en) * | 1997-11-19 | 2005-05-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | ELECTRONIC STRESS RELAXATION COMPARTMENT, STRAIN RELAXATION CONNECTION CHART, AND BODY MOUNTED ON THE ELECTRONIC STRESS RELAXATION PIECE |
JP3661444B2 (ja) * | 1998-10-28 | 2005-06-15 | 株式会社ルネサステクノロジ | 半導体装置、半導体ウエハ、半導体モジュールおよび半導体装置の製造方法 |
JP3881484B2 (ja) * | 1999-11-11 | 2007-02-14 | 京セラ株式会社 | 積層型圧電アクチュエータ |
DE10042893A1 (de) * | 1999-08-31 | 2001-04-26 | Kyocera Corp | Laminiertes piezoelektrisches Stellglied |
JP4658280B2 (ja) * | 1999-11-29 | 2011-03-23 | 太平洋セメント株式会社 | 積層型圧電アクチュエータ |
JP4854831B2 (ja) | 2000-03-17 | 2012-01-18 | 太平洋セメント株式会社 | 積層型圧電アクチュエータ |
JP2003205511A (ja) | 2001-11-07 | 2003-07-22 | Denso Corp | セラミック積層体の製造方法 |
JP4438321B2 (ja) * | 2003-06-02 | 2010-03-24 | 株式会社デンソー | 積層型圧電体素子の製造方法 |
JP4470504B2 (ja) * | 2004-02-03 | 2010-06-02 | 株式会社デンソー | 積層型圧電素子及びその製造方法 |
-
2004
- 2004-02-03 JP JP2004027162A patent/JP4470504B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2005
- 2005-02-01 US US11/046,699 patent/US7309945B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20050168106A1 (en) | 2005-08-04 |
JP2005223013A (ja) | 2005-08-18 |
US7309945B2 (en) | 2007-12-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4470504B2 (ja) | 積層型圧電素子及びその製造方法 | |
US7294953B2 (en) | Stacked piezoelectric element and method of fabrication thereof | |
JP5084744B2 (ja) | 積層型圧電素子、これを備えた噴射装置及び燃料噴射システム | |
JP4930410B2 (ja) | 積層型圧電素子 | |
JP4843948B2 (ja) | 積層型圧電素子 | |
JP2006013437A (ja) | 積層型圧電素子およびその製造方法ならびにこれを用いた噴射装置 | |
JP5027448B2 (ja) | 積層型圧電素子およびこれを用いた噴射装置 | |
JP2006165193A (ja) | 中空積層型圧電素子及びその製造方法 | |
JP4817610B2 (ja) | 積層型圧電素子およびその製造方法ならびにこれを用いた噴射装置 | |
JP4956054B2 (ja) | 積層型圧電素子およびこれを用いた噴射装置 | |
JP2005223014A (ja) | 積層型圧電素子及びその製造方法 | |
JP4569153B2 (ja) | 積層型圧電素子及び、その製造方法 | |
JP2007019420A (ja) | 積層型圧電素子 | |
JP3319413B2 (ja) | 圧電アクチュエータ、圧電アクチュエータの製造方法及びインクジェットヘッド | |
JP5821536B2 (ja) | 積層型圧電素子 | |
JP4925563B2 (ja) | 積層型圧電素子およびこれを用いた噴射装置 | |
JP2007287940A (ja) | 積層型圧電素子 | |
JP2004281547A (ja) | 積層型圧電素子及びその製造方法 | |
JP5472218B2 (ja) | 圧電素子 | |
JP4299807B2 (ja) | 積層型圧電素子及び噴射装置 | |
JP2005129871A (ja) | 積層型圧電素子及びこれを用いた噴射装置 | |
JP4868707B2 (ja) | 積層型圧電素子および噴射装置 | |
JP4741197B2 (ja) | 積層型圧電素子およびこれを用いた噴射装置 | |
JP2008300430A (ja) | 積層型圧電素子ならびにその製造方法 | |
JP2006156690A (ja) | 積層型圧電素子およびこれを用いた噴射装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060525 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091222 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20091224 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100115 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100209 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100222 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130312 Year of fee payment: 3 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 4470504 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130312 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140312 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |