JP5027448B2 - 積層型圧電素子およびこれを用いた噴射装置 - Google Patents
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(1)複数の圧電体層と複数の金属層とが同時焼成されて交互に積層された積層型圧電素子において、前記複数の金属層は、該金属層を構成する金属の充填率が積層方向に隣り合う両側の金属層よりも低い低充填金属層を複数含んでいることを特徴とする積層型圧電素子。
(2)複数の前記低充填金属層は、該低充填金属層以外の他の金属層を複数層挟んでそれぞれ配設されている前記(1)記載の積層型圧電素子。
(3)複数の前記低充填金属層が積層方向に規則的に配設されている前記(1)又は(2)記載の積層型圧電素子。
(4)前記複数の金属層は、該金属層を構成する金属の充填率が積層方向に隣り合う両側の金属層よりも高い高充填金属層を複数含んでいる前記(1)〜(3)のいずれかに記載の積層型圧電素子。
(6)複数の前記高充填金属層は、該高充填金属層以外の他の金属層を複数層挟んでそれぞれ配設されている前記(5)記載の積層型圧電素子。
(7)複数の前記高充填金属層が積層方向に規則的に配設されている前記(5)又は(6)記載の積層型圧電素子。
(8)前記複数の金属層は、該金属層を構成する金属の充填率が積層方向に隣り合う両側の金属層よりも低い低充填金属層を複数含んでいる前記(5)〜(7)のいずれかに記載の積層型圧電素子。
(9)前記低充填金属層に対して積層方向に隣り合う金属層が前記高充填金属層である前記(4)又は(8)記載の積層型圧電素子。
(10)前記低充填金属層に対して積層方向に隣り合う両側の金属層が前記高充填金属層である前記(4)又は(8)記載の積層型圧電素子。
(12)前記低充填金属層は、空隙を介して互いに離隔した状態で配設された複数の部分金属層で構成されている前記(1)〜(4),(8)〜(10)のいずれかに記載の積層型圧電素子。
(13)前記複数の金属層のうち、該金属層を構成する金属の充填率が積層方向に隣り合う両側の金属層よりも低い金属層を低充填金属層とし、金属の充填率が積層方向に隣り合う両側の金属層よりも高い金属層を高充填金属層とし、前記低充填金属層及び高充填金属層を除く他の金属層における金属の充填率をXとし、前記低充填金属層における金属の充填率をYとするとき、充填率の比(Y/X)が0.1〜0.9の範囲にある前記(1)〜(12)のいずれかに記載の積層型圧電素子。
(14)前記複数の金属層のうち、該金属層を構成する金属の充填率が積層方向に隣り合う両側の金属層よりも低い金属層を低充填金属層とし、金属の充填率が積層方向に隣り合う両側の金属層よりも高い金属層を高充填金属層とし、前記低充填金属層及び高充填金属層を除く他の金属層における金属の充填率をXとし、前記高充填金属層における金属の充填率をZとするとき、充填率の比(Z/X)が1.05〜2の範囲にある前記(1)〜(13)のいずれかに記載の積層型圧電素子。
(15)前記金属層が周期律表第8〜11族元素から選ばれる金属を主成分とし、前記金属層中の周期律表第8〜10族元素の含有量をM1(質量%)とし、周期律表第11族元素の含有量をM2(質量%)とするとき、0<M1≦15、85≦M2<100、M1+M2=100の関係を満足する前記(1)〜(14)のいずれかに記載の積層型圧電素子。
(16)前記金属層中の周期律表第8〜10族元素がNi、Pt、Pd、Rh、Ir、Ru及びOsから選ばれる少なくとも1種であり、前記周期律表第11族元素がCu、Ag及びAuから選ばれる少なくとも1種である前記(15)記載の積層型圧電素子。
(17)前記金属層がCuを主成分とする前記(1)〜(15)のいずれかに記載の積層型圧電素子。
(18)複数の圧電体層と複数の金属層とが同時焼成されて交互に積層された積層型圧電素子において、積層方向の両端には、圧電体で構成された不活性層が形成されており、前記不活性層に隣接する金属層は、該金属層における金属の充填率が積層方向に隣り合う金属層における金属の充填率よりも高い高充填金属層であることを特徴とする積層型圧電素子。
前記(15)記載の積層型圧電素子によれば、金属層が周期律表第8〜11族元素から選ばれる金属を主成分とし、前記金属層中の周期律表第8〜10族元素と、周期律表第11族元素との含有量が、所定の関係を満足するので、圧電体層と金属層とを同時焼成することが可能となり、その結果、圧電体層と金属層との界面(積層界面)が強固に結合してデラミネーションをより抑制することができる。しかも、素子が変位して金属層に応力が加わっても、金属層自体が伸縮できるので、応力が一点に集中することがなく、耐久性に優れる。
本発明の積層型圧電素子は、連続駆動させても所望の変位量が実効的に変化しないため、耐久性に優れた高信頼性の噴射装置を提供することができる。
以下、本発明の積層型圧電素子の一実施形態について図面を参照して詳細に説明する。図1(a)は、本実施形態の積層型圧電素子を示す斜視図であり、図1(b)は、図1(a)における圧電体層と金属層との積層状態を示す部分斜視図である。図2は、本実施形態にかかる積層型圧電素子の積層構造を示す部分拡大断面図である。図3は、本実施形態にかかる高充填金属層を示す部分拡大断面図である。図4は、本実施形態にかかる積層型圧電素子の他の積層構造を示す部分拡大断面図である。図5は、本実施形態にかかる積層型圧電素子の他の積層構造を示す部分拡大断面図である。図6は、本実施形態にかかる圧電体層の空隙を説明するための概略説明図である。
一方、不活性層14は、一方の主面側に金属層12が配置されているのみであり、他方の主面側には金属層12が配置されていないので、電圧を印加しても変位が生じない。
なお、金属層12の総層数は、用途に応じて任意に選定されるものであり、特に限定されるものではないが、通常、2〜10000層、好ましくは5〜1000層である。
さらに、金属層12の金属充填率を変化させることで、圧電体層11の変位の大きさを制御できるので、圧電体層11の厚みを変える必要もなく、量産性に優れる。また、主たる金属層12aは、略同一な金属充填率で構成されているのが好ましい。これにより、さらに変位が大きくなり、応答性が速く耐久性も向上する。
特に、低充填金属層12bが、主に金属とボイドから構成されていると、さらに耐久性の高い積層型圧電素子とすることができる。すなわち、低充填金属層12bは、図6に示すように、空隙(ボイド)12b’を介して互いに離隔した状態で配設された複数の部分金属層で構成されているのが好ましい。これにより、低充填金属層12bに接する圧電体層11が、金属層のなかでも空隙(ボイド)12b’等の金属の充填されていない部分に接すると、その部分の圧電体は素子に電圧が印加されても変位しない上、駆動中に応力が加わると変形して応力を緩和することができる(応力緩和効果)。すなわち、部分金属層で構成されている低充填金属層12bは、応力緩和層として作用する。したがって、その金属層に接する圧電体層11は駆動変位が小さくなり、素子の応力が一点に集中するのを避けることができる。その結果、耐久性に優れた高信頼性の積層型圧電素子とすることができる。
上記した以外の構成は、上記で説明した実施形態と同様であるので、説明は省略する。
なお、上記した以外の構成は、上記で説明した実施形態と同様であるので、説明は省略する。
なお、上記した以外の構成は、上記で説明した実施形態と同様であるので、説明は省略する。
次に、上記で説明した実施形態にかかる積層型圧電素子の製法について説明する。
まず、PbZrO3−PbTiO3等からなるペロブスカイト型酸化物の圧電セラミックスの仮焼粉末と、アクリル系、ブチラール系等の有機高分子から成るバインダーと、DBP(フタル酸ジブチル)、DOP(フタル酸ジオチル)等の可塑剤とを混合してスラリーを作製し、該スラリーを周知のドクターブレード法やカレンダーロール法等のテープ成型法により圧電体層11となるセラミックグリーンシートを複数作製する。
次に、上記で説明した本発明の積層型圧電素子を備えた噴射装置の一実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。図8は、本実施形態にかかる噴射装置を示す概略断面図である。図8に示すように、本実施形態にかかる噴射装置は、一端に噴射孔33を有する収納容器31の内部に、上記実施形態に代表される本発明の積層型圧電素子を備えた圧電アクチュエータ43が収納されている。
積層型圧電素子からなる圧電アクチュエータを以下のようにして作製した。
まず、平均粒径が0.4μmのチタン酸ジルコン酸鉛(PbZrO3−PbTiO3)を主成分とする圧電セラミックの仮焼粉末、バインダー、及び可塑剤を混合したスラリーを作製し、ドクターブレード法で厚み150μmの圧電体層11になるセラミックグリーンシートを複数作製した。ついで、このセラミックグリーンシートの片面に、主たる金属層12a、低充填金属層12b及び高充填金属層12cを、それぞれスクリーン印刷法により印刷した。
・主たる金属層12a:銀−パラジウム合金(銀95質量%−パラジウム5質量%)に平均粒径0.2μmのアクリルビーズを銀−パラジウム合金100質量部に対して10質量部の割合で加え、さらにバインダーを加えた導電性ペーストを、シート片面に厚さ3μmとなるように印刷した。
・低充填金属層12b:銀−パラジウム合金(銀95質量%−パラジウム5質量%)にバインダーを加えた導電性ペーストを、シート片面に厚さ1μmとなるように印刷し、その上に平均粒径1μmのアクリルビーズにバインダーを加えたアクリルビーズペーストを、厚さ10μmとなるように積層印刷した。なお、アクリルビーズは、銀−パラジウム合金100質量部に対して5質量部の割合となるように配合した。
・高充填金属層12c:銀−パラジウム合金(銀95質量%−パラジウム5質量%)にバインダーを加えた導電性ペーストを、シート片面に厚さ3μmとなるように印刷した。
なお、積層する際には、表1に示す組み合わせで積層した。表1中の詳細は、以下の通りである。
・金属層12aの層数割合:全金属層数に対する主たる金属層12aの層数の割合(%)
・低充填金属層12b,高充填金属層12cの対向配置:低充填金属層12bと高充填金属層12cが、少なくとも1層の圧電体層11を挟んで対向配置されているか否か
・低充填金属層12bの両側金属層が高充填金属層12c:低充填金属層12bに対して積層方向に隣り合う両側の金属層が高充填金属層12cであるか否か
・金属層12aが金属充填率の高い順に積層:積層方向に、低充填金属層12b、高充填金属層12c、主たる金属層12aの順序で間に圧電体層11をそれぞれ介して配置され、かつ主たる金属層12aが金属充填率の高い順に積層されているか否か
・主たる金属層12aにおける金属の充填率X:70%
・低充填金属層12bにおける金属の充填率Y:45%
・高充填金属層12cにおける金属の充填率Z:85%
上記で得られた各圧電アクチュエータについて、連続駆動試験を行なった。評価方法を下記に示すと共に、その結果を表1に示す。
(連続駆動試験の評価方法)
各圧電アクチュエータを室温で0〜+170Vの交流電圧を150Hzの周波数で印加して、1×109回まで連続駆動した試験を行った。より具体的には、試験は各試料100個ずつで行った。変位量は、光学式非接触微少変位計で測定した。初期状態の変位量とは、1回駆動させた際の変位量を意味する。また、連続駆動後の積層部を金属顕微鏡、SEM等を使って観察し、デラミネーションの有無を観察した。さらに、高調波成分のノイズ発生の有無及び1kHzでうなり音発生の有無を評価した。
積層型圧電素子からなる圧電アクチュエータを以下のようにして作製した。
まず、上記実施例1と同様にして各金属層が印刷されたシートを30枚用意した。ついで、これとは別に不活性層14になるグリーンシートを用意し、これらを下から順に不活性層5枚、積層体30枚、不活性層5枚となるように積層して積層成形体を得た。
なお、積層する際には、表4に示す組み合わせで積層した。表4中の詳細は、以下の通りである。
・低充填金属層12b,高充填金属層12cの配置:低充填金属層12bと高充填金属層12cが、少なくとも1層の圧電体層11を挟んで対向配置されているか否か
・主たる金属層12aにおける金属の充填率X:70%
・低充填金属層12bにおける金属の充填率Y:45%
・高充填金属層12cにおける金属の充填率Z:85%
上記で得られた各圧電アクチュエータについて、上記実施例1と同様にして連続駆動試験を行なった。その結果を表4に示す。
12,12a 金属層
12b 低充填金属層
12c 高充填金属層
13 積層体
14 不活性層
15 外部電極
31 収納容器
33 噴射孔
35 ニードルバルブ
37 燃料通路
39 シリンダ
41 ピストン
43 圧電アクチュエータ
45 皿バネ
Claims (19)
- 複数の圧電体層と複数の金属層とが同時焼成されて交互に積層された積層型圧電素子において、前記複数の金属層は、該金属層を構成する金属の充填率が積層方向に隣り合う両側の金属層よりも低い低充填金属層を複数含んでいることを特徴とする積層型圧電素子。
- 複数の前記低充填金属層は、該低充填金属層以外の他の金属層を複数層挟んでそれぞれ配設されている請求項1記載の積層型圧電素子。
- 複数の前記低充填金属層が積層方向に規則的に配設されている請求項1又は2記載の積層型圧電素子。
- 前記複数の金属層は、該金属層を構成する金属の充填率が積層方向に隣り合う両側の金属層よりも高い高充填金属層を複数含んでいる請求項1〜3のいずれかに記載の積層型圧電素子。
- 複数の圧電体層と複数の金属層とが同時焼成されて交互に積層された積層型圧電素子において、前記複数の金属層は、該金属層を構成する金属の充填率が積層方向に隣り合う両側の金属層よりも高い高充填金属層を複数含んでいることを特徴とする積層型圧電素子。
- 複数の前記高充填金属層は、該高充填金属層以外の他の金属層を複数層挟んでそれぞれ配設されている請求項5記載の積層型圧電素子。
- 複数の前記高充填金属層が積層方向に規則的に配設されている請求項5又は6記載の積層型圧電素子。
- 前記複数の金属層は、該金属層を構成する金属の充填率が積層方向に隣り合う両側の金属層よりも低い低充填金属層を複数含んでいる請求項5〜7のいずれかに記載の積層型圧電素子。
- 前記低充填金属層に対して積層方向に隣り合う金属層が前記高充填金属層である請求項4又は8記載の積層型圧電素子。
- 前記低充填金属層に対して積層方向に隣り合う両側の金属層が前記高充填金属層である請求項4又は8記載の積層型圧電素子。
- 前記高充填金属層が金属の充填率のピークであり、該高充填金属層から積層方向に2層以上の金属層にわたって金属の充填率が漸次減少する傾斜領域を有している請求項4〜10のいずれかに記載の積層型圧電素子。
- 前記低充填金属層は、空隙を介して互いに離隔した状態で配設された複数の部分金属層で構成されている請求項1〜4,8〜10のいずれかに記載の積層型圧電素子。
- 前記複数の金属層のうち、該金属層を構成する金属の充填率が積層方向に隣り合う両側の金属層よりも低い金属層を低充填金属層とし、金属の充填率が積層方向に隣り合う両側の金属層よりも高い金属層を高充填金属層とし、前記低充填金属層及び高充填金属層を除く他の金属層における金属の充填率をXとし、前記低充填金属層における金属の充填率をYとするとき、充填率の比(Y/X)が0.1〜0.9の範囲にある請求項1〜12のいずれかに記載の積層型圧電素子。
- 前記複数の金属層のうち、該金属層を構成する金属の充填率が積層方向に隣り合う両側の金属層よりも低い金属層を低充填金属層とし、金属の充填率が積層方向に隣り合う両側の金属層よりも高い金属層を高充填金属層とし、前記低充填金属層及び高充填金属層を除く他の金属層における金属の充填率をXとし、前記高充填金属層における金属の充填率をZとするとき、充填率の比(Z/X)が1.05〜2の範囲にある請求項1〜13のいずれかに記載の積層型圧電素子。
- 前記金属層が周期律表第8〜11族元素から選ばれる金属を主成分とし、前記金属層中の周期律表第8〜10族元素の含有量をM1(質量%)とし、周期律表第11族元素の含有量をM2(質量%)とするとき、0<M1≦15、85≦M2<100、M1+M2=100の関係を満足する請求項1〜14のいずれかに記載の積層型圧電素子。
- 前記金属層中の周期律表第8〜10族元素がNi、Pt、Pd、Rh、Ir、Ru及びOsから選ばれる少なくとも1種であり、前記周期律表第11族元素がCu、Ag及びAuから選ばれる少なくとも1種である請求項15記載の積層型圧電素子。
- 前記金属層がCuを主成分とする請求項1〜15のいずれかに記載の積層型圧電素子。
- 複数の圧電体層と複数の金属層とが同時焼成されて交互に積層された積層型圧電素子において、積層方向の両端には、圧電体で構成された不活性層が形成されており、前記不活性層に隣接する金属層は、該金属層における金属の充填率が積層方向に隣り合う金属層における金属の充填率よりも高い高充填金属層であることを特徴とする積層型圧電素子。
- 噴出孔を有する容器と、該容器内に収納される請求項1〜18のいずれかに記載の積層型圧電素子とを備え、前記容器内に充填された液体が、前記積層型圧電素子の駆動により前記噴射孔から吐出させるように構成されたことを特徴とする噴射装置。
Priority Applications (8)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006152289A JP5027448B2 (ja) | 2005-06-15 | 2006-05-31 | 積層型圧電素子およびこれを用いた噴射装置 |
CN201210155477.8A CN102651448B (zh) | 2005-06-15 | 2006-06-15 | 层叠型压电元件及使用其的喷射装置 |
EP06766780.8A EP1898476B1 (en) | 2005-06-15 | 2006-06-15 | Multilayer piezoelectric element and ejector using this |
US11/917,747 US8441174B2 (en) | 2005-06-15 | 2006-06-15 | Multilayer piezoelectric element and injector using the same |
PCT/JP2006/312046 WO2006135013A1 (ja) | 2005-06-15 | 2006-06-15 | 積層型圧電素子およびこれを用いた噴射装置 |
CN200680021047XA CN101238598B (zh) | 2005-06-15 | 2006-06-15 | 层叠型压电元件及使用其的喷射装置 |
US13/728,212 US20130168465A1 (en) | 2005-06-15 | 2012-12-27 | Multilayer Piezoelectric Element and Injector Using the Same |
US13/728,184 US8648517B2 (en) | 2005-06-15 | 2012-12-27 | Multilayer piezoelectric element and injector using the same |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005175719 | 2005-06-15 | ||
JP2005175719 | 2005-06-15 | ||
JP2006152289A JP5027448B2 (ja) | 2005-06-15 | 2006-05-31 | 積層型圧電素子およびこれを用いた噴射装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007027692A JP2007027692A (ja) | 2007-02-01 |
JP5027448B2 true JP5027448B2 (ja) | 2012-09-19 |
Family
ID=37787993
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006152289A Active JP5027448B2 (ja) | 2005-06-15 | 2006-05-31 | 積層型圧電素子およびこれを用いた噴射装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5027448B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1978567B1 (en) * | 2007-02-19 | 2014-06-25 | Continental Automotive GmbH | Piezoceramic multilayer actuator and method of manufacturing a piezoceramic multilayer actuator |
JP5055370B2 (ja) * | 2007-08-29 | 2012-10-24 | 京セラ株式会社 | 積層型圧電素子、これを備えた噴射装置及び燃料噴射システム |
EP2190042A4 (en) * | 2007-09-18 | 2012-04-11 | Kyocera Corp | STACKED PIEZOELECTRIC ELEMENT, SPRAY DEVICE AND FUEL JET SYSTEM EQUIPPED WITH SAME |
US8405278B2 (en) | 2007-10-29 | 2013-03-26 | Kyocera Corporation | Multi-layer piezoelectric element, ejection device having the element, and fuel ejection system |
JP5539902B2 (ja) * | 2008-01-23 | 2014-07-02 | エプコス アクチエンゲゼルシャフト | 圧電多層構成要素 |
JP7491713B2 (ja) * | 2020-03-27 | 2024-05-28 | Tdk株式会社 | 圧電素子、圧電アクチュエータ、および圧電トランス |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63142875A (ja) * | 1986-12-05 | 1988-06-15 | Sumitomo Special Metals Co Ltd | 圧電積層アクチユエ−タ− |
JP2893741B2 (ja) * | 1989-08-02 | 1999-05-24 | 日本電気株式会社 | 電歪効果素子 |
JPH03106082A (ja) * | 1989-09-20 | 1991-05-02 | Fuji Electric Co Ltd | 積層形圧電アクチュエータ素子 |
JPH11186626A (ja) * | 1997-12-25 | 1999-07-09 | Kyocera Corp | 積層型圧電アクチュエータ |
JP3506609B2 (ja) * | 1998-06-30 | 2004-03-15 | 京セラ株式会社 | 積層型圧電アクチュエータ |
JP3881484B2 (ja) * | 1999-11-11 | 2007-02-14 | 京セラ株式会社 | 積層型圧電アクチュエータ |
-
2006
- 2006-05-31 JP JP2006152289A patent/JP5027448B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007027692A (ja) | 2007-02-01 |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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