JP4300106B2

JP4300106B2 - セルロースアシレートフィルム及びその製膜方法

Info

Publication number: JP4300106B2
Application number: JP2003423050A
Authority: JP
Inventors: 斉和橋本; 正明大歳
Original assignee: Fujifilm Corp
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 2003-12-19
Filing date: 2003-12-19
Publication date: 2009-07-22
Anticipated expiration: 2023-12-19
Also published as: JP2005178194A; US20050150426A1; US7955685B2

Description

本発明は、光学フィルムとして用いられる、溶融流延によって形成された未延伸及び延伸セルロースアシレートフィルム及びその製膜方法に関する。

従来、液晶画像表示装置の基板として用いられてきたセルロースアシレートフィルムは、ジクロロメタンのような塩素系有機溶剤にセルロースアシレートを溶解してドープを調製し、このドープを延流ダイから流延支持体上に流延し乾燥して製膜されていた。ジクロロメタンには、沸点が低く（沸点約４０℃）、乾燥しやすいという利点がある。このため、従来、ジクロロメタンは、セルロースアシレートフィルムの塩素系有機溶剤として好適に用いられてきた。

ジクロロメタンのような低沸点の塩素系有機溶剤は、近年の環境保全の観点から密閉設備での取り扱いが義務付けられている。例えば、徹底的なクローズドシステムにより塩素系有機溶剤の漏れを防止し、万一漏れたとしても外気に出る前にガス吸収塔内で塩素系有機溶剤を吸着させて処理する方法が採られている。さらに、外気に排出する前に火力による燃焼又は電子線ビームによって塩素系有機溶剤の分解を行い、塩素系有機溶剤の排出する方法も採られている。しかるに、塩素系有機溶剤の完全な排出を防ぐことは困難であり、更なる研究が必要であった。

大気中への塩素系有機溶剤の排出を防ぐ対策としては、これまでに塩素系有機溶剤を用いないセルロースアシレートの製膜方法が知られている（特許文献１）。この製膜方法では、セルロースアシレートのエステル基の炭素鎖を長くして融点を下げて溶融製膜しやすくしている。より具体的には、特許文献１の方法では、セルロースアセテートをセルロースプロピオネート、セルロースプロピオネート等に変更して溶融製膜を可能としている。

しかし、前記方法で得られたセルロースアシレートフィルムを用いて偏光板を作製し、液晶表示装置に組み込んで使用した場合、表示むら、特に長手方向に顕著な表示むらが発生するという欠点があった。このような表示むらは、特に１５インチ以上の大型液晶表示板に組み込まれた場合に特に顕著であり、ディスプレイの大型化に際しては大きな課題であり、更なる改良が必要であった。さらに、前記製膜方法で得られたセルロースアシレートフィルムは、湿度変化により視野特性が変動し易くなり、更なる改良が望まれていた。
特開２０００−３５２６２０号公報（請求項７、［００１６］、［００３９］〜［００４０］）

本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、液晶表示装置に組み込んだ場合に、表示むら及び湿度による視認性の変化が大幅に軽減し又は解消した未延伸及び延伸セルロースアシレートフィルム及びその製膜方法を提供することにある。

本発明者は、大型液晶表示板でセルロースアシレートフィルムを用いた場合に発生する表示むらの原因につき鋭意検討した。その結果、溶融流延により製膜されるセルロースアシレートフィルムのむらが主な原因であることをつきとめ、その改善方法を見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明の上記目的は以下のセルロースアシレートフィルムにより達成される。
（１）溶融流延によって形成されるセルロースアシレートフィルムであって、Ｒeむらが０〜１０％、厚みむらが０〜２％、Ｒｔｈむらが０〜１０％であることを特徴とする未延伸セルロースアシレートフィルム。
（２）溶融流延によって形成されるセルロースアシレートフィルムであって、Ｒe湿度変化率及びＲth湿度変化率が０〜１．５％／％ＲＨであることを特徴とする未延伸セルロースアシレートフィルム。
（３）溶融流延によって形成されるセルロースアシレートフィルムであって、Ｒe湿度変化率及びＲth湿度変化率が０〜１．５％／％ＲＨであることを特徴とする（１）または（２）に記載の未延伸セルロースアシレートフィルム。
（４）溶融流延によって形成されるセルロースアシレートフィルムであって、Ｒeむらが０〜１０％、厚みむらが０〜２％、Ｒｔｈむらが０〜１０％であることを特徴とする延伸セルロースアシレートフィルム。
（５）溶融流延によって形成されるセルロースアシレートフィルムであって、Ｒe湿度変化率及びＲth湿度変化率が０〜１．５％／％ＲＨであることを特徴とする延伸セルロースアシレートフィルム。
（６）溶融流延によって形成されるセルロースアシレートフィルムであって、Ｒe湿度変化率及びＲth湿度変化率が０〜１．５％／％ＲＨであることを特徴とする（４）または（５）に記載の延伸セルロースアシレートフィルム。
（７）（１）〜（３）のいずれかに記載の未延伸セルロースアシレートフィルムを、少なくとも１方向に１〜５００％延伸して得られることを特徴とする（４）〜（６）に記載の延伸セルロースアシレートフィルム。
（８）前記セルロースアシレートフィルムが含有するセルロースアシレートのアシレート基が下記の置換度を満たすことを特徴とする（１）〜（７）のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
２．６≦Ｘ＋Ｙ≦３．０
０≦Ｘ≦１．８
１．０≦Ｙ≦３．０
但し、Ｘはアセテート基の置換度であり、Ｙはプロピオネート基、ブチレート基、プロピオネート基及びヘキサネート基の置換度の総和である。
（９）前記セルロースアシレートフィルムが含有するセルロースアシレートの粘度平均重合度が、２５０〜５５０であることを特徴とする（１）〜（８）のいずれか一項に記載のセルロースアシレートフィルム。

さらに、本発明は、以下のセルロースアシレートフィルムの製膜方法及びセルロースアシレートフィルムを用いた偏光板、液晶表示板用光学補償フィルム、反射防止フィルムをも提供できる。
（１０）セルロースアシレートを溶融する工程と、流延する工程とを含むセルロースアシレートフィルムの製造方法であって、含水率が０〜０．５％のセルロースアシレートを１８０〜２５０℃の温度において圧縮比３〜１５のスクリューを用いて溶融した後、前記溶融時の溶融温度よりも５〜３０℃低い温度に制御したＴ−ダイから５〜５０ｃｍ離れた距離に設置したキャスティングドラム上に溶融物を押し出す工程と、前記キャスティングドラム上で溶融物を冷却固化する際に、セルロースアシレートのＴｇ＋３０℃〜Ｔｇの間を１０〜１００℃／秒の速度で冷却固化する工程と、前記キャスティングドラムから冷却固化されたフィルムを剥ぎ取る工程を含むことを特徴とするセルロースアシレートフィルムの製膜方法。
（１１）キャスティングドラムからフィルムを剥ぎ取った後、前記フィルムをニップロールで巻き取り張力を取り除き、次いで０〜１０ kg/cm²の張力で前記フィルムをロールに巻き取ることを特徴とする（１０）に記載のセルロースアシレートフィルムの製膜方法。
（１２）前記Ｔ−ダイから押し出した後、セルロースアシレートのＴg〜Ｔg−２０℃の間を冷却速度−０．１〜−２０℃／秒の速度で冷却することを特徴とする（１２）または（１３）に記載のセルロースアシレートフィルムの製膜方法。
（１３）前記セルロースアシレートのアシレート基が、下記の置換度を満たすことを特徴とする（１０）〜（１２）に記載のセルロースアシレートフィルムの製膜方法。
２．６≦Ｘ＋Ｙ≦３．０
０≦Ｘ≦１．８
１．０≦Ｙ≦３
（但し、Ｘはセルロースアシレート中のアセテート基の置換度であり、Ｙはセルロースアシレート中のプロピオネート基、ブチレート基、プロピオネート基、ペンタネート基およびヘキサネート基の置換度の総和である。）
（１４）さらにフィルムを延伸する工程を有することを特徴とする（１０）〜（１３）のいずれか一項に記載のセルロースアシレートフィルムの製膜方法。
（１５）前記フィルムを延伸する工程において、未延伸フィルムを少なくとも１方向に１〜５００％延伸することを特徴とする（１４）に記載のセルロースアシレートフィルムの製膜方法。
（１６）偏光層に（１）〜（９）のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルムを少なくとも１層積層したことを特徴とする偏光板。
（１７）前記偏光層の吸収軸が４５°傾けてテンター延伸されたことを特徴とする（１６）に記載の偏光板。
（１８）（１）〜（９）のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルムを基材として用いた液晶表示板用光学補償フィルム。
（１９）（１）〜（９）のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルムを基材として用いた反射防止フィルム。

本発明は、Ｒeむら、Ｒthむら、厚みむらをそれぞれ所定の範囲に調整した、溶融製膜により得られるセルロースアシレートフィルムである。これにより本発明のセルロースアシレートフィルムであれば、液晶表示装置に組み込んだ場合に、表示むら及び湿度による視認性の変化を大幅に解消できるため、大型液晶表示装置用の基板として最適である。

以下に、本発明のセルロースアシレートフィルムについて詳細に説明する。
なお、本明細書において「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味として使用される。

本発明のセルロースアシレートフィルムは、未延伸セルロースアシレートフィルム（以下「未延伸フィルム」という）と延伸セルロースアシレートフィルム（以下「延伸フィルム」という）に大別できる。以下、未延伸フィルムと延伸フィルムに分けて説明する。

［未延伸フィルム］
本発明の未延伸フィルムは、Ｒeむらが０〜１０％、Ｒthむらが０〜１０％、厚みむらが０〜２％である。すなわち、本発明の未延伸フィルムは、延伸前の原反を均一に作り込むことにより、未延伸フィルムの光学むら及び厚みむらを極力小さしたものである。

＜Ｒeむら＞
面内の残留位相差（レタデーション）Ｒeは、面内の長手方向（ＭＤ）の屈折率と幅方向（ＴＤ）の屈折率との差に厚みを乗じたものである。Ｒeは、０〜１００ｎｍであることが好ましく、０〜５０ｎｍであることがより好ましく、０〜２５ｎｍであることがさらに好ましい。また、Ｒeむらは０〜１０％の範囲であり、０〜７％であることが好ましく、０〜５〜５％であることがさらに好ましい。

Ｒeむらを上記範囲にするためには、キャスティングドラムから冷却固化されたフィルムを剥ぎ取った後、ニップロールで巻き取り張力を取り除き、次いで０〜１０kg/cm²、好ましくは０．１〜９kg/cm²、さらに好ましくは０．５〜７kg/cm²の張力で前記フィルムをロールに巻き取ることが好ましい。

キャスティングドラムから剥ぎ取った直後のフィルムの温度は、セルロースアシレートのガラス転移温度（以下、単に「Ｔｇ」という）近傍である。このため、フィルムは巻き取り張力により延伸されて、フィルムにはＲe及びＲthが発生する。Ｒe及びＲthは、特にフィルム中央部より端部において顕著に現れる。その結果、フィルムに放物線状のむら（即ちＲe及びＲthむら）が発生する。

上記Ｒe及びＲthむらを抑える方法として、キャスティングドラムの後にニップロールを設置し、巻き取り張力を取り除く方法が知られている。しかし、この方法でも巻き取り張力を完全には取り除くことはできず、僅かに残った張力がキャスティングドラムから剥ぎ取った後のフィルムまで伝播し、これがＲe及びＲthむらを引き起こす。このようなむらは、幅方向全域に亘って発生するため、小さなサイズでは検知し難く、大きなサイズを切り出したときに問題となる。そこで、本発明では、０〜１０kg/cm²と弱い張力でフィルムをロールに巻き取り、前記Ｒe及びＲthむらの発生を極力小さくする（なお、従来のセルロースアシレートフィルムは、通常２０kg/cm²以上の張力で巻き取られるのが一般的であった）。
なお、弱い張力で巻き取ると巻きズレが発生し易くなるが、これには両端にナーリング（厚みだし）加工を付与することで解消できるため、問題にならない。

＜Ｒthむら＞
厚み方向の残留位相差（レタデーション）Ｒthは、面内の屈折率（長手方向（ＭＤ）と幅方向（ＴＤ）の平均）と厚み方向の屈折率との差に厚みを乗じたものである。Ｒthは、０〜１００ｎｍであることが好ましく、０〜５０ｎｍであることがより好ましく、０〜２５ｎｍであることがさらに好ましい。また、Ｒthむらは、０〜１０％であり、０〜７％であることが好ましく、０〜５％であることがさらに好ましい。

Ｒthむらを０〜１０％の範囲にするためには、流延ダイ（Ｔ−ダイ）から押出された溶融状態のフィルム（以下「メルト」という）がキャスティングドラム上で冷却固化する時間をできるだけ長くすることが好ましい。流延ダイからＴｇ以上の温度で押出されたメルトは、キャスティングドラム上で冷却されてＴｇ以下の温度で収縮する。メルトにおける面内方向の収縮は、メルトとキャスティングドラムとの摩擦により抑制され、厚み方向の収縮が支配的となる。このような場合に、面配向が形成され、Ｒthが発生する。このため、厚み方向の収縮が急激であると、Ｒthのむらが発生しやすい。そこで、本発明では、メルトのキャスティングドラム上における冷却はゆっくり行われる。

キャスティングドラム上のメルトは、Ｔｇ＋３０℃〜Ｔｇの間を１０〜１００℃／秒の固化速度で冷却し固化する。好ましくは、固化速度は１５〜８０℃／秒であり、さらに好ましくは２０〜６０℃／秒である。この固化速度は、従来の３００℃／秒以上の固化速度よりもかなり遅い冷却速度である。

固化速度を１０〜１００℃／秒の範囲にするためには、キャスティングドラムの温度と流延ダイの温度の差を調整すること（温調）が好ましい。キャスティングドラムと流延ダイとの温度差は、Ｔｇ−３０℃〜Ｔｇ＋５０℃であり、Ｔｇ−２０℃〜Ｔｇ＋４０℃であることが好ましく、Ｔｇ−１０℃〜Ｔｇ＋３０℃であることがさらに好ましい。

＜Ｒe及びＲth湿度変化率＞
液晶表示板として本発明の未延伸フィルムを組み込んだ場合の表示むらは、湿度に伴うＲe及びＲthの発生が一つの原因であると考えられている。液晶表示板では、背部に取り付けた光源によりフィルムの温度が上昇し、偏光板等に使用したセルロースアシレート中の含水率が変化する。さらに、湿度の上昇に伴い、セルロースアシレートフィルム中のセルロースアシレートに水分が吸着してセルロースアシレート分子間の自由体積が変化し、これに伴いアシレート基の運動性が変化し、アシレート基が変化すると推測される。このようなセルロースアシレート中の含水率の変化及びアシレート基の運動性の変化は、Ｒe及びＲthの発生を促し、その結果、Ｒe及びＲthむらを発生する。このようにＲe及びＲthは湿度依存性が大きく、湿度の変化に伴いＲe及びＲth変動が発生する。

Ｒe湿度変化率及びＲth湿度変化率は、いずれも０〜１．５％／％ＲＨであることが適当であり、０〜１．２％／％ＲＨであることが好ましく、０〜１％／％ＲＨであることがさらに好ましい。Ｒe湿度変化率及びＲth湿度変化率が０〜１．５％／％ＲＨの範囲であれば、液晶表示板として本発明のセルロースアシレートフィルムが組み込まれ、高温多湿の環境下であってもＲe及びＲthむらの発生を少なくすることができる。

Ｒe及びＲth湿度変化率を小さくするためには、自由体積を小さくすることが有効である。自由体積を小さくするためには、流延ダイからメルトを押出した後、Ｔｇ以下の温度でゆっくり冷却することが効果的である。好ましい冷却速度はＴｇ−２０℃〜Ｔｇの間を−０．１℃／秒〜−２０℃／秒、好ましくは−０．５℃／秒〜−１５℃／秒、さらに好ましくは−１℃／秒〜−１０℃／秒で冷却することにより達成できる。

上記の冷却（徐冷）は、複数のキャスティングドラムを設置し、これらのドラム上でゆっくり冷却すること（−０．１〜−２０℃／秒）により達成できる（なお、従来は１本のキャスティングドラムで固化した後、フィルムを剥ぎ取り、空気中でフィルムを急冷していたため、５０℃／秒以上の冷却速度であった）。好ましいキャスティングドラムの本数は、２〜１０本であり、より好ましくは２〜６本であり、さらに好ましくは３〜５本である。これらのキャスティングドラムの温度は、同じであってもよく、異なっていてもよい。より好ましいのは、最上流のキャスティングドラムの温度を最下流のキャスティングドラムよりも低くすることである。３本以上配置する場合、真中のキャスティングドラムの温度はその前後のキャスティングドラムの温度より高くても低くても構わない。すなわち、最上流と最下流のキャスティングドラムの温度を低くすればよく、その間のキャスティングドラムの温度は任意に設定することができる。これらのキャスティングドラムの直径は、２０〜２００ｃｍであることが適当であり、３０〜１５０ｃｍであることが好ましく、３５〜１００ｃｍであることがさらに好ましい。

Ｒe湿度変化率及びＲth湿度変化率を０〜１．５％／％ＲＨの範囲にするための製膜速度は、１５〜３００ｍ／分であることが好ましく、２０〜２００ｍ／分であることより好ましく、３０〜１００ｍ／分であることがさらに好ましい。

＜厚みむら＞
溶融製膜法は、溶融混練機から流延ダイ（スリット）を通してキャスティングドラム上にメルトを押出し、冷却固化して製膜する。流延ダイに発生するダイ筋は、幅方向（ＴＤ）の厚みむらを引き起こし、かつキャスティングドラム上への密着条件により長手方向（ＭＤ）の厚みむら（横ダン）を引き起こす。
本発明の未延伸フィルムの厚みむらは、長手方向（ＭＤ）及び幅方向（ＴＤ）のいずれも０〜２％であり、０〜１．５％であることが好ましく、０〜１％であることがさらに好ましい。厚みむらを０〜２％の範囲内に抑えることにより、製膜後のフィルムの表示むらの発生を防ぐことができる。

本発明では、前記ダイ筋を解消するために、溶融温度を１８０〜２５０℃、好ましくは１９０〜２４０℃、さらに好ましくは２００〜２３０℃に調整する。通常の樹脂の溶融温度は２６０℃以上の高温度であるが、本発明では溶融温度を１８０〜２５０℃の範囲に調整することにより、セルロースアシレートの分解を抑制することができる。これによりダイ内に残留したセルロースアシレートの分解物により発生するダイラインが原因で起こる厚みむらを軽減できる。

但し、上記のように溶融温度を低下させると溶融不良が発生し、これによりブツが発生する場合がある。そこで、本発明では、低温においても溶解不良を発生させないために、さらに高圧縮比のスクリューを用いる。圧縮比は、通常は３未満であるが、本発明では圧縮比が３〜１５であり、４〜１２であることが好ましく、５〜１０であることがさらに好ましい。

さらに本発明では、流延ダイ（Ｔ−ダイ）の温度を溶融温度より５〜３０℃低くする。これは、流延ダイ上で滞留したセルロースアシレートが分解し、焦げつくことによりダイラインを引き起こすのを防ぐためである。通常の製膜方法では、溶融混練機から流延ダイ（Ｔ−ダイ）までの温度を同じ温度又はそれ以上の温度とし、溶融粘度を低くすることで発生したダイラインをレベリング化するのが一般的である。しかし、熱分解しやすいセルロースアシレートを溶融製膜する場合には、上記のように溶融温度より５〜３０℃低い温度とすることが有効である。

さらに、本発明では溶融前のセルロースアシレートの含水率を０〜０．５％とし、好ましくは０〜０．４％、さらに好ましくは０〜０．３％に調整する。これにより溶融中に発現するセルロースアシレートの加水分解及び加水分解に伴う異物の発生を抑止できる。セルロースアシレートの含水量の調整は、セルロースアシレートを８０〜１８０℃の温度で０．１〜１００時間乾燥することにより行える。なお、乾燥時は、空気雰囲気下、不活性気体（例えば窒素）雰囲気下及び真空中のいずれであってもよい。

一方、長手方向（ＭＤ）の厚みむら（横ダン）を解消する方法として、本発明では流延ダイ（Ｔ−ダイ）とキャスティングドラムとの間を５〜５０ｃｍとし、好ましくは６〜４０ｃｍ、さらに好ましくは７〜３５ｃｍ離す。ネックインを防ぐために、流延ダイ（Ｔ−ダイ）とキャスティングドラムの間はなるべく近づけるのが一般的であり、通常１〜３ｃｍの間隔まで近づける。本発明ではセルロースアシレートがネックインしにくいため、上記のようにキャスティングドラムと流延ダイ（Ｔ−ダイ）の間を広くすることが好ましい。これにより、キャスティングドラムに接触する時の温度を下げ、押出したフィルムとキャスティングドラムの温度差を小さくすることができる。

溶融フィルムとキャスティングドラムとの温度差が大きいと、溶融フィルム（メルト）はキャスティングドラム上で急激に収縮し、これにより皺が発生して横ダンとなる。そこで、横ダンの発生を防ぐためには、キャスティングドラムの温度はＴｇ−３０℃〜Ｔｇであることが好ましく、Ｔｇ−２０℃〜Ｔｇ−１℃であることがより好ましく、Ｔｇ−１５℃〜Ｔｇ−２℃であることがさらに好ましい。このように流延ダイ（Ｔ−ダイ）とキャスティングドラム間の距離を長くすることは、上記ダイ筋をレベリング化させ軽減させる効果も有する。

本発明の未延伸フィルムの厚みは、特に制限されないが、１０〜４００μｍであることが好ましく、２０〜３００μｍであることがより好ましく、３０〜２００μｍであることがさらに好ましい。未延伸フィルムの厚みが１０μｍ以上あれば、適度な力学強度を維持でき、取り扱い中に破断することもない。一方、未延伸フィルムの厚みが４００μｍ以下であれば、容易に折り曲げることができ、取り扱いに便利である。

［延伸フィルム］
次に、本発明の延伸フィルムについて説明する。
本発明の延伸フィルムは、上述の厚みむら及び光学むら（Ｒeむら及びＲthむら）の少ない未延伸フィルムを原反として用いることにより、厚み及びレターデーションを均一にした延伸を行うことができる。これに対し、従来の特開２０００−３５２６２０号公報に記載された製膜方法では、厚みむらの存在するフィルムを延伸するため、力学的に弱い薄いところから延伸され始め、厚みむらが増幅されやすい。

本発明の延伸フィルムのＲe及びＲthは、２０〜１０００ｎｍであることが好ましく、２５〜５００ｎｍであることがより好ましく、２５〜２００ｎｍであることがさらに好ましい。また、本発明の延伸フィルムのＲeむらは、０〜１０％であり、０〜７％であることが好ましく、０〜５％であることがさらに好ましい。また、Ｒthむらは、０〜１０％であり、０〜７％であることが好ましく、０〜５％であることがさらに好ましい。さらに、厚みむらは、厚み方向（ＭＤ）及び幅方向（ＴＤ）のいずれも０〜２％であり、０〜１．５％であることが好ましく、０〜１％であることがさらに好ましい。また、Ｒe及びＲth湿度変化率は、０〜１．５％／％ＲＨであることが適当であり、０〜１．２％／％ＲＨであることが好ましく、０〜１％／％ＲＨであることがさらに好ましい。

本発明の延伸フィルムは、上記特性を有する未延伸フィルムを延伸することにより得られる。すなわち、Ｒeむらの小さな未延伸フィルム（原反）を延伸することにより、Ｒeむら、Ｒthむら、厚みむら、並びにＲe及びＲth湿度変化率の小さな延伸フィルムを作製することができる。延伸条件については後に詳述する。

本発明の延伸フィルムの厚さは、１０〜３００μｍであることが好ましく、２０〜２００μｍであることがより好ましく、３０〜１００μｍであることがさらに好ましい。延伸フィルムの厚みが１０μｍ以上であれば、適度な力学強度が得られ、取り扱い中に破断することもない。一方、延伸フィルムの厚みが４００μｍ以下であれば、容易に折り曲げることができ、取り扱いに便利である。

［セルロースアシレートフィルムのその他の物性］
本発明のセルロースアシレートフィルムは、１０５℃、５時間での縦及び横の寸法収縮率が±０．１％以下、好ましくは±０．０８％以下であり、８０℃、９０％ＲＨにおける寸法収縮率が縦及び横とも±０．５％未満、好ましくは±０．４％未満であることが好ましい。また、ヘイズは０．６％以下、好ましくは０．４％以下である。また、引裂強度は縦及び横とも１０ gf以上、好ましくは１５ gf以上である。また、引張強度は縦及び横とも５０ N/mm²以上、好ましくは７０ N/mm²以上である。また、弾性率は縦及び横とも３ kN/mm²以上、好ましくは４ kN/mm²以上である。

本発明のセルロースアシレートフィルムは単独で用いてもよく、あるいは該フィルムと偏光板とを組み合わせて用いてもよい。さらに、これらの上に液晶層や屈折率を制御した層（低反射層）やハードコート層を設けて使用してもよい。

［セルロースアシレートフィルムの製膜方法］
次に、本発明のセルロースアシレートフィルムの製膜方法について説明する。
＜セルロースアシレート＞
本発明で用いるセルロースアシレートは、セルロースの低級脂肪酸エステルである。ここにいう低級脂肪酸とは、炭素原子数が６以下の脂肪酸を意味する。低級脂肪酸エステル（アシレート基）としては、例えば、アセテート基、プロピオネート基、ブチレート基、ペンタネート基、ヘキサネート基でエステル化したものが挙げられる。これらの中で好ましいものは、アセテート基、プロピオネート基、ブチレート基及びペンタネート基でエステル化されたものであり、さらに好ましいものはアセテート基、プロピオネート基及びブチレート基でエステル化されたものである。これら基を含むセルロースの低級脂肪酸エステルは、単一種の脂肪酸からなってもよく、複数の脂肪酸からなってもよい。

さらに、本発明で用いるセルロースアシレートのアシレート基は以下の条件を満たすことが好ましい。
２．６≦Ｘ＋Ｙ≦３．０
０≦Ｘ≦１．８
１．０≦Ｙ≦３
但し、Ｘは、アセテート基の置換度であり、Ｙは、プロピオネート基、ブチレート基、プロピオネート基、ペンタネート基、ヘキサネート基の置換度の総和である。

上記条件は、好ましくは下記の条件を満たすアシレート基である。

２．６≦Ｘ＋Ｙ≦３．０
０≦Ｘ≦１．４
１．３≦Ｙ≦３

さらに好ましくは、下記の条件を満たすアシレート基である。
２．７≦Ｘ＋Ｙ≦３．０
０≦Ｘ≦１
１．５≦Ｙ≦３

上記のアセテート基の置換度（Ｘ）を低くし、かつプロピオネート基、ブチレート基、ペンタネート基、及びヘキサネート基の置換度の総和（Ｙ）を多くすることによっても、Ｒe及びＲth湿度変化率を抑制できる。この機構の詳細は不明であるが、前記プロピオネート基等が配向してレターデーション発現に寄与すると推測される。すなわち、吸脱湿に伴い、前記プロピオネート基等が運動し、それにより配向が変化してレターデーションが変動すると考えられる。アセチル基より大きな基を持つプロピオネート基等をセルロースアシレートフィルムのアシレート基として導入することにより、この運動が抑制され、その結果、湿度によるレターデーション変化が小さくできるものと推測される。

セルロースアシレートの合成方法の基本的な原理は、右田他、木材化学、第１８０〜１９０頁（共立出版、１９６８年）に記載されている。代表的な合成方法は、カルボン酸無水物−酢酸−硫酸触媒による液相酢化法である。具体的には、綿花リンターや木材パルプ等のセルロース原料を適当量の酢酸で前処理した後、予め冷却したカルボン酸化混液に投入してエステル化し、完全セルロースアシレート（２位、３位及び６位のアシル置換度の合計がほぼ３．００）を合成する。上記カルボン酸の混合液は、一般に溶媒としての酢酸、エステル化剤としての無水カルボン酸及び触媒としての硫酸を含む。無水カルボン酸は、これと反応するセルロース及び系内に存在する水分の合計よりも、化学量論的に過剰量で使用することが普通である。

アシル化反応終了後に、系内に残存している過剰の無水カルボン酸の加水分解及びエステル化触媒の一部の中和のために、中和剤を含有した水溶液を添加する。中和剤としては、例えば、カルシウム、マグネシウム、鉄、アルミニウム又は亜鉛の炭酸塩、酢酸塩若しくは酸化物が挙げられる。次に、得られた完全セルロースアシレートを少量の酢化反応触媒（一般には、残存する硫酸）の存在下で、５０〜９０℃に保つことによりケン化熟成し、所望のアシル置換度及び重合度を有するセルロースアシレートまで変化させる。所望のセルロースアシレートが得られた時点で、系内に残存している触媒を前記のような中和剤を用いて完全に中和するか、あるいは中和することなく水又は希硫酸中にセルロースアシレート溶液を投入（あるいは、セルロースアシレート溶液中に水又は希硫酸を投入）してセルロースアシレートを分離し、洗浄及び安定化処理によりセルロースアシレートを得る。

本発明で用いるセルロースアシレートの重合度は、粘度平均重合度２００〜７００であることが好ましく、２５０〜５５０であることがより好ましく、２５０〜４００であることがさらに好ましく、２５０〜３５０であることが最も好ましい。粘度平均重合度は、宇田らの極限粘度法（宇田和夫、斉藤秀夫、繊維学会誌、第１８巻第１号、１０５〜１２０頁、１９６２年）により測定できる。さらに粘度平均重合度については、特開平９−９５５３８号公報に詳細に記載されている。

本発明で用いられるセルロースアシレートの粘度平均重合度の調整は、低分子量成分を除去することによっても達成できる。低分子量成分が除去されると、平均分子量（重合度）が高くなるが、粘度は通常のセルロースアシレートよりも低くなるため有用である。低分子量成分の除去は、セルロースアシレートを適当な有機溶媒で洗浄することにより達成できる。さらに重合方法でも分子量を調整できる。例えば、低分子成分の少ないセルロースシレテートを製造する場合、酢化反応における硫酸触媒量を、セルロース１００質量部に対して０．５〜２５質量部に調整することが好ましい。硫酸触媒の量を上記範囲にすると、分子量部分布の点でも好ましい（分子量分布の均一な）セルロースアシレートを合成することができる。

本発明で用いられるセルロースアシレートの重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）比は、１．５〜５．５、好ましくは２．０〜５．０、より好ましくは２．５〜５．０、さらに好ましくは３．０〜５．０である。

本発明で用いられるセルロースアシレートのＴｇは、７０〜１８０℃であることが好ましく、８０〜１６０℃であることがより好ましく、９０〜１５０℃であることがさらに好ましい。

本発明で用いられるセルロースアシレートは、１種類のみを用いてもよく、２種以上混合してもよい。また、セルロースエステル以外の高分子成分を適宜混合してもよい。混合される高分子成分は、セルロースエステルと相溶性に優れるものが好ましく、フィルムにしたときの透過率が８０％以上、好ましくは９０％以上、さらに好ましくは９２％以上であることが好ましい。

上記セルロースアシレートは、溶融製膜時の厚みむら（吐出むら）を小さくする観点からペレット化したものを用いることが好ましい。ペレットの大きさは０．００１〜１ cm³であることが好ましく、０．０１〜０．５ cm³であることがより好ましく、０．０２〜０．３ cm³であることがさらに好ましい。ペレット化されたセルロースアシレートは、上記の条件で乾燥して用いられる。

＜添加剤＞
本発明のセルロースアシレートフィルムには、種々の添加剤（例えば、可塑剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、微粒子、劣化防止剤、光学異方性コントロール剤など）を加えることができる。

可塑剤は、例えば、特開２０００−３５２６２０号公報に記載のものを使用でき、セルロースアシレートの質量に対して０．１〜２５質量％の濃度で含有させることが好ましい。また、赤外線吸収剤は、例えば、特開平２００１−１９４５２２号公報に記されたものを使用できる。また、紫外線吸収剤は、例えば、特開平２００１−１５１９０１号公報に記載されたものを使用できる。赤外線吸収剤及び紫外線吸収剤は、セルロースアシレートの質量に対して０．００１〜５質量％の濃度でそれぞれ含有させることが好ましい。また、微粒子は、金属酸化物や架橋ポリマーからなるものを使用でき、平均粒径５〜３０００ nmの範囲のものを使用することが好ましい。微粒子は、セルロースアシレートの質量に対して０．００１〜５質量％の濃度で含有させることが好ましい。また、劣化防止剤は、セルロースアシレートの質量に対して０．０００１〜２質量％の濃度で含有させることが好ましい。また、光学異方性コントロール剤は、例えば、特開２００３−６６２３０号公報、特開２００２−４９１２８号公報に記載のものを使用でき、セルロースアシレートの質量に対して０．１〜１５質量％の濃度で含有させることが好ましい。

次に本発明のセルロースアシレートフィルムの製膜条件について説明する。
＜溶融製膜＞
（ａ）予熱
乾燥後、直ちに溶融押出し機のホッパーにセルロースアシレートを投入する。このときホッパーをＴｇ−５０℃〜Ｔｇ＋３０℃、好ましくはＴｇ−４０℃〜Ｔｇ＋１０℃、さらに好ましくはＴｇ−３０℃〜Ｔｇにする。これによりホッパー内での水分の再吸着を抑制し、上記乾燥の効率をより発現しやすくできる。

（ｂ）混練押出し
上記圧縮比（圧縮比３〜１５）のスクリューを用い、上記溶融温度（１８０〜２５０℃）でセルロースアシレートを混練する。この時、溶融温度は一定温度で行ってもよく、いくつかに温度領域に分割して制御してもよい。より好ましくは上流側（ホッパー側）の温度を下流側（Ｔ−ダイ側）の温度より１〜５０℃、好ましくは２〜３０℃、さらに好ましくは３〜２０℃高くする方がセルロースアシレートの分解をより抑制できるため好ましい。すなわち、溶融を促すために、溶融を支配する上流部側をより高温にし、溶融後は分解を抑制するために温度を低めにする。好ましい混練時間は２〜６０分であり、より好ましくは３〜４０分であり、さらに好ましくは４〜３０分である。さらに、溶融押出し機内を不活性（窒素等）気流中で実施することも好ましい。

（ｃ）キャスト
溶融した樹脂をギヤポンプに通し、押出機の脈動を除去した後、金属メッシュフィルター等でろ過を行い、押出機の後ろに取り付けた流延ダイ（Ｔ−ダイ）から冷却ドラム上に溶融フィルム（メルト）をシート状に押し出す。この時、上述のように溶融温度より５〜３０℃低い温度に制御した流延ダイ（Ｔ−ダイ）から押出す。
なお、溶融温度が溶融押出機内で複数に分割し、異なる温度にした場合、流延ダイ（Ｔ−ダイ）に最も近いところの溶融温度を基準にする。この後、上述のように流延ダイ（Ｔ−ダイ）とキャスティングドラムの間を上記の距離（５〜５０ｃｍ）に保つ。この間、温度変動を少なくするためにキャスティングはケーシング内で行うことが好ましい。押出しは単層で行ってもよく、マルチマニホールドダイやフィールドブロックダイを用いて複数層押出してもよい。

この後、上述の直径（２０〜２００ｃｍ）、本数（２〜１０本）及び温度（Ｔｇ−３０℃〜Ｔｇ）のキャスティングドラム上に押出す。この時、静電印加法、エアナイフ法、エアーチャンバー法、バキュームノズル法、タッチロール法等の方法を用い、キャスティングドラムと溶融押出ししたシートの密着を上げることが好ましい。このような密着向上法は、溶融押出しシートの前面に実施してもよく、一部に実施してもよい。

このキャスティングドラム上で上述のような条件（温度：Ｔｇ〜Ｔｇ−２０℃、冷却速度：−０．１〜−２０℃／秒）で冷却した後、キャスティングドラムから剥ぎ取り、ニップロールを経た後、上述の張力（０〜１０kg/cm²）で巻き取る。巻き取り速度は、１０〜１００ｍ／分であることが好ましく、１５〜８０ｍ／分であることがより好ましく、２０〜７０ｍ／分であることがさらに好ましい。

製膜幅は、特に限定されないが、１．５〜５ｍであることが好ましく、１．６〜４ｍであることがより好ましく、１．７〜３ｍであることがさらに好ましい。得られた未延伸フィルムの厚みは、３０〜４００μｍであることが好ましく、４０〜２００μｍであることがより好ましく、５０〜１５０μｍであることがさらに好ましい。また、Ｒe及びＲthは、０〜１００ｎｍであること好ましく、０〜５０ｎｍであることがより好ましく、０〜２５ｎｍであることがさらに好ましい。

得られたフィルムは、両端をトリミングし、巻き取ることが好ましい。トリミングされた部分は、粉砕処理された後、あるいは必要に応じて造粒処理や解重合・再重合等の処理を行った後、同じ品種のフィルム用原料として又は異なる品種のフィルム用原料として再利用してもよい。また、巻き取り前に、少なくとも片面にラミフィルムを付けることも、傷防止の観点から好ましい。

＜延伸＞
未延伸フィルムから延伸フィルムを得る場合、本発明の製膜方法ではさらにフィルムを延伸する工程を有することが好ましい。延伸はＴｇ〜Ｔｇ＋５０℃の範囲で実施することが好ましく、Ｔｇ＋１℃〜Ｔｇ＋３０℃であることがより好ましく、Ｔｇ＋２℃〜Ｔｇ＋２０℃であることがさらに好ましい。また、延伸倍率は、本発明の製膜方法では縦方向（ＭＤ）及び横方向（ＴＤ）の少なくとも一方向に１〜５００％延伸することが好ましく、いずれも１〜５００％であることが好ましく、３〜４００％であることがより好ましく、５〜３００％であることがさらに好ましい。これらの延伸は、１段階で実施しても、多段階で実施してもよい。なお、延伸倍率は、以下の式を用いて求めることができる。

延伸は、出口側の周速を速くした２対以上のニップロールを用いて長手方向に延伸してもよく（縦延伸）、フィルムの両端をチャックで把持しこれを直交方向（長手方向と直角方向）に広げてもよい（横延伸）。一般にいずれの場合も、延伸倍率を大きくすることにより大きなＲe及びＲthが得られる。

縦延伸の場合、ニップロール間をフィルム幅で割った値（縦横比）を小さくすることによりＲth／Ｒe比を大きくすることができる。一方、横延伸の場合、直交方向に延伸すると同時に縦方向を延伸又は緩和することによりＲth／Ｒe比を調整できる。すなわち、横延伸の場合、縦方向に延伸することによりＲth／Ｒe比を大きくすることができ、反対に縦方向に緩和することによりＲth／Ｒe比を小さくすることができる。

上記延伸速度は１０〜１００００％／分であることが好ましく、２０〜１０００％／分であることがより好ましく、３０〜８００％／分であることがさらに好ましい。

さらに、Ｒeむら、Ｒthむら及び厚みむらをより小さくするために、上述のようなむらの少ない原反（本発明の未延伸フィルム）を用いることに加えて、延伸温度に幅方向に勾配を持たせることが好ましい。すなわち、縦延伸の場合でも、横延伸の場合でも両端部の延伸が進みやすくＲe及びＲthが発生しやすいため、中央部より端部の温度を高くすることが好ましい。ここにいう端部とは、全幅に対し１０％の領域を指し、端部を中央部より６〜４０℃、好ましくは７〜３０℃、さらに好ましくは８〜２５℃高くすることにより達成できる。両端部の温度を上げるには、両端部に熱源（パネルヒーター、赤外線ヒーター等）を増設してもよく、あるいは熱風の噴出し口を増設してもよい。このように温度分布を付与することで、一定の温度で延伸するより、いっそう均一な延伸が達成できる。

製膜方向（長手方向（ＭＤ））とフィルムのＲeの遅相軸とのなす角度θは、０°、＋９０°又は−９０°に近いほど好ましい。すなわち、縦延伸の場合、０°に近いほどよく、０±３°であることが好ましく、０±２°であることがより好ましく、０±１°であることがさらに好ましい。また、横延伸の場合は、９０±３°又は−９０±３°であることがよく、９０±２°又は−９０±２°であることが好ましく、９０±１°又は−９０±１°であることがさらに好ましい。

＜表面処理＞
本発明のセルロースアシレートフィルムは、場合により表面処理を行い、セルロースアシレートフィルムと各機能層（例えば、下塗層及びバック層）との接着性を向上させることができる。表面処理としては、例えば、グロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸又はアルカリ処理を行うことができる。ここでいうグロー放電処理とは、１０^-3〜２０Ｔｏｒｒの低圧ガス下で起こる低温プラズマ処理でもよく、さらに大気圧下でのプラズマ処理でもよい。

上記プラズマ処理で用いられるプラズマ励起性気体は、上記のような条件においてプラズマ励起される気体である。プラズマ励起性気体としては、例えば、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、窒素、二酸化炭素、テトラフルオロメタンのようなフロン類及びそれらの混合物などが挙げられる。これらの詳細は、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）の３０〜３２頁に詳細に記載されている。なお、最近注目されている大気圧でのプラズマ処理は、例えば、１０〜１０００Ｋｅｖ下で２０〜５００ＫＧｙの照射エネルギーが用いられ、好ましくは３０〜５００Ｋｅｖ下で２０〜３００ＫＧｙの照射エネルギーが用いられる。

上記の処理方法の中でも特に好ましい処理方法は、アルカリ鹸化処理であり、セルロースアシレートフィルムの表面処理としては極めて有効である。
アルカリ鹸化処理は、鹸化液に浸漬してもよく、鹸化液を塗布してもよい。浸漬法の場合、ＮａＯＨやＫＯＨ等のｐＨ１０〜１４の水溶液を２０℃〜８０℃に加温した浸漬液中にセルロースアシレートフィルムを０．１〜１０分間浸漬した後、中和、水洗及び乾燥することにより達成できる。

アルカリ鹸化処理を塗布方法で行う場合、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、バーコーティング法及びＥ型塗布法を用いることができる。アルカリ鹸化処理塗布液の溶媒は、鹸化液の透明支持体に対して塗布するために濡れ性がよく、また鹸化液溶媒によって透明支持体表面に凹凸を形成させずに、面状を良好な状態で保てる溶媒を選択することが好ましい。具体的には、アルコール系溶媒が好ましく、イソプロピルアルコールが特に好ましい。また、界面活性剤の水溶液を溶媒として使用することもできる。アルカリ鹸化塗布液のアルカリは、上記溶媒に溶解可能なアルカリであることが好ましく、ＫＯＨ又はＮａＯＨが特に好ましい。鹸化塗布液のｐＨは、１０以上であることが好ましく、１２以上であることがさらに好ましい。アルカリ鹸化時間は、室温で１秒〜５分であることが好ましく、５秒〜５分であることがより好ましく、２０秒〜３分であることがさらに好ましい。

アルカリ鹸化反応後、鹸化液塗布面を水洗又は酸で洗浄した後、さらに水洗することが好ましい。また、塗布式鹸化処理と後述の配向膜解塗設とを連続して行うこともでき、これにより工程数を減少できる。これらの鹸化方法は、具体的には、例えば、特開２００２−８２２２６号公報やＷＯ０２／４６８０９号公報に記載された鹸化方法が挙げられる。

上記の表面処理は、製膜工程において単独で又は最後の工程に組み込んで実施することができる。さらに、上記表面処理は、後述する機能性層を塗設する工程の中で実施することもできる。

［下塗層］
本発明のセルロースアシレートフィルムは、後述する機能性層との接着性を向上させるために下塗層を設けることが好ましい。下塗層は、上記表面処理をした後にセルロースアシレートフィルム上に塗設してもよく、表面処理しないで直接セルロースアシレートフィルム上に塗設してもよい。下塗層の詳細は、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５号、２００１年３月１５日発行、発明協会）の第３２頁に記載されている。
下塗層を付与する工程は、製膜工程において単独で又は最後の工程に組み込んで実施できる。さらに、下塗層を付与する工程は、後述の機能性層を付与する工程の中でも実施できる。

［機能性層］
本発明のセルロースアシレートフィルムは、機能性層を設けることができる。機能性層は、例えば、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５号、２００１年３月１５日発行、発明協会）の第３２〜４５頁に詳細に記載されている機能性層を組み合わせることが好ましい。中でも偏光層（偏光板）、光学補償層（光学補償シート）及び反射防止層（反射防止フィルム）を付与することが好ましい。

（１）偏光層の付与（偏光板の作製）
本発明のセルロースアシレートフィルムは、偏光層を組み込んで偏光板を形成できる。
＜使用素材＞
現在、市販の偏光膜は、延伸したバインダー（ポリマー）をヨウ素又は二色性色素を含有する溶液に浸漬し、バインダー中にヨウ素又は二色性色素を浸透させることにより作製されるのが一般的である。偏光膜は、Optiva Inc.に代表される塗布型偏光膜も利用できる。偏光膜におけるヨウ素及び二色性色素は、バインダー中で配向することにより偏向性能を発現する。

前記二色性色素としては、アゾ系色素、スチルベン系色素、ピラゾロン系色素、トリフェニルメタン系色素、キノリン系色素、オキサジン系色素、チアジン系色素及びアントラキノン系色素等が挙げられ、水溶性色素を好ましく用いることができる。さらに、二色性色素は、親水性置換基（例、スルホ、アミノ、ヒドロキシル）を有するものが好ましく、例えば、発明協会公開技法、公技番号２００１−１７４５号、５８頁（発行日２００１年３月１５日）に記載された化合物を二色性色素として用いることができる。

偏光膜のバインダーは、それ自体架橋可能なポリマーや架橋剤により架橋されるポリマーを用いることができ、さらにこれらを組み合わせて使用することもできる。前記ポリマーとしては、例えば、特開平８−３３８９１３号公報明細書中段落番号［００２２］に記載されたメタクリレート系共重合体、スチレン系共重合体、ポリオレフィン、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリカーボネート等が挙げられる。また、シランカップリング剤も前記ポリマーとして用いることもできる。

前記偏光膜バインダーとしてのポリマーとして、水溶性ポリマー（例、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール）などを用いることが好ましく、ゼラチン、ポリビニルアルコール又は変性ポリビニルアルコールを用いることがより好ましく、ポリビニルアルコール又は変性ポリビニルアルコールを用いることがさらに好ましい。重合度が異なるポリビニルアルコール又は変性ポリビニルアルコールを２種類併用することが特に好ましい。

ポリビニルアルコールの鹸化度は、７０〜１００％であることが好ましく、８０〜１００％であることがさらに好ましい。ポリビニルアルコールの重合度は、１００〜５０００であることが好ましい。変性ポリビニルアルコールは、特開平８-３３８９１３号、同９-１５２５０９号及び同９-３１６１２７号の各公報に記載された重合度のものを用いることができる。ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコールは、二種以上を併用してもよい。

偏光膜のバインダーの厚みの下限は１０μｍであることが好ましい。厚みの上限は、液晶表示装置の光漏れの観点からは薄ければ薄い程よいが、現在市販の偏光板と同等（約３０μｍ）であることが好ましく、２５μｍであることが好ましく、２０μｍであることがさらに好ましい。

偏光膜のバインダーは架橋していてもよい。架橋性の官能基を有するポリマー又はモノマーをバインダー中に混合してもよく、バインダーポリマー自身に架橋性官能基を付与してもよい。架橋は、光、熱又はｐＨ変化により行うことができ、架橋構造をもったバインダーを形成することができる。架橋剤については、米国再発行特許２３２９７号明細書に記載がある。また、ホウ素化合物（例、ホウ酸、硼砂）も、架橋剤として用いることができる。バインダーの架橋剤の添加量は、バインダーの質量に対して０．１〜２０質量％であることが好ましい。架橋剤の添加量が０．１〜２０質量％以内であれば、偏光素子の配向性及び偏光膜の耐湿熱性が良好となるため好ましい。また、架橋反応が終了した後、未反応の架橋剤は１．０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることがさらに好ましい。未反応の架橋剤を１．０質量％以下とすることにより耐候性を向上することができる。

＜延伸＞
上記偏光膜は、偏光膜を延伸するか（延伸法）、又はラビングした（ラビング法）後に、ヨウ素又は二色性染料で染色することが好ましい。
延伸法の場合、延伸倍率は２．５〜３０倍であることが好ましく、３〜１０倍であることがさらに好ましい。延伸は、空気中でのドライ延伸で実施できる。また、水に浸漬した状態でのウェット延伸を実施してもよい。ドライ延伸の延伸倍率は、２．５〜５倍であることが好ましく、ウェット延伸の延伸倍率は、３〜１０倍であることが好ましい。延伸はＭＤ方向に平行に行っても良く（平行延伸）、斜め方向に行ってもよい（斜め延伸）。これらの延伸は、１回又は数回に分けて行ってもよい。数回に分けることによって、高倍率延伸でもより均一に延伸することができる。斜め方向に１０〜８０°の傾斜を付けて延伸する斜め延伸を行うことが好ましい。

（ａ）平行延伸法
延伸に先立ち、ＰＶＡフィルムを膨潤させる。膨潤度は１．２〜２．０倍（膨潤前と膨潤後の重量比）である。この後、ガイドロール等を介して連続搬送しつつ、水系媒体浴内や二色性物質溶解の染色浴内で、１５〜５０℃、就中１７〜４０℃の浴温で延伸する。延伸は２対のニップロールで把持し、後段のニップロールの搬送速度を前段のそれより大きくすることで達成できる。延伸倍率は、延伸後／初期状態の長さ比（以下同じ）に基づくが前記作用効果の点より好ましい延伸倍率は１．２〜３．５倍、就中１．５〜３．０倍である。この後、５０℃から９０℃において乾燥させて偏光膜を得る。

（ｂ）斜め延伸法
斜め延伸法として、特開２００２−８６５５４号公報に記載の斜め方向に張り出したテンターを用い延伸する方法を用いることができる。この延伸は空気中で延伸するため、事前に含水させて延伸しやすくすることが必要である。好ましい含水率は５〜１００％、より好ましくは１０〜１００％である。

延伸時の温度は、４０〜９０℃であることが好ましく、５０〜８０℃であることがより好ましい。また延伸時の湿度は、５０〜１００％ＲＨであることが好ましく、７０〜１００％ＲＨであることが好ましく、８０〜１００％ＲＨであることがさらに好ましい。延伸時の長手方向の進行速度は、１ｍ／分以上であることが好ましく、３ｍ／分以上であることがさらに好ましい。

延伸の終了後、５０〜１００℃、好ましくは６０〜９０℃で、０．５〜１０分、好ましくは１〜５分乾燥する。

このようにして得られた偏光膜の吸収軸は、１０〜８０°であることが好ましく、３０〜６０°であることがより好ましく、実質的に４５°（４０〜５０°）であることがさらに好ましい。

＜貼り合せ＞
上記鹸化後のセルロースアシレートフィルムと、延伸して調製した偏光層を貼り合わせ偏光板を調製する。張り合わせる方向は、セルロースアシレートフィルムの流延軸方向と偏光板の延伸軸方向が４５°になるように行うのが好ましい。
貼り合わせに用いる接着剤は特に限定されないが、ＰＶＡ系樹脂（アセトアセチル基、スルホン酸基、カルボキシル基、オキシアルキレン基等の変性ＰＶＡを含む）やホウ素化合物水溶液等が挙げられ、中でもＰＶＡ系樹脂が好ましい。接着剤層厚みは、乾燥後に０．０１〜１０μｍであることが好ましく、０．０５〜５μｍであることがさらに好ましい。

このようにして得られた偏光板の光線透過率は、高い方が好ましく、かつ偏光度も高い方が好ましい。偏光板の透過率は、波長５５０ｎｍの光において、３０〜５０％の範囲にあることが好ましく、３５〜５０％の範囲にあることがさらに好ましく、４０〜５０％の範囲にあることが最も好ましい。偏光度は、波長５５０ｎｍの光において、９０〜１００％の範囲にあることが好ましく、９５〜１００％の範囲にあることがさらに好ましく、９９〜１００％の範囲にあることが最も好ましい。

さらに、このようにして得られた偏光板は、λ／４板と積層し、円偏光板を作製することができる。この場合、λ／４板の遅相軸と偏光板の吸収軸とを４５°になるように積層する。この時、λ／４板は特に限定されないが、好ましくは低波長ほどレターデーションが小さくなるような波長依存性を有するものである。さらには長手方向に対し２０〜７０°傾斜した吸収軸を有する偏光膜、及び液晶性化合物からなる光学異方性層からなるλ／４板を用いることが好ましい。

（２）光学補償層の付与（光学補償シートの作製）
光学異方性層は、液晶表示装置の黒表示における液晶セル中の液晶化合物を補償するためのものであり、セルロースアシレートフィルム上に配向膜を形成し、さらに光学異方性層を付与して形成される。

＜配向膜＞
光学異方性層を形成するため、上記表面処理したセルロースアシレートフィルム上に配向膜を設けることができる。配向膜は、液晶性分子の配向方向を規定する機能を有する。但し、液晶性化合物を配向後にその配向状態を固定することができれば、配向膜を形成しなくてもよい。この場合、配向状態が固定され液晶性化合物上に光学異方性層のみを偏光子上に転写して偏光板を作製することも可能である。

配向膜は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例えば、ω-トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段により形成できる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により配向機能が生じる配向膜も知られている。本発明ではポリマーのラビング処理により配向膜を形成することが好ましい。配向膜に使用するポリマーは、原則として、液晶性分子を配向させる機能のある分子構造を有する。

本発明では、液晶性分子を配向させる機能に加えて、架橋性官能基（例えば二重結合）を有する側鎖を主鎖に結合させるか、あるいは液晶性分子を配向させる機能を有する架橋性官能基を側鎖に導入することが好ましい。

配向膜に使用されるポリマーは、それ自体架橋可能なポリマー及び架橋剤により架橋されるポリマーのいずれも使用することができ、これらを組み合わせて使用することもできる。前記ポリマーの例としては、特開平８−３３８９１３号公報明細書中段落番号［００２２］記載のメタクリレート系共重合体、スチレン系共重合体、ポリオレフィン、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリカーボネート等が挙げられる。シランカップリング剤を前記ポリマーとして用いることもできる。前記ポリマーとして、水溶性ポリマー（例、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール）が好ましく、ゼラチン、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコールがさらに好ましく、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコールが最も好ましい。重合度が異なるポリビニルアルコール又は変性ポリビニルアルコールを２種類併用することが特に好ましい。ポリビニルアルコールの鹸化度は、７０〜１００％であることが好ましく、８０〜１００％であることがさらに好ましい。ポリビニルアルコールの重合度は、１００〜５０００であることが好ましい。

液晶性分子を配向させる機能を有する側鎖は、一般に官能基として疎水性基を有する。具体的な官能基の種類は、液晶性分子の種類及び必要とする配向状態に応じて決定できる。例えば、変性ポリビニルアルコールの変性基は、共重合変性、連鎖移動変性又はブロック重合変性により導入される。変性基の例には、親水性基（カルボン酸基、スルホン酸基、ホスホン酸基、アミノ基、アンモニウム基、アミド基、チオール基等）、炭素数１０〜１００個の炭化水素基、フッ素原子置換の炭化水素基、チオエーテル基、重合性基（不飽和重合性基、エポキシ基、アジリニジル基等）、アルコキシシリル基（トリアルコキシ、ジアルコキシ、モノアルコキシ）等が挙げられる。これらの変性ポリビニルアルコール化合物の具体例として、例えば特開２０００−１５５２１６号公報明細書中の段落番号［００２２］〜［０１４５］、同２００２−６２４２６号公報明細書中の段落番号［００１８］〜［００２２］に記載のもの等が挙げられる。

架橋性官能基を有する側鎖を配向膜ポリマーの主鎖に結合させるか、又は液晶性分子を配向させる機能を有する側鎖に架橋性官能基を導入すると、配向膜のポリマーと光学異方性層に含まれる多官能モノマーとを共重合させることができる。その結果、多官能モノマーと多官能モノマーとの間だけではなく、配向膜ポリマーと配向膜ポリマーとの間、そして多官能モノマーと配向膜ポリマーとの間も共有結合で強固に結合される。従って、架橋性官能基を配向膜ポリマーに導入することで、光学補償シートの強度を著しく改善できる。

配向膜ポリマーの架橋性官能基は、多官能モノマーと同様、重合性基を含むことが好ましい。具体的には、例えば特開２０００−１５５２１６号公報明細書中段落番号［００８０］〜［０１００］記載のもの等が挙げられる。配向膜ポリマーは、上記の架橋性官能基とは別に、架橋剤を用いて架橋させることもできる。

架橋剤としては、アルデヒド、Ｎ−メチロール化合物、ジオキサン誘導体、カルボキシル基を活性化することにより作用する化合物、活性ビニル化合物、活性ハロゲン化合物、イソオキサゾール及びジアルデヒド澱粉などが挙げられる。二種類以上の架橋剤を併用してもよい。具体的には、例えば特開２００２−６２４２６号公報明細書中の段落番号［００２３］〜［０２４］記載の化合物等が挙げられる。反応活性の高いアルデヒド、特にグルタルアルデヒドが好ましい。

架橋剤の添加量は、ポリマーの質量に対して０．１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜１５質量％であることがさらに好ましい。配向膜に残存する未反応の架橋剤の量は、１．０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることがさらに好ましい。このように調節することで、配向膜を液晶表示装置に長期使用、あるいは高温高湿の雰囲気下に長期間放置しても、レチキュレーション発生のない充分な耐久性が得られる。

配向膜は、基本的に、配向膜形成材料である上記ポリマー、架橋剤を含む透明支持体上に塗布した後、加熱乾燥（架橋させ）し、ラビング処理することにより形成することができる。架橋反応は、前記のように、透明支持体上に塗布した後、任意の時期に行ってよい。ポリビニルアルコールのような水溶性ポリマーを配向膜形成材料として用いる場合には、塗布液は消泡作用のある有機溶媒（例、メタノール）と水の混合溶媒とすることが好ましい。その比率は質量比で水：メタノールが０：１００〜９９：１が好ましく、０：１００〜９１：９であることがさらに好ましい。これにより、泡の発生が抑えられ、配向膜、更には光学異方層の層表面の欠陥が著しく減少する。

配向膜の塗布方法は、スピンコーティング法、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、ロッドコーティング法又はロールコーティング法が好ましい。特にロッドコーティング法が好ましい。また、乾燥後の膜厚は０．１〜１０μｍであることが好ましい。加熱乾燥は２０〜１１０℃で行うことができる。充分な架橋を形成するためには、６０〜１００℃であることが好ましく、特に８０〜１００℃であることが好ましい。乾燥時間は１分〜３６時間で行うことができるが、好ましくは１〜３０分である。ｐＨも使用する架橋剤に最適な値に設定することが好ましく、グルタルアルデヒドを使用した場合は、ｐＨ４．５〜５．５で、特にｐＨ５が好ましい。

配向膜は、透明支持体上又は上記下塗層上に設けられる。配向膜は、上記のようにポリマー層を架橋したのち、表面をラビング処理することにより得ることができる。
前記ラビング処理は、ＬＣＤの液晶配向処理工程として広く採用されている処理方法を適用することができる。すなわち、配向膜の表面を紙やガーゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊維などを用いて一定方向に擦ることにより、配向を得る方法を用いることができる。一般的には、長さ及び太さが均一な繊維を平均的に植毛した布などを用いて数回程度ラビングを行うことにより実施される。

工業的に実施する場合、搬送している偏光層のついたフィルムに対し、回転するラビングロールを接触させることで達成するが、ラビングロールの真円度、円筒度、振れ（偏芯）はいずれも３０μｍ以下であることが好ましい。ラビングロールへのフィルムのラップ角度は、０．１〜９０゜であることが好ましい。但し、特開平８-１６０４３０号公報に記載されているように、３６０゜以上巻き付けることで、安定なラビング処理を得ることもできる。フィルムの搬送速度は１〜１００ｍ／ｍｉｎであることが好ましい。ラビング角は０〜６０゜の範囲で適切なラビング角度を選択することが好ましい。液晶表示装置に使用する場合は、４０〜５０゜であることが好ましく、４５゜であることが特に好ましい。

このようにして得た配向膜の膜厚は、０．１〜１０μｍ、好ましくは０．１〜５μｍ、さらに好ましくは０．２〜３μｍの範囲である。

＜光学異方性層＞
次に、配向膜の上に光学異方性層の液晶性分子を配向させる。その後、必要に応じて、配向膜ポリマーと光学異方性層に含まれる多官能モノマーとを反応させるか、あるいは架橋剤を用いて配向膜ポリマーを架橋させる。

光学異方性層に用いる液晶性分子には、棒状液晶性分子及び円盤状液晶性分子が含まれる。棒状液晶性分子及び円盤状液晶性分子は、高分子液晶でも低分子液晶でもよく、さらに、低分子液晶が架橋され液晶性を示さなくなったものも含まれる。

（棒状液晶性分子）
棒状液晶性分子としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。

なお、棒状液晶性分子には、金属錯体も含まれる。また、棒状液晶性分子を繰り返し単位中に含む液晶ポリマーも、棒状液晶性分子として用いることができる。言い換えると、棒状液晶性分子は、（液晶）ポリマーと結合していてもよい。棒状液晶性分子については、季刊化学総説第２２巻液晶の化学（１９９４）、日本化学会編の第４章、第７章及び第１１章、及び液晶デバイスハンドブック日本学術振興会第１４２委員会編の第３章に記載がある。

棒状液晶性分子の複屈折率は、０．００１〜０．７、好ましくは０．０１〜０．５、さらに好ましくは０．０３〜０．４の範囲である。棒状液晶性分子は、その配向状態を固定するために、重合性基を有することが好ましい。重合性基は、ラジカル重合性不飽和基又はカチオン重合性基が好ましく、具体的には、例えば特開２００２−６２４２７号公報明細書中の段落番号［００６４］〜［００８６］記載の重合性基、重合性液晶化合物が挙げられる。

（円盤状液晶性分子）
円盤状（ディスコティック）液晶性分子には、C. Destradeらの研究報告、Mol. Cryst. 71巻、111頁（1981年）に記載されているベンゼン誘導体、C.Destradeらの研究報告、Mol. Cryst. 122巻、141頁（1985年）、Physics lett, A, 78巻、82頁（1990）に記載されているトルキセン誘導体、B.Kohneらの研究報告、Angew. Chem. 96巻、70頁（1984年）に記載されたシクロヘキサン誘導体及びJ. M. Lehnらの研究報告、J. Chem. Commun.,1794頁（1985年）、J. Zhangらの研究報告、J. Am. Chem. Soc. 116巻、2655頁（1994年）に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルが含まれる。

円盤状液晶性分子には、分子中心の母核に対して、直鎖のアルキル基、アルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基が母核の側鎖として放射線状に置換した構造である液晶性を示す化合物も含まれる。分子又は分子の集合体が、回転対称性を有し、一定の配向を付与できる化合物であることが好ましい。円盤状液晶性分子から形成する光学異方性層は、最終的に光学異方性層に含まれる化合物が円盤状液晶性分子である必要はなく、例えば、低分子の円盤状液晶性分子が熱や光で反応する基を有しており、結果的に熱、光で反応により重合又は架橋し、高分子量化し液晶性を失った化合物も含まれる。円盤状液晶性分子の好ましい例は、特開平８-５０２０６号公報に記載されている。また、円盤状液晶性分子の重合については、特開平８-２７２８４公報に記載がある。

円盤状液晶性分子を重合により固定するためには、円盤状液晶性分子の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させる必要がある。円盤状コアと重合性基は、連結基を介して結合する化合物が好ましく、これにより重合反応においても配向状態を保つことが出来る。例えば、特開２０００−１５５２１６号公報明細書中の段落番号［０１５１］〜「０１６８」記載の化合物等が挙げられる。

ハイブリッド配向では、円盤状液晶性分子の長軸（円盤面）と偏光膜の面との角度が、光学異方性層の深さ方向でかつ偏光膜の面からの距離の増加と共に増加又は減少している。角度は、距離の増加と共に減少することが好ましい。さらに、角度の変化としては、連続的増加、連続的減少、間欠的増加、間欠的減少、連続的増加と連続的減少を含む変化、あるいは、増加及び減少を含む間欠的変化が可能である。間欠的変化は、厚さ方向の途中で傾斜角が変化しない領域を含んでいる。角度は、角度が変化しない領域を含んでいても、全体として増加又は減少していればよい。さらに、角度は連続的に変化することが好ましい。

偏光膜側の円盤状液晶性分子の長軸の平均方向は、一般に円盤状液晶性分子あるいは配向膜の材料を選択することにより、又はラビング処理方法の選択することにより調整できる。また、表面側（空気側）の円盤状液晶性分子の長軸（円盤面）方向は、一般に円盤状液晶性分子あるいは円盤状液晶性分子と共に使用する添加剤の種類を選択することにより調整できる。円盤状液晶性分子と共に使用する添加剤の例としては、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマー及びポリマーなどが挙げられる。長軸の配向方向の変化の程度も、上記と同様に、液晶性分子と添加剤との選択により調整できる。

＜光学異方性層の他の組成物＞
上記の液晶性分子と共に、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマー等を併用して、塗工膜の均一性、膜の強度、液晶分子の配向性等を向上できる。液晶性分子と相溶性を有し、液晶性分子の傾斜角の変化を与えられるか、あるいは配向を阻害しないことが好ましい。

重合性モノマーとしては、ラジカル重合性若しくはカチオン重合性の化合物が挙げられる。好ましくは、多官能性ラジカル重合性モノマーであり、上記の重合性基含有の液晶化合物と共重合性のものが好ましい。例えば、特開２００２−２９６４２３号公報明細書中の段落番号［００１８］〜［００２０］記載のものが挙げられる。上記化合物の添加量は、円盤状液晶性分子の質量に対して一般に１〜５０質量％の範囲にあり、５〜３０質量％の範囲にあることが好ましい。

界面活性剤としては、従来公知の化合物が挙げられるが、特にフッ素系化合物が好ましい。具体的には、例えば特開２００１−３３０７２５号公報明細書中の段落番号［００２８］〜［００５６］記載の化合物が挙げられる。

円盤状液晶性分子と共に使用するポリマーは、円盤状液晶性分子に傾斜角の変化を与えられるものが好ましい。ポリマーの例としては、セルロースエステルが挙げられる。セルロースエステルの好ましい例としては、特開２０００−１５５２１６号公報明細書中の段落番号［０１７８］記載のものが挙げられる。液晶性分子の配向を阻害しないように、上記ポリマーの添加量は、液晶性分子に対して０．１〜１０質量％の範囲にあることが好ましく、０．１〜８質量％の範囲にあることがより好ましい。また、円盤状液晶性分子のディスコティックネマティック液晶相-固相転移温度は、７０〜３００℃であることが好ましく、７０〜１７０℃であることがさらに好ましい。

＜光学異方性層の形成＞
光学異方性層は、液晶性分子及び必要に応じて後述の重合性開始剤や任意の成分を含む塗布液を、配向膜の上に塗布することで形成できる。
塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例としては、アミド（例、Ｎ，Ｎ-ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン、テトラクロロエタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２-ジメトキシエタン）等が挙げられる。中でもアルキルハライド及びケトンを用いることが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。

塗布液の塗布は、公知の方法（例、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施できる。

光学異方性層の厚さは、０．１〜２０μｍであることが好ましく、０．５〜１５μｍであることがさらに好ましく、１〜１０μｍであることがさらに好ましい。

＜液晶性分子の配向状態の固定＞
配向させた液晶性分子を、配向状態を維持して固定することができる。固定化は、重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれる。光重合反応が好ましい。

光重合開始剤としては、例えば、α-カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号明細書記載）、α-炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ-アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号明細書記載）、アクリジン及びフェナジン化合物（特開昭６０-１０５６６７号公報、米国特許４２３９８５０号明細書記載）及びオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号明細書記載）等が挙げられる。

光重合開始剤の添加量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％の範囲にあることが好ましく、０．５〜５質量％の範囲にあることがさらに好ましい。

液晶性分子の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、２０〜５０ mJ/cm²の範囲にあることが好ましく、２０〜５０００ mJ/cm²の範囲にあることがより好ましく、１００〜８００ mJ/cm²の範囲にあることがさらに好ましい。また、光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。

また、光学異方性層の上に保護層をさらに設けてもよい。保護層は透明な樹脂であれば特に制約はなく、セルロース誘導体、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアクリレート等の熱可塑性樹脂や、架橋性のアクリル樹脂やエポキシ樹脂等の熱硬化樹脂を用いることができる。保護層の厚みは０．１〜１０μｍであることが好ましく、０．２〜５μｍであることがより好ましく、０．２〜３μｍであることがさらに好ましい。

上記光学補償フィルムと偏光層を組み合わせることが好ましい。具体的には、上記のような光学異方性層用塗布液を偏光膜の表面に塗布することにより光学異方性層を形成する。その結果、偏光膜と光学異方性層との間にポリマーフイルムを使用することなく、偏光膜の寸度変化にともなう応力（歪み×断面積×弾性率）が小さい薄い偏光板が作成される。本発明に従う偏光板を大型の液晶表示装置に取り付けると、光漏れなどの問題を生じることなく、表示品位の高い画像を表示できる。

偏光層と光学補償層の傾斜角度は、ＬＣＤを構成する液晶セルの両側に貼り合わされる２枚の偏光板の透過軸と液晶セルの縦又は横方向のなす角度に合わせるように延伸することが好ましい。通常の傾斜角度は４５゜である。しかし、最近は、透過型、反射型及び半透過型ＬＣＤにおいて必ずしも４５゜でない装置が開発されており、延伸方向はＬＣＤの設計に合わせて任意に調整できることが好ましい。

＜液晶表示装置＞
次に上記光学補償フィルムが用いられる各液晶モードについて説明する。
（ＴＮモード液晶表示装置）
カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。ＴＮモードの黒表示における液晶セル中の配向状態は、セル中央部で棒状液晶性分子が立ち上がり、セルの基板近傍では棒状液晶性分子が寝た配向状態にある。

（ＯＣＢモード液晶表示装置）
棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対称的に）配向させるベンド配向モードの液晶セルである。ベンド配向モードの液晶セルを用いた液晶表示装置は、米国特許４５８３８２５号、同５４１０４２２号の各明細書に開示されている。棒状液晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、ＯＣＢ(Optically Compensatory Bend) 液晶モードとも呼ばれる。
ＯＣＢモードの液晶セルもＴＮモード同様、黒表示においては、液晶セル中の配向状態は、セル中央部で棒状液晶性分子が立ち上がり、セルの基板近傍では棒状液晶性分子が寝た配向状態にある。

（ＶＡモード液晶表示装置）
電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向しているのが特徴であり、ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２-１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Digest of tech. Papers（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ-ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）及び（４）ＳＵＲＶＡＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。

（その他液晶表示装置）
ＥＣＢモード及びＳＴＮモードの液晶表示装置に対しては、上記と同様の考え方で光学的に補償することができる。

（３）反射防止膜（反射防止フィルム）の付与
反射防止膜は、一般に、防汚性層として機能する低屈折率層、該低屈折率層より高い屈折率を有する少なくとも一層の層（すなわち高屈折率層又は中屈折率層）を透明基体上に設けてなる。
屈折率の異なる無機化合物（金属酸化物等）の透明薄膜を積層させた多層膜として、化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、金属アルコキシド等の金属化合物のゾルゲル方法でコロイド状金属酸化物粒子皮膜を形成後に後処理（紫外線照射：特開平９−１５７８５５号公報、プラズマ処理：特開２００２−３２７３１０号公報）して薄膜を形成する方法が挙げられる。

一方、生産性が高い反射防止膜として、無機粒子をマトリックスに分散されてなる薄膜を積層塗布してなる反射防止膜が各種提案されている。上述したような塗布による反射防止フィルムに最上層表面が微細な凹凸の形状を有する防眩性を付与した反射防止層からなる反射防止フィルムも挙げられる。本発明のセルロースアシレートフィルムは上記いずれの方式にも適用できるが、特に好ましいのが塗布による方式（塗布型）である。

＜塗布型反射防止フィルムの層構成＞
基体上に少なくとも中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層（最外層）の順序の層構成から成る反射防止膜は、以下の関係を満足する屈折率を有する様に設計される。
高屈折率層の屈折率＞中屈折率層の屈折率＞透明支持体の屈折率＞低屈折率層の屈折率

また透明支持体と中屈折率層との間にハードコート層を設けてもよい。さらに塗布型反射防止フィルムは、中屈折率ハードコート層、高屈折率層及び低屈折率層からなっていてもよい。例えば、特開平８−１２２５０４号公報、同８−１１０４０１号公報、同１０−３００９０２号公報、特開２００２−２４３９０６号公報、特開２０００−１１１７０６号公報等が挙げられる。

また各層に他の機能を付与させてもよく、例えば、防汚性の低屈折率層、帯電防止性の高屈折率層としたもの（例えば、特開平１０−２０６６０３号公報、特開２００２−２４３９０６号公報等）等が挙げられる。

反射防止膜のヘイズは、５％以下あることが好ましく、３％以下がさらに好ましい。また反射防止膜の強度は、ＪＩＳＫ５４００に従う鉛筆硬度試験で１Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。

＜高屈折率層＞
反射防止膜の高い屈折率を有する層は、平均粒径１００ｎｍ以下の高屈折率の無機化合物超微粒子及びマトリックスバインダーを少なくとも含有する硬化性膜からなる。
高屈折率の無機化合物微粒子としては、屈折率１．６５以上の無機化合物が挙げられ、屈折率１．９以上の無機化合物であることが好ましい。無機化合物微粒子としては、例えば、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｃｅ、Ｔａ、Ｌａ、Ｉｎ等の酸化物、及びこれらの金属原子を含む複合酸化物等が挙げられる。

上記の超微粒子とするには、粒子表面が表面処理剤で処理されること（例えば、シランカップリング剤等：特開平１1−２９５５０３号公報、同１1−１５３７０３号公報、特開２０００−９９０８号公報、アニオン性化合物或は有機金属カップリング剤：特開２００１−３１０４３２号公報等）、高屈折率粒子をコアとしたコアシェル構造とすること（：特開２００１−１６６１０４号公報等）、特定の分散剤併用（例、特開平１１−１５３７０３号公報、米国特許第６２１０８５８号明細書、特開２００２−２７７６０６９号公報等）等が挙げられる。

マトリックスを形成する材料としては、従来公知の熱可塑性樹脂、硬化性樹脂皮膜等が挙げられる。

さらに、ラジカル重合性及び/又はカチオン重合性の重合性基を少なくとも２個以上含有する多官能性化合物含有組成物、加水分解性基を含有の有機金属化合物及びその部分縮合体組成物から選ばれる少なくとも１種の組成物が好ましい。例えば、特開２０００−４７００４号公報、同２００１−３１５２４２号公報、同２００１−３１８７１号公報、同２００１−２９６４０１号公報等に記載の化合物が挙げられる。

また、金属アルコキドの加水分解縮合物から得られるコロイド状金属酸化物と金属アルコキシド組成物から得られる硬化性膜も好ましい。例えば、特開２００１−２９３８１８号公報等に記載されている。

高屈折率層の屈折率は、一般に１．７０〜２．２０、好ましくは１．８０〜２．１０である。高屈折率層の厚さは、５ｎｍ〜１０μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜１μｍであることがさらに好ましい。
中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、１．５０〜１．７０であることが好ましい。

＜低屈折率層＞
低屈折率層は、高屈折率層の上に順次積層してなる。低屈折率層の屈折率は１．２０〜１．５５であり、好ましくは１．３０〜１．５０である。低屈折率層は、耐擦傷性及び防汚性を有する最外層として構築することが好ましい。耐擦傷性を大きく向上させる手段として表面への滑り性付与が有効で、従来公知のシリコーンの導入、フッ素の導入等から成る薄膜層の手段を適用できる。

含フッ素化合物の屈折率は１．３５〜１．５０であることが好ましい。より好ましくは１．３６〜１．４７である。また、含フッ素化合物はフッ素原子を３５〜８０質量％の範囲で含む架橋性若しくは重合性の官能基を含む化合物が好ましい。例えば、特開平９−２２２５０３号公報明細書段落番号［００１８］〜［００２６］、特開平１１−３８２０２号公報明細書段落番号［００１９］〜［００３０］、特開２００１-４０２８４号公報明細書段落番号［００２７］〜［００２８］、特開２０００−２８４１０２号公報等に記載の化合物が挙げられる。

シリコーン化合物としてはポリシロキサン構造を有する化合物であり、高分子鎖中に硬化性官能基あるいは重合性官能基を含有して、膜中で橋かけ構造を有するものが好ましい。例えば、反応性シリコーン（例、サイラプレーン（チッソ（株）製等）、両末端にシラノール基含有のポリシロキサン（特開平１１−２５８４０３号公報等）等が挙げられる。

架橋又は重合性基を有する含フッ素及び／又はシロキサンのポリマーの架橋又は重合反応は、重合開始剤、増感剤等を含有する最外層を形成するための塗布組成物を塗布と同時又は塗布後に光照射や加熱することにより実施することが好ましい。

シランカップリング剤等の有機金属化合物と特定のフッ素含有炭化水素基含有のシランカップリング剤とを触媒共存下に縮合反応で硬化するゾルゲル硬化膜も好ましい。例えば、ポリフルオロアルキル基含有シラン化合物又はその部分加水分解縮合物（特開昭５８−１４２９５８号公報、同５８−１４７４８３号公報、同５８−１４７４８４号公報、特開平９−１５７５８２号公報、同１１−１０６７０４号公報記載等記載の化合物）、フッ素含有長鎖基であるポリ「パーフルオロアルキルエーテル」基を含有するシリル化合物（特開２０００−１１７９０２号公報、同２００１−４８５９０号公報、同２００２−５３８０４号公報記載の化合物等）等が挙げられる。

低屈折率層は、上記以外の添加剤として充填剤（例えば、二酸化珪素（シリカ）、含フ
素粒子（フッ化マグネシウム，フッ化カルシウム，フッ化バリウム）等の一次粒子平均径が１〜１５０ｎｍの低屈折率無機化合物、特開平１１−３８２０公報の段落番号[００２０]〜[００３８]に記載の有機微粒子等）、シランカップリング剤、滑り剤、界面活性剤等を含有することができる。

低屈折率層が最外層の下層に位置する場合、低屈折率層は気相法（真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等）により形成されても良い。安価に製造できる点で、塗布法が好ましい。

低屈折率層の膜厚は、３０〜２００ｎｍであることが好ましく、５０〜１５０ｎｍであることがさらに好ましく、６０〜１２０ｎｍであることが最も好ましい。

＜ハードコート層＞
ハードコート層は、反射防止フィルムに物理強度を付与するために、透明支持体の表面に設ける。特に、透明支持体と前記高屈折率層の間に設けることが好ましい。ハードコート層は、光及び／又は熱の硬化性化合物の架橋反応、又は重合反応により形成されることが好ましい。硬化性官能基としては、光重合性官能基が好ましく、また加水分解性官能基含有の有機金属化合物は有機アルコキシシリル化合物が好ましい。これらの化合物の具体例としては、高屈折率層で例示したと同様のものが挙げられる。

ハードコート層の具体的な構成組成物としては、例えば、特開２００２−１４４９１３号公報、同２０００−９９０８号公報、ＷＯ０／４６６１７号公報等記載のものが挙げられる。

高屈折率層はハードコート層を兼ねることができる。このような場合、高屈折率層で記載した手法を用いて微粒子を微細に分散してハードコート層に含有させて形成することが好ましい。

ハードコート層は、平均粒径０．２〜１０μｍの粒子を含有させて防眩機能（アンチグレア機能）を付与した防眩層（後述）を兼ねることもできる。

ハードコート層の膜厚は用途により適切に設計することができる。ハードコート層の膜厚は、０．２〜１０μｍであることが好ましく、より好ましくは０．５〜７μｍである。

ハードコート層の強度は、ＪＩＳＫ５４００に従う鉛筆硬度試験で、１Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。またＪＩＳＫ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。

＜前方散乱層＞
前方散乱層は、液晶表示装置に適用した場合の、上下左右方向に視角を傾斜させたときの視野角改良効果を付与するために設けられる。上記ハードコート層中に屈折率の異なる微粒子を分散することで、ハードコート機能と兼ねることもできる。例えば、前方散乱係数を特定化した特開１１−３８２０８号公報、透明樹脂と微粒子の相対屈折率を特定範囲とした特開２０００−１９９８０９号公報、ヘイズ値を４０％以上と規定した特開２００２−１０７５１２号公報等が挙げられる。

＜その他の層＞
上記の層以外に、プライマー層、帯電防止層、下塗り層や保護層等を設けてもよい。

＜塗布方法＞
反射防止フィルムの各層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート、マイクログラビア法やエクストルージョンコート法（米国特許２６８１２９４号明細書）により、塗布により形成できる。

＜アンチグレア機能＞
反射防止フィルムは、外光を散乱させるアンチグレア機能を有していてもよい。アンチグレア機能は、反射防止膜の表面に凹凸を形成することにより得られる。反射防止膜がアンチグレア機能を有する場合、反射防止膜のヘイズは、３〜３０％であることが好ましく、５〜２０％であることがさらに好ましく、７〜２０％であることが最も好ましい。

反射防止膜の表面に凹凸を形成する方法は、これらの表面形状を充分に保持できる方法であればいずれの方法でも適用できる。例えば、低屈折率層中に微粒子を使用して膜表面に凹凸を形成する方法（例えば、特開２０００−２７１８７８号公報等）、低屈折率層の下層（高屈折率層、中屈折率層又はハードコート層）に比較的大きな粒子（粒径０．０５〜２μｍ）を少量（０．１〜５０質量％）添加して表面凹凸膜を形成し、その上にこれらの形状を維持して低屈折率層を設ける方法（例えば、特開２０００−２８１４１０号公報、同２０００−９５８９３号公報、同２００１−１００００４号公報、同２００１−２８１４０７号公報等）、最上層（防汚性層）を塗設した後の表面に物理的に凹凸形状を転写する方法（例えば、エンボス加工方法として、特開昭６３−２７８８３９号公報、特開平１１−１８３７１０号公報、特開２０００−２７５４０１号公報等記載）等が挙げられる。

以下に本発明のセルロースアシレートフィルムについての具体的な実施態様を記載するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。

以下に本発明で使用した測定法について記載する。
（１）Ｒeむら、Ｒthむら及び厚みむら
（ａ）ＭＤサンプリング
長手方向（ＭＤ）に０．５ｍ間隔で１００点、１ｃｍ×１ｃｍの大きさに切り出し、これをＭＤサンプルフィルムとした。
（ｂ）ＴＤサンプリング
製膜全幅に亘り１ｃｍ×１ｃｍの大きさに５０点、等間隔で切り出し、これをＴＤサンプルフィルムとした。
（ｃ）Ｒe及びＲth測定
前記サンプルフィルムを２５℃６０％ＲＨに３時間以上調湿した後、自動複屈折計（KOBRA-21ADH/PR：王子計測器(株)製）を用いて、２５℃６０％ＲＨの環境下で、前記サンプルフィルム表面に対し垂直方向、及びフィルム面法線から±４０°傾斜させた方向から波長５５０ｎｍにおけるレターデーション値を測定した。垂直方向から面内レターデーション（Ｒe）、フィルム面法線から±４０°傾斜させた方向から厚み方向のレタデーション（Ｒth）をそれぞれ算出した。
（ｄ）Ｒe及びＲthむら
（ｃ）のＭＤ方向１００点、ＴＤ方向５０点の各最大値と最小値の差を各平均値で割り、百分率で示したものをＲe及びＲthむらとした。
（ｅ）厚みむら測定
上記サンプルの厚みを測定し、ＭＤ方向１００点、ＴＤ方向５０点の各最大値と最小値の差を各平均値で割り、百分率で示したものを厚みむらとした。

（２）Ｒe湿度変化率及びＲth湿度変化率
（ａ）サンプリング
幅方向（ＴＤ）３点（中央、両端部（両端から全幅の５％の位置））を長手方向（ＭＤ）に１０ｍごとに３回サンプリングし、１ｃｍ×１ｃｍの大きさのサンプルを９枚取り出した。
（ｂ）Ｒe及びＲth測定
上記サンプルフィルムを２５℃６０％ＲＨに３時間以上調湿した後、自動複屈折計（KOBRA-21ADH/PR：王子計測器(株)製）を用いて、２５℃６０％ＲＨの環境下で、サンプルフィルム表面に対し、垂直方向、及びフィルム面法線から±４０°傾斜させて方向から波長５５０ｎｍにおけるレターデーション値を測定した。垂直方向から面内のレターデーション（Ｒe）、フィルム面法線から±４０°傾斜させた方向からのレタデーション（Ｒth）をそれぞれ算出した。これらをＲe（６０）、Ｒth（６０）とした。
次いで、上記サンプルフィルムを２５℃１０％ＲＨ中で測定し、Ｒe（１０）、Ｒth（１０）を算出した。さらにこれらのサンプルフィルムを２５℃８０％ＲＨ中で測定し、Ｒe（８０）、Ｒth（８０）を算出した。
各サンプルについて、下記式に従い、Ｒe湿度変化率及びＲth湿度変化率を算出し、各９点の測定点の平均を求めた。

（３）セルロースアシレート基の置換度
セルロースアシレート基のアシル置換度は、Carbohydr.Res.273(1995)p83-91（手塚他）に記載の方法により¹³Ｃ−ＮＭＲを用いて求めた。

（実施例１）
本発明の未延伸セルロースアシレートフィルムを組み込んだ偏光板を作製し、表示むらの有無を調べた。
１．未延伸セルロースアシレートフィルムの製膜
（１）セルロースアシレートの調製
表１に記載の異なるアシル基の種類及び置換度を有するセルロースアシレートを調製した。セルロースのアシル化は、４０℃の温度で、セルロース１００質量部に対し、触媒としての硫酸７．８質量部を添加し、次いでアシル置換基の原料となるカルボン酸を添加して行った。この際、カルボン酸の種類及び添加量を調整することで、アシル基の種類及び置換度を調整した。次いで、アシル化後の熟成を４０℃で行った。このようにして得たセルロースアシレートの重合度は下記の方法で求め、表１に記載した。

［重合度測定法］
絶乾したセルロースアシレート約０．２ｇを精秤し、メチレンクロリド：エタノール＝９：１（質量比）の混合溶剤１００ｍｌに溶解した。これをオストワルド粘度計を用いて２５℃で落下秒数を測定し、重合度を以下の式により求めた。

表１に記載の異なるアシル基の種類及び置換度を有するセルロースアシレートのＴｇは以下の方法で測定し、表１に示した。なお、下記可塑剤を添加したものは、可塑剤添加後に測定した値を示した。

［Ｔｇ測定］
ＤＳＣの測定パンにサンプルを２０ｍｇ入れた。次いで、前記測定パンを窒素気流中で１０℃／分の昇温速度で３０℃から２５０℃まで昇温した後（第１回昇温）、３０℃まで−１０℃／分の冷却速度で冷却した。次いで、再度３０℃から２５０℃まで昇温し（第２回昇温）、Ｔｇ（ベースラインが低温側から偏奇し始める温度）を測定し、表１に記載した。さらに、表１に示すように一部の水準には可塑剤（特開２０００−３５２６２０号公報に記載の可塑剤２）を添加した。なお、全てのサンプルに二酸化珪素部粒子（アエロジルＲ９７２Ｖ）０．０５質量％を添加した。

（２）溶融製膜
上記セルロースアシレートを直径３ｍｍ、長さ５ｍｍの円柱状のペレットに成形したものを、１１０℃の真空乾燥機を用いて乾燥した。乾燥時間を調整することで、含水率の異なるものを作製した。含水率はカールフィッシャー水分系（平沼産業(株)製微量水分測定装置ＡＱ−２０００、自動水分気化装置ＬＥ―２０ＳＡ）を用い、１５０℃に加熱し含水率を測定した。
これをＴｇ−１０℃になるように調整したホッパーに投入し、表１に記載された条件（温度、圧縮比、Ｔ−ダイ温度）で１０分間かけてメルトを溶融押出しした。このメルトを各水準静電印加法（１０ｋＶのワイヤーをメルトのキャスティングドラムへの着地点から１０ｃｍのところに設置）を用いて、表１に記載した条件で、キャスティングドラム上で冷却固化し、セルロースアシレートフィルムを作製した。この時、冷却固化したメルトを剥ぎ取り、ニップロールを介し、表１に記載の条件で巻き取った。この際、巻き取り直前に両端（全幅の各３％）をトリミングした後、両端に幅１０ｍｍ、高さ５０μｍの厚みだし加工（ナーリング）をつけた後に巻き取った。各サンプルとも、幅１．５ｍで３０ｍ／分の巻取速度で３０００ｍ巻き取った。
このようにして得られた未延伸セルロースアシレートフィルムの物性を上記の方法で測定し、表２に記載した。

２．延伸セルロースアシレートの作製
上記未延伸シートを表３に記載の条件で縦及び横方向へ３００％／分の延伸速度で延伸した。これらの物性値を実施例１と同様の方法により測定し、表３に示した。

３．偏光板の作製
（１）セルロースアシレートフィルムの鹸化
未延伸セルロースアシレートフィルムを下記のいずれかの方法で鹸化を行い、表２に記載した。
（ａ）塗布鹸化
iso−プロパノール８０質量部に水２０質量部を加え、これにＫＯＨを１．５mol／Lとなるように溶解し、これを６０℃に調温したものを鹸化液として用いた。この鹸化液を６０℃のセルロースアシレートフィルム上に１０ｇ／ｍ²となるように塗布し、１分間鹸化した。この後、５０℃の温水を１分当たり１０L／m²となるよう１分間吹きかけて洗浄した。
（ｂ）浸漬鹸化
１．５mol／LのＮａＯＨ水溶液を鹸化液として用いた。これを６０℃に調温し、セルロースアシレートフィルムを２分間浸漬した。この後、０．０５mol／L（０．１Ｎ）の硫酸水溶液に３０秒浸漬した後、水洗浴を通した。

（２）偏光層の作製
下記のいずれかの方法（表２に記載）で厚み２０μｍの偏光層を調製した。
（ａ）斜め延伸法
特開平２００２−８６５５４号公報の実施例１に従い、テンターを用い延伸軸が斜め４５°となるように延伸した。
（ｂ）平行延伸法
特開平２００１−１４１９２６号公報の実施例１に従い、２対のニップロール間に周速差を与え、長手方向に延伸した。

（３）貼り合わせ
このようにして得た偏光層と、上記鹸化処理した未延伸セルロースアシレートフィルムを、ＰＶＡ（（株）クラレ製ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤として、偏光軸とセルロースアシレートフィルムの長手方向が４５°となるように張り合わせた。このうち未延伸セルロースアシレートフィルムを特開２０００−１５４２６１号公報の図２〜９に記載の２０インチＶＡ型液晶表示装置液晶表示装置に取り付け、目視評価し、表示むらの発生している領域（％）を表２に記載した。

表２より、Ｒeむら、Ｒthむら、厚みむらが本発明の範囲内である未延伸セルロースアシレートフィルムを偏光板に組み込んだ場合、表示むらはかなり少なく、通常の湿度環境である６０％ＲＨにおいて表示むらは特に少なかった。これに対し、Ｒeむら、Ｒthむら、厚みむらが本発明の範囲外のものを偏光板に組み込んだ場合、光学特性は低下し、表示むらが多くみられた。特に特開２０００−３５２６６２０号公報の実施例の試料Ｎ０．３−１に準じて作製した未延伸−３９は表示むらが著しかった。
これより本発明の未延伸セルロースアシレートフィルムを用いた偏光板は表示むらの少ない偏光板であることが分かる。

（実施例２）
本発明の未延伸及び延伸セルロースアシレートフィルムを用いて光学補償フィルムを作製し、表示むらの有無を調べた。
１．未延伸セルロースアシレートフィルム
特開平１１−３１６３７８号公報の実施例１の第１透明支持体に、本発明の実施例１で作製した未延伸セルロースアシレートフィルムを用いて光学補償フィルムを作製し、評価した。表２に示すように本発明の未延伸セルロースアシレートフィルムを用いた場合、良好な光学補償フィルムが得られた。

２．延伸セルロースアシレートフィルム
特開平１１−３１６３７８号公報の実施例１の液晶層を塗布したセルロースアセテートフィルムの代わりに、本発明の延伸セルロースアシレートフィルムを使用して光学補償フィルムＡを作製した。

表３に示すように、本発明の延伸セルロースアシレートフィルムを用いた場合には、良好な光学補償フィルムが得られた。
同様に、特開平７−３３３４３３号公報の実施例１の液晶層を塗布したセルロースアセテートフィルムに代わりに、本発明の延伸セルロースアシレートフィルムを使用して光学補償フィルムＢを作製した。表３に示すように、本発明の延伸セルロースアシレートフィルムを用いた場合、良好な光学補償フィルムが得られた。
これに対し、本発明の範囲外のものは、いずれも光学特性が低下し、表示むらが多く見られた。特に特開２０００−３５２６６２０号公報に記載の実施例の試料No．３−１に準じて作製した延伸−３９は、特にその低下が著しかった。

（実施例３）
低反射フィルムの作製及び評価
発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５）の実施例４７に従い、本発明の延伸及び未延伸セルロースアシレートフィルムを用いて低反射フィルムを作製した。得られた低反射フィルムは良好な光学性能を示した。

（実施例４）
液晶表示素子の作製及び評価
上記本発明の偏光板を、特開平１０−４８４２０号公報の実施例１に記載の液晶表示装置、特開平９−２６５７２号公報の実施例１に記載のディスコティック液晶分子を含む光学的異方性層、ポリビニルアルコールを塗布した配向膜、特開２０００−１５４２６１号公報の図２〜９に記載の２０インチＶＡ型液晶表示装置、特開２０００−１５４２６１号公報の図１０〜１５に記載の２０インチＯＣＢ型液晶表示装置に用いた。さらに、本発明の低反射フィルムをこれらの液晶表示装置の最表層に貼り、下記評価を行った。

［評価方法］
上記液晶表示装置を、２５℃１０％ＲＨ〜８０％ＲＨの雰囲気下、画像表示むらを肉眼で評価し、これらの中で最も大きなむらの発生した液晶表示装置の表示むら発生領域を百分率で示した。

表２及び３に示されるように、本発明を実施したものは良好な視認性能が得られた。

本発明のセルロースアシレートフィルムは、表示むらが少ないため、液晶表示装置、特に大型の液晶表示装置に組み込まれる偏光板、液晶表示用光学補償フィルム、反射防止フィルムとして利用できる。

Claims

溶融流延によって形成されるセルロースアシレートフィルムであって、Ｒｅむらが０〜１０％、厚みむらが０〜２％、Ｒｔｈむらが０〜１０％であることを特徴とするセルロースアシレートフィルム。
前記セルロースアシレートフィルムが含有するセルロースアシレートのアシレート基が下記の置換度を満たすことを特徴とする請求項１に記載のセルロースアシレートフィルム。
２．６≦Ｘ＋Ｙ≦３．０
０≦Ｘ≦１．８
１．０≦Ｙ≦３
（但し、Ｘはセルロースアシレート中のアセテート基の置換度であり、Ｙはセルロースアシレート中のプロピオネート基、ブチレート基、プロピオネート基及びヘキサネート基の置換度の総和である。）
前記セルロースアシレートフィルムが含有するセルロースアシレートの粘度平均重合度が、２５０〜５５０であることを特徴とする請求項１または２に記載のセルロースアシレートフィルム。
セルロースアシレートを溶融する工程と、流延する工程とを含むセルロースアシレートフィルムの製造方法であって、含水率が０〜０．５％のセルロースアシレートを１８０〜２５０℃の温度において圧縮比３〜１５のスクリューを用いて溶融した後、前記溶融時の溶融温度よりも５〜３０℃低い温度に制御したＴ−ダイから５〜５０ｃｍ離れた距離に設置したキャスティングドラム上に溶融物を押し出す工程と、前記キャスティングドラム上で溶融物を冷却固化する際に、セルロースアシレートのＴｇ＋３０℃〜Ｔｇの間を１０〜１００℃／秒の速度で冷却固化する工程と、前記キャスティングドラムから冷却固化されたフィルムを剥ぎ取る工程とを含むことを特徴とするセルロースアシレートフィルムの製膜方法。
前記キャスティングドラムに押し出された溶融物をセルロースアシレートのＴｇ〜Ｔｇ−２０℃の間を冷却速度−０．１℃/秒〜−２０℃/秒で冷却する工程を含むことを特徴とする請求項４に記載のセルロースアシレートフィルムの製膜方法。
キャスティングドラムから剥ぎ取った前記フィルムをニップロールで巻き取り張力を除き、次いで０〜１０ｋｇ/ｃｍ ² の張力で前記フィルムをロールに巻き取る工程を含むこと特徴とする請求項４または５に記載のセルロースアシレートフィルムの製膜方法。
前記セルロースアシレートのアシレート基が、下記の置換度を満たすことを特徴とする請求項４〜６のいずれか一項に記載のセルロースアシレートフィルムの製膜方法。
２．６≦Ｘ＋Ｙ≦３．０
０≦Ｘ≦１．８
１．０≦Ｙ≦３
（但し、Ｘはセルロースアシレート中のアセテート基の置換度であり、Ｙはセルロースアシレート中のプロピオネート基、ブチレート基、プロピオネート基、ペンタネート基およびヘキサネート基の置換度の総和である。）
さらにフィルムを延伸する工程を有することを特徴とする請求項４〜７のいずれか一項に記載のセルロースアシレートフィルムの製膜方法。
前記フィルムを延伸する工程において、未延伸フィルムを少なくとも１方向に１〜５００％延伸することを特徴とする請求項８に記載のセルロースアシレートフィルムの製膜方法。