JP4270541B2 - アミノアルコ−ル誘導体又はホスホン酸誘導体及びそれらを含有する医薬組成物 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、優れた免疫抑制作用を有するアミノアルコ−ル誘導体若しくはホスホン酸誘導体、アミノアルコ−ル誘導体若しくはホスホン酸誘導体の薬理上許容される塩、アミノアルコ−ル誘導体若しくはホスホン酸誘導体の薬理上許容されるエステル、又はそれらを有効成分として含有する医薬組成物に関する。
【０００２】
さらに、本発明は、免疫抑制剤と、優れた免疫抑制作用を有するアミノアルコール化合物若しくはホスホン酸誘導体、その薬理上許容される塩及びそのエステルからなる群より選ばれる化合物とを有効成分として含有し、臓器及び細胞移植における拒絶反応、リウマチやその他の自己免疫疾患等の免疫作用に関連する疾患の予防又は治療薬として優れる医薬組成物に関する。
【０００３】
【従来の技術】
従来、リウマチやその他の自己免疫疾患等の免疫関連病の治療においては、異常な免疫反応によって生じる炎症反応に対してステロイドなどの抗炎症薬が使用されてきた。しかしながらこれらは対症療法であり根本的治療法ではない。
【０００４】
また、糖尿病、腎炎の発症においても免疫系の異常が関与することは報告されているが（例えば、非特許文献１参照）、その異常を改善するような薬剤の開発には至っていない。
【０００５】
一方、免疫応答を抑制する方法の開発は、臓器及び細胞移植における拒絶反応を防いだり、種々の自己免疫疾患を治療及び予防する上でも極めて重要である。しかしながら、シクロスポリンＡ（ＣｓＡ）やタクロリムス（ＴＲＬ）等の従来知られている免疫抑制剤は、腎臓及び肝臓に対して毒性を示すことが知られており、そのような副作用を軽減するために、ステロイド類を併用するなどの治療が広く用いられてきたが、必ずしも副作用を示すことなく十分な免疫抑制効果を発揮するには至っていないのが現状である。
【０００６】
このような背景から、毒性が低く、優れた免疫抑制作用を有する化合物を見出すことが試みられている。
【０００７】
免疫抑制剤としては、例えば、以下の化合物が知られている。
【０００８】
（１）一般式（ａ）
【０００９】
【化１９】

【００１０】
｛上記化合物（ａ）において、
Ｒ_xは置換基を有してもよい直鎖または分岐鎖状の炭素鎖[当該鎖中に、二重結合、三重結合、酸素、硫黄、−Ｎ（Ｒ_x ⁶）−（式中、Ｒ_x ⁶は水素を示す。）、置換基を有してもよいアリ−レン、置換基を有してもよいヘテロアリ−レンを有してもよく、当該鎖端に、置換基を有してもよいアリ−ル、置換基を有してもよいシクロアルキル、置換基を有してもよいヘテロアリ−ルを有してよい。]であり、Ｒ_x ²、Ｒ_x ³、Ｒ_x ⁴、Ｒ_x ⁵は、同一または異なって、水素、アルキルである。｝を有する化合物が，免疫抑制剤として知られている（例えば、特許文献１参照）。
【００１１】
かかる先行技術の上記化合物（ａ）は、必須の置換基として、同一炭素原子に置換する２つのオキシメチル基（−ＣＨ₂ＯＲ_x ⁴及び−ＣＨ₂ＯＲ_x ⁵）を有するが、本発明の化合物は対応する基として、同一炭素原子に置換する−ＣＨ₂ＯＲ³基と低級アルキル基を有している点で上記化合物（ａ）と相違する。
【００１２】
（２）一般式（ｂ）
【００１３】
【化２０】

【００１４】
［上記化合物（ｂ）において、
Ｒ_y ¹、Ｒ_y ²及びＲ_y ³は、水素原子等であり、Ｗは、水素原子、アルキル基等であり、Ｚ_yは、単結合又はアルキレン基であり、Ｘ_yは、水素原子又はアルコキシ基であり、Ｙ_yは、水素原子、アルキル、アルコキシ、アシル、アシルオキシ、アミノ、アシルアミノ基等を示す。」
を有する化合物が、免疫抑制剤として知られている（例えば、特許文献２参照）。
【００１５】
上記化合物（ｂ）は、基本骨格中フェニル基を必須としているが、本発明の化合物（Ｉ）は、対応する基がヘテロ環であるフラン基またはピロール基もしくは窒素原子に置換基を有するピロール基である点で、上記化合物（ｂ）と相違する。
【００１６】
更に本公報には、本発明の化合物（Ｉ）の構造と類似するような構造を有する化合物は、具体的に全く開示されていない。
【００１７】
（３）一般式（ｃ）
【００１８】
【化２１】

【００１９】
［上記化合物（ｃ）において、
Ｒ_z ¹、Ｒ_z ²、Ｒ_z ³、Ｒ_z ⁴は同一又は異なって、水素又はアシル基である。］を有する化合物が、免疫抑制剤として知られている（例えば、特許文献３参照）。
【００２０】
上記化合物（ｃ）は、必須の置換基として、同一炭素原子に置換する２つのオキシメチル基（−ＣＨ₂ＯＲ_z ³及び−ＣＨ₂ＯＲ_z ⁴）を有するが、本発明の化合物は対応する基として、同一炭素原子に置換する−ＣＨ₂ＯＲ³基と低級アルキル基を有している点で上記化合物（ｃ）と相違する。また、上記化合物（ｃ）は、基本骨格中−（ＣＨ₂）₂−基と−ＣＯ−（ＣＨ₂）₄−基の間にフェニル基を必須の基としているが、本発明の化合物（Ｉ）は、対応する基がヘテロ環であるフラン基またはピロール基もしくは窒素原子に置換基を有するピロール基である点でも、上記化合物（ｃ）と相違する。
【００２１】
一方、上記一般式（II）を有する化合物で、Ｘが硫黄原子である本発明の化合物は、ＷＯ０２／０６２６８号公報（特許文献４）において、ヒドロキシ化合物の保護基がリン酸エステル塩残基である化合物として開示されている。
【００２２】
さらに、免疫抑制剤の併用について、免疫抑制剤であるＦＴＹ−７２０と、サイクロスポリンＡ又はタクロリムスとを併用する発明が、特開平１１−８００２６号公報（特許文献５）に開示されている。
【００２３】
このような背景から、毒性が低く、優れた免疫抑制作用を有する医薬組成物を見出すことが望まれている。
【００２４】
【特許文献１】
ＷＯ９４／０８９４３号公報（ＥＰ６２７４０６号公報）（第３７１頁）
【特許文献２】
ＷＯ９６／０６０６８号公報（第２７１頁）
【特許文献３】
ＷＯ９８／４５２４９号公報（第８１頁）
【特許文献４】
ＷＯ０２／０６２６８号公報（第３４５頁）
【特許文献５】
特開平１１−８００２６号公報（第２頁）
【非特許文献１】
Kidney International, vol.５１, 9４(１997);Journal of Immunology, vol.１５7, ４69１(１996)
【００２５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明者らは、毒性が低く優れた免疫抑制作用を有する新規化合物に関して、長年に亘り鋭意検討を重ね他結果、各種臓器移植又は皮膚移植での拒絶反応、全身性エリトマトーデス、慢性関節リウマチ、多発性筋炎、結合組織炎、骨格筋炎、骨関節炎、変形性関節症、皮膚筋炎、強皮症、ベーチェット病、Chron病、潰瘍性大腸炎、自己免疫性肝炎、再生不良性貧血、特発性血小板減少性紫斑病、自己免疫性溶血性貧血、多発性硬化症、自己免疫性水疱症、尋常性乾癬、血管炎症群、Wegener肉芽腫、ぶどう膜炎、シェーグレン症候群、特発性間質性肺炎、Goodpasture症候群、サルコイドーシス、アレルギー性肉芽腫性血管炎、気管支喘息、心筋炎、心筋症、大動脈炎症候群、心筋梗塞後症候群、原発性肺高血圧症、微小変化型ネフローゼ、膜性腎症、膜性増殖性腎炎、巣状糸球体硬化症、半月体形成性腎炎、重症筋無力症、炎症性ニューロパチー、アトピー性皮膚炎、慢性光線性皮膚炎、日光過敏症、蓐瘡、Sydenham舞踏病、硬化症、成人発症糖尿病、インスリン依存性糖尿病、若年性糖尿病、アテローム性動脈硬化症、糸球体腎炎、IgA腎症、尿細管間質性腎炎、原発性胆汁性肝硬変、原発性硬化性胆管炎、劇症肝炎、ウイルス性肝炎、GVHD、接触皮膚炎、敗血症等の自己免疫疾患又はその他免疫関連疾患、さらに、真菌、マイコプラズマ、ウィルス、原虫等の感染症、心不全、心肥大、不整脈、狭心症、心虚血、動脈塞栓、動脈瘤、静脈瘤、血行障害等の循環器系疾患、アルツハイマー病、痴呆、パーキンソン病、脳卒中、脳梗塞、脳虚血、鬱病、躁鬱病、統合失調症、ハンチントン舞踏病、癲癇、痙攣、多動症、脳炎、髄膜炎、食欲不振および過食等の中枢系疾患、リンパ腫、白血病、多尿、頻尿、糖尿病性網膜症等の各種疾患（特に、各種臓器移植又は皮膚移植での拒絶反応、全身性エリトマトーデス、慢性関節リウマチ、多発性硬化症、アトピー性皮膚炎等の自己免疫疾患）に有用である新規化合物を見出して、本発明を完成した。
【００２６】
従って、本発明の目的は、毒性が低く優れた免疫抑制作用を有するアミノアルコ−ル誘導体若しくはホスホン酸誘導体、アミノアルコ−ル誘導体若しくはホスホン酸誘導体の薬理上許容される塩、アミノアルコ−ル誘導体若しくはホスホン酸誘導体の薬理上許容されるエステル、又はそれらを有効成分として含有する医薬組成物、或いは医薬組成物を製造するためのそれらの使用を提供することである。
【００２７】
さらに、本発明者らは、免疫抑制作用を有する医薬組成物について鋭意研究を行った結果、本発明の医薬組成物が、毒性が低く優れた免疫抑制作用を有し、該組成物中に含有される免疫抑制剤のいずれの薬理効果をも増強して発揮し、かつ該免疫抑制剤単独では持ちうる副作用も低減させ、各種臓器移植又は皮膚移植での拒絶反応、全身性エリトマトーデス、慢性関節リウマチ、多発性筋炎、結合組織炎、骨格筋炎、骨関節炎、変形性関節症、皮膚筋炎、強皮症、ベーチェット病、Chron病、潰瘍性大腸炎、自己免疫性肝炎、再生不良性貧血、特発性血小板減少性紫斑病、自己免疫性溶血性貧血、多発性硬化症、自己免疫性水疱症、尋常性乾癬、血管炎症群、Wegener肉芽腫、ぶどう膜炎、シェーグレン症候群、特発性間質性肺炎、Goodpasture症候群、サルコイドーシス、アレルギー性肉芽腫性血管炎、気管支喘息、心筋炎、心筋症、大動脈炎症候群、心筋梗塞後症候群、原発性肺高血圧症、微小変化型ネフローゼ、膜性腎症、膜性増殖性腎炎、巣状糸球体硬化症、半月体形成性腎炎、重症筋無力症、炎症性ニューロパチー、アトピー性皮膚炎、慢性光線性皮膚炎、日光過敏症、蓐瘡、Sydenham舞踏病、硬化症、成人発症糖尿病、インスリン依存性糖尿病、若年性糖尿病、アテローム性動脈硬化症、糸球体腎炎、IgA腎症、尿細管間質性腎炎、原発性胆汁性肝硬変、原発性硬化性胆管炎、劇症肝炎、ウイルス性肝炎、GVHD、接触皮膚炎、敗血症等の自己免疫疾患又はその他免疫関連疾患、さらに、真菌、マイコプラズマ、ウィルス、原虫等の感染症、心不全、心肥大、不整脈、狭心症、心虚血、動脈塞栓、動脈瘤、静脈瘤、血行障害等の循環器系疾患、アルツハイマー病、痴呆、パーキンソン病、脳卒中、脳梗塞、脳虚血、鬱病、躁鬱病、統合失調症、ハンチントン舞踏病、癲癇、痙攣、多動症、脳炎、髄膜炎、食欲不振および過食等の中枢系疾患、リンパ腫、白血病、多尿、頻尿、糖尿病性網膜症等の各種疾患（特に、各種臓器移植又は皮膚移植での拒絶反応、全身性エリトマトーデス、慢性関節リウマチ、多発性硬化症、アトピー性皮膚炎等の自己免疫疾患）に有用であることを見出し、本発明を完成した。
【００２８】
従って、本発明のさらなる目的は、臓器及び細胞移植における拒絶反応、リウマチやその他の自己免疫疾患等の免疫作用に関連する疾患の予防又は治療薬として優れる医薬組成物を提供することである。
【００２９】
【課題を解決するための手段】
本発明を具体的に説明する。
（１） 本発明のアミノアルコ−ル誘導体は、下記一般式（Ｉ）を有する。
【００３０】
【化２２】

【００３１】
上記式中、
Ｒ¹及びＲ²は、同一又は異なって、水素原子、低級アルキル基、低級脂肪族アシル基、低級アルコキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基又は置換基群ａから選択される基で１乃至３個置換されたアラルキルオキシカルボニル基を示し、
Ｒ³は、水素原子、低級アルキル基、低級脂肪族アシル基、芳香族アシル基、置換基群ａから選択される基で１乃至３個置換された芳香族アシル基又はシリル基を示し、
Ｒ⁴は、低級アルキル基を示し、
ｎは、１乃至６の整数を示し、
Ｘは、酸素原子または式Ｎ−Ｄを有する基（式中、Ｄは水素原子、Ｃ₆−Ｃ₁₀アリール基、低級アルキルスルホニル基、Ｃ₆−Ｃ₁₀アリールスルホニル基又は置換基群aから選択される基を示す。）を示し、
Ｙは、エチレン基、ビニレン基、エチニレン基、式−Ｅ−ＣＨ₂−を有する基（式中、Ｅは、カルボニル基又は式−ＣＨ（ＯＨ）−を有する基を示す。）、Ｃ₆−Ｃ₁₀アリーレン基又は置換基群ａから選択される基で１乃至３個置換されたＣ₆−Ｃ₁₀アリーレン基を示し、
Ｚは、単結合、Ｃ₁−Ｃ₁₀アルキレン基、置換基群ａ及びｂから選択される基で１乃至３個置換されたＣ₁−Ｃ₁₀アルキレン基、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子若しくは硫黄原子を有するＣ₁−Ｃ₁₀アルキレン基、又は置換基群ａ及びｂから選択される基で１乃至３個置換された、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子若しくは硫黄原子を有するＣ₁−Ｃ₁₀アルキレン基を示し、
Ｒ⁵は、Ｃ₃−Ｃ₁₀シクロアルキル基、Ｃ₆−Ｃ₁₀アリ−ル基、硫黄原子、酸素原子及び／又は窒素原子を１乃至３個含む５乃至７員複素環基、置換基群ａ及びｂから選択される基で１乃至３個置換されたＣ₃−Ｃ₁₀シクロアルキル基、置換基群ａ及びｂから選択される基で１乃至３個置換されたＣ₆−Ｃ₁₀アリ−ル基、又は置換基群ａ及びｂから選択される基で１乃至３個置換された硫黄原子、酸素原子及び／又は窒素原子を１乃至３個含む５乃至７員複素環基を示し、
Ｒ⁶及びＲ⁷は、同一又は異なって、水素原子又は置換基群ａから選択される基を示し、
置換基群ａは、ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲノ低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、カルボキシ基、低級アルコキシカルボニル基、ヒドロキシ基、低級脂肪族アシル基、アミノ基、モノ−低級アルキルアミノ基、ジ−低級アルキルアミノ基、低級脂肪族アシルアミノ基、シアノ基及びニトロ基からなる群を示し、
置換基群ｂは、Ｃ₃−Ｃ₁₀シクロアルキル基、Ｃ₆−Ｃ₁₀アリ−ル基、硫黄原子、酸素原子及び／又は窒素原子を１乃至３個含む５乃至７員複素環基、置換基群ａから選択される基で１乃至３個置換されたＣ₃−Ｃ₁₀シクロアルキル基、置換基群ａから選択される基で１乃至３個置換されたＣ₆−Ｃ₁₀アリ−ル基、及び置換基群ａから選択される基で１乃至３個置換された、硫黄原子、酸素原子及び／又は窒素原子を１乃至３個含む５乃至７員複素環基からなる群を示す。
【００３３】
本発明は、式（Ｉ）を有する化合物、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステルを提供する。
【００３４】
（２） （１）において、式（Ｉ）を有する化合物が、式（Ｉａ）
【００３５】
【化２３】

【００３６】
（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｘ、Ｙ、Ｚ及びｎは、前記におけるものと同意義を示す。）を有する化合物、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステル及び
（３） （１）において、式（Ｉ）を有する化合物が、式（Ｉｂ）
【００３７】
【化２４】

【００３８】
（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｘ、Ｙ、Ｚ及びｎは、前記におけるものと同意義を示す。）を有する化合物、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステル。
【００３９】
特に、本発明は、式（Ｉ）を有する化合物の薬理上許容されるエステルとして、下記式（II）を有する化合物又はその薬理上許容される塩を提供する。
【００４０】
（４） （１）において、式（Ｉ）を有する化合物の薬理上許容されるエステルが、式（ＩＩ）
【００４１】
【化２５】

【００４２】
（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｘ、Ｙ、Ｚ及びｎは、前記におけるものと同意義を示し、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹は、同一又は異なって、水素原子又はリン酸基の保護基を示す。）を有する化合物又はその薬理上許容される塩、
（５） （４）において、式（ＩＩ）を有するエステルが、式（ＩＩａ）
【００４３】
【化２６】

【００４４】
（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｘ、Ｙ、Ｚ及びｎは、前記におけるものと同意義を示し、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹は、同一又は異なって、水素原子又はリン酸基の保護基を示す。）を有する化合物又はその薬理上許容される塩及び
（６） （４）において、式（ＩＩ）を有するエステルが、式（ＩＩｂ）
【００４５】
【化２７】

【００４６】
（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｘ、Ｙ、Ｚ及びｎは、前記におけるものと同意義を示し、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹は、同一又は異なって、水素原子又はリン酸基の保護基を示す。）を有する化合物又はその薬理上許容される塩。
（７） 本発明のホスホン酸誘導体は、下記一般式（ＩＩＩ）を有する。
【００４７】
【化２８】

【００４８】
上記式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹、Ｘ、Ｙ、Ｚ及びｎは、前記におけるものと同意義を示す。
【００４９】
本発明は、式（ＩＩＩ）を有する化合物、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステルを提供する。
【００５０】
（８）（７）において、式（ＩＩＩ）を有する化合物が、式（ＩＩＩａ）
【００５１】
【化２９】

【００５２】
（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹、Ｘ、Ｙ、Ｚ及びｎは、前記におけるものと同意義を示す。）を有する化合物、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステル及び
（９）（７）において、式（ＩＩＩ）を有する化合物が、式（ＩＩＩｂ）
【００５３】
【化３０】

【００５４】
（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹、Ｘ、Ｙ、Ｚ及びｎは、前記におけるものと同意義を示す。）を有する化合物、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステル。
【００５５】
これらのうち、好適な化合物としては、
（１０） （１）乃至（９）から選択される１項において、Ｒ¹及びＲ²が、同一又は異なって、水素原子、低級脂肪族アシル基、低級アルコキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基又は置換基群ａから選択される基で１乃至３個置換されたアラルキルオキシカルボニル基である化合物又はその薬理上許容される塩、
（１１） （１）乃至（９）から選択される１項において、Ｒ¹及びＲ²が、同一又は異なって、水素原子、低級脂肪族アシル基又は低級アルコキシカルボニル基である化合物又はその薬理上許容される塩、
（１２） （１）乃至（９）から選択される１項において、Ｒ¹及びＲ²が、同一又は異なって、水素原子、Ｃ₁−Ｃ₄脂肪族アシル基又はＣ₁−Ｃ₄アルコキシカルボニル基である化合物又はその薬理上許容される塩、
（１３） （１）乃至（９）から選択される１項において、Ｒ¹及びＲ²が、同一又は異なって、水素原子、Ｃ₁−Ｃ₂脂肪族アシル基又はＣ₁−Ｃ₂アルコキシカルボニル基である化合物又はその薬理上許容される塩、
（１４） （１）乃至（９）から選択される１項において、Ｒ¹及びＲ²が、同一又は異なって、水素原子、アセチル基又はメトキシカルボニル基である化合物又はその薬理上許容される塩、
（１５） （１）乃至（９）から選択される１項において、Ｒ¹及びＲ²が、水素原子である化合物又はその薬理上許容される塩、
（１６） （１）乃至（３）及び（１０）乃至（１５）から選択される１項において、Ｒ³が、水素原子、低級アルキル基、低級脂肪族アシル基、芳香族アシル基、置換基群ａから選択される基で１乃至３個置換された芳香族アシル基又はシリル基である化合物又はその薬理上許容される塩、
（１７） （１）乃至（３）及び（１０）乃至（１５）から選択される１項において、Ｒ³が、水素原子又は低級アルキル基である化合物又はその薬理上許容される塩、
（１８） （１）乃至（３）及び（１０）乃至（１５）から選択される１項において、Ｒ³が、水素原子又はＣ₁−Ｃ₄アルキル基である化合物又はその薬理上許容される塩、
（１９） （１）乃至（３）又は（１０）乃至（１５）から選択される１項において、Ｒ³が、水素原子、メチル基又はエチル基である化合物又はその薬理上許容される塩、
（２０） （１）乃至（３）及び（１０）乃至（１５）から選択される１項において、Ｒ³が、水素原子である化合物又はその薬理上許容される塩、
（２１） （１）乃至（２０）から選択される１項において、Ｒ⁴が、Ｃ₁−Ｃ₄アルキル基である化合物又はその薬理上許容される塩、
（２２） （１）乃至（２０）から選択される１項において、Ｒ⁴が、Ｃ₁−Ｃ₂アルキル基である化合物又はその薬理上許容される塩、
（２３） （１）乃至（２０）から選択される１項において、Ｒ⁴が、メチル基である化合物又はその薬理上許容される塩、
（２４） （１）乃至（２３）から選択される１項において、ｎが、２又は３である化合物又はその薬理上許容される塩、
（２５） （１）乃至（２３）から選択される１項において、ｎが、２である化合物又はその薬理上許容される塩、
（２６） （１）乃至（２５）から選択される１項において、Ｘが、酸素原子である化合物又はその薬理上許容される塩、
（２７） （１）乃至（２５）から選択される１項において、Ｘが、式Ｎ−Ｄを有する基（式中、Ｄは水素原子、Ｃ₁−Ｃ₄アルキル基又はフェニル基を示す。）である化合物又はその薬理上許容される塩、
（２８） （１）乃至（２５）から選択される１項において、Ｘが、式Ｎ−ＣＨ₃を有する基である化合物又はその薬理上許容される塩、
（２９） （１）乃至（２８）から選択される１項において、Ｙが、エチレン基、エチニレン基、式−ＣＯ−ＣＨ₂−を有する基、式−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ₂−を有する基、フェニレン基、又はハロゲン原子及び低級アルキル基からなる群より選択される基で１乃至３個置換されたフェニレン基である化合物又はその薬理上許容される塩、
（３０） （１）乃至（２８）から選択される１項において、Ｙが、エチレン基、エチニレン基、式−ＣＯ−ＣＨ₂−を有する基又はフェニレン基である化合物又はその薬理上許容される塩、
（３１） （１）乃至（３０）から選択される１項において、Ｚが、Ｃ₁−Ｃ₁₀アルキレン基又は置換基群ａ及びｂから選択される基で１乃至３個置換されたＣ₁−Ｃ₁₀アルキレン基である化合物又はその薬理上許容される塩、
（３２） （１）乃至（３０）から選択される１項において、ＺがＣ₁−Ｃ₆アルキレン基又はヒドロキシ基で１乃至３個置換されたＣ₁−Ｃ₆アルキレン基である化合物又はその薬理上許容される塩、
（３３） （１）乃至（３０）から選択される１項において、ＺがＣ₁−Ｃ₅アルキレン基又はヒドロキシ基で１乃至３個置換されたＣ₁−Ｃ₅アルキレン基である化合物又はその薬理上許容される塩、
（３４） （１）乃至（３０）から選択される１項において、Ｚが、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、又は１個のヒドロキシ基で置換されたエチレン基、トリメチレン基若しくはテトラメチレン基である化合物又はその薬理上許容される塩、
（３５） （１）乃至（３０）から選択される１項において、Ｚが、エチレン基、トリメチレン基若しくはテトラメチレン基である化合物又はその薬理上許容される塩、
（３６） （１）乃至（３０）から選択される１項において、Ｚが、エチレン若しくはトリメチレン基である化合物又はその薬理上許容される塩、
（３７） （１）乃至（３０）から選択される１項において、Ｚが、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子若しくは硫黄原子を有するＣ₁−Ｃ₁₀アルキレン基、又は１個のヒドロキシ基で置換された、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子若しくは硫黄原子を有するＣ₁−Ｃ₁₀アルキレン基（該置換基は、低級アルキル基及びヒドロキシ基からなる群から選択される基である。）である化合物又はその薬理上許容される塩、
（３８） （１）乃至（３０）から選択される１項において、Ｚが、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子若しくは硫黄原子を有するＣ₁−Ｃ₁₀アルキレン基である化合物又はその薬理上許容される塩、
（３９） （１）乃至（３０）から選択される１項において、Ｚが、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子を有するＣ₁−Ｃ₁₀アルキレン基である化合物又はその薬理上許容される塩、
（４０） （１）乃至（３０）から選択される１項において、Ｚが、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子を有するＣ₁−Ｃ₆アルキレン基である化合物又はその薬理上許容される塩、
（４１） （１）乃至（３０）から選択される１項において、Ｚが、−Ｏ−ＣＨ₂−、−Ｏ−（ＣＨ₂）₂−、−Ｏ−（ＣＨ₂）₃−、−ＣＨ₂−Ｏ−、−（ＣＨ₂）₂−Ｏ−又は−（ＣＨ₂）₃−Ｏ−を有する基である化合物又はその薬理上許容される塩、
（４２） （１）乃至（３０）から選択される１項において、Ｚが、−ＣＨ₂−Ｏ−又は−（ＣＨ₂）₂−Ｏ−を有する基である化合物又はその薬理上許容される塩、
（４３） （１）乃至（４２）から選択される１項において、Ｒ⁵が、水素原子である化合物又はその薬理上許容される塩、
（４４） （１）乃至（４２）から選択される１項において、Ｒ⁵が、Ｃ₃−Ｃ₁₀シクロアルキル基、Ｃ₆−Ｃ₁₀アリール基、又はハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲノ低級アルキル基、低級アルコキシ基及び低級アルキルチオ基から成る群から選択される基で１乃至３個置換されたＣ₃−Ｃ₁₀シクロアルキル若しくはＣ₆−Ｃ₁₀アリール基である化合物又はその薬理上許容される塩、
（４５） （１）乃至（４２）から選択される１項において、Ｒ⁵が、Ｃ₃−Ｃ₁₀シクロアルキル基、Ｃ₆−Ｃ₁₀アリール基、又はハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲノ低級アルキル基及び低級アルコキシ基から成る群から選択される基で１乃至３個置換されたＣ₃−Ｃ₁₀シクロアルキル若しくはＣ₆−Ｃ₁₀アリール基である化合物又はその薬理上許容される塩、
（４６） （１）乃至（４２）から選択される１項において、Ｒ⁵が、Ｃ₅−Ｃ₆シクロアルキル基、フェニル基又はナフチル基である化合物又はその薬理上許容される塩、
（４７） （１）乃至（４２）から選択される１項において、Ｒ⁵が、シクロヘキシル基又はフェニル基である化合物又はその薬理上許容される塩、
（４８） （１）乃至（４７）から選択される１項において、Ｒ⁶及びＲ⁷が、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲノ低級アルキル基、低級アルコキシ基又は低級アルキルチオ基である化合物又はその薬理上許容される塩、
（４９） （１）乃至（４７）から選択される１項において、Ｒ⁶及びＲ⁷が、水素原子である化合物又はその薬理上許容される塩、
（５０） （４）乃至（１５）及び（２１）乃至（４９）から選択される１項において、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹が、同一又は異なって、水素原子又は低級アルキル基である化合物又はその薬理上許容される塩、
（５１） （４）乃至（１５）及び（２１）乃至（４９）から選択される１項において、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹が、同一又は異なって、水素原子又はＣ₁−Ｃ₄アルキル基である化合物又はその薬理上許容される塩、
（５２） （４）乃至（１５）及び（２１）乃至（４９）から選択される１項において、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹が、同一又は異なって、水素原子、メチル基又はエチル基である化合物又はその薬理上許容される塩、
（５３） （４）乃至（１５）及び（２１）乃至（４９）から選択される１項において、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹が、水素原子である化合物又はその薬理上許容される塩。
【００５６】
上記（１）の化合物において、（２）乃至（３）；（１０）乃至（１５）；（１６）乃至（２０）；（２１）乃至（２３）；（２４）乃至（２５）；（２６）乃至（２８）；（２９）乃至（３０）；（３１）乃至（４２）；（４３）乃至（４７）；並びに（４８）乃至（４９）からなる群から選択されるいずれか１項を任意に組み合わせた化合物も好適である。
【００５７】
上記（４）の化合物において、（５）乃至（６）；（１０）乃至（１５）；（２１）乃至（２３）；（２４）乃至（２５）；（２６）乃至（２８）；（２９）乃至（３０）；（３１）乃至（４２）；（４３）乃至（４７）；（４８）乃至（４９）；並びに（５０）乃至（５３）からなる群から選択されるいずれか１項を任意に組み合わせた化合物も好適である。
【００５８】
上記（７）の化合物において、（８）乃至（９）；（１０）乃至（１５）；（２１）乃至（２３）；（２４）乃至（２５）；（２６）乃至（２８）；（２９）乃至（３０）；（３１）乃至（４２）；（４３）乃至（４７）；（４８）乃至（４９）；並びに（５０）乃至（５３）からなる群から選択されるいずれか１項を任意に組み合わせた化合物も好適である。
【００５９】
これらのうち、特に好適な化合物としては、
（５４） 下記から選択されるいずれか１つの化合物、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステル：
２−アミノ−２−メチル−４−[５−（５−フェニルペンチル）フラン−２−イル]ブタン−１−オール、
２−アミノ−２−メチル−４−[５−（５−シクロヘキシルペント−１−イニル）フラン−２−イル]ブタン−１−オール、
２−アミノ−２−メチル−４−[５−（５−フェニルペント−１−イニル）フラン−２−イル]ブタン−１−オール、
２−アミノ−２−メチル−４−[５−（４−シクロヘキシルオキシブト−１−イニル）フラン−２−イル]ブタン−１−オール、
２−アミノ−２−メチル−４−[５−（５−シクロヘキシルペンタノイル）フラン−２−イル]ブタン−１−オール及び
２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−（３，４−ジメチルフェノキシ）プロプ−１−イニル]フラン−２−イル｝ブタン−１−オール、
（５５） 下記から選択されるいずれか１つの化合物、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステル：
２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（５−フェニルペント−１−イニル）ピロール−２−イル]ブタン−１−オール、
２−アミノ−２−メチル−４−｛１−メチル−５−[３−（４−メチルフェノキシ）プロプ−１−イニル]ピロール−２−イル｝ブタン−１−オール、
２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（４−シクロヘキシルオキシブト−１−イニル）ピロール−２−イル]ブタン−１−オール、
２−アミノ−２−メチル−４−｛１−メチル−５−[３−（３，４−ジメチルフェノキシ）プロプ−１−イニル]ピロール−２−イル｝ブタン−１−オール、
２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル]ブタン−１−オール、
２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（５−シクロヘキシルペンタノイル）ピロール−２−イル]ブタン−１−オール、
２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（４−フェニルブタノイル）ピロール−２−イル]ブタン−１−オール、
２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（４−シクロヘキシルブタノイル）ピロール−２−イル]ブタン−１−オール、
２−アミノ−２−メチル−４−[１−エチル−５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル]ブタン−１−オール、
２−アミノ−２−メチル−４−[１−エチル−５−（５−シクロヘキシルペンタノイル）ピロール−２−イル]ブタン−１−オール、
２−アミノ−２−メチル−４−[１−エチル−５−（４−フェニルブタノイル）ピロール−２−イル]ブタン−１−オール及び
２−アミノ−２−メチル−４−[１−エチル−５−（４−シクロヘキシルブタノイル）ピロール−２−イル]ブタン−１−オール。
（５６） （４）において、下記から選択されるいずれか１つの化合物又はその薬理上許容される塩：
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−（５−フェニルペンチル）フラン−２−イル]−１−ブチル エステル、
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−（５−シクロヘキシルペント−１−イニル）フラン−２−イル] −１−ブチル エステル、
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−（５−フェニルペント−１−イニル）フラン−２−イル] −１−ブチル エステル、
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−（４−シクロヘキシルオキシブト−１−イニル）フラン−２−イル] −１−ブチル エステル、
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−（５−シクロヘキシルペンタノイル）フラン−２−イル] −１−ブチル エステル及び
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−（３，４−ジメチルフェノキシ）プロプ−１−イニル]フラン−２−イル｝−１−ブチル エステル、
（５７） （４）において、下記から選択されるいずれか１つの化合物又はその薬理上許容される塩：
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（５−フェニルペント−１−イニル）ピロール−２−イル] −１−ブチル エステル、
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−｛１−メチル−５−[３−（４−メチルフェノキシ）プロプ−１−イニル]ピロール−２−イル｝−１−ブチル エステル、
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（４−シクロヘキシルオキシブト−１−イニル）ピロール−２−イル] −１−ブチル エステル、
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−｛１−メチル−５−[３−（３，４−ジメチルフェノキシ）プロプ−１−イニル]ピロール−２−イル｝−１−ブチル エステル、
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル] −１−ブチル エステル
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（５−シクロヘキシルペンタノイル）ピロール−２−イル]−１−ブチル エステル、
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（４−フェニルブタノイル）ピロール−２−イル]−１−ブチル エステル、
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（４−シクロヘキシルブタノイル）ピロール−２−イル]−１−ブチル エステル、
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[１−エチル−５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル]−１−ブチル エステル、
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[１−エチル−５−（５−シクロヘキシルペンタノイル）ピロール−２−イル]−１−ブチル エステル、
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[１−エチル−５−（４−フェニルブタノイル）ピロール−２−イル]−１−ブチル エステル及び
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[１−エチル−５−（４−シクロヘキシルブタノイル）ピロール−２−イル]−１−ブチル エステル、
（５８） （７）において、下記より選択されるいずれか１つの化合物又はその薬理上許容される塩:
３−アミノ−３−メチル−５−[５−（５−フェニルペンチル）フラン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−メチル−５−[５−（５−シクロヘキシルペント−１−イニル）フラン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−メチル−５−[５−（５−フェニルペント−１−イニル）フラン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−メチル−５−[５−（４−シクロヘキシルオキシブト−１−イニル）フラン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−メチル−５−[５−（５−シクロヘキシルペンタノイル）フラン−２−イル]ペンチルホスホン酸及び
３−アミノ−３−メチル−５−｛５−[３−（３，４−ジメチルフェノキシ）プロプ−１−イニル]フラン−２−イル｝ペンチルホスホン酸、
（５９） （７）において、下記より選択されるいずれか１つの化合物又はその薬理上許容される塩:
３−アミノ−３−メチル−５−[１−メチル−５−（５−フェニルペント−１−イニル）ピロール−２−イル]ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−メチル−５−｛１−メチル−５−[３−（４−メチルフェノキシ）プロプ−１−イニル]ピロール−２−イル｝ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−メチル−５−[１−メチル−５−（４−シクロヘキシルオキシブト−１−イニル）ピロール−２−イル]ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−メチル−５−｛１−メチル−５−[３−（３，４−ジメチルフェノキシ）プロプ−１−イニル]ピロール−２−イル｝ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−メチル−５−[１−メチル−５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル]ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−メチル−５−[１−メチル−５−（５−シクロヘキシルペンタノイル）ピロール−２−イル]ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−メチル−５−[１−メチル−５−（４−フェニルブタノイル）ピロール−２−イル]ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−メチル−５−[１−メチル−５−（４−シクロヘキシルブタノイル）ピロール−２−イル]ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−メチル−５−[１−エチル−５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル]ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−メチル−５−[１−エチル−５−（５−シクロヘキシルペンタノイル）ピロール−２−イル]ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−メチル−５−[１−エチル−５−（４−フェニルブタノイル）ピロール−２−イル]ペンチルホスホン酸及び
３−アミノ−３−メチル−５−[１−エチル−５−（４−シクロヘキシルブタノイル）ピロール−２−イル]ペンチルホスホン酸。
さらに、本発明は次に記載の医薬組成物も提供する。
（６０） Ｔ細胞のサイトカイン発現に関与する細胞内シグナルの伝達を阻害する作用を有する薬剤、
免疫細胞中でのヌクレオシド合成を阻害する作用を有する薬剤、
免疫細胞に対するサイトカインの作用を阻害し抗リウマチ作用を有する薬剤、
ＤＮＡ鎖の破壊又はＤＮＡの合成障害により細胞死を引き起こすアルキル化剤、
葉酸産生を抑制して核酸代謝を阻害する代謝拮抗剤、
ＴＮＦ−α抑制作用を有する蛋白質製剤、
細胞内のステロイドレセプターに結合して複合体を形成し、染色体上の反応部位に結合することにより合成された蛋白質により免疫抑制作用を示すステロイドホルモン剤及び
プロスタグランジンの産生を抑制する物質及び／又はプロスタグランジンの作用に拮抗する非ステロイド系抗炎症剤
からなる群より選択される少なくとも一つの免疫抑制剤と、下記一般式（Ｉ）で示される化合物
【００６０】
【化３１】

【００６１】
［式中、
Ｒ¹及びＲ²は、同一又は異なって、水素原子、低級アルキル基、低級脂肪族アシル基、低級アルコキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基又は置換基群ａから選択される基で１乃至３個置換されたアラルキルオキシカルボニル基を示し、
Ｒ³は、水素原子、低級アルキル基、低級脂肪族アシル基、芳香族アシル基、置換基群ａから選択される基で１乃至３個置換された芳香族アシル基又はシリル基を示し、
Ｒ⁴は、低級アルキル基を示し、
ｎは、１乃至６の整数を示し、
Ｘは、硫黄原子、酸素原子または式Ｎ−Ｄを有する基（式中、Ｄは水素原子、アリ−ル基、低級アルキルスルホニル基、アリ−ルスルホニル基又は置換基群aから選択される基を示す。）を示し、
Ｙは、エチレン基、ビニレン基、エチニレン基、式−Ｅ−ＣＨ₂−を有する基（式中、Ｅは、カルボニル基、式−ＣＨ（ＯＨ）−を有する基を示す。）、Ｃ₁−Ｃ₆アリ−レン基又は置換基群ａから選択される基で１乃至３個置換されたＣ₁−Ｃ₆アリ−レン基を示し、
Ｚは、単結合、Ｃ₁−Ｃ₁₀アルキレン基、置換基群ａ及びｂから選択される基で１乃至３個置換されたＣ₁−Ｃ₁₀アルキレン基、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子若しくは硫黄原子を有するＣ₁−Ｃ₁₀アルキレン基、又は置換基群ａ及びｂから選択される基で１乃至３個置換された、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子若しくは硫黄原子を有するＣ₁−Ｃ₁₀アルキレン基を示し、
Ｒ⁵は、Ｃ₃−Ｃ₁₀シクロアルキル基、Ｃ₁−Ｃ₆アリ−ル基、硫黄原子、酸素子及び／又は窒素原子を１乃至３個含む５乃至７員複素環基、置換基群ａ及びｂから選択される基で１乃至３個置換されたＣ₃−Ｃ₁₀シクロアルキル基、置換基群ａ及びｂから選択される基で１乃至３個置換されたＣ₁−Ｃ₆アリ−ル基、又は置換基群ａ及びｂから選択される基で１乃至３個置換された硫黄原子、酸素原子及び／又は窒素原子を１乃至３個含む５乃至７員複素環基を示し、
Ｒ⁶及びＲ⁷は、同一又は異なって、水素原子又は置換基群ａから選択される基を示し、
置換基群ａは、ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲノ低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、カルボキシル基、低級アルコキシカルボニル基、ヒドロキシ基、低級脂肪族アシル基、アミノ基、モノ−低級アルキルアミノ基、ジ−低級アルキルアミノ基、低級脂肪族アシルアミノ基、シアノ基及びニトロ基からなる群を示し、
置換基群ｂは、Ｃ₁−Ｃ₆シクロアルキル基、Ｃ₁−Ｃ₆アリ−ル基、硫黄原子、酸素原子及び／又は窒素原子を１乃至３個含む５乃至７員複素環基、置換基群ａから選択される基で１乃至３個置換されたＣ₁−Ｃ₆シクロアルキル基、置換基群ａから選択される基で１乃至３個置換されたＣ₁−Ｃ₆アリ−ル基、及び置換基群ａから選択される基で１乃至３個置換された、硫黄原子、酸素原子及び／又は窒素原子を１乃至３個含む５乃至７員複素環基からなる群を示す。
【００６２】
］、その薬理上許容される塩及びそのエステルからなる群より選ばれる少なくとも一つの化合物とからなる医薬組成物。
【００６３】
（６１） （６０）において、一般式（Ｉ）で表される化合物が、下記一般式（Ｉａ）
【００６４】
【化３２】

【００６５】
（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｘ、Ｙ、Ｚ及びｎは、前記におけるものと同意義を示す。）を有する化合物である医薬組成物。
【００６６】
（６２） （６０）において、一般式（Ｉ）で表される化合物が、下記一般式（Ｉｂ）
【００６７】
【化３３】

【００６８】
（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｘ、Ｙ、Ｚ及びｎは、前記におけるものと同意義を示す。）を有する化合物である医薬組成物。
（６３） （６０）において、式（Ｉ）を有する化合物の薬理上許容されるエステルが、式（ＩＩ）
【００６９】
【化３４】

【００７０】
（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｘ、Ｙ、Ｚ及びｎは、前記におけるものと同意義を示し、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹は、同一又は異なって、水素原子又はリン酸基の保護基を示す。）を有する化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
（６４） （６３）において、式（ＩＩ）を有するエステルが、式（ＩＩａ）
【００７１】
【化３５】

【００７２】
（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹、Ｘ、Ｙ、Ｚ及びｎは、前記におけるものと同意義を示す。）を有する化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
（６５） （６３）において、式（ＩＩ）を有するエステルが、式（ＩＩｂ）
【００７３】
【化３６】

【００７４】
（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹、Ｘ、Ｙ、Ｚ及びｎは、前記におけるものと同意義を示す。）を有する化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
（６６） Ｔ細胞のサイトカイン発現に関与する細胞内シグナルの伝達を阻害する作用を有する薬剤、
免疫細胞中でのヌクレオシド合成を阻害する作用を有する薬剤、
免疫細胞に対するサイトカインの作用を阻害し抗リウマチ作用を有する薬剤、
ＤＮＡ鎖の破壊又はＤＮＡの合成障害により細胞死を引き起こすアルキル化剤、
葉酸産生を抑制して核酸代謝を阻害する代謝拮抗剤、
ＴＮＦ−α抑制作用を有する蛋白質製剤、
細胞内のステロイドレセプターに結合して複合体を形成し、染色体上の反応部位に結合することにより合成された蛋白質により免疫抑制作用を示すステロイドホルモン剤及び
プロスタグランジンの産生を抑制する物質及び／又はプロスタグランジンの作用に拮抗する非ステロイド系抗炎症剤
からなる群より選択される少なくとも一つの免疫抑制剤と、下記一般式（ＩＩＩ）で示される化合物
【００７５】
【化３７】

【００７６】
［式中、
Ｒ¹及びＲ²は、同一又は異なって、水素原子、低級アルキル基、低級脂肪族アシル基、低級アルコキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基又は置換基群ａから選択される基で１乃至３個置換されたアラルキルオキシカルボニル基を示し、
Ｒ³は、水素原子、低級アルキル基、低級脂肪族アシル基、芳香族アシル基、置換基群ａから選択される基で１乃至３個置換された芳香族アシル基又はシリル基を示し、
Ｒ⁴は、低級アルキル基を示し、
ｎは、１乃至６の整数を示し、
Ｘは、硫黄原子、酸素原子または式Ｎ−Ｄを有する基（式中、Ｄは水素原子、Ｃ₆−Ｃ₁₀アリール基、低級アルキルスルホニル基、Ｃ₆−Ｃ₁₀アリールスルホニル基又は置換基群aから選択される基を示す。）を示し、
Ｙは、エチレン基、ビニレン基、エチニレン基、式−Ｅ−ＣＨ₂−を有する基（式中、Ｅは、カルボニル基又は式−ＣＨ（ＯＨ）−を有する基を示す。）、Ｃ₆−Ｃ₁₀アリーレン基又は置換基群ａから選択される基で１乃至３個置換されたＣ₆−Ｃ₁₀アリーレン基を示し、
Ｚは、単結合、Ｃ₁−Ｃ₁₀アルキレン基、置換基群ａ及びｂから選択される基で１乃至３個置換されたＣ₁−Ｃ₁₀アルキレン基、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子若しくは硫黄原子を有するＣ₁−Ｃ₁₀アルキレン基、又は置換基群ａ及びｂから選択される基で１乃至３個置換された、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子若しくは硫黄原子を有するＣ₁−Ｃ₁₀アルキレン基を示し、
Ｒ⁵は、Ｃ₃−Ｃ₁₀シクロアルキル基、Ｃ₆−Ｃ₁₀アリ−ル基、硫黄原子、酸素原子及び／又は窒素原子を１乃至３個含む５乃至７員複素環基、置換基群ａ及びｂから選択される基で１乃至３個置換されたＣ₃−Ｃ₁₀シクロアルキル基、置換基群ａ及びｂから選択される基で１乃至３個置換されたＣ₆−Ｃ₁₀アリ−ル基、又は置換基群ａ及びｂから選択される基で１乃至３個置換された硫黄原子、酸素原子及び／又は窒素原子を１乃至３個含む５乃至７員複素環基を示し、
Ｒ⁶及びＲ⁷は、同一又は異なって、水素原子又は置換基群ａから選択される基を示し、
Ｒ¹⁰及びＲ¹¹は、同一又は異なって、水素原子又は低級アルキル基を示し、
置換基群ａは、ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲノ低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、カルボキシ基、低級アルコキシカルボニル基、ヒドロキシ基、低級脂肪族アシル基、アミノ基、モノ−低級アルキルアミノ基、ジ−低級アルキルアミノ基、低級脂肪族アシルアミノ基、シアノ基及びニトロ基からなる群を示し、
置換基群ｂは、Ｃ₃−Ｃ₁₀シクロアルキル基、Ｃ₆−Ｃ₁₀アリ−ル基、硫黄原子、酸素原子及び／又は窒素原子を１乃至３個含む５乃至７員複素環基、置換基群ａから選択される基で１乃至３個置換されたＣ₃−Ｃ₁₀シクロアルキル基、置換基群ａから選択される基で１乃至３個置換されたＣ₆−Ｃ₁₀アリ−ル基、及び置換基群ａから選択される基で１乃至３個置換された、硫黄原子、酸素原子及び／又は窒素原子を１乃至３個含む５乃至７員複素環基からなる群を示す。
【００７７】
］を有する化合物又はその薬理上許容される塩及びそのエステルからなる群より選ばれる少なくとも一つの化合物とからなる医薬組成物。
（６７） （６６）において、式（ＩＩＩ）を有する化合物が、式（ＩＩＩａ）
【００７８】
【化３８】

【００７９】
（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹、Ｘ、Ｙ、Ｚ及びｎは、前記におけるものと同意義を示す。）を有する化合物である医薬組成物。
（６８） （６６）において、式（ＩＩＩ）を有する化合物が、式（ＩＩＩｂ）
【００８０】
【化３９】

【００８１】
（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹、Ｘ、Ｙ、Ｚ及びｎは、前記におけるものと同意義を示す。）を有する化合物である医薬組成物。
（６９） （６０）乃至（６８）から選択される１項において、Ｒ¹及びＲ²が、同一又は異なって、水素原子、低級脂肪族アシル基、低級アルコキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基又は置換基群ａから選択される基で１乃至３個置換されたアラルキルオキシカルボニル基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
（７０） （６０）乃至（６８）から選択される１項において、Ｒ¹及びＲ²が、同一又は異なって、水素原子、低級脂肪族アシル基又は低級アルコキシカルボニル基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
（７１） （６０）乃至（６８）から選択される１項において、Ｒ¹及びＲ²が、同一又は異なって、水素原子、Ｃ₁−Ｃ₄脂肪族アシル基又はＣ₁−Ｃ₄アルコキシカルボニル基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
（７２） （６０）乃至（６８）から選択される１項において、Ｒ¹及びＲ²が、同一又は異なって、水素原子、Ｃ₁−Ｃ₂脂肪族アシル基又はＣ₁−Ｃ₂アルコキシカルボニル基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
（７３） （６０）乃至（６８）から選択される１項において、Ｒ¹及びＲ²が、同一又は異なって、水素原子、アセチル基又はメトキシカルボニル基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
（７４） （６０）乃至（６８）から選択される１項において、Ｒ¹及びＲ²が、水素原子である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
（７５） （６０）乃至（６２）及び（６９）乃至（７４）から選択される１項において、Ｒ³が、水素原子、低級アルキル基、低級脂肪族アシル基、芳香族アシル基、置換基群ａから選択される基で１乃至３個置換された芳香族アシル基又はシリル基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
（７６） （６０）乃至（６２）及び（６９）乃至（７４）から選択される１項において、Ｒ³が、水素原子又は低級アルキル基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
（７７） （６０）乃至（６２）及び（６９）乃至（７４）から選択される１項において、Ｒ³が、水素原子又はＣ₁−Ｃ₄アルキル基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
（７８） （６０）乃至（６２）及び（６９）乃至（７４）から選択される１項において、Ｒ³が、水素原子、メチル基又はエチル基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
（７９） （６０）乃至（６２）及び（６９）乃至（７４）から選択される１項において、Ｒ³が、水素原子である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
（８０） （６０）乃至（７９）から選択されるいずれか１項において、Ｒ⁴が、Ｃ₁−Ｃ₄アルキル基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
（８１） （６０）乃至（７９）から選択されるいずれか１項において、Ｒ⁴が、Ｃ₁−Ｃ₂アルキル基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
（８２） （６０）乃至（７９）から選択されるいずれか１項において、Ｒ⁴が、メチル基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
（８３） （６０）乃至（８２）から選択されるいずれか１項において、ｎが、２又は３である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
（８４） （６０）乃至（８２）から選択されるいずれか１項において、ｎが、２である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
（８５） （６０）乃至（８４）から選択されるいずれか１項において、Ｘが、硫黄原子である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
（８６） （６０）乃至（８４）から選択されるいずれか１項において、Ｘが、酸素原子である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
（８７） （６０）乃至（８４）から選択されるいずれか１項において、Ｘが、式Ｎ−Ｄを有する基（式中、Ｄは水素原子、Ｃ₁−Ｃ₄アルキル基又はフェニル基を示す。）である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
（８８） （６０）乃至（８４）から選択されるいずれか１項において、Ｘが、式Ｎ−ＣＨ₃を有する基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
（８９） （６０）乃至（８８）から選択されるいずれか１項において、Ｙが、エチレン基、エチニレン基、式−ＣＯ−ＣＨ₂−を有する基、式−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ₂−を有する基、フェニレン基、又はハロゲン原子及び低級アルキル基からなる群より選択される基で１乃至３個置換されたフェニレン基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
（９０） （６０）乃至（８８）から選択されるいずれか１項において、Ｙが、エチレン基、エチニレン基、式−ＣＯ−ＣＨ₂−を有する基又はフェニレン基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
（９１） （６０）乃至（９０）から選択されるいずれか１項において、Ｚが、Ｃ₁−Ｃ₁₀アルキレン基又は置換基群ａ及びｂから選択される基で１乃至３個置換されたＣ₁−Ｃ₁₀アルキレン基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
（９２） （６０）乃至（９０）から選択されるいずれか１項において、ＺがＣ₁−Ｃ₆アルキレン基又はヒドロキシ基で１乃至３個置換されたＣ₁−Ｃ₆アルキレン基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
（９３） （６０）乃至（９０）から選択されるいずれか１項において、ＺがＣ₁−Ｃ₅アルキレン基又はヒドロキシ基で１乃至３個置換されたＣ₁−Ｃ₅アルキレン基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
（９４） （６０）乃至（９０）から選択されるいずれか１項において、Ｚが、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、又は１個のヒドロキシ基で置換されたエチレン基、トリメチレン基若しくはテトラメチレン基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
（９５） （６０）乃至（９０）から選択されるいずれか１項において、Ｚが、エチレン基、トリメチレン基若しくはテトラメチレン基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
（９６） （６０）乃至（９０）から選択されるいずれか１項において、Ｚが、エチレン若しくはトリメチレン基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
（９７） （６０）乃至（９０）から選択されるいずれか１項において、Ｚが、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子若しくは硫黄原子を有するＣ₁−Ｃ₁₀アルキレン基、又は１個のヒドロキシ基で置換された、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子若しくは硫黄原子を有するＣ₁−Ｃ₁₀アルキレン基
（該置換基は、低級アルキル基及びヒドロキシ基からなる群から選択される基である。）である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
（９８） （６０）乃至（９０）から選択されるいずれか１項において、Ｚが、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子若しくは硫黄原子を有するＣ₁−Ｃ₁₀アルキレン基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
（９９） （６０）乃至（９０）から選択されるいずれか１項において、Ｚが、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子を有するＣ₁−Ｃ₁₀アルキレン基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
（１００） （６０）乃至（９０）から選択されるいずれか１項において、Ｚが、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子を有するＣ₁−Ｃ₆アルキレン基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
（１０１） （６０）乃至（９０）から選択されるいずれか１項において、Ｚが、−Ｏ−ＣＨ₂−、−Ｏ−（ＣＨ₂）₂−、−Ｏ−（ＣＨ₂）₃−、−ＣＨ₂−Ｏ−、−（ＣＨ₂）₂−Ｏ−又は−（ＣＨ₂）₃−Ｏ−を有する基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
（１０２） （６０）乃至（９０）から選択されるいずれか１項において、Ｚが、−ＣＨ₂−Ｏ−又は−（ＣＨ₂）₂−Ｏ−を有する基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
（１０３） （６０）乃至（１０２）から選択されるいずれか１項において、Ｒ⁵が、水素原子である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
（１０４） （６０）乃至（１０２）から選択されるいずれか１項において、Ｒ⁵が、Ｃ₃−Ｃ₁₀シクロアルキル基、Ｃ₆−Ｃ₁₀アリール基、又はハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲノ低級アルキル基、低級アルコキシ基及び低級アルキルチオ基から成る群から選択される基で１乃至３個置換されたＣ₃−Ｃ₁₀シクロアルキル若しくはＣ₆−Ｃ₁₀アリール基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
（１０５） （６０）乃至（１０２）から選択されるいずれか１項において、Ｒ⁵が、Ｃ₃−Ｃ₁₀シクロアルキル基、Ｃ₆−Ｃ₁₀アリール基、又はハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲノ低級アルキル基及び低級アルコキシ基から成る群から選択される基で１乃至３個置換されたＣ₃−Ｃ₁₀シクロアルキル若しくはＣ₆−Ｃ₁₀アリール基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
（１０６） （６０）乃至（１０２）から選択されるいずれか１項において、Ｒ⁵が、Ｃ₅−Ｃ₆シクロアルキル基、フェニル基又はナフチル基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
（１０７） （６０）乃至（１０２）から選択されるいずれか１項において、Ｒ⁵が、シクロヘキシル基又はフェニル基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
（１０８） （６０）乃至（１０７）から選択されるいずれか１項において、Ｒ⁶及びＲ⁷が、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲノ低級アルキル基、低級アルコキシ基又は低級アルキルチオ基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
（１０９） （６０）乃至（１０７）から選択されるいずれか１項において、Ｒ⁶及びＲ⁷が、水素原子である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
（１１０） （６３）乃至（７４）及び（８０）乃至（１０９）から選択されるいずれか１項において、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹が、同一又は異なって、水素原子又は低級アルキル基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
（１１１） （６３）乃至（７４）及び（８０）乃至（１０９）から選択されるいずれか１項において、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹が、同一又は異なって、水素原子又はＣ₁−Ｃ₄アルキル基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
（１１２） （６３）乃至（７４）及び（８０）乃至（１０９）から選択されるいずれか１項において、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹が、同一又は異なって、水素原子、メチル基又はエチル基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
（１１３） （６３）乃至（７４）及び（８０）乃至（１０９）から選択されるいずれか１項において、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹が、水素原子である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
（１１４） （６０）において、一般式（Ｉ）を有する化合物、その薬理上許容される塩及びその薬理上許容されるエステルからなる群が、下記化合物、その薬理上許容される塩及びその薬理上許容されるエステルからなる群である医薬組成物：
２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−シクロヘキシルブチル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
２−アミノ−２−メチル−４−[５−(５−シクロヘキシルペンチル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
２−アミノ−２−メチル−４−[５−(５−フェニルペンチル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−シクロヘキシルオキシブチル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[４−(４−フルオロフェノキシ)ブチル]チオフェン−２−イル｝ブタン−１−オ−ル、
２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[４−(４−メトキシフェノキシ)ブチル]チオフェン−２−イル｝ブタン−１−オ−ル、
２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−ベンジルオキシブチル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−シクロヘキシルブト−１−イニル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−フェニルブト−１−イニル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
２−アミノ−２−メチル−４−[５−(５−シクロヘキシルペント−１−イニル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
２−アミノ−２−メチル−４−[５−(５−フェニルペント−１−イニル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[５−(４−フルオロフェニル)ペント−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ブタン−１−オ−ル、
２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[５−(４−メトキシフェニル)ペント−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ブタン−１−オ−ル、
２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−(４−メチルフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ブタン−１−オ−ル、
２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−(４−エチルフェノキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ブタン−１−オ−ル、
２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−(４−メチルチオフェノキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ブタン−１−オ−ル、
２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−シクロヘキシルオキシブト−１−イニル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[４−(４−フルオロフェノキシ)ブト−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ブタン−１−オ−ル、
２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[４−(４−メチルフェノキシ)ブト−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ブタン−１−オ−ル、
２−アミノ−２−メチル−４−[５−(３−シクロヘキシルメトキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ブタン−１−オ−ル、
２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−ベンジルオキシブト−１−イニル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−シクロヘキシルブタノイル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−フェニルブタノイル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
２−アミノ−２−メチル−４−[５−(５−シクロヘキシルペンタノイル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
２−アミノ−２−メチル−４−[５−(５−フェニルペンタノイル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[５−(４−フルオロフェニル)ペンタノイル]チオフェン−２−イル｝ブタン−１−オ−ル、
２−アミノ−２−エチル−４−[５−(５−シクロヘキシルペンチル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
２−アミノ−２−エチル−４−[５−(５−シクロヘキシルペント−１−イニル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
２−アミノ−２−エチル−４−[５−(５−シクロヘキシルペンタノイル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−(４−クロロフェノキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ブタン−１−オ−ル、
２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−(３−メチルフェノキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ブタン−１−オ−ル、
２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−(３,４−ジメチルフェノキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ブタン−１−オ−ル、
２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−(３−メトキシフェノキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ブタン−１−オ−ル、
２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−(３,４−ジメトキシフェノキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ブタン−１−オ−ル、
２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−(３,５−ジメトキシフェノキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ブタン−１−オ−ル、
２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−(３−アセチルフェノキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ブタン−１−オ−ル、
２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−(４−アセチルフェノキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ブタン−１−オ−ル、
（１１５） （６０）において、一般式（Ｉ）を有する化合物、その薬理上許容される塩及びその薬理上許容されるエステルからなる群が、下記化合物、その薬理上許容される塩及びその薬理上許容されるエステルからなる群である医薬組成物：
２−アミノ−２−メチル−４−[５−（５−フェニルペンチル）フラン−２−イル]ブタン−１−オール、
２−アミノ−２−メチル−４−[５−（５−シクロヘキシルペント−１−イニル）フラン−２−イル]ブタン−１−オール、
２−アミノ−２−メチル−４−[５−（５−フェニルペント−１−イニル）フラン−２−イル]ブタン−１−オール、
２−アミノ−２−メチル−４−[５−（４−シクロヘキシルオキシブト−１−イニル）フラン−２−イル]ブタン−１−オール、
２−アミノ−２−メチル−４−[５−（５−シクロヘキシルペンタノイル）フラン−２−イル]ブタン−１−オール及び
２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−（３，４−ジメチルフェノキシ）プロプ−１−イニル]フラン−２−イル｝ブタン−１−オール、
（１１６） （６０）において、一般式（Ｉ）を有する化合物、その薬理上許容される塩及びその薬理上許容されるエステルからなる群が、下記化合物、その薬理上許容される塩及びその薬理上許容されるエステルからなる群である医薬組成物：
２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（５−フェニルペント−１−イニル）ピロール−２−イル]ブタン−１−オール、
２−アミノ−２−メチル−４−｛１−メチル−５−[３−（４−メチルフェノキシ）プロプ−１−イニル]ピロール−２−イル｝ブタン−１−オール、
２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（４−シクロヘキシルオキシブト−１−イニル）ピロール−２−イル]ブタン−１−オール、
２−アミノ−２−メチル−４−｛１−メチル−５−[３−（３，４−ジメチルフェノキシ）プロプ−１−イニル]ピロール−２−イル｝ブタン−１−オール、
２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル]ブタン−１−オール、
２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（５−シクロヘキシルペンタノイル）ピロール−２−イル]ブタン−１−オール、
２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（４−フェニルブタノイル）ピロール−２−イル]ブタン−１−オール、
２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（４−シクロヘキシルブタノイル）ピロール−２−イル]ブタン−１−オール、
２−アミノ−２−メチル−４−[１−エチル−５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル]ブタン−１−オール、
２−アミノ−２−メチル−４−[１−エチル−５−（５−シクロヘキシルペンタノイル）ピロール−２−イル]ブタン−１−オール、
２−アミノ−２−メチル−４−[１−エチル−５−（４−フェニルブタノイル）ピロール−２−イル]ブタン−１−オール及び
２−アミノ−２−メチル−４−[１−エチル−５−（４−シクロヘキシルブタノイル）ピロール−２−イル]ブタン−１−オール、
（１１７） （６３）において、一般式（ＩＩ）を有する化合物、その薬理上許容される塩及びその薬理上許容されるエステルからなる群が、下記化合物、その薬理上許容される塩及びその薬理上許容されるエステルからなる群である医薬組成物：
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−シクロヘキシルブチル)チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(５−シクロヘキシルペンチル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(５−フェニルペンチル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−シクロヘキシルオキシブチル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[４−(４−フルオロフェノキシ)ブチル]チオフェン−２−イル｝−１−ブチル エステル、
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[４−(４−メトキシフェノキシ)ブチル]チオフェン−２−イル｝−１−ブチル エステル、
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−ベンジルオキシブチル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−シクロヘキシルブト−１−イニル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−フェニルブト−１−イニル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(５−シクロヘキシルペント−１−イニル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(５−フェニルペント−１−イニル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[５−(４−フルオロフェニル)ペント−１−イニル]チオフェン−２−イル｝−１−ブチル エステル、
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[５−(４−メトキシフェニル)ペント−１−イニル]チオフェン−２−イル｝−１−ブチル エステル、
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−(４−メチルフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝−１−ブチル エステル、
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−(４−エチルフェノキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝−１−ブチル エステル、
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−(４−メチルチオフェノキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝−１−ブチル エステル、
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−シクロヘキシルオキシブト−１−イニル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[４−(４−フルオロフェノキシ)ブト−１−イニル]チオフェン−２−イル｝−１−ブチル エステル、
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[４−(４−メチルフェノキシ)ブト−１−イニル]チオフェン−２−イル｝−１−ブチル エステル、
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(３−シクロヘキシルメトキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝−１−ブチル エステル、
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−ベンジルオキシブト−１−イニル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−シクロヘキシルブタノイル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−フェニルブタノイル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(５−シクロヘキシルペンタノイル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(５−フェニルペンタノイル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[５−(４−フルオロフェニル)ペンタノイル]チオフェン−２−イル｝−１−ブチル エステル、
リン酸 モノ ２−アミノ−２−エチル−４−[５−(５−シクロヘキシルペンチル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
リン酸 モノ ２−アミノ−２−エチル−４−[５−(５−シクロヘキシルペント−１−イニル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
リン酸 モノ ２−アミノ−２−エチル−４−[５−(５−シクロヘキシルペンタノイル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−(４−クロロフェノキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝−１−ブチル エステル、
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−(３−メチルフェノキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝−１−ブチル エステル、
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−(３,４−ジメチルフェノキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝−１−ブチル エステル、
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−(３−メトキシフェノキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝−１−ブチル エステル、
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−(３,４−ジメトキシフェノキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝−１−ブチル エステル、
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−(３,５−ジメトキシフェノキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝−１−ブチル エステル、
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−(３−アセチルフェノキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝−１−ブチル エステル及び
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−(４−アセチルフェノキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝−１−ブチル エステル、
（１１８） （６３）において、一般式（ＩＩ）を有する化合物、その薬理上許容される塩及びその薬理上許容されるエステルからなる群が、下記化合物、その薬理上許容される塩及びその薬理上許容されるエステルからなる群である医薬組成物：
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−（５−フェニルペンチル）フラン−２−イル] −１−ブチル エステル、
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−（５−シクロヘキシルペント−１−イニル）フラン−２−イル] −１−ブチル エステル、
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−（５−フェニルペント−１−イニル）フラン−２−イル] −１−ブチル エステル、
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−（４−シクロヘキシルオキシブト−１−イニル）フラン−２−イル] −１−ブチル エステル、
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−（５−シクロヘキシルペンタノイル）フラン−２−イル] −１−ブチル エステル及び
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−（３，４−ジメチルフェノキシ）プロプ−１−イニル]フラン−２−イル｝−１−ブチル エステル、
（１１９） （６３）において、一般式（ＩＩ）を有する化合物、その薬理上許容される塩及びその薬理上許容されるエステルからなる群が、下記化合物、その薬理上許容される塩及びその薬理上許容されるエステルからなる群である医薬組成物：
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（５−フェニルペント−１−イニル）ピロール−２−イル] −１−ブチル エステル、
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−｛１−メチル−５−[３−（４−メチルフェノキシ）プロプ−１−イニル]ピロール−２−イル｝−１−ブチル エステル、
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（４−シクロヘキシルオキシブト−１−イニル）ピロール−２−イル] −１−ブチル エステル、
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−｛１−メチル−５−[３−（３，４−ジメチルフェノキシ）プロプ−１−イニル]ピロール−２−イル｝−１−ブチル エステル、
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル] −１−ブチル エステル、
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（５−シクロヘキシルペンタノイル）ピロール−２−イル]−１−ブチル エステル、
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（４−フェニルブタノイル）ピロール−２−イル]−１−ブチル エステル、
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（４−シクロヘキシルブタノイル）ピロール−２−イル]−１−ブチル エステル、
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[１−エチル−５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル]−１−ブチル エステル、
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[１−エチル−５−（５−シクロヘキシルペンタノイル）ピロール−２−イル]−１−ブチル エステル、
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[１−エチル−５−（４−フェニルブタノイル）ピロール−２−イル]−１−ブチル エステル及び
リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[１−エチル−５−（４−シクロヘキシルブタノイル）ピロール−２−イル]−１−ブチル エステル、
（１２０） （６６）において、一般式（ＩＩＩ）を有する化合物、その薬理上許容される塩及びその薬理上許容されるエステルからなる群が、下記化合物、その薬理上許容される塩及びその薬理上許容されるエステルからなる群である医薬組成物：
３−アミノ−３−メチル−５−[５−(４−シクロヘキシルブチル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−メチル−５−[５−(５−シクロヘキシルペンチル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−メチル−５−[５−(５−フェニルペンチル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−メチル−５−[５−(４−シクロヘキシルオキシブチル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−メチル−５−｛５−[４−(４−フルオロフェノキシ)ブチル]チオフェン−２−イル｝ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−メチル−５−｛５−[４−(４−メトキシフェノキシ)ブチル]チオフェン−２−イル｝ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−メチル−５−[５−(４−ベンジルオキシブチル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−メチル−５−[５−(４−シクロヘキシルブト−１−イニル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−メチル−５−[５−(４−フェニルブト−１−イニル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−メチル−５−[５−(５−シクロヘキシルペント−１−イニル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−メチル−５−[５−(５−フェニルペント−１−イニル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−メチル−５−｛５−[５−(４−フルオロフェニル)ペント−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−メチル−５−｛５−[５−(４−メトキシフェニル)ペント−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−メチル−５−｛５−[３−(４−メチルフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−メチル−５−｛５−[３−(４−エチルフェノキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−メチル−５−｛５−[３−(４−メチルチオフェノキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−メチル−５−[５−(４−シクロヘキシルオキシブト−１−イニル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−メチル−５−｛５−[４−(４−フルオロフェノキシ)ブト−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−メチル−５−｛５−[４−(４−メチルフェノキシ)ブト−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−メチル−５−[５−(３−シクロヘキシルメトキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−メチル−５−[５−(４−ベンジルオキシブト−１−イニル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−メチル−５−[５−（４−シクロヘキシルブタノイル）チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−メチル−５−[５−(４−フェニルブタノイル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−メチル−５−[５−(５−シクロヘキシルペンタノイル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−メチル−５−[５−(５−フェニルペンタノイル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−メチル−５−｛５−[５−(４−フルオロフェニル)ペンタノイル]チオフェン−２−イル｝ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−エチル−５−[５−(５−シクロヘキシルペンチル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−エチル−５−[５−(５−シクロヘキシルペント−１−イニル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−エチル−５−[５−(５−シクロヘキシルペンタノイル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−メチル−５−｛５−[３−(４−クロロフェノキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−メチル−５−｛５−[３−(３−メチルフェノキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−メチル−５−｛５−[３−(３,４−ジメチルフェノキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−メチル−５−｛５−[３−(３−メトキシフェノキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−メチル−５−｛５−[３−(３,４−ジメトキシフェノキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−メチル−５−｛５−[３−(３,５−ジメトキシフェノキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−メチル−５−｛５−[３−(３−アセチルフェノキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−メチル−５−｛５−[３−(４−アセチルフェノキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ペンチルホスホン酸、
（１２１） （６６）において、一般式（ＩＩＩ）を有する化合物、その薬理上許容される塩及びその薬理上許容されるエステルからなる群が、下記化合物、その薬理上許容される塩及びその薬理上許容されるエステルからなる群である医薬組成物：
３−アミノ−３−メチル−５−[５−（５−フェニルペンチル）フラン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−メチル−５−[５−（５−シクロヘキシルペント−１−イニル）フラン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−メチル−５−[５−（５−フェニルペント−１−イニル）フラン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−メチル−５−[５−（４−シクロヘキシルオキシブト−１−イニル）フラン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−メチル−５−[５−（５−シクロヘキシルペンタノイル）フラン−２−イル]ペンチルホスホン酸及び
３−アミノ−３−メチル−５−｛５−[３−（３，４−ジメチルフェノキシ）プロプ−１−イニル]フラン−２−イル｝ペンチルホスホン酸、
（１２２） （６６）において、一般式（ＩＩＩ）を有する化合物、その薬理上許容される塩及びその薬理上許容されるエステルからなる群が、下記化合物、その薬理上許容される塩及びその薬理上許容されるエステルからなる群である医薬組成物：
３−アミノ−３−メチル−５−[１−メチル−５−（５−フェニルペント−１−イニル）ピロール−２−イル]ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−メチル−５−｛１−メチル−５−[３−（４−メチルフェノキシ）プロプ−１−イニル]ピロール−２−イル｝ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−メチル−５−[１−メチル−５−（４−シクロヘキシルオキシブト−１−イニル）ピロール−２−イル]ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−メチル−５−｛１−メチル−５−[３−（３，４−ジメチルフェノキシ）プロプ−１−イニル]ピロール−２−イル｝ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−メチル−５−[１−メチル−５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル]ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−メチル−５−[１−メチル−５−（５−シクロヘキシルペンタノイル）ピロール−２−イル]ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−メチル−５−[１−メチル−５−（４−フェニルブタノイル）ピロール−２−イル]ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−メチル−５−[１−メチル−５−（４−シクロヘキシルブタノイル）ピロール−２−イル]ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−メチル−５−[１−エチル−５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル]ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−メチル−５−[１−エチル−５−（５−シクロヘキシルペンタノイル）ピロール−２−イル]ペンチルホスホン酸、
３−アミノ−３−メチル−５−[１−エチル−５−（４−フェニルブタノイル）ピロール−２−イル]ペンチルホスホン酸及び
３−アミノ−３−メチル−５−[１−エチル−５−（４−シクロヘキシルブタノイル）ピロール−２−イル]ペンチルホスホン酸、
（１２３） （６０）乃至（１２２）から選択されるいずれか１項において、免疫抑制剤が、
Ｔ細胞のサイトカイン発現に関与する細胞内シグナルの伝達を阻害する作用を有する薬剤（該薬剤は、サイクロスポリンＡ、タクロリムス、ラパマイシン、グスベリムス、エベロリムス、トレスペリムス、アニスペリムス、ＳＤＺ−２８１−２４０、ＡＢＴ−２８１、チグデリムス、Ａ−１１９４３５又は１７−エチル−１，１４−ジヒドロキシ−１２−[２−[４−（２−フェニルヒドラジノカルボニルオキシ）−３−メトキシシクロヘキシル]−１−メチルビニル]−２３，２５−ジメトキシ−１３，１９，２１，２７−テトラメチル−１１，２８−ジオキサ−４−アザトリシクロ[２２．３．１．０^4,9]オクタコス−１８−エン−２，３，１０，１６−テトロンである。）、
免疫細胞中でのヌクレオシド合成阻害する作用を有する薬剤（該薬剤は、ミゾリビン、アザチオプリン、ミコフェノ−ル酸、レフルノマイド、メリメンポディブ、ＨＭＲ−１２７９、ＴＳＫ−２０４又はＳＰ−１０００３０である。）、
免疫細胞に対するサイトカインの作用を阻害し抗リウマチ作用を有する薬剤（該薬剤は、Ｔ−６１４、アクタリット、サラゾスルファピリジン又はＣＤＣ−８０１である。）、
ＤＮＡ鎖の破壊又はＤＮＡの合成障害により細胞死を引き起こすアルキル化剤（該アルキル化剤は、シクロフォスファミドである。）、
葉酸産生を抑制して核酸代謝を阻害する代謝拮抗剤（該代謝拮抗剤は、メトトレキセ−トである。）、
ＴＮＦ−α抑制作用を有する蛋白質製剤（該蛋白質製剤は、レミケ−ド、エンブレル、ダクリズマブ、バシリキシマブ、アルムツズマブ、オマリズマブ、ＢＭＳ−１８８６６７、ＣＤＰ−５７１、イノリモマブ、ＡＴＭ−０２７又はＢＴＩ−３２２である。）、
細胞内のステロイドレセプタ−に結合して複合体を形成し、染色体上の反応部位に結合することにより合成された蛋白質により免疫抑制作用を示すステロイドホルモン剤（該ステロイドホルモン剤は、プレドニゾロンである。）又はプロスタグランジンの産生を抑制する物質及び／又はプロスタグランジンの作用に拮抗する非ステロイド系抗炎症剤（該非ステロイド系抗炎症剤は、ロキソプロフェンナトリウム、ジクロフェナックナトリウム、メロキシカム、セレコキシブ、ロフェコキシブである。）
からなる群より選択される少なくとも一つの薬剤である医薬組成物、
（１２４） （６０）乃至（１２２）から選択されるいずれか１項において、免疫抑制剤が、
サイクロスポリンＡ、タクロリムス、ラパマイシン、レフルノマイド、メトトレキセ−ト、レミケ−ド及びエンブレルからなる群より選択される少なくとも一つの薬剤である医薬組成物。
【００８２】
上記式（Ｉ）、（II）及び（III）中、Ｄ、Ｒ⁵及び置換基群ｂの定義における「Ｃ₆−Ｃ₁₀アリ−ル基」、「置換基群ａから選択される基で１乃至３個置換されたＣ₆−Ｃ₁₀アリ−ル基」及び「置換基群ａ及びｂから選択される基で１乃至３個置換されたＣ₆−Ｃ₁₀アリ−ル基」のアリ−ル部分は、例えば、フェニル、インデニル、ナフチルであり得、好適にはフェニル又はナフチル基であり、最も好適にはフェニル基である。
【００８３】
Ｙ及びＥの定義における「Ｃ₆−Ｃ₁₀アリ−レン基」、「置換基群ａから選択される基で１乃至３個置換されたＣ₆−Ｃ₁₀アリ−レン基」及び「置換基群ａ及びｂから選択される基で１乃至３個置換されたＣ₆−Ｃ₁₀アリ−レン基」のアリ−レン部分は、例えば、フェニレン、インデニレン、ナフチレンであり得、好適には、フェニレン又はナフチレン基であり、最も好適には、フェニレン基である。
【００８４】
Ｚの定義における「Ｃ₁−Ｃ₁₀アルキレン基」及び「置換基群ａ及びｂから選択される基で１乃至３個置換されたＣ₁−Ｃ₁₀アルキレン基」のＣ₁−Ｃ₁₀アルキレン部分は、メチレン、メチルメチレン、エチレン、プロピレン、トリメチレン、１−メチルエチレン、テトラメチレン、１−メチルトリメチレン、２−メチルトリメチレン、３−メチルトリメチレン、１−メチルプロピレン、１，１−ジメチルエチレン、ペンタメチレン、１−メチルテトラメチレン、２−メチルテトラメチレン、３−メチルテトラメチレン、４−メチルテトラメチレン、１，１−ジメチルトリメチレン、２，２−ジメチルトリメチレン、３，３−ジメチルトリメチレン、ヘキサメチレン、１−メチルペンタメチレン、２−メチルペンタメチレン、３−メチルペンタメチレン、４−メチルペンタメチレン、５−メチルペンタメチレン、１，１−ジメチルテトラメチレン、２，２−ジメチルテトラメチレン、３，３−ジメチルテトラメチレン、４，４−ジメチルテトラメチレン、ヘプタメチレン、１−メチルヘキサメチレン、２−メチルヘキサメチレン、５−メチルヘキサメチレン、３−エチルペンタメチレン、オクタメチレン、２−メチルヘプタメチレン、５−メチルヘプタメチレン、２−エチルヘキサメチレン、２−エチル−３−メチルペンタメチレン、３−エチル−２−メチルペンタメチレン、ノナメチレン、２−メチルオクタメチレン、７−メチルオクタメチレン、４−エチルヘプタメチレン、３−エチル−２−メチルヘキサメチレン、２−エチル−１−メチルヘキサメチレン、デカメチレン基のような炭素数１乃至１０個の直鎖又は分枝鎖アルキレン基であり得、好適には、Ｃ₁−Ｃ₆アルキレン基であり、更に好適には、Ｃ₁−Ｃ₅アルキレン基であり、より好適には、エチレン、トリメチレン又はテトラメチレン基であり、最も好適には、エチレン又はトリメチレン基である。
【００８５】
Ｚの定義における「炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子若しくは硫黄原子を有するＣ₁−Ｃ₁₀アルキレン基」及び「置換基群ａ及びｂから選択される基で１乃至３個置換された、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子若しくは硫黄原子を有するＣ₁−Ｃ₁₀アルキレン基」の、「炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子若しくは硫黄原子を有するＣ₁−Ｃ₁₀アルキレン」部分は、上記「Ｃ₁−Ｃ₁₀アルキレン基」の鎖端若しくは鎖中に酸素原子若しくは硫黄原子を有する基であり、例えば、−Ｏ−ＣＨ₂−、−Ｏ−（ＣＨ₂）₂−、−Ｏ−（ＣＨ₂）₃−、−Ｏ−（ＣＨ₂）₄−、−Ｏ−（ＣＨ₂）₅−、−Ｏ−（ＣＨ₂）₆−、−Ｏ−（ＣＨ₂）₇−、−Ｏ−（ＣＨ₂）₈−、−Ｏ−（ＣＨ₂）₉−、−Ｏ−（ＣＨ₂）₁₀−、−ＣＨ₂−Ｏ−ＣＨ₂−、−ＣＨ₂−Ｏ−（ＣＨ₂）₂−、−ＣＨ₂−Ｏ−（ＣＨ₂）₃−、−ＣＨ₂−Ｏ−（ＣＨ₂）₄−、−（ＣＨ₂）₂−Ｏ−ＣＨ₂−、−（ＣＨ₂）₂−Ｏ−（ＣＨ₂）₂−、−（ＣＨ₂）₂−Ｏ−（ＣＨ₂）₃−、−（ＣＨ₂）₂−Ｏ−（ＣＨ₂）₄−、−（ＣＨ₂）₃−Ｏ−ＣＨ₂−、−（ＣＨ₂）₃−Ｏ−（ＣＨ₂）₂−、−（ＣＨ₂）₃−Ｏ−（ＣＨ₂）₃−、−（ＣＨ₂）₄−Ｏ−ＣＨ₂−、−（ＣＨ₂）₄−Ｏ−（ＣＨ₂）₂−、−（ＣＨ₂）₅−Ｏ−ＣＨ₂−、−ＣＨ₂−Ｏ−、−（ＣＨ₂）₂−Ｏ−、−（ＣＨ₂）₃−Ｏ−、−（ＣＨ₂）₄−Ｏ−、−（ＣＨ₂）₅−Ｏ−、−（ＣＨ₂）₆−Ｏ−、−（ＣＨ₂）₇−Ｏ−、−（ＣＨ₂）₈−Ｏ−、−（ＣＨ₂）₉−Ｏ−、−（ＣＨ₂）₁₀−Ｏ−、−Ｓ−ＣＨ₂−、−Ｓ−（ＣＨ₂）₂−、−Ｓ−（ＣＨ₂）₃−、−Ｓ−（ＣＨ₂）₄−、−Ｓ−（ＣＨ₂）₅−、−Ｓ−（ＣＨ₂）₆−、−Ｓ−（ＣＨ₂）₇−、−Ｓ−（ＣＨ₂）₈−、−Ｓ−（ＣＨ₂）₉−、−Ｓ−（ＣＨ₂）₁₀−、−ＣＨ₂−Ｓ−ＣＨ₂−、−ＣＨ₂−Ｓ−（ＣＨ₂）₂−、−ＣＨ₂−Ｓ−（ＣＨ₂）₃−、−ＣＨ₂−Ｓ−（ＣＨ₂）₄−、−（ＣＨ₂）₂−Ｓ−ＣＨ₂−、−（ＣＨ₂）₂−Ｓ−（ＣＨ₂）₂−、−（ＣＨ₂）₂−Ｓ−（ＣＨ₂）₃−、−（ＣＨ₂）₂−Ｓ−（ＣＨ₂）₄−、−（ＣＨ₂）₃−Ｓ−ＣＨ₂−、−（ＣＨ₂）₃−Ｓ−（ＣＨ₂）₂−、−（ＣＨ₂）₃−Ｓ−（ＣＨ₂）₃−、−（ＣＨ₂）₄−Ｓ−ＣＨ₂−、−（ＣＨ₂）₄−Ｓ−（ＣＨ₂）₂−、−（ＣＨ₂）₅−Ｓ−ＣＨ₂−、−ＣＨ₂−Ｓ−、−（ＣＨ₂）₂−Ｓ−、−（ＣＨ₂）₃−Ｓ−、−（ＣＨ₂）₄−Ｓ−、−（ＣＨ₂）₅−Ｓ−、−（ＣＨ₂）₆−Ｓ−、−（ＣＨ₂）₇−Ｓ−、−（ＣＨ₂）₈−Ｓ−、−（ＣＨ₂）₉−Ｓ−、−（ＣＨ₂）₁₀−Ｓ−を有する基であり得、好適には、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子を有するＣ₁−Ｃ₆アルキレン基であり、更に好適には、−Ｏ−ＣＨ₂−、−Ｏ−（ＣＨ₂）₂−、−Ｏ−（ＣＨ₂）₃−、−ＣＨ₂−Ｏ−、−（ＣＨ₂）₂−Ｏ−又は−（ＣＨ₂）₃−Ｏ−を有する基であり、最も好適には、−ＣＨ₂−Ｏ−又は−（ＣＨ₂）₂−Ｏ−を有する基である。
【００８６】
Ｒ⁵及び置換基群ｂの定義における「Ｃ₃−Ｃ₁₀シクロアルキル基」、「置換基群ａから選択される基で１乃至３個置換されたＣ₃−Ｃ₁₀シクロアルキル基」及び「置換基群ａ及びｂから選択される基で１乃至３個置換されたＣ₃−Ｃ₁₀シクロアルキル基」のＣ₃−Ｃ₁₀シクロアルキル部分は、ベンゼン環のような他の環式基と縮環していてもよく、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、ノルボルニル、アダマンチル又はインダニルであり得、好適には、Ｃ₅−Ｃ₆シクロアルキル基であり、最も好適には、シクロヘキシル基である。
【００８７】
Ｒ⁵及び置換基群ｂの定義における「硫黄原子、酸素原子又は／及び窒素原子を１乃至３個含む５乃至７員複素環基」、「置換基群ａから選択される基で１乃至３個置換された、硫黄原子、酸素原子又は／及び窒素原子を１乃至３個含む５乃至７員複素環基」及び「置換基群ａ及びｂから選択される基で１乃至３個置換された、硫黄原子、酸素原子又は／及び窒素原子を１乃至３個含む５乃至７員複素環基」の硫黄原子、酸素原子又は／及び窒素原子を１乃至３個含む５乃至７員複素環基部分は、例えば、硫黄原子、酸素原子又は／及び窒素原子を１乃至３個含む５乃至７員芳香族、又は部分若しくは完全還元型の飽和複素環基を示し、例えば、フリル、チエニル、ピロリル、アゼピニル、ピラゾリル、イミダゾリル、オキサゾリル、イソキサゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、１，２，３−オキサジアゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、チアジアゾリル、ピラニル、 ピリジル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラジニル、テトラヒドロピラニル、モルホリニル、チオモルホリニル、ピロリジニル、ピロリニル、イミダゾリジニル、ピラゾリジニル、ピペリジニル、ピペラジニル、オキサゾリジニル、イソキサゾリジニル、チアゾリジニル又はピラゾリジニルであり得、好適には、５乃至６員芳香族複素環基であり、更も好適には、フリル、チエニル又はピロリルであり、より更に好適には、フリル又はチエニルであり、更に好適にはチエニルである。
【００８８】
尚、上記「芳香族複素環基」は、他の環式基と縮環していてもよく、例えば、ベンゾチエニル、イソベンゾフラニル、クロメニル、キサンテニル、フェノキサチイニル、インドリジニル、イソインドリル、インドリル、インダゾリル、プリニル、キノリジニル、イソキノリル、キノリル、フタラジニル、ナフチリジニル、キノキサリニル、キナゾリニル、カルバゾリル、カルボリニル、アクリジニル又はイソインドリニルであり得、好適には、ベンゾチエニル基である。
【００８９】
置換基群ａの定義における「ハロゲン原子」は、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素原子であり、好適には、フッ素原子又は塩素原子である。
【００９０】
Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴及び置換基群ａの定義における「低級アルキル基」は、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、イソペンチル、２−メチルブチル、ネオペンチル、１−エチルプロピル、ヘキシル、イソヘキシル、４−メチルペンチル、３−メチルペンチル、２−メチルペンチル、１−メチルペンチル、３，３−ジメチルブチル、２，２−ジメチルブチル、１，１−ジメチルブチル、１，２−ジメチルブチル、１，３−ジメチルブチル、２，３−ジメチルブチル、１−エチルブチル、２−エチルブチル基のような炭素数１乃至６個の直鎖又は分枝鎖アルキル基であり得、好適には、Ｃ₁−Ｃ₄アルキル基であり、更に好適には、Ｃ₁−Ｃ₂アルキル基であり、最も好適には、メチル基である。
【００９１】
置換基群ａの定義における「ハロゲノ低級アルキル基」は、前記「低級アルキル基」にハロゲン原子が置換した基を示し、例えば、トリフルオロメチル、トリクロロメチル、ジフルオロメチル、ジクロロメチル、ジブロモメチル、フルオロメチル、２，２，２−トリフルオロエチル、２，２，２−トリクロロエチル、２−ブロモエチル、２−クロロエチル、２−フルオロエチル、２−ヨ−ドエチル、３−クロロプロピル、４−フルオロブチル、６−ヨ−ドヘキシル、２，２−ジブロモエチル基のようなハロゲノＣ₁−Ｃ₆アルキル基であり得、好適には、ハロゲノＣ₁−Ｃ₄アルキル基であり、更に好適には、トリフルオロメチル、トリクロロメチル、２，２，２−トリフルオロエチル又は２，２，２−トリクロロエチルであり、最も好適にはトリフルオロメチル基である。
【００９２】
置換基群ａの定義における「低級アルコキシ基」は、前記「低級アルキル基」が酸素原子に結合した基を示し、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｓ−ブトキシ、ｔ−ブトキシ、ペントキシ、イソペントキシ、２−メチルブトキシ、１−エチルプロポキシ、２−エチルプロポキシ、ネオペントキシ、ヘキシルオキシ、４−メチルペントキシ、３−メチルペントキシ、２−メチルペントキシ、３，３−ジメチルブトキシ、２，２−ジメチルブトキシ、１，１−ジメチルブトキシ、１，２−ジメチルブトキシ、１，３−ジメチルブトキシ、２，３−ジメチルブトキシ基のような炭素数１乃至６個の直鎖又は分枝鎖アルコキシ基であり得、好適には、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ基であり、更に好適には、Ｃ₁−Ｃ₂アルコキシ基であり、最も好適には、メトキシ基である。
【００９３】
置換基群ａの定義における「低級アルキルチオ基」は、前記「低級アルキル基」が硫黄原子に結合した基を示し、例えば、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ、イソブチルチオ、ｓ−ブチルチオ、ｔ−ブチルチオ、ペンチルチオ、イソペンチルチオ、２−メチルブチルチオ、ネオペンチルチオ、ヘキシルチオ、４−メチルペンチルチオ、３−メチルペンチルチオ、２−メチルペンチルチオ、３，３−ジメチルブチルチオ、２，２−ジメチルブチルチオ、１，１−ジメチルブチルチオ、１，２−ジメチルブチルチオ、１，３−ジメチルブチルチオ、２，３−ジメチルブチルチオ基のような炭素数１乃至６個の直鎖又は分枝鎖アルキルチオ基であり得、好適には、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルチオ基であり、更に好適には、Ｃ₁−Ｃ₂アルキルチオ基であり、最も好適には、メチルチオ基である。
【００９４】
置換基群ａの定義における「低級アルコキシカルボニル基」は、前記「低級アルコキシ基」がカルボニル基に結合した基を示し、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、ｓ−ブトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ペントキシカルボニル、イソペントキシカルボニル、２−メチルブトキシカルボニル、ネオペントキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル、４−メチルペントキシカルボニル、３−メチルペントキシカルボニル、２−メチルペントキシカルボニル、３，３−ジメチルブトキシカルボニル、２，２−ジメチルブトキシカルボニル、１，１−ジメチルブトキシカルボニル、１，２−ジメチルブトキシカルボニル、１，３−ジメチルブトキシカルボニル、２，３−ジメチルブトキシカルボニル基のような炭素数１乃至６個の直鎖又は分枝鎖アルコキシカルボニル基であり得、好適には、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシカルボニル基であり、更に好適には、Ｃ₁−Ｃ₂アルコキシカルボニル基であり、最も好適には、メトキシカルボニル基である。
【００９５】
置換基群ａの定義における「低級脂肪族アシル基」は、水素原子又は飽和若しくは不飽和の鎖状炭化水素基がカルボニル基に結合した基を示し、例えば、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イソバレリル、ピバロイル、ヘキサノイル、アクリロイル、メタクリロイル、クロトノイル基のような炭素数１乃至８個の直鎖又は分枝鎖低級脂肪族アシル基であり得、好適には、Ｃ₁−Ｃ₄低級脂肪族アシル基であり、更に好適には、アセチル又はプロピオニル基であり、最も好適には、アセチル基である。
【００９６】
置換基群ａの定義における「モノ−低級アルキルアミノ基」は、前記「低級アルキル基」が１個アミノ基に結合したものと同意義を示し、例えば、メチルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、イソプロピルアミノ、ブチルアミノ、イソブチルアミノ、ｓ−ブチルアミノ、ｔ−ブチルアミノ、ペンチルアミノ、イソペンチルアミノ、２−メチルブチルアミノ、ネオペンチルアミノ、１−エチルプロピルアミノ、ヘキシルアミノ、イソヘキシルアミノ、４−メチルペンチルアミノ、３−メチルペンチルアミノ、２−メチルペンチルアミノ、１−メチルペンチルアミノ、３，３−ジメチルブチルアミノ、２，２−ジメチルブチルアミノ、１，１−ジメチルブチルアミノ、１，２−ジメチルブチルアミノ、１，３−ジメチルブチルアミノ、２，３−ジメチルブチルアミノ、２−エチルブチルアミノ基のようなモノ−Ｃ₁−Ｃ₆アルキルアミノ基であり得、好適には、モノ−Ｃ₁−Ｃ₄アルキルアミノ基であり、更に好適にはモノ−Ｃ₁−Ｃ₂アルキルアミノ基であり、最も好適にはメチルアミノ基である。
【００９７】
置換基群ａの定義における「ジ−低級アルキルアミノ基」は、前記「低級アルキル基」が２個アミノ基に結合した基を示し、例えば、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルアミノ、ジプロピルアミノ、ジブチルアミノ、ジペンチルアミノ、ジヘキシルアミノ基のようなジ−Ｃ₁−Ｃ₆アルキルアミノ基であり得、好適には、ジ−Ｃ₁−Ｃ₄アルキルアミノ基であり、更に好適には、ジ−Ｃ₁−Ｃ₂アルキルアミノ基であり、最も好適には、ジメチルアミノ基である。
【００９８】
置換基群ａの定義における「低級脂肪族アシルアミノ基」は、前記「低級脂肪族アシル基」がアミノ基に結合した基を示し、例えば、ホルミルアミノ、アセチルアミノ、プロピオニルアミノ、ブチリルアミノ、イソブチリルアミノ、バレリルアミノ、イソバレリルアミノ、ピバロイルアミノ、ヘキサノイルアミノ、アクリロイルアミノ、メタクリロイルアミノ、クロトノイルアミノ基のような炭素数１乃至７個の直鎖又は分枝鎖低級脂肪族アシルアミノ基であり得、好適には、Ｃ₁−Ｃ₄脂肪族アシルアミノ基であり、更に好適には、アセチルアミノ又はプロピオニルアミノ基であり、最も好適には、アセチルアミノ基である。
【００９９】
Ｄの定義における「低級アルキルスルホニル基」とは、前記「低級アルキル基」がスルホニル基に結合した基を示し、例えば、メタンスルホニル、エタンスルホニル、プロパンスルホニル、イソプロパンスルホニル、ブタンスルホニル、イソブタンスルホニル、ｓ−ブタンスルホニル、ｔ−ブタンスルホニル、ペンタンスルホニル、イソペンタンスルホニル、２−メチルブタンスルホニル、ネオペンタンスルホニル、ヘキサンスルホニル、４−メチルペンタンスルホニル、３−メチルペンタンスルホニル、２−メチルペンタンスルホニル、３，３−ジメチルブタンスルホニル、２，２−ジメチルブタンスルホニル、１，１−ジメチルブタンスルホニル、１，２−ジメチルブタンスルホニル、１，３−ジメチルブタンスルホニル、２，３−ジメチルブタンスルホニル基のような炭素数１乃至６個の直鎖又は分枝鎖アルキルスルホニル基であり得、好適には、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルスルホニル基であり、更に好適には、Ｃ₁−Ｃ₂アルキルスルホニル基であり、最も好適には、メタンスルホニル基である。
【０１００】
Ｄの定義における「アリールスルホニル基」とは、前記「アリール基」がスルホニル基に結合した基を示し、例えば、ベンゼンスルホニル、ｐ−トルエンスルホニル、ｏ−キシレン−４−スルホニル、ｍ−キシレン−４−スルホニル、ｐ−キシレンスルホニル、ナフタレンスルホニル基のような炭素数６乃至１０個のアリールスルホニル基であり得、最も好適には、ベンゼンスルホニル基である。
【０１０１】
Ｒ¹及びＲ²の定義における「アミノ基の保護基」とは、有機合成化学の分野で一般的に使用されるアミノ基の保護基を意味し、例えば、
前記「低級脂肪族アシル基」、クロロアセチル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチル、トリフルオロアセチルのようなハロゲノ低級脂肪族アシル基、メトキシアセチルのような低級アルコキシで置換された低級脂肪族アシル基などの「脂肪族アシル類」；
ベンゾイル、１−インダンカルボニル、２−インダンカルボニル、１−若しくは２−ナフトイルのような芳香族アシル基、４−クロロベンゾイル、４−フルオロベンゾイル、２，４，６−トリメチルベンゾイル、４−トルオイル、４−アニソイル４−ニトロベンゾイル、２−ニトロベンゾイル、２−（メトキシカルボニル）ベンゾイル、４−フェニルベンゾイルのような前記置換基群ａから選択される基で１乃至３個置換された芳香族アシル基などの「芳香族アシル類」；
前記「低級アルコキシカルボニル基」、２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル、２−トリメチルシリルエトキシカルボニルのようなハロゲンまたはトリ低級アルキルシリルで置換された低級アルコキシカルボニル基などの「アルコキシカルボニル類」；
ビニルオキシカルボニル、アリルオキシカルボニルのような「アルケニルオキシカルボニル類」；
ベンジルオキシカルボニルのようなアラルキルオキシカルボニル基、４−メトキシベンジルオキシカルボニル、３，４−ジメトキシベンジルオキシカルボニル、２−ニトロベンジルオキシカルボニル、４−ニトロベンジルオキシカルボニルのような前記置換基群ａから選択される基で１乃至３個置換されたアラルキルオキシカルボニル基などの「アラルキルオキシカルボニル類」；
トリメチルシリル、トリエチルシリル、イソプロピルジメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、メチルジイソプロピルシリル、メチルジ−ｔ−ブチルシリル、トリイソプロピルシリルのようなトリ低級アルキルシリル基、ジフェニルメチルシリル、ジフェニルブチルシリル、ジフェニルイソプロピルシリル、フェニルジイソプロピルシリルのようなアリールまたはアリールと低級アルキルとでトリ置換されたシリル基などの「シリル類」；
ベンジル、フェネチル、３−フェニルプロピル、α−ナフチルメチル、β−ナフチルメチル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、α−ナフチルジフェニルメチル、９−アンスリルメチルのような１乃至３個のアリール基で置換された低級アルキル基、４−メチルベンジル、２，４，６−トリメチルベンジル、３，４，５−トリメチルベンジル、４−メトキシベンジル、４−メトキシフェニルジフェニルメチル、２−ニトロベンジル、４−ニトロベンジル、４−クロロベンジル、４−ブロモベンジル、４−シアノベンジル、４−シアノベンジルジフェニルメチル、ビス（２−ニトロフェニル）メチル、ピペロニルのような低級アルキル、低級アルコキシ、ニトロ、ハロまたはシアノでアリール環が置換された１〜３個のアリール基で置換された低級アルキル基などの「アラルキル類」；ならびにＮ，Ｎ−ジメチルアミノメチレン、ベンジリデン、４−メトキシベンジリデン、４−ニトロベンジリデン、サリシリデン、５−クロロサリシリデン、ジフェニルメチレン、（５−クロロ−２−ヒドロキシフェニル）フェニルメチレンのような「シッフ塩基を形成する置換されたメチレン基」が包含され、好適には、低級脂肪族アシル基、低級アルコキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基又は置換基群ａから選択される基で１乃至３個置換されたアラルキルオキシカルボニル基である。
【０１０２】
上記「アミノ基の保護基」として、特に好適には、アセチル基又はｔ−ブトキシカルボニル基である。
【０１０３】
Ｒ³の定義における「ヒドロキシ基の保護基」とは、加水素分解、加水分解、電気分解、光分解のような化学的方法により開裂し得る「反応における一般的保護基」、及び、「生体内で加水分解のような生物学的方法により開裂し得る保護基」を示す。
【０１０４】
そのような「反応における一般的保護基」としては、例えば、
前記「脂肪族アシル類」；
前記「芳香族アシル類」；
テトラヒドロピラン−２−イル、３−ブロモテトラヒドロピラン−２−イル、４−メトキシテトラヒドロピラン−４−イル、テトラヒドロチオピラン−２−イル、４−メトキシテトラヒドロチオピラン−４−イルのような「テトラヒドロピラニル又はテトラヒドロチオピラニル類」；
テトラヒドロフラン−２−イル、テトラヒドロチオフラン−２−イルのような「テトラヒドロフラニル又はテトラヒドロチオフラニル類」；
前記「シリル類」；
メトキシメチル、１,１−ジメチル−１−メトキシメチル、エトキシメチル、プロポキシメチル、イソプロポキシメチル、ブトキシメチル、ｔ−ブトキシメチルのような低級アルコキシメチル基、２−メトキシエトキシメチルのような低級アルコキシ化低級アルコキシメチル基、２，２，２−トリクロロエトキシメチル、ビス(２−クロロエトキシ) メチルのようなハロゲノ低級アルコキシメチル等の「アルコキシメチル基」；
１−エトキシエチル、１−( イソプロポキシ) エチルのような低級アルコキシ化エチル基、２，２，２−トリクロロエチルのようなハロゲン化エチル基等の「置換エチル類」；
前記「アラルキル類」；
前記「アルコキシカルボニル類」；
前記「アルケニルオキシカルボニル類」；
前記「アラルキルオキシカルボニル基」を挙げることができる。
【０１０５】
一方、「生体内で加水分解のような生物学的方法により開裂し得る保護基」としては、例えば、エチルカルボニルオキシメチル、ピバロイルオキシメチル、ジメチルアミノアセトキシメチル、１−アセトキシエチルのようなアシルオキシアルキル類；
１−（メトキシカルボニルオキシ）エチル、１−（エトキシカルボニルオキシ）エチル、エトキシカルボニルオキシメチル、１−（イソプロポキシカルボニルオキシ）エチル、１−（ｔ−ブトキシカルボニルオキシ）エチル、１−（エトキシカルボニルオキシ）プロピル、１−（シクロヘキシルオキシカルボニルオキシ）エチルのような１−（アルコキシカルボニルオキシ）アルキル類；
フタリジル基；
４−メチル−オキソジオキソレニルメチル、４−フェニル−オキソジオキソレニルメチル、オキソジオキソレニルメチルのようなオキソジオキソレニルメチル基等の「カルボニルオキシアルキル類」；
前記「脂肪族アシル類」；
前記「芳香族アシル類」；
「コハク酸のハーフエステル塩残基」；
「リン酸エステル塩残基」；
「アミノ酸等のエステル形成残基」；
カルバモイル基；
ベンジリデンのようなアラルキリデン基；メトキシエチリデン、エトキシエチリデンのようなアルコキシエチリデン基；オキソメチレン；チオキソメチレンのような「２つのヒドロキシ基の保護基」；
及び、ピバロイルオキシメチルオキシカルボニルのような「カルボニルオキシアルキルオキシカルボニル基」を挙げることができ、そのような誘導体か否かは、ラットやマウスのような実験動物に静脈注射により投与し、その後の動物の体液を調べ、元となる化合物又はその薬理学的に許容される塩を検出できることにより決定できる。このようなヒドロキシ基の保護基として、好適には、低級脂肪族アシル基、芳香族アシル基、置換基群ａから選択される基で１乃至３個置換された芳香族アシル基又はシリル基である。
【０１０６】
上記「ヒドロキシ基の保護基」として、特に好適には、アセチル基又はｔ−ブチルジメチルシリル基である。
【０１０７】
Ｒ¹⁰及びＲ¹¹の定義における「リン酸基の保護基」は、例えば、
メチル、エチル、イソプロピル、ブチルのような低級アルキル基、
２−シアノエチル、２−シアノ−１，１−ジメチルエチルのようなシアノ基で置換された低級アルキル基、
２−（メチルジフェニルシリル）エチル、２−トリメチルシリルエチルのような低級アルキル又は低級アルキルとアリールとでトリ置換されたシリル基で置換された低級アルキル基、
２−（２’−ピリジル）エチル、２−（４’−ピリジル）エチルのようなヘテロシクリルで置換された低級アルキル基、
２−フェニルチオエチル、２−（４’−ニトロフェニルチオ）エチル、２−（４’−トリフェニルメチルフェニルチオ）エチルのようなアリールチオで置換された低級アルキル基
２−（ｔ−ブチルスルホニル）エチル、２−（フェニルスルホニル）エチル、２−（ベンジルスルホニル）エチルのようなアルキルスルホニル、アリールスルホニル又はアリールアルキルスルホニルで置換された低級アルキル基、
２，２，２−トリクロロエチル、２，２，２−トリクロロエチル−１，１−ジメチルエチル、２，２，２−トリブロモエチル、２，３−ジブロモプロピル、２，２，２−トリフルオロエチルのようなハロゲノ低級アルキル基；
ベンジル、フェネチル、３−フェニルプロピル、α−ナフチルメチル、β−ナフチルメチル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、α−ナフチルジフェニルメチル、９−アンスリルメチルのような１〜３個のアリール基で置換された低級アルキル基、ｏ−ニトロベンジル、４−ニトロベンジル、２，４−ジニトロベンジル、４−クロロベンジル、４−クロロ−２−ニトロベンジル、４−アシルオキシベンジルのようなニトロ、ハロまたは低級脂肪族アシルでアリール環が置換されたアリール基で置換された低級アルキル基、２−ニトロフェニルエチルのような置換基を有するアリール基で置換された低級アルキル基、９−フルオレニルメチルのようなフルオレニル基で置換された低級アルキル基などのアラルキル類；
アリル、プロペニルのような低級アルケニル基、
４−シアノ−２−ブテニルのようなシアノで置換された低級アルケニル基；
フェニルのようなアリール基、
２−メチルフェニル、２，６−ジメチルフェニル、２−クロロフェニル、４−クロロフェニル、２，４−ジクロロフェニル、２，５−ジクロロフェニル、２，６−ジクロロフェニル、２−ブロモフェニル、４−ニトロフェニル、３，５−ジニトロフェニル、４−クロロ−２−ニトロフェニル、２−メトキシ−５−ニトロフェニルのような低級アルキル、アリール基でトリ置換された低級アルキル、低級アルコキシ、ニトロ又はハロで置換されたアリール基；
並びに
アニリデイト、４−トリフェニルメチルアニリデイト、[Ｎ−（２−トリチロキシ）エチル]アニリデイト、ｐ−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）アニリデイト、３−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノメチル）アニリデイトのようなアミド類
である。
【０１０８】
「リン酸基の保護基」は、好適には、低級アルキル基、低級アルケニル基または１乃至３個のフェニル若しくはナフチルで置換されたメチル基であり、更に好適には、メチル基、エチル基、アリル基またはベンジル基であり、最も好適には、メチル基又はエチル基である。
【０１０９】
上記において、Ｒ⁵の定義における「置換基群ａ及びｂから選択される基で１乃至３個置換されたＣ₃−Ｃ₁₀シクロアルキル基」の具体例は、例えば、２−フルオロシクロプロピル、２−クロロシクロプロピル、２−若しくは３−フルオロシクロペンチル、２−若しくは３−クロロシクロペンチル、２−，３−若しくは４−フルオロシクロヘキシル、２−，３−若しくは４−クロロシクロヘキシル、２−，３−若しくは４−ブロモシクロヘキシル、２−，３−若しくは４−ヨ−ドシクロヘキシル、２−メチルシクロプロピル、２−エチルシクロプロピル、２−若しくは３−メチルシクロペンチル、２−若しくは３−エチルシクロペンチル、２−，３−若しくは４−メチルシクロヘキシル、２−，３−若しくは４−エチルシクロヘキシル、２−トリフルオロメチルシクロプロピル、２−若しくは３−トリフルオロメチルシクロブチル、２−若しくは３−トリフルオロメチルシクロペンチル、２−，３−若しくは４−トリフルオロメチルシクロヘキシル、２−メトキシシクロプロピル、２−若しくは３−メトキシシクロブチル、２−若しくは３−メトキシシクロペンチル、２−，３−若しくは４−メトキシシクロヘキシル、２−，３−若しくは４−エトキシシクロヘキシル、２−，３−若しくは４−プロポキシシクロヘキシル、２−，３−若しくは４−イソプロポキシシクロヘキシル、２−，３−若しくは４−（１−エチルプロポキシ）シクロヘキシル、２−，３−若しくは４−（２−エチルプロポキシ）シクロヘキシル、２−カルボキシシクロプロピル、２−若しくは３−カルボキシシクロペンチル、２−，３−若しくは４−カルボキシシクロヘキシル、２−メトキシカルボニルシクロプロピル、２−若しくは３−メトキシカルボニルシクロペンチル、２−，３−若しくは４−メトキシカルボニルシクロヘキシル、２−ヒドロキシシクロプロピル、２−若しくは３−ヒドロキシシクロペンチル、２−，３−若しくは４−ヒドロキシシクロヘキシル、２−ホルミルシクロプロピル、２−若しくは３−ホルミルシクロペンチル、２−，３−若しくは４−ホルミルシクロヘキシル、２−アセチルシクロプロピル、２−若しくは３−アセチルシクロペンチル、２−，３−若しくは４−アセチルシクロヘキシル、２−アミノシクロプロピル、２−若しくは３−アミノシクロペンチル、２−，３−若しくは４−アミノシクロヘキシル、２−メチルアミノシクロプロピル、２−若しくは３−メチルアミノシクロブチル、２−若しくは３−メチルアミノシクロペンチル、２−，３−若しくは４−メチルアミノシクロヘキシル、２−ジメチルアミノシクロプロピル、２−若しくは３−ジメチルアミノシクロブチル、２−若しくは３−ジメチルアミノシクロペンチル、２−，３−若しくは４−ジメチルアミノシクロヘキシル、２−シアノシクロプロピル、２−若しくは３−シアノシクロペンチル、２−，３−若しくは４−シアノシクロヘキシル、２−若しくは３−シクロヘキシルシクロペンチル、２−，３−若しくは４−シクロヘキシルシクロヘキシル、２−フェニルシクロプロピル、２−若しくは３−フェニルシクロペンチル、２−，３−若しくは４−フェニルシクロヘキシル、３，４−ジフルオロシクロヘキシル、３，４−ジクロロシクロヘキシル、２，３−ジメトキシシクロヘキシル、３，４−ジメトキシシクロヘキシル、３，５−ジメトキシシクロヘキシル、３，４，５−トリメトキシシクロヘキシル基であり得、好適には、１乃至３個置換されたＣ₃−Ｃ₁₀シクロアルキル基（該置換基は、ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲノ低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基及び低級脂肪族アシル基から成る群から選択される基である。）であり、更に好適には、１乃至３個置換されたＣ₃−Ｃ₁₀シクロアルキル基（該置換基は、ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲノ低級アルキル基、低級アルコキシ基及び低級脂肪族アシル基から成る群から選択される基である。）であり、より更に好適には、１乃至３個置換されたＣ₃−Ｃ₁₀シクロヘキシル基（該置換基は、ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲノ低級アルキル基、低級アルコキシ基及び低級脂肪族アシル基から成る群から選択される基である。）であり、最も好適には、１個置換されたシクロヘキシル基（該置換基は、フッ素原子、塩素原子、メチル、トリフルオロメチル、メトキシ及びアセチル基から成る群から選択される基である。）である。
【０１１０】
Ｒ⁵の定義における「置換基群ａ及びｂから選択される基で１乃至３個置換されたＣ₆−Ｃ₁₀アリ−ル基」の具体例は、例えば、２−，３−若しくは４−フルオロフェニル、２−，３−若しくは４−クロロフェニル、２−，３−若しくは４−ブロモフェニル、２−，３−若しくは４−ヨ−ドフェニル、２−，３−若しくは４−メチルフェニル、２−，３−若しくは４−エチルフェニル、２−，３−若しくは４−プロピルフェニル、２−，３−若しくは４−ブチルフェニル、２−，３−若しくは４−ペンチルフェニル、２−，３−若しくは４−トリフルオロメチルフェニル、２−，３−若しくは４−メトキシフェニル、２−，３−若しくは４−エトキシフェニル、２−，３−若しくは４−プロポキシフェニル、２−，３−若しくは４−イソプロポキシフェニル、２−，３−若しくは４−ブトキシフェニル、２−，３−若しくは４−（１−エチルプロポキシ）フェニル、２−，３−若しくは４−（２−エチルプロポキシ）フェニル、２−，３−若しくは４−メチルチオフェニル、２−，３−若しくは４−エチルチオフェニル、２−，３−若しくは４−カルボキシフェニル、２−，３−若しくは４−メトキシカルボニルフェニル、２−，３−若しくは４−エトキシカルボニルフェニル、２−，３−若しくは４−ヒドロキシフェニル、２−，３−若しくは４−ホルミルフェニル、２−，３−若しくは４−アセチルフェニル、２−，３−若しくは４−アミノフェニル、２−，３−若しくは４−メチルアミノフェニル、２−，３−若しくは４−ジメチルアミノフェニル、２−，３−若しくは４−シアノフェニル、２−，３−若しくは４−シクロペンチルフェニル、２−，３−若しくは４−シクロヘキシルフェニル、２−，３−若しくは４−ビフェニル、２，４−ジフルオロフェニル、３，４−ジフルオロフェニル、３，５−ジフルオロフェニル、２，４−ジクロロフェニル、３，４−ジクロロフェニル、３，５−ジクロロフェニル、３，４−ジブロモフェニル、２，３−ジメチルフェニル、３，４−ジメチルフェニル、３，５−ジメチルフェニル、２，３−ジメトキシフェニル、３，４−ジメトキシフェニル、３，５−ジメトキシフェニル、３，４，５−トリメトキシフェニル、３−フルオロ−４−メトキシフェニル、４−メチル−２−メトキシフェニル、６−フルオロ−４−メチル−２−メトキシフェニル、５−フルオロインデン−３−イル、５−フルオロインデン−３−イル、５−メチルインデン−３−イル、５−メトキシインデン−３−イル、５−フルオロインデン−２−イル、５−クロロインデン−２−イル、５−メチルインデン−２−イル、５−メトキシインデン−２−イル、５−ヒドロキシインデン−３−イル、５−ニトロインデン−３−イル、５−シクロヘキシルインデン−３−イル、５−フェニルインデン−３−イル、５−フェノキシインデン−３−イル、５−ベンジルオキシインデン−３−イル、５−フェニルチオインデン−３−イル、５−ヒドロキシインデン−２−イル、５−ニトロインデン−２−イル、５−シクロヘキシルインデン−２−イル、５−フェニルインデン−２−イル、５−フルオロナフタレン−２−イル、５−フルオロナフタレン−２−イル、５−メチルナフタレン−２−イル、５−メトキシナフタレン−２−イル、５−フルオロナフタレン−１−イル、５−フルオロナフタレン−１−イル、５−メチルナフタレン−１−イル、５−メトキシナフタレン−１−イル、５−ヒドロキシナフタレン−２−イル、５−ニトロナフタレン−２−イル、５−シクロヘキシルナフタレン−２−イル、５−フェニルナフタレン−２−イル、５−フェノキシナフタレン−２−イル、５−ベンジルオキシナフタレン−２−イル、５−フェニルチオナフタレン−２−イル、５−ヒドロキシナフタレン−１−イル、５−ニトロナフタレン−１−イル、５−シクロヘキシルナフタレン−１−イル、５−フェニルナフタレン−１−イル基であり得、好適には、１乃至３個置換されたＣ₆−Ｃ₁₀アリ−ル基（該置換基は、ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲノ低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基及び低級脂肪族アシル基から成る群から選択される基である。）であり、更に好適には、１乃至３個置換されたＣ₆−Ｃ₁₀アリ−ル基（該置換基は、ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲノ低級アルキル基、低級アルコキシ基及び低級脂肪族アシル基から成る群から選択される基である。）であり、より更に好適には、１乃至３個置換されたフェニル基（該置換基は、ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲノ低級アルキル基、低級アルコキシ基及び低級脂肪族アシル基から成る群から選択される基である。）であり、更により好適には、１乃至２個置換されたフェニル基（該置換基は、フッ素原子、塩素原子、メチル、トリフルオロメチル、メトキシ及びアセチル基から成る群から選択される基である。但し、メトキシ基については、１乃至３個置換されたフェニル基が好ましい。）であり、最も好適には、３−フルオロフェニル、４−フルオロフェニル、３，４−ジフルオロフェニル、３，５−ジフルオロフェニル、３−クロロフェニル、４−クロロフェニル、３，４−ジクロロフェニル、３，５−ジクロロフェニル、３−メチルフェニル、４−メチルフェニル、３，４−ジメチルフェニル、３，５−ジメチルフェニル、３−トリフルオロメチルフェニル、４−トリフルオロメチルフェニル、３，４−ジトリフルオロメチルフェニル、３，５−ジトリフルオロメチルフェニル、３−メトキシフェニル、４−メトキシフェニル、３，４−ジメトキシフェニル、３，５−ジメトキシフェニル、３，４，５−トリメトキシフェニル、３−アセチルフェニル又は４−アセチルフェニル基である。
【０１１１】
Ｒ⁵の定義における「置換基群ａ及びｂから選択される基で１乃至３個置換された、硫黄原子、酸素原子及び／又は窒素原子を１乃至３個含む５乃至７員複素環基」の具体例は、例えば、３−，４−若しくは５−メチルフラン−２−イル、２−，４−若しくは５−メチルフラン−３−イル、３−，４−若しくは５−フルオロチオフェン−２−イル、２−，４−若しくは５−フルオロフラン−３−イル、３−，４−若しくは５−ブロモチオフェン−２−イル、２−，４−若しくは５−ブロモフラン−３−イル、３−，４−若しくは５−メチルチオフェン−２−イル、２−，４−若しくは５−メチルチオフェン−３−イル、３−，４−若しくは５−エチルチオフェン−２−イル、２−，４−若しくは５−エチルチオフェン−３−イル、３−，４−若しくは５−メトキシチオフェン−２−イル、２−，４−若しくは５−メトキシチオフェン−３−イル、３−若しくは４−メチルチアゾ−ル−５−イル、３−，４−若しくは５−フルオロベンゾチオフェン−２−イル、３−，４−若しくは５−ブロモベンゾチオフェン−２−イル、３−，４−若しくは５−メチルベンゾチオフェン−２−イル、３−，４−若しくは５−メトキシベンゾチオフェン−２−イル、２−，４−若しくは５−フルオロベンゾチオフェン−３−イル、２−，４−若しくは５−ブロモベンゾチオフェン−３−イル、２−，４−若しくは５−メチルベンゾチオフェン−３−イル、２−，４−若しくは５−メトキシベンゾチオフェン−３−イル、４−，５−，６−若しくは７−メチルベンゾチオフェン−２−イル、３−，４−若しくは５−ヒドロキシフラン−２−イル、２−，４−若しくは５−ヒドロキシフラン−３−イル、３−，４−若しくは５−ヒドロキシチオフェン−２−イル、３−，４−若しくは５−ニトロチオフェン−２−イル、３−，４−若しくは５−フェニルチオフェン−２−イル、２−，４−若しくは５−ヒドロキシチオフェン−３−イル、２−，４−若しくは５−シアノチオフェン−３−イル、１−，２−若しくは３−ヒドロキシピリジン−４−イル、１−，２−若しくは３−シアノピリジン−４−イル、１−，２−若しくは３−フェニルピリジン−４−イル基であり得、好適には、３−，４−若しくは５−フルオロチオフェン−２−イル又は２−，４−若しくは５−フルオロフラン−３−イル基である。
【０１１２】
「その薬理上許容される塩」とは、本発明の一般式（Ｉ）、（II）又は（III）を有する化合物は、アミノ基のような塩基性の基を有する場合には酸と反応させることにより、又、カルボキシ基若しくはリン酸基のような酸性基を有する場合には塩基と反応させることにより、塩にすることができるので、その塩を示す。
【０１１３】
塩基性の基に基づく塩は、例えば、フッ化水素酸塩、塩酸塩、臭化水素酸塩、ヨウ化水素酸塩のようなハロゲン化水素酸塩、硝酸塩、過塩素酸塩、硫酸塩、リン酸塩等の無機酸塩；メタンスルホン酸塩、トリフルオロメタンスルホン酸塩、エタンスルホン酸塩のような低級アルカンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、ｐ−トルエンスルホン酸塩のようなアリールスルホン酸塩、酢酸塩、リンゴ酸塩、フマール酸塩、コハク酸塩、クエン酸塩、アスコルビン酸塩、酒石酸塩、シュウ酸塩、マレイン酸塩等の有機酸塩；又はグリシン塩、リジン塩、アルギニン塩、オルニチン塩、グルタミン酸塩、アスパラギン酸塩のようなアミノ酸塩であり得、好適には、有機酸塩（特に、フマール酸塩、シュウ酸塩若しくはマレイン酸塩）又はハロゲン化水素酸塩（特に、塩酸塩）である。
【０１１４】
一方、酸性の基に基づく塩は、例えば、ナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩のようなアルカリ金属塩、カルシウム塩、マグネシウム塩のようなアルカリ土類金属塩、アルミニウム塩、鉄塩等の金属塩；アンモニウム塩のような無機塩、ｔ−オクチルアミン塩、ジベンジルアミン塩、モルホリン塩、グルコサミン塩、フェニルグリシンアルキルエステル塩、エチレンジアミン塩、Ｎ−メチルグルカミン塩、グアニジン塩、ジエチルアミン塩、トリエチルアミン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、Ｎ，Ｎ’−ジベンジルエチレンジアミン塩、クロロプロカイン塩、プロカイン塩、ジエタノ−ルアミン塩、Ｎ−ベンジルフェネチルアミン塩、ピペラジン塩、テトラメチルアンモニウム塩、トリス（ヒドロキシメチル）アミノメタン塩のような有機塩等のアミン塩；又はグリシン塩、リジン塩、アルギニン塩、オルニチン塩、グルタミン酸塩、アスパラギン酸塩のようなアミノ酸塩であり得、好適には、アルカリ金属塩（特に、ナトリウム塩）である。
【０１１５】
本発明の一般式（Ｉ）、（II）又は（III）を有する化合物、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステルは、大気中に放置したり、又は、再結晶をすることにより、水分を吸収し、吸着水が付いたり、水和物となる場合があり、そのような水和物も本発明の塩に包含される。
【０１１６】
本発明の一般式（Ｉ）、（II）又は（III）を有する化合物、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステルは、その分子内に不斉炭素原子を有するので、光学異性体が存在する。本発明の化合物においては、光学異性体および光学異性体の混合物がすべて単一の式、即ち一般式（Ｉ）、（II）又は（III）で示されている。従って、本発明は光学異性体および光学異性体の任意の割合の混合物をもすべて含むものである。
【０１１７】
本発明の一般式（Ｉ）、（II）又は（III）を有する化合物は、好適には、式−ＮＲ¹Ｒ²を有する基が結合している不斉炭素原子に関して、Ｒの絶対配位を有する化合物である。
【０１１８】
上記における「エステル」とは、本発明の化合物（Ｉ）、（II）又は（III）は、エステルにすることができるので、そのエステルをいい、そのようなエステルは、「ヒドロキシ基のエステル」及び「カルボキシ基のエステル」であり、各々のエステル残基が「反応における一般的保護基」又は「生体内で加水分解のような生物学的方法により開裂し得る保護基」であるエステルをいう。
【０１１９】
「反応における一般的保護基」とは、加水素分解、加水分解、電気分解、光分解のような化学的方法により開裂し得る保護基をいう。
【０１２０】
「ヒドロキシ基のエステル」に斯かる「反応における一般的保護基」及び「生体内で加水分解のような生物学的方法により開裂し得る保護基」としては、前記「ヒドロキシ基の保護基」と同意議を示す。
【０１２１】
「カルボキシ基のエステル」に斯かる「反応における一般的保護基」は、好適には、前記「低級アルキル基」；エテニル、１−プロペニル、２−プロペニル、１−メチル−２−プロペニル、１−メチル−１−プロペニル、２−メチル−１−プロペニル、２−メチル−２−プロペニル、２−エチル−２−プロペニル、１−ブテニル、２−ブテニル、１−メチル−２−ブテニル、１−メチル−１−ブテニル、３−メチル−２−ブテニル、１−エチル−２−ブテニル、３−ブテニル、１−メチル−３−ブテニル、２−メチル−３−ブテニル、１−エチル−３−ブテニル、１−ペンテニル、２−ペンテニル、１−メチル−２−ペンテニル、２−メチル−２−ペンテニル、３−ペンテニル、１−メチル−３−ペンテニル、２−メチル−３−ペンテニル、４−ペンテニル、１−メチル−４−ペンテニル、２−メチル−４−ペンテニル、１−ヘキセニル、２−ヘキセニル、３−ヘキセニル、４−ヘキセニル、５−ヘキセニルのような低級アルケニル基；エチニル、２−プロピニル、１−メチル−２−プロピニル、２−メチル−２−プロピニル、２−エチル−２−プロピニル、２−ブチニル、１−メチル−２−ブチニル、２−メチル−２−ブチニル、１−エチル−２−ブチニル、３−ブチニル、１−メチル−３−ブチニル、２−メチル−３−ブチニル、１−エチル−３−ブチニル、２−ペンチニル、１−メチル−２−ペンチニル、２−メチル−２−ペンチニル、３−ペンチニル、１−メチル−３−ペンチニル、２−メチル−３−ペンチニル、４−ペンチニル、１−メチル−４−ペンチニル、２−メチル−４−ペンチニル、２−ヘキシニル、３−ヘキシニル、４−ヘキシニル、５−ヘキシニルのような低級アルキニル基；前記「ハロゲノ低級アルキル」；２−ヒドロキシエチル、２，３−ジヒドロキシプロピル、３−ヒドロキシプロピル、３，４−ジヒドロキシブチル、４−ヒドロキシブチルのようなヒドロキシ「低級アルキル基」；アセチルメチルのような「低級脂肪族アシル」−「低級アルキル基」；前記「アラルキル基」；又は前記「シリル基」である。
【０１２２】
「カルボキシ基のエステル」に斯かる「生体内で加水分解のような生物学的方法により開裂し得る保護基」は、好適には、メトキシエチル、１−エトキシエチル、１−メチル−１−メトキシエチル、１−（イソプロポキシ）エチル、２−メトキシエチル、２−エトキシエチル、１，１−ジメチル−１−メトキシエチル、エトキシメチル、ｎ−プロポキシメチル、イソプロポキシメチル、ｎ−ブトキシメチル、ｔ−ブトキシメチルのような低級アルコキシ低級アルキル基、２−メトキシエトキシメチルのような低級アルコキシ化低級アルコキシ低級アルキル基、フェノキシメチルのような「アリール」オキシ「低級アルキル基」、２，２，２−トリクロロエトキシメチル、ビス（２−クロロエトキシ）メチルのようなハロゲン化低級アルコキシ低級アルキル基等の「アルコキシアルキル基」；メトキシカルボニルメチルのような「「低級アルコキシ」カルボニル「低級アルキル基」」；シアノメチル、２−シアノエチルのような「シアノ「低級アルキル基」」；メチルチオメチル、エチルチオメチルのような「「低級アルキル」チオメチル基」；フェニルチオメチル、ナフチルチオメチルのような「「アリール」チオメチル基」；２−メタンスルホニルエチル、２−トリフルオロメタンスルホニルエチルのような「ハロゲンで置換されていてもよい「低級アルキル」スルホニル「低級アルキル基」」；２−ベンゼンスルホニルエチル、２−トルエンスルホニルエチルのような「「アリール」スルホニル「低級アルキル基」」；前記「１−（アシルオキシ）「低級アルキル基」」；前記「フタリジル基」；前記「アリール基」；前記「低級アルキル基」；カルボキシメチルのような「カルボキシアルキル基」；又はフェニルアラニンのような「アミノ酸のアミド形成残基」である。
【０１２３】
上記「カルボキシ基のエステル」に斯かる「反応における一般的保護基」及び「生体内で加水分解のような生物学的方法により開裂し得る保護基」において、更に好適には、低級アルキル又はアラルキル基である。
【０１２４】
本発明の医薬組成物の有効成分である「免疫抑制剤」は、免疫反応の進行を防止あるいは阻害する薬剤であり、免疫抑制作用を有する化合物で、作用機序に基づき、以下の群に分類される。
【０１２５】
（１）Ｔ細胞のサイトカイン発現に関与する細胞内シグナルの伝達を阻害する作用を有する薬剤であり、細胞内シグナルの伝達を阻害することにより、サイトカインの産生を阻害するようなもの、及びサイトカインシグナルが免疫細胞に作用するのを阻害するものが含まれる。そのようなＴ細胞のサイトカイン発現に関与する細胞内シグナルの伝達を阻害する作用を有する薬剤としては、例えば、
ＵＳ４，１１７，１１８号公報にＳ７４８１／Ｆ−１として記載される化合物又はその薬理上許容される塩[好適には、サイクロスポリンＡ（cyclosporin Ａ）であり、その化学名は、シクロ[３−ヒドロキシ−４−メチル−２−(メチルアミノ)−６−オクテノイル]−２−アミノブチリル−メチルグリシル−メチル−ロイシル−バリル−メチル−ロイシル−アラニル−アラニル−メチル−ロイシル−メチル−ロイシル−メチル−バリルである。]、
ＥＰ１８４，１６２号公報に記載された一般式（Ｉ）を有する化合物又はその薬理上許容される塩[好適には、タクロリムス（tacrolimus）であり、その化学名は、１７−アリル−１，１４−ジヒドロキシ−１２−[２−（４−ヒドロキシ−３−メトキシシクロヘキシル）−１−メチルビニル]−２３，２５−ジメトキシ−１３，１９，２１，２７−テトラメチル−１１，２８−ジオキサ−４−アザトリシクロ[２２．３．１．０ ^4,9]オクタコス−１８−エン−２，３，１０，１６−テトロンである。]、
ＵＳ３，９２９，９９２号公報にラパマイシン(rapamycin)として記載される化合物｛その化学名は、９，１０，１２，１３，１４，２１，２２，２３，２４，２５，２６，２７，３２，３３，３４，３４a−ヘキサデカヒドロ−９，２７−ジヒドロキシ−３−[２−（４−ヒドロキシ−３−メトキシシクロヘキシル）−１−メチルエチル]−１０，２１−ジメトキシ−６，８，１２，１４，２０，２６−ヘキサメチル−２３，２７−エポキシ−３Ｈ−ピリド[２，１−ｃ][１，４]オキサアザシクロヘントリアコンチン−１，５，１１，２８，２９（４Ｈ，６Ｈ，３１Ｈ)−ペントンである。｝、
ＥＰ９４，６３２号公報（特開昭５８−６２１５２号公報）に記載された一般式（II）を有する化合物又はその薬理上許容される塩[好適には、グスペリムス（gusperimus）であり、その化学名は、Ｎ−[４−(３−アミノプロピル)アミノブチル]カルバモイルヒドロキシメチル−７−グアニジノヘプタンアミドであり、本発明のグスペリムスはその薬理上許容される塩（塩酸塩）も含有する。]、
ＵＳ５，９１２，２５３号公報に記載された式（Ｉ）を有する化合物又はその薬理上許容される塩｛好適には、エベロリムス（everolimus）であり、その化学名は、９，１０，１２，１３，１４，２１，２２，２３，２４，２５，２６，２７，３２，３３，３４，３４a−ヘキサデカヒドロ−９，２７−ジヒドロキシ−３−[２−[４−ヒドロキシエトキシ−３−メトキシシクロヘキシル]−１−メチルエチル]−１０，２１−ジメトキシ−６，８，１２，１４，２０，２６−ヘキサメチル−２３，２７−エポキシ−３Ｈ−ピリド[２，１−ｃ][１，４]アザシクロヘントリアコンチン−１，５，１１，２８，２９(４Ｈ，６Ｈ，３１Ｈ)−ペントンである。｝、
ＥＰ６００，７６２号公報に記載された式（Ｉ）を有する化合物又はその薬理上許容される塩｛好適には、トレスペリムス（tresperimus）であり、その化学名は、２−[４−(３−アミノプロピルアミノ)ブチル]アミノカルボニルオキシ−Ｎ−[６−（アミノ イミノメチルアミノヘキシル）アセトアミドであり、本発明のトレスペリムスはその薬理上許容される塩も含有する。]、
Int．J．Immunopharmacol．，vol．２１(５)， ３４９−３５８(１９９９)にLF１５−０１９５として記載される化合物｛アニスペリムス（anisperimus）とも呼ばれ、その化学名は、[(６−グアニジノヘキシル)カルバモイル]メチル[４−（３−アミノブチル）アミノブチル]カルバメ−トである。｝、
ＥＰ６２６，３８５号公報（特許３０７６７２４号公報又は米国特許第５，４９３，０１９号公報）に記載された一般式（Ｉ）を有する化合物又はその薬理上許容される塩｛好適には、ＳＤＺ−２８１−２４０であり、その化学名は、１７−エチル−１，１４−ジヒドロキシ−１２−[２−（４−ヒドロキシ−３−メトキシシクロヘキシル）−１−メチルビニル]−２３，２５−ジメトキシ−１３，１９，２１，２７−テトラメチル−１１，２８−ジオキサ−４−アザトリシクロ[２２．３．１．０ ^4,9]オクタコス−１８−エン−２，３，１０，１６−テトロンであり、本発明のＳＤＺ−２８１−２４０はその薬理上許容される塩も含有する。｝、
ＷＯ９３／０４６８０号公報（ＥＰ６４２，５１６号公報）に記載された一般式（ＶII）を有する化合物又はその薬理上許容される塩｛好適には、ＡＢＴ−２８１であり、その化学名は、１７−エチル−１，１４−ジヒドロキシ−１２−[２−（４−テトラゾリル−３−メトキシシクロヘキシル）−１−メチルビニル]−２３，２５−ジメトキシ−１３，１９，２１，２７−テトラメチル−１１，２８−ジオキサ−４−アザトリシクロ[２２．３．１．０ ^4,9]オクタコス−１８−エン−２，３，１０，１６−テトロンである。｝、
ＥＰ４１４，６３２号公報に記載された一般式（A）を有する化合物又はその薬理上許容される塩｛好適には、チグデリムスであり、その化学名は、シクロ[[３−ヒドロキシ−４−メチル−２−(メチルアミノ)−６−オクテノイル]−Ｌ−２−アミノブチリル−Ｎ−メチルグリシル−Ｎ−メチル−Ｌ−ロイシル−Ｌ−バリル−Ｎ−メチル−Ｌ−ロイシル−Ｌ−アラニル−[３−O−(２−ヒドロキシエチル)−Ｄ−セリル]−Ｎ−メチル−Ｌ−ロイシル−Ｎ−メチル−Ｌ−ロイシル−Ｎ−メチル−Ｌ−バリル]である。｝、
ＷＯ９７／１１０８０号公報に記載された一般式（Ｉ）を有する化合物又はその薬理上許容される塩｛好適には、Ａ−１１９４３５であり、その化学名は、１７−エチル−１，１４−ジヒドロキシ−１２−[２−[４−（アセチルアミノアセチルチオ）−３−メトキシシクロヘキシル]−１−メチルビニル]−２３，２５−ジメトキシ−１３，１９，２１，２７−テトラメチル−１１，２８−ジオキサ−４−アザトリシクロ[２２．３．１．０^4,9]オクタコス−１８−エン−２，３，１０，１６−テトロンである。｝、又は
Bioorg．Med．Chem．Lett．，vol．９(２)，２２７−２３２(１９９９)に記載された１７−エチル−１，１４−ジヒドロキシ−１２−[２−[４−（２−フェニルヒドラジノカルボニルオキシ）−３−メトキシシクロヘキシル]−１−メチルビニル]−２３，２５−ジメトキシ−１３，１９，２１，２７−テトラメチル−１１，２８−ジオキサ−４−アザトリシクロ[２２．３．１．０^4,9]オクタコス−１８−エン−２，３，１０，１６−テトロン
を挙げることができる。
【０１２６】
次に、代表的化合物の平面式を示す。
【０１２７】
【化４０】

【０１２８】
【化４１】

【０１２９】
【化４２】

【０１３０】
（２）免疫細胞中でのヌクレオシド合成を阻害する作用を有する薬剤であり、免疫細胞中でヌクレオシド合成を阻害することにより、リンパ球の増殖を抑制し、非特異的な免疫抑制作用を示す。そのような免疫細胞中でのヌクレオシド合成を阻害する作用を有する薬剤としては、例えば、
ＵＳ３，８８８，８４３号公報の請求項１に記載された化学構造式を有する化合物（ミゾリビンであり、その化学名は、５−ヒドロキシ−１−β−Ｄ−リボフラノシル−１Ｈ−イミダゾ−ル−４−カルボキサミドである。）、
ＵＳ３，０５６，７８５号公報の請求項７に記載された一般式を有する化合物又はその薬理上許容される塩[好適には、アザチオプリンであり、その化学名は、６−[（１−メチル−４−ニトロ−１Ｈ−イミダゾ−ル−５−イル）チオ]−１Ｈ−プリンであり、本発明のアザチオプリンには、その薬理上許容される塩（塩酸塩）も含まれる。]、
ＥＰ２８１，７１３号公報（ＵＳ４，７５３，９３５号公報）に記載された一般式（Ａ）を有する化合物又はその薬理上許容される塩[好適には、ミコフェノ−ル酸であり、その化学名は、６−（１，３−ジヒドロ−４−ヒドロキシ−６−メトキシ−７−メチル−３−オキソ−５−イソベンゾフラニル）−４−メチル−（４Ｅ）−ヘキセン酸 ２−（４−モルフォリニル）エチル エステルである。]、
ＥＰ１３３７６号公報（特開昭６２−７２６１４号公報又はＵＳ４，２８４，７８６号公報）に記載された式（Ｉ）を有する化合物又はその薬理上許容される塩[好適には、レフルノマイドであり、その化学名は、５−メチル−Ｎ−[４−(トリフルオロメチル)フェニル]−４−イソオキサゾ−ルカルボキサミドである。]、
ＷＯ９７／４００２８号公報に記載された一般式（I）を有する化合物又はその薬理上許容される塩｛好適には、メリメンポディブ（merimempodib）であり、その化学名は、[[３−[[[[３−メトキシ−４−（５−オキサゾリル）フェニル]アミノ]カルボニル]アミノ]フェニル]メチル]カルバミン酸 （３ｓ）−テトラヒドロ−３−フラニル エステルである。｝、
ＦＲ２，７２７，６２８号公報に記載された一般式（Ｉ）を有する化合物又はその薬理上許容される塩[好適には、ＨＭＲ−１２７９であり、その化学名は、α−シアノ−Ｎ−(４−シアノフェニル)−β−オキソ−シクロプロパンプロパンアミドである。]、
ＷＯ９３／２２２８６号公報（日本特許２９２８３８５号公報、ＥＰ６０１１９１号公報又はＵＳ５，３７１，２２５号公報）に記載された一般式（Ｉ）を有する化合物又はその薬理上許容される塩｛好適には、ＴＳＫ−２０４であり、その化学名は、６，７−ジヒドロ−１０−フルオロ−３−（２−フルオロフェニル）−５Ｈ−ベンゾ[６，７]シクロヘプタ[１，２−ｂ]キノリン−８−カルボン酸である。｝、又は
ＥＰ５６９，９１２号（公報特開平６−３２７８４号公報）に記載された一般式（Ｉ）を有する化合物又はその薬理上許容される塩｛好適には、ＳＰ−１０００３０であり、その化学名は、２−クロロ−Ｎ−[３，５−ジ(トリフルオロメチル)フェニル]−４−(トリフルオロメチル)ピリミジン−５−カルボキシアミドである。｝
を挙げることができる。
【０１３１】
次に、代表的な化合物の平面式を示す。
【０１３２】
【化４３】

【０１３３】
（３）免疫細胞に対するサイトカインの作用を阻害し抗リウマチ作用を有する薬剤であり、サイトカインの産生抑制の他にリンパ球増殖抑制や免疫グロブリン産生抑制作用を併せ持ち、さらに、該薬剤には、Ｔ細胞増殖抑制作用、ＮＫ細胞活性抑制、ＴＮＦ受容体拮抗作用等も有する化合物も含まれる。そのような免疫細胞に対するサイトカインの作用を阻害し抗リウマチ作用を有する薬剤としては、例えば、
特開平２−４９７７８号公報の特許請求の範囲第（１）項に記載された一般式を有する化合物又はその薬理上許容される塩（好適には、Ｔ−６１４であり、その化学名は、Ｎ−[３−ホルミルアミノ−４−オキソ−６−フェノキシ−４Ｈ−１−ベンゾピラン−７−イル]メタンスルホンアミドである。）、
ＵＳ４，７２０，５０６号公報に記載された一般式（Ｉ）を有する化合物又はその薬理上許容される塩[好適には、アクタリット（actarit）であり、その化学名は、４−（アセチルアミノ）ベンゼン酢酸である。]、
ＵＳ２，３９６，１４５号公報の特許請求の範囲第１項に記載される一般式を有する化合物又はその薬理上許容される塩｛好適には、サラゾスルファピリジン（salazosulfapyridine）であり、その化学名は、５−[[ｐ−(２−ピリジルスルファモイル)−フェニル]アゾ]サルチル酸である。｝、又は
ＷＯ９７／２３４５７号公報に記載された一般式（Ｉ）を有する化合物 [好適には、ＣＤＣ−８０１であり、その化学名は、３−フタルイミド−３−（３−シクロペンチルオキシ−４−メトキシフェニル）プロピオンアミドである。]
を挙げることができる。
【０１３４】
次に、代表的化合物の平面式を示す。
【０１３５】
【化４４】

【０１３６】
（４）ＤＮＡ鎖の破壊又はＤＮＡの合成障害により細胞死を引き起こすアルキル化剤であり、このような薬剤としては、例えば、
ＵＳ３，０１８，３０２号公報に記載された一般式（IIIa）を有する化合物又はその薬理上許容される塩[好適には、シクロフォスファミドであり、その化学名は、Ｎ,Ｎ'−ビス−（２−クロロエチル）テトラヒドロ−２Ｈ−１，３，２−オキサザホスフォリン−２−アミン ２−オキサイドである。]
を挙げることができる。
【０１３７】
【化４５】

【０１３８】
（５）葉酸産生を抑制して核酸代謝を阻害する代謝拮抗剤であり、ジヒドロ葉酸レダクターゼと結合し、核酸成分の合成に不可欠なテトラヒドロ葉酸産生を抑制することにより、核酸代謝を阻害する作用を有する。そのような葉酸産生を抑制して核酸代謝を阻害する代謝拮抗剤としては、例えば、
ＵＳ２，５１２，５７２号公報の請求項１に記載された一般式を有する化合物又はその薬理上許容される塩｛好適には、メトトレキセートであり、その化学名は、Ｎ−[４−[[２，４−ジアミノ−６−プテリジニル]メチル]メチルアミノ] ベンゾイル−Ｌ−グルタミン酸である。｝
を挙げることができる。
【０１３９】
【化４６】

【０１４０】
（６）ＴＮＦ−α抑制作用を有する蛋白質製剤であり、この蛋白質製剤の群には、血中ＴＮＦ−αの中和作用やそのレセプタ−を介した細胞内へのＴＮＦ−αシグナルを阻害することにより、ＴＮＦ−αの作用を抑制する化合物並びにＩＬ−１レセプタ−アンタゴニスト、可溶性ＩＬ−１レセプタ−及び抗ＩＬ−６レセプタ−抗体が含まれる。そのようなＴＮＦ−α抑制作用を有する蛋白質製剤としては、例えば、
ＵＳ５，６５６，２７２号公報及びDrugs，vol．５９(６)，１３４１−１３５９ (２０００)に記載されるレミケ−ド（infliximab）、
ＷＯ９４／０６，４７６号公報、ＵＳ５，６０５，６９０号公報及びExpert． Opin． Pharmacother．，July vol．２(７)，１１３７−１１４８(２００１)に記載されるエンブレル（etanercept）、
ＷＯ９２／１１０１８号公報，ＵＳ５，５３０，１０１号公報及び N． Engl． J． Med．，vol．３３８(３)，１６１−１６５(１９９７)に記載されるダクリズマブ（daclizumab）、
ＥＰ４４９，７６９号公報及びClin．Pharmacol．Ther．，vol．６４(１)，６６−７２(１９９８)に記載されるバシリキシマブ（basiliximab）、
ＷＯ８９／０７４５２号公報、ＵＳ５，８４６，５３４号公報及び J．Clin．Oncol．，vol．１５(４)，１５６７−１５７４(１９９７)に記載されるアルムツズマブ（alemtuzumab）、
ＵＳ５，９６５，７０９号公報及びDrugs vol．６１(２)，２５３−６０(２００１)に記載されるオマリズマブ（omalizumab）、
ＥＰ６１３，９４４号公報及び J．Pharm．Sci．，vol．８４(１２)，１４８８−１４８９ (１９９５)に記載されるＢＭＳ−１８８６６７、
Arthritis−Rheum．vol．３７(９)，Suppl．，S２９５，(１９９４)に記載されるＣＤＰ−５７１、
Transplant，June vol．５５，１３２０−１３２７(１９９３)に記載されるイノリモマブ（inolimomab）、
ＡＴＭ−０２７及び
Blood，Dec１，vol．９２(１１)，４０６６−４０７１(１９９８)に記載されるＢＴＩ−３２２
を挙げることができる。
【０１４１】
（７）細胞内のステロイドレセプタ−に結合して複合体を形成し、染色体上の反応部位に結合することにより合成された蛋白質により免疫抑制作用を示すステロイドホルモン剤であり、そのような薬剤として、例えば、プレドニゾロン（その化学名は、１，４−プレグナジエン−３，２０−ジオン−１１β，１７α−２１トリオ−ルである。）を挙げることができる。
【０１４２】
【化４７】

【０１４３】
（８）プロスタグランジンの産生を抑制する物質及び／又はプロスタグランジンの作用に拮抗する非ステロイド系抗炎症剤であり、そのような薬剤として、例えば、
特公昭５８−４６９９号公報の特許請求の範囲第１項に記載された一般式を有する化合物又はその薬理上許容される塩｛好適には、ロキソプロフェンナトリウムであり、その化学名は、２−［４−（２−オキソシクロペンタン−１−イルメチル）フェニル］プロピオン酸ナトリウムである。｝、
ＵＳ３，５５８，６９０号公報に記載された一般式Ｉ（Ａ）を有する化合物又はその薬理上許容される塩｛好適には、ジクロフェナックナトリウムであり、その化学名は、［ｏ−（２，６−ジクロロアニリノ）フェニル］酢酸ナトリウムである。｝、
ＵＳ４，２３３，２９９号公報（ＥＰ０，００２，４８２号公報又は特開昭５８−９２９７６号公報）に記載された一般式（Ｉ）を有する化合物又はその薬理上許容される塩［好適には、メロキシカムであり、その化学名は、４−ヒドロキシ−２−メチル−Ｎ−（５−メチル−２−チアゾリル）−２Ｈ−１，２−ベンゾチアジン−３−カルボキサミド−１，１−ジオキサイドである。］、
ＷＯ９５／１５３１６号公報（ＵＳ５，５２１，２０７号公報又は特開２０００−１０９４６６号公報）に記載された一般式（ＩＩ）を有する化合物又はその薬理上許容される塩｛好適には、セレコキシブであり、その化学名は、４−［５−（４−メチルフェニル）−３−（トリフルオロメチル）ピラゾール−１−イル］ベンゼンスルホンアミドである。｝又は
ＷＯ９５／００５０１号公報（ＵＳ５，４７４，９９５号公報）に記載された一般式（Ｉ）を有する化合物又はその薬理上許容される塩｛好適には、ロフェコキシブであり、その化学名は、４−［４−（メチルスルホニル）フェニル］−３−フェニル−２（５Ｈ）−フラノンである。｝
を挙げることができる。
【０１４４】
【化４８】

【０１４５】
上記免疫抑制剤において、さらに好適には、サイクロスポリンＡ、タクロリムス、ラパマイシン、レフルノマイド、メトトレキセ−ト、レミケ−ド及びエンブレルを挙げることができる。
【０１４６】
上記における「薬理上許容される塩」は、上記免疫抑制剤が、アミノ基のような塩基性の基を有する場合には酸と反応させることにより、又、カルボキシ基のような酸性基を有する場合には塩基と反応させることにより、得られる塩であり、以下の塩を包含する。
【０１４７】
塩基性の基に基づく塩は、好適には、フッ化水素酸塩、塩酸塩、臭化水素酸塩、ヨウ化水素酸塩のようなハロゲン化水素酸塩、硝酸塩、過塩素酸塩、硫酸塩、リン酸塩等の無機酸塩；メタンスルホン酸塩、トリフルオロメタンスルホン酸塩、エタンスルホン酸塩のような低級アルカンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、ｐ−トルエンスルホン酸塩のようなアリールスルホン酸塩、酢酸塩、リンゴ酸塩、フマール酸塩、コハク酸塩、クエン酸塩、アスコルビン酸塩、酒石酸塩、シュウ酸塩、マレイン酸塩等の有機酸塩；及び、グリシン塩、リジン塩、アルギニン塩、オルニチン塩、グルタミン酸塩、アスパラギン酸塩のようなアミノ酸塩であり、更に好適には、塩酸塩、酢酸塩、フマール酸塩、コハク酸塩又はマレイン酸塩である。
【０１４８】
一方、酸性の基に基づく塩は、好適には、ナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩のようなアルカリ金属塩、カルシウム塩、マグネシウム塩のようなアルカリ土類金属塩、アルミニウム塩、鉄塩等の金属塩；アンモニウム塩のような無機塩、ｔ−オクチルアミン塩、ジベンジルアミン塩、モルホリン塩、グルコサミン塩、フェニルグリシンアルキルエステル塩、エチレンジアミン塩、Ｎ−メチルグルカミン塩、グアニジン塩、ジエチルアミン塩、トリエチルアミン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、Ｎ，Ｎ’−ジベンジルエチレンジアミン塩、クロロプロカイン塩、プロカイン塩、ジエタノ−ルアミン塩、Ｎ−ベンジルフェネチルアミン塩、ピペラジン塩、テトラメチルアンモニウム塩、トリス（ヒドロキシメチル）アミノメタン塩のような有機塩等のアミン塩；及び、グリシン塩、リジン塩、アルギニン塩、オルニチン塩、グルタミン酸塩、アスパラギン酸塩のようなアミノ酸塩であり、更に好適には、ナトリウム塩、カリウム塩、カルシウム塩、マグネシウム塩又はアルミニウム塩である。
【０１４９】
本発明の医薬組成物の有効成分である免疫抑制剤は、大気中に放置したり、又は、再結晶をすることにより、水分を吸収し、吸着水が付いたり、水和物となる場合があり、そのような水和物も本発明の塩に包含される。
【０１５０】
本発明の医薬組成物の有効成分である免疫抑制剤は、その分子内に不斉炭素原子が存在する場合、種々の異性体を有する。本発明の化合物においては、これらの異性体およびこれらの異性体の混合物がすべて単一の式で示されている。従って、本発明はこれらの異性体およびこれらの異性体の任意の割合の混合物をもすべて含むものである。
【０１５１】
本発明の一般式（Ｉ）、（II）又は（III）を有する化合物の具体例としては、例えば、下記表１、表２、表３、表４、表５、表６、表７及び表８に記載の化合物を挙げることができるが、本発明は、これらの化合物に限定されるものではない。なお、表１及び表２で同一の化合物番号で表される化合物は、ＸがＳ、Ｏ又はＮ−ＣＨ₃の３つの化合物を、表５及び表６で同一の化合物番号で表される化合物は、ＸがＳ、Ｏ又はＮ−ＣＨ₃であり、リン酸基がＯ又はＣＨ₂に結合する６つの化合物を示す。
【０１５２】
表中の略号は以下の通りである。
Ｂｕ ： ブチル基
ｉＢｕ ： イソブチル基
Ｂｚ ： ベンジル基
Ｅｔ ： エチル基
ｃＨｘ ： シクロヘキシル基
Ｍｅ ： メチル基
Ｎｐ（１） ： ナフタレン−１−イル基
Ｎｐ（２） ： ナフタレン−２−イル基
Ｐｈ ： フェニル基
ｃＰｎ ： シクロペンチル基
Ｐｒ ： プロピル基
ｉＰｒ ： イソプロピル基。
【０１５３】
【化４９】

【０１５４】
【表１】

【０１５５】
【化５０】

【０１５６】
【表２】

【０１５７】
【化５１】

【０１５８】
【表３】

【０１５９】
【化５２】

【０１６０】
【表４】

【０１６１】
【化５３】

【０１６２】
【表５】

【０１６３】
【化５４】

【０１６４】
【表６】

【０１６５】
【化５５】

【０１６６】
【表７】

【０１６７】
【化５６】

【０１６８】
【表８】

上記表１[式（Ｉａ−1）、（Ｉａ−２）及び（１ａ−３）]、表２[（Ｉｂ−１）、（Ｉｂ−２）及び（１ｂ−３）]、表３［（１ａ−４）］並びに表４［（１ａ−５）］において、
本発明の化合物（Ｉ）として好適には、
例示化合物番号：1-21, 1-30〜1-46, 1-93〜1-152, 1-199〜1-253, 1-263〜1-272, 1-283〜1-298, 1-345〜1-401, 1-411〜1-426, 1-473〜1-528, 1-548〜1-549, 1-559〜1-574, 1-621〜1-680, 1-727〜1-781, 1-791〜1-801, 1-831〜1-836, 1-896〜1-949, 1-959〜1-974, 1-1021〜1-1078, 1-1081〜1-1083, 1-1093〜1-1103, 1-1113〜1-1127, 1-1137〜1-1152, 1-1199〜1-1255, 1-1265〜1-1280, 1-1327〜1-1389, 1-1399〜1-1409, 1-1419〜1-1430, 1-1433, 1-1433〜1-1445, 1-1457〜1-1466, 1-1484〜1-1512, 1-1531〜1-1555, 1-1558〜1-1565, 1-1584〜1-1612, 1-1630〜1-1654, 1-1657〜1-1664, 1-1683〜1-1729, 1-1743〜1-1949,
2-1〜2-10, 2-28〜2-56, 2-75〜2-99, 2-104〜2-111, 2-130〜2-158, 2-176〜2-200, 2-203〜2-210, 2-229〜2-281,
4-9〜4-12
を挙げることができ、より好適には、
1-21, 1-31〜1-38, 1-41〜1-46, 1-93〜1-105, 1-112〜1-117, 1-142〜1-144, 1-147〜1-152, 1-199〜1-211, 1-248〜1-250, 1-253, 1-263〜1-269, 1-284〜1-289, 1-293〜1-298, 1-345〜1-357, 1-364〜1-369, 1-394〜1-401, 1-411〜1-417, 1-421〜1-426, 1-474〜1-485, 1-492〜1-497, 1-522〜1-528, 1-549, 1-559〜1-565, 1-568〜1-574, 1-621〜1-633, 1-640，1-643，1-670〜1-672, 1-676〜1-680, 1-727〜1-739, 1-776〜1-778, 1-781, 1-831〜1-838, 1-842〜1-846, 1-893〜1-905, 1-912〜1-917, 1-942〜1-946, 1-949, 1-959〜1-965, 1-970〜1-974,
1-1021〜1-1033, 1-1040〜1-1045, 1-1070〜1-1073, 1-1081〜1-1083, 1-1093〜1-1099, 1-1103, 1-1113〜1-1119, 1-1148〜1-1152, 1-1199〜1-1211, 1-1248〜1-1252, 1-1265〜1-1271, 1-1276〜1-1280, 1-1327〜1-1339, 1-1376〜1-1380, 1-1433, 1-1443〜1-1445, 1-1459〜1-1466, 1-1484〜1-1499, 1-1504〜1-1512, 1-1558〜1-1565, 1-1584〜1-1599, 1-1604〜1-1612, 1-1630〜1-1639, 1-1657〜1-1658, 1-1660〜1-1664, 1-1683〜1-1692, 1-1702〜1-1710, 1-1743〜1-1773, 1-1796〜1-1846, 1-1848〜1-1876, 1-1886〜1-1904,
2-3〜2-10, 2-28〜2-37, 2-52〜2-56, 2-75〜2-84, 2-88〜2-90, 2-95〜2-99, 2-104〜2-111, 2-130〜2-139, 2-143〜2-146, 2-150〜2-158, 2-176〜2-185, 2-189〜2-191, 2-196〜2-200, 2-203〜2-210, 2-229〜2-238, 2-242〜2-244, 2-248〜2-252,
4-9〜4-12
を挙げることができ、更に好適には、
1-21, 1-42, 1-93〜1-105, 1-112〜1-117, 1-142〜1-144, 1-147〜1-152, 1-199〜1-211, 1-248〜1-250, 1-294〜1-298, 1-351, 1-367, 1-411, 1-549, 1-559〜1-565, 1-569〜1-574, 1-621〜1-633, 1-643, 1-670〜1-672, 1-676〜1-680, 1-831〜1-838, 1-842〜1-846, 1-893〜1-905, 1-912〜1-917, 1-942〜1-944, 1-949, 1-1021, 1-1081〜1-1083, 1-1093〜1-1099, 1-1462, 1-1558〜1-1565, 1-1584〜1-1599, 1-1604〜1-1612, 1-1660〜1-1664, 1-1707〜1-1710, 1-1762〜1-1773, 1-1816〜1-1846, 1-1848〜1-1859, 1-1886〜1-1904,
4-9〜4-12
を挙げることができ、更により好適には、
例示化合物番号 式Ia-1における1-93：２−アミノ−２−メチル−４−［５−（５−フェニルペンチル）フラン−２−イル]ブタン−１−オール、
例示化合物番号 式Ia-1における1-570：２−アミノ−２−メチル−４−[５−（５−シクロヘキシルペント−１−イニル）フラン−２−イル]ブタン−１−オール、
例示化合物番号 式Ia-1における1-621：２−アミノ−２−メチル−４−[５−（５−フェニルペント−１−イニル）フラン−２−イル]ブタン−１−オール、
例示化合物番号 式Ia-1における1-833：２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−（４−メチルフェノキシ）プロプ−１−イニル]フラン−２−イル｝ブタン−１−オール、
例示化合物番号 式Ia-1における1-842：２−アミノ−２−メチル−４−[５−（４−シクロヘキシルオキシブト−１−イニル）フラン−２−イル]ブタン−１−オール、
例示化合物番号 式Ia-1における1-1083：２−アミノ−２−メチル−４−[５−（５−シクロヘキシルペンタノイル）フラン−２−イル]ブタン−１−オール、
例示化合物番号 式Ia-1における1-1836：２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−（３，４−ジメチルフェノキシ）プロプ−１−イニル]フラン−２−イル｝ブタン−１−オール、
例示化合物番号 式Ia-1における1-628：２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[５−（４−クロロフェニル）ペント−１−イニル]フラン−２−イル｝ブタン−１−オール、
例示化合物番号 式Ia-1における1-640：２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[５−（３−トリフルオロメチルフェニル）ペント−１−イニル]フラン−２−イル｝ブタン−１−オール、
例示化合物番号 式Ia-1における1-835：２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−（４−トリフルオロメチルフェノキシ）プロプ−１−イニル]フラン−２−イル｝ブタン−１−オール、
例示化合物番号 式Ia-1における1-1831：２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−（４−クロロフェノキシ）プロプ−１−イニル]フラン−２−イル｝ブタン−１−オール、
例示化合物番号 式Ia-1における1-1838：２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−（３−トリフルオロメチルフェノキシ）プロプ−１−イニル]フラン−２−イル｝ブタン−１−オール、
例示化合物番号 式Ia-1における1-1842：２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−（３，４−ジメトキシフェノキシ）プロプ−１−イニル]フラン−２−イル｝ブタン−１−オール、
例示化合物番号 式Ia-2における1-621：２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（５−フェニルペント−１−イニル）ピロール−２−イル]ブタン−１−オール、
例示化合物番号 式Ia-2における1-833：２−アミノ−２−メチル−４−｛１−メチル−５−[３−（４−メチル）フェノキシプロプ−１−イニル]ピロール−２−イル｝ブタン−１−オール、
例示化合物番号 式Ia-2における1-842：２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（４−シクロヘキシルオキシブト−１−イニル）ピロール−２−イル]ブタン−１−オール、
例示化合物番号 式Ia-2における1-1836：２−アミノ−２−メチル−４−｛１−メチル−５−[３−（３，４−ジメチルフェノキシ）プロプ−１−イニル]ピロール−２−イル｝ブタン−１−オール、
例示化合物番号 式Ia-2における1-93：２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（５−フェニルペンチル）ピロール−２−イル]ブタン−１−オール、
例示化合物番号 式Ia-2における1-1093：２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル]ブタン−１−オール、
例示化合物番号 式Ia-2における1-1890：２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−[５−（４−クロロフェニル）ペンタノイル]ピロール−２−イル]ブタン−１−オール、
例示化合物番号 式Ia-2における1-1896：２−アミノ−２−メチル−４−｛１−メチル−５−[５−（３−トリフルオロメチルフェニル）ペンタノイル]ピロール−２−イル｝ブタン−１−オール、
例示化合物番号 式Ia-2における1-1083：２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（５−シクロヘキシルペンタノイル）ピロール−２−イル]ブタン−１−オール、
例示化合物番号 式Ia-2における1-1082：２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（４−フェニルブタノイル）ピロール−２−イル]ブタン−１−オール、
例示化合物番号 式Ia-2における1-1081：２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（４−シクロヘキシルブタノイル）ピロール−２−イル]ブタン−１−オール、
例示化合物番号 式Ia-5における4-12：２−アミノ−２−メチル−４−[１−エチル−５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル]ブタン−１−オール、
例示化合物番号 式Ia-5における4-11：２−アミノ−２−メチル−４−[１−エチル−５−（５−シクロヘキシルペンタノイル）ピロール−２−イル]ブタン−１−オール、
例示化合物番号 式Ia-5における4-10：２−アミノ−２−メチル−４−[１−エチル−５−（４−フェニルブタノイル）ピロール−２−イル]ブタン−１−オール、
例示化合物番号 式Ia-5における4-9：２−アミノ−２−メチル−４−[１−エチル−５−（４−シクロヘキシルブタノイル）ピロール−２−イル]ブタン−１−オール、
例示化合物番号 式Ia-3における1-21：２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−シクロヘキシルブチル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-42：２−アミノ−２−メチル−４−[５−(５−シクロヘキシルペンチル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-93：２−アミノ−２−メチル−４−[５−(５−フェニルペンチル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-294：２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−シクロヘキシルオキシブチル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-351：２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(４−フルオロフェノキシ)ブチル]チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-367：２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(４−メトキシフェノキシ)ブチル]チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-473：２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−ベンジルオキシブチル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-549：２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−シクロヘキシルブト−１−イニル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-559：２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−フェニルブト−１−イニル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-570：２−アミノ−２−メチル−４−[５−(５−シクロヘキシルペント−１−イニル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-621：２−アミノ−２−メチル−４−[５−(５−フェニルペント−１−イニル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-627：２−アミノ−２−メチル−４−[５−[５−(４−フルオロフェニル)ペント−１−イニル]チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-643：２−アミノ−２−メチル−４−[５−[５−(４−メトキシフェニル)ペント−１−イニル]チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-833：２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(４−メチルフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-834：２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(４−エチルフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-838：２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(４−メチルチオフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-842：２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−シクロヘキシルオキシブト−１−イニル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-899：２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(４−フルオロフェノキシ)ブト−１−イニル]チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-903：２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(４−メチルフェノキシ)ブト−１−イニル]チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-949：２−アミノ−２−メチル−４−[５−(３−シクロヘキシルメトキシプロプ−１−イニル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-1021：２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−ベンジルオキシブト−１−イニル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-1081：２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−シクロヘキシルブタノイル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-1082：２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−フェニルブタノイル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-1083：２−アミノ−２−メチル−４−[５−(５−シクロヘキシルペンタノイル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-1093：２−アミノ−２−メチル−４−[５−(５−フェニルペンタノイル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-1094：２−アミノ−２−メチル−４−[５−[５−(４−フルオロフェニル)ペンタノイル]チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-1462：２−アミノ−２−エチル−４−[５−(５−シクロヘキシルペンチル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-1561：２−アミノ−２−エチル−４−[５−(５−シクロヘキシルペント−１−イニル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-1707：２−アミノ−２−エチル−４−[５−(５−シクロヘキシルペンタノイル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-1831：２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(４−クロロフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-1834：２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(３−メチルフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-1836：２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(３,４−ジメチルフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-1841：２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(３−メトキシフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]ブタン−1−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-1842：２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(３,４−ジメトキシフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-1843：２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(３,５−ジメトキシフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-1845：２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(３−アセチルフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル及び
例示化合物番号 式Ia-3における1-1846：２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(４−アセチルフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル
を挙げることができ、特に好適には、
例示化合物番号 式Ia-1における1-93：２−アミノ−２−メチル−４−[５−（５−フェニルペンチル）フラン−２−イル]ブタン−１−オール、
例示化合物番号 式Ia-1における1-570：２−アミノ−２−メチル−４−[５−（５−シクロヘキシルペント−１−イニル）フラン−２−イル]ブタン−１−オール、
例示化合物番号 式Ia-1における1-621：２−アミノ−２−メチル−４−[５−（５−フェニルペント−１−イニル）フラン−２−イル]ブタン−１−オール、
例示化合物番号 式Ia-1における1-842：２−アミノ−２−メチル−４−[５−（４−シクロヘキシルオキシブト−１−イニル）フラン−２−イル]ブタン−１−オール、
例示化合物番号 式Ia-1における1-1083：２−アミノ−２−メチル−４−[５−（５−シクロヘキシルペンタノイル）フラン−２−イル]ブタン−１−オール、
例示化合物番号 式Ia-1における1-1836：２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−（３，４−ジメチルフェノキシ）プロプ−１−イニル]フラン−２−イル｝ブタン−１−オール、
例示化合物番号 式Ia-2における1-621：２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（５−フェニルペント−１−イニル）ピロール−２−イル]ブタン−１−オール、
例示化合物番号 式Ia-2における1-833：２−アミノ−２−メチル−４−｛１−メチル−５−[３−（４−メチル）フェノキシプロプ−１−イニル]ピロール−２−イル｝ブタン−１−オール、
例示化合物番号 式Ia-2における1-842：２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（４−シクロヘキシルオキシブト−１−イニル）ピロール−２−イル]ブタン−１−オール
例示化合物番号 式Ia-2における1-1093：２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル]ブタン−１−オール、
例示化合物番号 式Ia-2における1-1836：２−アミノ−２−メチル−４−｛１−メチル−５−[３−（３，４−ジメチル）フェノキシプロプ−１−イニル]ピロール−２−イル｝ブタン−１−オール、
例示化合物番号 式Ia-2における1-1083：２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（５−シクロヘキシルペンタノイル）ピロール−２−イル]ブタン−１−オール、
例示化合物番号 式Ia-2における1-1082：２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（４−フェニルブタノイル）ピロール−２−イル]ブタン−１−オール、
例示化合物番号 式Ia-2における1-1081：２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（４−シクロヘキシルブタノイル）ピロール−２−イル]ブタン−１−オール、
例示化合物番号 式Ia-5における4-12：２−アミノ−２−メチル−４−[１−エチル−５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル]ブタン−１−オール、
例示化合物番号 式Ia-5における4-11：２−アミノ−２−メチル−４−[１−エチル−５−（５−シクロヘキシルペンタノイル）ピロール−２−イル]ブタン−１−オール、
例示化合物番号 式Ia-5における4-10：２−アミノ−２−メチル−４−[１−エチル−５−（４−フェニルブタノイル）ピロール−２−イル]ブタン−１−オール、
例示化合物番号 式Ia-5における4-9：２−アミノ−２−メチル−４−[１−エチル−５−（４−シクロヘキシルブタノイル）ピロール−２−イル]ブタン−１−オール、
例示化合物番号 式Ia-3における1-21：２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−シクロヘキシルブチル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-42：２−アミノ−２−メチル−４−[５−(５−シクロヘキシルペンチル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-93：２−アミノ−２−メチル−４−[５−(５−フェニルペンチル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-294：２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−シクロヘキシルオキシブチル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-351：２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(４−フルオロフェノキシ)ブチル]チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-367：２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(４−メトキシフェノキシ)ブチル]チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-473：２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−ベンジルオキシブチル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-549：２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−シクロヘキシルブト−１−イニル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-559：２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−フェニルブト−１−イニル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-570：２−アミノ−２−メチル−４−[５−(５−シクロヘキシルペント−１−イニル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-621：２−アミノ−２−メチル−４−[５−(５−フェニルペント−１−イニル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-627：２−アミノ−２−メチル−４−[５−[５−(４−フルオロフェニル)ペント−１−イニル]チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-643：２−アミノ−２−メチル−４−[５−[５−(４−メトキシフェニル)ペント−１−イニル]チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-833：２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(４−メチルフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-834：２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(４−エチルフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-838：２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(４−メチルチオフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-842：２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−シクロヘキシルオキシブト−１−イニル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-899：２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(４−フルオロフェノキシ)ブト−１−イニル]チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-903：２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(４−メチルフェノキシ)ブト−１−イニル]チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-949：２−アミノ−２−メチル−４−[５−(３−シクロヘキシルメトキシプロプ−１−イニル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-1021：２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−ベンジルオキシブト−１−イニル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-1081：２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−シクロヘキシルブタノイル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-1082：２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−フェニルブタノイル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-1083：２−アミノ−２−メチル−４−[５−(５−シクロヘキシルペンタノイル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-1093：２−アミノ−２−メチル−４−[５−(５−フェニルペンタノイル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-1094：２−アミノ−２−メチル−４−[５−[５−(４−フルオロフェニル)ペンタノイル]チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-1462：２−アミノ−２−エチル−４−[５−(５−シクロヘキシルペンチル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-1561：２−アミノ−２−エチル−４−[５−(５−シクロヘキシルペント−１−イニル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-1707：２−アミノ−２−エチル−４−[５−(５−シクロヘキシルペンタノイル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-1831：２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(４−クロロフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-1834：２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(３−メチルフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-1836：２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(３,４−ジメチルフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-1841：２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(３−メトキシフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-1842：２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(３,４−ジメトキシフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-1843：２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(３,５−ジメトキシフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
例示化合物番号 式Ia-3における1-1845：２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(３−アセチルフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル及び
例示化合物番号 式Ia-3における1-1846：２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(４−アセチルフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル
を挙げることができる。
【０１６９】
上記表５[式（ＩＩａ−1）、（ＩＩａ−２）及び（ＩＩａ−３）]、表６[（ＩＩｂ−１）、（ＩＩｂ−２）及び（ＩＩｂ−３）]並びに表７［（ＩＩａ−４）］において、
本発明の化合物（ＩＩ）として好適には、
例示化合物番号：5-19, 5-23〜5-32, 5-36〜5-45, 5-49〜5-58, 5-62〜5-71, 5-75〜5-84, 5-88〜5-102, 5-106〜5-156, 5-160〜5-214, 5-218〜5-268, 5-272〜5-321, 5-325〜5-334, 5-338〜5-347, 5-351〜5-360, 5-364〜5-373, 5-377〜5-386, 5-390〜5-404, 5-408〜5-458, 5-462〜5-513, 5-517〜5-526, 5-530〜5-544, 5-548〜5-598, 5-602〜5-657, 5-670, 5-674〜5-683, 5-696, 5-700〜5-717, 5-721〜5-730, 5-734〜5-743, 5-747〜5-756, 5-760〜5-774, 5-778〜5-828, 5-832〜5-886, 5-890〜5-940, 5-944〜5-993, 5-997〜5-1006, 5-1010〜5-1019, 5-1045, 5-1049〜5-1058, 5-1062〜5-1076, 5-1080〜5-1130, 5-1134〜5-1185, 5-1189〜5-1198, 5-1202〜5-1208, 5-1212〜5-1216, 5-1220〜5-1270, 5-1274〜5-1331, 5-1335〜5-1344, 5-1348〜5-1357, 5-1361〜5-1370, 5-1374〜5-1387, 5-1391〜5-1400, 5-1404〜5-1418, 5-1422〜5-1472, 5-1476〜5-1527, 5-1531〜5-1540, 5-1544〜5-1558, 5-1562〜5-1612, 5-1616〜5-1673, 5-1677〜5-1686, 5-1690〜5-1699, 5-1703〜5-1712, 5-1716〜5-1729, 5-1733〜5-1744, 5-1748〜5-1768, 5-1772〜5-1793, 5-1797〜5-1820, 5-1824〜5-1846, 5-1850〜5-1869, 5-1872, 5-1876, 5-1880, 5-1884, 5-1888〜5-1892, 5-1896, 5-1900, 5-1908〜5-1913, 5-1917〜5-1939, 5-1943〜5-1966, 5-1970〜5-1991, 5-1995〜5-2013, 5-2017, 5- 2021, 5-2025, 5-2029, 5-2033, 5-2037〜5-2042, 5-2046〜5-2068, 5-2072〜5-2089, 5-2093, 5-2097, 5-2101, 5-2105, 5-2109, 5-2113, 5-2117, 5-2121, 5-2125, 5-2129, 5-2133, 5-2135, 5-2139〜5-2158, 5-2161〜5-2164, 5-2185〜5-2346, 5-2398〜5-2557,
6-9〜6-18, 6-22〜6-43, 6-47〜6-70, 6-74〜6-96, 6-100〜6-119, 6-142, 6-146, 6-150, 6-154, 6-158〜6-163, 6-167〜6-183, 6-185〜6-189, 6-193〜6-216, 6-220〜6-241, 6-245〜6-263, 6-267, 6-271, 6-275, 6-279, 6-283, 6-287〜6-292, 6-296〜6-318, 6-322〜6-338, 6-343, 6-347, 6-351, 6-371, 6-375〜6-377, 6-381〜6-407, 6-416〜6-511，
7-9〜7-12
であり、更に好適には、
5-19, 5-32, 5-36〜5-45, 5-57, 5-62〜5-71, 5-84, 5-88, 5-97〜5-100, 5-152〜5-154, 5-160〜5-214, 5-218〜5-227, 5-264〜5-268, 5-272〜5-321, 5-334, 5-347, 5-360, 5-373, 5-386, 5-390〜5-402, 5-454〜5-458, 5-462〜5-513, 5-526, 5-530〜5-542, 5-594〜5-598, 5-602〜5-653, 5-743, 5-756, 5-760〜5-768, 5-770〜5-774, 5-778〜5-828, 5-832〜5-886, 5-890〜5-940, 5-944〜5-993, 5-1045, 5-1058, 5-1062〜5-1074, 5-1126〜5-1130, 5-1134〜5-1185, 5-1198, 5-1202〜5-1208, 5-1212〜5-1214, 5-1266〜5-1270, 5-1274〜5-1331, 5-1344, 5-1348〜5-1357, 5-1370, 5-1374〜5-1387, 5-1400, 5-1404〜5-1416, 5-1468〜5-1472, 5-1476〜5-1527, 5-1540, 5-1544〜5-1556, 5-1608〜5-1612, 5-1616〜5-1666, 5-1729, 5-1742, 5-1744, 5-1759〜5-1767, 5-1789〜5-1793, 5-1797〜5-1818, 5-1842〜5-1846, 5-1900, 5-1908〜5-1913, 5-1935〜5-1939, 5-1943〜5-1966, 5-1987〜5-1991, 5-2013, 5-2017, 5-2029, 5-2033, 5-2037〜5-2042, 5-2064〜5-2068, 5-2072〜5-2089, 5-2093, 5-2097, 5-2101, 5-2105, 5-2109, 5-2129, 5-2133, 5-2135, 5-2185〜5-2346, 5-2398〜5-2557,
6-11〜6-18, 6-39〜6-43, 6-47〜6-70, 6-185〜6-189, 6-193〜6-216, 6-287〜6-292, 6-338, 6-343, 6-347, 6-351, 6-416〜6-511，7-9〜7-12
であり、より好適には、
5-45, 5-71, 5-84, 5-88, 5-97〜5-100, 5-152〜5-154, 5-160〜5-206, 5-209〜5-212, 5-264〜5-266, 5-334, 5-373, 5-386, 5-390〜5-402, 5-454〜5-458, 5-462〜5-485, 5-509, 5-510, 5-513, 5-526, 5-530〜5-542, 5-594〜5-598, 5-602〜5-613, 5-649, 5-650, 5-743, 5-756, 5-760〜5-768, 5-770〜5-772, 5-824〜5-828, 5-832〜5-884, 5-936, 5-1045, 5-1058, 5-1062〜5-1074, 5-1126〜5-1130, 5-1134〜5-1145, 5-1148〜5-1151, 5-1162, 5-1163, 5-1179〜5-1182, 5-1185, 5-1198, 5-1202〜5-1208, 5-1212, 5-1213, 5-1214, 5-1266〜5-1270, 5-1274〜5-1285, 5-1288〜5-1291, 5-1319〜5-1322, 5-1329〜5-1331, 5-1344, 5-1348〜5-1357, 5-1370, 5-1387, 5-1400, 5-1404〜5-1416, 5-1468〜5-1472, 5-1476〜5-1487, 5-1490〜5-1493, 5-1504, 5-1505, 5-1521〜5-1524, 5-1527, 5-1540, 5-1544〜5-1556, 5-1608〜5-1612, 5-1616〜5-1627, 5-1663, 5-1664, 5-1729, 5-1742, 5-1744, 5-1761〜5-1766, 5-1789〜5-1791, 5-1815〜5-1818, 5-1900, 5-1909, 5-1962, 5-2064〜5-2066, 5-2089, 5-2093, 5-2097, 5-2101, 5-2105, 5-2133, 5-2216〜5-2288, 5-2290〜5-2346, 5-2398〜5-2557,7-9〜7-12
であり、更により好適な化合物は、
例示化合物番号 式IIa-1における5-84：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−（５−フェニルペンチル）フラン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-1における5-770：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−（５−シクロヘキシルペント−１−イニル）フラン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-1における5-824：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−（５−フェニルペント−１−イニル）フラン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-1における5-1063：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−（４−メチルフェノキシ）プロプ−１−イニル]フラン−２−イル｝−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-1における5-1072：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−（４−シクロヘキシルオキシブト−１−イニル）フラン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-1における5-1331：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−（５−シクロヘキシルペンタノイル）フラン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-1における5-2278：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−（３，４−ジメチルフェノキシ）プロプ−１−イニル]フラン−２−イル｝−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-1における5-834：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[５−（４−クロロフェニル）ペント−１−イニル]フラン−２−イル｝−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-1における5-846：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[５−（３−トリフルオロメチルフェニル）ペント−１−イニル]フラン−２−イル｝−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-1における5-1065：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−（４−トリフルオロメチルフェノキシ）プロプ−１−イニル]フラン−２−イル｝−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-1における5-2273：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−（４−クロロフェノキシ）プロプ−１−イニル]フラン−２−イル｝−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-1における5-2280：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−（３−トリフルオロメチルフェノキシ）プロプ−１−イニル]フラン−２−イル｝−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-1における5-2284：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−（３，４−ジメトキシフェノキシ）プロプ−１−イニル]フラン−２−イル｝−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-2における5-824：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（５−フェニルペント−１−イニル）ピロール−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-2における5-1063：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−｛１−メチル−５−[３−（４−メチル）フェノキシプロプ−１−イニル]ピロール−２−イル｝−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-2における5-1072：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（４−シクロヘキシルオキシブト−１−イニル）ピロール−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-2における5-2278：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−｛１−メチル−５−[３−（３，４−ジメチルフェノキシ）プロプ−１−イニル]ピロール−２−イル｝−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-2における5-84：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（５−フェニルペンチル）ピロール−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-2における5-1344：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-2における5-2332：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−[５−（４−クロロフェニル）ペンタノイル]ピロール−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-2における5-2338：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−｛１−メチル−５−[５−（３−トリフルオロメチルフェニル）ペンタノイル]ピロール−２−イル｝−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-2における5-1331：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（５−シクロヘキシルペンタノイル）ピロール−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-2における5-1330：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（４−フェニルブタノイル）ピロール−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-2における5-1329：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（４−シクロヘキシルブタノイル）ピロール−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-4における7-12：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[１−エチル−５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-4における7-11：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[１−エチル−５−（５−シクロヘキシルペンタノイル）ピロール−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-4における7-10：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[１−エチル−５−（４−フェニルブタノイル）ピロール−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-4における7-9：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[１−エチル−５−（４−シクロヘキシルブタノイル）ピロール−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-71：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−シクロヘキシルブチル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-84：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−フェニルブチル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-98：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(５−シクロヘキシルペンチル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-152：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(５−フェニルペンチル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-210：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(６−シクロヘキシルヘキシル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-264：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(６−フェニルヘキシル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-373：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(３−シクロヘキシルオキシプロピル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-386：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(３−フェノキシプロピル)チオフェン−２−イル] −１−ブチルエステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-400：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−シクロヘキシルオキシブチル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-454：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−フェノキシブチル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-509：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(５−シクロヘキシルオキシペンチル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-510：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(５−フェノキシペンチル)チオフェン−２−イル] −１−ブチルエステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-513：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(３−シクロヘキシルメトキシプロピル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-743：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−シクロヘキシルブト−1−イニル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-756：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−フェニルブト−1−イニル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-770：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(５−シクロヘキシルペント−1−イニル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-824：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(５−フェニルペント−1−イニル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-882：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(６−シクロヘキシルヘキシ−1−イニル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-936：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(６−フェニルヘキシ−1−イニル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1045：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(３−シクロヘキシルオキシプロプ−１−イニル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1058：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(３−フェノキシプロプ−１−イニル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1072：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−シクロヘキシルオキシブト−１−イニル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1126：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−フェノキシブト−１−イニル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1181：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(５−シクロヘキシルオキシペント−１−イニル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1182：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(５−フェノキシペント−１−イニル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1185：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(３−シクロヘキシルメトキシプロプ−１−イニル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1329：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−シクロヘキシルブタノイル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1330：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−フェニルブタノイル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1331：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(５−シクロヘキシルペンタノイル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1344：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(５−フェニルペンタノイル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1357：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(６−シクロヘキシルヘキサノイル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1370：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(６−フェニルヘキサノイル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1387：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(３−シクロヘキシルオキシプロパノイル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1400：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(３−フェノキシプロパノイル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1414：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−シクロヘキシルオキシブタノイル)チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1468：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−フェノキシブタノイル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1523：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(５−シクロヘキシルオキシペンタノイル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1524：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(５−フェノキシペンタノイル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1527：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(３−シクロヘキシルメトキシプロパノイル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1729：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−シクロヘキシルメトキシフェニル)チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1742：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−シクロヘキシルエトキシフェニル)チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1744：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−ベンジルオキシフェニル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1761：リン酸 モノ ２−アミノ−２−エチル−４−[５−(４−シクロヘキシルブチル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1764：リン酸 モノ ２−アミノ−２−エチル−４−[５−(５−シクロヘキシルペンチル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1816：リン酸 モノ ２−アミノ−２−エチル−４−[５−(６−シクロヘキシルヘキシル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1900：リン酸 モノ ２−アミノ−２−エチル−４−[５−(４−シクロヘキシルブト−1−イニル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1909：リン酸 モノ ２−アミノ−２−エチル−４−[５−(５−シクロヘキシルペント−1−イニル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1962：リン酸 モノ ２−アミノ−２−エチル−４−[５−(６−シクロヘキシルヘキシ−１−イニル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2089：リン酸 モノ ２−アミノ−２−エチル−４−[５−(４−シクロヘキシルブタノイル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2097：リン酸 モノ ２−アミノ−２−エチル−４−[５−(５−シクロヘキシルペンタノイル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、及び
例示化合物番号 式IIa-3における5-2105：リン酸 モノ ２−アミノ−２−エチル−４−[５−(６−シクロヘキシルヘキサノイル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
並びに
例示化合物番号 式IIa-3における5-463：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(４−フルオロフェノキシ)ブチル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-479：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(４−メトキシフェノキシ)ブチル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-594：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−ベンジルオキシブチル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-760：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(４−フルオロフェニル)ブト−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-761：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(４−メチルフェニル)ブト−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-762：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(４−エチルフェニル)ブト−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-763：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(４−トリフルオロメチルフェニル)ブト−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-764：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(４−メトキシフェニル)ブト−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-765：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(４−エトキシフェニル)ブト−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-766：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(４−メチルチオフェニル)ブト−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-832：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[５−(３−フルオロフェニル)ペント−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-833：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[５−(４−フルオロフェニル)ペント−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-834：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[５−(４−クロロフェニル)ペント−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-836：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[５−(３−メチルフェニル)ペント−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-837：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[５−(４−メチルフェニル)ペント−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-846：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[５−(３−トリフルオロメチルフェニル)ペント−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-847：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[５−(４−トリフルオロフェニル)ペント−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-848：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[５−(３−メトキシフェニル)ペント−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-849：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[５−(４−メトキシフェニル)ペント−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-860：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[５−(３−メチルチオフェニル)ペント−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-861：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[５−(４−メチルチオフェニル)ペント−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-877：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[５−(３,４−ジメチルフェニル)ペント−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-878：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[５−(３,５−ジメチルフェニル)ペント−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1050：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(４−メチルシクロヘキシルオキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1062：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(４−フルオロフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1063：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(４−メチルフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1064：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(４−エチルフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1065：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(４−トリフルオロメチルフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1066：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(４−メトキシフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1067：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(４−エトキシフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1068：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(４−メチルチオフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1134：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(３−フルオロフェノキシ)ブト−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1135：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(４−フルオロフェノキシ)ブト−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1136：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(４−クロロフェノキシ)ブト−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1138：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(３−メチルフェノキシ)ブト−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1139：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(４−メチルフェノキシ)ブト−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1148：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(３−トリフルオロメチルフェノキシ)ブト−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1149：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(４−トリフルオロメチルフェノキシ)ブト−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1150：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(３−メトキシフェノキシ)ブト−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1151：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(４−メトキシフェノキシ)ブト−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1162：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(３−メチルチオフェノキシ)ブト−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1163：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(４−メチルチオフェノキシ)ブト−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1179：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(３,４−ジメチルフェノキシ)ブト−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1180：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(３,５−ジメチルフェノキシ)ブト−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1198：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(３−ベンジルオキシプロプ−１−イニル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1202：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(４−フルオロフェニル)メトキシプロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1203：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(４−メチルフェニル)メトキシプロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1204：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(４−エチルフェニル)メトキシプロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1205：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(４−トリフルオロメチルフェニル)メトキシプロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1206：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(４−メトキシフェニル)メトキシプロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1207：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(４−エトキシフェニル)メトキシプロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1208：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(４−メチルチオフェニル)メトキシプロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1212：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−シクロヘキシルメトキシブト−１−イニル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1266：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−ベンジルオキシブト−１−イニル)チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1274：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(３−フルオロフェニル)メトキシブト−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1275：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(４−フルオロフェニル)メトキシブト−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1276：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(４−クロロフェニル)メトキシブト−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1278：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(３−メチルフェニル)メトキシブト−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1279：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(４−メチルフェニル)メトキシブト−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1288：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(３−トリフルオロメチルフェニル)メトキシブト−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1289：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(４−トリフルオロメチルフェニル)メトキシブト−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1290：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(３−メトキシフェニル)メトキシブト−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1291：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(４−メトキシフェニル)メトキシブト−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1319：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(３,４−ジメチルフェニル)メトキシブト−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1320：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(３,５−ジメチルフェニル)メトキシブト−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1348：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[５−(４−フルオロフェニル)ペンタノイル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1349：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[５−(４−メチルフェニル)ペンタノイル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1350：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[５−(４−エチルフェニル)ペンタノイル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1351：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[５−(４−トリフルオロメチルフェニル)ペンタノイル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1352：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[５−(４−メトキシフェニル)ペンタノイル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1353：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[５−(４−エトキシフェニル)ペンタノイル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1354：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[５−(４−メチルチオフェニル)ペンタノイル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1476：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(３−フルオロフェノキシ)ブタノイル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1477：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(４−フルオロフェノキシ)ブタノイル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1478：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(４−クロロフェノキシ)ブタノイル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1480：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(３−メチルフェノキシ)ブタノイル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1481：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(４−メチルフェノキシ)ブタノイル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1490：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(３−トリフルオロメチルフェノキシ)ブタノイル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1491：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(４−トリフルオロメチルフェノキシ)ブタノイル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1492：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(３−メトキシフェノキシ)ブタノイル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1493：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(４−メトキシフェノキシ)ブタノイル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1504：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(３−メチルチオフェノキシ)ブタノイル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1505：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(４−メチルチオフェノキシ)ブタノイル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1521：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(３,４−ジメチルフェノキシ)ブタノイル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1522：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(３,５−ジメチルフェノキシ)ブタノイル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2093：リン酸 モノ ２−アミノ−エチル−４−[５−(４−フェニルブタノイル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2101：リン酸 モノ ２−アミノ−エチル−４−[５−(５−フェニルペンタノイル)チオフェン−２−イル] −１−ブチルエステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2109：リン酸 モノ ２−アミノ−エチル−４−[５−(６−フェニルヘキサノイル)チオフェン−２−イル] −１−ブチルエステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2257：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[５−(３,４−ジフルオロフェニル)ペント−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2258：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[５−(３,５−ジフルオロフェニル)ペント−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2259：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[５−(３−クロロフェニル)ペント−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2260：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[５−(３,４−ジクロロフェニル)ペント−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2261：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[５−(３,５−ジクロロフェニル)ペント−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2262：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[５−(３,４−ジトリフルオロメチルフェニル)ペント−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2263：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[５−(３,５−ジトリフルオロメチルフェニル)ペント−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2264：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[５−(３,４−ジメトキシフェニル)ペント−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2265：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[５−(３,５−ジメトキシフェニル)ペント−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2266：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[５−(３,４,５−トリメトキシフェニル)ペント−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2267：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[５−(３−アセチルフェニル)ペント−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2268：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[５−(４−アセチルフェニル)ペント−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2269：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(３−フルオロフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2270：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(３,４−ジフルオロフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2271：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(３,５−ジフルオロフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2272：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(３−クロロフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2273：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(４−クロロフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2274：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(３,４−ジクロロフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2275：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(３,５−ジクロロフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2276：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(３−メチルフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2278：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(３,４−ジメチルフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2279：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(３,５−ジメチルフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2280：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(３−トリフルオロメチルフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2281：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(３,４−ジトリフルオロメチルフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2282：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(３,５−ジトリフルオロメチルフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2283：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(３−メトキシフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2284：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(３,４−ジメトキシフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2285：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(３,５−ジメトキシフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2286：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(３,４,５−トリメトキシフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2287：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(３−アセチルフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2288：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(４−アセチルフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2290：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(３,４−ジフルオロフェノキシ)ブト−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2291：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(３,５−ジフルオロフェノキシ)ブト−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2292：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(３−クロロフェノキシ)ブト−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2293：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(３,４−ジクロロフェノキシ)ブト−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2294：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(３,５−ジクロロフェノキシ)ブト−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2295：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(３,４−ジトリフルオロメチルフェノキシ)ブト−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2296：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(３,５−ジトリフルオロメチルフェノキシ)ブト−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2297：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(３,４−ジメトキシフェノキシ)ブト−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2298：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(３,５−ジメトキシフェノキシ)ブト−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2299：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(３,４,５−トリメトキシフェノキシ)ブト−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2300：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(３−アセチルフェノキシ)ブト−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2301：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(４−アセチルフェノキシ)ブト−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2328：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[５−(３−フルオロフェニル)ペンタノイル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2329：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[５−(３，４−ジフルオロフェニル)ペンタノイル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2330：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[５−(３，５−ジフルオロフェニル)ペンタノイル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2331：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[５−(３−クロロフェニル)ペンタノイル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2332：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[５−(４−クロロフェニル)ペンタノイル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2333：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[５−(３,４−ジクロロフェニル)ペンタノイル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2334：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[５−(３,５−ジクロロフェニル)ペンタノイル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2335：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[５−(３−メチルフェニル)ペンタノイル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2336：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[５−(３,４−ジメチルフェニル)ペンタノイル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2337：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[５−(３,５−ジメチルフェニル)ペンタノイル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2338：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[５−(３−トリフルオロメチルフェニル)ペンタノイル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2339：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[５−(３，４−ジトリフルオロメチルフェニル)ペンタノイル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2340：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[５−(３,５−ジトリフルオロメチルフェニル)ペンタノイル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2341：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[５−(３−メトキシフェニル)ペンタノイル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2342：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[５−(３,４−ジメトキシフェニル)ペンタノイル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2343：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[５−(３,５−ジメトキシフェニル)ペンタノイル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2344：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[５−(３，４，５−トリメトキシフェニル)ペンタノイル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2345：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[５−(３−アセチルフェニル)ペンタノイル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル及び
例示化合物番号 式IIa-3における5-2346：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[５−(４−アセチルフェニル)ペンタノイル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
であり、最も好適には、
例示化合物番号 式IIa-1における5-84：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−（５−フェニルペンチル）フラン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-1における5-770：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−（５−シクロヘキシルペント−１−イニル）フラン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-1における5-824：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−（５−フェニルペント−１−イニル）フラン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-1における5-1072：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−（４−シクロヘキシルオキシブト−１−イニル）フラン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-1における5-1331：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−（５−シクロヘキシルペンタノイル）フラン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-1における5-2278：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−（３，４−ジメチルフェノキシ）プロプ−１−イニル]フラン−２−イル｝−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-2における5-824：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（５−フェニルペント−１−イニル）ピロール−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-2における5-1063：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−｛１−メチル−５−[３−（４−メチル）フェノキシプロプ−１−イニル]ピロール−２−イル｝−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-2における5-1072：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（４−シクロヘキシルオキシブト−１−イニル）ピロール−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-2における5-2278：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−｛１−メチル−５−[３−（３，４−ジメチルフェノキシ）プロプ−１−イニル]ピロール−２−イル｝−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-2における5-1344：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-2における5-1331：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（５−シクロヘキシルペンタノイル）ピロール−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-2における5-1330：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（４−フェニルブタノイル）ピロール−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-2における5-1329：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（４−シクロヘキシルブタノイル）ピロール−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-4における7-12：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[１−エチル−５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-4における7-11：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[１−エチル−５−（５−シクロヘキシルペンタノイル）ピロール−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-4における7-10：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[１−エチル−５−（４−フェニルブタノイル）ピロール−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-4における7-9：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[１−エチル−５−（４−シクロヘキシルブタノイル）ピロール−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-71：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−シクロヘキシルブチル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-98：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(５−シクロヘキシルペンチル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-152：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(５−フェニルペンチル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-400：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−シクロヘキシルオキシブチル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-463：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(４−フルオロフェノキシ)ブチル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-479：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(４−メトキシフェノキシ)ブチル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-594：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−ベンジルオキシブチル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-743：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−シクロヘキシルブト−1−イニル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-756：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−フェニルブト−１−イニル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-770：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(５−シクロヘキシルペント−１−イニル)チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-824：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(５−フェニルペント−１−イニル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-833：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[５−(４−フルオロフェニル)ペント−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-849：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[５−(４−メトキシフェニル)ペント−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1050：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(４−メチルシクロヘキシルオキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1063：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(４−メチルフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1064：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(４−エチルフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1068：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(４−メチルチオフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1072：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−シクロヘキシルオキシブト−１−イニル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1135：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(４−フルオロフェノキシ)ブト−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1139：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[４−(４−メチルフェノキシ)ブト−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1185：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(３−シクロヘキシルメトキシプロプ−１−イニル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1266：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−ベンジルオキシブト−１−イニル)チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1329：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−シクロヘキシルブタノイル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1330：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−フェニルブタノイル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1331：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(５−シクロヘキシルペンタノイル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1344：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(５−フェニルペンタノイル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1348：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[５−(４−フルオロフェニル)ペンタノイル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1764：リン酸 モノ ２−アミノ−２−エチル−４−[５−(５−シクロヘキシルペンチル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-1909：リン酸 モノ ２−アミノ−２−エチル−４−[５−(５−シクロヘキシルペント−１−イニル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2097：リン酸 モノ ２−アミノ−２−エチル−４−[５−(５−シクロヘキシルペンタノイル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2273：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(４−クロロフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2276：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(３−メチルフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2278：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(３,４−ジメチルフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2283：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(３−メトキシフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2284：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(３,４−ジメトキシフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2285：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(３,５−ジメトキシフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
例示化合物番号 式IIa-3における5-2287：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(３−アセチルフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル及び
例示化合物番号 式IIa-3における5-2288：リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−[３−(４−アセチルフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル
である。
【０１７０】
上記表５[式（ＩＩＩａ−1）、（ＩＩＩａ−２）及び（ＩＩＩａ−３）]、表６[（ＩＩＩｂ−１）、（ＩＩＩｂ−２）及び（ＩＩＩｂ−３）] 並びに表８［（ＩＩＩａ−４）］において、
本発明の化合物（ＩＩＩ）として好適には、
例示化合物番号：5-19, 5-23〜5-32, 5-36〜5-45, 5-49〜5-58, 5-62〜5-71, 5-75〜5-84, 5-88〜5-102, 5-106〜5-156, 5-160〜5-214, 5-218〜5-268, 5-272〜5-321, 5-325〜5-334, 5-338〜5-347, 5-351〜5-360, 5-364〜5-373, 5-377〜5-386, 5-390〜5-404, 5-408〜5-458, 5-462〜5-513, 5-517〜5-526, 5-530〜5-544, 5-548〜5-598, 5-602〜5-657, 5-670, 5-674〜5-683, 5-696, 5-700〜5-717, 5-721〜5-730, 5-734〜5-743, 5-747〜5-756, 5-760〜5-774, 5-778〜5-828, 5-832〜5-886, 5-890〜5-940, 5-944〜5-993, 5-997〜5-1006, 5-1010〜5-1019, 5-1045, 5-1049〜5-1058, 5-1062〜5-1076, 5-1080〜5-1130, 5-1134〜5-1185, 5-1189〜5-1198, 5-1202〜5-1208, 5-1212〜5-1216, 5-1220〜5-1270, 5-1274〜5-1331, 5-1335〜5-1344, 5-1348〜5-1357, 5-1361〜5-1370, 5-1374〜5-1387, 5-1391〜5-1400, 5-1404〜5-1418, 5-1422〜5-1472, 5-1476〜5-1527, 5-1531〜5-1540, 5-1544〜5-1558, 5-1562〜5-1612, 5-1616〜5-1673, 5-1677〜5-1686, 5-1690〜5-1699, 5-1703〜5-1712, 5-1716〜5-1729, 5-1733〜5-1744, 5-1748〜5-1768, 5-1772〜5-1793, 5-1797〜5-1820, 5-1824〜5-1846, 5-1850〜5-1869, 5-1872, 5-1876, 5-1880, 5-1884, 5-1888〜5-1892, 5-1896, 5-1900, 5-1908〜5-1913, 5-1917〜5-1939, 5-1943〜5-1966, 5-1970〜5-1991, 5-1995〜5-2013, 5-2017, 5- 2021, 5-2025, 5-2029, 5-2033, 5-2037〜5-2042, 5-2046〜5-2068, 5-2072〜5-2089, 5-2093, 5-2097, 5-2101, 5-2105, 5-2109, 5-2113, 5-2117, 5-2121, 5-2125, 5-2129, 5-2133, 5-2135, 5-2139〜5-2158, 5-2161〜5-2164, 5-2185〜5-2346, 5-2398〜5-2557,
6-9〜6-18, 6-22〜6-43, 6-47〜6-70, 6-74〜6-96, 6-100〜6-119, 6-142, 6-146, 6-150, 6-154, 6-158〜6-163, 6-167〜6-183, 6-185〜6-189, 6-193〜6-216, 6-220〜6-241, 6-245〜6-263, 6-267, 6-271, 6-275, 6-279, 6-283, 6-287〜6-292, 6-296〜6-318, 6-322〜6-338, 6-343, 6-347, 6-351, 6-371, 6-375〜6-377, 6-381〜6-407, 6-416〜6-511，
8-9〜8-12
であり、更に好適には、
5-19, 5-32, 5-36〜5-45, 5-57, 5-62〜5-71, 5-84, 5-88, 5-97〜5-100, 5-152〜5-154, 5-160〜5-214, 5-218〜5-227, 5-264〜5-268, 5-272〜5-321, 5-334, 5-347, 5-360, 5-373, 5-386, 5-390〜5-402, 5-454〜5-458, 5-462〜5-513, 5-526, 5-530〜5-542, 5-594〜5-598, 5-602〜5-653, 5-743, 5-756, 5-760〜5-768, 5-770〜5-774, 5-778〜5-828, 5-832〜5-886, 5-890〜5-940, 5-944〜5-993, 5-1045, 5-1058, 5-1062〜5-1074, 5-1126〜5-1130, 5-1134〜5-1185, 5-1198, 5-1202〜5-1208, 5-1212〜5-1214, 5-1266〜5-1270, 5-1274〜5-1331, 5-1344, 5-1348〜5-1357, 5-1370, 5-1374〜5-1387, 5-1400, 5-1404〜5-1416, 5-1468〜5-1472, 5-1476〜5-1527, 5-1540, 5-1544〜5-1556, 5-1608〜5-1612, 5-1616〜5-1666, 5-1729, 5-1742, 5-1744, 5-1759〜5-1767, 5-1789〜5-1793, 5-1797〜5-1818, 5-1842〜5-1846, 5-1900, 5-1908〜5-1913, 5-1935〜5-1939, 5-1943〜5-1966, 5-1987〜5-1991, 5-2013, 5-2017, 5-2029, 5-2033, 5-2037〜5-2042, 5-2064〜5-2068, 5-2072〜5-2089, 5-2093, 5-2097, 5-2101, 5-2105, 5-2109, 5-2129, 5-2133, 5-2135, 5-2185〜5-2346, 5-2398〜5-2557,
6-11〜6-18, 6-39〜6-43, 6-47〜6-70, 6-185〜6-189, 6-193〜6-216, 6-287〜6-292, 6-338, 6-343, 6-347, 6-351, 6-416〜6-511，8-9〜8-12
であり、より好適には、
5-45, 5-71, 5-84, 5-88, 5-97〜5-100, 5-152〜5-154, 5-160〜5-206, 5-209〜5-212, 5-264〜5-266, 5-334, 5-373, 5-386, 5-390〜5-402, 5-454〜5-458, 5-462〜5-485, 5-509, 5-510, 5-513, 5-526, 5-530〜5-542, 5-594〜5-598, 5-602〜5-613, 5-649, 5-650, 5-743, 5-756, 5-760〜5-768, 5-770〜5-772, 5-824〜5-828, 5-832〜5-884, 5-936, 5-1045, 5-1058, 5-1062〜5-1074, 5-1126〜5-1130, 5-1134〜5-1145, 5-1148〜5-1151, 5-1162, 5-1163, 5-1179〜5-1182, 5-1185, 5-1198, 5-1202〜5-1208, 5-1212, 5-1213, 5-1214, 5-1266〜5-1270, 5-1274〜5-1285, 5-1288〜5-1291, 5-1319〜5-1322, 5-1329〜5-1331, 5-1344, 5-1348〜5-1357, 5-1370, 5-1387, 5-1400, 5-1404〜5-1416, 5-1468〜5-1472, 5-1476〜5-1487, 5-1490〜5-1493, 5-1504, 5-1505, 5-1521〜5-1524, 5-1527, 5-1540, 5-1544〜5-1556, 5-1608〜5-1612, 5-1616〜5-1627, 5-1663, 5-1664, 5-1729, 5-1742, 5-1744, 5-1761〜5-1766, 5-1789〜5-1791, 5-1815〜5-1818, 5-1900, 5-1909, 5-1962, 5-2064〜5-2066, 5-2089, 5-2093, 5-2097, 5-2105, 5-2133, 5-2216〜5-2288, 5-2290〜5-2346, 5-2398〜5-2557,
8-9〜8-12
であり、更により好適な化合物は、
例示化合物番号 式IIIa-1における5-84：３−アミノ−３−メチル−５−[５−（５−フェニルペンチル）フラン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-1における5-770：３−アミノ−３−メチル−５−[５−（５−シクロヘキシルペント−１−イニル）フラン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-1における5-824：３−アミノ−３−メチル−５−[５−（５−フェニルペント−１−イニル）フラン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-1における5-1063：３−アミノ−３−メチル−５−｛５−[３−（４−メチルフェノキシ）プロプ−１−イニル]フラン−２−イル｝ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-1における5-1072：３−アミノ−３−メチル−５−[５−（４−シクロヘキシルオキシブト−１−イニル）フラン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-1における5-1331：３−アミノ−３−メチル−５−[５−（５−シクロヘキシルペンタノイル）フラン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-1における5-2278：３−アミノ−３−メチル−５−｛５−[３−（３，４−ジメチルフェノキシ）プロプ−１−イニル]フラン−２−イル｝ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-1における5-834：３−アミノ−３−メチル−５−｛５−[５−（４−クロロフェニル）ペント−１−イニル]フラン−２−イル｝ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-1における5-846：３−アミノ−３−メチル−５−｛５−[５−（３−トリフルオロメチルフェニル）ペント−１−イニル]フラン−２−イル｝ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-1における5-1065：３−アミノ−３−メチル−５−｛５−[３−（４−トリフルオロメチルフェノキシ）プロプ−１−イニル]フラン−２−イル｝ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-1における5-2273：３−アミノ−３−メチル−５−｛５−[３−（４−クロロフェノキシ）プロプ−１−イニル]フラン−２−イル｝ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-1における5-2280：３−アミノ−３−メチル−５−｛５−[３−（３−トリフルオロメチルフェノキシ）プロプ−１−イニル]フラン−２−イル｝ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-1における5-2284：３−アミノ−３−メチル−５−｛５−[３−（３，４−ジメトキシフェノキシ）プロプ−１−イニル]フラン−２−イル｝ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-2における5-824：３−アミノ−３−メチル−５−[１−メチル−５−（５−フェニルペント−１−イニル）ピロール−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-2における5-1063：３−アミノ−３−メチル−５−｛１−メチル−５−[３−（４−メチル）フェノキシプロプ−１−イニル]ピロール−２−イル｝ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-2における5-1072：３−アミノ−３−メチル−５−[１−メチル−５−（４−シクロヘキシルオキシブト−１−イニル）ピロール−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-2における5-2278：３−アミノ−３−メチル−５−｛１−メチル−５−[３−（３，４−ジメチルフェノキシ）プロプ−１−イニル]ピロール−２−イル｝ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-2における5-84：３−アミノ−３−メチル−５−[１−メチル−５−（５−フェニルペンチル）ピロール−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-2における5-1344：３−アミノ−３−メチル−５−[１−メチル−５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-2における5-2332：３−アミノ−３−メチル−５−[１−メチル−５−[５−（４−クロロフェニル）ペンタノイル]ピロール−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-2における5-2338：３−アミノ−３−メチル−５−｛１−メチル−５−[５−（３−トリフルオロメチルフェニル）ペンタノイル]ピロール−２−イル｝ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-2における5-1331：３−アミノ−３−メチル−５−[１−メチル−５−（５−シクロヘキシルペンタノイル）ピロール−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-2における5-1330：３−アミノ−３−メチル−５−[１−メチル−５−（４−フェニルブタノイル）ピロール−２−イル] ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-2における5-1329：３−アミノ−３−メチル−５−[１−メチル−５−（４−シクロヘキシルブタノイル）ピロール−２−イル] ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-4における8-12：３−アミノ−３−メチル−５−[１−エチル−５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル] ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-4における8-11：３−アミノ−３−メチル−５−[１−エチル−５−（５−シクロヘキシルペンタノイル）ピロール−２−イル] ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-4における8-10：３−アミノ−３−メチル−５−[１−エチル−５−（４−フェニルブタノイル）ピロール−２−イル] ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-4における8-9：３−アミノ−３−メチル−５−[１−エチル−５−（４−シクロヘキシルブタノイル）ピロール−２−イル] ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-71：３−アミノ−３−メチル−５−[５−(４−シクロヘキシルブチル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-84：３−アミノ−３−メチル−５−[５−(４−フェニルブチル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-98：３−アミノ−３−メチル−５−[５−(５−シクロヘキシルペンチル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-152：３−アミノ−３−メチル−５−[５−(５−フェニルペンチル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-210：３−アミノ−３−メチル−５−[５−(６−シクロヘキシルヘキシル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-264：３−アミノ−３−メチル−５−[５−(６−フェニルヘキシル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-373：３−アミノ−３−メチル−５−[５−(３−シクロヘキシルオキシプロピル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-386：３−アミノ−３−メチル−５−[５−(３−フェノキシプロピル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-400：３−アミノ−３−メチル−５−[５−(４−シクロヘキシルオキシブチル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-454：３−アミノ−３−メチル−５−[５−(４−フェノキシブチル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-509：３−アミノ−３−メチル−５−[５−(５−シクロヘキシルオキシペンチル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-510：３−アミノ−３−メチル−５−[５−(５−フェノキシペンチル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-513：３−アミノ−３−メチル−５−[５−(３−シクロヘキシルメトキシプロピル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-1329：３−アミノ−３−メチル−５−[５−(４−シクロヘキシルブタノイル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-1330：３−アミノ−３−メチル−５−[５−(４−フェニルブタノイル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-３における5-1331：３−アミノ−３−メチル−５−[５−(５−シクロヘキシルペンタノイル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-1344：３−アミノ−３−メチル−５−[５−(５−フェニルペンタノイル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-1357：３−アミノ−３−メチル−５−[５−(６−シクロヘキシルヘキサノイル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-1370：３−アミノ−３−メチル−５−[５−(６−フェニルヘキサノイル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-1387：３−アミノ−３−メチル−５−[５−(３−シクロヘキシルオキシプロパノイル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-1400：３−アミノ−３−メチル−５−[５−(３−フェノキシプロパノイル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-1414：３−アミノ−３−メチル−５−[５−(４−シクロヘキシルオキシブタノイル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-1468：３−アミノ−３−メチル−５−[５−(４−フェノキシブタノイル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-1523：３−アミノ−３−メチル−５−[５−(５−シクロヘキシルオキシペンタノイル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-1524：３−アミノ−３−メチル−５−[５−(５−フェノキシペンタノイル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-1527：３−アミノ−３−メチル−５−[５−(３−シクロヘキシルメトキシプロパノイル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-1729：３−アミノ−３−メチル−５−[５−(４−シクロヘキシルメトキシフェニル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-1742：３−アミノ−３−メチル−５−[５−(４−シクロヘキシルエトキシフェニル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-1744：３−アミノ−３−メチル−５−[５−(４−ベンジルオキシフェニル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-1761：３−アミノ−３−エチル−５−[５−(４−シクロヘキシルブチル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-1764：３−アミノ−３−エチル−５−[５−(５−シクロヘキシルペンチル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-1816：３−アミノ−３−エチル−５−[５−(６−シクロヘキシルヘキシル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-2089：３−アミノ−３−エチル−５−[５−(４−シクロヘキシルブタノイル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-2097：３−アミノ−３−エチル−５−[５−(５−シクロヘキシルペンタノイル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、及び
例示化合物番号 式IIIa-3における5-2105：３−アミノ−３−エチル−５−[５−(６−シクロヘキシルヘキサノイル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
並びに
例示化合物番号 式IIIa-3における5-463：３−アミノ−３−メチル−５−[５−[４−(４−フルオロフェノキシ)ブチル]チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-479：３−アミノ−３−メチル−５−[５−[４−(４−メトキシフェノキシ)ブチル]チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-594：３−アミノ−３−メチル−５−[５−(４−ベンジルオキシブチル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-1348：３−アミノ−３−メチル−５−[５−[５−(４−フルオロフェニル)ペンタノイル]チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-1349：３−アミノ−３−メチル５−[５−[５−(４−メチルフェニル)ペンタノイル]チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-1350：３−アミノ−３−メチル−５−[５−[５−(４−エチルフェニル)ペンタノイル]チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-1351：３−アミノ−３−メチル−５−[５−[５−(４−トリフルオロメチルフェニル)ペンタノイル]チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-1352：３−アミノ−３−メチル−５−[５−[５−(４−メトキシフェニル)ペンタノイル]チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-1353：３−アミノ−３−メチル−５−[５−[５−(４−エトキシフェニル)ペンタノイル]チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-1354：３−アミノ−３−メチル−５−[５−[５−(４−メチルチオフェニル)ペンタノイル]チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-1476：３−アミノ−３−メチル−５−[５−[４−(３−フルオロフェノキシ)ブタノイル]チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-1477：３−アミノ−３−メチル−５−[５−[４−(４−フルオロフェノキシ)ブタノイル]チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-1478：３−アミノ−３−メチル−５−[５−[４−(４−クロロフェノキシ)ブタノイル]チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-1480：３−アミノ−３−メチル−５−[５−[４−(３−メチルフェノキシ)ブタノイル]チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-1481：３−アミノ−３−メチル−５−[５−[４−(４−メチルフェノキシ)ブタノイル]チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-1490：３−アミノ−３−メチル−５−[５−[４−(３−トリフルオロメチルフェノキシ)ブタノイル]チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-1491：３−アミノ−３−メチル−５−[５−[４−(４−トリフルオロメチルフェノキシ)ブタノイル]チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-1492：３−アミノ−３−メチル−５−[５−[４−(３−メトキシフェノキシ)ブタノイル]チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-1493：３−アミノ−３−メチル−５−[５−[４−(４−メトキシフェノキシ)ブタノイル]チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-1504：３−アミノ−３−メチル−５−[５−[４−(３−メチルチオフェノキシ)ブタノイル]チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-1505：３−アミノ−３−メチル−５−[５−[４−(４−メチルチオフェノキシ)ブタノイル]チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-1521：３−アミノ−３−メチル−５−[５−[４−(３,４−ジメチルフェノキシ)ブタノイル]チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-1522：３−アミノ−３−メチル−５−[５−[４−(３,５−ジメチルフェノキシ)ブタノイル]チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-2093：３−アミノ−３−エチル−５−[５−(４−フェニルブタノイル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-2101：３−アミノ−３−エチル−５−[５−(５−フェニルペンタノイル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-2109：３−アミノ−３−エチル−５−[５−(６−フェニルヘキサノイル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-2328：３−アミノ−３−メチル−５−[５−[５−(３−フルオロフェニル)ペンタノイル]チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-2329：３−アミノ−３−メチル−５−[５−[５−(３，４−ジフルオロフェニル)ペンタノイル]チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-2330：３−アミノ−３−メチル−５−[５−[５−(３，５−ジフルオロフェニル)ペンタノイル]チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-2331：３−アミノ−３−メチル−５−[５−[５−(３−クロロフェニル)ペンタノイル]チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-2332：３−アミノ−３−メチル−５−[５−[５−(４−クロロフェニル)ペンタノイル]チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-2333：３−アミノ−３−メチル−５−[５−[５−(３,４−ジクロロフェニル)ペンタノイル]チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-2334：３−アミノ−３−メチル−５−[５−[５−(３,５−ジクロロフェニル)ペンタノイル]チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-2335：３−アミノ−３−メチル−５−[５−[５−(３−メチルフェニル)ペンタノイル]チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-2336：３−アミノ−３−メチル−５−[５−[５−(３,４−ジメチルフェニル)ペンタノイル]チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-2337：３−アミノ−３−メチル−５−[５−[５−(３,５−ジメチルフェニル)ペンタノイル]チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-2338：３−アミノ−３−メチル−５−[５−[５−(３−トリフルオロメチルフェニル)ペンタノイル]チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-2339：３−アミノ−３−メチル−５−[５−[５−(３，４−ジトリフルオロメチルフェニル)ペンタノイル]チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-2340：３−アミノ−３−メチル−５−[５−[５−(３,５−ジトリフルオロメチルフェニル)ペンタノイル]チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-2341：３−アミノ−３−メチル−５−[５−[５−(３−メトキシフェニル)ペンタノイル]チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-2342：３−アミノ−３−メチル−５−[５−[５−(３,４−ジメトキシフェニル)ペンタノイル]チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-2343：３−アミノ−３−メチル−５−[５−[５−(３,５−ジメトキシフェニル)ペンタノイル]チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-2344：３−アミノ−３−メチル−５−[５−[５−(３，４，５−トリメトキシフェニル)ペンタノイル]チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-2345：３−アミノ−３−メチル−５−[５−[５−(３−アセチルフェニル)ペンタノイル]チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸及び
例示化合物番号 式IIIa-3における5-2346：３−アミノ−３−メチル−５−[５−[５−(４−アセチルフェニル)ペンタノイル]チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸
であり、最も好適には、
例示化合物番号 式IIIa-1における5-84：３−アミノ−３−メチル−５−[５−（５−フェニルペンチル）フラン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-1における5-770：３−アミノ−３−メチル−５−[５−（５−シクロヘキシルペント−１−イニル）フラン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-1における5-824：３−アミノ−３−メチル−５−[５−（５−フェニルペント−１−イニル）フラン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-1における5-1072：３−アミノ−３−メチル−５−[５−（４−シクロヘキシルオキシブト−１−イニル）フラン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-1における5-1331：３−アミノ−３−メチル−５−[５−（５−シクロヘキシルペンタノイル）フラン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-1における5-2278：３−アミノ−３−メチル−５−｛５−[３−（３，４−ジメチルフェノキシ）プロプ−１−イニル]フラン−２−イル｝ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-2における5-824：３−アミノ−３−メチル−５−[１−メチル−５−（５−フェニルペント−１−イニル）ピロール−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-2における5-1063：３−アミノ−３−メチル−５−｛１−メチル−５−[３−（４−メチル）フェノキシプロプ−１−イニル]ピロール−２−イル｝ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-2における5-1072：３−アミノ−３−メチル−５−[１−メチル−５−（４−シクロヘキシルオキシブト−１−イニル）ピロール−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-2における5-2278：３−アミノ−３−メチル−５−｛１−メチル−５−[３−（３，４−ジメチルフェノキシ）プロプ−１−イニル]ピロール−２−イル｝ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-2における5-1344：３−アミノ−３−メチル−５−[１−メチル−５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-2における5-1331：３−アミノ−３−メチル−５−[１−メチル−５−（５−シクロヘキシルペンタノイル）ピロール−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-2における5-1330：３−アミノ−３−メチル−５−[１−メチル−５−（４−フェニルブタノイル）ピロール−２−イル] ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-2における5-1329：３−アミノ−３−メチル−５−[１−メチル−５−（４−シクロヘキシルブタノイル）ピロール−２−イル] ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-4における8-12：３−アミノ−３−メチル−５−[１−エチル−５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル] ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-4における8-11：３−アミノ−３−メチル−５−[１−エチル−５−（５−シクロヘキシルペンタノイル）ピロール−２−イル] ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-4における8-10：３−アミノ−３−メチル−５−[１−エチル−５−（４−フェニルブタノイル）ピロール−２−イル] ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-4における8-9：３−アミノ−３−メチル−５−[１−エチル−５−（４−シクロヘキシルブタノイル）ピロール−２−イル] ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-71：３−アミノ−３−メチル−５−[５−(４−シクロヘキシルブチル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-98：３−アミノ−３−メチル−５−[５−(５−シクロヘキシルペンチル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-152：３−アミノ−３−メチル−５−[５−(５−フェニルペンチル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-400：３−アミノ−３−メチル−５−[５−(４−シクロヘキシルオキシブチル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-463：３−アミノ−３−メチル−５−[５−[４−(４−フルオロフェノキシ)ブチル]チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-479：３−アミノ−３−メチル−５−[５−[４−(４−メトキシフェノキシ)ブチル]チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-594：３−アミノ−３−メチル−５−[５−(４−ベンジルオキシブチル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-1329：３−アミノ−３−メチル−５−[５−(４−シクロヘキシルブタノイル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-1330：３−アミノ−３−メチル−５−[５−(４−フェニルブタノイル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-1331：３−アミノ−３−メチル−５−[５−(５−シクロヘキシルペンタノイル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-1344：３−アミノ−３−メチル−５−[５−(５−フェニルペンタノイル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-1348：３−アミノ−３−メチル−５−[５−[５−(４−フルオロフェニル)ペンタノイル]チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
例示化合物番号 式IIIa-3における5-1764：３−アミノ−３−エチル−５−[５−(５−シクロヘキシルペンチル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸
及び
例示化合物番号 式IIIa-3における5-2097： ３−アミノ−３−エチル−５−[５−(５−シクロヘキシルペンタノイル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸
である。
【０１７１】
【発明の実施の形態】
本発明の化合物（Ｉ）、（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）は、以下に記載する方法に従って製造することができる。
【０１７２】
Ａ法は、化合物（Ｉ）において、Ｙがエチニレン基である化合物（Ｉｃ）、Ｙがビニレン基である化合物（Ｉｄ）、Ｙがエチレン基である化合物（Ｉｅ）、Ｙが−ＣＯ−ＣＨ₂−を有する基である化合物（Ｉｆ）、Ｙが−ＣＨ（ＯＨ）−を有する基である化合物（Ｉｇ）及びＹがアリール基又は置換基群ａから選択される基で１乃至３個置換されたアリール基である化合物（Ｉｈ）を製造する方法である。
【０１７３】
【化５７】

【０１７４】
上記式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｘ、Ｚ及びｎは、前述したものと同意義を示し、Ｒ⁸は、臭素原子又はヨウ素原子を示し、Ｒ⁵ _aは、Ｒ⁵において置換基として含まれるアミノ、ヒドロキシ及び／又はカルボキシル基が、保護されてもよいアミノ、ヒドロキシ及び／又はカルボキシル基である他Ｒ⁵の基の定義における基と同様の基を示し、環Ｙ^aはアリール基又は置換基群ａから選択される基で１乃至３個置換されたアリール基を示す。
【０１７５】
Ｒ⁵ _aの定義における「保護されてもよいアミノ基」の「保護基」は、有機合成化学の分野で使用されるアミノ基の保護基であれば特に限定はされないが、前述したものと同意義を示し、好適には、低級アルコキシカルボニル基であり、最も好適にはｔ-ブトキシカルボニル基である。
【０１７６】
Ｒ⁵ _aの定義における「保護されてもよいヒドロキシ基」の「保護基」は、有機合成化学の分野で使用されるヒドロキシ基の保護基であれば特に限定はされないが、例えば、前記「ヒドロキシ基のエステルに斯かる反応における一般的保護基」と同意義を示し、好適には、低級脂肪族アシル基、芳香族アシル基、低級アルコキシカルボニル基又は（低級アルコキシ）メチル基であり、更に好適には、低級脂肪族アシル基又は（低級アルコキシ）メチル基であり、最も好適にはアセチル基又はメトキシメチル基である。
【０１７７】
Ｒ⁵ _aの定義における「保護されてもよいカルボキシル基」の「保護基」は、有機合成化学の分野で使用されるカルボキシル基の保護基であれば特に限定はされないが、例えば、前記「カルボキシル基のエステルに斯かる反応における一般的保護基」と同意義を示し、好適には低級アルキル基であり、最も好適には、メチル基である。
【０１７８】
第Ａ１工程
第Ａ１工程は、一般式（Ｖ）を有する化合物を製造する工程であり、一般式（ＩＶ）を有する化合物を、不活性溶媒中、塩基の存在下又は非存在下、臭素化剤又はヨウ素化剤と反応させることにより行われる。
【０１７９】
上記反応に使用される不活性溶媒としては、本反応に不活性なものであれば特に限定されず、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；又はホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類であり、好適には、臭素化の場合にはアミド類（最も好適にはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）であり、ヨウ素化の場合にはハロゲン化炭化水素類（最も好適にはジクロロメタン又はクロロホルム）である。
【０１８０】
上記反応に使用される臭素化剤としては、特に限定はないが、例えば、“Comprehensive Organic Transformation”（Larlock、VCH、p316-317）に記載されているような臭素化剤を挙げることができ、好適には、Ｎ−ブロムコハク酸イミドである。
【０１８１】
上記反応に使用されるヨウ素化剤としては、特に限定はないが、例えば、“Comprehensive Organic Transformation”（Larlock、VCH、p317-318）に記載されているようなヨウ素化剤を挙げることができ、好適には、ヨウ素である。
【０１８２】
上記反応に使用される塩基としては、化合物（ＩＶ）におけるハロゲン原子の置換位置以外の部分に影響を与えないものであれば特に限定されず、例えば、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属重炭酸塩類；リチウムメトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム−ｔ−ブトキシドのような金属アルコキシド類；トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、ピリジン、２，６−ルチジン、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、１，５−ジアザビシクロ[４．３．０]ノナ−５−エン、１，４−ジアザビシクロ[２．２．２]オクタン（ＤＡＢＣＯ）、１，８−ジアザビシクロ[５．４．０]−７−ウンデセン（ＤＢＵ）のような有機アミン類；ブチルリチウム、リチウム ジイソプロピルアミド（ＬＤＡ）、リチウム ビス（トリメチルシリル）アミドのような有機金属塩基類；又は上記塩基の組み合わせを挙げることができる。好適には、有機アミン類（最も好適にはピリジン）である。
【０１８３】
反応温度は、原料化合物、臭素化剤又はヨウ素化剤、溶媒の種類等によって異なるが、通常、−７８℃乃至１５０℃で行われるが、好適には−２０℃乃至１００℃(最も好適には０℃乃至６０℃)である。
【０１８４】
反応時間は、反応温度、原料化合物、反応試薬又は使用される溶媒の種類によって異なるが、通常、５分間乃至６０時間であり、好適には1５分乃至２４時間(最も好適には３０分間乃至４時間)である。
【０１８５】
反応終了後、本反応及び後述する第Ａ２工程乃至第Ａ７工程の目的化合物は、常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を適宜中和し、又、不溶物が存在する場合には濾過により除去した後、水と酢酸エチルのような混和しない有機溶媒を加え、水等で洗浄後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム、無水硫酸ナトリウム等で乾燥後、溶剤を留去することによって得られる。得られた目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿又は通常、有機化合物の分離精製に慣用されている方法、例えば、シリカゲル、アルミナ、マグネシウムーシリカゲル系のフロリジルのような担体を用いた吸着カラムクロマトグラフィー法；セファデックスＬＨ−２０（ファルマシア社製）、アンバーライトＸＡＤ−１１（ローム・アンド・ハース社製）、ダイヤイオンＨＰ−２０（三菱化学社製）のような担体を用いた分配カラムクロマトグラフィー等の合成吸着剤を使用する方法、イオン交換クロマトを使用する方法、又は、シリカゲル若しくはアルキル化シリカゲルによる順相・逆相カラムクロマトグラフィー法（好適には、高速液体クロマトグラフィーである。）を適宜組合せ、適切な溶離剤で溶出することによって分離、精製することができる。
【０１８６】
第Ａ２工程
第Ａ２工程は、一般式（Ｉｃ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（Ｖ）を、不活性溶媒中、窒素雰囲気下、塩基及びパラジウム触媒の存在下、化合物（ＶＩ）とSonogashira coupling反応させ、所望によりヒドロキシ基、アミノ基及び／又はカルボキシル基の保護基を除去することにより行なわれる。
【０１８７】
上記反応に使用される不活性溶媒としては、本反応に不活性なものであれば特に限定はないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；ギ酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノンのようなケトン類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類；ジメチルスルホキシドようなスルホキシド類；又はスルホランのようなスルホン類；であり、好適には、エーテル類、アミド類又はスルホキシド類（最も好適には、エ−テル類又はアミド類）である。また、反応溶媒中に少量の水を添加することで、反応の進行が促進されることがある。
【０１８８】
上記反応に使用される塩基としては、通常Sonogashira coupling反応に使用される塩基であれば特に限定はないが、例えば、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属重炭酸塩類；水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物類；水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物類；リチウムメトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド類；又はトリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、ピリジン、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ−５−エン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（ＤＢＵ）のような有機アミン類；であり、好適には有機アミン類（最も好適にはトリエチルアミン）である。
【０１８９】
上記反応に使用されるパラジウム触媒としては、通常Sonogashira coupling反応に使用されるものであれば特に限定はないが、例えば、酢酸パラジウム、塩化パラジウム、炭酸パラジウムのようなパラジウム塩類、配位子と錯体を形成しているジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム錯体のようなパラジウム塩錯体類、パラジウム−炭素等を挙げることができる。
【０１９０】
また、添加剤として、ヨウ化銅（Ｉ）、塩化ベンジルトリエチルアンモニウムを使用することにより、収率を向上させることができる。
【０１９１】
反応温度は、原料化合物、塩基、溶媒の種類等によって異なるが、通常、−２０℃乃至２００℃（好適には０℃乃至１２０℃）である。
【０１９２】
反応時間は、原料化合物、塩基、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、５分乃至４８時間（好適には１５分乃至２４時間）である。
【０１９３】
Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³におけるヒドロキシ基、アミノ基及び／又はカルボキシル基の保護基の除去は、後述する第Ａ７工程における保護基の除去と同様に行われる。
【０１９４】
本工程の目的化合物（Ｉｃ）は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿、又は、通常、有機化合物の分離精製に慣用されている各種クロマトグラフィー法を適宜組合せ、適切な溶離剤で溶出することによって分離、精製することができる。
【０１９５】
第Ａ３工程
第Ａ３工程は、一般式（Ｉｄ）を有する化合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、化合物（Ｉｃ）を還元（好適には、水素雰囲気下、接触還元）して、所望によりヒドロキシ基、アミノ基及び／又はカルボキシル基の保護基を除去することにより行われる。該保護基の除去は、後述する第Ａ７工程における保護基の除去と同様に行われる。
【０１９６】
上記反応における接触還元に使用される不活性溶媒としては、本反応に不活性なものであれば特に限定はないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；トルエン、ベンゼン、キシレンのような芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、ｔ−ブタノール、イソアミルアルコール、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブのようなアルコ−ル類；酢酸、塩酸のような有機酸類；水；又は上記溶媒と水との混合溶媒；であり、好適には、エーテル類又はアルコール類（最も好適には、メタノール）である。
【０１９７】
接触還元に使用される触媒としては、通常、三重結合を二重結合に還元する反応に使用されるものであれば、特に限定はないが、好適には、パラジウム−炭酸カルシウム、パラジウム−酸化アルミニウム、パラジウム−炭素、パラジウム−硫酸バリウムのようなパラジウム類又はロジウム−酸化アルミニウムのようなロジウム類であり、より好適にはパラジウム−炭酸カルシウムである。
【０１９８】
なお、本工程で、化合物（Ｉｃ）の側鎖に含まれるエチニレン基を、ビニレン基に還元し、エチレン基にまで還元しないために、反応溶媒中に、ピリジン、キノリンのような塩基性芳香族化合物、アンモニア、トリエチルアミンのようなアミン類（好適には、キノリン）を添加して、触媒を不活性化してもよい。
【０１９９】
水素圧は特に限定はないが、通常１乃至１０気圧で行われ、好適には１気圧である。
【０２００】
反応温度は、原料化合物、触媒、溶媒の種類等によって異なるが、通常、−２０℃乃至２００℃（好適には０℃乃至１００℃）である。
【０２０１】
反応時間は、原料化合物、触媒、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、５分乃至９６時間（好適には１５分乃至７２時間）である。
【０２０２】
本工程の目的化合物（Ｉｄ）は、必要ならば、常法、例えば、再結晶、再沈殿又は通常、有機化合物の分離精製に慣用されている各種クロマトグラフィー法を適宜組合せ、適切な溶離剤で溶出することによって分離、精製することができる。
【０２０３】
第Ａ４工程
第Ａ４工程は、一般式（Ｉｅ）を有する化合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、化合物（Ｉｄ）を還元（好適には、水素雰囲気下、接触還元）して、所望によりヒドロキシ基、アミノ基及び／又はカルボキシル基の保護基を除去することにより行われる。該保護基の除去は、後述する第Ａ７工程における保護基の除去と同様に行われる。
【０２０４】
上記反応における接触還元に使用される不活性溶媒としては、本反応に不活性なものであれば特に限定はないが、例えば、上記第Ａ３工程において使用されるものと同様のものを挙げることができ、好適には、エステル類、エーテル類又はアルコール類（最も好適には、酢酸エチル又はメタノール）である。
【０２０５】
上記反応における接触還元に使用される触媒としては、通常、接触還元反応に使用されるものであれば、特に限定はなく、例えば、パラジウム−炭素、パラジウム黒、水酸化パラジウム、パラジウム−硫酸バリウムのようなパラジウム類、酸化白金、白金黒のような白金類、ロジウム−酸化アルミニウム、トリフェニルホスフィン−塩化ロジウムのようなロジウム類、ラネーニッケルのようなニッケル類を挙げることができる。
【０２０６】
水素圧は特に限定はないが、通常１乃至１０気圧で行われ、好適には１気圧である。
【０２０７】
反応温度は、原料化合物、触媒、溶媒の種類等によって異なるが、通常、−２０℃乃至２００℃（好適には０℃乃至１００℃）である。
【０２０８】
反応時間は、原料化合物、触媒、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、５分乃至９６時間（好適には１５分乃至７２時間）である。
【０２０９】
本工程の目的化合物（Ｉｅ）は、必要ならば、常法、例えば、再結晶、再沈殿又は通常、有機化合物の分離精製に慣用されている各種クロマトグラフィー法を適宜組合せ、適切な溶離剤で溶出することによって分離、精製することができる。
【０２１０】
第Ａ３ａ工程
なお、一般式（Ｉｅ）を有する化合物を、不活性溶媒中、化合物（Ｉｃ）を還元（好適には、水素雰囲気下、接触還元）して、所望によりヒドロキシ基、アミノ基及び／またはカルボキシル基の保護基を除去することにより、２工程を経ずに一段で製造することもでき、この場合は、接触還元に使用される不活性溶媒及び接触還元に使用される触媒は、通常、接触還元反応に使用されるものであれば、特に限定はなく、上記第Ａ４工程において使用されるものと同様のものを挙げることができる。
【０２１１】
水素圧は特に限定はないが、通常１乃至１０気圧で行われ、好適には１気圧である。
【０２１２】
反応温度は、原料化合物、触媒、溶媒の種類等によって異なるが、通常、−２０℃乃至２００℃（好適には０℃乃至１００℃）である。
【０２１３】
反応時間は、原料化合物、触媒、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、５分乃至９６時間（好適には１５分乃至７２時間）である。
【０２１４】
第Ａ５工程
第Ａ５工程は、一般式（Ｉｆ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（Ｉｃ）を、不活性溶媒中、酸触媒を用いた水の付加反応を行い、所望により、ヒドロキシ基、アミノ基及び／又はカルボキシル基の保護基を除去することにより行われる。該保護基の除去は、後述する第Ａ７工程における保護基の除去と同様に行われる。
【０２１５】
上記反応に使用される不活性溶媒としては、本反応に不活性なものであれば特に限定はないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、ｔ−ブタノール、イソアミルアルコール、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブのようなアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノンのようなケトン類；水；又は上記溶媒の混合溶媒；であり、好適には、アルコール類である。
【０２１６】
上記反応に使用される酸触媒としては、通常の反応において酸触媒として使用されるものであれば特に限定はないが、例えば、塩酸、臭化水素酸、硫酸、過塩素酸、リン酸のような無機酸又は酢酸、ギ酸、シュウ酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸のような有機酸等のブレンステッド酸或いは塩化亜鉛、四塩化スズ、ボロントリクロリド、ボロントリフルオリド、ボロントリブロミドのようなルイス酸又は、酸性イオン交換樹脂を挙げることができ、好適には無機酸である。
【０２１７】
反応温度は、原料化合物、触媒、溶媒の種類等によって異なるが、通常、−２０℃乃至２００℃（好適には０℃乃至１００℃）である。
【０２１８】
反応時間は、原料化合物、触媒、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、５分乃至９６時間（好適には１５分乃至７２時間）である。
【０２１９】
第Ａ６工程
第Ａ６工程は、一般式（Ｉｇ）を有する化合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、化合物（Ｉｆ）のＣＯ基を−ＣＨ（ＯＨ）−基に還元して、所望により、ヒドロキシ基、アミノ基及び／又はカルボキシル基の保護基を除去することにより行われる。該保護基の除去は、後述する第Ａ７工程における保護基の除去と同様に行われる。
【０２２０】
上記反応に使用される不活性溶媒は、本反応に不活性なものであれば特に限定はされないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；又はメタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、ｔ−ブタノール、イソアミルアルコール、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブのようなアルコール類或は上記溶媒の混合溶媒であり、好適には、エーテル類又はアルコール類（最も好適には、メタノール又はエタノール）である。
【０２２１】
上記反応に使用される還元剤としては、ＣＯ基を−ＣＨ（ＯＨ）−基に還元できる還元剤であれば特に限定はされないが、例えば、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、水素化シアノホウ素ナトリウムのような水素化ホウ素アルカリ金属類；又は水素化ジイソブチルアルミニウム、水素化アルミニウムリチウム、水素化トリエトキシアルミニウムリチウムのような水素化アルミニウム化合物；であり、好適には水素化ホウ素アルカリ金属類（特に、水素化ホウ素ナトリウム）である。
【０２２２】
反応温度は、原料化合物、還元剤、溶媒の種類等によって異なるが、通常、−１０℃乃至１００℃（好適には−２０℃乃至２０℃）である。
【０２２３】
反応時間は、原料化合物、還元剤、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、１０分間乃至４８時間（好適には３０分間乃至１２時間）である。
【０２２４】
第Ａ７工程
第Ａ７工程は、一般式（Ｉｈ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（Ｖ）を化合物（ＶＩＩａ）又は（ＶＩＩｂ）とSuzuki coupling反応させた後、所望によりヒドロキシ基、アミノ基及び／又はカルボキシル基の保護基を除去することにより行われる。該保護基の除去は、後述する第Ａ７工程における保護基の除去と同様に行われる。
【０２２５】
反応温度は、原料化合物、溶媒の種類等によって異なるが、通常、０℃乃至１５０℃（好適には１０℃乃至１００℃）である。
【０２２６】
反応時間は、原料化合物、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、１５分乃至２４時間（好適には３０分乃至１２時間）である。
【０２２７】
上記反応に使用される溶媒、塩基及びパラジウム触媒としては、前述の第Ａ２工程のSonogashira Coupling反応で用いられるものと同様なものを挙げることができる。
【０２２８】
本工程の目的化合物（Ｉｈ）は必要ならば、常法、例えば、再結晶、再沈殿又は通常、有機化合物の分離精製に慣用されている各種クロマトグラフィー法を適宜組合せ、適切な溶離剤で溶出することによって分離、精製することができる。
【０２２９】
所望の工程である、ヒドロキシ基、アミノ基及び／又はカルボキシル基の保護基の除去はその種類によって異なるが、一般に有機合成化学の技術において周知の方法、例えば、T.W.Green,（Protective Groups in Organic Synthesis）,John Wiley & Sons:J.F.W.McOmis,（Protective Groups in OrganicChemistry）,Plenum Pressに記載の方法により行うことができ、例えば、以下のように行うことができる。
【０２３０】
アミノ基の保護基が、シリル類である場合には、通常、フッ化テトラブチルアンモニウム、フッ化水素酸、フッ化水素酸−ピリジン、フッ化カリウムのようなフッ素アニオンを生成する化合物で処理することにより除去される。
【０２３１】
上記反応に使用される不活性溶媒は、反応を阻害しないものであれば特に限定はないが、例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル類が好適である。
【０２３２】
反応温度及び反応時間は、特に限定はないが、通常、０℃乃至５０℃で１０分間乃至１８時間実施される。
【０２３３】
アミノ基の保護基が、脂肪族アシル類、芳香族アシル類、アルコキシカルボニル類又はシッフ塩基を形成する置換されたメチレン基である場合には、水性溶媒の存在下に、酸又は塩基で処理することにより除去することができる。
【０２３４】
上記反応に使用される酸としては、通常酸として使用されるもので反応を阻害しないものであれば特に限定はないが、例えば、臭化水素酸、塩酸、硫酸、過塩素酸、リン酸、硝酸のような無機酸であり、好適には塩酸である。
【０２３５】
上記反応に使用される塩基としては、通常塩基として使用されるもので反応を阻害しないものであれば特に限定はないが、好適には、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物類；リチウムメトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム−ｔ−ブトキシドのような金属アルコキシド類；アンモニア水、濃アンモニア−メタノ−ルのようなアンモニア類であり、より好適には、アルカリ金属水酸化物である。
【０２３６】
上記反応に使用される不活性溶媒としては、通常の加水分解反応に使用されるものであれば特に限定はないが、例えば、メタノ−ル、エタノ−ル、ｎ−プロパノ−ル、イソプロパノ−ル、ｎ−ブタノ−ル、イソブタノ−ル、ｔ−ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブのようなアルコ−ル類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル類；水；水と上記有機溶媒との混合溶媒；であり、好適にはエーテル類又はアルコール類と水との混合溶媒（最も好適にはテトラヒドロフラン、ジオキサン、エタノール、メタノールと水との混合溶媒）である。
【０２３７】
反応温度及び反応時間は、原料化合物、溶媒及び使用される酸若しくは塩基等により異なり、特に限定はないが、副反応を抑制するために、通常、０℃乃至１５０℃で、１時間乃至１０時間反応させる。
【０２３８】
アミノ基の保護基が、アラルキル類又はアラルキルオキシカルボニル類である場合には、通常、不活性溶媒中、還元剤と接触させること（好適には、触媒下、常温にて接触還元）により除去する方法又は酸化剤を用いて除去する方法が好適である。
【０２３９】
接触還元による除去に使用される不活性溶媒としては、反応を阻害しないものであれば特に限定はないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；トルエン、ベンゼン、キシレンのような芳香族炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル類；メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、ｔ−ブタノール、イソアミルアルコール、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブのようなアルコール類；酢酸のような有機酸類；水；上記溶媒と水との混合溶媒；であり、好適には、アルコール類、エーテル類、有機酸類又は水（最も好適には、アルコール類又は有機酸類）である。
【０２４０】
接触還元による除去に使用される触媒としては、通常、接触還元反応に使用されるものであれば、特に限定はないが、好適には、パラジウム−炭素、ラネーニッケル、酸化白金、白金黒、ロジウム−酸化アルミニウム、トリフェニルホスフィン−塩化ロジウム、パラジウム−硫酸バリウムが用いられる。
【０２４１】
水素の圧力は、特に限定はないが、通常１乃至１０気圧で行なわれる。
【０２４２】
反応温度及び反応時間は、原料化合物、触媒、溶媒等により異なるが、通常、０℃乃至１００℃で、５分間乃至２４時間実施される。
【０２４３】
酸化剤を用いる除去において使用される不活性溶媒としては、反応を阻害しないものであれば特に限定はないが、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類；アセトニトリルのようなニトリル類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル類；アセトンのようなケトン類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類；及びジメチルスルホキシドのようなスルホキシド類；スルホラン；であり、好適には、ハロゲン化炭化水素類、エ−テル類又はスルホキシド類（最も好適には、ハロゲン化炭化水素類又はスルホキシド類）である。
【０２４４】
使用される酸化剤としては、通常酸化剤として使用されるもので反応を阻害しないものであれば特に限定はないが、好適には、過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウム、アンモニウムセリウムナイトレイト（ＣＡＮ）、２，３−ジクロロ−５，６−ジシアノ−ｐ−ベンゾキノン（ＤＤＱ）が用いられる。
【０２４５】
反応温度及び反応時間は、原料化合物、触媒、溶媒等により異なるが、通常、０℃乃至１５０℃で、１０分間乃至２４時間実施される。
【０２４６】
また、アミノ基の保護基が、アラルキル類である場合には、不活性溶媒中、酸を用いて保護基を除去することもできる。
【０２４７】
上記反応に使用される酸は、通常の反応において酸触媒として使用されるものであれば特に限定はないが、例えば、塩酸、臭化水素酸、硫酸、過塩素酸、リン酸のような無機酸；酢酸、ギ酸、シュウ酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸のような有機酸等のブレンステッド酸；塩化亜鉛、四塩化スズ、ボロントリクロリド、ボロントリフルオリド、ボロントリブロミドのようなルイス酸；酸性イオン交換樹脂；であり、好適には、無機酸又は有機酸（最も好適には、塩酸、酢酸又はトリフルオロ酢酸）である。
【０２４８】
上記反応に使用される不活性溶媒は、反応を阻害しないものであれば特に限定はないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；メタノ−ル、エタノ−ル、ｎ−プロパノ−ル、イソプロパノ−ル、ｎ−ブタノ−ル、イソブタノ−ル、ｔ−ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブのようなアルコ−ル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類；水；或は水又は上記溶媒の混合溶媒；であり、好適には、エーテル類、アルコ−ル類又は水（最も好適には、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エタノール又は水）である。
【０２４９】
反応温度は、原料化合物、使用される酸、溶媒等により異なるが、通常、−２０℃乃至沸点温度（好適には、０℃乃至１００℃）である。
【０２５０】
反応時間は、原料化合物、使用される酸、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、１５分間乃至４８時間（好適には、３０分間乃至２０時間）である。
【０２５１】
アミノ基の保護基がアルケニルオキシカルボニル類である場合は、通常、アミノの保護基が前記の脂肪族アシル類、芳香族アシル類、アルコキシカルボニル類又はシッフ塩基を形成する置換されたメチレン基である場合の除去反応の条件と同様にして、塩基と処理することにより行われる。
【０２５２】
尚、アミノ基の保護基がアリルオキシカルボニル基の場合は、特に、パラジウム、及びトリフェニルホスフィン若しくはニッケルテトラカルボニルを使用して保護基を除去する方法が簡便で、副反応が少なく実施することができる。
【０２５３】
ヒドロキシ基の保護基として、シリル類を使用した場合には、通常、フッ化テトラブチルアンモニウム、フッ化水素酸、フッ化水素酸−ピリジン、フッ化カリウムのようなフッ素アニオンを生成する化合物で処理するか、又は、塩酸、臭化水素酸、硫酸、過塩素酸、リン酸のような無機酸又は酢酸、ギ酸、シュウ酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸のような有機酸（好適には、塩酸）で処理することにより除去できる。
【０２５４】
フッ素アニオンにより保護基を除去する場合に使用される不活性溶媒としては、反応を阻害しないものであれば特に限定はないが、好適には、ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；酢酸のような有機酸；水；上記溶媒の混合溶媒であり、より好適には、テトラヒドロフランである。
【０２５５】
尚、フッ素アニオンにより保護基を除去する場合に、ギ酸、酢酸、プロピオン酸のような有機酸を加えることによって、反応を促進させたり、反応生成物の分解を防いで、収率を向上させることができる。
【０２５６】
フッ素アニオンにより保護基を除去する場合の反応温度及び反応時間は、原料化合物、触媒、溶媒等により異なるが、通常、０℃乃至１００℃（好適には、１０℃乃至５０℃）で、１時間乃至２４時間実施される。
【０２５７】
無機酸又は有機酸により保護基を除去する場合、アミノ基又はイミノ基の保護基がアラルキル類である場合の除去反応の条件と同様にして、無機酸又は有機酸と処理することにより達成される。
【０２５８】
ヒドロキシ基の保護基が、アラルキル類又はアラルキルオキシカルボニル類である場合には、通常、不活性溶媒中、還元剤と接触させることにより（好適には、触媒下、常温にて接触還元）除去する方法又は酸化剤を用いて除去する方法が好適である。
【０２５９】
接触還元による除去に使用される不活性溶媒としては、反応を阻害しないものであれば特に限定はないが、例えば、アミノ基又はイミノ基の保護基が、アラルキル類又はアラルキルオキシカルボニル類である場合、還元剤と接触させることにより除去する際に使用される不活性溶媒と同様なものを挙げることができ、好適にはアルコ−ル類（最も好適にはメタノール）である。
【０２６０】
接触還元による除去に使用される触媒としては、通常、接触還元反応に使用されるものであれば、特に限定はないが、例えば、アミノ基又はイミノ基の保護基が、アラルキル類又はアラルキルオキシカルボニル類である場合、還元剤と接触させることにより除去する際に使用される不活性触媒と同様なものを挙げることができ、好適にはパラジウム−炭素である。
【０２６１】
圧力は、特に限定はないが、通常１乃至１０気圧で行なわれる。
【０２６２】
反応温度及び反応時間は、原料化合物、触媒、溶媒等により異なるが、通常、０℃乃至１００℃（好適には、２０℃乃至７０℃）、５分間乃至４８時間（好適には、１時間乃至２４時間）である。
【０２６３】
酸化剤を用いる除去において使用される溶媒としては、反応を阻害しないものであれば特に限定はないが、例えば、アミノ基の保護基が、アラルキル類又はアラルキルオキシカルボニル類である場合、酸化剤と接触させることにより除去する際に使用される不活性溶媒と同様なものを挙げることができる。
【０２６４】
使用される酸化剤としては、酸化に使用される化合物であれば特に限定はないが、例えば、アミノ基の保護基が、アラルキル類又はアラルキルオキシカルボニル類である場合、酸化剤と接触させることにより除去する際に使用される酸化剤と同様なものを挙げることができる。
【０２６５】
反応温度及び反応時間は、原料化合物、触媒、溶媒等により異なるが、通常、０℃乃至１５０℃で、１０分間乃至２４時間実施される。
【０２６６】
また、液体アンモニア中若しくはメタノ−ル、エタノ−ル、ｎ−プロパノール、イソプロパノ−ル、ｎ−ブタノ−ル、イソブタノ−ル、ｔ−ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブのようなアルコ−ル類中において、−７８℃乃至０℃で、金属リチウム、金属ナトリウムのようなアルカリ金属類を作用させることによっても除去できる。
【０２６７】
更に、ヒドロキシ基の保護基が、アラルキル類又はアラルキルオキシカルボニル類である場合には、溶媒中、塩化アルミニウム−ヨウ化ナトリウム又は、ヨウ化トリメチルシランのようなアルキルシリルハライド類を用いることにより、保護基を除去することができる。
【０２６８】
塩化アルミニウム−ヨウ化ナトリウム又はアルキルシリルハライド類を用いて保護基を除去する場合使用される不活性溶媒としては、本反応に関与しないものであれば特に限定はないが、好適には、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類；アセトニトリルのようなニトリル類；上記溶媒の混合溶媒；が挙げられる。
【０２６９】
塩化アルミニウム−ヨウ化ナトリウム又はアルキルシリルハライド類を用いて保護基を除去する場合の反応温度及び反応時間は、原料化合物、溶媒等により異なるが、通常は０℃乃至５０℃で、５分間乃至７２時間実施される。
【０２７０】
尚、反応基質が硫黄原子を有する場合は、好適には、塩化アルミニウム−ヨウ化ナトリウムが用いられる。
【０２７１】
ヒドロキシ基の保護基が、脂肪族アシル類、芳香族アシル類又はアルコキシカルボニル基類である場合には、溶媒中、塩基で処理することにより除去される。
【０２７２】
上記反応において使用される塩基としては、通常塩基として使用されるもので化合物の他の部分に影響を与えないものであれば特に限定はないが、例えば、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属重炭酸塩類；水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物類；リチウムメトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム−ｔ−ブトキシドのような金属アルコキシド類；アンモニア水、濃アンモニア−メタノ−ルのようなアンモニア類；であり、好適には、アルカリ金属水酸化物類、金属アルコキシド類又はアンモニア類（最も好適には、アルカリ金属水酸化物類又は金属アルコキシド類）である。
【０２７３】
上記反応において使用される溶媒としては、通常の加水分解反応に使用されるものであれば特に限定はないが、例えば、ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル類；メタノ−ル、エタノ−ル、ｎ−プロパノール、イソプロパノ−ル、ｎ−ブタノ−ル、イソブタノ−ル、ｔ−ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブのようなアルコ−ル類；水；上記溶媒の混合溶媒が好適である。
【０２７４】
反応温度及び反応時間は、原料化合物、使用される塩基、溶媒等により異なり特に限定はないが、副反応を抑制するために、通常、−２０℃乃至１５０℃で、１時間乃至１０時間実施される。
【０２７５】
ヒドロキシ基の保護基が、アルコキシメチル類、テトラヒドロピラニル類、テトラヒドロチオピラニル類、テトラヒドロフラニル類、テトラヒドロチオフラニル類又は置換されたエチル類である場合には、通常、不活性溶媒中、酸で処理することにより除去される。
【０２７６】
上記反応に使用される酸としては、通常、ブレンステッド酸又はルイス酸として使用されるものであれば特に限定はなく、好適には、塩化水素；塩酸、硫酸、硝酸のような無機酸；又は酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸のような有機酸等のブレンステッド酸：三フッ化ホウ素のようなルイス酸であり、より好適には、塩酸又は酢酸であり、また、ダウエックス５０Ｗのような強酸性の陽イオン交換樹脂も使用することができる。
【０２７７】
上記反応に使用される不活性溶媒としては、反応を阻害しないものであれば特に限定はないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；ギ酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル類；メタノ−ル、エタノ−ル、ｎ−プロパノ−ル、イソプロパノ−ル、ｎ−ブタノ−ル、イソブタノ−ル、ｔ−ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブのようなアルコ−ル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノンのようなケトン類；水；上記溶媒の混合溶媒；であり、好適には、エ−テル類（最も好適には、テトラヒドロフラン）又はアルコール類（最も好適には、メタノール）である。
【０２７８】
反応温度及び反応時間は、原料化合物、使用される酸、溶媒等により異なるが、通常、−１０℃乃至２００℃（好適には、０℃乃至１５０℃）で、５分間乃至４８時間（好適には、３０分間乃至１０時間）である。
【０２７９】
ヒドロキシ基の保護基が、アルケニルオキシカルボニル類である場合は、通常、ヒドロキシ基の保護基が前記の脂肪族アシル類、芳香族アシル類又はアルコキシカルボニル類である場合の除去反応の条件と同様にして、塩基と処理することにより達成される。
【０２８０】
尚、アリルオキシカルボニル基の場合は、特にパラジウム、及びトリフェニルホスフィン、又はビス（メチルジフェニルホスフィン）（１，５−シクロオクタジエン）イリジウム（Ｉ）・ヘキサフルオロホスフェートを使用して除去する方法が簡便で、副反応が少なく実施することができる。
【０２８１】
カルボキシル基の保護基が、低級アルキル基又は低級アルキル、低級アルコキシ、ニトロ、ハロゲン若しくはシアノで置換されてもよい１乃至３個のアリールで置換された低級アルキル基である場合は、通常、ヒドロキシ基の保護基が前記の脂肪族アシル類、芳香族アシル類又はアルコキシカルボニル類である場合の除去反応の条件と同様にして、塩基と処理することにより達成される。
【０２８２】
また、アミノ、ヒドロキシ及び／又はカルボキシル基の保護基の除去は、順不同で希望する除去反応を順時実施することができる。
【０２８３】
尚、異性体を分離する必要がある場合には、上記各工程の反応終了後、又は、所望工程の終了後の適切な時期に、上記分離精製手段によって行なうことができる。
【０２８４】
原料化合物（ＶＩ）及び（ＶＩＩ）は、公知か、公知の方法又はそれに類似した方法に従って容易に製造される。
【０２８５】
Ｂ法は、本発明の化合物（Ｉ）の中間体である化合物（ＩＶ）を製造する方法である。
【０２８６】
【化５８】

【０２８７】
上記式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁶、Ｒ⁷及びＸは、前述したものと同意義を示し、式−ＮＲ¹ _bＲ² _bを有する基は、カルボニル基を有する保護基で保護されたアミノ基を示し、Ｒ⁹は、Ｃ₁−Ｃ₂₀アルキル基、ヘテロ原子が介在するＣ₂−Ｃ₂₀アルキル基、アリール基又は芳香族複素環基で置換されたＣ₁−Ｃ₂₀アルキル基、Ｃ₂−Ｃ₂₀アルキニル基、ヘテロ原子が介在するＣ₃−Ｃ₂₀アルキニル基、アリール基又は芳香族複素環基で置換されたＣ₂−Ｃ₂₀アルキニル基、Ｃ₂−Ｃ₂₀アルケニル基、ヘテロ原子が介在するＣ₃−Ｃ₂₀アルケニル基、アリール基又は芳香族複素環基で置換されたＣ₂−Ｃ₂₀アルケニル基、アリール基又は芳香族複素環基で置換されたヘテロ原子が介在するＣ₂−Ｃ₂₀アルキル基、或はＣ₃−Ｃ₁₀シクロアルキル基を示し、ｍは０乃至４の整数を示し、Ｐｈはフェニル基を示シ、Ｑはハロゲン原子（好適には、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子）を示す。
【０２８８】
上記において、Ｒ⁹の定義における「Ｃ₁−Ｃ₂₀アルキル基」は、例えば、前記「低級アルキル基」、ヘプチル、１−メチルヘキシル、２−メチルヘキシル、３−メチルヘキシル、４−メチルヘキシル、５−メチルヘキシル、１−プロピルブチル、４，４−ジメチルペンチル、オクチル、１−メチルヘプチル、２−メチルヘプチル、３−メチルヘプチル、４−メチルヘプチル、５−メチルヘプチル、６−メチルヘプチル、１−プロピルペンチル、２−エチルヘキシル、５，５−ジメチルヘキシル、ノニル、３−メチルオクチル、４−メチルオクチル、５−メチルオクチル、６−メチルオクチル、１−プロピルヘキシル、２−エチルヘプチル、６，６−ジメチルヘプチル、デシル、１−メチルノニル、３−メチルノニル、８−メチルノニル、３−エチルオクチル、３，７−ジメチルオクチル、７，７−ジメチルオクチル、ウンデシル、４，８−ジメチルノニル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、３，７，１１−トリメチルドデシル、ヘキサデシル、４，８，１２−トリメチルトリデシル、１−メチルペンタデシル、１４−メチルペンタデシル、１３，１３−ジメチルテトラデシル、ヘプタデシル、１５−メチルヘキサデシル、オクタデシル、１−メチルヘプタデシル、ノナデシル、アイコシル、及び、３，７，１１，１５−テトラメチルヘキサデシル基のような炭素数１乃至２０個の直鎖又は分枝鎖アルキル基であり、好適にはＣ₁−Ｃ₁₀アルキル基である。
【０２８９】
上記において、Ｒ⁹の定義における「ヘテロ原子が介在するＣ₂−Ｃ₂₀アルキル基」は、前記「Ｃ₁−Ｃ₂₀アルキル基」の内の「炭素数２乃至２０個のアルキル基」が、同一又は異なって、１又は２個の、硫黄原子、酸素原子、又は、窒素原子で介在されている基を示し、例えば、メチルチオメチル、１−メチルチオエチル、２−メチルチオエチル、エチルチオメチル、１−メチルチオプロピル、２−メチルチオプロピル、３−メチルチオプロピル、２−エチルチオエチル、２−メチルー２−メチルチオエチル、１−メチルチオブチル、２−メチルチオブチル、３−メチルチオブチル、２−エチルチオプロピル、３−メチル−３−メチルチオプロピル、４−メチルチオペンチル、３−メチルチオペンチル、２−メチルチオペンチル、１−メチルチオペンチル、３，３−ジメチルチオブチル、２，２−ジメチルチオブチル、１，１−ジメチルチオブチル、１−メチル−２−メチルチオブチル、１，３−ジメチルチオブチル、２，３−ジメチルチオブチル、２−エチルチオブチル、１−メチルチオヘキシル、２−メチルチオヘキシル、３−メチルチオヘキシル、４−メチルチオヘキシル、５−メチルチオヘキシル、１−プロピルチオブチル、４−メチル−４−メチルチオペンチル、１−メチルチオヘプチル、２−メチルチオヘプチル、３−メチルチオヘプチル、４−メチルチオヘプチル、５−メチルチオヘプチル、６−メチルチオヘプチル、１−プロピルチオペンチル、２−エチルチオヘキシル、５−メチル−５−メチルチオヘキシル、３−メチルチオオクチル、４−メチルチオオクチル、５−メチルチオオクチル、６−メチルチオオクチル、１−プロピルチオヘキシル、２−エチルチオヘプチル、６−メチル−６−メチルチオヘプチル、１−メチルチオノニル、３−メチルチオノニル、８−メチルチオノニル、３−エチルチオオクチル、３−メチル−７−メチルチオオクチル、７，７−ジメチルチオオクチル、４−メチル−８−メチルチオノニル、３，７−ジメチル−１１−メチルチオドデシル、４，８−ジメチル−１２−メチルチオトリデシル、１−メチルチオペンタデシル、１４−メチルチオペンタデシル、１３−メチル−１３−メチルチオテトラデシル、１５−メチルチオヘキサデシル、１−メチルチオヘプタデシル、及び、３，７，１１−トリメチル−１５−メチルチオヘキサデシルのような１又は２個の硫黄原子で介在されている炭素数２乃至２０個のアルキル基；メチルオキシメチル、１−メチルオキシエチル、２−メチルオキシエチル、エチルオキシメチル、１−メチルオキシプロピル、２−メチルオキシプロピル、３−メチルオキシプロピル、２−エチルオキシエチル、２−メチルー２−メチルオキシエチル、１−メチルオキシブチル、２−メチルオキシブチル、３−メチルオキシブチル、２−エチルオキシプロピル、３−メチル−３−メチルオキシプロピル、４−メチルオキシペンチル、３−メチルオキシペンチル、２−メチルオキシペンチル、１−メチルオキシペンチル、３，３−ジメチルオキシブチル、２，２−ジメチルオキシブチル、１，１−ジメチルオキシブチル、１−メチル−２−メチルオキシブチル、１，３−ジメチルオキシブチル、２，３−ジメチルオキシブチル、２−エチルオキシブチル、１−メチルオキシヘキシル、２−メチルオキシヘキシル、３−メチルオキシヘキシル、４−メチルオキシヘキシル、５−メチルオキシヘキシル、１−プロピルオキシブチル、４−メチル−４−メチルオキシペンチル、１−メチルオキシヘプチル、２−メチルオキシヘプチル、３−メチルオキシヘプチル、４−メチルオキシヘプチル、５−メチルオキシヘプチル、６−メチルオキシヘプチル、１−プロピルオキシペンチル、２−エチルオキシヘキシル、５−メチル−５−メチルオキシヘキシル、３−メチルオキシオクチル、４−メチルオキシオクチル、５−メチルオキシオクチル、６−メチルオキシオクチル、１−プロピルオキシヘキシル、２−エチルオキシヘプチル、６−メチル−６−メチルオキシヘプチル、１−メチルオキシノニル、３−メチルオキシノニル、８−メチルオキシノニル、３−エチルオキシオクチル、３−メチル−７−メチルオキシオクチル、７，７−ジメチルオキシオクチル、４−メチル−８−メチルオキシノニル、３，７−ジメチル−１１−メチルオキシドデシル、４，８−ジメチル−１２−メチルオキシトリデシル、１−メチルオキシペンタデシル、１４−メチルオキシペンタデシル、１３−メチル−１３−メチルオキシテトラデシル、１５−メチルオキシヘキサデシル、１−メチルオキシヘプタデシル、及び、３，７，１１−トリメチル−１５−メチルオキシヘキサデシルのような１又は２個の酸素原子で介在されている炭素数２乃至２０個のアルキル基；Ｎ−メチルアミノメチル、１−（Ｎ−メチルアミノ）エチル、２−（Ｎ−メチルアミノ）エチル、Ｎ−エチルアミノメチル、１−（Ｎ−メチルアミノ）プロピル、２−（Ｎ−メチルアミノ）プロピル、３−（Ｎ−メチルアミノ）プロピル、２−（Ｎ−エチルアミノ）エチル、２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチル、１−（Ｎ−メチルアミノ）ブチル、２−（Ｎ−メチルアミノ）ブチル、３−（Ｎ−メチルアミノ）ブチル、２−（Ｎ−エチルアミノ）プロピル、３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）プロピル、４−（Ｎ−メチルアミノ）ペンチル、３−（Ｎ−メチルアミノ）ペンチル、２−（Ｎ−メチルアミノ）ペンチル、１−（Ｎ−メチルアミノ）ペンチル、３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ブチル、２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ブチル、１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ブチル、１−メチル−２−（Ｎ−メチルアミノ）ブチル、１，３−ジ（Ｎ−メチルアミノ）ブチル、２，３−ジ（Ｎ−メチルアミノ）ブチル、２−（Ｎ−エチルアミノ）ブチル、１−（Ｎ−メチルアミノ）ヘキシル、２−（Ｎ−メチルアミノ）ヘキシル、３−（Ｎ−メチルアミノ）ヘキシル、４−（Ｎ−メチルアミノ）ヘキシル、５−（Ｎ−メチルアミノ）ヘキシル、１−（Ｎ−プロピルアミノ）ブチル、４−メチル−４−（Ｎ−メチルアミノ）ペンチル、１−（Ｎ−メチルアミノ）ヘプチル、２−（Ｎ−メチルアミノ）ヘプチル、３−（Ｎ−メチルアミノ）ヘプチル、４−（Ｎ−メチルアミノ）ヘプチル、５−（Ｎ−メチルアミノ）ヘプチル、６−（Ｎ−メチルアミノ）ヘプチル、１−（Ｎ−プロピルアミノ）ペンチル、２−（Ｎ−エチルアミノ）ヘキシル、５−メチル−５−（Ｎ−メチルアミノ）ヘキシル、３−（Ｎ−メチルアミノ）オクチル、４−（Ｎ−メチルアミノ）オクチル、５−（Ｎ−メチルアミノ）オクチル、６−（Ｎ−メチルアミノ）オクチル、１−（Ｎ−プロピルアミノ）ヘキシル、２−（Ｎ−エチルアミノ）ヘプチル、６−メチル−６−（Ｎ−メチルアミノ）ヘプチル、１−（Ｎ−メチルアミノ）ノニル、３−（Ｎ−メチルアミノ）ノニル、８−（Ｎ−メチルアミノ）ノニル、３−（Ｎ−エチルアミノ）オクチル、３−メチル−７−（Ｎ−メチルアミノ）オクチル、７，７−ジ（Ｎ−メチルアミノ）オクチル、４−メチル−８−（Ｎ−メチルアミノ）ノニル、３，７−ジメチル−１１−（Ｎ−メチルアミノ）ドデシル、４，８−ジメチル−１２−（Ｎ−メチルアミノ）トリデシル、１−（Ｎ−メチルアミノ）ペンタデシル、１４−（Ｎ−メチルアミノ）ペンタデシル、１３−メチル−１３−（Ｎ−メチルアミノ）テトラデシル、１５−（Ｎ−メチルアミノ）ヘキサデシル、１−（Ｎ−メチルアミノ）ヘプタデシル、及び、３，７，１１−トリメチル−１５−（Ｎ−メチルアミノ）ヘキサデシルのような１又は２個の窒素原子で介在されている炭素数２乃至２０個のアルキル基を挙げることができ、好適には、ヘテロ原子が介在するＣ₂−Ｃ₁₀アルキル基である。
【０２９０】
上記において、Ｒ⁹の定義における「アリール基又は芳香族複素環基で置換されたＣ₁−Ｃ₂₀アルキル基」は、前記「炭素数Ｃ₁−Ｃ₂₀アルキル基」が、同一又は異なって、１又は３個のアリール基又は芳香族複素環基で置換された基を示し、斯かる「アリール基」及び「芳香族複素環基」は、前述したものと同意義を示す。
【０２９１】
上記において、Ｒ⁹の定義における「Ｃ₂−Ｃ₂₀アルキニル基」は、例えば、エチニル、２−プロピニル、１−メチル−２−プロピニル、２−メチル−２−プロピニル、２−エチル−２−プロピニル、２−ブチニル、１−メチル−２−ブチニル、２−メチル−２−ブチニル、１−エチル−２−ブチニル、３−ブチニル、１−メチル−３−ブチニル、２−メチル−３−ブチニル、１−エチル−３−ブチニル、２−ペンチニル、１−メチル−２−ペンチニル、２−メチル−２−ペンチニル、３−ペンチニル、１−メチル−３−ペンチニル、２−メチル−３−ペンチニル、４−ペンチニル、１−メチル−４−ペンチニル、２−メチル−４−ペンチニル、２−ヘキシニル、３−ヘキシニル、４−ヘキシニル、５−ヘキシニル、ヘプチニル、１−メチルヘキシニル、２−メチルヘキシニル、３−メチルヘキシニル、４−メチルヘキシニル、５−メチルヘキシニル、１−プロピルブチニル、４，４−ジメチルペンチニル、オクチニル、１−メチルヘプチニル、２−メチルヘプチニル、３−メチルヘプチニル、４−メチルヘプチニル、５−メチルヘプチニル、６−メチルヘプチニル、１−プロピルペンチニル、２−エチルヘキシニル、５，５−ジメチルヘキシニル、ノニニル、３−メチルオクチニル、４−メチルオクチニル、５−メチルオクチニル、６−メチルオクチニル、１−プロピルヘキシニル、２−エチルヘプチニル、６，６−ジメチルヘプチニル、デシニル、１−メチルノニニル、３−メチルノニニル、８−メチルノニニル、３−エチルオクチニル、３，７−ジメチルオクチニル、７，７−ジメチルオクチニル、ウンデシニル、４，８−ジメチルノニニル、ドデシニル、トリデシニル、テトラデシニル、ペンタデシニル、３，７，１１−トリメチルドデシニル、ヘキサデシニル、４，８，１２−トリメチルトリデシニル、１−メチルペンタデシニル、１４−メチルペンタデシニル、１３，１３−ジメチルテトラデシニル、ヘプタデシニル、１５−メチルヘキサデシニル、オクタデシニル、１−メチルヘプタデシニル、ノナデシニル、アイコシニル、及び、３，７，１１，１５−テトラメチルヘキサデシニル基のような炭素数２乃至２０個の直鎖又は分枝鎖アルキニル基であり、好適にはＣ₁−Ｃ₁₀アルキニル基である。
【０２９２】
上記において、Ｒ⁹の定義における「ヘテロ原子が介在するＣ₃−Ｃ₂₀アルキニル基」は、前述の「Ｃ₁−Ｃ₂₀アルキニル基」の内の「Ｃ₃−Ｃ₂₀アルキニル基」が、同一又は異なって、１又は２個の、硫黄原子、酸素原子、又は、窒素原子で介在されている基を示し、例えば、１−メチルチオエチニル、２−メチルチオエチニル、１−メチルチオプロピニル、２−メチルチオプロピニル、３−メチルチオプロピニル、２−エチルチオエチニル、２−メチルー２−メチルチオエチニル、１−メチルチオブチニル、２−メチルチオブチニル、３−メチルチオブチニル、２−エチルチオプロピニル、３−メチル−３−メチルチオプロピニル、４−メチルチオペンチニル、３−メチルチオペンチニル、２−メチルチオペンチニル、１−メチルチオペンチニル、３，３−ジメチルチオブチニル、２，２−ジメチルチオブチニル、１，１−ジメチルチオブチニル、１−メチル−２−メチルチオブチニル、１，３−ジメチルチオブチニル、２，３−ジメチルチオブチニル、２−エチルチオブチニル、１−メチルチオヘキシニル、２−メチルチオヘキシニル、３−メチルチオヘキシニル、４−メチルチオヘキシニル、５−メチルチオヘキシニル、１−プロピルチオブチニル、４−メチル−４−メチルチオペンチニル、１−メチルチオヘプチニル、２−メチルチオヘプチニル、３−メチルチオヘプチニル、４−メチルチオヘプチニル、５−メチルチオヘプチニル、６−メチルチオヘプチニル、１−プロピルチオペンチニル、２−エチルチオヘキシニル、５−メチル−５−メチルチオヘキシニル、３−メチルチオオクチニル、４−メチルチオオクチニル、５−メチルチオオクチニル、６−メチルチオオクチニル、１−プロピルチオヘキシニル、２−エチルチオヘプチニル、６−メチル−６−メチルチオヘプチニル、１−メチルチオノニニル、３−メチルチオノニニル、８−メチルチオノニニル、３−エチルチオオクチニル、３−メチル−７−メチルチオオクチニル、７，７−ジメチルチオオクチニル、４−メチル−８−メチルチオノニニル、３，７−ジメチル−１１−メチルチオドデシニル、４，８−ジメチル−１２−メチルチオトリデシニル、１−メチルチオペンタデシニル、１４−メチルチオペンタデシニル、１３−メチル−１３−メチルチオテトラデシニル、１５−メチルチオヘキサデシニル、１−メチルチオヘプタデシニル、及び、３，７，１１−トリメチル−１５−メチルチオヘキサデシニルのような１又は２個の硫黄原子で介在されている炭素数３乃至２０個のアルキニル基；１−メチルオキシエチニル、２−メチルオキシエチニル、１−メチルオキシプロピニル、２−メチルオキシプロピニル、３−メチルオキシプロピニル、２−エチルオキシエチニル、２−メチルー２−メチルオキシエチニル、１−メチルオキシブチニル、２−メチルオキシブチニル、３−メチルオキシブチニル、２−エチルオキシプロピニル、３−メチル−３−メチルオキシプロピニル、４−メチルオキシペンチニル、３−メチルオキシペンチニル、２−メチルオキシペンチニル、１−メチルオキシペンチニル、３，３−ジメチルオキシブチニル、２，２−ジメチルオキシブチニル、１，１−ジメチルオキシブチニル、１−メチル−２−メチルオキシブチニル、１，３−ジメチルオキシブチニル、２，３−ジメチルオキシブチニル、２−エチルオキシブチニル、１−メチルオキシヘキシニル、２−メチルオキシヘキシニル、３−メチルオキシヘキシニル、４−メチルオキシヘキシニル、５−メチルオキシヘキシニル、１−プロピルオキシブチニル、４−メチル−４−メチルオキシペンチニル、１−メチルオキシヘプチニル、２−メチルオキシヘプチニル、３−メチルオキシヘプチニル、４−メチルオキシヘプチニル、５−メチルオキシヘプチニル、６−メチルオキシヘプチニル、１−プロピルオキシペンチニル、２−エチルオキシヘキシニル、５−メチル−５−メチルオキシヘキシニル、３−メチルオキシオクチニル、４−メチルオキシオクチニル、５−メチルオキシオクチニル、６−メチルオキシオクチニル、１−プロピルオキシヘキシニル、２−エチルオキシヘプチニル、６−メチル−６−メチルオキシヘプチニル、１−メチルオキシノニニル、３−メチルオキシノニニル、８−メチルオキシノニニル、３−エチルオキシオクチニル、３−メチル−７−メチルオキシオクチニル、７，７−ジメチルオキシオクチニル、４−メチル−８−メチルオキシノニニル、３，７−ジメチル−１１−メチルオキシドデシニル、４，８−ジメチル−１２−メチルオキシトリデシニル、１−メチルオキシペンタデシニル、１４−メチルオキシペンタデシニル、１３−メチル−１３−メチルオキシテトラデシニル、１５−メチルオキシヘキサデシニル、１−メチルオキシヘプタデシニル、及び、３，７，１１−トリメチル−１５−メチルオキシヘキサデシニルのような１又は２個の酸素原子で介在されている炭素数３乃至２０個のアルキニル基；１−（Ｎ−メチルアミノ）エチニル、２−（Ｎ−メチルアミノ）エチニル、１−（Ｎ−メチルアミノ）プロピニル、２−（Ｎ−メチルアミノ）プロピニル、３−（Ｎ−メチルアミノ）プロピニル、２−（Ｎ−エチルアミノ）エチニル、２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチニル、１−（Ｎ−メチルアミノ）ブチニル、２−（Ｎ−メチルアミノ）ブチニル、３−（Ｎ−メチルアミノ）ブチニル、２−（Ｎ−エチルアミノ）プロピニル、３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）プロピニル、４−（Ｎ−メチルアミノ）ペンチニル、３−（Ｎ−メチルアミノ）ペンチニル、２−（Ｎ−メチルアミノ）ペンチニル、１−（Ｎ−メチルアミノ）ペンチニル、３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ブチニル、２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ブチニル、１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ブチニル、１−メチル−２−（Ｎ−メチルアミノ）ブチニル、１，３−ジ（Ｎ−メチルアミノ）ブチニル、２，３−ジ（Ｎ−メチルアミノ）ブチニル、２−（Ｎ−エチルアミノ）ブチニル、１−（Ｎ−メチルアミノ）ヘキシニル、２−（Ｎ−メチルアミノ）ヘキシニル、３−（Ｎ−メチルアミノ）ヘキシニル、４−（Ｎ−メチルアミノ）ヘキシニル、５−（Ｎ−メチルアミノ）ヘキシニル、１−（Ｎ−プロピルアミノ）ブチニル、４−メチル−４−（Ｎ−メチルアミノ）ペンチニル、１−（Ｎ−メチルアミノ）ヘプチニル、２−（Ｎ−メチルアミノ）ヘプチニル、３−（Ｎ−メチルアミノ）ヘプチニル、４−（Ｎ−メチルアミノ）ヘプチニル、５−（Ｎ−メチルアミノ）ヘプチニル、６−（Ｎ−メチルアミノ）ヘプチニル、１−（Ｎ−プロピルアミノ）ペンチニル、２−（Ｎ−エチルアミノ）ヘキシニル、５−メチル−５−（Ｎ−メチルアミノ）ヘキシニル、３−（Ｎ−メチルアミノ）オクチニル、４−（Ｎ−メチルアミノ）オクチニル、５−（Ｎ−メチルアミノ）オクチニル、６−（Ｎ−メチルアミノ）オクチニル、１−（Ｎ−プロピルアミノ）ヘキシニル、２−（Ｎ−エチルアミノ）ヘプチニル、６−メチル−６−（Ｎ−メチルアミノ）ヘプチニル、１−（Ｎ−メチルアミノ）ノニニル、３−（Ｎ−メチルアミノ）ノニニル、８−（Ｎ−メチルアミノ）ノニニル、３−（Ｎ−エチルアミノ）オクチニル、３−メチル−７−（Ｎ−メチルアミノ）オクチニル、７，７−ジ（Ｎ−メチルアミノ）オクチニル、４−メチル−８−（Ｎ−メチルアミノ）ノニニル、３，７−ジメチル−１１−（Ｎ−メチルアミノ）ドデシニル、４，８−ジメチル−１２−（Ｎ−メチルアミノ）トリデシニル、１−（Ｎ−メチルアミノ）ペンタデシニル、１４−（Ｎ−メチルアミノ）ペンタデシニル、１３−メチル−１３−（Ｎ−メチルアミノ）テトラデシニル、１５−（Ｎ−メチルアミノ）ヘキサデシニル、１−（Ｎ−メチルアミノ）ヘプタデシニル、及び、３，７，１１−トリメチル−１５−（Ｎ−メチルアミノ）ヘキサデシニルのような１又は２個の窒素原子で介在されている炭素数３乃至２０個のアルキニル基であり、好適には、ヘテロ原子が介在するＣ₃−Ｃ₁₀アルキニル基である。
【０２９３】
上記において、Ｒ⁹の定義における「アリール基又は芳香族複素環基で置換されたＣ₂−Ｃ₂₀アルキニル基」は、前述の「Ｃ₂−Ｃ₂₀アルキニル基」が、同一又は異なって、１又は３個の、前述の「アリール基」又は前述の「芳香族複素環基」で置換された基を示す。
【０２９４】
上記において、Ｒ⁹の定義における「Ｃ₂−Ｃ₂₀アルケニル基」は、例えば、エテニル、２−プロペニル、１−メチル−２−プロペニル、２−メチル−２−プロペニル、２−エチル−２−プロペニル、２−ブテニル、１−メチル−２−ブテニル、２−メチル−２−ブテニル、１−エチル−２−ブテニル、３−ブテニル、１−メチル−３−ブテニル、２−メチル−３−ブテニル、１−エチル−３−ブテニル、２−ペンテニル、１−メチル−２−ペンテニル、２−メチル−２−ペンテニル、３−ペンテニル、１−メチル−３−ペンテニル、２−メチル−３−ペンテニル、４−ペンテニル、１−メチル−４−ペンテニル、２−メチル−４−ペンテニル、２−ヘキセニル、３−ヘキセニル、４−ヘキセニル、５−ヘキセニル、ヘプテニル、１−メチルヘキセニル、２−メチルヘキセニル、３−メチルヘキセニル、４−メチルヘキセニル、５−メチルヘキセニル、１−プロピルブテニル、４，４−ジメチルペンテニル、オクテニル、１−メチルヘプテニル、２−メチルヘプテニル、３−メチルヘプテニル、４−メチルヘプテニル、５−メチルヘプテニル、６−メチルヘプテニル、１−プロピルペンテニル、２−エチルヘキセニル、５，５−ジメチルヘキセニル、ノネニル、３−メチルオクテニル、４−メチルオクテニル、５−メチルオクテニル、６−メチルオクテニル、１−プロピルヘキセニル、２−エチルヘプテニル、６，６−ジメチルヘプテニル、デセニル、１−メチルノネニル、３−メチルノネニル、８−メチルノネニル、３−エチルオクテニル、３，７−ジメチルオクテニル、７，７−ジメチルオクテニル、ウンデセニル、４，８−ジメチルノネニル、ドデセニル、トリデセニル、テトラデセニル、ペンタデセニル、３，７，１１−トリメチルドデセニル、ヘキサデセニル、４，８，１２−トリメチルトリデセニル、１−メチルペンタデセニル、１４−メチルペンタデセニル、１３，１３−ジメチルテトラデセニル、ヘプタデセニル、１５−メチルヘキサデセニル、オクタデセニル、１−メチルヘプタデセニル、ノナデセニル、アイコセニル、及び、３，７，１１，１５−テトラメチルヘキサデセニル基のような炭素数２乃至２０の直鎖又は分枝鎖アルケニル基を挙げることができ、好適にはＣ₂−Ｃ₁₀アルケニル基である。
【０２９５】
上記において、Ｒ⁹の定義における「ヘテロ原子が介在するＣ₃−Ｃ₂₀アルケニル基」は、前記「Ｃ₂−Ｃ₂₀アルケニル基」の内の「Ｃ₃−Ｃ₂₀アルケニル基」が、同一又は異なって、１又は２個の、硫黄原子、酸素原子、又は、窒素原子で介在されている基を示し、例えば、１−メチルチオエテニル、２−メチルチオエテニル、１−メチルチオプロペニル、２−メチルチオプロペニル、３−メチルチオプロペニル、２−エチルチオエテニル、２−メチルー２−メチルチオエテニル、１−メチルチオブテニル、２−メチルチオブテニル、３−メチルチオブテニル、２−エチルチオプロペニル、３−メチル−３−メチルチオプロペニル、４−メチルチオペンテニル、３−メチルチオペンテニル、２−メチルチオペンテニル、１−メチルチオペンテニル、３，３−ジメチルチオブテニル、２，２−ジメチルチオブテニル、１，１−ジメチルチオブテニル、１−メチル−２−メチルチオブテニル、１，３−ジメチルチオブテニル、２，３−ジメチルチオブテニル、２−エチルチオブテニル、１−メチルチオヘキセニル、２−メチルチオヘキセニル、３−メチルチオヘキセニル、４−メチルチオヘキセニル、５−メチルチオヘキセニル、１−プロピルチオブテニル、４−メチル−４−メチルチオペンテニル、１−メチルチオヘプテニル、２−メチルチオヘプテニル、３−メチルチオヘプテニル、４−メチルチオヘプテニル、５−メチルチオヘプテニル、６−メチルチオヘプテニル、１−プロピルチオペンテニル、２−エチルチオヘキセニル、５−メチル−５−メチルチオヘキセニル、３−メチルチオオクテニル、４−メチルチオオクテニル、５−メチルチオオクテニル、６−メチルチオオクテニル、１−プロピルチオヘキセニル、２−エチルチオヘプテニル、６−メチル−６−メチルチオヘプテニル、１−メチルチオノネニル、３−メチルチオノネニル、８−メチルチオノネニル、３−エチルチオオクテニル、３−メチル−７−メチルチオオクテニル、７，７−ジメチルチオオクテニル、４−メチル−８−メチルチオノネニル、３，７−ジメチル−１１−メチルチオドデセニル、４，８−ジメチル−１２−メチルチオトリデセニル、１−メチルチオペンタデセニル、１４−メチルチオペンタデセニル、１３−メチル−１３−メチルチオテトラデセニル、１５−メチルチオヘキサデセニル、１−メチルチオヘプタデセニル、及び、３，７，１１−トリメチル−１５−メチルチオヘキサデセニルのような１又は２個の硫黄原子で介在されている炭素数３乃至２０個のアルケニル基；１−メチルオキシエテニル、２−メチルオキシエテニル、１−メチルオキシプロペニル、２−メチルオキシプロペニル、３−メチルオキシプロペニル、２−エチルオキシエテニル、２−メチルー２−メチルオキシエテニル、１−メチルオキシブテニル、２−メチルオキシブテニル、３−メチルオキシブテニル、２−エチルオキシプロペニル、３−メチル−３−メチルオキシプロペニル、４−メチルオキシペンテニル、３−メチルオキシペンテニル、２−メチルオキシペンテニル、１−メチルオキシペンテニル、３，３−ジメチルオキシブテニル、２，２−ジメチルオキシブテニル、１，１−ジメチルオキシブテニル、１−メチル−２−メチルオキシブテニル、１，３−ジメチルオキシブテニル、２，３−ジメチルオキシブテニル、２−エチルオキシブテニル、１−メチルオキシヘキセニル、２−メチルオキシヘキセニル、３−メチルオキシヘキセニル、４−メチルオキシヘキセニル、５−メチルオキシヘキセニル、１−プロピルオキシブテニル、４−メチル−４−メチルオキシペンテニル、１−メチルオキシヘプテニル、２−メチルオキシヘプテニル、３−メチルオキシヘプテニル、４−メチルオキシヘプテニル、５−メチルオキシヘプテニル、６−メチルオキシヘプテニル、１−プロピルオキシペンテニル、２−エチルオキシヘキセニル、５−メチル−５−メチルオキシヘキセニル、３−メチルオキシオクテニル、４−メチルオキシオクテニル、５−メチルオキシオクテニル、６−メチルオキシオクテニル、１−プロピルオキシヘキセニル、２−エチルオキシヘプテニル、６−メチル−６−メチルオキシヘプテニル、１−メチルオキシノネニル、３−メチルオキシノネニル、８−メチルオキシノネニル、３−エチルオキシオクテニル、３−メチル−７−メチルオキシオクテニル、７，７−ジメチルオキシオクテニル、４−メチル−８−メチルオキシノネニル、３，７−ジメチル−１１−メチルオキシドデセニル、４，８−ジメチル−１２−メチルオキシトリデセニル、１−メチルオキシペンタデセニル、１４−メチルオキシペンタデセニル、１３−メチル−１３−メチルオキシテトラデセニル、１５−メチルオキシヘキサデセニル、１−メチルオキシヘプタデセニル、及び、３，７，１１−トリメチル−１５−メチルオキシヘキサデセニルのような１又は２個の酸素原子で介在されている炭素数３乃至２０個のアルケニル基；１−（Ｎ−メチルアミノ）エテニル、２−（Ｎ−メチルアミノ）エテニル、１−（Ｎ−メチルアミノ）プロペニル、２−（Ｎ−メチルアミノ）プロペニル、３−（Ｎ−メチルアミノ）プロペニル、２−（Ｎ−エチルアミノ）エテニル、２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エテニル、１−（Ｎ−メチルアミノ）ブテニル、２−（Ｎ−メチルアミノ）ブテニル、３−（Ｎ−メチルアミノ）ブテニル、２−（Ｎ−エチルアミノ）プロペニル、３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）プロペニル、４−（Ｎ−メチルアミノ）ペンテニル、３−（Ｎ−メチルアミノ）ペンテニル、２−（Ｎ−メチルアミノ）ペンテニル、１−（Ｎ−メチルアミノ）ペンテニル、３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ブテニル、２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ブテニル、１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ブテニル、１−メチル−２−（Ｎ−メチルアミノ）ブテニル、１，３−ジ（Ｎ−メチルアミノ）ブテニル、２，３−ジ（Ｎ−メチルアミノ）ブテニル、２−（Ｎ−エチルアミノ）ブテニル、１−（Ｎ−メチルアミノ）ヘキセニル、２−（Ｎ−メチルアミノ）ヘキセニル、３−（Ｎ−メチルアミノ）ヘキセニル、４−（Ｎ−メチルアミノ）ヘキセニル、５−（Ｎ−メチルアミノ）ヘキセニル、１−（Ｎ−プロピルアミノ）ブテニル、４−メチル−４−（Ｎ−メチルアミノ）ペンテニル、１−（Ｎ−メチルアミノ）ヘプテニル、２−（Ｎ−メチルアミノ）ヘプテニル、３−（Ｎ−メチルアミノ）ヘプテニル、４−（Ｎ−メチルアミノ）ヘプテニル、５−（Ｎ−メチルアミノ）ヘプテニル、６−（Ｎ−メチルアミノ）ヘプテニル、１−（Ｎ−プロピルアミノ）ペンテニル、２−（Ｎ−エチルアミノ）ヘキセニル、５−メチル−５−（Ｎ−メチルアミノ）ヘキセニル、３−（Ｎ−メチルアミノ）オクテニル、４−（Ｎ−メチルアミノ）オクテニル、５−（Ｎ−メチルアミノ）オクテニル、６−（Ｎ−メチルアミノ）オクテニル、１−（Ｎ−プロピルアミノ）ヘキセニル、２−（Ｎ−エチルアミノ）ヘプテニル、６−メチル−６−（Ｎ−メチルアミノ）ヘプテニル、１−（Ｎ−メチルアミノ）ノネニル、３−（Ｎ−メチルアミノ）ノネニル、８−（Ｎ−メチルアミノ）ノネニル、３−（Ｎ−エチルアミノ）オクテニル、３−メチル−７−（Ｎ−メチルアミノ）オクテニル、７，７−ジ（Ｎ−メチルアミノ）オクテニル、４−メチル−８−（Ｎ−メチルアミノ）ノネニル、３，７−ジメチル−１１−（Ｎ−メチルアミノ）ドデセニル、４，８−ジメチル−１２−（Ｎ−メチルアミノ）トリデセニル、１−（Ｎ−メチルアミノ）ペンタデセニル、１４−（Ｎ−メチルアミノ）ペンタデセニル、１３−メチル−１３−（Ｎ−メチルアミノ）テトラデセニル、１５−（Ｎ−メチルアミノ）ヘキサデセニル、１−（Ｎ−メチルアミノ）ヘプタデセニル、及び、３，７，１１−トリメチル−１５−（Ｎ−メチルアミノ）ヘキサデセニルのような１又は２個の窒素原子で介在されている炭素数３乃至２０個のアルケニル基を挙げることができ、好適には、ヘテロ原子が介在するＣ₃−Ｃ₁₀アルケニル基である。
【０２９６】
上記において、Ｒ⁹の定義における「アリール基又は芳香族複素環基で置換されたＣ₂−Ｃ₂₀アルケニル基」は、前記「Ｃ₂−Ｃ₂₀アルケニル基」が、同一又は異なって、１又は３個の、前記「アリール基」又は前記「芳香族複素環基」で置換された基を示す。
【０２９７】
上記において、Ｒ⁹の定義における「アリール基又は芳香族複素環基で置換されたヘテロ原子が介在するＣ₂−Ｃ₂₀アルキル基」は、前記「ヘテロ原子が介在するＣ₂−Ｃ₂₀アルキル基」が、同一又は異なって、１又は３個の、前記「アリール基」又は前記「芳香族複素環基」で置換された基を示す。
【０２９８】
上記において、Ｒ⁹の定義における「Ｃ₃−Ｃ₁₀シクロアルキル基」は、前記「シクロアルキル基」と同意議を示す。
【０２９９】
第Ｂ１工程
第Ｂ１工程は、一般式（Ｘ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＶＩＩＩ）の一方のヒドロキシ基のみを、不活性溶媒の存在又は非存在下（好適には存在下）、リパーゼの存在下に、化合物（ＩＸ）を用いて選択的にアシル化することにより行なわれる。
【０３００】
上記反応において使用される「リパーゼ」は、特に限定はなく、原料化合物の種類により最適なものが異なるが、好ましくは、Pseudomonas sp.、Pseudomonas fluorescens、Pseudomonas cepacia、Chromobacterium viscosum、Aspergillus niger、Aspergillus oryzae、Candida antarctica、Candida cylindracea、Candida lipolytica、Candida rugosa、Candida utilis、Penicillium roqueforti、Rhizopus arrhizus、Rhizopus delemar、Rhizopus javanicus、Rhizomucor miehei、Rhizopus niveus、Humicola lanuginosa、Mucor javanicus、Mucor miehei、Thermus aquaticus、Thermus flavus、Thermus thermophilus等やhuman pancreas、hog pancreas、porcine pancreas、wheat germ由来のリパーゼであり、酵素は部分的に又は完全に精製して用いることができるばかりではなく、固定化した形態で使用することができる。
【０３０１】
最も好適には、Pseudomonas sp.を固定化したもの（例えば、immobilized lipase from Pseudomonas sp.（TOYOBO社））である。
【０３０２】
上記反応において使用される化合物（ＩＸ）において好適な化合物としては、原料化合物の種類により最適なものが異なるが、ｎ−ヘキサン酸 ビニルエステル、ｎ−ヘプタン酸 ビニルエステル、ｎ−ペンタン酸 ビニルエステル、酢酸ビニルエステル等の直鎖状脂肪族カルボン酸 ビニルエステルであり、最も好適には、ｎ−ヘキサン酸 ビニルエステルである。
【０３０３】
上記反応において使用される不活性溶媒は特に限定はなく、化合物（ＩＸ）のみでも良いし、また原料化合物の種類により最適なものが異なるが、各種有機溶媒、含水有機溶媒を使用することができ、好適には、ジイソプロピルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランのようなエーテル類；ｎ−ヘキサン、ｎ−ペンタンのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエンのような芳香族炭化水素類；及びジクロロメタン、１，２−ジクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類を挙げることができ、更に好適には、エーテル類であり、最も好適には、ジイソプロピルエーテル又はｔ−ブチルメチルエーテルである。
【０３０４】
反応温度は、原料化合物、使用される溶媒、使用されるリパーゼの種類等によって異なるが、通常、−５０℃乃至５０℃であり、好適には、０℃乃至４０℃である。
【０３０５】
反応時間は、原料化合物、使用される溶媒、使用されるリパーゼ、及び、反応温度等によって異なるが、通常、１５分乃至１５０時間であり、好適には３０分乃至２４時間である。
【０３０６】
第Ｂ２工程
第Ｂ２工程は、一般式（ＸＩ）を有する化合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、酸化剤の存在下、化合物（Ｘ）のアルコール部分をアルデヒドに酸化することにより行なわれる。
【０３０７】
上記反応における酸化反応としては、一級アルコールからアルデヒドを生成する酸化反応であれば、特に限定はないが、例えば、ジクロロメタン中、ピリジン及びクロム酸を用いて行われるCollins酸化；ジクロロメタン中、塩化クロム酸ピリジニウム(PCC)を用いて行われるPCC酸化；ジクロロメタン中、二クロム酸ピリジニウム(PDC)を用いて行われるPDC酸化；ジクロロメタン中、親電子剤（例えば無水酢酸、無水トリフルオロ酢酸、塩化チオニル、塩化スルフリル、塩化オキザリル、ジシクロヘキシルカルボジイミド、ジフェニルケテン−ｐ−トリルイミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノアセチレン、三酸化硫黄・ピリジン錯体など）及びジメチルスルホキシド(DMSO)を用いて行われる、Swern酸化のような、DMSO酸化；及びジクロロメタン若しくはベンゼン中、二酸化マンガンを用いて行われる二酸化マンガン酸化などをあげることができ、好適には、ジクロロメタン中で行われる、PCC酸化、PDC酸化又はSwern酸化である。
【０３０８】
反応温度は、原料化合物、溶媒、酸化剤の種類等によって異なるが、通常、−７８℃乃至８０℃で行われ、好適には、−７８℃乃至３０℃である。
【０３０９】
反応時間は、原料化合物、溶媒、酸化剤の種類、反応温度等によって異なるが、通常１０分間乃至４８時間であり、好適には、３０分間乃至２４時間である。
【０３１０】
第Ｂ３工程
第Ｂ３工程は、一般式（ＸＩＩＩ）を有する化合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、塩基の存在下、化合物（ＸＩ）に、化合物（ＸＩＩ）を反応させることにより行われる。
【０３１１】
上記反応に使用される不活性溶媒としては、本反応に不活性なものであれば特に限定されないが、例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；トルエン、ベンゼン、キシレンのような芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；アセトニトリル、プロピオニトリルのような低級アルキルニトリル類；ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類；メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールのような低級アルキルアルコール類；又は水を挙げることができ、好適にはエーテル類（最も好適にはテトラヒドロフラン）である。
【０３１２】
上記反応に使用される塩基としては、化合物（ＸＩ）のアルデヒド部分以外の部分を変化させないものであれば、特に限定されず、例えば、前述のＡ法第Ａ２工程において使用されるものと同様のものを挙げることができ、好適にはアルカリ金属アルコキシド類（最も好適には、カリウムｔ−ブトキシド）である。
【０３１３】
反応温度は、原料化合物、溶媒、塩基の種類等によって異なるが、通常、−７８℃乃至２００℃で行われるが、好適には−５０℃乃至１５０℃(最も好適には０℃)である。
【０３１４】
反応時間は、原料化合物、溶媒、塩基、反応温度等により異なるが、通常、１５分乃至４８時間(好適には、３０分間乃至８時間)である。
【０３１５】
第Ｂ４工程
第Ｂ４工程は、一般式（ＸＩＶ）を有する化合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、塩基の存在下、化合物（ＸＩＩＩ）を加水分解することにより行われる。
【０３１６】
上記反応に使用される不活性溶媒としては、反応を阻害せず、出発原料をある程度溶解するものであれば、特に限定はされず、例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、ｔ−ブタノール、イソアミルアルコール、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブのようなアルコール類；ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類；水；又は上記溶媒の混合溶媒；あるいは上記溶媒と水との混合溶媒を挙げることができ、好適には、アルコール類とエーテル類と水との混合溶媒またはアルコール類と水との混合溶媒（最も好適にはメタノールとテトラヒドロフランと水との混合溶媒又はメタノールと水との混合溶媒）である。
【０３１７】
上記反応に使用される塩基としては、化合物（ＸＩＩＩ）のアシル部分以外の部分を変化させないものであれば、特に限定されず、例えば、前述のＡ法第Ａ２工程において使用されるものと同様のものを挙げることができ、好適には、アルカリ金属水酸化物類(最も好適には水酸化ナトリウム)である。
【０３１８】
反応温度は、原料化合物、溶媒、塩基の種類等によって異なるが、通常、−７８℃乃至１５０℃であり、好適には−５０℃乃至１００℃(最も好適には、室温付近)である。
【０３１９】
反応時間は、原料化合物、塩基、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、１５分乃至４８時間(最も好適には、３０分間乃至６時間)である。
【０３２０】
第Ｂ５工程
第Ｂ５工程は、一般式（ＸＶ）を有する化合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、化合物（ＸＶ）を塩基と反応させることにより行われる。
【０３２１】
上記反応に使用される不活性溶媒としては、本反応に不活性なものであれば特に限定はないが、例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、ｔ−ブタノール、イソアミルアルコール、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブのようなアルコール類；ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類；水；又は上記溶媒の混合溶媒；あるいは上記溶媒と水との混合溶媒を挙げることができ、好適には、エーテル類又はアミド類（最も好適にはテトラヒドロフラン）である。
【０３２２】
上記反応に使用される塩基としては、通常の反応において塩基として使用されるものであれば、特に限定はないが、例えば、前述のＡ法第Ａ２工程において使用されるものと同様のものを挙げることができ、好適には、金属アルコキシド類（最も好適には、カリウム−ｔ−ブトキシド）である。
【０３２３】
反応温度は、原料化合物、溶媒、塩基の種類等によって異なるが、通常、−７８℃乃至１５０℃で行われ、好適には−５０℃乃至１００℃(最も好適には、０℃乃至室温)である。
【０３２４】
反応時間は、原料化合物、溶媒、塩基、反応温度等により異なるが、通常、１５分乃至４８時間(好適には、３０分間乃至８時間)である。
【０３２５】
この第Ｂ５工程は、一般式（ＸＩＶ）を有する化合物のアミノ基の保護基を脱保護した後、Ｎ，Ｎ−カルボニルジイミダゾールや炭酸ジメチル、炭酸ジエチルのようなアシル化剤と反応させることによっても行うことができる。
【０３２６】
第Ｂ６工程
第Ｂ６工程は、一般式（ＸＶＩ）を有する化合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、還元剤の存在下、化合物（ＸＶ）を還元（好適には、水素雰囲気下、接触還元）することにより行われる。
【０３２７】
接触還元反応に使用される不活性溶媒としては、本反応に不活性なものであれば特に限定はされないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；トルエン、ベンゼン、キシレンのような芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類；ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類；メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、ｔ−ブタノール、イソアミルアルコール、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブのようなアルコール類；酢酸、塩酸のような有機酸類；水；上記溶媒と水との混合溶媒を挙げることができる。好適には、アルコール類又はエーテル類（最も好適にはメタノール）である。
【０３２８】
接触還元反応に使用される還元剤としては、通常の接触還元反応において使用されるものであれば特に限定されないが、例えば、前述のＡ法第Ａ３工程又は第Ａ４工程において使用されるものと同様のものを挙げることができ、好適には、パラジウム−炭素（最も好適には１０％パラジウム−炭素）である。
【０３２９】
水素圧は、特に限定はないが、通常１乃至１０気圧で行われ、好適には１気圧である。
【０３３０】
反応温度は、原料化合物、溶媒、還元剤の種類等によって異なるが、通常、−２０℃乃至２００℃で行われるが、好適には０℃乃至１００℃(最も好適には２０℃乃至３０℃)である。
【０３３１】
反応時間は、主に反応温度、原料化合物、反応試薬又は使用される溶媒の種類によって異なるが、通常、５分間乃至９６時間であり、好適には１５分間乃至２４時間(最も好適には３０分間乃至２時間)である。
【０３３２】
第Ｂ７工程
第Ｂ７工程は、一般式（ＸＶＩＩ）を有する化合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、塩基の存在下、化合物（ＸＶＩ）を加水分解することにより行われる。
【０３３３】
上記反応に使用される不活性溶媒としては、特に限定はされず、例えば、前述の第Ｂ４工程において使用されるものと同様のものを挙げることができ、好適には、アルコール類とエーテル類との混合溶媒またはアルコール類と水との混合溶媒（最も好適にはメタノールとテトラヒドロフランと水との混合溶媒又はメタノールと水との混合溶媒）である。
【０３３４】
上記反応に使用される塩基としては、化合物（ＸＶＩ）の加水分解反応に不活性なものであれば、特に限定されず、例えば、前述の第Ｂ４工程において使用されるものと同様のものを挙げることができ、好適には、アルカリ金属水酸化物類(最も好適には水酸化カリウム又は水酸化ナトリウム)である。
【０３３５】
反応温度は、原料化合物、溶媒、塩基の種類等によって異なるが、通常、−７８℃乃至２００℃であり、好適には０℃乃至１８０℃(最も好適には、２０℃乃至１２０℃)である。
【０３３６】
反応時間は、原料化合物、塩基、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、１５分乃至１０日間(最も好適には、２時間乃至５日間)である。
【０３３７】
第Ｂ８工程
第Ｂ８工程は、所望の工程で一般式（ＩＶ）を有する化合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、化合物（ＸＶＩＩ）のヒドロキシ基とアミノ基を、アルキル化又は保護することにより行われる。
【０３３８】
ヒドロキシ基及びアミノ基をアルキル化又は保護する方法は、一般に有機合成化学の技術において周知の方法、例えば、Protective Groups in Organic Synthesis(Third Edition, 1999, John Wiley & Sons, Inc.社発行)に記載された方法により行うことができ、以下のようにして行うことができる。
【０３３９】
アミノ基をアルキル化又は保護する方法としては、例えば、化合物（ＸＶＩＩ）を、不活性溶媒中（好適には、ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル類；又はメタノ−ル、エタノ−ル、ｎ−プロパノ−ル、イソプロパノ−ル、ｎ−ブタノ−ル、イソブタノ−ル、ｔ−ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブのようなアルコ−ル類；）、塩基（好適には、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、ピリジンのような有機アミン類）の存在下又は非存在下、下記化合物
Ｒ¹a−Ｑ （ＸＩＸ）
[上記式中、Ｒ¹aは低級アルキル基又はアミノ基の保護基（前述したものと同意義を示す。）を示し、Ｑは前述したものと同意義を示す。]
と、−７８℃乃至１５０℃（好適には、−５０℃乃至１００℃、最も好適には、室温付近）で、１０分間乃至４８時間（好適には、２０分間乃至８時間）反応させることにより行なわれる。
【０３４０】
ヒドロキシ基をアルキル化又は保護する方法としては、例えば、化合物（ＸＶＩＩ）を、不活性溶媒中（好適には、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類；ジメチルスルホキシドのようなスルホキシド類）、塩基の存在下（好適には、水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物類；トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、ピリジンのような有機アミン類）、下記化合物
Ｒ³a−Ｑ （ＸＸ）
[上記式中、Ｒ³aは、低級アルキル基又はヒドロキシ基の保護基（前述したものと同意義を示す。）を示し、Ｑは前述したものと同意義を示す。]と、−７８℃乃至１５０℃（好適には、−５０℃乃至１００℃、最も好適には、室温付近）で、１０分間乃至４８時間（好適には、２０分間乃至８時間）反応させることにより行なわれる。
【０３４１】
アミノ基のアルキル化又は保護化とヒドロキシ基のアルキル化又は保護化は、順不同で希望する反応を順次実施することができる。
【０３４２】
Ｂ法の各工程の目的化合物は、常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を適宜中和し、又、不溶物が存在する場合には濾過により除去した後、水と酢酸エチルのような混和しない有機溶媒を加え、水等で洗浄後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム、無水硫酸ナトリウム等で乾燥後、溶剤を留去することによって得られる。得られた目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿、又は、通常、有機化合物の分離精製に慣用されている方法、例えば、シリカゲル、アルミナ、マグネシウム‐シリカゲル系のフロリジルのような担体を用いた吸着カラムクロマトグラフィー法；セファデックスＬＨ−２０（ファルマシア社製）、アンバーライトＸＡＤ−１１（ローム・アンド・ハース社製）、ダイヤイオンＨＰ−２０（三菱化学社製）のような担体を用いた分配カラムクロマトグラフィー等の合成吸着剤を使用する方法、イオン交換クロマトを使用する方法、又はシリカゲル若しくはアルキル化シリカゲルによる順相・逆相カラムクロマトグラフィー法（好適には高速液体カラムクロマトグラフィー）を適宜組み合わせ、適切な溶離剤で溶出することによって分離、精製することができる。
【０３４３】
尚、異性体を分離する必要がある場合には、上記各工程の反応終了後、又は、所望工程の終了後の適切な時期に、上記分離精製手段によって行なうことができる。
【０３４４】
原料化合物（ＶＩＩＩ）及び（ＩＸ）は、公知か、公知の方法又はそれに類似した方法[原料化合物（ＶＩＩＩ）：J. Org. Chem., 64, 8220 (1999)]に従って容易に製造される。
【０３４５】
Ｃ法は、一般式（ＸＩＩ）を有する化合物を製造する工程である。
【０３４６】
【化５９】

【０３４７】
上記式中、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｘ、ｍ、Ｑ及びＰｈは、前述したものと同意義を示す。
【０３４８】
第Ｃ１工程
第Ｃ１工程は、化合物（ＸＩＩ）を製造する工程であり、不活性溶媒中、一般式（ＸＶＩＩＩ）を有する化合物をトリフェニルホスフィンと反応させることにより行われる。
【０３４９】
上記反応に使用される不活性溶媒としては、本反応に不活性なものであれば特に限定はないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；トルエン、ベンゼン、キシレンのような芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；アセトニトリル、プロピオニトリルのような低級アルキルニトリル類；メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールのような低級アルキルアルコール類；又はアセトン、メチルエチルケトンのような低級アルキルケトン類が挙げられ、好適には、エーテル類又はニトリル類である。
【０３５０】
反応温度は、原料化合物、溶媒の種類等によって異なるが、通常、−１０℃乃至２００℃で行われ、好適には０℃乃至１５０℃(最も好適には、２０℃乃至１２０℃)である。
【０３５１】
反応時間は、主に反応温度、原料化合物、使用される溶媒の種類によって異なるが、通常、５分間乃至９６時間であり、好適には１５分乃至４８時間(最も好適には、１時間乃至８時間)である。
【０３５２】
本工程の目的化合物（ＸＩＩ）は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿、又は、通常、有機化合物の分離精製に慣用されている方法、例えば、シリカゲル、アルミナ、マグネシウム‐シリカゲル系のフロリジルのような担体を用いた吸着カラムクロマトグラフィー法；セファデックスＬＨ−２０（ファルマシア社製）、アンバーライトＸＡＤ−１１（ローム・アンド・ハース社製）、ダイヤイオンＨＰ−２０（三菱化学社製）のような担体を用いた分配カラムクロマトグラフィー等の合成吸着剤を使用する方法、イオン交換クロマトを使用する方法、又はシリカゲル若しくはアルキル化シリカゲルによる順相・逆相カラムクロマトグラフィー法（好適には高速液体カラムクロマトグラフィー）を適宜組み合わせ、適切な溶離剤で溶出することによって分離、精製することができる。
【０３５３】
尚、異性体を分離する必要がある場合には、上記工程の反応終了後、上記分離精製手段によって行なうことができる。
【０３５４】
原料化合物（ＸＶＩＩＩ）は、公知か、公知の方法又はそれに類似した方法[Ｘ = Ｏの場合：J. Am. Chem. Soc., 49, 1066 (1927) 、Ｘ = Ｎ−Ｍｅの場合：J. Org. Chem., 52, 19 (1987)]に従って容易に製造される。
Ｄ法は、一般式（ＸＶＩＩ）を有する化合物の光学純度を上げるための工程である。
【０３５５】
【化６０】

【０３５６】
上記式中、Ｒ⁴，Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｘ及びｍは、前述したものと同意義を示す。
【０３５７】
第Ｄ１工程
第Ｄ１工程は、化合物（ＸＶＩＩ）の光学純度を上げる工程であり、不活性溶媒中、化合物（ＸＶＩＩ）を光学活性な有機酸と処理し、塩とし、必要に応じて再結晶をすることにより、光学純度を上げた後、塩基で処理することにより、一般式（ＸＶＩＩ）を有するフリー体に戻す工程である。
【０３５８】
上記反応に使用される不活性溶媒としては、本反応に不活性なものであれば特に限定はないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；トルエン、ベンゼン、キシレンのような芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、ｔ−ブタノール、イソアミルアルコール、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブのようなアルコ−ル類；アセトニトリル、プロピオニトリルのようなニトリル類；水；又は上記溶媒と水との混合溶媒；であり、好適には、アルコール類（最も好適には、メタノール、エタノール）又はアルコール類と水との混合溶媒である。
【０３５９】
上記反応に使用される光学活性な有機酸としては、特に限定はされないが、例えば、酒石酸、マンデル酸、カンファー−１０−スルホン酸であり、好適には酒石酸である。
【０３６０】
得られた塩をフリー体（ＸＶＩＩ）に戻すのは、有機溶媒と塩基を用いた通常の抽出操作により簡便に行うことができる。
【０３６１】
Ｄ法の各工程の目的化合物は、常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を適宜中和し、又、不溶物が存在する場合には濾過により除去した後、水と酢酸エチルのような混和しない有機溶媒を加え、水等で洗浄後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム、無水硫酸ナトリウム等で乾燥後、溶剤を留去することによって得られる。得られた目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿、又は、通常、有機化合物の分離精製に慣用されている方法、例えば、シリカゲル、アルミナ、マグネシウム‐シリカゲル系のフロリジルのような担体を用いた吸着カラムクロマトグラフィー法；セファデックスＬＨ−２０（ファルマシア社製）、アンバーライトＸＡＤ−１１（ローム・アンド・ハース社製）、ダイヤイオンＨＰ−２０（三菱化学社製）のような担体を用いた分配カラムクロマトグラフィー等の合成吸着剤を使用する方法、イオン交換クロマトを使用する方法、又はシリカゲル若しくはアルキル化シリカゲルによる順相・逆相カラムクロマトグラフィー法（好適には高速液体カラムクロマトグラフィー）を適宜組み合わせ、適切な溶離剤で溶出することによって分離、精製することができる。
【０３６２】
Ｅ法は、一般式（ＸＸＩＶ）を有する化合物を製造する工程であり、Ｃ法のＸ＝Ｎ−Ｄ、ｍ＝０の化合物を合成する際に特に有用な方法であり、文献記載の方法（J. Org. Chem., 52, 19 (1987)）に準じて行うことができる。
【０３６３】
【化６１】

【０３６４】
上記式中、Ｄ、Ｒ⁶、Ｒ⁷及びＱは、前述したものと同意義を示す。
【０３６５】
第Ｅ１工程
第Ｅ１工程は、一般式（ＸＸＩＩ）を有する化合物を製造する工程であり、公知の方法（例えば、J. Am. Chem. Soc, 73, 4921 (1951)に記載の方法等）に準じて、化合物（ＸＸＩ）をホルマリンおよびジメチルアミン塩酸塩と反応させることにより行われる。
【０３６６】
第Ｅ２工程
第Ｅ２工程は、一般式（ＸＸＩＩＩ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＸＸＩＩ）をヨウ化メチル等のハロゲン化メチルと反応させ、四級塩とする工程である。
【０３６７】
上記反応に使用される不活性溶媒としては、本反応に不活性なものであれば特に限定はないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；トルエン、ベンゼン、キシレンのような芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；アセトニトリル、プロピオニトリルのような低級アルキルニトリル類；メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールのような低級アルキルアルコール類；又はアセトン、メチルエチルケトンのような低級アルキルケトン類が挙げられ、好適には、アルコール類である。
【０３６８】
反応温度は、原料化合物、溶媒の種類等によって異なるが、通常、−１０℃乃至２００℃で行われ、好適には０℃乃至５０℃である。
【０３６９】
反応時間は、主に反応温度、原料化合物、使用される溶媒の種類によって異なるが、通常、５分間乃至９６時間であり、好適には１５分乃至４８時間(最も好適には、１時間乃至８時間)である。
【０３７０】
第Ｅ３工程
第Ｅ３工程は、化合物（ＸＸＩＶ）を製造する工程であり、不活性溶媒中、一般式（ＸＸＩＩＩ）を有する化合物をトリフェニルホスフィンと反応させることにより行われる。
【０３７１】
上記反応に使用される不活性溶媒としては、本反応に不活性なものであれば特に限定はないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；トルエン、ベンゼン、キシレンのような芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；アセトニトリル、プロピオニトリルのような低級アルキルニトリル類；メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールのような低級アルキルアルコール類；又はアセトン、メチルエチルケトンのような低級アルキルケトン類が挙げられ、好適には、エーテル類又はニトリル類（最も好適には、アセトニトリル）である。
【０３７２】
反応温度は、原料化合物、溶媒の種類等によって異なるが、通常、室温乃至２００℃で行われ、好適には０℃乃至１５０℃(最も好適には、２０℃乃至１００℃)である。
【０３７３】
反応時間は、主に反応温度、原料化合物、使用される溶媒の種類によって異なるが、通常、５分間乃至９６時間であり、好適には１５分乃至４８時間(最も好適には、１時間乃至８時間)である。
【０３７４】
Ｅ法の各工程の目的化合物は、常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を適宜中和し、又、不溶物が存在する場合には濾過により除去した後、水と酢酸エチルのような混和しない有機溶媒を加え、水等で洗浄後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム、無水硫酸ナトリウム等で乾燥後、溶剤を留去することによって得られる。得られた目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿、又は、通常、有機化合物の分離精製に慣用されている方法、例えば、シリカゲル、アルミナ、マグネシウム‐シリカゲル系のフロリジルのような担体を用いた吸着カラムクロマトグラフィー法；セファデックスＬＨ−２０（ファルマシア社製）、アンバーライトＸＡＤ−１１（ローム・アンド・ハース社製）、ダイヤイオンＨＰ−２０（三菱化学社製）のような担体を用いた分配カラムクロマトグラフィー等の合成吸着剤を使用する方法、イオン交換クロマトを使用する方法、又はシリカゲル若しくはアルキル化シリカゲルによる順相・逆相カラムクロマトグラフィー法（好適には高速液体カラムクロマトグラフィー）を適宜組み合わせ、適切な溶離剤で溶出することによって分離、精製することができる。
【０３７５】
尚、異性体を分離する必要がある場合には、上記各工程の反応終了後、又は、所望工程の終了後の適切な時期に、上記分離精製手段によって行なうことができる。
【０３７６】
原料化合物（ＸＸＩ）は、公知か、公知の方法又はそれに類似した方法に従って容易に製造される。
【０３７７】
Ｆ法は、一般式（ＸＶＩ）又は（ＩＶ）より、一般式（ＸＸＶＩＩＩ）を有する化合物を製造する工程であり、Ａ法の別法の一つである。
【０３７８】
【化６２】

【０３７９】
上記式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｄ、Ｑ、Ｚ及びｍは、前述したものと同意義を示す。
【０３８０】
第Ｆ１工程
第Ｆ１工程は、一般式（ＸＸＶＩ）又は（ＸＸＶＩＩ）を有する化合物を製造する工程であり、一般式（ＸＶＩ）又は（ＩＶ）を有する化合物を、不活性溶媒中、塩基の存在下、一般式（ＸＸＶ）を有する酸ハライドと反応させることにより行われる。
【０３８１】
上記反応に使用される不活性溶媒としては、特に限定はされず、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；トルエン、ベンゼン、キシレンのような芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；アセトニトリル、プロピオニトリルのような低級アルキルニトリル類；メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールのような低級アルキルアルコール類；又はアセトン、メチルエチルケトンのような低級アルキルケトン類が挙げられ、好適には、芳香族炭化水素類（特に好適には、ベンゼン、トルエン又はキシレン）である。
【０３８２】
上記反応に使用される塩基としては、化合物（ＸＸＶ）を活性化するものであれば、特に限定されず、例えば、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン）又は４−ピロリジノピリジンである。
【０３８３】
反応温度は、原料化合物、溶媒、塩基の種類等によって異なるが、通常、０℃乃至２００℃であり、好適には室温乃至１５０℃である。
【０３８４】
反応時間は、原料化合物、塩基、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、１５分乃至７日間であり、好適には６時間乃至３日間である。
【０３８５】
第Ｆ２工程
第Ｆ２工程は、一般式（ＸＸＶＩＩＩ）を有する化合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、塩基の存在下、化合物（ＸＸＶＩ）又は化合物（ＸＸＶＩＩ）を加水分解することにより行われる。加水分解反応は、前述した第Ｂ７工程と同様にして行われる。
【０３８６】
Ｆ法の各工程の目的化合物は、常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を適宜中和し、又、不溶物が存在する場合には濾過により除去した後、水と酢酸エチルのような混和しない有機溶媒を加え、水等で洗浄後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム、無水硫酸ナトリウム等で乾燥後、溶剤を留去することによって得られる。得られた目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿、又は、通常、有機化合物の分離精製に慣用されている方法、例えば、シリカゲル、アルミナ、マグネシウム‐シリカゲル系のフロリジルのような担体を用いた吸着カラムクロマトグラフィー法；セファデックスＬＨ−２０（ファルマシア社製）、アンバーライトＸＡＤ−１１（ローム・アンド・ハース社製）、ダイヤイオンＨＰ−２０（三菱化学社製）のような担体を用いた分配カラムクロマトグラフィー等の合成吸着剤を使用する方法、イオン交換クロマトを使用する方法、又はシリカゲル若しくはアルキル化シリカゲルによる順相・逆相カラムクロマトグラフィー法（好適には高速液体カラムクロマトグラフィー）を適宜組み合わせ、適切な溶離剤で溶出することによって分離、精製することができる。
【０３８７】
尚、異性体を分離する必要がある場合には、上記各工程の反応終了後、又は、所望工程の終了後の適切な時期に、上記分離精製手段によって行なうことができる。
【０３８８】
Ｇ法は、一般式（ＸＶＩ）又は（ＩＶ）より、一般式（ＸＸＶＩＩＩ）を有する化合物を製造する工程であり、Ｆ法の別法の一つである。
【０３８９】
【化６３】

【０３９０】
上記式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｄ、Ｚ及びｍは、前述したものと同意義を示す。
【０３９１】
第Ｇ１工程
第Ｇ１工程は、一般式（ＸＸＸ）又は（ＸＸＸＩ）を有する化合物を製造する工程であり、一般式（ＸＶＩ）又は（ＩＶ）を有する化合物を、不活性溶媒中、オキシ塩化リン又は塩化オキザリルの存在下、化合物（ＸＸＩＸ）のようなアミド誘導体と反応させることにより行われる。この反応は公知の方法（例えば、J. Med. Chem., 40, 3381 (1997)に記載の方法等）に準じて行われる。
【０３９２】
上記反応に使用される不活性溶媒としては、特に限定はされず、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；トルエン、ベンゼン、キシレンのような芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；アセトニトリル、プロピオニトリルのような低級アルキルニトリル類；メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールのような低級アルキルアルコール類；又はアセトン、メチルエチルケトンのような低級アルキルケトン類が挙げられ、好適には、芳香族炭化水素類（特に好適には、ベンゼン又はトルエン）である。
【０３９３】
反応温度は、原料化合物、溶媒、塩基の種類等によって異なるが、通常、０℃乃至２００℃であり、好適には室温乃至１５０℃である。
【０３９４】
反応時間は、原料化合物、塩基、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、１５分乃至７日間であり、好適には６時間乃至３日間である。
【０３９５】
第Ｇ２工程
第Ｇ２工程は、一般式（ＸＸＶＩＩＩ）を有する化合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、塩基の存在下、化合物（ＸＸＸ）又は化合物（ＸＸＸＩ）を加水分解することにより行われる。加水分解反応は、前述した第Ｂ７工程と同様にして行われる。
Ｇ法の各工程の目的化合物は、常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を適宜中和し、又、不溶物が存在する場合には濾過により除去した後、水と酢酸エチルのような混和しない有機溶媒を加え、水等で洗浄後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム、無水硫酸ナトリウム等で乾燥後、溶剤を留去することによって得られる。得られた目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿、又は、通常、有機化合物の分離精製に慣用されている方法、例えば、シリカゲル、アルミナ、マグネシウム‐シリカゲル系のフロリジルのような担体を用いた吸着カラムクロマトグラフィー法；セファデックスＬＨ−２０（ファルマシア社製）、アンバーライトＸＡＤ−１１（ローム・アンド・ハース社製）、ダイヤイオンＨＰ−２０（三菱化学社製）のような担体を用いた分配カラムクロマトグラフィー等の合成吸着剤を使用する方法、イオン交換クロマトを使用する方法、又はシリカゲル若しくはアルキル化シリカゲルによる順相・逆相カラムクロマトグラフィー法（好適には高速液体カラムクロマトグラフィー）を適宜組み合わせ、適切な溶離剤で溶出することによって分離、精製することができる。
【０３９６】
尚、異性体を分離する必要がある場合には、上記各工程の反応終了後、又は、所望工程の終了後の適切な時期に、上記分離精製手段によって行なうことができる。
【０３９７】
Ｈ法は、一般式（ＸＶＩ）又は（ＩＶ）より、一般式（ＸＸＶＩＩＩ）を有する化合物を製造する工程であり、Ｆ法の別法の一つである。
【０３９８】
【化６４】

【０３９９】
上記式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｄ、Ｑ、Ｚ及びｍは、前述したものと同意義を示す。
【０４００】
第Ｈ１工程
第Ｈ１工程は、一般式（ＸＸＸ）又は（ＸＸＸＩ）を有する化合物を製造する工程であり、一般式（ＸＶＩ）又は（ＩＶ）を有する化合物を、不活性溶媒中、公知の方法（例えば、Synth. Commun., 19, 2721 (1989)に記載の方法等）に準じて、塩化アルミニウムのようなルイス酸の存在下、化合物（ＸＸＶ）のような酸ハライドとFriedel-Crafts反応させることにより行うか、若しくは、一般式（ＸＶＩ）又は（ＩＶ）を有する化合物を、不活性溶媒中、公知の方法（例えば、Bioorg. Med. Chem., 9, 621 (2001)に記載の方法等）に準じて、Grignard試薬と処理した後、化合物（ＸＸＶ）のような酸ハライドと反応させることにより行うことができる。
【０４０１】
上記反応に使用される不活性溶媒としては、特に限定はされず、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；トルエン、ベンゼン、キシレンのような芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；又はアセトン、メチルエチルケトンのような低級アルキルケトン類が挙げられ、好適には、前者の場合には、ハロゲン化炭化水素類（特に、ジクロロメタン、ジクロロエタン）であり、後者の場合には、エーテル類（特に、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン）である。
【０４０２】
反応温度は、原料化合物、溶媒、試薬の種類等によって異なるが、通常、０℃乃至１００℃であり、好適には０℃乃至５０℃である。
【０４０３】
反応時間は、原料化合物、塩基、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、１５分乃至２４時間であり、好適には１時間乃至１２時間である。
【０４０４】
第Ｈ２工程
第Ｈ２工程は、一般式（ＸＸＶＩＩＩ）を有する化合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、塩基の存在下、化合物（ＸＸＸ）又は化合物（ＸＸＸＩ）を加水分解することにより行われる。加水分解反応は、前述した第Ｇ２工程と同様にして行われる。
【０４０５】
Ｈ法の各工程の目的化合物は、常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を適宜中和し、又、不溶物が存在する場合には濾過により除去した後、水と酢酸エチルのような混和しない有機溶媒を加え、水等で洗浄後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム、無水硫酸ナトリウム等で乾燥後、溶剤を留去することによって得られる。得られた目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿、又は、通常、有機化合物の分離精製に慣用されている方法、例えば、シリカゲル、アルミナ、マグネシウム‐シリカゲル系のフロリジルのような担体を用いた吸着カラムクロマトグラフィー法；セファデックスＬＨ−２０（ファルマシア社製）、アンバーライトＸＡＤ−１１（ローム・アンド・ハース社製）、ダイヤイオンＨＰ−２０（三菱化学社製）のような担体を用いた分配カラムクロマトグラフィー等の合成吸着剤を使用する方法、イオン交換クロマトを使用する方法、又はシリカゲル若しくはアルキル化シリカゲルによる順相・逆相カラムクロマトグラフィー法（好適には高速液体カラムクロマトグラフィー）を適宜組み合わせ、適切な溶離剤で溶出することによって分離、精製することができる。
【０４０６】
尚、異性体を分離する必要がある場合には、上記各工程の反応終了後、又は、所望工程の終了後の適切な時期に、上記分離精製手段によって行なうことができる。
【０４０７】
化合物（ＩＩ）は、前述したＡ法乃至Ｈ法を適宜選択して製造されるが、以下に示すＩ法によっても製造することができる。
【０４０８】
【化６５】

【０４０９】
上記式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹、Ｘ、Ｙ、Ｚ及びｎは、前述したものと同意義を示す。Ｒ^1a、Ｒ^2a、Ｒ^4a、Ｒ^5a、Ｒ^6a、Ｒ^7a、Ｙ^a及びＺ^aは、各々、Ｒ^1a、Ｒ^2a、Ｒ^4a、Ｒ^5a、Ｒ^6a、Ｒ^7a、Ｙ^a及びＺ^aに含まれるアミノ、ヒドロキシ及び／又はカルボキシル基が、保護されてもよいアミノ、ヒドロキシ及び／又はカルボキシル基である他、それぞれ、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｙ及びＺの基の定義におけるものと同意義を示し、Ｒ¹²及びＲ¹³は、同一又は異なって、低級アルキル基（特に、エチル基またはイソプロピル基）を示す。
【０４１０】
第Ｉ１工程
第Ｉ１工程は、一般式（ＩＩ）を有する化合物を製造する工程であり、一般式（Ｉ）のＲ³が水素原子であるアルコール体（Ｉ’）と化合物(ＸＸＸＩＩ)とを反応させて亜リン酸エステル体とし、次いで、酸化剤と反応させ、所望により、アミノ基の保護基を除去し、ヒドロキシ基の保護基を除去し、カルボキシル基の保護基を除去し、リン酸基の保護基を除去することにより行われる。
【０４１１】
Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｙ及びＺにおけるヒドロキシ基、アミノ基及び／又はカルボキシル基の保護基の除去は、前述の第Ａ７工程における保護基の除去と同様に行われる。
【０４１２】
所望の反応は、適宜順序を変えて行うことでき、保護基の除去は、適宜反応条件を選択して、選択的に除去することができる。
【０４１３】
一級水酸基を有する化合物をリン酸エステル体に導くには、有機合成化学の分野で一般的に使用される方法に準じて行うことができる。例えば、実験化学講座２２（第４版：丸善）「有機合成IV」第３章「リン酸エステル」に記載の方法により、容易に導くことが可能である。実際には以下のような方法が好適である。
【０４１４】
すなわち、アルコール体（Ｉ’）と化合物（ＸＸＸＩＩ）とを、不活性溶媒中、活性化剤存在下、反応させ亜リン酸エステル体を製造し、次いで、不活性溶媒中、酸化剤と反応させる方法である。
【０４１５】
化合物（Ｉ’）と化合物（ＸＸＸＩＩ）との反応において使用される不活性溶媒は、例えば、ヘキサン、ヘプタンのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフランのようなエーテル類或は上記溶媒の混合溶媒であり、好適には、ハロゲン化炭化水素類又はエーテル類（最も好適には、ジクロロメタン又はテトラヒドロフラン）である。
【０４１６】
使用される活性化剤は、例えば、１Ｈ−テトラゾール、５−メチル−１Ｈ−テトラゾール、５−フェニル−１Ｈ―テトラゾールのようなテトラゾール類（好適には、１Ｈ−テトラゾール）である。
【０４１７】
使用される化合物（ＸＸＸＩＩ）は、好適には、ジアリル Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト、ジメチル Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト、ジエチル Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト、ジ−ｔ−ブチルＮ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト、ジベンジル Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト、ジメチル Ｎ，Ｎ−ジエチルホスホロアミダイト、ジ−ｔ−ブチル Ｎ，Ｎ−エチルホスホロアミダイト、ジベンジル Ｎ，Ｎ−ジエチルホスホロアミダイト、Ｎ，Ｎ−ジエチル−１，５−ジヒドロ−２，４，３−ベンゾジオキサホスフェピン−３−アミン、ビス（２−シアノエチル） Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホルホロアミダイト又はビス（９−フルオレニルメチル） Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホルホロアミダイトのようなホスホロアミダイト類であり、特に好適には、ジアリル Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイトである。
【０４１８】
反応温度は、原料化合物、溶媒の種類等によって異なるが、通常、−１０℃乃至６０℃（好適には０℃乃至３０℃）である。
【０４１９】
反応時間は、原料化合物、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、１０分間乃至２４時間（好適に３０分間乃至２時間）である。
【０４２０】
上記反応で得られる亜リン酸エステル体は、反応の後処理及び単離をせずに、酸化剤と反応することができる。
【０４２１】
酸化剤との反応において使用される不活性溶媒は、アルコール体（Ｉ’）と化合物（ＸＸＸＩＩ）との反応に使用されるものと同様のものである。
【０４２２】
使用される酸化剤は、例えば、ｔ−ブチルヒドロペルオキシド、クメンヒドロペルオキシド、ｍ−クロロ過安息香酸、３，５−ジニトロ過安息香酸、ｏ−カルボキシ過安息香酸、ジメチルオキソラン、過酢酸、過トリフルオロ酢酸、過フタル酸、過酸化水素水のような過酸化物であり、好適には、ｔ−ブチルヒドロペルオキシド又はｍ−クロロ過安息香酸である。
【０４２３】
反応温度は、得られた亜リン酸エステル体、酸化剤、溶媒の種類等によって異なるが、通常、−７８℃乃至室温（好適には、−７８℃乃至０℃）である。
【０４２４】
反応時間は、得られた亜リン酸エステル体、酸化剤、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、５分間乃至２時間（好適には、５分間乃至３０分間）である。
【０４２５】
リン酸基の保護基が、シアノ基、置換されてもよいシリル基、アリール基、ヘテロシクリル基、アリールチオ基、スルホニル基又はハロゲン原子により置換されても良い低級アルキル基である場合には、不活性溶媒中、水の存在下、酸で加水分解するか、あるいは、不活性溶媒中、ハロゲン化トリメチルシリル（例えば、ブロモトリメチルシリル又はヨードトリメチルシリル）と反応させることにより該保護基が除去される。
【０４２６】
上記加水分解に使用させる不活性溶媒は、例えば、メタノ−ル、エタノ−ルのようなアルコ−ル類；又はジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類であり、好適にはエーテル類であり、最も好適にはジオキサンである。
【０４２７】
上記反応で使用される酸は、例えば、塩酸、硫酸、リン酸、硝酸のような無機酸であり、好適には塩酸である。
【０４２８】
反応温度は、０℃乃至１５０℃（好適には２０℃乃至１００℃）であり、反応温度は、１時間乃至６０時間（好適には１時間乃至４８時間）である。
【０４２９】
上記のハロゲン化トリメチルシリルとの反応に使用される不活性溶媒は、例えば、ヘキサン、ヘプタンのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類；アセトニトリルのようなニトリル類；或いは上記溶媒の混合溶媒であり、好適には、ハロゲン化炭化水素類又はニトリル類（より好適には、クロロホルム、ジクロロメタン又はアセトニトリル）である。
【０４３０】
反応温度は、原料化合物、使用される溶媒の種類等によって異なるが、通常、−７８℃乃至１００℃（好適には０℃乃至８０℃）である。
【０４３１】
反応時間は、原料化合物、使用される溶媒、反応温度等により異なるが、通常、１０分乃至２４時間（好適には１時間乃至６時間）である。
【０４３２】
リン酸基の保護基が低級アルケニル基である場合には、不活性溶媒中、アミン、蟻酸、蟻酸塩類、トリアルキルスズ化合物又は活性メチレン化合物の存在下、パラジウム化合物と反応させることにより、該保護基を除去することができる。
【０４３３】
上記反応に使用される不活性溶媒は、例えば、ヘキサン、ヘプタンのような脂肪族炭化水素類；トルエン、ベンゼン、キシレンのような芳香族炭化水素類；クロロホルム、ジクロロメタンのようなハロゲン化炭化水素類；アセトニトリルのようなニトリル類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピルのようなエステル類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエ−テル類；メタノ−ル、エタノ−ル、ｎ−プロパノ−ル、イソプロパノ−ルのようなアルコ−ル類；酢酸のような有機酸類；水；又は上記溶媒と水との混合溶媒であり、好適には、ニトリル類又はエーテル類（特に好適には、アセトニトリル又はテトラヒドロフラン）である。
【０４３４】
上記反応で使用されるアミンは、例えば、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）のような第三級アミン類；ジエチルアミン、ジメチルアミン、ジイソプロピルアミン、ピロリジンのような第二級アミン類；又はエチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリンのような第一級アミン類であり、好適には、ピロリジンである。
【０４３５】
上記反応で使用される蟻酸塩類は、好適には、蟻酸アンモニウム、蟻酸トリエチルアミン塩又は蟻酸ｎ−ブチルアミン塩である。
【０４３６】
上記反応に使用されるトリアルキルスズ化合物は、好適には、トリメチルスズ、トリエチルスズ又はトリブチルスズであり、特に好適には、トリブチルスズである。
【０４３７】
上記反応で使用される活性メチレン化合物は、例えば、マロン酸メチル、マロン酸エチルのようなマロン酸エステル類；シアノ酢酸メチルのようなシアノ酢酸エステル類；アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、ベンゾイル酢酸エチルのようなβ−ケト酢酸エステル類；アセチルアセトン、ベンゾイルアセトン、ジベンゾイルメタン、１，３−シクロペンタジオン、１，３−シクロヘキサジオン、ジメドンのような１，３−ジケトン類；又は上記活性メチレン化合物のアルカリ金属塩であり、好適には、１，３−ジケトン類又はマロン酸エステル類のナトリウム塩である。
【０４３８】
上記反応で使用されるパラジウム化合物は、例えば、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ジアセトキシパラジウム、ジクロロジ（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ビス（ジベンジリデンアセトン）パラジウムのようなパラジウム化合物であり、好適には、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウムである。
【０４３９】
反応温度は、原料化合物、使用される溶媒の種類等によって異なるが、通常、０℃乃至１００℃（好適には２０℃乃至８０℃）である。
【０４４０】
反応時間は、原料化合物、使用される溶媒、反応温度等により異なるが、通常、１０分乃至４８時間（好適に３０分乃至２４時間）である。
【０４４１】
リン酸基の保護基が、アリールメチル基である場合は、前述の第Ａ７工程における、前記アミノ基の保護基がアラルキル類又はアラルキルオキシカルボニル基である場合と同様に処理して除去される。
【０４４２】
リン酸基の保護基が、アリール基である場合は、前述の第Ａ７工程における、前記アミノ基の保護基が、低級脂肪族アシル類、芳香族アシル類、低級アルコキシカルボニル類又はシッフ塩基を形成する置換されたメチレン基である場合と同様に処理して除去される。
【０４４３】
リン酸基の保護基が、アミド類である場合、前述の第Ａ７工程における、前記アミノ基の保護基が脂肪族アシル類、芳香族アシル類、アルコキシカルボニル類又はシッフ塩基を形成する置換されたメチレン基である場合の除去反応における酸処理と同様に行われる。
【０４４４】
反応終了後、各反応の目的化合物は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を適宜中和し、酸化剤が存在する場合は、適宜、還元剤で分解し、又は、不溶物が存在する場合には、適宜濾過により除去した後、水と酢酸エチルのような混和しない有機溶媒を加え、目的化合物を含む有機層を分離し、水等で洗浄後、無水硫酸マグネシウム、無水硫酸ナトリウム、無水炭酸水素ナトリウム等で乾燥後、溶剤を留去することによって得られる。得られた目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿、クロマトグラフィー等の通常、有機化合物の分離精製に慣用されている方法を適宜組合せ、分離、精製することができる。
【０４４５】
化合物（ＩＩＩ）は、前述のＡ法乃至Ｈ法を適宜選択して製造されるが、以下に示すＪ法によっても、製造することができる。
【０４４６】
【化６６】

【０４４７】
上記式中、Ｒ¹、Ｒ^1a、Ｒ²、Ｒ^2a、Ｒ⁴、Ｒ^4a、Ｒ⁵、Ｒ^5a、Ｒ⁶、Ｒ^6a、Ｒ⁷、Ｒ^7a、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹、Ｙ、Ｙ^a、Ｚ、Ｚ^a及びｎは、前述したものと同意義を示す。
【０４４８】
第Ｊ１工程
第Ｊ１工程は、一般式（Ｉ’）を有する化合物を酸化して、一般式（ＸＸＸＩＩＩ）を有するアルデヒド体を製造する工程である。
【０４４９】
酸化反応は、一級アルコールからアルデヒドを生成する酸化反応であれば、特に限定はないが、例えば、ジクロロメタン中、ピリジン及びクロム酸を用いて行われるCollins酸化；ジクロロメタン中、塩化クロム酸ピリジニウム(PCC)を用いて行われるPCC酸化；ジクロロメタン中、二クロム酸ピリジニウム(PDC)を用いて行われるPDC酸化；ジクロロメタン中、親電子剤（例えば無水酢酸、無水トリフルオロ酢酸、塩化チオニル、塩化スルフリル、塩化オキザリル、ジシクロヘキシルカルボジイミド、ジフェニルケテン-p-トリルイミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノアセチレン、三酸化硫黄・ピリジン錯体など）及びジメチルスルホキシド(DMSO)を用いて行われる、Swern酸化のような、DMSO酸化；ジクロロメタン若しくはベンゼン中、二酸化マンガンを用いて行われる二酸化マンガン酸化；又はジクロロメタン中、Dess-Martinペルヨージナンを用いて行われるDess-Martin酸化であり、好適には、ジクロロメタン中で行われる、Dess-Martin酸化、PDC酸化又はSwern酸化である。
【０４５０】
反応温度は、原料化合物、溶剤、酸化剤の種類等によって異なるが、通常、−７８℃乃至１００℃であり、好適には、−７８℃乃至３０℃である。
【０４５１】
反応時間は、原料化合物、溶媒、酸化剤の種類、反応温度等によって異なるが、通常１０分間乃至２日間であり、好適には、３０分間乃至２４時間である。
【０４５２】
第Ｊ２工程
第Ｊ２工程は、不活性溶媒中、塩基の存在下、アルデヒド体（ＸＸＸＩＩＩ）を一般式（ＸＸＸＩＶ）を有する化合物と反応させ、α，β−不飽和リン酸エステル体（ＸＸＸＶ）に導く工程である。
【０４５３】
上記反応に使用される不活性溶媒は、出発物質をある程度溶解するものであれば、特に限定はないが、好適には、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフランのようなエーテル類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；ホルムアミドのようなアミド類；又はジメチルスルホキシドのようなスルホキシド類であり、さらに好適には、芳香族炭化水素類又はエーテル類（特に好適には、ベンゼン又はテトラヒドロフラン）である。
【０４５４】
使用される塩基は、化合物（ＸＸＸＩＶ）と反応させて、相当するカルバニオンを生成させるものであれば、特に限定はないが、好適には、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属炭酸水素塩類；水素化ナトリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物類；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド類；Ｎ−メチルモルホリン、トリエチルアミンのような有機アミン類；又はブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミドのような有機金属塩基類であり、さらに好適には、アルカリ金属アルコキシド類、アルカリ金属水素化物類及び有機金属塩基類であり、特に好適には、水素化ナトリウムである。
【０４５５】
反応温度は、原料化合物、溶剤、ホスホニウム塩の種類、塩基の種類等によって異なるが、通常、−８０℃乃至１００℃であり、好適には、−２０℃乃至５０℃である。
【０４５６】
反応時間は、原料化合物、溶剤、ホスホニウム塩の種類、塩基の種類等によって異なるが、通常１０分間乃至２日間であり、好適には、１０分間乃至１２時間である。
【０４５７】
第Ｊ３工程
第Ｊ３工程は、一般式（ＩＩＩ）を有する化合物を製造する工程であり、不飽和リン酸エステル化合物（ＸＸＸＶ）を不活性溶媒中、接触還元触媒の存在下、水素と反応させ、還元を行い、所望により、アミノ基の保護基を除去し、ヒドロキシの保護基を除去し、カルボキシル基の保護基を除去し、リン酸基の保護基を除去することにより行われる。
【０４５８】
不飽和リン酸エステル化合物（ＸＸＸＶ）を水素と反応させる反応で使用される不活性溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば、特に限定はないが、好適には、メタノール、エタノール、イソプロパノールのようなアルコール類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；ヘキサン、シクロヘキサンのような脂肪族炭化水素類；又は酢酸エチル、酢酸プロピルのようなエステル類であり、さらに好適には、アルコール類（特に好適には、メタノール又はエタノール）である。
【０４５９】
使用される接触還元触媒は、好適には、パラジウム−炭素、水酸化パラジウム−炭素、パラジウム黒、酸化白金、白金黒、ロジウム−酸化アルミニウム、トリフェニルホスフィン−塩化ロジウム(Wilkinson錯体)、パラジウム−硫酸バリウム、ラネーニッケルであり、さらに好適には、パラジウム−炭素又はトリフェニルホスフィン−塩化ロジウム(Wilkinson錯体)である。
【０４６０】
水素の圧力は、特に限定はないが、通常１乃至１０気圧で行われる。
【０４６１】
反応温度は、原料化合物、溶剤、塩基の種類等によって異なるが、通常、０℃乃至１００℃（好適には、０℃乃至５０℃）である。
【０４６２】
反応時間は、原料化合物、反応温度、溶剤、塩基の種類によって異なるが、通常、５分間乃至４８時間（好適には、３０分間乃至２４時間）である。
【０４６３】
反応終了後、各反応の目的化合物は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を適宜中和し、酸化剤が存在する場合は、適宜、還元剤で分解し、又は、不溶物が存在する場合には、適宜濾過により除去した後、水と酢酸エチルのような混和しない有機溶媒を加え、目的化合物を含む有機層を分離し、水等で洗浄後、無水硫酸マグネシウム、無水硫酸ナトリウム、無水炭酸水素ナトリウム等で乾燥後、溶剤を留去することによって得られる。得られた目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿、クロマトグラフィー等の通常、有機化合物の分離精製に慣用されている方法を適宜組合せ、分離、精製することができる。
【０４６４】
所望により行われる、アミノ基の保護基を除去する反応、ヒドロキシ基の保護基を除去する反応、カルボキシル基の保護基を除去する反応は、前述の第Ａ７工程と同様にして行うことができ、リン酸基の保護基を除去する反応は、前述の第Ｉ１工程と同様に行うことができる。
【０４６５】
本発明の一般式（Ｉ）を有するアミノアルコール誘導体、一般式（ＩＩ）を有するリン酸エステル又は一般式（ＩＩＩ）を有するホスホン酸誘導体、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステルは、毒性が低く優れた免疫抑制作用を有し、本発明の一般式（Ｉ）、（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）を有する化合物、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステルを有効成分として含有する医薬組成物は、特に、各種臓器移植又は皮膚移植での拒絶反応、全身性エリトマトーデス、慢性関節リウマチ、多発性筋炎、結合組織炎、骨格筋炎、骨関節炎、変形性関節症、皮膚筋炎、強皮症、ベーチェット病、Chron病、潰瘍性大腸炎、自己免疫性肝炎、再生不良性貧血、特発性血小板減少性紫斑病、自己免疫性溶血性貧血、多発性硬化症、自己免疫性水疱症、尋常性乾癬、血管炎症群、Wegener肉芽腫、ぶどう膜炎、シェーグレン症候群、特発性間質性肺炎、Goodpasture症候群、サルコイドーシス、アレルギー性肉芽腫性血管炎、気管支喘息、心筋炎、心筋症、大動脈炎症候群、心筋梗塞後症候群、原発性肺高血圧症、微小変化型ネフローゼ、膜性腎症、膜性増殖性腎炎、巣状糸球体硬化症、半月体形成性腎炎、重症筋無力症、炎症性ニューロパチー、アトピー性皮膚炎、慢性光線性皮膚炎、日光過敏症、蓐瘡、Sydenham舞踏病、硬化症、成人発症糖尿病、インスリン依存性糖尿病、若年性糖尿病、アテローム性動脈硬化症、糸球体腎炎、IgA腎症、尿細管間質性腎炎、原発性胆汁性肝硬変、原発性硬化性胆管炎、劇症肝炎、ウイルス性肝炎、GVHD、接触皮膚炎、敗血症等の自己免疫疾患又はその他免疫関連疾患、さらに、真菌、マイコプラズマ、ウィルス、原虫等の感染症、心不全、心肥大、不整脈、狭心症、心虚血、動脈塞栓、動脈瘤、静脈瘤、血行障害等の循環器系疾患、アルツハイマー病、痴呆、パーキンソン病、脳卒中、脳梗塞、脳虚血、鬱病、躁鬱病、統合失調症、ハンチントン舞踏病、癲癇、痙攣、多動症、脳炎、髄膜炎、食欲不振および過食等の中枢系疾患、リンパ腫、白血病、多尿、頻尿、糖尿病性網膜症等の各種疾患（特に、各種臓器移植又は皮膚移植での拒絶反応、全身性エリトマトーデス、慢性関節リウマチ、多発性硬化症、アトピー性皮膚炎等の自己免疫疾患）の温血動物用（特に、ヒト用）の予防剤若しくは治療剤（好適には、治療薬）として有用である。
【０４６６】
本発明の一般式（Ｉ）、（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）を有する化合物、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステルを、上記治療剤又は予防剤として使用する場合には、それ自体或は適宜の薬理学的に許容される、賦形剤、希釈剤等と混合し、例えば、錠剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤若しくはシロップ剤等による経口的又は注射剤若しくは坐剤等による非経口的に投与することができる。
【０４６７】
これらの製剤は、賦形剤（例えば、乳糖、白糖、葡萄糖、マンニトール、ソルビトールのような糖誘導体；トウモロコシデンプン、バレイショデンプン、α澱粉、デキストリンのような澱粉誘導体；結晶セルロースのようなセルロース誘導体；アラビアゴム；デキストラン；プルランのような有機系賦形剤：及び、軽質無水珪酸、合成珪酸アルミニウム、珪酸カルシウム、メタ珪酸アルミン酸マグネシウムのような珪酸塩誘導体；燐酸水素カルシウムのような燐酸塩；炭酸カルシウムのような炭酸塩；硫酸カルシウムのような硫酸塩等の無機系賦形剤を挙げることができる。）、滑沢剤（例えば、ステアリン酸、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸マグネシウムのようなステアリン酸金属塩；タルク；コロイドシリカ；ビーガム、ゲイ蝋のようなワックス類；硼酸；アジピン酸；硫酸ナトリウムのような硫酸塩；グリコール；フマル酸；安息香酸ナトリウム；ＤＬロイシン；脂肪酸ナトリウム塩；ラウリル硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸マグネシウムのようなラウリル硫酸塩；無水珪酸、珪酸水和物のような珪酸類；及び、上記澱粉誘導体を挙げることができる。）、結合剤（例えば、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ポリビニルピロリドン、マクロゴール、及び、前記賦形剤と同様の化合物を挙げることができる。）、崩壊剤（例えば、低置換度ヒドロキシプロピルセルロース、カルボキシルメチルセルロース、カルボキシルメチルセルロースカルシウム、内部架橋カルボキシルメチルセルロースナトリウムのようなセルロース誘導体；カルボキシルメチルスターチ、カルボキシルメチルスターチナトリウム、架橋ポリビニルピロリドンのような化学修飾されたデンプン・セルロース類を挙げることができる。）、安定剤（メチルパラベン、プロピルパラベンのようなパラオキシ安息香酸エステル類；クロロブタノール、ベンジルアルコール、フェニルエチルアルコールのようなアルコール類；塩化ベンザルコニウム；フェノール、クレゾールのようなフェノール類；チメロサール；デヒドロ酢酸；及び、ソルビン酸を挙げることができる。）、矯味矯臭剤（例えば、通常使用される、甘味料、酸味料、香料等を挙げることができる。）、希釈剤等の添加剤を用いて周知の方法で製造される。
【０４６８】
その使用量は症状、年齢等により異なるが、経口投与の場合には、１回当り１日下限０．０５ｍｇ（好適には、５ｍｇ）、上限２００ｍｇ（好適には、４０ｍｇ）を、静脈内投与の場合には、１回当り１日下限０．０１ｍｇ（好適には、１ｍｇ）、上限１００ｍｇ（好適には、１０ｍｇ）を成人に対して、１日当り１乃至６回症状に応じて投与することが望ましい。
【０４６９】
【実施例】
以下に、実施例および試験例を示し、本発明を更に詳細に説明するが、本発明の範囲はこれらに限定されるものではない。
【０４７０】
（実施例１）
（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−［５−（５−フェニルペント−１−イニル）フラン−２−イル］ブタン−１−オール シュウ酸塩(例示化合物番号：式Ia-1における1-621)
（１ａ） （２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−［５−（５−フェニルペント−１−イニル）フラン−２−イル］ブタン
参考例６で得られた（２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−（５−ブロモフラン−２−イル）ブタン０．３０１６ｇ（０．９１ｍｍｏｌ）、５−フェニルペント−１−イン０．３９７４ｇ（２．７６ｍｍｏｌ）、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）６３．０ｍｇ（０．０９０ｍｍｏｌ）およびヨウ化銅（Ｉ）３５．４ｍｇ（０．１９ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（９．０ｍｌ）に懸濁し、トリエチルアミン１．２５ｍｌ（９．０ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下、室温で１０時間撹拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて反応を止め、水および酢酸エチルを加え、室温で３０分間撹拌し、酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／１)により精製して、標記化合物 ０．２８４１ｇ(収率７９％)を得た。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃，400MHz），δ : 7.31-7.27 (m, 2H), 7.22-7.18 (m, 3H), 6.38 (d, 1H, J = 3.2 Hz), 5.98 (d, 1H, J = 3.2 Hz), 5.36 (br s, 1H), 4.29 (d, J = 11.2 Hz), 4.18 (d, 1H, J = 11.2 Hz), 2.77 (t, 2H, J = 7.8 Hz), 2.64 (dt, 2H, J = 8.5 Hz, 17.0 Hz), 2.44 (t, 2H, J = 7.1 Hz), 2.30-2.22 (m, 1H), 2.09 (s, 3H), 2.01-1.88 (m, 6H), 1.35 (s, 3H)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (CHCl₃) : 3691, 3444, 2947, 1737, 1681, 1601, 1511, 1453, 1374, 1251, 1042, 812, 803。マススペクトル（FAB⁺），m/z：396((M+H)⁺)。
【０４７１】
（１ｂ） （２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−［５−（５−フェニルペント−１−イニル）フラン−２−イル］ブタン−１−オール シュウ酸塩
実施例（１ａ）で得られた（２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−［５−（５−フェニルペント−１−イニル）フラン−２−イル］ブタン０．２７１０ｇ（０．６９ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１．４ｍｌ）−メタノール（１．４ｍｌ）の混合液に溶解し、水（１．４ｍｌ）および水酸化リチウム１水和物０．２８５４ｇ（６．８０ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で４時間攪拌した。冷却後、反応液に水を加え、塩化メチレンで抽出し、塩化メチレン層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、減圧下溶媒を留去し、残渣を塩基性シリカゲル（ＮＨタイプ）クロマトグラフィー(溶出溶媒：塩化メチレン／メタノール＝１００／１)により精製して、粗製の（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−［５−（５−フェニルペント-１-イニル）フラン−２−イル］ブタン−１−オール０．２０７２ｇを得た。得られた粗生成物をメタノールに溶解し、９８％無水シュウ酸５９．２ｍｇ（０．６４ｍｍｏｌ）を加えて、室温で３０分間撹拌した。減圧下濃縮し、酢酸エチルを加えて析出した結晶をろ取し、酢酸エチルで洗浄し、減圧下乾燥して、標記化合物０．２３４４ｇ(収率９１％)を得た。
¹H NMRスペクトル（CD₃OD，400MHz），δ : 7.29-7.25 (m, 2H), 7.21-7.14 (m, 3H), 6.40 (d, 1H, J = 3.0 Hz), 6.09 (d, 1H, J = 3.0 Hz), 3.59 (d, 1H, J = 11.6 Hz), 3.50 (d, 1H, J = 11.6 Hz), 2.77-2.65 (m, 4H), 2.41 (t, 2H, J = 7.0 Hz), 2.07-1.83 (m, 4H), 1.29 (s,3H)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (KBr) : 3353, 3128, 2940, 1720, 1645, 1614, 1598, 1542, 1403, 1220, 1078, 789, 713, 700。
マススペクトル（FAB⁺），m/z：312((M+H)⁺；free体)。
【０４７２】
（実施例２）
（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−［５−（５−シクロヘキシルペント−１−イニル）フラン−２−イル］ブタン−１−オール シュウ酸塩(例示化合物番号：式Ia-1における1-570)
参考例６で得られた（２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−（５−ブロモフラン−２−イル）ブタンおよび５−シクロヘキシルペント−１−インを出発原料とし、実施例（１ａ）および（１ｂ）に記載の方法に準じて、標記化合物を得た（収率６８％）。
¹H NMRスペクトル（CD₃OD，400MHz），δ : 6.36 (d, 1H, J = 3.1 Hz), 6.08 (d, 1H, J = 3.1 Hz), 3.59 (d, 1H, J = 11.5 Hz), 3.49 (d, 1H, J = 11.5 Hz), 2.77-2.64 (m, 2H), 2.39 (t, 2H, J = 7.2 Hz), 2.07-1.90 (m, 2H), 1.76-1.54 (m, 7H), 1.35-1.12 (m, 9H), 0.96-0.86 (m, 2H)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (KBr) : 3362, 3124, 2923, 2850, 1720, 1611, 1597, 1542, 1467, 1403, 1279, 1220, 1067, 967, 791, 721, 700。
マススペクトル（FAB⁺），m/z：318((M+H)⁺；free体)。
【０４７３】
（実施例３）
（２Ｒ）−アミノ−２−メチル−４−［５−（４−シクロヘキシルオキシブト−１−イニル）フラン−２−イル］ブタン−１−オール シュウ酸塩(例示化合物番号：式Ia-1における1-842)
参考例７で得られた（２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−（５−ヨードフラン−２−イル）ブタンおよび４−シクロヘキシルオキシブト−１−インを出発原料として、実施例（１ａ）および（１ｂ）に記載の方法に準じて、標記化合物を得た（収率６６％）。
¹H NMRスペクトル（CD₃OD，400MHz），δ : 6.40 (d, 1H, J = 3.3 Hz), 6.09 (d, 1H, J = 3.3 Hz), 3.63 (t, 2H, J = 6.6 Hz), 3.58 (d, 1H, J = 11.7 Hz), 3.50 (d, 1H, J = 11.7 Hz), 3.39-3.32 (m, 1H), 2.77-2.62 (m, 4H), 2.07-1.89 (m, 4H), 1.77-1.73 (m, 2H), 1.56-1.53 (m, 1H), 1.36-1.23 (m, 8H)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (KBr) : 3360, 3099, 2932, 2857, 1719, 1614, 1597, 1542, 1403, 1219, 1106, 967, 785, 720, 711。
マススペクトル（FAB⁺），m/z：320((M+H)⁺；free体)。
【０４７４】
（実施例４）
（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−｛５−［３−（３，４−ジメチルフェニルオキシ）プロプ−１−イニル］フラン−２−イル｝ブタン−１−オール シュウ酸塩(例示化合物番号：式Ia-1における1-1836)
参考例６で得られた（２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−（５−ブロモフラン−２−イル）ブタンおよび３−（３，４−ジメチル）フェニルオキシ−１−プロピンを出発原料として、実施例（１ａ）および（１ｂ）に記載の方法に準じて、標記化合物を得た（収率４６％）。
¹H NMRスペクトル（CD₃OD，400MHz），δ : 7.02 (d, 1H, J = 8.3 Hz), 6.77 (d, 1H, J = 2.7 Hz), 6.71 (dd, 1H, J = 8.3 Hz, 2.7 Hz), 6.55 (d, 1H, J = 3.2 Hz), 6.14 (d, 1H, J = 3.2 Hz), 4.88 (s, 2H), 3.58 (d, 1H, J = 11.7 Hz), 3.49 (d, 1H, J = 11.7 Hz), 2.79-2.66 (m, 2H), 2.23 (s, 3H), 2.19 (s, 3H), 2.07-1.90 (m, 2H), 1.28 (s,3H)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (KBr) : 3358, 3134, 2921, 2582, 1720, 1649, 1616, 1579, 1542, 1499, 1370, 1286, 1250, 1223, 1166, 1122, 1046, 1025, 802, 712。
マススペクトル（FAB⁺），m/z：328((M+H)⁺;free体)。
【０４７５】
（実施例５）
（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−［５−（５−フェニルペンタノイル）フラン−２−イル］ブタン−１−オール シュウ酸塩(例示化合物番号：式Ia-1における1-1093)
実施例（１ｂ）で得られた（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−［５−（５−フェニルペント−１−イニル）フラン−２−イル］ブタン−１−オール０．３４４０ｇ（１．１１ｍｍｏｌ）をメタノール（３．５ｍｌ）に溶解し、６規定硫酸水溶液（３．５ｍｌ）を加えて４時間加熱還流した。冷却後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて中和し、さらに水および塩化メチレンを加えて３０分撹拌後、塩化メチレンで抽出し、塩化メチレン層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、減圧下溶媒を留去し、残渣を塩基性シリカゲル（ＮＨタイプ）クロマトグラフィー(溶出溶媒：塩化メチレン／メタノール＝１００／１)により精製した後、メタノールに溶解し、無水シュウ酸（９８％）９１．８ｍｇ（１．００ｍｍｏｌ）を加えて、室温で３０分間撹拌した。減圧下濃縮し、酢酸エチルを加えて、析出した結晶をろ取し、酢酸エチルで洗浄した後、減圧下乾燥して、標記化合物０．３６８７ｇ(収率９０％)を得た。
¹H NMRスペクトル（CD₃OD，400MHz），δ : 7.31 (d, 1H, J = 3.6 Hz), 7.25-7.22 (m, 2H), 7.17-7.12 (m, 3H), 6.36 (d, 1H, J = 3.6 Hz), 3.61 (d, 1H, J = 11.6 Hz), 3.52 (d, 1H, J = 11.6 Hz), 2.89-2.76 (m, 4H), 2.64 (t, 2H, J = 7.2 Hz), 2.13-1.95 (m, 2H), 1.75-1.63 (m, 4H), 1.30 (s,3H)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (KBr) : 3108, 3027, 2981, 2935, 1718, 1698, 1661, 1604, 1542, 1516, 1202, 1093, 1082, 1047, 797, 700。
マススペクトル（FAB⁺），m/z：330((M+H)⁺;free体)。
【０４７６】
（実施例６）
（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−［５−（５−フェニルペンチル）フラン−２−イル］ブタン−１−オール シュウ酸塩(例示化合物番号：式Ia-1における1-93)
（６ａ） （２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−［５−（５−フェニルペンチル）フラン−２−イル］ブタン
１０％パラジウム−炭素（５０％含水）２５ｍｇをメタノール（１ｍｌ）に懸濁し、実施例（１ａ）で得られた（２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−［５−（５−フェニルペント−１−イニル）フラン−２−イル］ブタン０．１２４５ｇ（０．３２ｍｍｏｌ）をメタノール（１．５ｍｌ）に溶解した溶液を加え、水素雰囲気下、室温で８時間撹拌した。窒素置換後、反応液中のパラジウム−炭素をセライトろ過し、セライトを酢酸エチルで洗浄した。ろ液、洗液を合わせて減圧下濃縮乾固し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝３／２)により精製して、標記化合物０．１０２９ｇ(収率８２％)を得た。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃，400MHz），δ : 7.29-7.26 (m, 2H), 7.19-7.16 (m, 3H), 5.87 (d, 1H, J = 3.0 Hz), 5.83 (d, 1H, J = 3.0 Hz), 5.36 (br s, 1H), 4.31 (d, 1H, J = 11.2 Hz), 4.17 (d, 1H, J = 11.2 Hz), 2.64-2.54 (m, 4H), 2.25-2.17 (m, 1H), 2.08 (s, 3H), 2.05-1.91 (m, 1H), 1.92 (s, 3H), 1.69-1.60 (m, 4H), 1.43-1.37 (m, 2H), 1.35 (s, 3H)。
マススペクトル（FAB⁺），m/z：400((M+H)⁺;free体)。
【０４７７】
（６ｂ） （２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−［５−（５−フェニルペンチル）フラン−２−イル］ブタン−１−オール シュウ酸塩
実施例（６ａ）で得られた（２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−［５−（５−フェニルペンチル）フラン−２−イル］ブタン９９．７ｍｇ（０．２５ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（０．５ｍｌ）およびメタノール（０．５ｍｌ）の混合液に溶解し、水（０．５ｍｌ）および水酸化リチウム１水和物０．１０３７ｇ（２．４７ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で４時間攪拌した。冷却後、反応液に水を加え、塩化メチレンで抽出し、塩化メチレン層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、減圧下溶媒を留去し、残渣を塩基性シリカゲル（ＮＨタイプ）クロマトグラフィー(溶出溶媒：塩化メチレン／メタノール＝１００／１)により精製して、（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−［５−（５−フェニルペンチル）フラン−２−イル］ブタン−１−オール７４．６ｍｇ(収率９５％)を得た。これをメタノール（２．３ｍｌ）に溶解し、無水シュウ酸（９８％）２１．１ｍｇ（０．２３ｍｍｏｌ）を加えて、室温で１時間撹拌した。減圧下濃縮し、酢酸エチルを加えて析出した結晶をろ取し、酢酸エチルで洗浄し、減圧下乾燥して、標記化合物７８．１ｍｇ(収率８５％)を得た。
¹H NMRスペクトル（CD₃OD，400MHz），δ : 7.25-7.21 (m, 2H), 7.15-7.11 (m, 3H), 5.94 (d, 1H, J = 3.2 Hz), 5.87 (d, 1H, J = 3.2 Hz), 3.58 (d, 1H, J = 11.6 Hz), 3.49 (d, 1H, J = 11.6 Hz), 2.69-2.53 (m, 6H), 2.04-1.88 (m, 2H), 1.67-1.59 (m, 4H), 1.40-1.32 (m, 2H), 1.28 (s,3H)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (KBr) : 3119, 3025, 2979, 2928, 2855, 1719, 1610, 1543, 1466, 1402, 1197, 1094, 1078, 1012, 786, 746, 721, 699。
マススペクトル（FAB⁺），m/z：316((M+H)⁺;free体)。
【０４７８】
（実施例７）
（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−［５−（４−シクロヘキシルメトキシフェニル）フラン−２−イル］ブタン−１−オール シュウ酸塩(例示化合物番号：式Ia-1における1-1433)
（７ａ） （２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−［５−（４−シクロヘキシルメトキシフェニル）フラン−２−イル］ブタン
参考例７で得られた（２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−（５−ヨードフラン−２−イル）ブタン０．２０４７ｇ（０．５１ｍｍｏｌ）、２−（４−シクロヘキシルメトキシフェニル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン０．２４００ｇ（０．７６ｍｍｏｌ）、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）３６．１ｍｇ（０．０５１ｍｍｏｌ）および炭酸セシウム０．６７３８ｇ（２．０３ｍｍｏｌ）をジメトキシエタン（４．０ｍｌ）および水（１ｍｌ）の混合液に懸濁し、８０℃で４時間撹拌した。冷却後、反応液に水を加え、塩化メチレンで抽出し、塩化メチレン層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、減圧下溶媒を留去し、残渣を塩化メチレン（５．０ｍｌ）に溶解し、トリエチルアミン０．７２ｍｌ（５．２ｍｍｏｌ）、無水酢酸０．２４ｍｌ（２．６ｍｍｏｌ）および４−ジメチルアミノピリジン６．４ｍｇ（０．０５２ｍｍｏｌ）を加え、室温で２時間撹拌した。メタノール０．１０ｍｌ（２．５ｍｍｏｌ）を加えて反応を止め、酢酸エチルおよび水を加えて、酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝３／２)により精製して、標記化合物４５．３ｍｇ(収率２０％)を得た。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃，400MHz），δ : 7.55-7.51 (m, 2H), 7.00-6.87 (m, 2H), 6.39 (d, 1H, J = 3.1 Hz), 6.06 (d, 1H, J = 3.1 Hz), 5.36 (br s, 1H), 4.34 (d, J = 11.2 Hz), 4.20 (d, 1H, J = 11.2 Hz), 3.76 (d, 2H, J = 2.5 Hz), 2.73-2.69 (m, 2H), 2.35-2.27 (m, 1H), 2.09 (s, 3H), 2.08-1.99 (m, 1H), 1.91 (s, 3H), 1.93-1.69 (m, 6H), 1.38 (s, 3H), 1.37-1.18(m, 3H), 1.10-1.00(m, 2H)。
マススペクトル（FAB⁺），m/z：442((M+H)⁺), 441(M⁺・)。
【０４７９】
（７ｂ） （２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−［５−（４−シクロヘキシルメトキシフェニル）フラン−２−イル］ブタン−１−オール シュウ酸塩
実施例（７ａ）で得られた（２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−［５−（４−シクロヘキシルメトキシフェニル）フラン−２−イル］ブタン４４．０ｍｇ（０．１０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（０．４ｍｌ）およびメタノール（０．４ｍｌ）の混合液に溶解し、水（０．４ｍｌ）および水酸化リチウム１水和物４３．６ｍｇ（１．０４ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で４時間攪拌した。冷却後、反応液に水を加え、塩化メチレンで抽出し、塩化メチレン層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、減圧下溶媒を留去し、残渣を塩基性シリカゲル（ＮＨタイプ）クロマトグラフィー(溶出溶媒：塩化メチレン／メタノール＝５０／１)により精製して、生成物３５．２ｍｇ(収率９９％)を得た。生成物をメタノール（２．０ｍｌ）に溶解し、無水シュウ酸（９８％）８．９ｍｇ（０．１０ｍｍｏｌ）を加えて、室温で３０分間撹拌した。減圧下濃縮し、これにアセトンを加えて結晶析出をろ取し、アセトンで洗浄したのち減圧下乾燥して、標記化合物２８．２ｍｇ(収率６６％)を得た。
¹H NMRスペクトル（CD₃OD-DMSO-d₆，400MHz），δ : 7.55 (d, 2H, J = 8.7Hz), 6.93 (d, 2H, J = 8.7Hz), 7.16 (t, 1H, J = 2.0Hz), 6.53 (d, 1H, J = 3.2 Hz), 6.17 (d, 1H, J = 3.2 Hz), 3.79 (d, 2H, J = 6.4 Hz), 3.58 (d, 1H, J = 11.7 Hz), 3.50 (d, 1H, J = 11.7 Hz), 3.28-3.27 (m, 2H), 2.09-1.69 (m, 8H), 1.38-1.04 (m, 8H)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (KBr) : 3387, 3235, 2924, 2852, 2578, 1618, 1568, 1499, 1466, 1448, 1390, 1288, 1245, 1174, 1024, 828, 783, 765。
マススペクトル（FAB⁺），m/z：358((M+H)⁺)。
【０４８０】
（実施例８）
（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−｛５−［３−（２−シクロヘキシルエトキシ）フェニル］フラン−２−イル｝ブタン−１−オール シュウ酸塩(例示化合物番号：式Ia-1における1-1444)
参考例７で得られた（２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−（５−ヨードフラン−２−イル）ブタンおよび２−［３−（２−シクロヘキシルエトキシ）フェニル］−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロランを出発原料として、実施例７に記載の方法に準じて、標記化合物を得た（収率２１％）。
¹H NMRスペクトル（CD₃OD，400MHz），δ : 7.27 (t, 1H, J = 8.0Hz), 7.21 (dd, 1H, J = 8.0Hz, 2.0Hz), 7.16 (t, 1H, J = 2.0Hz), 6.80 (dd, 1H, J = 8.0Hz, 2.0Hz), 6.69 (d, 1H, J = 3.5 Hz), 6.21 (d, 1H, J = 3.5 Hz), 4.04 (t, 2H, J = 6.6 Hz), 3.61 (d, 1H, J = 11.6 Hz), 3.52 (d, 1H, J = 11.6 Hz), 2.83-2.78 (m, 2H), 2.62-2.60 (m, 1H), 2.13-1.97 (m, 2H), 1.81-1.65 (m, 6H), 1.59-1.49 (m, 1H), 1.31-1.02 (m, 6H), 1.00-0.96 (m, 2H)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (KBr) : 3213, 2925, 2850, 2571, 1720, 1701, 1614, 1600, 1578, 1563, 1548, 1449, 1300, 1216, 1205, 1052, 1033, 1017, 863, 772, 721, 689。
マススペクトル（FAB⁺），m/z：372((M+H)⁺;free体)。
【０４８１】
（実施例９）
（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−［１−メチル−５−（５−フェニルペント−１−イニル）ピロール−２−イル］ブタン−１−オール シュウ酸塩(例示化合物番号：式Ia-2における1-621)
参考例１３で得られた（２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−（１−メチル−５−ヨードピロール−２−イル）ブタンおよび５−フェニルペント−１−インを出発原料として、実施例（１ａ）および（１ｂ）に記載の方法に準じて、標記化合物を得た（収率５７％）。
¹H NMRスペクトル（CD₃OD，400MHz），δ : 7.28-7.14 (m, 5H), 6.16 (d, 1H, J = 3.7 Hz), 5.80 (d, 1H, J = 3.7 Hz), 3.63 (d, 1H, J = 11.6 Hz), 3.57 (s, 3H), 3.54 (d, 1H, J = 11.6 Hz), 2.77 (t, 2H, J = 7.6 Hz), 2.66-2.61 (m, 2H), 2.43 (t, 2H, J = 7.0 Hz), 2.04-1.96 (m, 1H), 1.92-1.84 (m, 3H), 1.33 (s,3H)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (KBr) : 3212, 3026, 2935, 2897, 2571, 1719, 1700, 1611, 1521, 1496, 1454, 1405, 1279, 1218, 1053, 767, 721, 700。
マススペクトル（FAB⁺），m/z：325((M+H)⁺;free体)。
【０４８２】
（実施例１０）
（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−［１−メチル−５−（４−シクロヘキシルオキシブト−１−イニル）ピロール−２−イル］ブタン−１−オール １／２シュウ酸塩(例示化合物番号：式Ia-2における1-842)
参考例１３で得られた（２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−（１−メチル−５−ヨードピロール−２−イル）ブタンおよび４−シクロヘキシルオキシブト−１−インを出発原料として、実施例（１ａ）および（１ｂ）に記載の方法に準じて、標記化合物を得た（収率３２％）。
¹H NMRスペクトル（CD₃OD，400MHz），δ : 6.13 (d, 1H, J = 3.7 Hz), 5.79 (d, 1H, J = 3.7 Hz), 3.65 (t, 2H, J = 6.8 Hz), 3.61 (d, 1H, J = 11.5 Hz), 3.56 (s, 3H), 3.53 (d, 1H, J = 11.5 Hz), 3.39-3.34 (m, 1H), 2.68-2.61 (m, 4H), 2.01-1.83 (m, 4H), 1.78-1.74 (m, 2H), 1.56-1.54 (m, 1H), 1.35-1.21 (m, 8H)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (KBr) : 3348, 2931, 2856, 1590, 1452, 1364, 1309, 1106, 762。
マススペクトル（FAB⁺），m/z：333((M+H)⁺;free体)。
【０４８３】
（実施例１１）
（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−｛１−メチル−５−［３−（４−メチルフェニルオキシ）プロプ―１−イニル］ピロール−２−イル｝ブタン−１−オール １／２シュウ酸塩(例示化合物番号：式Ia-2における1-833)
参考例１３で得られた（２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−（１−メチル−５−ヨードピロール−２−イル）ブタンおよび３−（４−メチルフェニルオキシ）−１−プロピンを出発原料として、実施例（１ａ）および（１ｂ）に記載の方法に準じて、標記化合物を得た（収率２９％）。
¹H NMRスペクトル（CD₃OD，400MHz），δ : 7.09 (d, 1H, J = 8.5 Hz), 6.90 (d, 1H, J = 8.5 Hz), 6.26 (d, 1H, J = 3.7 Hz), 5.83 (d, 1H, J = 3.7 Hz), 4.93 (s, 2H), 3.60 (d, 1H, J = 11.6 Hz), 3.53 (d, 1H, J = 11.6 Hz), 3.51 (s, 3H), 2.65-2.60 (m, 2H), 2.26 (s, 3H), 2.01-1.93 (m, 1H), 1.89-1.82 (m, 1H), 1.30 (s,3H)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (KBr) : 3356, 2944, 2602, 2220, 1586, 1510, 1455, 1365, 1295, 1228, 1178, 1071, 1042, 1015, 815, 762。
マススペクトル（FAB⁺），m/z：327((M+H)⁺;free体)。
【０４８４】
（実施例１２）
（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−｛１−メチル−５−［３−（３，４−ジメチルフェニルオキシ）プロプ−１−イニル］ピロール−２−イル｝ブタン−１−オール １／２シュウ酸塩(例示化合物番号：式Ia-2における1-1836)
参考例１３で得られた（２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−（１−メチル−５−ヨードピロール−２−イル）ブタンおよび３−（３，４−ジメチルフェニルオキシ）−１−プロピンを出発原料として、実施例（１ａ）および（１ｂ）に記載の方法に準じて、標記化合物を得た（収率３３％）。
¹H NMRスペクトル（CD₃OD，400MHz），δ : 7.02 (d, 1H, J = 8.2 Hz), 6.81 (d, 1H, J = 2.5 Hz), 6.73 (dd, 1H, J = 8.2 Hz, 2.5 Hz), 6.26 (d, 1H, J = 3.9 Hz), 5.83 (d, 1H, J = 3.9 Hz), 4.91 (s, 2H), 3.61 (d, 1H, J = 11.4 Hz), 3.53 (d, 1H, J = 11.4 Hz), 3.52 (s, 3H), 2.65-2.61 (m, 2H), 2.23 (s, 3H), 2.18 (s, 3H), 1.99-1.93 (m, 1H), 1.90-1.82 (m, 1H), 1.31 (s,3H)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (KBr) : 3420, 2943, 2631, 2213, 1584, 1503, 1455, 1365, 1301, 1251, 1207, 1163, 1025, 806, 762。マススペクトル（FAB⁺），m/z：341((M+H)⁺;free体)。
【０４８５】
（実施例１３）
（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−［５−（４−フェニルブト−１−イニル）フラン−２−イル］ブタン−１−オール シュウ酸塩(例示化合物番号：式Ia-1における1-559)
参考例６で得られた（２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−（５−ブロモフラン−２−イル）ブタンおよび４−フェニルブト−１−インを出発原料とし、実施例（１ａ）および（１ｂ）に記載の方法に準じて、標記化合物を得た（収率６１％）。
¹H NMRスペクトル（CD₃OD，400MHz），δ : 7.29-7.17 (m, 5H), 6.35 (d, 1H, J = 3.4 Hz), 6.07 (d, 1H, J = 3.4 Hz), 3.59 (d, 1H, J = 11.7 Hz), 3.50 (d, 1H, J = 11.7 Hz), 2.87 (t, 2H, J = 7.3 Hz), 2.77-2.64 (m, 4H), 2.06-1.89 (m, 2H), 1.29 (s,3H)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (KBr) : 3353, 3140, 2924, 2896, 1724, 1651, 1617, 1598, 1542, 1403, 1221, 1075, 1054, 1010, 784, 713, 501。
マススペクトル（ESI⁺），m/z：298((M+H)⁺; free体)。
【０４８６】
（実施例１４）
（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−｛５−［５−（４−クロロフェニル）ペント−１−イニル］フラン−２−イル｝ブタン−１−オール シュウ酸塩(例示化合物番号：式Ia-1における1-628)
参考例７で得られた（２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−（５−ヨードフラン−２−イル）ブタンおよび５−（４−クロロフェニル）ペント−１−インを出発原料とし、実施例（１ａ）および（１ｂ）に記載の方法に準じて、標記化合物を得た（収率６０％）。
¹H NMRスペクトル（CD₃OD，400MHz），δ : 7.28-7.25 (m, 2H), 7.20 (d, 1H, J = 8.3 Hz), 6.40 (d, 1H, J = 3.4 Hz), 6.09 (d, 1H, J = 3.4 Hz), 3.59 (d, 1H, J = 11.7 Hz), 3.51 (d, 1H, J = 11.7 Hz), 2.78-2.65 (m, 4H), 2.42 (t, 2H, J = 6.8 Hz), 2.08-1.83 (m, 4H), 1.29 (s, 3H)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (KBr) : 3257, 3105, 2936, 1718, 1598, 1540, 1493, 1405, 1280, 1202, 1093, 1015, 828, 792, 721, 701, 502。
マススペクトル（FAB⁺），m/z：346((M+H)⁺; free体)。
【０４８７】
（実施例１５）
（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−｛５−［５−（３−トリフルオロメチルフェニル）ペント−１−イニル］フラン−２−イル｝ブタン−１−オール シュウ酸塩(例示化合物番号：式Ia-1における1-640)
参考例７で得られた（２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−（５−ヨードフラン−２−イル）ブタンおよび５−（３−トリフルオロメチルフェニル）ペント−１−インを出発原料とし、実施例（１ａ）および（１ｂ）に記載の方法に準じて、標記化合物を得た（収率５８％）。
¹H NMRスペクトル（CD₃OD，400MHz），δ : 7.51-7.48 (m, 4H), 6.41 (d, 1H, J = 3.3 Hz), 6.10 (d, 1H, J = 3.3 Hz), 3.59 (d, 1H, J = 11.6 Hz), 3.51 (d, 1H, J = 11.6 Hz), 2.85 (t, 2H, J = 7.4 Hz), 2.78-2.66 (m, 2H), 2.44 (t, 2H, J = 7.0 Hz), 2.08-1.87 (m, 4H), 1.29 (s, 3H)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (KBr) : 3358, 3139, 2935, 1722, 1651, 1615, 1597, 1542, 1403, 1326, 1222, 1168, 1119, 1073, 797, 721, 713, 703, 503。
マススペクトル（FAB⁺），m/z：380((M+H)⁺; free体)。
【０４８８】
（実施例１６）
（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−｛５−［３−（４−メチルフェニルオキシ）プロプ−１−イニル］フラン−２−イル｝ブタン−１−オール シュウ酸塩(例示化合物番号：式Ia-1における1-833)
参考例６で得られた（２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−（５−ブロモフラン−２−イル）ブタンおよび３−（４−メチルフェニルオキシ）−１−プロピンを出発原料とし、実施例（１ａ）および（１ｂ）に記載の方法に準じて、標記化合物を得た（収率１１％）。
¹H NMRスペクトル（CD₃OD，400MHz），δ : 7.13-7.06 (m, 2H), 6.92-6.84 (m. 2H), 6.55 (d, 1H, J = 3.4 Hz), 6.13 (d, 1H, J = 3.4 Hz), 4.90 (s, 2H), 3.59 (d, 1H, J = 11.7 Hz), 3.50 (d, 1H, J = 11.7 Hz), 3.34-3.28 (m, 2H), 2.80-2.64 (m, 2H), 2.27 (s, 3H), 2.07-1.87 (m, 2H), 1.28 (s, 3H)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (KBr) : 3352, 3138, 2921, 2893, 1727, 1653, 1616, 1596, 1544, 1511, 1373, 1224, 1018, 713。
マススペクトル（FAB⁺），m/z：314((M+H)⁺; free体)。
【０４８９】
（実施例１７）
（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−｛５−［３−（４−メチルチオフェニルオキシ）プロプ−１−イニル］フラン−２−イル｝ブタン−１−オール シュウ酸塩(例示化合物番号：式Ia-1における1-838)
参考例６で得られた（２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−（５−ブロモフラン−２−イル）ブタンおよび３−（４−メチルチオフェニルオキシ）−１−プロピンを出発原料として、実施例（１ａ）および（１ｂ）に記載の方法に準じて、標記化合物を得た（収率１５％）。
¹H NMRスペクトル（CD₃OD，400MHz），δ : 7.30-7.25 (m, 2H), 6.99-6.94 (m, 2H), 6.57 (d, 1H, J = 3.5 Hz), 6.14 (d, 1H, J = 3.5 Hz), 4.94 (s, 2H), 3.59 (d, 1H, J = 11.6 Hz), 3.50 (d, 1H, J = 11.6 Hz), 2.80-2.65 (m, 2H), 2.42 (s, 3H), 2.08-1.88 (m, 2H), 1.28 (s, 3H)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (KBr) : 3359, 3136, 3089, 2920, 2230, 1722, 1646, 1618, 1594, 1542, 1493, 1373, 1279, 1230, 1073, 1039, 1015, 820, 797, 712。
マススペクトル（FAB⁺），m/z：346((M+H)⁺; free体)。
【０４９０】
（実施例１８）
（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−［５−（４−フェニルオキシブト−１−イニル）フラン−２−イル］ブタン−１−オール シュウ酸塩(例示化合物番号：式Ia-1における1-893)
参考例７で得られた（２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−（５−ヨードフラン−２−イル）ブタンおよび４−フェニルオキシブト−１−インを出発原料として、実施例（１ａ）および（１ｂ）に記載の方法に準じて、標記化合物を得た（収率４２％）。
¹H NMRスペクトル（DMSO-d₆，400MHz），δ : 7.32-7.28 (m, 2H), 6.98-6.93 (m, 3H), 6.78 (d, 1H, J = 3.2 Hz), 6.16 (d, 1H, J = 3.2 Hz), 4.13 (t, 2H, J = 6.4 Hz), 3.40 (dd, 2H, J = 19.8 Hz, 11.4 Hz), 2.93 (t, 2H, J = 6.4 Hz), 2.66 (t, 2H, J = 8.5 Hz), 1.95-1.75 (m, 2H), 1.16 (s, 3H)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (KBr) : 3115, 2978, 2940, 1719, 1600, 1547, 1498, 1248, 1204, 1081, 1039, 752, 700。
マススペクトル（FAB⁺），m/z：314((M+H)⁺; free体)。
元素分析値（C₁₉H₂₃NO₃・C₂H₂O₄として％），
計算値：C ： 62.52，H ： 6.25 ， N ： 3.47。
実測値：C ： 62.47，H ： 6.14 ， N ： 3.42。
【０４９１】
（実施例１９）
（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−［５−（５−シクロヘキシルペント−１−イニル）フラン−２−イル］ブタン−１−オール 塩酸塩(例示化合物番号：式Ia-1における1-570)
（１９ａ） （２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−［５−（５−シクロヘキシルペント−１−イニル）フラン−２−イル］ブタン
参考例７で得られた（２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−（５−ヨードフラン−２−イル）ブタン４．１６８５ｇ（１０．９９ｍｍｏｌ）、５−シクロヘキシルペント−１−イン４．４８ｇ（２９．８ｍｍｏｌ）、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）０．７７３０ｇ（１．１０ｍｍｏｌ）およびヨウ化銅（Ｉ）０．４２０５ｇ（２．２１ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１１０ｍｌ）に懸濁し、トリエチルアミン１５．３ｍｌ（１１０．１ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下、６０℃で２時間撹拌した。冷後、反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて反応を止め、水および酢酸エチルを加え、室温で３０分間撹拌し、酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝３／２)により精製して、標記化合物 ２．６５７６ｇ(収率６０％)を得た。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃，400MHz），δ : 6.36 (d, 1H, J = 2.9 Hz), 5.97 (d, 1H, J = 2.9 Hz), 5.36 (br s, 1H), 4.29 (d, J = 11.0 Hz), 4.17 (d, 1H, J = 11.0 Hz), 2.63 (t, 2H, J = 8.1 Hz), 2.40 (t, 2H, J = 7.3 Hz), 2.29-2.21 (m, 1H), 2.09 (s, 3H), 2.00-1.93 (m, 1H), 1.92 (s, 3H), 1.72-1.51 (m, 7H), 1.35 (s, 3H), 1.33-1.08 (m, 6H), 0.93-0.84 (m, 2H)。
マススペクトル（FAB⁺），m/z：402((M+H)⁺)。
【０４９２】
（１９ｂ） （２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−［５−（５−シクロヘキシルペント−１−イニル）フラン−２−イル］ブタン−１−オール 塩酸塩
実施例（１９ａ）で得られた（２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−［５−（５−シクロヘキシルペント−１−イニル）フラン−２−イル］ブタン１．２９９６ｇ（３．２４ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（６．４ｍｌ）−メタノール（６．４ｍｌ）の混合液に溶解し、水（６．４ｍｌ）および水酸化リチウム１水和物１．３５９０ｇ（３２．３９ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で４時間攪拌した。冷却後、反応液に水を加え、塩化メチレンで抽出し、塩化メチレン層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、減圧下溶媒を留去し、残渣を塩基性シリカゲル（ＮＨタイプ）クロマトグラフィー(溶出溶媒：塩化メチレン／メタノール＝１００／１)により精製して、粗製の（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−［５−（５−シクロヘキシルペント−１−イニル）フラン−２−イル］ブタン−１−オール１．００４８ｇを得た。得られた粗生成物をメタノール（１６ｍｌ）に溶解し、４規定塩酸−ジオキサン溶液０．７９ｍｌ（３．１６ｍｍｏｌ）を加えて、室温で１０分間撹拌した。減圧下濃縮し、エーテルを加えて析出した結晶をろ取し、エーテルで洗浄し、減圧下乾燥して、標記化合物１．０３９２ｇ(収率９１％)を得た。
融点 : 117-118℃。
旋光度，[α]_D = +2.43 (c = 1.00, MeOH)。
¹H NMRスペクトル（CD₃OD，400MHz），δ : 6.36 (d, 1H, J = 3.3 Hz), 6.08 (d, 1H, J = 3.3 Hz), 3.59 (d, 1H, J = 11.6 Hz), 3.49 (d, 1H, J = 11.6 Hz), 2.77-2.64 (m, 2H), 2.39 (t, 2H, J = 7.1 Hz), 2.07-1.89 (m, 2H), 1.76-1.54 (m, 7H), 1.35-1.12 (m, 9H), 0.96-0.86 (m, 2H)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (KBr) : 3138, 2921, 2850, 2693, 2571, 1615, 1595, 1534, 1448, 1402, 1369, 1298, 1197, 1058, 788。
マススペクトル（FAB⁺），m/z：318((M+H)⁺; free体)。
【０４９３】
（実施例２０）
（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−［５−（４−シクロヘキシルオキシブト−１−イニル）フラン−２−イル］ブタン−１−オール 塩酸塩(例示化合物番号：式Ia-1における1-842)
参考例７で得られた（２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−（５−ヨードフラン−２−イル）ブタンおよび４−シクロヘキシルオキシブト−１−インを出発原料として、実施例（１９ａ）および（１９ｂ）に記載の方法に準じて、標記化合物を得た（収率５７％）。
融点 : 115-118℃。
旋光度，[α]_D = +2.63 (c = 1.00, MeOH)。
¹H NMRスペクトル（CD₃OD，400MHz），δ : 6.40 (d, 1H, J = 3.4 Hz), 6.09 (d, 1H, J = 3.4 Hz), 3.63 (t, 2H, J = 6.6 Hz), 3.58 (d, 1H, J = 11.6 Hz), 3.50 (d, 1H, J = 11.6 Hz), 3.39-3.32 (m, 1H), 2.76-2.62 (m, 4H), 2.07-1.87 (m, 4H), 1.78-1.73 (m, 2H), 1.56-1.53 (m, 1H), 1.35-1.19 (m, 8H)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (KBr) : 3204, 2931, 2858, 2667, 2570, 1611,1597, 1537, 1450, 1390, 1364, 1199, 1107, 1067, 1032, 1002, 967, 952, 786。
マススペクトル（FAB⁺），m/z：320((M+H)⁺; free体)。
【０４９４】
（実施例２１）
（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−［５−（４−フェニルオキシブタノイル）フラン−２−イル］ブタン−１−オール フマル酸塩(例示化合物番号：式Ia-1における1-1199)
（２１ａ） （２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−［５−（４−フェニルオキシブタノイル）フラン−２−イル］ブタン
参考例（５ｂ）で得られた（２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−（フラン−２−イル）ブタン０．２５８９ｇ（１．０２ｍｍｏｌ）、４−フェニルオキシブタン酸クロリド０．２４４６ｇ（１．２３ｍｍｏｌ）を塩化メチレン（９．０ｍｌ）に溶解し、窒素雰囲気下、−７８℃にて塩化スズ（ＩＶ）のｎ−ヘプタン（１．０ｍｍｏｌ／ｌ）溶液２．０５ｍｌ（２．０５ｍｍｏｌ）を５分間要して加え、同温度で２時間撹拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて反応を止め、液温を室温に戻したのち酢酸エチルを加えて希釈し、不溶物をろ別した。ろ液を酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝２／１〜１／０)により精製して、標記化合物 ０．１４８３ｇ(収率３５％)を得た。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃，400MHz），δ : 7.29-7.25 (m, 2H), 7.13 (d, 1H, J = 3.3 Hz), 7.00-6.87 (m, 3H), 6.18 (d, 1H, J = 3.3 Hz), 5.42 (br s, 1H), 4.30 (d, J = 11.2 Hz), 4.15 (d, 1H, J = 11.2 Hz), 4.04 (t, 2H, J = 6.0 Hz), 3.00 (t, 2H, J = 7.2 Hz), 2.75-2.68 (m, 2H), 2.38-2.30 (m, 1H), 2.26-2.17 (m, 2H), 2.10 (s, 3H), 2.07-2.1.99 (m, 1H), 1.94 (s, 3H), 1.34 (s, 3H)。
マススペクトル（FAB⁺），m/z：416((M+H)⁺)。
【０４９５】
（２１ｂ） （２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−［５−（４−フェニルオキシブタノイル）フラン−２−イル］ブタン−１−オール フマル酸塩
実施例（２１ａ）で得られた（２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−［５−（４−フェニルオキシブタノイル）フラン−２−イル］ブタン０．２０３１ｇ（０．４９ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１．０ｍｌ）−メタノール（１．０ｍｌ）の混合液に溶解し、水（１．０ｍｌ）および水酸化リチウム１水和物０．２０６５ｇ（４．９２ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で４時間攪拌した。冷却後、反応液に水を加え、塩化メチレンで抽出し、塩化メチレン層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、減圧下溶媒を留去し、残渣を塩基性シリカゲル（ＮＨタイプ）クロマトグラフィー(溶出溶媒：塩化メチレン／メタノール＝１００／１)により精製して、粗製の（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−［５−（４−フェニルオキシブタノイル）フラン−２−イル］ブタン−１−オール５８．４ｍｇを得た。得られた粗生成物をメタノール（１．７ｍｌ）に溶解し、フマル酸２０．１ｍｇ（０．１７ｍｍｏｌ）を加えて、室温で３０分間撹拌した。減圧下濃縮し、酢酸エチルを加えて析出した結晶をろ取し、酢酸エチルで洗浄し、減圧下乾燥して、標記化合物６１．５ｍｇ(収率２９％)を得た。
¹H NMRスペクトル（CD₃OD，400MHz），δ : 7.33 (d, 1H, J = 3.4 Hz), 7.26-7.21 (m, 2H), 6.91-6.84 (m, 3H), 6.35 (d, 1H, J = 3.4 Hz), 6.25 (s, 2H), 4.03 (t, 2H, J = 6.0 Hz), 3.60 (d, J = 11.7 Hz), 3.51 (d, 1H, J = 11.7 Hz), 3.01 (t, 2H, J = 7.2 Hz), 2.88-2.75 (m, 2H), 2.18-1.95 (m, 4H), 1.30 (s, 3H)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (KBr) :3112, 3038, 2961, 1671, 1583, 1517, 1498, 1386, 1357, 1245, 1081, 1039, 869, 757, 719, 693。
マススペクトル（FAB⁺），m/z：332((M+H)⁺; free体)。
元素分析値（C₁₉H₂₅NO₄・C₄H₄O₄として％），
計算値：C ： 61.73，H ： 6.53 ， N ： 3.13。
実測値：C ： 61.57，H ： 6.40 ， N ： 2.93。
【０４９６】
（実施例２２）
（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−｛５−［３−（４−クロロフェニルオキシ）プロプ−１−イニル］フラン−２−イル｝ブタン−１−オール シュウ酸塩(例示化合物番号：式Ia-1における1-1831)
（２２ａ） （２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−［５−（３−ヒドロキシプロプ−１−イニル）フラン−２−イル］ブタン
参考例７で得られた（２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−（５−ヨードフラン−２−イル）ブタン１．５９００ｇ（４．１９ｍｍｏｌ）、３−プロピン−１−オール０．７３ｍｌ（１２．５４ｍｍｏｌ）、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）０．２９４０ｇ（０．４２ｍｍｏｌ）およびヨウ化銅（Ｉ）０．１６１ｇ（０．８５ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（４２ｍｌ）に懸濁し、トリエチルアミン５．８５ｍｌ（４２．９ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下、６０℃で２時間撹拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて反応を止め、水および酢酸エチルを加え、室温で３０分間撹拌し、酢酸エチルで抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝２／１〜１／０)により精製して、標記化合物
１．０７４８ｇ(収率８３％)を得た。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃，400MHz），δ : 6.50 (d, 1H, J = 3.2 Hz), 6.01 (d, 1H, J = 3.2 Hz), 5.39 (br s, 1H), 4.50 (s, 2H), 4.29 (d, 1H, J = 11.3 Hz), 4.16 (d, 1H, J = 11.3 Hz), 2.70-2.60 (m, 2H), 2.32-2.24 (m, 1H), 2.10 (s, 3H), 2.03-1.95 (m, 1H), 1.94 (s, 3H), 1.77 (br s, 1H), 1.34 (s, 3H)。
マススペクトル（FAB⁺），m/z：308((M+H)⁺)。
【０４９７】
（２２ｂ） （２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−［５−（３−ブロモプロプ−１−イニル）フラン−２−イル］ブタン
実施例（２２ａ）で得られた（２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−［５−（３−ヒドロキシプロプ−１−ニイル）フラン−２−イル］ブタン０．９５１５ｇ（３．１０ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン１．２３７５ｇ（３．７３ｍｍｏｌ）を塩化メチレン（１５ｍｌ）に溶解し、氷冷下、四臭化炭素１．０５４５ｇ（４．０２ｍｍｏｌ）を加え、同温度で３０分間撹拌した。反応液にメタノール０．２ｍｌを加えて反応を止め、液温を室温に戻したのち減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒：塩化メチレン／アセトン＝９／１)により精製して、標記化合物 ０．９２７８ｇ(収率８２％)を得た。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃，400MHz），δ : 6.54 (d, 1H, J = 3.0 Hz), 6.02 (d, 1H, J = 3.0 Hz), 5.37 (br s, 1H), 4.29 (d, 1H, J = 11.0 Hz), 4.18 (s, 2H), 4.16 (d, 1H, J = 11.0 Hz), 2.69-2.60 (m, 2H), 2.32-2.24 (m, 1H), 2.10 (s, 3H), 2.02-1.95 (m, 1H), 1.94 (s, 3H), 1.34 (s, 3H)。
【０４９８】
（２２ｃ） （２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−[５−［３−（４−クロロフェニルオキシ）プロプ−１−イニル］フラン−２−イル]ブタン
水素化ナトリウム（６０％含量）４０．０ｍｇ（１．００ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（４ｍｌ）に懸濁し、氷冷下、４−クロルフェノール０．１３０２ｇ（１．０１ｍｍｏｌ）を加え、その後室温で３０分間撹拌した。この反応液に、氷冷下、実施例（２２ｂ）で得られた（２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−［５−（３−ブロモプロプ−１−イニル）フラン−２−イル］ブタン０．３０５０ｇ（０．８２ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（４ｍｌ）に溶解した溶液を加え、その後室温で３０分間撹拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて反応を止め、水および酢酸エチルを加えて希釈し、酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒：塩化メチレン／アセトン＝１０／１)により精製して、標記化合物 ０．３１８８ｇ(収率９３％)を得た。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃，400MHz），δ : 7.28-7.25 (m, 2H), 6.96-6.92 (m, 2H), 6.52 (d, 1H, J = 3.4 Hz), 6.01 (d, 1H, J = 3.4 Hz), 5.36 (br s, 1H), 4.90 (s, 2H), 4.29 (d, 1H, J = 11.3 Hz), 4.15 (d, 1H, J = 11.3 Hz), 2.67-2.59 (m, 2H), 2.31-2.24 (m, 1H), 2.09 (s, 3H), 2.02-1.94 (m, 1H), 1.93 (s, 3H), 1.34 (s, 3H)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (CHCl₃) : 3444, 2225, 1738, 1681, 1511, 1491, 1450, 1373, 1286, 1249, 1173, 1093, 1039, 1014, 824。
マススペクトル（FAB⁺），m/z：418((M+H)⁺)。
【０４９９】
（２２ｄ） （２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−｛５−［３−（４−クロロフェニルオキシ）プロプ−１−イニル］フラン−２−イル｝ブタン−１−オール シュウ酸塩
実施例（２２ｃ）で得られた（２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−[５−［３−（４−クロロフェニルオキシ）プロプ−１−イニル］フラン−２−イル]ブタン０．３０８３ｇ（０．７４ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１．５ｍｌ）−メタノール（１．５ｍｌ）の混合液に溶解し、水（１．５ｍｌ）および水酸化リチウム１水和物０．３０９６ｇ（７．３８ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で４時間攪拌した。冷却後、反応液に水を加え、塩化メチレンで抽出し、塩化メチレン層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、減圧下溶媒を留去し、残渣を塩基性シリカゲル（ＮＨタイプ）クロマトグラフィー(溶出溶媒：塩化メチレン／メタノール＝５０／１)により精製して、粗製の（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−｛５−［３−（４−クロロフェニルオキシ）プロプ−１−イニル］フラン−２−イル｝ブタン−１−オール０．２１５６ｇを得た。得られた粗生成物をメタノール（６．４ｍｌ）に溶解し、９８％無水シュウ酸５９．１ｍｇ（０．６４ｍｍｏｌ）を加えて、室温で３０分間撹拌した。減圧下濃縮し、アセトンを加えて析出した結晶をろ取し、アセトンで洗浄後、減圧下乾燥して、標記化合物０．２３０７ｇ(収率７５％)を得た。
¹H NMRスペクトル（CD₃OD，400MHz），δ : 7.30-7.26 (m, 2H), 7.01-6.97 (m, 2H), 6.57 (d, 1H, J = 3.2 Hz), 6.14 (d, 1H, J = 3.2 Hz), 4.96 (s, 2H), 3.58 (d, 1H, J = 11.7 Hz), 3.50 (d, 1H, J = 11.7 Hz), 2.79-2.66 (m, 2H), 2.07-1.89 (m, 2H), 1.28 (s, 3H)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (KBr) : 3401, 3120, 2979, 2925, 2228, 1725, 1615, 1547, 1492, 1373, 1234, 1217, 1200, 1086, 1044, 1016, 830, 795, 698, 506。
マススペクトル（FAB⁺），m/z：334((M+H)⁺; free体)。
【０５００】
（実施例２３）
（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−｛５−［３−（３−トリフルオロメチルフェニルオキシ）プロプ−１−イニル］フラン−２−イル｝ブタン−１−オール シュウ酸塩(例示化合物番号：式Ia-1における1-1838)
実施例（２２ｂ）で得られた（２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−［５−（３−ブロモプロプ−１−イニル）フラン−２−イル］ブタンおよび（３−トリフルオロメチル）フェノールを出発原料として、実施例（２２ｃ）および（２２ｄ）に記載の方法に準じて、標記化合物を得た（収率７６％）。
¹H NMRスペクトル(DMSO-d₆，400MHz), δ : 7.60-7.55 (m, 1H), 7.36-7.53 (m, 3H)，6.77 (d, 1H, J = 3.3 Hz), 6.21 (d, 1H, J = 3.3 Hz), 5.21 (s, 2H), 3.43 (d, 1H, J = 11.3 Hz), 3.37 (d, 1H, J = 11.3 Hz), 2.67 (t, 2H, J = 8.6 Hz), 1.91-1.76 (m, 2H), 1.15 (s, 3H)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (KBr) : 3126, 2980, 2220, 1719, 1614, 1593, 1546, 1455, 1328, 1207, 1167, 1130。
マススペクトル(FAB⁺), ｍ/z : 368((M+H)⁺; free体)，336。
【０５０１】
（実施例２４）
（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−｛５−［３−（３，４−ジメトキシフェニルオキシ）プロプ−１−イニル］フラン−２−イル｝ブタン−１−オール シュウ酸塩(例示化合物番号：式Ia-1における1-1842)
実施例（２２ｂ）で得られた（２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−［５−（３−ブロモプロプ−１−イニル）フラン−２−イル］ブタンおよび３，４−ジメトキシフェノールを出発原料として、実施例（２２ｃ）および（２２ｄ）に記載の方法に準じて、標記化合物を得た（収率６８％）。
¹H NMRスペクトル（CD₃OD，400MHz），δ : 6.87 (d, 1H, J = 8.8 Hz), 6.66 (d, 1H, J = 2.9 Hz), 6.57-6.52 (m, 2H), 6.14 (d. 1H, J = 3.6 Hz), 4.90 (s, 2H), 3.81 (s, 3H), 3.78 (s, 3H), 3.59 (d, 1H, J = 11.5 Hz), 3.50 (d, 1H, J = 11.5 Hz), 2.79-2.66 (m, 2H), 2.08-1.88 (m, 2H), 1.29 (s, 3H)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (KBr) : 3393, 3093, 2969, 2224, 1722, 1598, 1537, 1513, 1467, 1452, 1278, 1260, 1228, 1194, 1157, 1135, 1021, 796, 721, 698。
マススペクトル（FAB⁺），m/z：360((M+H)⁺; free体)。
【０５０２】
（実施例２５）
（２Ｒ）−２−アミノ−２−エチル−４−［５−（４−シクロヘキシルオキシブト−１−イニル）フラン−２−イル］ブタン−１−オール シュウ酸塩(例示化合物番号：式Ia-1における1-1660)
（２５ａ） （２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−エチル−４−［５−（４−シクロヘキシルオキシブト−１−イニル）フラン−２−イル］ブタン
参考例１８で得られた（２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−エチル−４−（５−ヨードフラン−２−イル）ブタン７９．１ｍｇ（０．３５７ｍｍｏｌ）、４−シクロヘキシルオキシブト−１−イン１６８．２ｍｇ（１．１０ｍｍｏｌ）、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）２５．１ｍｇ（０．０３６ｍｍｏｌ）およびヨウ化銅（Ｉ）１３．８ｍｇ（０．０７２ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（３．６ｍｌ）に懸濁し、トリエチルアミン０．５ｍｌ（０．３６ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下８０℃で４時間撹拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて反応を止め、水および酢酸エチルを加え室温で３０分間撹拌し、酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝１／１〜１／２)により精製して、粗生成物６８．４ｍｇを得、分取用逆層ＨＰＬＣカラム[ＴＳＫ−ＧＥＬ ＯＤＳ−８０Ｔｓ（２．０ｃｍ×２５ｃｍ）、東ソー社製、溶出溶媒：アセトニトリル／水＝７０／３０]で精製して、標記化合物４６．５ｍｇ(収率３１％)を得た。
¹H NMRスペクトル(CDCl₃, 400MHz), δ : 6.38 (d, 1H, J = 3.3 Hz), 5.96 (d, 1H, J = 3.3 Hz), 5.27 (br s, 1H), 4.28 (s, 2H), 3.65 (t, 2H, J = 7.3 Hz), 3.33-3.26 (m, 1H), 2.68 (t, 2H, J = 7.3 Hz), 2.59 (t, 2H, J = 8.4 Hz), 2.20-2.13 (m, 1H), 2.08 (s, 3H), 2.05-1.98 (m, 1H), 1.94 (s, 3H), 1.90 (m, 1H), 1.84-1.70 (m, 5H), 1.64 (m, 1H), 1.34-1.18 (m, 5H), 0.87 (t, 3H, J = 7.3 Hz)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (CDCl₃) : 3307, 3078, 2934, 2858, 2220, 1744, 1658, 1540, 1452, 1369, 1237, 1103, 1042, 788, 756。
マススペクトル(FAB⁺), m/z : 418 ((M+H)⁺)。
【０５０３】
（２５ｂ） （２Ｒ）−２−アミノ―２−エチル−４−［５−（４−シクロヘキシルオキシブト−１−イニル）フラン−２−イル］ブタン−１−オール シュウ酸塩
実施例（２５ａ）で得られた（２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−エチル−４−［５−（４−シクロヘキシルオキシブト−１−イニル）フラン−２−イル］ブタンをテトラヒドロフラン（０．５ｍｌ）とメタノール（０．５ｍｌ）と水（０．５ｍｌ）の混合液に溶解し、水酸化リチウム１水和物４４．７ｍ（１．０７ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で４時間攪拌した。冷却後、反応液に水を加え塩化メチレンで抽出し、塩化メチレン層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、減圧下溶媒を留去し、残渣を塩基性シリカゲル（ＮＨタイプ）クロマトグラフィー(溶出溶媒：塩化メチレン／メタノール＝１／０−５０／１)により精製して、粗製の（２Ｒ）−２−アミノ―２−エチル−４−［５−（４−シクロヘキシルオキシブト−１−イニル）フラン−２−イル］ブタン−１−オール３５．３ｍｇ（収率９９％）を得た。得られた粗生成物をメタノールに溶解し、９８％無水シュウ酸９．５ｍｇ（０．１０６ｍｍｏｌ）を加えて、室温で３０分間撹拌した。減圧下濃縮し、イソプロピルエーテルを加えて析出した結晶をろ取し、イソプロピルエーテルで洗浄し、減圧下乾燥して、標記化合物３９．９ｍｇ(収率８９％)を得た。
¹H NMRスペクトル(DMSO-d₆, 400MHz), δ : 6.56 (d, 1H, J = 3.3 Hz), 6.16 (d, 1H, J = 3.3 Hz), 4.19 (br s, 3H), 3.55 (t, 2H, J = 6.7 Hz), 3.44 (s, 2H),3.33-3.28 (m, 1H), 2.67-2.60 (m, 4H), 1.83-1.79 (m, 4H), 1.66-1.55 (m, 4H), 1.53-1.46 (m, 1H), 1.25-1.20 (m, 5H), 0.86 (t, 3H, J = 7.5 Hz)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (KBr) : 3402, 2931, 1918, 1611, 1542, 1198, 1106, 1089, 721, 700。
マススペクトル(FAB⁺), m/z : 356 ((M+Na)⁺), 334 ((M+H)⁺; free体)。
【０５０４】
（実施例２６）
リン酸 モノ （２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−［５−（４−シクロヘキシルオキシブト−１−イニル）フラン−２−イル］−１−ブチル エステル(例示化合物番号：式IIa-1における5-1072)
（２６ａ） （２Ｒ）−２−アリルオキシカルボニルアミノ−４−［５−（４−シクロヘキシルオキシブト−１−イニル）フラン−２−イル］ブタン−１−オール
実施例２０で得られた（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−［５−（４−シクロヘキシルオキシブチト−１−イニル）フラン−２−イル］ブタン−１−オール ０．５３０５ｇ（１．６６ｍｍｏｌ）を酢酸エチル（１６ｍｌ）と水（１６ｍｌ）に懸濁し、炭酸水素カリウム０．１９９５ｇ（１．９９ｍｍｏｌ）を加え、ついでクロロギ酸アリル０．２１ｍｌ（１．９８ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０分間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加えて希釈し、酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、減圧下溶媒を留去して、標記化合物０．６２０２ｇ(収率９３％)を得た。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃，400MHz），δ : 6.38 (d, 1H, J = 3.0 Hz), 5.97 (d, 1H, J = 3.0 Hz), 5.96-5.86 (m, 1H), 5.30 (ddd, 1H, J = 17.6 Hz, 2.9 Hz, 1.5 Hz), 5.22 (dt, 1H, J = 9.5 Hz, 1.5 Hz), 4.82 (br s, 1H), 4.52 (br d, J = 5.1 Hz), 3.73-3.62 (m, 4H), 3.51 (br s, 1H), 3.33-3.26 (m, 1H), 2.74-2.58 (m, 4H), 2.13 (ddd, 1H, J = 13.9 Hz, 11.0 Hz, 5.1 Hz), 1.97-1.89 (m, 3H), 1.75-1.72 (m, 2H), 1.56-1.51 (m, 1H), 1.34-1.18 (m, 8H)。
【０５０５】
（２６ｂ） リン酸 （２Ｒ）−２−アリルオキシカルボニルアミノ−２−メチル−４−［５−（４−シクロヘキシルオキシブト−１−イニル）フラン−２−イル］−１−ブチル ジアリル エステル
実施例（２６ａ）で得られた（２Ｒ）−２−アリルオキシカルボニルアミノ−２−メチル−４−［５−（４−シクロヘキシルオキシブト−１−イニル）フラン−２−イル］ブタン−１−オール０．６２０２ｇ（１．５４ｍｍｏｌ）を塩化メチレン（１５ｍｌ）に溶解し、氷冷下、１Ｈ−テトラゾール０．７２２０ｇ（１０．３１ｍｍｏｌ）およびジアリル ジイソプロピルホスホロアミダイト０．８１ｍｌ（３．０６ｍｍｏｌ）を加え、その後室温で２時間攪拌した。反応液に、氷冷下、ｍ−クロロ過安息香酸（７０％含量）０．７５５６ｇ（３．０７ｍｍｏｌ）を加え、同温度で１０分間攪拌した。反応液に１０％チオ硫酸ナトリウム水溶液を加えて反応を止め、塩化メチレンで抽出し、塩化メチレン層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝３／２)により精製して、標記化合物０．７０４９ｇ(収率８１％)を得た。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃，400MHz），δ : 6.37 (d, 1H, J = 3.0 Hz), 5.99-5.85 (m, 3H), 5.40-5.19 (m, 6H), 4.87 (br s, 1H), 4.16 (dd, 1H, J = 10.3 Hz, 5.9 Hz), 4.03 (dd, 1H, J = 10.3 Hz, 5.9 Hz), 3.65 (d, 2H, J = 7.3 Hz), 3.33-3.26 (m, 1H), 2.70-2.59 (m, 4H), 2.22-2.14 (m, 1H), 1.96-1.88 (m, 3H), 1.75-1.72 (m, 2H), 1.56-1.53 (m, 1H), 1.34-1.22 (m, 8H)。
マススペクトル（FAB⁺），m/z：563(M+・)。
【０５０６】
（２６ｃ） リン酸 モノ （２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−［５−（４−シクロヘキシルオキシブト−１−イニル）フラン−２−イル］−１−ブチル エステル
実施例（２６ｂ）で得られたリン酸 （２Ｒ）−２−アリルオキシカルボニルアミノ−２−メチル−４−［５−（４−シクロヘキシルオキシブト−１−イニル）フラン−２−イル］−１−ブチル ジアリル エステル０．７０３７ｇ（１．２５ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン６９．０ｍｇ（０．２６ｍｍｏｌ）およびテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）７５．８ｍｇ（０．０６６ｍｍｏｌ）をアセトニトリル（１３ｍｌ）に懸濁し、窒素雰囲気下、ピロリジン０．６６ｍｌ（７．９１ｍｍｏｌ）を加え、室温で１５時間攪拌した。反応液を減圧下濃縮し、残渣に５０％含水エタノール（４０ｍｌ）を加えて希釈したのち、酢酸を加えてｐＨ４として結晶を析出させた。析出結晶をろ取し、水およびエタノールで洗浄して粗結晶を得た。粗結晶をメタノール（３００ｍｌ）と水（６０ｍｌ）の混合液に加熱溶解し、活性炭を加えてろ過し、減圧下濃縮したのちエタノールを加えて析出結晶をろ取し、エタノールで洗浄後乾燥して、標記化合物０．２６７２ｇ(収率５４％)を得た。
¹H NMRスペクトル（CD₃CO₂D,400MHz），δ : 6.42 (d, 1H, J = 3.7 Hz), 6.09 (d, 1H, J = 3.7 Hz), 4.10 (d, 2H, J = 10.3 Hz), 3.70 (t, 2H, J = 7.3 Hz), 3.43-3.37 (m, 1H), 2.83-2.72 (m, 2H), 2.69 (t, 2H, J = 7.3 Hz), 2.18-2.06 (m, 2H), 1.94 (br d, 2H, J = 10.3 Hz), 1.76-1.73 (m, 2H), 1.56-1.52 (m, 1H), 1.40 (s, 3H), 1.38-1.18 (m, 5H)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (KBr) : 3413, 2931, 2857, 1645, 1566, 1540, 1469, 1449, 1212, 1184, 1102, 1067, 1043, 949, 796, 511。
マススペクトル（ESI^-），m/z：398((M-H)^-)。
【０５０７】
（実施例２７）
リン酸 モノ （２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−［５−（５−シクロヘキシルペント−１−イニル）フラン−２−イル］−１−ブチル エステル(例示化合物番号：式IIa-1における5-824)
実施例２で得られた（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−［５−（５−シクロヘキシルペント−１−イニル）フラン−２−イル］ブタン−１−オール シュウ酸塩を出発原料とし、実施例（２６ａ）、（２６ｂ）および（２６ｃ）に記載の方法に準じて、標記化合物を得た（収率２４％）。
¹H NMRスペクトル（CD₃CO₂D,400MHz），δ : 6.39 (d, 1H, J = 3.7 Hz), 6.07 (d, 1H, J = 3.7 Hz), 4.10 (d, 2H, J = 10.3 Hz), 2.79-2.75 (m, 2H), 2.40 (t, 2H, J = 7.3 Hz), 2.17-2.05 (m, 2H), 1.75-1.44 (m, 7H), 1.41 (s, 3H), 1.35-1.12 (m, 6H), 0.95-0.90 (m, 2H)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (KBr) : 3233, 2922, 2850, 2559, 1642, 1594, 1537, 1448, 1256, 1184, 1078, 1029, 942, 825, 794, 572, 514。
マススペクトル（FAB^-），m/z：396((M-H)^-)。
【０５０８】
（実施例２８）
リン酸 モノ （２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−｛５−［３−（３，４−ジメチルフェニルオキシ）プロプ−１−イニル］フラン−２−イル｝−１−ブチル エステル(例示化合物番号：式IIa-1における5-2278)
実施例４で得られた（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−｛５−［３−（３，４−ジメチルフェニルオキシ）プロプ−１−イニル］フラン−２−イル｝ブタン−１−オール シュウ酸塩を出発原料とし、実施例（２６ａ）、（２６ｂ）および（２６ｃ）に記載の方法に準じて、標記化合物を得た（収率２１％）。
¹H NMRスペクトル（CD₃CO₂D,400MHz），δ : 7.02 (d, 1H, J = 8.1 Hz), 6.78 (d, 1H, J = 2.9 Hz), 6.73 (dd, 1H, J = 8.1 Hz, 3.0 Hz), 6.56 (d, 1H, J = 3.7 Hz), 6.13 (d, 1H, J = 3.7 Hz), 4.90 (s, 2H), 4.10 (d, 2H, J = 10.3 Hz), 2.84-2.72 (m, 2H), 2.22 (s, 3H), 2.17 (s, 3H), 2.15-2.05 (m, 2H), 1.40 (s, 3H)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (KBr) : 3411, 2922, 2227, 1616, 1536, 1501, 1451, 1371, 1286, 1250, 1202, 1185, 1166, 1045, 1028, 931, 799, 573, 514。
マススペクトル（FAB^-），m/z：406((M-H)^-)。
【０５０９】
（実施例２９）
（３Ｒ）−３−アミノ−３−メチル−５−［５−（５−フェニルペンタノイル）フラン−２−イル］ペンチルホスホン酸(例示化合物番号：式IIIa-1における5-1344)
（２９ａ） （２Ｒ）−２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２−メチル−４−［５−（５−フェニルペンタノイル）フラン−２−イル］ブタン−１−オール実施例５で得られた（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−［５−（５−フェニルペンタノイル）フラン−２−イル］ブタン−１−オール９７．８ｍｇ（０．３０ｍｍｏｌ）を塩化メチレン（３ｍｌ）に溶解し、ジ−ｔ−ブチルジカルボナート７７．３ｍｇ（０．３５ｍｍｏｌ）およびトリエチルアミン８５μｌ（０．６１ｍｍｏｌ）を加え、室温で１９時間攪拌した。減圧下濃縮し、反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。ろ過後、減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝１／１)により精製して、標記化合物１１２．２ｍｇ(収率８８％)を得た。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃，400MHz），δ : 7.29-7.23 (m, 2H), 7.19-7.15 (m, 3H), 7.08 (d, 1H, J = 3.7 Hz), 6.18 (d, 1H, J = 3.7 Hz), 4.63 (br s, 1H), 4.03 (br s, 1H), 3.66 (d, 2H, J = 5.9 Hz), 2.84-2.68 (m, 4H), 2.65 (t, 2H, J = 8.1 Hz), 2.18 (ddd, 1H, J = 16.6 Hz, 11.0 Hz, 5.1 Hz), 1.98 (ddd, 1H, J = 16.6 Hz, 11.7 Hz, 5.1 Hz), 1.81-1.65 (m, 4H), 1.43 (s, 9H), 1.19 (s, 3H)。
マススペクトル（FAB⁺），m/z：430((M+H)⁺)。
【０５１０】
（２９ｂ） （２Ｒ）−２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２−メチル−４−［５−（５−フェニルペンタノイル）フラン−２−イル］−１−ブタナール
実施例（２９ａ）で得られた（２Ｒ）−２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２−メチル−４−［５−（５−フェニルペンタノイル）フラン−２−イル］ブタン−１−オール１１０．２ｍｇ（０．２６ｍｍｏｌ）を塩化メチレン（２．６ｍｌ）に溶解し、Dess-Martin試薬１６５．０ｍｇ（２．２８ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下、室温で１時間攪拌した。減圧下濃縮し、反応液に１０％チオ硫酸ナトリウム水溶液を加えて過剰の試薬を分解したのち、塩化メチレンで抽出し、塩化メチレン層を飽和重曹水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。ろ過後、減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝３／１)により精製して、標記化合物１０５．９ｍｇ(収率９７％)を得た。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃，400MHz），δ : 9.34 (s, 1H), 7.29-7.25 (m, 2H), 7.19-7.15 (m, 3H), 7.06 (d, 1H, J = 3.6 Hz), 6.16 (d, 1H, J = 3.6 Hz), 5.16 (br s, 1H), 2.77 (t, 2H, J = 7.3 Hz), 2.74-2.56 (m, 4H), 2.40-2.36 (m, 1H), 2.22-2.14 (m, 1H), 1.80-1.65 (m, 4H), 1.44 (s, 9H), 1.37 (s, 3H)。
マススペクトル（FAB⁺），m/z：428((M+H)⁺)。
【０５１１】
（２９ｃ） ジエチル （３Ｒ）−３−t−ブトキシカルボニルアミノ−３−メチル−５−［５−（５−フェニルペンタノイル）フラン−２−イル］ペント−１−エニルホスホン酸 エステル
水素化ナトリウム（６０％含量）１６．０ｍｇ（０．４０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１ｍｌ）に懸濁し、氷冷下、テトラエチル メチレンジホスホナート０．１００ｍｌ（０．４０ｍｍｏｌ）を５分間要して加え、その後室温にて１時間攪拌した。反応液に実施例（２９ｂ）で得られたジエチル （２Ｒ）−２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２−メチル−４−［５−（５−フェニルペンタノイル）フラン−２−イル］−１−ブタナール１０４．５ｍｇ（０．２４ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（４ｍｌ）に溶解した溶液を氷冷下、５分間要して加え、同温度にて１５分間攪拌した。反応液に酢酸２２μｌ（０．３８ｍｍｏｌ）を加えて中和したのち減圧下濃縮し、反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。ろ過後、減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒：酢酸エチル)により精製して、標記化合物１２９．０ｍｇ(収率９４％)を得た。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃ , 400MHz）, δ : 7.29-7.24 (m, 2H), 7.19-7.15 (m, 3H), 7.07 (d, 1H, J = 3.7 Hz), 6.75 (dd, 1H, J = 22.7 Hz, 17.6 Hz), 6.16 (d, 1H, J = 3.7 Hz), 5.71 (t, 1H, J = 17.6 Hz), 4.60 (br s, 1H), 4.15-4.04 (m, 4H), 2.77 (t, 2H, J = 8.1 Hz), 2.74-2.63 (m, 4H), 2.30-2.22 (m, 1H), 2.09-2.01 (m, 1H), 1.81-1.65 (m, 4H), 1.42 (s, 9H), 1.40 (s, 3H), 1.33 (t, 6H, J = 7.3 Hz)。
マススペクトル（FAB⁺），m/z：562((M+H)⁺)。
【０５１２】
（２９ｄ） ジエチル （３Ｒ）−３−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３−メチル−５−［５−（５−フェニルペンタノイル）フラン−２−イル］ペンチルホスホン酸 エステル
実施例（２９ｃ）で得られたジエチル （３Ｒ）−３−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３−メチル−５−［５−（５−フェニルペンタノイル）フラン−２−イル］ペント−１−エニルホスホン酸 エステル１２７．８ｍｇ（０．２３ｍｍｏｌ）をエタノール（２．３ｍｌ）に溶解し、塩化トリス（トリフェニルホスフィン）ロジウム（Ｉ）２２．０ｍｇ（０．０２４ｍｍｏｌ）を加え、水素雰囲気下、５０℃で８時間攪拌した。冷後、反応液に塩化トリス（トリフェニルホスフィン）ロジウム（Ｉ）２１．５ｍｇ（０．０２３ｍｍｏｌ）を追加し、水素雰囲気下、５０℃で８時間攪拌した。反応液を減圧下留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒：酢酸エチル)により精製して、粗生成物１４２．１ｍｇを得、分取用逆層ＨＰＬＣカラム[Ｉｎｅｒｔｓｉｌ ＯＤＳ−３（２．０ｃｍ×２５ｃｍ）、ＧＬサイエンス社製、溶出溶媒：アセトニトリル／水＝７５／２５、流速：１０ｍｌ／ｍｉｎ]で精製して、標記化合物１０９．５ｍｇ(収率８５％)を得た。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃,400MHz），δ : 7.29-7.25 (m, 2H), 7.19-7.15 (m, 3H), 7.07 (d, 1H, J = 3.7 Hz), 6.15 (d, 1H, J = 3.7 Hz), 4.36 (br s, 1H), 4.15-4.10 (m, 4H), 2.77 (t, 2H, J = 7.3 Hz), 2.72-2.63 (m, 4H), 2.22-2.17 (m, 2H), 1.92-1.85 (m, 1H), 1.80-1.63 (m, 7H), 1.42 (s, 9H), 1.33 (t, 6H, J = 7.3 Hz), 1.19 (s, 3H)。
マススペクトル（FAB⁺），m/z：564((M+H)⁺)。
【０５１３】
（２９ｅ） （３Ｒ）−３−アミノ−３−メチル−５−［５−（５−フェニルペンタノイル）フラン−２−イル］ペンチルホスホン酸
実施例（２９ｄ）で得られたジエチル （３Ｒ）−３−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３−メチル−５−［５−（５−フェニルペンタノイル）フラン−２−イル］ペンチルホスホン酸 エステル１０８．２ｍｇ（０．１９ｍｍｏｌ）を塩化メチレン（１．９ｍｌ）に溶解し、臭化トリメチルシラン０．２５５ｍｌ（１．９３ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下、室温で４時間撹拌した。減圧下溶媒を留去したのち、残渣に含水エタノールを加えて希釈し、これにアンモニア水溶液および酢酸を加えてpH４として結晶を析出させた。析出結晶をろ取し、水およびエタノールで洗浄後乾燥して、標記化合物５１．４ｍｇ(収率６６％)を得た。
¹H NMRスペクトル（CD₃CO₂D,400MHz），δ : 7.29 (d, 1H, J = 3.7 Hz), 7.26-7.23 (m, 2H), 7.18-7.12 (m, 3H), 6.35 (d, 1H, J = 3.7 Hz), 2.85 (t, 4H, J = 7.3 Hz), 2.64 (t, 2H, J = 7.3 Hz), 2.23-1.92 (m, 6H), 1.78-1.64 (m, 4H), 1.44 (s, 3H)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (KBr) : 3160, 2934, 2860, 2560, 2529, 1670, 1552, 1516, 1453, 1391, 1314, 1140, 1068, 1046, 913, 882, 804, 723, 700, 568, 525,490,468。
マススペクトル（FAB^-），m/z：406((M-H)^-)。
【０５１４】
（実施例３０）
（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−［１−メチル−５−（５−フェニルブト−１−イニル）ピロール−２−イル］ブタン−１−オール １／２シュウ酸塩(例示化合物番号：式Ia-2における1-559)
参考例１３で得られた（２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−（１−メチル−５−ヨードピロール−２−イル）ブタンおよび４−フェニルブト−１−インを出発原料として、実施例（１ａ）および（１ｂ）に記載の方法に準じて、標記化合物を得た（収率５８％）。
¹H NMRスペクトル(CD₃OD, 400MHz), δ : 7.30-7.26 (m, 4H), 7.21-7.16 (m, 1H), 6.09 (d, １H, J = 3.7 Hz), 5.76 (d, 1H, J = 3.7 Hz), 3.59 (d, 1H, J = 11.7 Hz), 3.52 (d, 1H, J = 11.7 Hz), 3.41 (s, 3H), 2.88 (t, 2H, J = 7.3 Hz), 2.73 (t, 2H, J = 7.3 Hz), 2.62-2.58 (m, 2H), 1.98-1.80 (m, 2H), 1.29 (s, 3H)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (KBr) : 3362, 3026, 2943, 2224, 2080, 1591, 1496, 1454, 1300, 1073。
マススペクトル(FAB⁺), m/z : 311((M+H)⁺; free体)。
【０５１５】
（実施例３１）
（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−［１−メチル−５−（５−フェニルペンチル）ピロール−２−イル］ブタン−１−オール １／２シュウ酸塩(例示化合物番号：式Ia-2における1-93)
（３１ａ） （２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−［１−メチル−５−（５−フェニルペント−１−イニル）ピロール−２−イル］ブタン
参考例１３で得られた（２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−（１−メチル−５−ヨードピロール−２−イル）ブタン０．２９１８ｇ（０．７４ｍｍｏｌ）、５−フェニルペント−１−イン０．３２２５ｇ（２．２４ｍｍｏｌ）、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）５２．３ｍｇ（０．０７５ｍｍｏｌ）およびヨウ化銅（Ｉ）２９．０ｍｇ（０．１５ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（７．４ｍｌ）に懸濁し、トリエチルアミン１．０４ｍｌ（７．５ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下、室温で１時間撹拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて反応を止め、水および酢酸エチルを加え、室温で３０分間撹拌し、酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝３／２)により精製して、標記化合物０．２２０５ｇ(収率７３％)を得た。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃，400MHz），δ : 7.31-7.27 (m, 2H), 7.22-7.18 (m, 3H), 6.26 (d, 1H, J = 3.7 Hz), 5.81 (d, 1H, J = 3.7 Hz), 5.35 (br s, 1H), 4.32 (d, 1H, J = 11.3 Hz), 4.18 (d, 1H, J = 11.3 Hz), 3.55 (s, 3H), 2.78 (t, 2H, J = 7.7 Hz), 2.55 (t, 2H, J = 8.2 Hz), 2.46 (t, 2H, J = 7.0 Hz), 2.27-2.19 (m, 1H), 2.09 (s, 3H), 1.97-1.84 (m, 6H), 1.37 (s, 3H)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (CHCl₃) : 3443, 2944, 2861, 1736, 1679, 1603, 1512, 1454, 1374, 1251, 1042。
マススペクトル（FAB⁺），m/z： 409((M+H)⁺), 408(M+)。
【０５１６】
（３１ｂ） （２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−［１−メチル−５−（５−フェニルペンチル）ピロール−２−イル］ブタン実施例（３１ａ）で得られた（２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−［１−メチル−５−（５−フェニルペント−１−イニル）ピロール−２−イル］ブタン７７ｍｇ（０．１９ｍｍｏｌ）をメタノール（２ｍｌ）に溶解し、１０％パラジウム−炭素（５０％含水）４．３ｍｇを加え、水素雰囲気下、室温で１時間撹拌した。窒素置換後、反応液中のパラジウム−炭素をセライトろ過し、セライトを酢酸エチルで洗浄した。ろ液、洗液を合わせて減圧下濃縮乾固して、標記化合物７５．５ｍｇ(収率９７％)を得た。
¹H NMRスペクトル(CDCl₃, 400MHz), δ : 7.28-7.25 (m, 2H), 7.18-7.15 (m, 3H), 5.79 (d, 1H, J = 3.7 Hz), 5.77 (d, 1H, J = 3.7 Hz), 5.36, (br s, 1H), 4.32 (d, 1H, J = 11.0 Hz), 4.19 (d, 1H, J = 11.0 Hz), 3.37 (s, 3H), 2.61 (t, 2H, J = 7.7 Hz), 2.55-2.47 (m, 4H), 2.23-2.15 (m, 1H), 2.07 (s, 3H), 1.94-1.87 (m, 1H),1.90 (s, 3H), 1.70-1.59 (m, 4H), 1.53 (s, 3H), 1.47-1.39 (m, 2H)。
マススペクトル(FAB⁺), m/z : 412((M+H)⁺)。
【０５１７】
（３１ｃ） （２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−［１−メチル−５−（５−フェニルペンチル）ピロール−２−イル］ブタン−１−オール １／２シュウ酸塩
実施例（３１ｂ）で得られた（２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−［１−メチル−５−（５−フェニルペンチル）ピロール−２−イル］ブタン７５．０ｍｇ（０．１８ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１ｍｌ）およびメタノール（１ｍｌ）の混合液に溶解し、水（１ｍｌ）および水酸化リチウム１水和物７６ｍｇ（１．８１ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で６時間攪拌した。冷却後、反応液に水を加え、塩化メチレンで抽出し、塩化メチレン層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、減圧下溶媒を留去し、残渣を塩基性シリカゲル（ＮＨタイプ）クロマトグラフィー(溶出溶媒：塩化メチレン／メタノール＝１／０〜５０／１)により精製して、（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−［１−メチル−５−（５−フェニルペンチル）ピロール−２−イル］ブタン−１−オール５３．６ｍｇ(収率９０％)を得た。得られた（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−［１−メチル−５−（５−フェニルペンチル）ピロール−２−イル］ブタン−１−オール５３．６ｍｇをメタノール（１．６ｍｌ）に溶解し、無水シュウ酸（９８％）７．４ｍｇ（０．０８２ｍｍｏｌ）を加えて、室温で１時間撹拌した。減圧下濃縮し、酢酸エチルを加えて析出した結晶をろ取し、酢酸エチルで洗浄し、減圧下乾燥して、標記化合物４９．２ｍｇ(収率８１％)を得た。
¹H NMRスペクトル(CD₃OD, 400MHz), δ : 7.25-7.21 (m, 2H), 7.16-7.11 (m, 3H), 5.71 (d, １H, J = 3.7 Hz), 5.66 (d, 1H, J = 3.7 Hz), 3.60 (d, 1H, J = 11.7 Hz), 3.52 (d, 1H, J = 11.7 Hz), 3.41 (s, 3H), 2.65-2.56 (m, 4H), 2.53-2.49 (m, 2H), 1.99-1.81 (m, 2H), 1.68-1.56 (m, 4H), 1.44-1.37 (m, 2H), 1.30 (s, 3H)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (KBr) : 3315, 2930, 2092, 1632, 1591, 1549, 1455, 1304, 1073。
マススペクトル(FAB⁺), m/z : 329((M+H)⁺; free体)。
【０５１８】
（実施例３２）
（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−［１−メチル−５−（４−フェニルブチル）ピロール−２−イル］ブタン−１−オール １／２シュウ酸塩(例示化合物番号：式Ia-2における1-31)
参考例１３で得られた（２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−（１−メチル−５−ヨードピロール−２−イル）ブタンおよび４−フェニルブト−１−インを出発原料として、実施例（３１ａ）、（３１ｂ）および（３１ｃ）に記載の方法に準じて、標記化合物を得た（収率２８％）。
¹H NMRスペクトル（CD₃OD，400MHz），δ : 7.25-7.21 (m, 2H), 7.16-7.11 (m, 3H), 5.71 (d, １H, J = 2.9 Hz), 5.66 (d, 1H, J = 2.9 Hz), 3.60 (d, 1H, J = 11.7 Hz), 3.53 (d, 1H, J = 11.7 Hz), 3.39 (s, 3H), 2.66-2.53 (m, 6H), 1.98-1.81 (m, 2H), 1.72-1.55 (m, 4H), 1.30 (s, 3H)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (KBr) : 3347, 3024, 2933, 2858, 1589, 1454, 1299, 1072, 763, 745, 698。
マススペクトル（FAB⁺），m/z： 315((M+H)⁺; free体)。
【０５１９】
（実施例３３）
（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−［1−メチル−５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル］ブタン−１−オール 塩酸塩(例示化合物番号：式Ia-2における1-1093)
（３３a） （２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−｛１−メチル−［５−フェニル−１−（５−フェニルペンタノイルオキシ）ペント−１−エニル］ピロール−２−イル｝ブタン
参考例（１９ｂ）で得られた（２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−（１−メチルピロール−２−イル）ブタン４．２３ｇ（１５．４ｍｍｏｌ）をトルエン（１００ｍｌ）に溶解し、４−ジメチルアミノピリジン９．４１ｇ（７７．０ｍｍｏｌ）および５−フェニル吉草酸クロリド（９８％）７．９２ｇ（３９．５ｍｍｏｌ）をトルエン（５０ｍｌ）に溶解した溶液を加え、１１０℃で４８時間撹拌した。室温に戻し、反応液に酢酸エチルおよび水を加えて酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝３／２〜２／１)により精製して、標記化合物４．０３ｇ(収率４５％)を得た。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃，400MHz），δ : 7.26-7.23 (m, 4H), 7.17-7.11 (m, 6H), 6.96(d, 1H, J = 4.2 Hz), 5.97 (d, 1H, J = 4.2 Hz), 5.41 (br s, 1H), 4.31 (d, 1H, J = 11.0 Hz), 4.15 (d, 1H, J = 11.0 Hz), 4.11 (t, 1H, J = 8.1 Hz), 3.83 (s, 3H), 2.67-2.39 (m, 8H), 2.34-2.26 (m, 1H), 2.10 (s, 3H), 2.04-1.86 (m, 6H), 1.61-1.48 (m, 6H), 1.36 (s, 3H)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (CHCl₃) : 3443, 2938, 2861, 1733, 1681, 1634, 1487, 1454, 1374, 1249, 1044, 。
マススペクトル（FAB⁺），m/z： 587((M+H)⁺)。
【０５２０】
（３３ｂ） （２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−［1−メチル−５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル］ブタン−１−オール 塩酸塩実施例（３３ａ）で得られた（２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−｛１−メチル−［５−フェニル−１−（５−フェニルペンタノイルオキシ）ペント−１−エニル］ピロール−２−イル｝ブタン４．０２７０ｇ（６．８６ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１４ｍｌ）とメタノール（１４ｍｌ）との混合液に溶解し、水（１４ｍｌ）および水酸化リチウム１水和物２．８８２０ｇ（６８．６８ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で４時間攪拌した。冷却後、反応液に水を加え、塩化メチレンで抽出し、塩化メチレン層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、減圧下溶媒を留去し、残渣を塩基性シリカゲル（ＮＨタイプ）クロマトグラフィー(溶出溶媒：塩化メチレン／メタノール＝１００／１)により精製して、粗製の（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−［1−メチル−５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル］ブタン−１−オール２．１１５２ｇを得た。得られた粗生成物をメタノール（３１ｍｌ）に溶解し、４規定塩酸−ジオキサン溶液１．５４ｍｌ（６．１６ｍｍｏｌ）を加えて、室温で１０分間撹拌した。減圧下濃縮し、酢酸エチルを加えて析出した結晶をろ取し、酢酸エチルで洗浄し、減圧下乾燥して、標記化合物２．０６８５ｇ(収率７９％)を得た。
融点 : 130-131℃。
旋光度，[α]_D = -4.81 (c = 1.00, MeOH)。
¹H NMRスペクトル（CD₃OD，400MHz），δ : 7.25-7.21 (m, 2H), 7.17-7.11 (m, 3H), 7.05 (d, 1H, J = 4.2 Hz), 6.03 (d, 1H, J = 4.2 Hz), 3.86 (s, 3H), 3.65 (d, 1H, J = 11.4 Hz), 3.55 (d, 1H, J = 11.4 Hz), 2.78-2.67 (m, 4H), 2.63 (t, 2H, J = 7.2 Hz), 2.02 (ddd, 1H, J = 13.8 Hz, 9.4 Hz, 7.6 Hz), 1.90 (ddd, 1H, J = 13.8 Hz, 11.5 Hz, 6.3 Hz), 1.70-1.64 (m, 4H), 1.34 (s, 3H)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (KBr) : 3215, 2937, 2883, 2691, 2571, 1646, 1525, 1482, 1457, 1380, 1294, 1228, 1182, 1055, 998, 913, 770, 751, 700。
マススペクトル（FAB⁺），m/z：343((M+H)⁺; free体)。
元素分析値（C₂₁H₃₀N₂O₂・HClとして％），
計算値：C ： 66.56，H ： 8.25 ， N ： 7.39 , Cl : 9.36。
実測値：C ： 66.51，H ： 8.20 ， N ： 7.47 , Cl : 9.08。
【０５２１】
（実施例３４）
（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−｛１−メチル−５−［５−（４−フルオロフェニル）ペンタノイル］ピロール−２−イル｝ブタン−１−オール 塩酸塩(例示化合物番号：式Ia-2における1-1094)
参考例（１９ｂ）で得られた（２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−（１−メチルピロール−２−イル）ブタンおよび５−（４−フルオロフェニル）吉草酸クロリドを出発原料として、実施例（３３ａ）および（３３ｂ）に記載の方法に準じて、標記化合物を得た（収率４２％）。
¹H NMRスペクトル（CD₃OD，400MHz），δ : 7.20-7.13 (m, 2H), 7.05 (d, 1H, J = 4.0 Hz), 6.99-6.92 (m, 2H), 6.03 (d, 1H, J = 4.0 Hz), 3.86 (s, 3H), 3.65 (d, 1H, J = 11.4 Hz), 3.55 (d, 1H, J = 11.4 Hz), 2.76 (t, 2H, J = 7.3 Hz), 2.74-2.66 (m, 2H), 2.62 (t, 2H, J = 7.3 Hz), 2.08-1.86 (m, 2H), 1.73-1.60 (m, 4H), 1.35 (s, 3H)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (KBr) : 3352, 3210, 3153, 3035, 2930, 2863, 1634, 1601, 1509, 1480, 1464, 1371, 1349, 1222, 1175, 1067, 823, 766。
マススペクトル（FAB⁺），m/z：361((M+H)⁺;free体)。
【０５２２】
（実施例３５）
（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−［１−メチル−５−（４−フェニルブタノイル）ピロール−２−イル］ブタン−１−オール 塩酸塩(例示化合物番号：式Ia-2における1-1082)
参考例（１９ｂ）で得られた（２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−（１−メチルピロール−２−イル）ブタンおよび４−フェニル酪酸クロリドを出発原料として、実施例（３３a）および（３３ｂ）に記載の方法に準じて、標記化合物を得た（収率４８％）。
¹H NMRスペクトル（CD₃OD，400MHz），δ : 7.28-7.12 (m, 5H), 6.97 (d, 1H, J = 4.0 Hz), 6.02 (d, 1H, J = 4.0 Hz), 3.86 (s, 3H), 3.65 (d, 1H, J = 11.7 Hz), 3.55 (d, 1H, J = 11.7 Hz), 2.78-2.62 (m, 6H), 2.08-1.85 (m, 4H), 1.35 (s, 3H)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (KBr) : 3203, 3025, 2941, 2572, 2029, 1649, 1518, 1482, 1457, 1382, 1297, 1179, 1140, 1057, 989, 915, 752, 699。
マススペクトル（FAB⁺），m/z：329((M+H)⁺; free体)。
【０５２３】
（実施例３６）
（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−［１−メチル−５−（３−フェニルプロパノイル）ピロール−２−イル］ブタン−１−オール 塩酸塩(例示化合物番号：式Ia-2における1-1080)
参考例（１９ｂ）で得られた（２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−（１−メチルピロール−２−イル）ブタンおよび３−フェニルプロピオン酸クロリドを出発原料として、実施例（３３ａ）および（３３ｂ）に記載の方法に準じて、標記化合物を得た（収率４２％）。
¹H NMRスペクトル（CD₃OD，400MHz），δ : 7.27-7.11 (m, 5H), 7.03 (d, 1H, J = 4.4 Hz), 6.01 (d, 1H, J = 4.4 Hz), 3.86 (s, 3H), 3.65 (d, 1H, J = 11.7 Hz), 3.55 (d, 1H, J = 11.7 Hz), 3.09-3.02 (m, 2H), 2.99-2.92 (m, 2H), 2.76-2.62 (m, 2H), 2.08-1.85 (m, 2H), 1.34 (s, 3H)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (KBr) : 3376, 3026, 2932, 2559, 1640, 1605, 1484, 1455, 1410, 1381, 1294, 1225, 1135, 1069, 983, 924, 770, 747, 699。
マススペクトル（FAB⁺），m/z：315((M+H)⁺; free体)。
【０５２４】
（実施例３７）
（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−［１−メチル−５−（５−シクロヘキシルペンタノイル）ピロール−２−イル］ブタン−１−オール 塩酸塩(例示化合物番号：式Ia-2における1-1083)
参考例（１９ｂ）で得られた（２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−（１−メチルピロール−２−イル）ブタンおよび５−シクロヘキシル吉草酸クロリドを出発原料として、実施例（３３a）および（３３ｂ）に記載の方法に準じて、標記化合物を得た（収率２９％）。
¹H NMRスペクトル（CD₃OD，400MHz），δ : 7.05 (d, 1H, J = 4.0 Hz), 6.04 (d, 1H, J = 4.0 Hz), 3.87 (s, 3H), 3.65 (d, 1H, J = 11.7 Hz), 3.55 (d, 1H, J = 11.7 Hz), 2.78-2.64 (m, 4H), 2.09-1.86 (m, 2H), 1.76-1.58 (m, 7H), 1.40-1.10 (m, 11H), 0.95-0.80 (m, 2H)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (KBr) : 3354, 3212, 3156, 3034, 2921, 2850, 1637, 1498, 1480, 1464, 1379, 1370, 1292, 1224, 1175, 1066, 1054, 914, 762。
マススペクトル（FAB⁺），m/z：349((M+H)⁺; free体)。
【０５２５】
（実施例３８）
（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−［１−メチル−４−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル］ブタン−１−オール １／２シュウ酸塩(例示化合物番号：式Ib-2における2-252)
（３８ａ） （４Ｒ）−４−メチル−４−｛２−［１−メチル−４−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル］エチル｝−１，３−オキサゾリジン−２−オン
参考例１１で得られた（４Ｒ）−４−メチル−４−［２−（１−メチルピロール−２−イル）エチル］−１，３−オキサゾリジン−２−オン１００ｍｇ（０．４８ｍｍｏｌ）をベンゼン（４ｍｌ）に溶解し、Ｎ，Ｎ−ジメチル−５−フェニルペンタナミド９９ｍｇ（０．４８ｍｍｏｌ）およびオキシ三塩化リン４３μｌ（０．４６ｍｍｏｌ）を加え、６時間加熱還流した。反応液に２０％酢酸ナトリウム水溶液２ｍｌを加えて８０℃で１５分間攪拌した。室温に戻し、水を加えて酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。ろ過後、減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／１〜３／２〜４／１)により精製して、標記化合物１１ｍｇ(収率６％)を得た。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃，500MHz），δ : 7.30-7.24 (m, 2H), 7.20-7.15 (m, 4H), 6.31 (s, 1H), 5.72 (br s, 1H), 4.17 (d, 1H, J = 8.6 Hz), 4.10 (d, 1H, J = 8.6 Hz), 3.57 (s, 3H), 2.70-2.55 (m, 6H), 1.94 (t, 2H, J = 8.2 Hz), 1.78-1.60 (m, 4H), 1.43 (s,3H)。
マススペクトル（FAB⁺），m/z：369((M+H)⁺)。
【０５２６】
（３８ｂ） （２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−［１−メチル−４−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル］ブタン−１−オール １／２シュウ酸塩
実施例（３８ａ）で得られた（４Ｒ）−４−メチル−４−｛２−［１−メチル−４−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル］エチル｝−１，３−オキサゾリジン−２−オン１１ｍｇ（０．０３ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１ｍｌ）−メタノール（１ｍｌ）の混合液に溶解し、５規定水酸化カリウム水溶液（１ｍｌ）を加え、２日間加熱還流した。冷却後、反応液に水を加え、塩化メチレンで抽出し、塩化メチレン層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、減圧下溶媒を留去して、（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−［１−メチル−４−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル］ブタン−１−オール９ｍｇを得た。得られた粗生成物６．５ｍｇをメタノール（０．５ｍｌ）に溶解し、無水シュウ酸（９８％含量）０．８５ｍｇ（０．００９５ｍｍｏｌ）を加えて、室温で１０分間撹拌した。減圧下濃縮乾固して、標記化合物７．０ｍｇ(収率８４％)を得た。
¹H NMRスペクトル（CD₃OD，500MHz），δ : 7.42 (s, 1H), 7.26-7.20 (m, 2H), 7.17-7.11 (m, 3H), 6.32 (s, 1H), 3.65-3.60 (m, 4H), 3.57 (d, 1H, J = 11.7 Hz), 2.74-2.60 (m, 6H), 2.04-1.86 (m, 2H), 1.73-1.62 (m, 4H), 1.33 (s, 3H)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (KBr) : 3339, 3025, 2929, 2859, 2565, 1611, 1525, 1497, 1453, 1438, 1355, 1310, 1176, 1069, 928, 818, 774, 749, 700。
マススペクトル（FAB⁺），m/z：343((M+H)⁺; free体)。
【０５２７】
（実施例３９）
（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−［１−メチル−５−（５−フェニル−１−ヒドロキシペンチル）ピロール−２−イル］ブタン−１−オール １／２シュウ塩(例示化合物番号：式Ia-2における1-1399)
実施例（３３ｂ）で得られた（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−［1−メチル−５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル］ブタン−１−オール 塩酸塩１８５ｍｇ（０．４９ｍｍｏｌ）を塩化メチレン（１０ｍｌ）に懸濁し、１規定水酸化ナトリウム水溶液を加えて５分間攪拌した後、塩化メチレンで抽出し、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、減圧下溶媒を留去して（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−［1−メチル−５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル］ブタン−１−オールを得た。得られた（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−［1−メチル−５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル］ブタン−１−オールをメタノール５ｍｌに溶解し、氷冷下、水素化ホウ素ナトリウム２８ｍｇ（０．７４ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間攪拌した。反応液に水素化ホウ素ナトリウム２８ｍｇ（０．７４ｍｍｏｌ）を追加して、室温で２０時間攪拌した。さらに反応液に水素化ホウ素ナトリウム２８ｍｇ（０．７４ｍｍｏｌ）を追加して、室温で７時間攪拌し、反応液に水を加えて酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を水および飽和食塩水にて洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、減圧下濃縮乾固し、残渣を分取用逆層ＨＰＬＣカラム［Ｉｎｅｒｔｓｉｌ ＯＤＳ−３（２．０ｃｍ×２５ｃｍ）、ＧＬサイエンス社製、溶出溶媒：アセトニトリル／０．１％酢酸アンモニウム水溶液＝７０／３０ 流速１０ｍｌ／ｍｉｎ］により精製して、（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−［１−メチル−５−（５−フェニル−１−ヒドロキシペンチル）ピロール−２−イル］ブタン−１−オール７９ｍｇを得た。得られた（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−［１−メチル−５−（５−フェニル−１−ヒドロキシペンチル）ピロール−２−イル］ブタン−１−オール７９ｍｇ（０．２３ｍｍｏｌ）をメタノール（２ｍｌ）に溶解し、９８％無水シュウ酸９．３ｍｇ（０．１１ｍｍｏｌ）を加えて、室温で３０分間撹拌した。減圧下濃縮乾固して、標記化合物５７ｍｇ(収率３０％)を得た。
¹H NMRスペクトル（CD₃OD，400MHz），δ : 7.25-7.20 (m, 2H), 7.17-7.09 (m, 3H), 5.91 (d, 1H, J = 3.4 Hz), 5.76 (d, 1H, J = 3.4 Hz), 4.57 (t, 1H, J = 6.6 Hz), 3.59 (d, 1H, J = 12.0 Hz), 3.54 (s, 3H), 3.53 (d, 1H, J = 12.0 Hz), 2.65-2.55 (m, 4H), 2.00-1.80 (m, 4H), 1.70-1.58 (m, 2H), 1.54-1.44 (m, 1H), 1.43-1.32 (m, 1H), 1.30 (s, 3H)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (KBr) : 3212, 3026, 2935, 2897, 2571, 1719, 1700, 1611, 1521, 1496, 1454, 1405, 1279, 1218, 1053, 767, 721, 700。
マススペクトル（FAB⁺），m/z：325((M+H)⁺; free体)。
【０５２８】
（実施例４０）
（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−｛５−［３−（２−シクロヘキシルエチルオキシ）フェニル］−１−メチルピロール−２−イル｝ブタン−１−オール
１／２シュウ酸塩(例示化合物番号：式Ia-2における1-1444)
（４０ａ） （４Ｒ）−４−メチル−４−［２−（５−ヨード−１−メチルピロール−２−イル）エチル］−１，３−オキサゾリジン−２−オン
参考例１１で得られた（４Ｒ）−４−メチル−４−［２−（１−メチルピロール−２−イル）エチル］−１，３−オキサゾリジン−２−オン０．６１８７ｇ（２．９７ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（３０ｍｌ）に溶解し、氷冷下、ピリジン１．２ｍｌ（１４．９ｍｍｏｌ）およびヨウ素１．５０６０ｇ（５．９３ｍｍｏｌ）を加え、同温度にて１０分間撹拌した。反応液に１０％チオ硫酸ナトリウム水溶液を加えて反応を止め、減圧下約１／２に濃縮し、酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、減圧下濃縮乾固し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝３／２)により精製して、標記化合物０．６６６０ｇ(収率６７％)を得た。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃，400MHz），δ : 6.30 (d, 1H, J = 3.7 Hz), 5.93 (d, 1H, J =3.7 Hz), 5.17 (br s, 1H), 4.15 (d, 1H, J = 8.8 Hz), 4.09 (d, 1H, J = 8.8 Hz), 3.50 (s, 3H), 2.76-2.63 (m, 2H), 1.96-1.85 (m, 2H), 1.42 (s, 3H)。
【０５２９】
（４０ｂ） （４Ｒ）−４−メチル−４−〔２−｛２−［３−（２−シクロヘキシルエチルオキシ）フェニル］−１−メチルピロール−２−イル｝エチル〕−１，３−オキサゾリジン−２−オン
実施例（４０ａ）で得られた（４Ｒ）−４−メチル−４−［２−（５−ヨード−１−メチルピロール−２−イル）エチル］−１，３−オキサゾリジン−２−オン０．３１０１ｇ（０．９２ｍｍｏｌ）、２−［３−（２−シクロヘキシルエチルオキシ）フェニル］−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン０．４６４６ｇ（１．４１ｍｍｏｌ）、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）６３．１ｍｇ（０．０９ｍｍｏｌ）および炭酸セシウム０．６００６ｇ（１．８１ｍｍｏｌ）をジメトキシエタン（８ｍｌ）および水（２ｍｌ）の混合液に懸濁し、８０℃で６時間撹拌した。冷却後、反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。ろ過後、減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝３／２)により精製して粗生成物を得、分取用逆層ＨＰＬＣカラム［Ｉｎｅｒｔｓｉｌ ＯＤＳ−３（２．０ｃｍ×２５ｃｍ）、ＧＬサイエンス社製、溶出溶媒：アセトニトリル／水＝７５／２５ 流速1０ｍｌ／ｍｉｎ］により精製して、標記化合物４１．１ｍｇ(収率１１％)を得た。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃，400MHz），δ : 7.30-7.26 (m, 1H), 6.93-6.89 (m, 2H), 6.85-6.83 (m, 1H), 6.14 (d, 1H, J = 3.7 Hz), 5.95 (d, 1H, J = 3.7 Hz), 5.27 (br s, 1H), 4.18 (d, J = 8.8 Hz), 4.10 (d, 1H, J = 8.8 Hz), 4.01 (t, 2H, J = 6.6 Hz), 3.52 (s, 3H), 2.77-2.64 (m, 2H), 2.06-1.94 (m, 2H), 1.78-1.64 (m, 6H), 1.55-1.46 (m, 1H), 1.45 (s, 3H), 1.31-1.11 (m, 4H), 1.02-0.92 (m, 2H)。
マススペクトル（FAB⁺），m/z：411((M+H)⁺)。
【０５３０】
（４０ｃ） （２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−｛５−［３−（２−シクロヘキシルエチルオキシ）フェニル］−１−メチルピロール−２−イル｝ブタン−１−オール １／２シュウ酸塩
実施例（４０ｂ）で得られた（４Ｒ）−４−メチル−４−〔２−｛２−［３−（２−シクロヘキシルエチルオキシ）フェニル］−１−メチルピロール−２−イル｝エチル〕−１，３−オキサゾリジン−２−オン４１．０ｇ（０．１０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１ｍｌ）−メタノール（０．５ｍｌ）の混合液に溶解し、５規定水酸化カリウム水溶液（０．５ｍｌ）を加え、４日間加熱還流した。冷却後、反応液に水を加え、塩化メチレンで抽出し、塩化メチレン層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、減圧下溶媒を留去し、残渣を塩基性シリカゲル（ＮＨタイプ）クロマトグラフィー(溶出溶媒：塩化メチレン／メタノール＝５０／１)により精製して、（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−｛５−［３−（２−シクロヘキシルエチルオキシ）フェニル］−１−メチルピロール−２−イル｝ブタン−１−オール３６．５ｍｇを得た。得られた（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−｛５−［３−（２−シクロヘキシルエチルオキシ）フェニル］−１−メチルピロール−２−イル｝ブタン−１−オール３６．２ｍｇをメタノール（１ｍｌ）に溶解し、無水シュウ酸（９８％含量）４．４ｍｇ（０．０５ｍｍｏｌ）を加えて、室温で３０分間撹拌した。減圧下濃縮し、２−プロパノールを加え、析出した結晶をろ取し、２−プロパノールで洗浄し、減圧下乾燥して、標記化合物３５．６ｍｇ（収率８６％）を得た。
¹H NMRスペクトル（CD₃OD,400MHz），δ : 7.27 (t, 1H, J = 8.1 Hz), 6.89 (d, 1H, J = 8.1 Hz), 6.85-6.81 (m, 2H), 6.03 (d, 1H, J = 3.7 Hz), 5.91 (d, 1H, J = 3.7 Hz), 4.02 (t, 1H, J = 6.6 Hz), 3.63 (d, J = 11.7 Hz), 3.56 (d, 1H, J = 11.7 Hz), 3.54 (s, 3H), 2.77-2.65 (m, 2H), 2.07-1.90 (m, 2H), 1.81-1.64 (m, 7H), 1.59-1.47 (m, 1H), 1.34 (s, 3H), 1.32-1.15 (m, 3H), 1.05-0.95 (m, 2H)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (KBr) : 3354, 2923, 2851, 1595, 1579, 1509, 1463, 1301, 1211, 1066, 1049, 763, 698。
マススペクトル（FAB⁺），m/z： 385 ((M+H)⁺; free体)。
【０５３１】
（実施例４１）
（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−［1−エチル−５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル］ブタン−１−オール 塩酸塩(例示化合物番号：式Ia-5における4-12)
（４１ａ） （２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−｛１−エチル−［５−フェニル−１−（５−フェニルペンタノイルオキシ）ペント−１−エニル］ピロール−２−イル｝ブタン
参考例２４で得られた（２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−（１−エチルピロール−２−イル）ブタン２．１ｇ(７．４９ｍｍｏｌ)をトルエン（１００ｍｌ）に溶解し、ジメチルアミノピリジン４．５８ｇ（３７．５ｍｍｏｌ）を加え、５−フェニル吉草酸クロリド４．４ｇ（２２．５ｍｍｏｌ）をトルエン（２０ｍｌ）に溶解した溶液を加え、５日間加熱還流した。室温に戻し、反応液に水を加えて酢酸エチルで抽出し、水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、減圧下濃縮乾固し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝４／６)により精製して粗生成物を得、分取用逆層ＨＰＬＣカラム［Ｉｎｅｒｔｓｉｌ ＯＤＳ−３（２．０ｃｍ×２５ｃｍ）、ＧＬサイエンス社製、溶出溶媒：アセトニトリル／０．１％酢酸アンモニウム水溶液＝７０／３０ 流速１０ｍｌ／ｍｉｎ］により精製して、標記化合物２．８ｇ(収率６６％)を得た。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃，400MHz），δ : 7.26-7.21 (m, 4H), 7.18-7.09 (m, 6H), 6.98 (d, 1H, J = 4.4 Hz), 5.97 (d, 1H, J = 4.4 Hz), 5.43 (br s, 1H), 4.35-4.28 (m, 1H),4.33 (d, 1H, J = 11.0 Hz), 4.17 (d, 1H, J = 11.0 Hz), 4.12 (q, 2H, J = 7.3 Hz), 2.65-2.25 (m, 9H), 2.10 (s, 3H), 2.07-1.86 (m, 3H), 1.96 (s, 3H), 1.62-1.47 (m, 6H), 1.37 (s, 3H), 1.25 (t, 3H, J = 7.3 Hz)。
【０５３２】
（４１ｂ） （２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−［1−エチル−５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル］ブタン−１−オール 塩酸塩
実施例（４１ａ）で得られた（２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−｛１−エチル−［５−フェニル−１−（５−フェニルペンタノイルオキシ）ペント−１−エニル］ピロール−２−イル｝ブタン２．８ｇ（４．６６ｍｍｏｌ）をメタノール（１２ｍｌ）、テトラヒドロフラン（１２ｍｌ）および水（１２ｍｌ）に溶解し、水酸化リチウム１水和物１．９６ｇ（４６．６ｍｍｏｌ）を加え５０℃にて５時間撹拌した。室温に戻し、水を加えて塩化メチレンで抽出し、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、減圧下溶媒を留去し、残渣を塩基性シリカゲル（ＮＨタイプ）クロマトグラフィー(溶出溶媒：塩化メチレン／メタノール＝１００／１)により精製して、粗製の（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−［1−エチル−５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル］ブタン−１−オール１．５３ｇを得た。得られた粗生成物１．５３ｇをエタノール（１５ｍｌ）に溶解し、氷冷下、４規定塩酸−ジオキサン溶液１．０７ｍｌ（４．２６ｍｍｏｌ）を加えた。氷冷下３０分撹拌後、減圧下濃縮乾固し、得られた残渣を酢酸エチルから再結晶して、標記化合物１．４６ｇ（収率８０％）を得た。
¹H NMRスペクトル（DMSO-d₆，400MHz），δ : 7.90 (br s, 2H), 7.29-7.24 (m, 2H), 7.20-7.13 (m, 3H), 7.06 (d, 1H, J = 4.0 Hz), 5.94 (d, 1H, J =4.0 Hz), 5.53 (t, 1H, J = 4.8 Hz), 4.29 (q, 2H, J = 7.3 Hz), 3.49 (dd, 1H, J = 11.0 Hz, 4.8 Hz), 3.43 (dd, 1H, J = 11.0 Hz, 4.8 Hz), 2.79-2.70 (m, 2H), 2.69-2.55 (m, 4H), 1.94-1.88 (m, 2H), 1.64-1.53 (m, 4H), 1.22 (s, 3H),1.17 (t, 3H, J = 7.3Hz)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (KBr) : 3377, 2936, 1639, 1479, 1393, 1068。
マススペクトル（FAB⁺），m/z：357((M+H)⁺; free体)。
【０５３３】
（実施例４２）
（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−［５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル］ブタン−１−オール(例示化合物番号：式Ia-4における3-12)
（４２ａ） （４Ｒ）−４−メチル−４−｛２−［５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル］エチル｝−１，３−オキサゾリジン−２−オン
参考例２８で得られた（４Ｒ）−４−メチル−４−［２−（ピロール−２−イル）エチル］−１，３−オキサゾリジン−２−オン１３８ｍｇ(０．７１ｍｍｏｌ)をテトラヒドロフラン（５ｍｌ）に溶解し、メチルマグネシウムブロミドのエーテル（３．０Ｍ）溶液０．５０ｍｌ（１．４９ｍｍｏｌ）を加え、３０分間加熱還流した。冷後、室温攪拌下、５−フェニル吉草酸クロリド０．１６９ｇ（２２．５ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１ｍｌ）に溶解した溶液を加え、。１時間加熱還流した。室温に戻し、反応液に水を加えて酢酸エチルで抽出し、水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、減圧下濃縮乾固し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝２／１)により精製して粗生成物を得、分取用逆層ＨＰＬＣカラム［Ｉｎｅｒｔｓｉｌ ＯＤＳ−３（２．０ｃｍ×２５ｃｍ）、ＧＬサイエンス社製、溶出溶媒：アセトニトリル／水＝７０／３０ 流速２０ｍｌ／ｍｉｎ］により精製して、標記化合物４１ｍｇ(収率１６％)を得た。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃，400MHz），δ : 9.67 (br s, 1H), 7.31-7.22 (m, 3H), 7.20-7.13 (m, 2H), 6.85-6.78 (m, 1H), 6.03-5.96 (m, 1H), 5.70 (br s, 1H), 4.16 (d, 1H, J = 8.8 Hz), 4.07 (d, 1H, J = 8.8 Hz), 2.80-2.67 (m, 4H), 2.67-2.58 (m, 2H), 2.01-1.88 (m, 2H), 1.81-1.61 (m, 4H), 1.37 (s, 3H)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (CHCl₃) :3442, 3271, 2935, 2861, 1758, 1632, 1492, 1454, 1410, 1382, 1046, 940。
マススペクトル（FAB⁺），m/z：355((M+H)⁺)。
【０５３４】
（４２ｂ） （２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−［５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル］ブタン−１−オール
実施例（４２ａ）で得られた（４Ｒ）−４−メチル−４−｛２−［５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル］エチル｝−１，３−オキサゾリジン−２−オン４１．０ｍｇ（０．１２ｍｍｏｌ）をメタノール（２ｍｌ）、テトラヒドロフラン（２ｍｌ）および水（２ｍｌ）に溶解し、１０規定水酸化ナトリウム水溶液０．１２ｍｌ（１．１７ｍｍｏｌ）を加え、４日間加熱還流した。室温に戻し、水を加え酢酸エチルで抽出し、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、減圧下溶媒を留去し、残渣を塩基性シリカゲル（ＮＨタイプ）クロマトグラフィー(溶出溶媒：塩化メチレン／メタノール＝２０／１)により精製して、標記化合物３０．０ｍｇ（収率７９％）を得た。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃，400MHz），δ :9,90 (br s, 1H), 7.32-7.22 (m, 3H), 7.20-7.12 (m, 2H), 6.79 (d, 1H, J = 3.7 Hz), 5.98 (d, 1H, J = 3.7 Hz), 3.40 (d, 1H, J = 10.3 Hz), 3.35 (d, 1H, J = 10.3 Hz), 2.80-2.59 (m, 6H), 2.01-1.62 (m, 6H), 1.11 (s, 3H)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (CHCl₃) :3272, 2927, 2857, 1624, 1494, 1454, 1410, 1363, 1293, 1263, 1210, 1048, 915, 801, 749, 700。
マススペクトル（FAB⁺），m/z：329((M+H)⁺)。
【０５３５】
（実施例４３）
リン酸 モノ （２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−［１−メチル−５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル］−１−ブチル エステル(例示化合物番号：式IIa-2における5-1344)
（４３ａ） （２Ｒ）−２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２−メチル−４−［１−メチル−５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル］ブタン−１−オール
実施例（３３ｂ）で得られた（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−［１−メチル−５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル］ブタン−１−オール 塩酸塩１．４６４７ｇ（３．８７ｍｍｏｌ）を塩化メチレン（３８ｍｌ）に溶解し、ジ−t−ブチルジカルボナート１．０１２６ｇ（４．６４ｍｍｏｌ）およびトリエチルアミン１．６２ｍｌ（１１．６５ｍｍｏｌ）を加え、室温で１８時間攪拌した。減圧下濃縮し、反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。ろ過後、減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝３／２)により精製して、標記化合物１．６９２８ｇ(収率９９％)を得た。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃，400MHz），δ : 7.28-7.24 (m, 2H), 7.18-7.14 (m, 3H), 6.90 (d, 1H, J = 3.7 Hz), 5.95 (d, 1H, J = 3.7 Hz), 4.63 (br s, 1H), 3.98 (br s, 1H), 3.87 (s, 3H), 3.68 (d, 2H, J = 6.6 Hz), 2.75 (t, 2H, J = 7.3 Hz), 2.70-2.62 (m, 3H), 2.55 (ddd, 1H, J = 15.4 Hz, 12.4 Hz, 5.1 Hz), 2.13-2.04 (m, 1H), 1.96-1.89 (m, 1H), 1.79-1.64 (m, 4H), 1.43 (s, 9H), 1.21 (s, 3H)。
マススペクトル（FAB⁺），m/z：443((M+H)⁺)。
【０５３６】
（４３ｂ） リン酸 （２Ｒ）−２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２−メチル−４−［１−メチル−５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル］−１−ブチル ジアリル エステル
実施例（４３ａ）で得られた（２Ｒ）−２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２−メチル−４−［１−メチル−５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル］ブタン−１−オール１．６９２８ｇ（３．８３ｍｍｏｌ）を塩化メチレン（１９ｍｌ）に溶解し、氷冷下、１Ｈ−テトラゾール１．７９３３ｇ（２５．６０ｍｍｏｌ）およびジアリル ジイソプロピルホスホロアミダイト２．０２ｍｌ（７．６４ｍｍｏｌ）を加え、その後室温で２時間攪拌した。反応液に、氷冷下、ｔ−ブチルヒドロパーオキシドのｎ−デカン（５−６ｍｏｌ／ｌ）溶液２．３ｍｌ（１１．５ｍｍｏｌ）を加え、同温度で１５分間攪拌した。反応液に亜硫酸ナトリウム水溶液を加えて反応を止め、塩化メチレンで抽出し、塩化メチレン層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝３／２)により精製して、標記化合物 １．５６９０ｇ(収率６８％)を得た。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃，400MHz），δ : 7.28-7.24 (m, 2H), 7.18-7.14 (m, 3H), 6.89 (d, 1H, J = 3.7 Hz), 5.99-5.89 (m, 3H), 5.39-5.29 (m, 4H), 4.62 (br s, 1H), 4.60-4.52 (m, 4H), 4.21 (dd, 1H, J = 9.5 Hz, 5.1 Hz), 4.01 (dd, 1H, J = 9.5 Hz, 5.9 Hz), 3.86 (s, 3H), 2.74 (t, 2H, J = 7.3 Hz), 2.64 (t, 2H, J = 8.1 Hz), 2.58 (t, 2H, J = 8.1 Hz), 2.22-2.12 (m, 1H), 1.90-1.81 (m, 1H), 1.79-1.64 (m, 4H), 1.43 (s, 9H), 1.26 (s, 3H)。
マススペクトル（FAB⁺），m/z： 603((M+H)⁺)。
【０５３７】
（４３ｃ） リン酸 モノ （２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−［１−メチル−５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル］−１−ブチルエステル
実施例（４３ｂ）で得られたリン酸 （２Ｒ）−２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２−メチル−４−［１−メチル−５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル］−１−ブチル ジアリル エステル１．５６６５ｇ（２．６０ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン０．１４０２ｇ（０．５４ｍｍｏｌ）およびテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）０．１５０３ｇ（０．１３ｍｍｏｌ）をアセトニトリル（２６ｍｌ）に懸濁し、窒素雰囲気下、ピロリジン１．１ｍｌ（１３ｍｍｏｌ）を加え、室温で２４時間攪拌した。反応液を減圧下濃縮し、残渣に１規定塩酸水溶液を加えて塩化メチレンで抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、減圧下溶媒を留去して粗生成物 １．４６２５ｇを得た。得られた粗生成物１．４６２５ｇを塩化メチレン（２６ｍｌ）に溶解し、氷冷下でトリフルオロ酢酸（８．６ｍｌ）を加え、室温に戻して２時間攪拌した。反応液を減圧下濃縮し、残渣にエタノールを加え、析出結晶をろ取して粗結晶を得た。得られた粗結晶をメタノール（２００ｍｌ）と水（６７ｍｌ）の混合溶媒に溶解し、活性炭で処理した後セライトろ過した。減圧下濃縮し、残渣にエタノールを加え、析出結晶をろ取し、エタノールで洗浄後乾燥して、標記化合物 ０．５５５４ｇ(収率５１％)を得た。
¹H NMRスペクトル（CD₃CO₂D,400MHz），δ : 7.25-7.22 (m, 2H), 7.17-7.11 (m, 3H), 7.07 (d, 1H, J = 4.4 Hz), 6.04 (d, 1H, J = 4.4 Hz), 4.17 (d, 2H, J = 10.3 Hz), 3.87 (s, 3H), 2.82-2.71 (m, 4H), 2.63 (t, 2H, J = 7.3 Hz), 2.20-2.01 (m, 2H), 1.75-1.63 (m, 4H), 1.46 (s, 3H)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (KBr) : 3429, 2934, 2857, 2717, 2603, 1639, 1557, 1480, 1455, 1378, 1182, 1056, 1041, 946, 915, 821, 748, 699, 580, 511。
マススペクトル（FAB^-），m/z：421((M-H)^-)。
【０５３８】
（実施例４４）
（３Ｒ）−３−アミノ−３−メチル−５−［１−メチル−５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル］ペンチルホスホン酸(例示化合物番号：式IIIa-2における5-1344)
（４４ａ） （２Ｒ）−２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２−メチル−４−［１−メチル−５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル］ブタナール
実施例（４３ａ）で得られた（２Ｒ）−２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２−メチル−４−［１−メチル−５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル］ブタン−１−オール０．３５２０ｇ（０．８０ｍｍｏｌ）を塩化メチレン（８ｍｌ）に溶解し、モレキュラーシーブ４Å（０．２２３４ｇ）および重クロム酸ピリジニウム０．４５９４ｇ（１．２２ｍｍｏｌ）を加え、室温で２０時間攪拌した。反応液にエーテルを加え、ろ過し、ろ液を減圧下留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝３／２)により精製して、標記化合物０．２１９５ｇ(収率６３％)を得た。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃，400MHz），δ : 9.36 (s, 1H), 7.28-7.25 (m, 2H), 7.18-7.15 (m, 3H), 6.89 (d, 1H, J = 3.7 Hz), 5.92 (d, 1H, J = 3.7 Hz), 5.20 (br s, 1H), 3.83 (s, 3H), 2.74 (t, 2H, J = 7.3 Hz), 2.64 (t, 2H, J = 7.3 Hz), 2.59-2.52 (m, 1H), 2.45-2.28 (m, 2H), 2.09-2.03 (m, 1H), 1.78-1.64 (m, 4H), 1.44 (s, 9H), 1.40 (s, 3H)。
【０５３９】
（４４ｂ） ジエチル （３Ｒ）−３−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３−メチル−５−［１−メチル−５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル］ペント−１−エニルホスホン酸 エステル
水素化ナトリウム（６０％含量）３１．０ｍｇ（０．７８ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１ｍｌ）に懸濁し、氷冷下、テトラエチル メチレンジホスホナート０．１８５ｍｌ（０．７５ｍｍｏｌ）を５分間要して加え、その後室温にて３０分間攪拌した。ついで、実施例（４４ａ）で得られたジエチル （２Ｒ）−２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２−メチル−４−［１−メチル−５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル］−１−ブタナール０．２１５５ｇ（０．４９ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（４ｍｌ）に溶解した溶液を氷冷下、５分間要して加え、同温度にて３０分間攪拌した。反応液に酢酸４２μｌ（０．７３ｍｍｏｌ）を加えて中和したのち減圧下濃縮し、反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。ろ過後、減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝２／１〜１／０)により精製して、標記化合物０．２３４８ｇ(収率８５％)を得た。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃ , 400MHz）, δ : 7.28-7.25 (m, 2H), 7.18-7.15 (m, 3H), 6.90 (d, 1H, J = 4.4 Hz), 6.77 (dd, 1H, J = 22.7 Hz, 17.6 Hz), 5.92 (d, 1H, J = 4.4 Hz), 5.72 (t, 1H, J = 17.6 Hz), 4.59 (br s, 1H), 4.12-4.05 (m, 4H), 3.84 (s, 3H), 2.74 (t, 2H, J = 7.3 Hz), 2.64 (t, 2H, J = 7.3 Hz), 2.59-2.50 (m, 2H), 2.26-2.18 (m, 1H), 2.01-1.93 (m, 1H), 1.78-1.64 (m, 4H), 1.42 (s, 12H), 1.32 (t, 6H, J = 7.3 Hz)。
マススペクトル（FAB⁺），m/z：575((M+H)⁺)。
【０５４０】
（４４ｃ） ジエチル （３Ｒ）−３−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３−メチル−５−［１−メチル−５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル］ペンチルホスホン酸 エステル
実施例（４４ｂ）で得られたジエチル （３Ｒ）−３−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３−メチル−５−［１−メチル−５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル］ペント−１−エニルホスホン酸 エステル１４５．４ｍｇ（０．２５ｍｍｏｌ）をエタノール（２．５ｍｌ）に溶解し、塩化トリス（トリフェニルホスフィン）ロジウム（Ｉ）２３．７ｍｇ（０．０２６ｍｍｏｌ）を加え、水素雰囲気下、５０℃で５時間攪拌した。冷後、反応液に塩化トリス（トリフェニルホスフィン）ロジウム（Ｉ）２４．３ｍｇ（０．０２６ｍｍｏｌ）を加え、水素雰囲気下、５０℃で５時間攪拌した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒：酢酸エチル)により精製して、粗生成物１５４．０ｍｇを得、分取用逆層ＨＰＬＣカラム[Ｉｎｅｒｔｓｉｌ ＯＤＳ−３（２．０ｃｍ×２５ｃｍ）、ＧＬサイエンス社製、溶出溶媒：アセトニトリル／水＝８０／２０、流速：１０ｍｌ／ｍｉｎ]で精製して、標記化合物１１６．１ｍｇ(収率８０％)を得た。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃,400MHz），δ : 7.28-7.24 (m, 2H), 7.18-7.14 (m, 3H), 6.89 (d, 1H, J = 3.7 Hz), 5.92 (d, 1H, J = 3.7 Hz), 4.37 (br s, 1H), 4.14-4.05 (m, 4H), 3.85 (s, 3H), 2.74 (t, 2H, J = 7.3 Hz), 2.64 (t, 2H, J = 7.3 Hz), 2.59-2.50 (m, 2H), 2.24-2.15 (m, 2H), 1.83-1.64 (m, 8H), 1.42 (s, 9H), 1.33 (t, 3H, J =7.3 Hz), 1.32 (t, 3H, J = 7.3 Hz), 1.21 (s, 3H)。
マススペクトル（FAB⁺），m/z：577((M+H)⁺)。
【０５４１】
（４４ｄ） （３Ｒ）−３−アミノ−３−メチル−５−［５−（５−フェニルペンタノイル）フラン−２−イル］ペンチルホスホン酸
実施例（４４ｃ）で得られたジエチル （３Ｒ）−３−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３−メチル−５−［１−メチル−５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル］ペンチルホスホン酸 エステル１１４．０ｍｇ（０．２０ｍｍｏｌ）を塩化メチレン（２．０ｍｌ）に溶解し、臭化トリメチルシラン０．２６ｍｌ（１．９７ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下、室温で５時間撹拌した。減圧下溶媒を留去したのち、残渣に含水エタノールを加えて希釈し、これにアンモア水溶液および酢酸を加えてpH４として結晶を析出させた。析出結晶をろ取し、水およびエタノールで洗浄後乾燥して、標記化合物 ５２．０ｍｇ(収率６３％)を得た。
¹H NMRスペクトル（CD₃CO₂D,400MHz），δ : 7.26-7.22 (m, 2H), 7.18-7.12 (m, 3H), 7.07 (d, 1H, J = 4.1 Hz), 6.05 (d, 1H, J = 4.1 Hz), 3.88 (s, 3H), 2.80 (t, 2H, J = 7.3 Hz), 2.73 (t, 2H, J = 8.8 Hz), 2.63 (t, 2H, J = 7.3 Hz), 2.23-1.94 (m, 6H), 1.76-1.64 (m, 4H), 1.48 (s, 3H)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (KBr) : 3171, 3025, 2936, 2859, 2549, 1640, 1552, 1484, 1461, 1380, 1136, 1064, 1051, 914, 881, 772, 741, 699。
マススペクトル（FAB^-），m/z：419((M-H)^-)。
【０５４２】
（参考例１）
臭化 （フラン−２−イル）メチルトリフェニルホスホニウム塩
フルフリルアルコール２９．４３ｇ（３００ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（３００ｍｌ）に溶解し、三臭化リン１０ｍｌ（１０５ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（３０ｍｌ）に溶解した溶液を，氷冷攪拌下、３０分かけて加え、反応混合物を室温にて１時間撹拌した。反応混合物に、水酸化ナトリウム水溶液（３０．２３ｇを水７５ｍｌに溶解）を加えて中和した後、有機層を分取し、さらに水酸化ナトリウム１０ｇを加えて有機層を乾燥した。有機層を傾斜法により分取し、無水硫酸ナトリウムと活性炭を加え、ろ過し、テトラヒドロフラン（１５０ｍｌ）を加え、トリフェニルホスフィン７８．６４ｇ（３００ｍｍｏｌ）を加え、７０℃にて２時間攪拌した。冷却後、析出した結晶をろ取し、酢酸エチルにて洗浄した後、減圧下乾燥して、標記化合物９８．８４ｇ（収率７８％）を得た。
【０５４３】
（参考例２）
（２Ｒ）−２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−１−ｎ−ヘキサノイルオキシ−２−メチル−４−（フラン−２−イル）−３−ブテン
（２ａ） （２Ｒ）−２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３−ｎ−ヘキサノイルオキシ−２−メチル−１−プロパノール
２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２−メチルプロパン−１，３−ジオール２０．０ｇ（９７．４ｍｍｏｌ)をイソプロピルエーテル（２００ｍｌ）に懸濁し、ヘキサン酸ビニルエステル１６．３ｍｌ（０．１０ｍｏｌ）及びリパーゼ[Immobilized lipase from Pseudomonas sp.， ＴＯＹＯＢＯ社製、０．６７Ｕ／ｍｇ] ０．８ ｇを加え、室温で２時間攪拌した。反応液をろ過後、ろ液を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝１０／１〜２／１)により精製して、標記化合物２５．０ g (収率８５％)を得た。
【０５４４】
得られた（２Ｒ）−２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３−ｎ−ヘキサノイルオキシ−２−メチル−１−プロパノールは、分析用光学活性ＨＰＬＣカラム[ChiralCel OF（０．４６ｃｍ×２５ｃｍ）、ダイセル社製、溶出溶媒：ヘキサン／２−プロパノール＝７０／３０、流速：０．５ｍｌ／ｍｉｎ）]で光学純度を決定した。
【０５４５】
先に溶出されるもの（８．２分）が２Ｓ体であり、後から溶出されるもの（１０．５分）が２Ｒ体であり、光学純度は８５％ｅｅであることを確認した。
旋光度，[α]_D＝‐8.5(c=1.86,CHCl₃)。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃ , 400MHz）, δ：4.86 (s, 1H), 4.25 (d, 1H, J = 11.2 Hz), 4.19 (d, 1H, J = 11.2 Hz), 3.86 (br s, 1H), 3.70-3.55(m, 2H), 2.36 (t, 2H, J = 7.4 Hz), 1.44 (s, 9H), 1.40-1.30 (m, 4H), 1.25 (s, 3H), 0.90 (t, 3H, J = 7.0 Hz)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (Liquid Film) : 3415, 3380, 2961, 2935, 2874, 1721, 1505, 1458, 1392, 1368, 1293, 1248, 1168, 1076。
マススペクトル（FAB⁺），m/z：304((M+H)⁺)。
【０５４６】
（２ｂ） （２Ｓ）−２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３−ｎ−ヘキサノイルオキシ−２−メチル−１−プロパナール
参考例（２ａ）で得られた（２Ｒ）−２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３−ｎ−ヘキサノイルオキシ−２−メチル−１−プロパノール３０．７０ｇ（０．１０１ｍｏｌ）を塩化メチレン（６００ｍｌ）に溶解し、モレキュラーシーブ４Å（２２０ｇ）およびクロロクロム酸ピリジニウム４３．６ｇ（０．２０２ｍｏｌ）を氷冷下加え、室温で２時間攪拌した。反応液にエーテルを加え、ろ過し、ろ液を減圧下留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝１０／１〜５／１)により精製して、標記化合物２８．８１ｇ(収率９５％)を得た。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃ , 400MHz）, δ: 9.45 (s, 1H), 5.26 (br s, 1H), 4.44 (d, 1H, J = 11.2 Hz), 4.32 (d, 1H, J = 11.2 Hz), 2.32 (t, 2H, J = 7.46 Hz), 1.70-1.55 (m, 2H), 1.45 (s, 9H), 1.38 (s, 3H), 1.40-1.25 (m, 4H), 0.90 (t, 3H, J = 7.0 Hz)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (Liquid Film) : 3367, 2961, 2935, 2874, 1742, 1707, 1509, 1458, 1392, 1369, 1290, 1274, 1254, 1166, 1100, 1078。
マススペクトル（FAB⁺），m/z：302((M+H)⁺)。
【０５４７】
（２ｃ） （２Ｒ）−２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−１−ｎ−ヘキサノイルオキシ−２−メチル−４−（フラン−２−イル）−３−ブテン
参考例１で得られた臭化 （フラン−２−イル）メチルトリフェニルホスホニウム塩３３．６５ｇ（７９．５ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（９０ｍｌ）に懸濁し、氷冷撹拌下、ｔ−ブトキシカリウム８．９４ｇ（７９．７ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（９０ｍｌ）に溶解した溶液を１０分間かけて加え、さらに氷冷下１５分間攪拌した。ついで、参考例（２ｂ）で得られた（２Ｓ）−２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３−ｎ−ヘキサノイルオキシ−２−メチル−１−プロパナール１６．１８ｇ（５３．７ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（６０ｍｌ）に溶解した溶液を１５分間かけて加え、氷冷下３０分間攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて反応を止め、液温を室温に戻し、減圧下濃縮し、水および酢酸エチルを加え、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を水および飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝１０／１)により精製して、標記化合物１９．３２ｇ(収率９８％)を得た。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃ , 400MHz）, δ : 7.45 (d, 1H, J = 1.6 Hz), 7.33 (d, 1H, J = 1.5 Hz), 6.41 (dd, 1H, J = 2.9Hz, 1.6 Hz), 6.36-6.35 (m, 計2H), 6.33 (d, 1H, J =15.9 Hz), 6.26-6.22 (m, 計2H), 6.20 (d, 1H, J =15.9 Hz), 5.59 (d, 1H, J = 12.7 Hz), 5.22 (br s, 1H), 4.82 (br s, 1H), 4.43 (d, 1H, J = 11.0 Hz), 4.32 (d, 1H, J = 11.0 Hz), 4.25 (d, 1H, J = 11.0 Hz), 4.18 (d, 1H, J = 11.0 Hz), 2.36-2.32 (m, 計4H), 1.67-1.22 (m, 計40H), 0.92-0.87 (s, 計6H)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (Liquid Film) : 3445, 2962, 2933, 2873, 2250, 1720, 1497, 1457, 1391, 1368, 1249, 1165, 1075, 1015。
マススペクトル（FAB⁺），m/z：388((M+Na)⁺), 366((M+H)⁺)。
【０５４８】
（参考例３）
（４Ｒ）−４−メチル−４−［２−（フラン−２−イル）エテニル］−１，３−オキサゾリジン−２−オン
参考例（２ｃ）で得られた（２Ｒ）−２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−１−ｎ−ヘキサノイルオキシ−２−メチル−４−（フラン−２−イル）−３−ブテン１９．３２ｇ（５２．９ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（５３ｍｌ）およびメタノール（５３ｍｌ）の混合液に溶解し、２規定水酸化ナトリウム水溶液５３ｍｌを加え、室温で１時間攪拌した。反応液に水および塩化メチレンを加えて、塩化メチレンで抽出し、塩化メチレン層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、減圧下溶媒を留去して、粗生成物１４．８４ｇ(収率１００％)を得た。粗生成物をテトラヒドロフラン（１５０ｍｌ）に溶解し、ｔ−ブトキシカリウム７．２０ｇ（６４．２ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（５０ｍｌ）に溶解した溶液を氷冷下１０分間かけて加え、同温度下で１時間攪拌した。反応液に酢酸３．６５ｍｌ（６３．８ｍｍｏｌ）を加えて中和し、減圧下濃縮して、水および酢酸エチルを加え、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝１／１)により精製して、標記化合物１０．０４ｇ(収率９８％)を得た。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃ , 400MHz）, δ : 7.49 (d, 1H, J = 1.6 Hz), 7.36 (d, 1H, J = 1.6 Hz), 6.46 (d, 1H, J = 2.1 Hz), 6.43 (d, 1H, J =16.1 Hz), 6.04-6.37 (m, 計2H), 6.30 (br s, 1H), 6.30 (d, 1H, J = 3.3 Hz), 6.21 (d, 1H, J = 12.7 Hz), 6.18 (d, 1H, J =16.1 Hz), 5.88 (br s, 1H), 5.62 (d, 1H, J = 12.7 Hz), 4.41 (d, 1H, J = 8.5 Hz), 4.37 (d, 1H, J = 8.5 Hz), 4.23 (d, 1H, J = 8.3 Hz), 4.17 (d, 1H, J = 8.3 Hz), 1.65 (s, 3H), 1.54 (s, 3H)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (CDCl₃) : 3451, 2252, 1757, 1396, 1374, 1281, 1165, 1044, 1016。
マススペクトル（EI⁺），m/z： 193(M⁺), 178(base), 163, 148, 135, 120, 107, 91, 81, 65。
【０５４９】
（参考例４）
（４Ｒ）−４−メチル−４−［２−（フラン−２−イル）エチル］−１，３−オキサゾリジン−２−オン
１０％パラジウム−炭素（５０％含水）１．００ｇをメタノール（２０ｍｌ）に懸濁し、参考例３で得られた（４Ｒ）−４−メチル−４−［２−（フラン−２−イル）エテニル］−１，３−オキサゾリジン−２−オン１０．０４ｇ（５２．０ｍｍｏｌ）をメタノール（１８０ｍｌ）に溶解した溶液を加え、水素雰囲気下、室温で４０分間攪拌した。反応液中のパラジウム−炭素をセライトろ過した後、ろ液を減圧下留去した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝３／２〜１／１)により精製して、標記化合物７．９５ｇ(収率７８％)を得た。
【０５５０】
得られた（４Ｒ）−４−メチル−４−［２−（フラン−２−イル）エチル］−１，３−オキサゾリジン−２−オンは、分析用光学活性ＨＰＬＣカラム[ChiralPak AD（０．４６ｃｍ×２５ｃｍ）、ダイセル社製、溶出溶媒:ｎ−ヘキサン／２−プロパノール＝８５／１５、流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ]により光学純度を決定した。
【０５５１】
先に溶出されるもの（１３．０９分）が４Ｓ体であり、後から溶出されるもの（１５．４３分）が４Ｒ体であり、光学純度は８４％ｅｅであることを確認した。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃ , 400MHz）, δ : 7.31 (br s, 1H,), 6.29 (br d, 1H, J = 2.6 Hz), 6.03 (d, 1H, J = 2.6 Hz), 5.92 (br s, 1H), 4.11 (d, 1H, J = 8.4 Hz), 4.04 (d, 1H, J = 8.4 Hz), 2.72 (t, 2H, J ＝ 8.0 Hz), 1.98-1.94 (m, 2H), 1.68-1.61 (m, 2H),1.38 (s, 3H)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (CDCl₃) : 3450, 2975, 2928, 2250, 1755, 1599, 1508, 1400, 1381, 1147, 1045, 1010。
マススペクトル（EI⁺），m/z：195(M⁺), 178, 164, 134, 121, 100(base), 96, 94, 81, 56。
【０５５２】
（参考例５）
（２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−（フラン−２−イル）ブタン
（５ａ） （２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−（フラン−２−イル）ブタン−１−オール １／２D−（−）−酒石酸塩
参考例４で得られた（４Ｒ）−４−メチル−４−［２−（フラン−２−イル）エチル］−１，３−オキサゾリジン−２−オン２９．９ｇ（１５３．２ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１５０ｍｌ）およびメタノール（１５０ｍｌ）の混合液に溶解し、５規定水酸化カリウム水溶液（１５０ｍｌ）を加え、３日間加熱還流した。冷却後、反応液に水を加え、塩化メチレンで抽出し、塩化メチレン層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、減圧下溶媒を留去し、残渣をエタノール２５０ｍｌに溶解し、D−（−）−酒石酸塩１１．５ｇ（７６．６ｍｍｏｌ）をエタノール（１００ｍｌ）に溶解した溶液を加えて１０分撹拌した後、析出した粗結晶をエタノール（３００ｍｌ）と水（７５ｍｌ）の混合溶媒から再結晶し、無色板状晶として標記化合物２４．４ｇ(収率６５％)を得た。
【０５５３】
得られた（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−（フラン−２−イル）ブタン−１−オール １／２D−（−）−酒石酸塩５１．２ｍｇ（０．１６ｍｍｏｌ）を塩化メチレン（１．６ｍｌ）に懸濁し、ジ−ｔ−ブチルジカルボナート０．１７ｇ（０．７８ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン０．２２ｍｌ（１．５８ｍｍｏｌ）および４−ジメチルアミノピリジン３．０ｍｇ（０．０２５ｍｍｏｌ）を加え、室温で２０分間撹拌した。水を加え、減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝１／１)により精製して、（４Ｒ）−４−メチル−４−［２−（フラン−２−イル）エチル］−１，３−オキサゾリジン−２−オン１８．０ｍｇ(収率５８％)を得た。
【０５５４】
得られた（４Ｒ）−４−メチル−４−［２−（フラン−２−イル）エチル］−１，３−オキサゾリジン−２−オンは、参考例４に準じて、分析用光学活性ＨＰＬＣカラム[ChiralPak AD（０．４６ｃｍ×２５ｃｍ）、ダイセル社製、溶出溶媒:ｎ−ヘキサン／２−プロパノール＝８５／１５、流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ]により光学純度を決定した。
【０５５５】
先に溶出されるもの（１３．０９分）が４Ｓ体であり、後から溶出されるもの（１５．４３分）が４Ｒ体であり、光学純度は９９．３％ｅｅであることを確認した。
【０５５６】
これにより、先に得られた（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−（フラン−２−イル）ブタン−１−オール １／２Ｄ−（−）−酒石酸塩の光学純度は９９．３％以上であることを確認した。
融点 : 225℃。
旋光度，[α]_D = -13.43 (c = 1.00, MeOH)。
¹H NMRスペクトル（CD₃OD，400MHz），δ : 7.36 (d, 1H, J = 2.0 Hz), 6.30 (dd, 1H, J = 2.8 Hz, 2.0 Hz), 6.09 (d, 1H, J = 2.8 Hz), 3.58 (ｄ, 1H, J = 11.6 Hz), 3.51 (d, 1H, J = 11.6 Hz), 2.77-2.68 (m, 2H), 2.07-1.88 (m, 2H), 1.28 (s, 3H)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (KBr) : 3405, 3226, 3135, 2943, 2597, 1598, 1528, 1401, 1299, 1228, 1124, 1079, 1003, 740。
マススペクトル（FAB⁺），m/z：170((M+H)⁺;free体)。
元素分析値（C₉H₁₅NO₂・1/2C₄H₆O₆として％），
計算値：C ： 54.09，H ： 7.43 ， N ： 5.73。
実測値：C ： 53.93，H ： 7.30 ， N ： 5.79。
【０５５７】
（５ｂ） （２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−（フラン−２−イル）ブタン
参考例（５ａ）で得られた（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−（フラン−２−イル）ブタン−１−オール １／２Ｄ−（−）−酒石酸塩２４．２１ｇ（９９．１ｍｍｏｌ）を塩化メチレン（４００ｍｌ）および水（１００ｍｌ）の混合液に懸濁し、水酸化ナトリウム水溶液（９７％水酸化ナトリウム２２．３４ｇを水１００ｍｌに溶解）を加え、室温で２０分間撹拌した。反応液を塩化メチレンで抽出し、塩化メチレン層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、減圧下溶媒を留去し、残渣を塩化メチレン（５００ｍｌ）に溶解し、トリエチルアミン１３８ｍｌ（９９３ｍｍｏｌ）、無水酢酸４６．５ｍｌ（４９３ｍｍｏｌ）および４−ジメチルアミノピリジン１．２１ｇ（９．９ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間撹拌した後、メタノールを加えて反応を止め、減圧下溶媒を留去した。残渣に酢酸エチルおよび水を加えて、酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝２／１)により精製して、標記化合物２５．１１ｇ(収率１００％)を得た。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃, 400MHz）,δ : 7.30(d, 1H, J = 1.8 Hz), 6.28 (dd, 1H, J = 3.0 Hz, 1.8 Hz), 6.01 (d, 1H, J = 3.0 Hz), 5.36 (br s, 1H), 4.30 (d, 1H, J = 11.1 Hz), 4.17 (d, 1H, J = 11.1 Hz), 2.66 (t, 2H, J = 8.3 Hz), 2.30-2.22 (m, 1H), 2.09 (s, 3H), 2.02-1.94 (m, 1H), 1.92 (s, 3H), 1.35 (s, 3H)。
マススペクトル（EI⁺）, m/z： 253(M⁺), 211, 194, 180, 138, 134(base), 121, 99, 94, 81, 74, 57, 43。
【０５５８】
（参考例６）
（２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−（５−ブロモフラン−２−イル）ブタン
参考例（５ｂ）で得られた（２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−（フラン−２−イル）ブタン５．８５ｇ（２３．１ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１００ｍｌ）に溶解し、Ｎ−ブロモコハク酸イミド４．３２ｇ（２４．３ｍｍｏｌ）を氷冷下少量ずつ加え、同温度下３０分間撹拌した。反応液に１０％チオ硫酸ナトリウム水溶液および飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、エーテルで抽出し、エーテル層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝２／１)により精製して、粗生成物を得、分取用逆層ＨＰＬＣカラム[ＴＳＫ−ＧＥＬ ＯＤＳ−８０Ｔｓ（５．０ｃｍ×３０ｃｍ）、東ソー社製、溶出溶媒：アセトニトリル／水＝５０／５０、流速：４０ｍｌ／ｍｉｎ]で精製して、標記化合物２．９５ｇ(収率３８％)を得た。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃，400MHz），δ : 6.18 (d, 1H, J = 3.3 Hz), 5.99 (d, 1H, J = 3.3 Hz), 5.37 (br s, 1H), 4.29 (d, 1H, J = 11.3 Hz), 4.16 (d, 1H, J = 11.3 Hz), 2.70-2.57 (m, 2H), 2.30-2.22 (m, 1H), 2.10 (s, 3H), 2.01-1.93 (m, 1H), 1.94 (s, 3H), 1.34 (s, 3H)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (Liquid film) : 3300, 3074, 2978, 2938, 1742, 1658, 1549, 1510, 1450, 1373, 1241, 1128, 1012, 945, 922, 784, 733, 605。
マススペクトル（FAB⁺），m/z：332((M+H)⁺)。
【０５５９】
（参考例７）
（２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−（５−ヨードフラン−２−イル）ブタン
参考例（５ｂ）で得られた（２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−（フラン−２−イル）ブタン５．１１ｇ（１９．８ｍｍｏｌ）をクロロホルム（１００ｍｌ）に溶解し、ピリジン８．０ｍｌ（９９．１ｍｍｏｌ）およびヨウ素１０．０７ｇ（３９．７ｍｍｏｌ）を加え、６０℃で３時間撹拌した。冷却後、反応液に１０％チオ硫酸ナトリウム水溶液を加えて反応を止め、塩化メチレンで抽出し、塩化メチレン層を水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝３／２)により精製して、粗生成物５．５７ｇを得、分取用逆層ＨＰＬＣカラム[ＴＳＫ−ＧＥＬ ＯＤＳ−８０Ｔｓ（５．０ｃｍ×３０ｃｍ）、東ソー社製、溶出溶媒：アセトニトリル／水＝５０／５０、流速：４０ｍｌ／ｍｉｎ]で精製して、標記化合物２．９４６７ｇ(収率３９％)を得た。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃，400MHz），δ : 6.42 (d, 1H, J = 3.1 Hz), 5.95 (d, 1H, J = 3.1 Hz), 5.37 (br s, 1H), 4.29 (d, 1H, J = 11.1 Hz), 4.16 (d, 1H, J = 11.1 Hz), 2.72-2.63 (m, 2H), 2.29-2.21 (m, 1H), 2.10 (s, 3H), 2.05-1.93 (m, 1H), 1.94 (s, 3H), 1.34 (s, 3H)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (CHCl₃) : 3444, 2941, 1736, 1681, 1598, 1512, 1374, 1252, 1103, 1043, 1011, 947, 912。
マススペクトル（FAB⁺），ｍ/z：380((M+H)⁺)。
【０５６０】
（参考例８）
ヨウ化 （１−メチルピロール−２−イル）メチルトリフェニルホスホニウム塩１−メチルピロール２１．４２ｇ（２６４．１ｍｍｏｌ）に、３５％ホルムアルデヒド水溶液２０．８ｍｌ（２６４．３ｍｍｏｌ）とジメチルアミン塩酸塩２２．７０ｇ（２７８．４ｍｍｏｌ）の混合物を、氷冷撹拌下、1時間30分間かけて加え、室温で6時間撹拌した。反応液に１０％水酸化ナトリウム水溶液（１５０ｍｌ）を加え、エーテルで抽出し、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒：塩化メチレン／メタノール＝１０／１)により精製して、２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチル）−１−メチルピロール３１．４７ｇ(収率８６％)を得た。２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチル）−１−メチルピロール３０．００ｇ（２１７．５ｍｍｏｌ）をエタノール（２２０ｍｌ）に溶解し、氷冷下、ヨウ化メチル１６．２ｍｌ（２６０．２ｍｍｏｌ）を加え、室温で2時間撹拌した。反応液に酢酸エチル（２２０ｍｌ）を加え、析出した結晶をろ取し、酢酸エチルで洗浄後、乾燥して、ヨウ化 （１−メチルピロール−２−イル）メチルトリメチルアンモニウム塩５５．３４ｇ(収率９１％)を得た。
【０５６１】
ヨウ化 （１−メチルピロール−２−イル）メチルトリメチルアンモニウム塩５５．３４ｇ（１９７．５ｍｍｏｌ）をアセトニトリル（４００ｍｌ）に懸濁し、トリフェニルホスフィン６２．２０ｇ（２３７．１ｍｍｏｌ）を加え、８０℃で１０時間攪拌した。冷却後、減圧下、約１／２に濃縮し、酢酸エチル（２００ｍｌ）を加え、析出した結晶をろ取し、酢酸エチルで洗浄し、減圧下乾燥して、標記化合物７７．１４ｇ（収率８１％）を得た。
【０５６２】
（参考例９）
（２Ｒ）−２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−１−ｎ−ヘキサノイルオキシ−２−メチル−４−（１−メチルピロール−２−イル）−３−ブテン
参考例８で得られたヨウ化 （１−メチルピロール−２−イル）メチルトリフェニルホスホニウム塩および参考例（２ｂ）で得られた（２Ｓ）−２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３−ｎ−ヘキサノイルオキシ−２−メチル−１−プロパナールを出発原料として、参考例（２ｃ）に記載の方法に準じて、標記化合物(収率８０％)を得た。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃，400MHz），δ : 6.60 (t, 1H, J = 2.3 Hz), 6.57 (t, 1H, J = 2.3 Hz), 6.38 (d, 1H, J = 16.1 Hz), 6.30-6.26 (m, 計2H), 6.27 (d, 1H, J = 12.5 Hz), 6.11 (t, 1H, J = 3.2Hz), 6.08 (t, 1H, J = 3.2Hz), 5.99 (d, 1H, J =16.1 Hz), 5.58 (d, 1H, J = 12.5 Hz) 5.04 (br s, 1H), 4.81 (br s, 1H), 4.34-4.16 (m, 計4H), 3.60 (s, 3H), 3.54 (s, 3H), 2.36-2.30 (m, 計4H), 1.67-1.22 (m, 計4H), 0.92-0.87 (s, 計6H)。
マススペクトル（EI⁺），m/z：280(M⁺), 249, 224, 193(base), 164, 149, 132, 108, 94, 57。
【０５６３】
（参考例１０）
（４Ｒ）−４−メチル−４−［２−（１−メチルピロール−２−イル）エテニル］−１，３−オキサゾリジン−２−オン
参考例９で得られた（２Ｒ）−２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−１−ｎ−ヘキサノイルオキシ−２−メチル−４−（１−メチルピロール−２−イル）−３−ブテンを出発原料として、参考例３に記載の方法に準じて、標記化合物(収率７６％)を得た。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃，400MHz），δ : 6.67 (t, 1H, J = 2.1 Hz), 6.62 (t, 1H, J = 1.5 Hz), 6.48 (d, 1H, J = 15.7 Hz), 6.36 (dd, 1H, J =3.7 Hz, 1.5Hz), 6.31 (d, 1H, J = 12.2 Hz), 6.14-6.10 (m, 計2H), 6.07 (br d, 1H, J = 3.6Hz), 5.99 (d, 1H, J =15.7 Hz), 5.65 (d, 1H, J = 12.2 Hz) 5.46 (br s, 1H), 5.11 (br s, 1H), 4.31 (d, 1H, J = 8.2 Hz), 4.22 (d, 1H, J = 8.2 Hz), 4.17 (d, 1H, J = 8.2 Hz), 4.16 (d, 1H, J = 8.2 Hz), 3.62 (s, 3H), 3.55 (s, 3H), 1.59 (s, 3H), 1.57 (s, 3H)。
マススペクトル（EI⁺），m/z：206(M⁺, base), 191, 176, 161, 147, 132, 120,
106, 94, 81, 77。
【０５６４】
（参考例１１）
（４Ｒ）−４−メチル−４−［２−（１−メチルピロール−２−イル）エチル］−１，３−オキサゾリジン−２−オン
参考例１０で得られた（４Ｒ）−４−メチル−４−［２−（１−メチルピロール−２−イル）エテニル］−１，３−オキサゾリジン−２−オンを出発原料として、参考例４に記載の方法に準じて、標記化合物(収率７８％)を得た。
【０５６５】
得られた（４Ｒ）−４−メチル−４−［２−（1−メチルピロール−２−イル）エチル］−１，３−オキサゾリジン−２−オンは、分析用光学活性ＨＰＬＣカラム[ChiralCel OJ（０．４６ｃｍ×２５ｃｍ）、ダイセル社製、溶出溶媒:ｎ−ヘキサン／２−プロパノール＝７０／３０、流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ]により光学純度を決定した。
【０５６６】
先に溶出されるもの（１２．２９分）が４Ｓ体であり、後から溶出されるもの（１５．３９分）が４Ｒ体であり、光学純度は７５％ｅｅであることを確認した。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃，400MHz），δ : 6.58 (t, 1H, J = 2.4 Hz), 6.05 (dd, 1H, J = 3.2 Hz, 2.4 Hz), 5.88 (br d, 1H, J = 3.2 Hz), 5.15 (br s, 1H), 4.14 (d, 1H, J = 8.3 Hz), 4.07 (d, 1H, J = 8.3 Hz), 2.70-2.58 (m, 2H), 2.00-1.87 (m, 2H), 1.42 (s, 3H)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (KBr) : 3289, 3103, 2977, 2938, 1759, 1713, 1495, 1397, 1381, 1309, 1281, 1231, 1032, 945, 928, 776, 718, 706, 656。
マススペクトル（EI⁺），m/z：208(M⁺), 108(base), 94, 81, 56, 42。
【０５６７】
（参考例１２）
（２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−（１−メチルピロール−２−イル）ブタン
参考例１１で得られた（４Ｒ）−４−メチル−４−［２−（１−メチルピロール−２−イル）エチル］−１，３−オキサゾリジン−２−オン１．５３ｇ（７．３６ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（３０ｍｌ）およびメタノール（１５ｍｌ）の混合液に溶解し、５規定水酸化カリウム水溶液１５ｍｌ（７５ｍｍｏｌ）を加え、５日間加熱還流した。冷却後、反応液に水を加えて、塩化メチレンで抽出し、塩化メチレン層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、減圧下溶媒を留去し、残渣を塩基性シリカゲル（ＮＨタイプ）クロマトグラフィー(溶出溶媒：塩化メチレン／メタノール＝１００／１)により精製して、生成物１．３２ｇ（収率９８％）を得た。生成物１．３２ｇ（７．２４ｍｍｏｌ）を塩化メチレン（３６ｍｌ）に溶解し、トリエチルアミン１０．０ｍｌ（７１．９ｍｍｏｌ）、無水酢酸３．４ｍｌ（３６．１ｍｍｏｌ）および４−ジメチルアミノピリジン８８ｍｇ（０．７２ｍｍｏｌ）を加え、室温で４０分間撹拌した。メタノール１．４６ｍｌ（３６．０ｍｍｏｌ）を加えて反応を止め、減圧下濃縮した。残渣に酢酸エチルおよび水を加え、酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、減圧下濃縮乾固し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝３／２〜１／０)により精製して、標記化合物１．８９ｇ(収率９８％)を得た。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃，400MHz），δ : 6.54(t, 1H, J = 2.4 Hz), 6.04 (t, 1H, J = 2.4 Hz), 5.88 (d, 1H, J = 2.4 Hz), 5.39 (br s, 1H), 4.33 (d, 1H, J = 11.2 Hz), 4.20 (d, 1H, J = 11.2 Hz), 2.60-2.51 (m, 2H), 2.26-2.19 (m, 1H), 2.09 (s, 3H), 1.97-1.89 (m, 4H), 1.38 (s, 3H)。
マススペクトル（FAB⁺），m/z： 267((M+H)⁺), 266(M⁺・)。
【０５６８】
（参考例１３）
（２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−（１−メチル−５−ヨードピロール−２−イル）ブタン
参考例１２で得られた（２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−（１−メチルピロール−２−イル）ブタン１．８９ｇ（７．１０ｍｍｏｌ）をクロロホルム（３５ｍｌ）に溶解し、氷冷下、ピリジン２．９ｍｌ（３５．９ｍｍｏｌ）およびヨウ素３．６０ｇ（１４．１７ｍｍｏｌ）を加え、同温度にて１０分間撹拌した。反応液に１０％チオ硫酸ナトリウム水溶液を加えて反応を止め、室温で減圧下約１／２に濃縮し、酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、減圧下濃縮乾固し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝３／２)により精製して、標記化合物１．４０ｇ(収率５０％)を得た。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃，400MHz），δ : 6.28 (d, 1H, J = 3.6 Hz), 5.94 (d, 1H, J = 3.6 Hz), 5.36 (br s, 1H), 4.32 (d, 1H, J = 11.0 Hz), 4.17 (d, 1H, J = 11.0 Hz), 3.49 (s, 3H), 2.67-2.59 (m, 2H), 2.27-2.19 (m, 1H), 2.09 (s, 3H), 1.96-1.87 (m, 4H), 1.36 (s, 3H)。
マススペクトル（FAB⁺），m/z：393((M+H)⁺), 392(M+)。
【０５６９】
（参考例１４）
（２Ｒ）−２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２−エチル−１−ｎ−ヘキサノイルオキシ−４−（フラン−２−イル）−３−ブテン
（１４ａ） （２Ｒ）−２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２−エチル−３−ｎ−ヘキサノイルオキシ−１−プロパノール
２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２−エチルプロパン−１，３−ジオール５２．９ｇ（２４１ｍｍｏｌ）をイソプロピルエーテル（１．０ｌ）に懸濁し、ヘキサン酸ビニルエステル４１ｍｌ（２５４ｍｍｏｌ）及びリパーゼ[Immobilized lipase from Pseudomonas sp.， ＴＯＹＯＢＯ社製、０．６７Ｕ／ｍｇ] ２．１ｇを加え、室温で４時間攪拌した。反応液をろ過後、ろ液を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝７／１〜４／１〜２／１)により精製して、標記化合物６６．８ｇ(収率８７％)を得た。
【０５７０】
得られた（２Ｒ）−２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２−エチル−３−ｎ−ヘキサノイルオキシ−１−プロパノールは、分析用光学活性ＨＰＬＣカラム[ChiralCel OF（０．４６ｃｍ×２５ｃｍ）、ダイセル社製、溶出溶媒：ヘキサン／２−プロパノール＝８０／２０、流速：０．５ｍｌ／ｍｉｎ]で光学純度を決定した。
【０５７１】
先に溶出されるもの（７．３５分）が２Ｓ体であり、後から溶出されるもの（７．８６分）が２Ｒ体であり、光学純度は９３％ｅｅであることを確認した。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃, 400MHz）, δ ： 4.76 (br s, 1H), 4.24 (d, 1H, J = 11.0 Hz), 4.10 (d, 1H, J = 11.0 Hz), 3.65-3.62 (m, 2H), 2.35 (t, 2H, J = 7.7 Hz), 1.78-1.69 (m, 1H), 1.63-1.53 (m, 4H), 1.44 (s, 9H), 1.30-1.25 (m, 4H), 0.87-0.83 (m, 6H)。
マススペクトル(FAB⁺), m/z : 340((M+Na)⁺), 318((M+H)⁺)。
（１４ｂ） （２Ｓ）−２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２−エチル−３−ｎ−ヘキサノイルオキシ−１−プロパナール
参考例（１４ａ）で得られた（２Ｒ）−２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３−ｎ−ヘキサノイルオキシ−２−エチル−１−プロパノール６６．７ｇ（２１０ｍｍｏｌ）を塩化メチレン（７００ｍｌ）に溶解し、モレキュラーシーブ４Å（１１７ｇ）および重クロム酸ピリジニウム１１７ｇ（３１１ｍｍｏｌ）を氷冷下加え、室温で２時間攪拌した。反応液にエーテルを加え、ろ過し、ろ液を減圧下留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝１０／１〜５／１)により精製して、標記化合物４５．９ｇ(収率６９％)を得た。
¹H NMRスペクトル(CDCl₃, 400MHz), δ ： 9.34, (s, 1H), 5.30 (br s, 1H), 4.60 (d, 1H, J = 11.4 Hz)， 4.40 (d, 1H, J = 11.4 Hz), 2.28 (t, 2H, J = 7.3 Hz), 2.18-2.06 (m, 1H), 1.79-1.69 (m, 1H), 1.62-1.55 (m, 2H), 1.44 (s, 9H), 1.34-1.22 (m, 4H), 0.90 (t, 3H, J = 7.3 Hz), 0.81 (t, 3H, J = 7.3 Hz)。
マススペクトル(FAB⁺), m/z ： 338((M+Na)⁺), 316((M+H)⁺)。
（１４ｃ） （２Ｒ）−２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２−エチル−１−ｎ−ヘキサノイルオキシ−４−（フラン−２−イル）−３−ブテン
参考例１で得られた臭化 （フラン−２−イル）メチルトリフェニルホスホニウム塩４．０４ｇ（９．５４ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（３２．４ｍｌ）に懸濁し、氷冷撹拌下ｔ−ブトキシカリウム１．０６ｇ（９．４５ｍｍｏｌ）を加え、さらに氷冷下１５分間攪拌した。ついで、参考例（１４ｂ）で得られた（２Ｓ）−２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２−エチル−３−ｎ−ヘキサノイルオキシ−１−プロパナール２．０１ｇ（６．３７ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１０ｍｌ）に溶解した溶液を５分間かけて加え、氷冷下３０分間攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて反応を止め、液温を室温に戻し減圧下濃縮し、水および酢酸エチルを加えて酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝５／１)により精製して、標記化合物２．３８５ｇ(収率９９％)を得た。
¹H NMRスペクトル(CDCl₃, 400MHz), δ : 7.44 (br d, 1H, J = 1.5 Hz), 7.33 (br d, 1H, J = 1.5 Hz), 6.41 (dd, 1H, J = 2.9 Hz, 1.5 Hz), 6.38 (d, 1H, J = 2.9 Hz), 6.36 (dd, 1H, J = 2.9 Hz, 1.5 Hz), 6.29 (d, 1H, J = 16.8 Hz), 6.28 (d, 1H, J = 12.5 Hz), 6.22 (d, 1H, J = 2.9 Hz), 6.09 (d, 1H, J = 16.8 Hz), 5.47 (d, 1H, J = 12.5 Hz), 5.21 (br s, 1H), 4.66 (br s, 1H), 4.50 (d, 1H, J = 11.7 Hz), 4.41 (d, 1H, J = 11.7 Hz), 4.33 (br s, 2H), 2.31 (q, 計4H, J = 7.7 Hz), 2.08-1.88 (m, 計4H), 1.47-1.42 (m, 計10H), 1.32-1.26 (m, 計18H), 0.93-0.86 (m, 計12H)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (CHCl₃) : 3446, 2970, 2933, 2873, 1722, 1494, 1459, 1391, 1380, 1368, 1249, 1163。
マススペクトル(FAB⁺), m/z : 402((M+Na)⁺), 379(M⁺)。
【０５７２】
（参考例１５）
（４Ｒ）−４−エチルー４−［２−（フラン−２−イル）エテニル］−１，３−オキサゾリジン−２−オン
参考例１４で得られた（２Ｒ）−２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２−エチル−１−ｎ−ヘキサノイルオキシ−４−（フラン−２−イル）−３−ブテン２．３３ｇ（６．１４ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（７ｍｌ）およびメタノール（７ｍｌ）の混合液に溶解し、１．８規定水酸化ナトリウム水溶液７ｍｌを加え、室温で３時間攪拌した。反応液に水および酢酸エチルを加えて、酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、減圧下溶媒を留去して、粗生成物１．６８ｇ(収率９７％)を得た。粗生成物をテトラヒドロフラン（３０ｍｌ）に溶解し、ｔ−ブトキシカリウム１．２１ｇ（１０．８ｍｍｏｌ）を加え、同温度下で３時間攪拌した。反応液に水および酢酸エチルを加え、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝３／１〜１／１)により精製して、標記化合物１．２４ｇ(収率定量的)を得た。
¹H NMRスペクトル(CDCl₃, 400MHz), δ : 7.43 (d, 1H, J = 1.5 Hz), 7.32 (d, 1H, J = 1.5 Hz), 6.45 (dd, 1H, J = 3.7 Hz, 1.5 Hz), 6.44 (d, 1H, J = 16.1 Hz), 6.39 (dd, 1H, J = 3.7 Hz, 1.5 Hz), 6.37 (d, 1H, J = 3.7 Hz), 6.29 (d, 1H, J = 3.7 Hz), 6.25 (d, 1H, J = 12.5 Hz), 6.13 (d, 1H, J = 16.1 Hz), 5.62 (br s, 計2H), 5.53 (d, 1H, J = 12.5 Hz), 4.44 (d, 1H, J = 8.8 Hz), 4.36 (d, 1H, J = 8.8 Hz), 4.24 (d, 1H, J = 8.8 Hz), 4.22 (d, 1H, J = 8.8 Hz), 1.93 (q, 2H, J = 7.3 Hz), 1.85-1.76 (m, 2H), 0.99 (t, 3H, J = 7.3 Hz), 0.98 (t, 1H, J = 7.3 Hz)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (CDCl₃) : 3453, 2975, 1757, 1396, 1373, 1053, 1015。
マススペクトル(EI⁺), m/z ： 207(M⁺), 178(base), 135, 107。
【０５７３】
（参考例１６）
（４Ｒ）−４−エチルー４−［２−（フラン−２−イル）エチル］−１，３−オキサゾリジン−２−オン
参考例１５で得られた（４Ｒ）−４−エチルー４−［２−（フラン−２−イル）エテニル］−１，３−オキサゾリジン−２−オン１．２４ｇ（５．９９ｍｍｏｌ）のメタノール溶液（４０ｍｌ）に、１０％パラジウム−炭素（５０％含水）１２４ｍｇを加え、水素雰囲気下室温で２時間撹拌した。窒素置換後、反応液中のパラジウム−炭素をセライトろ過し、セライトを酢酸エチルで洗浄した。ろ液、洗液を合わせて減圧下濃縮乾固し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝１／１〜１／２)により精製して、標記化合物１４４．４ｍｇ(収率１２％)を得た。
¹H NMRスペクトル(CDCl₃, 400MHz), δ : 7.32 (br d, 1H, J = 2.2 Hz), 6.29 (t, 1H, J = 2.2 Hz), 6.03 (br d, 1H, J = 2.2 Hz), 5.40 (m, 1H), 4.11 (d, 1H, J = 8.8 Hz), 4.07 (d, 1H, J = 8.8 Hz), 2.74-2.67 (m, 2H), 1.97-1.93 (m, 2H), 1.72-1.64 (m, 2H), 0.96 (t, 3H, J = 7.3 Hz)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (CDCl₃) : 3453, 2973, 229, 1757, 1601, 1397, 1380, 1052。
マススペクトル(EI⁺), m/z : 209(M⁺), 178, 114, 81(base)。
【０５７４】
（参考例１７）
（２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−エチル−４−（フラン−２−イル）ブタン
参考例１６で得られた（４Ｒ）−４−エチルー４−［２−（フラン−２−イル）エチル］−１，３−オキサゾリジン−２−オンをテトラヒドロフラン（２ｍｌ）、メタノール（２ｍｌ）および水（２ｍｌ）の混合液に溶解し、水酸化カリウム（３１０ｍｇ）を加え、３日間加熱還流した。冷却後、反応液に水を加え、塩化メチレンで抽出し、塩化メチレン層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒：塩化メチレン／メタノール＝１／０〜５０／１)により精製して、（２Ｒ）−２−アミノ−２−エチル−４−（フラン−２−イル）ブタン−１−オールを１０４．９ｍｇ(収率８３％)を得た。
【０５７５】
得られた（２Ｒ）−２−アミノ−２−エチル−４−（フラン−２−イル）ブタン−１−オールを塩化メチレン（２．０ｍｌ）に溶解し、トリエチルアミン０．６４ｍｌ（４．５９ｍｍｏｌ）、無水酢酸０．３２ｍｌ（３．３９ｍｍｏｌ）および４−ジメチルアミノピリジン２８ｍｇ（０．２３ｍｍｏｌ）を加え、室温で２．５時間撹拌した後、メタノールを加えて反応を止め、減圧下溶媒を留去した。残渣に酢酸エチルおよび水を加えて、酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝１／４)により精製して、標記化合物１４６．５ｍｇ（収率９６％）を得た。
¹H NMRスペクトル(CDCl₃, 400MHz), δ : 7.29 (d, 1H, J = 2.2 Hz), 6.28 (dd, 1H, J = 2.9 Hz, 2.2 Hz), 6.00 (d, 1H, J = 2.9 Hz), 5.24 (br s, 1H), 4.30 (d, 1H, J = 11.7 Hz), 4.28 (d, 1H, J = 11.7 Hz), 2.62 (t, 2H, J = 8.1 Hz), 2.21-2.13 (m, 1H), 2.08 (s, 3H), 2.08-1.99 (m, 1H), 1.94 (s, 3H), 1.86-1.72 (m, 2H), 0.87 (t, 3H, J = 7.3 Hz)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (CDCl₃) : 3442, 2975, 1739, 1680, 1600, 1510, 1462, 1383, 1368, 1248, 1043。
マススペクトル(FAB⁺), m/z : 290((M+Na)⁺), 268((M+H)⁺)。
【０５７６】
（参考例１８）
（２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−エチル−４−（５−ヨードフラン−２−イル）ブタン
参考例１７で得られた（２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−エチル−４−（フラン−２−イル）ブタンをクロロホルム（５．４ｍｌ）に溶解し、ピリジン０．２２ｍｌ（２．７３ｍｍｏｌ）およびヨウ素２７８ｍｇ（１．１０ｍｍｏｌ）を加え、６０℃で８時間撹拌した。冷却後、反応液に１０％チオ硫酸ナトリウム水溶液を加えて反応を止め、酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝１／４〜１／６)により精製して、粗生成物１５１ｍｇを得、分取用逆層ＨＰＬＣカラム[ＴＳＫ−ＧＥＬ ＯＤＳ−８０Ｔｓ（２．０ｃｍ×２５ｃｍ）、東ソー社製、溶出溶媒：アセトニトリル／水＝６０／４０]で精製して、標記化合物７４．０ｍｇ(収率３５％)を得た。
¹H NMRスペクトル(CDCl₃, 400MHz), δ : 6.42 (d, 1H, J = 3.7 Hz), 5.95 (d, 1H, J = 3.7 Hz), 5.23 (m, 1H), 4.27 (s, 2H), 2.64 (t, 2H, J = 8.4 Hz), 2.18-2.12 (m, 1H), 2.09 (s, 3H), 2.05-1.97 (m, 1H), 1.95 (s, 3H), 1.81-1.76 (m, 2H), 0.87 (t, 3H, J = 7.3 Hz)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (CDCl₃) : 3442, 2976, 1740, 1681, 1598, 1511, 1462, 1383, 1368, 1246, 1105, 1043。
マススペクトル(FAB⁺), m/z : 416((M+Na)⁺), 394((M+H)⁺)。
【０５７７】
（参考例１９）
（２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−（１−メチルピロール−２−イル）ブタン
（１９ａ） （２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−（１−メチルピロール−２−イル）ブタン−１−オール １／２D−（−）−酒石酸塩
参考例１１で得られた（４Ｒ）−４−メチル−４−［２−（１−メチルピロール−２−イル）エチル］−１，３−オキサゾリジン−２−オン１７．９２ｇ（８６．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２５０ｍｌ）およびメタノール（１２５ｍｌ）の混合液に溶解し、５規定水酸化カリウム水溶液（１２５ｍｌ）を加え、４日間加熱還流した。冷却後、反応液に水を加え、塩化メチレンで抽出し、塩化メチレン層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、減圧下溶媒を留去し、残渣をエタノール（２６０ｍｌ）に溶解し、D−（−）−酒石酸塩６．４５ｇ（４３．０ｍｍｏｌ）を加えて２時間撹拌した後、析出した結晶をろ取して粗結晶２０．６７ｇを得た。粗結晶１８．６５ｇをエタノール（３７０ｍｌ）と水（３７ｍｌ）の混合溶媒から再結晶し、得られた結晶を再度エタノール（３００ｍｌ）と水（３０ｍｌ）の混合溶媒から再結晶し、さらに得られた結晶を再度エタノール（２４０ｍｌ）と水（２４ｍｌ）の混合溶媒から再結晶して、無色鱗片状晶として標記化合物１０．５０ｇ(収率５３％)を得た。
【０５７８】
得られた（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−（１−メチルピロール−２−イル）ブタン−１−オール １／２D−（−）−酒石酸塩４１．４ｍｇ（０．１６ｍｍｏｌ）を塩化メチレン（１．６ｍｌ）に懸濁し、ジ−ｔ−ブチルジカルボナート０．１７５８ｇ（０．８１ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン０．２２５ｍｌ（１．６２ｍｍｏｌ）および４−ジメチルアミノピリジン２．０ｍｇ（０．０１６ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０分間撹拌した。水を加え、減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝３／２〜２／１)により精製して、（４Ｒ）−４−メチル−４−［２−（１−メチルピロール−２−イル）エチル］−１，３−オキサゾリジン−２−オン１７．７ｍｇ(収率５３％)を得た。
【０５７９】
得られた（４Ｒ）−４−メチル−４−［２−（１−メチルピロール−２−イル）エチル］−１，３−オキサゾリジン−２−オンは、参考例１１に準じて、分析用光学活性ＨＰＬＣカラム[ChiralCel OJ（０．４６ｃｍ×２５ｃｍ）、ダイセル社製、溶出溶媒:ｎ−ヘキサン／２−プロパノール＝７０／３０、流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ]により光学純度を決定した。
【０５８０】
先に溶出されるもの（１２．４９分）が４Ｓ体であり、後から溶出されるもの（１５．４８分）が４Ｒ体であり、光学純度は９９．７％ｅｅであることを確認した。
【０５８１】
これにより、先に得られた（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−（１−メチルピロール−２−イル）ブタン−１−オール １／２Ｄ−（−）−酒石酸塩の光学純度は９９．７％以上であることを確認した。
融点 : 198-199℃。
旋光度，[α]_D = + (c = 1.00, H₂O)。
¹H NMRスペクトル（CD₃OD，400MHz），δ : 6.54 (t, 1H, J = 2.3 Hz), 5.91 (dd, 1H, J = 3.7 Hz, 2.3 Hz), 5.82 (br d, 1H, J = 3.7 Hz), 4.32 (s, 1H), 3.61 (d, 1H, J = 11.3 Hz), 3.55 (s, 3H), 3.54 (d, 1H, J = 11.3 Hz), 2.69-2.57 (m, 2H), 1.97 (ddd, 1H, J = 13.8 Hz, 9.4 Hz, 7.6 Hz), 1.88 (ddd, 1H, J = 13.8 Hz, 11.0 Hz, 6.3 Hz), 1.28 (s, 3H)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (KBr) : 3480, 3430, 2926, 2634, 2545, 1586, 1516, 1389, 1359, 1309, 1291, 1105, 1039, 710, 690。
マススペクトル（FAB⁺），m/z：183((M+H)⁺; free体)。
元素分析値（C₁₀H₁₈N₂O・1/2C₄H₆O₆として％），
計算値：C ： 56.01，H ： 8.23 ， N ： 10.89。
実測値：C ： 55.81，H ： 8.22 ， N ： 10.89。
（１９ｂ） （２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−（１−メチルピロール−２−イル）ブタン
参考例（１９ａ）で得られた（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−（１−メチルピロール−２−イル）ブタン−１−オール １／２Ｄ−（−）−酒石酸塩３．９８ｇ（１５．５ｍｍｏｌ）を塩化メチレン（５０ｍｌ）および水（１２．５ｍｌ）の混合液に懸濁し、水酸化ナトリウム水溶液（９７％水酸化ナトリウム３．２０ｇを水１２．５ｍｌに溶解）を加え、室温で２０分間撹拌した。反応液を塩化メチレンで抽出し、塩化メチレン層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、減圧下溶媒を留去し、残渣を塩化メチレン（７８ｍｌ）に溶解し、トリエチルアミン２１．５ｍｌ（１５４．７ｍｍｏｌ）、無水酢酸７．３ｍｌ（７７．４ｍｍｏｌ）および４−ジメチルアミノピリジン０．１８９３ｇ（１．５５ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間撹拌した後、メタノールを加えて反応を止め、減圧下溶媒を留去した。残渣に酢酸エチルおよび水を加えて、酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒：酢酸エチル)により精製して、標記化合物４．２３ｇ(収率定量的)を得た。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃，400MHz），δ : 6.54(t, 1H, J = 2.4 Hz), 6.04 (t, 1H, J = 2.4 Hz), 5.88 (d, 1H, J = 2.4 Hz), 5.39 (br s, 1H), 4.33 (d, 1H, J = 11.2 Hz), 4.20 (d, 1H, J = 11.2 Hz), 2.60-2.51 (m, 2H), 2.26-2.19 (m, 1H), 2.09 (s, 3H), 1.97-1.89 (m, 4H), 1.38 (s, 3H)。
マススペクトル（FAB⁺），m/z： 267((M+H)⁺), 266(M+)。
【０５８２】
（参考例２０）
ヨウ化 （１−エチルピロール−２−イル）メチルトリフェニルホスホニウム塩１−エチルピロール１０．０ｇ（１０５ｍｍｏｌ）に、３５％ホルムアルデヒド水溶液９ｍｌ（１０５ｍｍｏｌ）とジメチルアミン塩酸塩９．０ｇ（１１０ｍｍｏｌ）の混合物を、氷冷撹拌下、１時間３０分間かけて加え、室温で６時間撹拌した。反応液に１０％水酸化ナトリウム水溶液（１５０ｍｌ）を加え、エーテルで抽出し、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒：塩化メチレン／メタノール＝９／１)により精製して、２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチル）−１−エチルピロール１５．６ｇ(収率９７％)を得た。
【０５８３】
２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチル）−１−エチルピロール１５．６ｇ（１０２ｍｍｏｌ）をエタノール（１５０ｍｌ）に溶解し、氷冷下、ヨウ化メチル７．７ｍｌ（１２４ｍｍｏｌ）を加え、室温で３時間撹拌した。反応液に酢酸エチル（１５０ｍｌ）を加え、析出した結晶をろ取し、酢酸エチルで洗浄後、乾燥して、ヨウ化 （１−エチルピロール−２−イル）メチルトリメチルアンモニウム塩２０ｇ(収率６６％)を得た。
【０５８４】
ヨウ化 （１−エチルピロール−２−イル）メチルトリメチルアンモニウム塩２０ｇ（６８．０ｍｍｏｌ）をアセトニトリル（２００ｍｌ）に懸濁し、トリフェニルホスフィン２２．０ｇ（８３．９ｍｍｏｌ）を加え、８０℃で９時間攪拌した。冷却後、減圧下、約１／２に濃縮し、酢酸エチル（１００ｍｌ）を加え、析出した結晶をろ取し、酢酸エチルで洗浄し、減圧下乾燥して、標記化合物２７．５ｇ（収率８１％）を得た。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃，400MHz），δ : 7.94-7.89 (m, 3H), 7.78-7.71 (m, 6H), 7.64-7.57 (m, 6H), 6.82-6.79 (m, 1H), 5.96-5.92 (m, 1H), 5.51-5.47 (m, 1H), 5.10 (d, 2H, J = 13.9Hz), 3.35 (q, 2H, J = 7.3 Hz), 0.96 (t, 3H, J = 7.3 Hz)。
【０５８５】
（参考例２１）
（２Ｒ）−２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２−メチル−４−（1−エチルピロール−２−イル）−１−ｎ−ヘキサノイルオキシ−３−ブテン
参考例２０で得られたよう化 （1−エチルピロール−２−イル）メチルトリフェニルホスホニウム塩１９．８ｇ（３９．８ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１００ｍｌ）に懸濁し、氷冷撹拌下、ｔ−ブトキシカリウム４．４７ｇ（３９．８ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（７０ｍｌ）に溶解した溶液を３０分間かけて加え、さらに氷冷下１時間３０分攪拌した。ついで、参考例（２ｂ）で得られた（２Ｓ）−２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３−ｎ−ヘキサノイルオキシ−２−メチル−１−プロパナール１０ｇ（３３．２ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（５０ｍｌ）に溶解した溶液を３０分間かけて加え、氷冷下１時間３０分間攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて反応を止め、液温を室温に戻し、減圧下濃縮し、水および酢酸エチルを加え、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を水および飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝４／１)により精製して、標記化合物１１．７ｇ(収率９０％)を得た。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃，400MHz），δ : 6.67-6.62 (m, 2H), 6.42-6.36 (m, 1H,), 6.31-6.26 (m, 3H), 6.13-6.08 (m, 2H), 6.02-5.96 (m, 1H), 5.63-5.58 (m, 1H), 4.35-4.08 (m, 4H), 3.96-3.86 (m, 4H), 2.85-2.81 (m, 4H), 1.67-1.58 (m, 4H), 1.48-1.24 (m, 38H), 0.93-0.86 (m, 6H)。
【０５８６】
（参考例２２）
（４Ｒ）−４−メチル−４−［２−（１−エチルピロール−２−イル）エテニル］−１，３−オキサゾリジン−２−オン
参考例２１で得られた（２Ｒ）−２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２−メチル−４−（1−エチルピロール−２−イル）−１−ｎ−ヘキサノイルオキシ−３−ブテン１１．７ｇ（２９．８ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（４０ｍｌ）およびメタノール（４０ｍｌ）の混合液に溶解し、２規定水酸化ナトリウム水溶液４０ｍｌを加え、室温で１時間３０分間攪拌した。反応液に酢酸１．５ｍｌを加えて反応を止め、反応液を水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、減圧下溶媒を留去して、粗生成物８．７ｇを得た。粗生成物をテトラヒドロフラン（１００ｍｌ）に溶解し、ｔ−ブトキシカリウム４．０ｇ（３５．６ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（３０ｍｌ）に溶解した溶液を氷冷下１０分間かけて加え、同温度下で１時間攪拌した。反応液に酢酸２ｍｌを加えて中和し、減圧下濃縮して、水および酢酸エチルを加え、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝３／２)により精製して、標記化合物５．７ｇ(収率８６％)を得た。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃，400MHz），δ : 6.73-6.65 (m, 2H), 6.52-6.46 (m, 1H,), 6.36-6.29 (m, 2H), 6.15-6.10 (m, 2H), 6.05-5.97 (m, 2H), 5.69-5.65 (m, 2H), 4.31-4.09 (m, 4H), 3.97-3.83 (m, 4H), 1.60-1.53 (m, 6H), 1.39-1.31 (m, 6H)。
【０５８７】
（参考例２３）
（４Ｒ）−４−メチル−４−［２−（１−エチルピロール−２−イル）エチル］−１，３−オキサゾリジン−２−オン
１０％パラジウム−炭素（５０％含水）５００ｍｇをエタノール（１０ｍｌ）に懸濁し、参考例２２で得られた（４Ｒ）−４−メチル−４−［２−（１−エチルピロール−２−イル）エテニル］−１，３−オキサゾリジン−２−オン５．７ｇ（２５．９ｍｍｏｌ）をエタノール（５０ｍｌ）に溶解した溶液を加え、水素雰囲気下、室温で１時間攪拌した。反応液中のパラジウム−炭素をセライトろ過した後、ろ液を減圧下留去した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝３／７)により精製して、標記化合物５．０ｇ(収率８７％)を得た。
【０５８８】
得られた（４Ｒ）−４−メチル−４−［２−（１−エチルピロール−２−イル）エチル］−１，３−オキサゾリジン−２−オンは、分析用光学活性ＨＰＬＣカラム[ChiralPak OJ（０．４６ｃｍ×２５ｃｍ）、ダイセル社製、溶出溶媒:ｎ−ヘキサン／２−プロパノール＝７０／３０、流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ]により光学純度を決定した。
【０５８９】
先に溶出されるもの（７．５分）が４Ｓ体であり、後から溶出されるもの（８．３分）が４Ｒ体であり、光学純度は８３．７％ｅｅであることを確認した。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃，400MHz），δ : 6.66-6.63 (m, 1H), 6.10-6.07 (m, 1H), 5.89-5.86 (m, 1H), 5.00 (br s, 1H), 4.15 (d, 1H, J = 8.1 Hz), 4.08 (d, 1H, J = 8.1 Hz), 3.84 (q, 2H, J = 7.3 Hz), 2.67-2.61 (m, 2H), 1.99-1.92 (m, 2H), 1.43 (s, 3H), 1.87 (t, 3H, J = 7.3 Hz)。
【０５９０】
（参考例２４）
（２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−（１−エチルピロール−２−イル）ブタン
（２４ａ） （２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−（１−エチルピロール−２−イル）ブタン−１−オール １／２D−（−）−酒石酸塩
参考例２３で得られた（４Ｒ）−４−メチル−４−［２−（１−エチルピロール−２−イル）エチル］−１，３−オキサゾリジン−２−オン４．９ｇ（２２．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（８０ｍｌ）およびメタノール（４０ｍｌ）の混合液に溶解し、５．５規定水酸化カリウム水溶液（４０ｍｌ）を加え、４日間加熱還流した。冷却後、反応液に水を加え、塩化メチレンで抽出し、塩化メチレン層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、減圧下溶媒を留去し、残渣をエタノール２００ｍｌに溶解し、D−（−）−酒石酸塩１．５９ｇ（１０．５ｍｍｏｌ）をエタノール（２０ｍｌ）に溶解した溶液を加えて４時間放置した後、析出した粗結晶をエタノール（１００ｍｌ）と水（１０ｍｌ）の混合溶媒から再結晶した。得られた結晶を再度エタノール（５０ｍｌ）と水（５ｍｌ）の混合溶媒から再結晶し、無色板状晶として標記化合物２．８ｇ(収率３７％)を得た。
【０５９１】
得られた（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−（１−エチルピロール−２−イル）ブタン−１−オール １／２D−（−）−酒石酸塩５５．５ｍｇ（０．１６ｍｍｏｌ）を塩化メチレン（１．６ｍｌ）に懸濁し、ジ−ｔ−ブチルジカルボナート０．１７ｇ（０．７８ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン０．２２ｍｌ（１．５８ｍｍｏｌ）および４−ジメチルアミノピリジン３．０ｍｇ（０．０２５ｍｍｏｌ）を加え、室温で２０分間撹拌した。水を加え、減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝１／１)により精製して、（４Ｒ）−４−メチル−４−［２−（１−エチルピロール−２−イル）エチル］−１，３−オキサゾリジン−２−オン１８．０ｍｇ(収率５８％)を得た。
【０５９２】
得られた（４Ｒ）−４−メチル−４−［２−（１−エチルピロール−２−イル）エチル］−１，３−オキサゾリジン−２−オンは、分析用光学活性ＨＰＬＣカラム[ChiralPak OJ（０．４６ｃｍ×２５ｃｍ）、ダイセル社製、溶出溶媒:ｎ−ヘキサン／２−プロパノール＝７０／３０、流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ]により光学純度を決定し、９９．９％ｅｅであることを確認した。
【０５９３】
これにより、先に得られた（２Ｒ）−２−メチル−２−アミノ−４−（１−エチルピロール−２−イル）ブタン−１−オール １／２Ｄ−（−）−酒石酸塩の光学純度は９９．９％以上であることを確認した。
¹H NMRスペクトル（DMSO-d₆，400MHz），δ : 6.58-6.54 (m, 1H), 5.93-5.89 (m, 1H), 5.79-5.76 (m, 1H), 4.27 (s, 1H), 3.85 (q, 2H, J = 7.3 Hz), 3.68 (d, 1H, J = 11.7 Hz), 3.51 (d, 1H, J = 11.7 Hz), 2.62-2.56 (m, 2H), 1.99-1.82 (m, 2H), 1.29 (t, 3H, J = 7.3 Hz), 1.27 (s, 3H)。
【０５９４】
（２４ｂ） （２Ｒ）−１−アセトキシ−２−アセチルアミノ−２−メチル−４−（１−エチルピロール−２−イル）ブタン
参考例（２４ａ）で得られた（２Ｒ）−２−アミノ−２−メチル−４−（１−エチルピロール−２−イル）ブタン−１−オール １／２D−（−）−酒石酸塩２．７ｇ（７．８０ｍｍｏｌ）を塩化メチレン（３０ｍｌ）に溶解し、トリエチルアミン１７．０ｍｌ（１２２ｍｍｏｌ）、無水酢酸７．６ｍｌ（８０．４ｍｍｏｌ）および４−ジメチルアミノピリジン２０ｍｇ（０．１６ｍｍｏｌ）を加え、室温で３時間３０分間撹拌した。反応液に水を加え、塩化メチレンで抽出し、塩化メチレン層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、減圧下濃縮乾固し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒：酢酸エチル)により精製して、標記化合物２．２ｇ(収率９６％)を得た。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃，400MHz），δ : 6.62-6.59 (m, 1H), 6.09-6.06 (m, 1H), 5.89-5.87 (m, 1H), 5.41 (br s, 1H), 4.34 (d, 1H, J = 11.0 Hz), 4.21 (d, 1H, J = 11.0 Hz), 3.85 (q, 2H, J = 7.3 Hz), 2.60-2.51 (m, 2H), 2.26-2.18 (m, 1H), 2.08 (s, 3H), 1.98-1.93 (m, 1H), 1.92(s, 3H), 1.38 (s, 3H),1.37 (t, 3H, J = 7.3 Hz)。
【０５９５】
（参考例２５）
ヨウ化 （１−ｔ−ブトキシカルボニルピロール−２−イル）メチルトリフェニルホスホニウム塩
ピロール２．７２ｇ（４０．４７ｍｍｏｌ）に、３５％ホルムアルデヒド水溶液３．２ｍｌ（４０．７ｍｍｏｌ）とジメチルアミン塩酸塩３．４４ｇ（４２．２ｍｍｏｌ）の混合物を、室温撹拌下、２０分間かけて加え、室温で２時間撹拌した。反応液に１０％水酸化ナトリウム水溶液（１８ｍｌ）を加え、塩化メチレンで抽出し、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒：塩化メチレン／メタノール＝１０／１)により精製して、２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチル）ピロール４．５５ｇ(収率定量的)を得た。
【０５９６】
２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチル）ピロール４．５４ｇ（４０．４１ｍｍｏｌ）をエタノール（４０ｍｌ）に溶解し、氷冷下、ヨウ化メチル３．０５ｍｌ（４９．０ｍｍｏｌ）を加え、室温で７時間撹拌した。反応液に酢酸エチルを加え、析出した結晶をろ取し、酢酸エチルで洗浄後、乾燥して、ヨウ化 （ピロール−２−イル）メチルトリメチルアンモニウム塩７．５９ｇ(収率７１％)を得た。
【０５９７】
ヨウ化 （ピロール−２−イル）メチルトリメチルアンモニウム塩７．５９ｇ（２８．５２ｍｍｏｌ）をアセトニトリル（６０ｍｌ）に懸濁し、トリフェニルホスフィン８．９８ｇ（３４．２ｍｍｏｌ）を加え、８０℃で６時間攪拌した。冷却後、減圧下、約１／２に濃縮し、酢酸エチル（１００ｍｌ）を加え、析出した結晶をろ取し、酢酸エチルで洗浄し、減圧下乾燥して、ヨウ化 （ピロール−２−イル）メチルトリメチルホスホニウム塩１２．３３ｇ（収率９２％）を得た。
【０５９８】
ヨウ化 （ピロール−２−イル）メチルトリメチルホスホニウム塩１２．３０ｇ（２６．２１ｍｍｏｌ）をアセトニトリル（１１５ｍｌ）に懸濁し、ジ−ｔ−ブチルジカルボナート７．６１ｇ（３４．８７ｍｍｏｌ）および４−ジメチルアミノピリジン０．１６ｇ（１．３１ｍｍｏｌ）を加え、室温で２４時間撹拌した。減圧下濃縮し、酢酸エチル（５０ｍｌ）および塩化メチレン（４ｍｌ）を加え、析出した結晶をろ取し、酢酸エチルで洗浄し、減圧下乾燥して、標記化合物１４．０２ｇ（収率９４％）を得た。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃，400MHz），δ : 7.82-7.78 (m, 3H), 7.68-7.58 (m, 12H), 7.09-7.07 (m, 1H), 6.42-6.39 (m, 1H), 6.11 (t, 1H, J = 3.7Hz), 5.68 (d, 2H, J = 13.2 Hz), 1.29 (s, 3H)。
【０５９９】
（参考例２６）
（２Ｒ）−２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２−メチル−４−（１−ｔ−ブトキシカルボニルピロール−２−イル）−１−ｎ−ヘキサノイルオキシ−３−ブテン
参考例２５で得られたヨウ化 （１−ｔ−ブトキシカルボニルピロール−２−イル）メチルトリフェニルホスホニウム塩３．３０ｇ（５．８０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（６０ｍｌ）に懸濁し、氷冷撹拌下、ｔ−ブトキシカリウム０．６５ｇ（５．８ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（５．８ｍｌ）に溶解した溶液を加え、氷冷下１５分攪拌した。ついで、参考例（２ｂ）で得られた（２Ｓ）−２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３−ｎ−ヘキサノイルオキシ−２−メチル−１−プロパナール１．４６ｇ（４．８３ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（３ｍｌ）に溶解した溶液を加え、氷冷下１時間攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて反応を止め、液温を室温に戻し、水および酢酸エチルを加え、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝５／１)により精製して、標記化合物２．１２ｇ(収率９４％)を得た。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃，400MHz），δ : 7.25-7.20 (m, 計2H), 7.11 (d, 1H, J = 16.1 Hz), 6.61 (d, 1H, J = 12.5 Hz), 6.39-6.24 (m, 計2H), 6.18-6.08 (m, 計2H), 6.08 (d, 1H, J = 16.1 Hz), 5.64 (d, 1H, J = 12.5 Hz), 4.92-4.75 (m, 計2H), 4.34-4.23 (m, 計2H), 4.22-4.16 (m, 計2H), 2.38-2.29 (m, 計4H), 1.69-1.20 (m, 計54H), 0.94-0.82 (m, 計6H)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (CHCl₃) :3445, 2981, 2934, 1734, 1495, 1457, 1393, 1370, 1333, 1252, 1163, 1123, 1066。マススペクトル（FAB⁺），m/z：465((M+H)⁺)。
【０６００】
（参考例２７）
（４Ｒ）−４−メチル−４−［２−（ピロール−２−イル）エテニル］−１，３−オキサゾリジン−２−オン
参考例２６で得られた（２Ｒ）−２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２−メチル−４−（１−ｔ−ブトキシカルボニルピロール−２−イル）−１−ｎ−ヘキサノイルオキシ−３−ブテン１．７８ｇ（３．８２ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）およびメタノール（２０ｍｌ）の混合液に溶解し、１規定水酸化ナトリウム水溶液２０ｍｌを加え、室温で１時間攪拌した。反応液に水を加えて酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、減圧下溶媒を留去して、粗生成物を得た。得られた粗生成物をテトラヒドロフラン（６０ｍｌ）に溶解し、ｔ−ブトキシカリウム０．５５７ｇ（４．９６ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間攪拌した。反応液に水を加えて酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝２／１)により精製して、標記化合物０．２５９ｇ(収率３５％)を得た。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃，400MHz），δ : 8.69-8.22 (m, 計2H), 6.88-6.76 (m, 計2H), 6.48 (d, 1H, J = 16.1 Hz), 6.34 (d, 1H, J = 12.5 Hz), 6.39-6.18 (m, 計4H), 5.82 (d, 1H, J = 16.1 Hz), 5.47 (br s, 1H), 5.37 (d, 1H, J = 12.5 Hz), 5.16 (br s, 1H), 4.40 (d, 計2H, J = 8.8 Hz), 4.19 (d, 計2H, J = 8.8 Hz), 1.59 (s, 3H), 1.55 (s, 3H)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (CHCl₃) :3467, 2976, 2929, 1759, 1637, 1477, 1455, 1373, 1280, 1165, 1041, 954, 909。
マススペクトル（FAB⁺），m/z：192(M⁺)。
【０６０１】
（参考例２８）
（４Ｒ）−４−メチル−４−［２−（ピロール−２−イル）エチル］−１，３−オキサゾリジン−２−オン
参考例２７で得られた（４Ｒ）−４−メチル−４−［２−（ピロール−２−イル）エテニル］−１，３−オキサゾリジン−２−オン０．２５９ｇ（１．３５ｍｍｏｌ）をメタノール（６ｍｌ）に溶解し、１０％パラジウム−炭素（５０％含水）２６ｍｇを加え、水素雰囲気下、室温で３０分間攪拌した。反応液中のパラジウム−炭素をセライトろ過した後、ろ液を減圧下留去した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝２／１)により精製して、標記化合物０．２３８ｇ(収率９１％)を得た。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃，400MHz），δ : 8.41-8.15 (m, 1H), 6.73-6.68 (m, 1H), 6.17-6.10 (m, 1H), 5.96-5.90 (m, 1H), 5.75 (br s, 1H), 4.12 (d, 1H, J = 8.8 Hz), 4.05 (d, 1H, J = 8.8 Hz), 2.76-2.61 (m 2H), 2.00-1.83 (m, 2H), 1.37 (s, 3H)。
IRスペクトル，ν_max cm^-1 (CHCl₃) :3472, 2980, 2933, 1754, 1571, 1479, 1457, 1400, 1382, 1250, 1162, 1093, 1044, 942。マススペクトル（FAB⁺），m/z：194(M⁺)。
【０６０２】
（参考例２９）
５−（４−フルオロフェニル）ペント−1−イン
水素化ナトリウム２．１１ｇ（４８．４ｍｍｏｌ）を無水テトラヒドロフラン６０ｍｌ中に懸濁させ、氷冷下、ジエチルホスホノ酢酸 エチルエステル１０．８４ｇ（４８．４ｍｍｏｌ）を滴下し、１０分間撹拌した。次いで４−フルオロベンズアルデヒド５．００ｇ（４０．３ｍｍｏｌ）を無水テトラヒドロフラン６０ｍｌに溶解した溶液を同温にて滴下した。反応液を３時間撹拌した後、氷水中１５０ｍｌに注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、残渣をフラッシュシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝１０／１〜３／１）にて精製を行い、４−フルオロ桂皮酸 エチルエステルを無色油状物として、６．６９ｇ（収率８６％）得た。
【０６０３】
このエステル６．５２ｇ（３３．６ｍｍｏｌ）を酢酸エチル１００ｍｌ中に溶解し、５％ロジウム／アルミナ１．３０ｇを加え、水素雰囲気下、室温にて８時間撹拌した。反応混合物をセライトろ過し、濾液を減圧濃縮し、残渣を無水テトラヒドロフラン３０ｍｌ中に溶解した。この溶液を氷冷下、水素化アルミニウムリチウム１．２６ｇ（３３．２ｍｍｏｌ）を無水テトラヒドロフラン６０ｍｌに懸濁させたものに滴下した。反応混合物を同温にて３０分間撹拌後、飽和硫酸ナトリウム水溶液を加え、さらに室温で１０分間撹拌した。混合物をセライトろ過し、ろ液を酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、残渣をフラッシュシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝５／１〜１／１）にて精製を行い、３−（４−フルオロフェニル）プロパン−１−オールを無色油状物として、４．８６ｇ（収率９５％）得た。
【０６０４】
得られた３−（４−フルオロフェニル）プロパン−１−オール４．８３ｇ（３１．３ｍｍｏｌ）を塩化メチレン５０ｍｌ中に溶解し、氷冷下、トリエチルアミン６．５５ｍｌ（４７．０ｍｍｏｌ）及びメタンスルホニルクロリド２．９１ｍｌ（３７．６ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下、３０分間撹拌した。反応混合物を塩化メチレン５０ｍｌで希釈し、氷冷した１０％塩酸、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、残渣をアセトン１００ｍｌ中に溶解した。次いでヨウ化ナトリウム９．３９ｇ（６２．６ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下、５０℃にて２時間撹拌した。反応混合物を酢酸エチル２５０ｍｌで希釈後、１０％チオ硫酸ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、残渣をフラッシュシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝５／１〜２／１）にて精製を行い、３−（４−フルオロフェニル）−１−ヨードプロパンを淡黄色油状物として、７．１２ｇ（収率８６％）得た。
【０６０５】
ヘキサメチルホスホラミド２０ｍｌ中にナトリウムアセチリド（１８％キシレン懸濁液）５０ｍｌを加え、氷冷下、先に得られた４−フルオロフェニル−１−ヨードプロパン７．００ｇ（２６．５ｍｍｏｌ）を無水ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解した溶液を加えた。反応混合物を室温にて、２時間撹拌した。氷冷下に氷水を注意深く注ぎ、混合物を酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、残渣をフラッシュシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン）にて精製を行い、標記化合物を無色油状物として、２．６７ｇ（収率６２％）得た。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃，400MHz），δ : 7.14 (m, 2H), 6.97 (m,2H), 2.71 (t, 2H, J = 7.5 Hz), 2.19 (m, 2H), 1.99 (t, 1H, J=2.6 Hz), 1.82 (m,2H)。
マススペクトル（EI），m/z： 162(M⁺)。
【０６０６】
（参考例３０）
５−フェニルペント−１−イン
参考例２９と同様に、３−フェニル−１−ヨードプロパン及びナトリウムアセチリドを用いて、標記化合物を得た。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃，400MHz），δ : 7.32-7.26 (m, 2H), 7.23-7.16 (m,3H), 2.74 (t, 2H, J = 7.6 Hz), 2.21 (dt,2H, J = 7.6 Hz, 2.8 Hz), 1.99 (t, 1H, J=2.8 Hz), 1.89-1.81 (m, 2H)。
マススペクトル（EI），m/z： 144(M⁺)。
【０６０７】
（参考例３１）
５−（４−クロロフェニル）ペント−１−イン
参考例２９と同様に、３−（４−クロロフェニル）−１−ヨードプロパン及びナトリウムアセチリドを用いて、標記化合物を得た。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃，400MHz），δ : 7.26-7.23 (m, 2H), 7.13-7.11 (m, 2H), 2.71 (t, 2H, J = 7.3 Hz), 2.19 (dt, 2H, J = 7.3 Hz, 2.9 Hz), 1.99 (t, 1H, J = 2.9 Hz), 1.85-1.78 (m, 2H)。
【０６０８】
（参考例３２）
５−（３−トリフルオロメチルフェニル）ペント−１−イン
参考例２９と同様に、３−（３−トリフルオロメチルフェニル）−１−ヨードプロパン及びナトリウムアセチリドを用いて、標記化合物を得た。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃，400MHz），δ : 7.46-7.37 (m, 4H), 2.81 (t, 2H, J = 7.3 Hz), 2.22 (dt, 2H, J = 7.3 Hz, 2.9 Hz), 2.01 (t, 1H, J = 2.9 Hz), 1.90-1.83 (m, 2H)。
【０６０９】
（参考例３３）
５−シクロヘキシルペント−１−イン
参考例２９と同様に、３−シクロヘキシル−1−ヨードプロパン及びナトリウムアセチリドを用いて、標記化合物を得た。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃，400MHz），δ : 2.16 (dt, 2H, J = 7.2 Hz, 2.8, Hz), 1.94 (t, 1H, J = 2.8 Hz), 1.59-1.48 (m, 2H), 1.38-0.75 (m, 13H)。マススペクトル（EI），m/z： 150(M⁺)。
【０６１０】
（参考例３４）
４−シクロヘキシルオキシブト−１−イン
シクロヘキサノン３２ｍｌ（０．３１ｍｏｌ）を無水塩化メチレン９５０ｍｌに溶解し、１，３−プロパンジオール３３．５ｍｌ（０．４６ｍｏｌ）、オルトぎ酸トリエチル５１．５ｍｌ（０．３１ｍｏｌ）、塩化ジルコニウム１．４４ｇ（６．１８ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下、室温で１時間攪拌した。氷冷した１規定水酸化ナトリウム水溶液１．５ｌを加え、塩化メチレンで抽出し、塩化メチレン層を水で洗浄した。塩化メチレン層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。残渣を減圧蒸留で精製し、シクロヘキサノン トリメチレン
ケタール２６．８ｇ（収率５５％）を得た。
【０６１１】
塩化ジルコニウム２４．９ｇ（０．１１ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン５００ｍｌに懸濁し、水素化ホウ素ナトリウム２０．５ｇ（０．５４ｍｏｌ）を、窒素雰囲気下、ゆっくりと加え、室温で２０分攪拌した。この反応液に、先に得られたシクロヘキサノン トリメチレン ケタール１６．９ｇ（０．１１ｍｏｌ）を含むテトラヒドロフラン１７０ｍｌ溶液を窒素雰囲気下、氷冷下滴下し、滴下終了後、室温で一昼夜攪拌した。氷冷下、氷冷した２規定塩酸６００ｍｌを加えて、反応を終了させ、テトラヒドロフランを減圧下濃縮した。残った水相を、酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝１０／１〜５／２）により精製し、３−シクロヘキシルオキシプロパン−１−オール１３．４ｇ（収率７８％）を得た。
【０６１２】
得られた３−シクロヘキシルオキシプロパン−１−オール１１．５ｇ（７２．９ｍｍｏｌ）を塩化メチレン２４０ｍｌに溶解し、氷冷下、モレキュラーシーブ４Ａ５８ｇおよび重クロム酸ピリジニウム２３．８ｇ（０．１１ｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下、１時間４０分間攪拌した。反応液にエーテルを加え、セライトろ過した。ろ物をエーテルで洗浄後、ろ液を合わせ、減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝２０／１〜１０／１）により精製し、粗製の３−シクロヘキシルオキシプロピオンアルデヒド８．６０ｇを得た。
【０６１３】
四臭化炭素３６．５ｇ（０．１１ｍｏｌ）を塩化メチレン１２０ｍｌに溶解し、トリフェニルホスフィン５７．７ｇ（０．２２ｍｏｌ）を塩化メチレン１２０ｍｌに溶解した溶液を窒素雰囲気下、氷冷下加え、５分間攪拌した。この反応液に、先に得られた粗製の３−シクロヘキシルオキシプロピオンアルデヒド８．６０ｇを塩化メチレン９０ｍｌに溶解した溶液を窒素雰囲気下、氷冷下加え、同温度で２５分間攪拌した。反応液を塩化メチレンで希釈し、反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄した。塩化メチレン層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝１００／１〜３３／１）により精製し、４−シクロヘキシルオキシ−１，１−ジブロモブト−１−エン１２．６ｇ（収率５５％、２工程）を得た。
【０６１４】
得られた４−シクロヘキシルオキシ−１，１−ジブロモブト−１−エン１２．６ｇ（４０．４ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン１３０ｍｌに溶解し、窒素雰囲気下、−７８℃で、ｎ−ブチルリチウムのヘキサン（１．５ｍｏｌ／ｌ）溶液５４ｍｌ（８１．０ｍｍｏｌ）を加え、−７８℃で１時間攪拌し、その後ゆっくりと室温まで昇温した。室温で５０分間攪拌した後、氷冷下、水を加えて反応を終了させた。エーテルで抽出し、エーテル層を飽和食塩水で洗浄した。ジエチルエーテル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝１００／１〜５０／１）により精製し、標記化合物４．３５ｇ（収率７１％）を得た。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃，400MHz），δ : 3.59 (t, 2H, J = 7.2 Hz), 3.32-3.23 (m, 1H), 2.45 (dt, 2H, J = 7.2 Hz, 2.8 Hz), 1.97 (t, 1H, J = 2.8 Hz), 1.95-1.85 (m, 2H), 1.81-1.67 (m, 2H), 1.58-1.48 (m, 1H), 1.36-1.13 (m,5H)。
マススペクトル（EI），m/z： 153((M+H)⁺)。
【０６１５】
（参考例３５）
４−（４−フルオロフェニルオキシ）ブト−１−イン
４−フルオロフェノール５．００ｇ（４４．６ｍｍｏｌ）、３−ブチン−１−オール３．３８ｍｌ（４４．６ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン１７．５ｇ（６６．９ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン１００ｍｌに溶解し、氷冷下、アゾジカルボン酸 ジエチルエステル１１．７ｇ（６６．９ｍｍｏｌ）を加え、室温で１８時間撹拌した。溶媒を減圧濃縮し、ヘキサン２００ｍｌ及び酢酸エチル２０ｍｌを加え、析出した沈殿を濾取して取り除き、濾液を減圧濃縮した。得られた残渣をフラッシュシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン）にて精製し、標記化合物を得た。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃，400MHz），δ : 7.02-6.94 (m, 2H), 6.90-6.82 (m, 2H), 4.07 (t, 2H, J = 7.0 Hz), 2.70-2.63 (m, 2H),2.05 (t, 1H, J = 2.7 Hz)。
マススペクトル（EI），m/z： 164(M⁺)。
【０６１６】
（参考例３６）
４−フェニルオキシブト−１−イン
参考例３５と同様に、フェノールと３−ブチン−１−オールを用いて、標記化合物を得た。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃，400MHz），δ : 7.29 (dd, 2H, J = 8.8 Hz, 7.3 Hz), 6.96 (t, 1H, J = 7.3 Hz), 6.92 (d, 2H, J = 8.8 Hz), 4.11 (t, 2H, J = 6.6 Hz), 2.68 (dt, 2H, J = 6.6 Hz, 2.2 Hz), 2.04 (t, 1H, J = 2.2 Hz)。
【０６１７】
（参考例３７）
３−（３、４−ジメチルフェニルオキシ）−１−プロピン
参考例３５と同様に、３，４−ジメチルフェノールとプロパルギルアルコールを用いて、標記化合物を得た。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃，400MHz），δ : 7.04 (d, 1H, J = 8.0 Hz), 6.78 (d, 1H, J = 2.4 Hz), 6.72 (dd, 1H, J = 8.0 Hz, 2.4 Hz), 4.65 (d, 2H, J = 2.4 Hz), 2.49 (t, 1H, J = 2.4 Hz), 2.24 (s, 3H), 2.20 (s, 3H)。
マススペクトル（EI），m/z： 160(M⁺)。
【０６１８】
（参考例３８）
３−（４−メチルフェニルオキシ）−１−プロピン
参考例３５と同様に、４−メチルフェノールとプロパルギルアルコールを用いて、標記化合物を得た。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃，400MHz），δ : 7.10 (d, 2H, J = 8.4 Hz), 6.88 (d, 2H, J = 8.4 Hz), 4.67 (d, 2H, J = 2.4 Hz), 2.50 (t, 1H, J = 2.4 Hz), 2.29 (s, 3H)。
マススペクトル（EI），m/z： 146(M⁺)。
【０６１９】
（参考例３９）
３−（４−メチルチオフェニルオキシ）−１−プロピン
参考例３５と同様に、４−メチルチオフェノールとプロパルギルアルコールを用いて、標記化合物を得た。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃，400MHz），δ : 7.27 (d, 2H, J = 8.9 Hz), 6.93 (d, 2H, J = 8.9 Hz), 4.68 (d, 2H, J = 2.4 Hz), 2.52 (t, 1H, J = 2.4 Hz), 2.45 (s, 3H)。
マススペクトル（EI），m/z： 178(M⁺)。
【０６２０】
（参考例４０）
２−［４−（シクロヘキシルメトキシ）フェニル］−４，４，５，５−テトラメチル−［１，３，２］−ジオキサボロラン
４−ブロモフェノール ６．０ｇ（３４．７ｍｍｏｌ）、シクロヘキシルメチルフェノール ４．３ml（３４．７ｍｍｏｌ）、およびトリフェニルホスフィン ９．１ｇ(３４．７ｍｍｏｌ)のテトラヒドロフラン（１００ｍｌ）溶液に、０℃でアゾジカルボン酸 ジエチルエステル ４０％トルエン溶液 １５．１ｍｌ（３４．７ｍｍｏｌ）をゆっくり加えたのち、反応液を室温で３時間撹拌した。反応終了後、減圧下溶媒を留去して、得られた残渣にヘキサンを加えた。ろ過後、再び減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／２０）により精製して１−ブロモ−４−（シクロヘキシルメトキシ）ベンゼン５．１ｇ（収率５４％）を得た。１−ブロモ−４−（シクロヘキシルメトキシ）ベンゼン３．０ｇ（１１．１ｍｍｏｌ）、ビス（ピナコラート）ジボラン ３．４ｇ（１３．３ｍｍｏｌ）、塩化パラジウム−ジフェニルホスフィノフェロセン錯体４５０ｍｇ（０．５５１ｍｍｏｌ）、および酢酸カリウム２．２ｇ（２２．２ｍｍｏｌ）のジメチルスルホキシド（５０ｍｌ）溶液を８０℃で３０分間撹拌した後、反応液を酢酸エチルで希釈した。これに活性炭を加え、室温で３０分間撹拌した後、ろ過し、減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／１００）により精製して、標記化合物１．７２ｇ（収率４９％）を得た。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃，400MHz），δ : 7.73 (d, 2H, J = 8.5 Hz), 6.88 (d, 2H, J = 8.5 Hz), 3.77 (d, 2H, J = 5.9 Hz), 1.93-1.64 (m, 5H), 1.33 (s, 12H), 1.33-1.14 (m, 4H), 1.12-0.97 (m, 2H)。
【０６２１】
（参考例４１）
２−［３−（２−シクロヘキシルエトキシ）フェニル］−４，４，５，５−テトラメチル−［１，３，２］−ジオキサボロラン
３−ブロモフェノール １５．０ｇ（８６．７ｍｍｏｌ）、２−シクロヘキシルエチルフェノール １２．０ml（８６．７ｍｍｏｌ）、およびトリフェニルホスフィン ２３．０ｇ(８６．７ｍｍｏｌ)のテトラヒドロフラン（２００ｍｌ）溶液に、０℃でアゾジカルボン酸 ジエチルエステル ４０％トルエン溶液 ３８．０ｍｌ（８６．７ｍｍｏｌ）をゆっくり加えたのち、反応液を室温で７時間撹拌した。反応終了後、減圧下溶媒を留去し、得られた残渣にヘキサンを加えた。ろ過後、再び減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／１００）により精製して１−ブロモ−３−（２−シクロヘキシルエトキシ）ベンゼン２３．０ｇ（収率９４％）を得た。１−ブロモ−３−（２−シクロヘキシルエトキシ）ベンゼン５．０ｇ（１７．７ｍｍｏｌ）、ビス（ピナコラート）ジボラン ５．４ｇ（２１．２ｍｍｏｌ）、塩化パラジウム−ジフェニルホスフィノフェロセン錯体１．４０ｇ（１．７７ｍｍｏｌ）、および酢酸カリウム３．５ｇ（３５．４ｍｍｏｌ）のジメチルスルホキシド（８０ｍｌ）溶液を８０℃で３０分間撹拌した後、反応液を酢酸エチルで希釈した。これに活性炭を加え、室温で３０分間撹拌した後、ろ過し、減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／１００）により精製して、標記化合物４．７０ｇ（収率８０％）を得た。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃，400MHz），δ : 7.38-7.24 (m, 3H), 7.00 (dd, 1H, J = 8.1, 2.9 Hz), 4.02 (t, 2H, J = 6.6 Hz), 1.81-1.63 (m, 8H), 1.34 (s, 12H), 1.31-1.12 (m, 3H), 1.06-0.88 (m, 2H)。
【０６２２】
（参考例４２）
４−フェニルオキシブタン酸クロリド
（４２ａ） ４−フェニルオキシブタン酸
水素化ナトリウム（６０％含量）２．４１ｇ（６０．３ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（６０ｍｌ）に懸濁し、窒素雰囲気下、氷冷下でフェノール５．７０ｇ（６０．６ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（３０ｍｌ）に溶解した溶液を２０分間要して加え、室温で１．５時間撹拌した。この反応液にγ−ブチロラクトン５．０１ｇ（５８．２ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（３０ｍｌ）に溶解した溶液を加え、１３０℃で６時間攪拌した。冷却後、減圧下濃縮し、水を加えて塩化メチレンで抽出し、塩化メチレン層を水洗した。水層に1規定塩酸水溶液（７２ｍｌ）を加えて酸性として、酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。ろ過後、減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝５／１〜２／１)により精製して、標記化合物 ３．５８ｇ(収率３４％)を得た。
¹H NMRスペクトル（CDCl₃，400MHz），δ : 7.30-7.27 (m, 2H), 6.96-6.87 (m, 3H), 4.03 (t, 2H, J = 5.9 Hz), 2.60 (t, 2H, J = 7.3 Hz), 2.16-2.09 (m, 2H)。
【０６２３】
（４２ｂ） ４−フェニルオキシブタン酸クロリド
参考例（４２ａ）で得られた４−フェニルオキシブタン酸０．５０６６ｇ（２．８１ｍｍｏｌ）をベンゼン（５ｍｌ）に溶解し、塩化チオニル０．４２ｍｌ（５．７６ｍｍｏｌ）およびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２μｌを加え、８０℃で１時間攪拌した。冷却後、減圧下濃縮して、標記化合物０．５５５６ｇ(収率９９％)を得た。
（試験例１）
ラットHvGR（Host versus Graft Reaction）に対する抑制活性の測定
（１） ２系統のラット［Lewis（雄、6週齢、日本チャールス・リバー株式会社）とWKAH/Hkm（雄、7週齢、日本エスエルシー株式会社）］を使用した。１群５匹のラット（宿主）を用いた。
（２）HvGRの誘導
WKAH/HkmラットまたはLewisラットの脾臓から脾臓細胞を単離し、RPMI1640培地（ライフ テクノロジー社製）で1x10⁸個/ml濃度に浮遊した。Lewisラットの両後肢足蹠皮内に、WKAH/HkmラットまたはLewisラットの脾臓細胞浮遊液0.1ml（脾臓細胞数として1x10⁷個）を注射した。
（３）化合物の投与
化合物は0.5％トラガカント液に懸濁した。懸濁した化合物は、化合物投与群（WKAH/Hkmラット脾臓細胞を注射され、検体を投与されるLewisラット）に、ラットの体重１kg当たり５mlの割合で、１日１回、脾臓細胞注射日から４日間連日でラットに経口投与した。なお、同系群（Lewisラット脾臓細胞を注射されたLewisラット群）と対照群（WKAH/Hkmラット脾臓細胞を注射され、検体を投与されないLewisラット）には、検体の代わりに0.5％トラガカント液を経口投与した。
（４）HvGRに対する抑制活性の測定方法
各個体の膝窩（popliteal）リンパ節重量から同系群の平均膝窩リンパ節重量を引き（「HvGRによる膝窩リンパ節重量」）、対照群の平均「HvGRによる膝窩リンパ節重量」に対する化合物投与群の各個体の「HvGRによる膝窩リンパ節重量」から抑制率を算出した。化合物の抑制活性は、化合物の投与量と抑制率から最小二乗法を用いて算出したID₅₀値（mg/kg）で表示した。
【０６２４】
本試験の結果、本発明の化合物は優れた抑制活性を示した。
【０６２５】
【表９】

【０６２６】
（試験例２）
アジュバント関節炎発症に対する抑制活性の測定
（１）アジュバントの調製
Mycobacterium butyricumの死菌を流動パラフィンに2 mg/mlの割合になるように懸濁し、超音波処理を行い調製した。
（２）被験化合物の調製
被験化合物は0.5 %トラガカント液に懸濁または溶解した。
（３）アジュバント関節炎の誘導
（１）で調製したアジュバント0.05 mlをラット（通常Lewis系）の右後肢足蹠皮内に注射した。なお、通常 1群の匹数は5とした。また、アジュバントを注射しない群（正常群）を1群設けた。
（４）化合物の投与
（２）で調製した化合物をラットの体重 1 kg当り5 mlの割合でアジュバント注射日から1日1回、21日間連日経口投与した。なお、アジュバントを投与した１群（対照群）およびアジュバントを注射しない群には0.5 %トラガカント液を投与した。
（５）化合物の発症抑制活性の算出法
最終投与1日後に右後肢の体積を足体積測定装置で測定し、各個体の値から正常群の平均値を引き、その値を腫脹体積とした。対照群の平均腫脹体積に対する化合物を投与された各個体の腫脹体積の割合から抑制率を算出した。化合物の抑制活性は、化合物の投与量と抑制率から最小二乗法を用いて算出したID₅₀値（mg/kg）で表示した。
【０６２７】
本試験の結果、本発明の化合物は優れた抑制活性を示した。
【０６２８】
【表１０】

【０６２９】
（試験例３）
ラットHvGR（Host versus Graft Reaction）に対する抑制活性の測定
（１） ２系統のラット［Lewis（雄、6週齢、日本チャールス・リバー株式会社）とWKAH/Hkm（雄、7週齢、日本エスエルシー株式会社）］を使用した。１群５匹のラット（宿主）を用いた。
（２）HvGRの誘導
WKAH/HkmラットまたはLewisラットの脾臓から脾臓細胞を単離し、RPMI1640培地（ライフテクノロジー社製）で濃度1x10⁸個/mlの脾臓細胞浮遊液を作製した。WKAH/Hkmラット脾臓細胞浮遊液0.1mlをLewisラットの両後肢足蹠皮内（HvGR誘発群）、またはLewisラットの脾臓細胞浮遊液0.1mlをLewisラットの両後肢足蹠皮内（同系群）に注射した。
（３）化合物の投与
サイクロスポリン A、タクロリムス、および例示化合物番号：式Ia-3における1-1093の化合物[２−アミノ−２−メチル−４−[５−（５−フェニルペンタノイル）チオフェン−２−イル]ブタン−１−オールである。]のマレイン酸塩（以下、化合物Ａと記す）を、0.5％トラガカント液で、それぞれ0.08 mg/5 ml 、0.08 mg/5 ml および0.008 mg/5 mlの濃度に懸濁した。
【０６３０】
サイクロスポリン A及び化合物Ａ投与群には、サイクロスポリン A懸濁液と化合物Ａ懸濁液を、タクロリムス及び化合物Ａ投与群には、タクロリムス懸濁液と化合物Ａ懸濁液を、それぞれ、体重１kg当たり５mlの割合で、１日１回、脾臓細胞注射日から４日間連日でラットに経口投与した。
【０６３１】
なお、サイクロスポリン A投与群には、サイクロスポリン A懸濁液と0.5％トラガカント液を、タクロリムス投与群には、タクロリムス懸濁液と0.5％トラガカント液を、化合物Ａ投与群には、化合物Ａ懸濁液と0.5％トラガカント液を、それぞれ、体重１kg当たり５mlの割合で、１日１回、脾臓細胞注射日から４日間連日でラットに経口投与した。
【０６３２】
また、同系群（Lewisラット脾臓細胞を注射され、化合物を投与されないLewisラット）と対照群（WKAH/Hkmラット脾臓細胞を注射され、化合物を投与されないLewisラット）には、0.5％トラガカント液を経口投与した。
（４）HvGRに対する抑制活性の測定方法
各個体の膝窩リンパ節重量から同系群の平均膝窩リンパ節重量を引き（「HvGRによる膝窩リンパ節重量」）、対照群の平均「HvGRによる膝窩リンパ節重量」に対する化合物投与群の各個体の「HvGRによる膝窩リンパ節重量」から抑制率を算出した。
【０６３３】
【表１１】

【０６３４】
（試験例４）
マウス GvHD（Graft versus Host Disease）に対する抑制活性の測定
（１） ２系統のマウス［BDF1（雄、6週齢、日本チャールス・リバー株式会社）と C57BL/6（雄、7週齢、日本チャールス・リバー株式会社）］を使用した。１群５匹のマウス（宿主）を用いた。
（２）GvHDの誘導
C57BL/6 マウスまたはBDF1 マウスの脾臓から脾臓細胞を単離し、RPMI1640培地（ライフテクノロジー社製）で濃度 2x10⁷ 個/ml の脾臓細胞浮遊液を作製した。C57BL/6 マウス脾臓細胞浮遊液 0.5 ml を BDF1 マウスの尾静脈内（GvHD 誘発群）、または BDF1 マウスの脾臓細胞浮遊液 0.5 mlをBDF1 マウスの尾静脈内（同系群）に注射した。
（３）化合物の投与
サイクロスポリン A、タクロリムス、および例示化合物番号：式Ia-2における1-1093の化合物[２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル]ブタン−１−オールである。]の塩酸塩（以下、化合物Ｂと記す）を、0.5％メチルセルロース（MC）液で、それぞれ0.1 mg/10 ml 、0.2 mg/10 ml および0.01 mg/10 mlの濃度に懸濁した。
【０６３５】
サイクロスポリン A及び化合物Ｂ投与群には、サイクロスポリン A懸濁液と化合物Ｂ懸濁液を、タクロリムス及び化合物Ｂ投与群には、タクロリムス懸濁液と化合物Ｂ懸濁液を、それぞれ、体重１kg当たり10mlの割合で、１日１回、脾臓細胞注射日から10日間連日でマウスに経口投与した。
【０６３６】
なお、サイクロスポリン A投与群には、サイクロスポリン A懸濁液と0.5％ MC液を、タクロリムス投与群には、タクロリムス懸濁液と0.5％ MC 液を、化合物Ｂ投与群には、化合物Ｂ懸濁液と0.5％ MC 液を、それぞれ、体重１kg当たり10mlの割合で、１日１回、脾臓細胞注射日から10日間連日でマウスに経口投与した。
【０６３７】
また、同系群（BDF1 マウス脾臓細胞を注射され、化合物を投与されないBDF1 マウス）と対照群（C57BL/6 マウス脾臓細胞を注射され、化合物を投与されないBDF1 マウス）には、0.5％ MC 液を経口投与した。
（４）GvHDに対する抑制活性の測定方法
体重ならびに脾臓重量を測定し、脾臓重量を体重で除法し「GvHDによる体重(g)で補正した脾臓重量(mg)」を算出した。各個体の「GvHDによる体重で補正した脾臓重量」から同系群の平均「GvHDによる体重で補正した脾臓重量」を引き、対照群の平均「GvHDによる体重で補正した脾臓重量」に対する化合物投与群の各個体の「GvHDによる体重で補正した脾臓重量」から抑制率を算出した。
【０６３８】
【表１２】

【０６３９】
（試験例５）
マウス皮膚移植に対する抑制活性の測定
（１） ２系統のマウス［C57BL/6N（雌、5週齢、日本チャールス・リバー株式会社）と BALB/cAnN（雌、5週齢、日本チャールス・リバー株式会社）］を使用した。１群10匹のマウス（被移植個体）を用いた。
（２）皮膚移植手順
C57BL/6Nマウスを頸椎脱臼で安楽死させ、皮膚を剥離した。その皮膚を、生検トレパン（MK706、8mm、カイ インダストリー株式会社）を用いて、直径8mmの大きさに切り取った。次に、アバチンで麻酔したBALB/cAnNマウスの背部に、生検トレパンを用いて、直径8mmの大きさの傷を付けた。その傷に沿って眼科ハサミを用いて皮膚を除去した。先のC57BL/6Nマウスの切り取った皮膚を、BALB/cAnNマウスの除去した部分に移植した。移植した部分は、外科用アロンアルファ（三共株式会社）で固定した。移植した部分には、ソフラチュール(1枚（10cm×10cm）中にフラジオマイシン10.8mg含有、アベンティス ファーマ株式会社)および滅菌ガーゼをあて、くっつく包帯（Sサイズ、スリーエム株式会社）を巻き、その包帯の両端をシルキーテックス（1号、アルケア株式会社）で固定した。
（３）化合物の投与
サイクロスポリン A、タクロリムス、および例示化合物番号：式Ia-2における1-1093の化合物[２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル]ブタン−１−オールである。]の塩酸塩（以下、化合物Ｂと記す）を、0.5％メチルセルロース（MC）液で、それぞれ30 mg/10 ml 、3 mg/10 mlおよび0.1 mg/10 mlの濃度に懸濁した。
【０６４０】
サイクロスポリン A及び化合物Ｂ投与群には、サイクロスポリン Aと化合物Ｂを、タクロリムス及び化合物Ｂ投与群には、タクロリムスと化合物Ｂをそれぞれの濃度で0.5％MC液に懸濁した。それぞれ、体重１kg当たり10mlの割合で、移植当日より1日1回、14日間経口投与した。
（４）移植皮膚片拒絶に対する抑制活性の測定方法
移植後（移植日を0日）6日に、ハサミを用いて皮膚を傷つけないようにくっつく包帯、シルキーテックス、滅菌ガーゼおよびソフラチュールを除去した。翌日より1日1回、移植後20日目まで、移植した皮膚の拒絶の有無を判定した。判定は全てブラインドにより行い、移植皮膚片拒絶日数の中央値を算出した。
【０６４１】
【表１３】

【０６４２】

上記処方の粉末を混合し、打錠機により打錠して、１錠２００ｍｇの錠剤とする。
【０６４３】
また、上記処方中、化合物Ａは、
２−アミノ−２−メチル−４−[５−（５−フェニルペンタノイル）チオフェン−２−イル]ブタン−１−オール マレイン酸塩である。
【０６４４】
【発明の効果】
本発明の一般式（Ｉ）を有するアミノアルコール誘導体、一般式（ＩＩ）を有するリン酸エステル体又は一般式（ＩＩＩ）を有するホスホン酸誘導体、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステル及び本発明の医薬組成物は、毒性が低く優れた免疫抑制作用を有し、さらに本発明の医薬組成物は、該組成物中に含有される免疫抑制剤のいずれの薬理効果をも増強して発揮し、かつ該免疫抑制剤単独では持ちうる副作用も低減させ、例えば、各種臓器移植又は皮膚移植での拒絶反応、全身性エリトマトーデス、慢性関節リウマチ、多発性筋炎、結合組織炎、骨格筋炎、骨関節炎、変形性関節症、皮膚筋炎、強皮症、ベーチェット病、Chron病、潰瘍性大腸炎、自己免疫性肝炎、再生不良性貧血、特発性血小板減少性紫斑病、自己免疫性溶血性貧血、多発性硬化症、自己免疫性水疱症、尋常性乾癬、血管炎症群、Wegener肉芽腫、ぶどう膜炎、シェーグレン症候群、特発性間質性肺炎、Goodpasture症候群、サルコイドーシス、アレルギー性肉芽腫性血管炎、気管支喘息、心筋炎、心筋症、大動脈炎症候群、心筋梗塞後症候群、原発性肺高血圧症、微小変化型ネフローゼ、膜性腎症、膜性増殖性腎炎、巣状糸球体硬化症、半月体形成性腎炎、重症筋無力症、炎症性ニューロパチー、アトピー性皮膚炎、慢性光線性皮膚炎、日光過敏症、蓐瘡、Ｓｙｄｅｎｈａｍ舞踏病，全身性硬化症、成人発症糖尿病、インスリン依存性糖尿病、若年性糖尿病、アテローム性動脈硬化症、糸球体腎炎、IgA腎症、尿細管間質性腎炎、原発性胆汁性肝硬変、原発性硬化性胆管炎、劇症肝炎、ウイルス性肝炎、GVHD、接触皮膚炎、敗血症等の自己免疫疾患又はその他免疫関連疾患、真菌、マイコプラズマ、ウィルス、原虫等の感染症、心不全、心肥大、不整脈、狭心症、心虚血、動脈塞栓、動脈瘤、静脈瘤、血行障害等の循環器系疾患、アルツハイマー病、痴呆、パーキンソン病、脳卒中、脳梗塞、脳虚血、鬱病、躁鬱病、統合失調症、ハンチントン舞踏病、癲癇、痙攣、多動症、脳炎、髄膜炎、食欲不振および過食等の中枢系疾患、リンパ腫、白血病、多尿、頻尿、糖尿病性網膜症等の各種疾患（特に好適には、各種臓器移植又は皮膚移植での拒絶反応、全身性エリトマトーデス、慢性関節リウマチ、多発性硬化症、アトピー性皮膚炎等の自己免疫疾患）の、温血動物用（特に、ヒト用）の予防剤若しくは治療剤（特に、治療薬）として有用である。

Claims (122)

1. 一般式（Ｉ）
   

   

   ［式中、
   Ｒ¹及びＲ²は、同一又は異なって、水素原子、低級アルキル基、低級脂肪族アシル基、低級アルコキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基又は置換基群ａから選択される基で１乃至３個置換されたアラルキルオキシカルボニル基を示し、
   Ｒ³は、水素原子、低級アルキル基、低級脂肪族アシル基、芳香族アシル基、置換基群ａから選択される基で１乃至３個置換された芳香族アシル基又はシリル基を示し、
   Ｒ⁴は、低級アルキル基を示し、
   ｎは、１乃至６の整数を示し、
   Ｘは、酸素原子または式Ｎ−Ｄを有する基（式中、Ｄは水素原子、Ｃ₆−Ｃ₁₀アリール基、低級アルキルスルホニル基、Ｃ₆−Ｃ₁₀アリールスルホニル基又は置換基群aから選択される基を示す。）を示し、
   Ｙは、エチレン基、ビニレン基、エチニレン基、式−Ｅ−ＣＨ₂−を有する基（式中、Ｅは、カルボニル基又は式−ＣＨ（ＯＨ）−を有する基を示す。）、Ｃ₆−Ｃ₁₀アリーレン基又は置換基群ａから選択される基で１乃至３個置換されたＣ₆−Ｃ₁₀アリーレン基を示し、
   Ｚは、単結合、Ｃ₁−Ｃ₁₀アルキレン基、置換基群ａ及びｂから選択される基で１乃至３個置換されたＣ₁−Ｃ₁₀アルキレン基、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子若しくは硫黄原子を有するＣ₁−Ｃ₁₀アルキレン基、又は置換基群ａ及びｂから選択される基で１乃至３個置換された、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子若しくは硫黄原子を有するＣ₁−Ｃ₁₀アルキレン基を示し、
   Ｒ⁵は、Ｃ₃−Ｃ₁₀シクロアルキル基、Ｃ₆−Ｃ₁₀アリ−ル基、硫黄原子、酸素原子及び／又は窒素原子を１乃至３個含む５乃至７員複素環基、置換基群ａ及びｂから選択される基で１乃至３個置換されたＣ₃−Ｃ₁₀シクロアルキル基、置換基群ａ及びｂから選択される基で１乃至３個置換されたＣ₆−Ｃ₁₀アリ−ル基、又は置換基群ａ及びｂから選択される基で１乃至３個置換された硫黄原子、酸素原子及び／又は窒素原子を１乃至３個含む５乃至７員複素環基を示し、
   Ｒ⁶及びＲ⁷は、同一又は異なって、水素原子又は置換基群ａから選択される基を示し、
   置換基群ａは、ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲノ低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、カルボキシ基、低級アルコキシカルボニル基、ヒドロキシ基、低級脂肪族アシル基、アミノ基、モノ−低級アルキルアミノ基、ジ−低級アルキルアミノ基、低級脂肪族アシルアミノ基、シアノ基及びニトロ基からなる群を示し、
   置換基群ｂは、Ｃ₃−Ｃ₁₀シクロアルキル基、Ｃ₆−Ｃ₁₀アリ−ル基、硫黄原子、酸素原子及び／又は窒素原子を１乃至３個含む５乃至７員複素環基、置換基群ａから選択される基で１乃至３個置換されたＣ₃−Ｃ₁₀シクロアルキル基、置換基群ａから選択される基で１乃至３個置換されたＣ₆−Ｃ₁₀アリ−ル基、及び置換基群ａから選択される基で１乃至３個置換された、硫黄原子、酸素原子及び／又は窒素原子を１乃至３個含む５乃至７員複素環基からなる群を示す。］
   を有する化合物又はその薬理上許容される塩。
2. 請求項１において、式（Ｉ）を有する化合物が、式（Ｉａ）
   

   

   を有する化合物。
3. 請求項１において、式（Ｉ）を有する化合物が、式（Ｉｂ）
   

   

   を有する化合物。
4. 請求項１において、式（Ｉ）を有する化合物が、式（ＩＩ）
   

   

   （式中、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹は、同一又は異なって、水素原子又は低級アルキル基を示す。）を有する化合物。
5. 請求項４において、式（ＩＩ）を有する化合物が、式（ＩＩａ）
   

   

   を有する化合物。
6. 請求項４において、式（ＩＩ）を有する化合物が、式（ＩＩｂ）
   

   

   を有する化合物。
7. 一般式（ＩＩＩ）
   

   

   ［式中、
   Ｒ¹及びＲ²は、同一又は異なって、水素原子、低級アルキル基、低級脂肪族アシル基、低級アルコキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基又は置換基群ａから選択される基で１乃至３個置換されたアラルキルオキシカルボニル基を示し、
   Ｒ⁴は、低級アルキル基を示し、
   ｎは、１乃至６の整数を示し、
   Ｘは、酸素原子または式Ｎ−Ｄを有する基（式中、Ｄは水素原子、Ｃ₆−Ｃ₁₀アリール基、低級アルキルスルホニル基、Ｃ₆−Ｃ₁₀アリールスルホニル基又は置換基群aから選択される基を示す。）を示し、
   Ｙは、エチレン基、ビニレン基、エチニレン基、式−Ｅ−ＣＨ₂−を有する基（式中、Ｅは、カルボニル基又は式−ＣＨ（ＯＨ）−を有する基を示す。）、Ｃ₆−Ｃ₁₀アリーレン基又は置換基群ａから選択される基で１乃至３個置換されたＣ₆−Ｃ₁₀アリーレン基を示し、
   Ｚは、単結合、Ｃ₁−Ｃ₁₀アルキレン基、置換基群ａ及びｂから選択される基で１乃至３個置換されたＣ₁−Ｃ₁₀アルキレン基、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子若しくは硫黄原子を有するＣ₁−Ｃ₁₀アルキレン基、又は置換基群ａ及びｂから選択される基で１乃至３個置換された、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子若しくは硫黄原子を有するＣ₁−Ｃ₁₀アルキレン基を示し、
   Ｒ⁵は、Ｃ₃−Ｃ₁₀シクロアルキル基、Ｃ₆−Ｃ₁₀アリ−ル基、硫黄原子、酸素原子及び／又は窒素原子を１乃至３個含む５乃至７員複素環基、置換基群ａ及びｂから選択される基で１乃至３個置換されたＣ₃−Ｃ₁₀シクロアルキル基、置換基群ａ及びｂから選択される基で１乃至３個置換されたＣ₆−Ｃ₁₀アリ−ル基、又は置換基群ａ及びｂから選択される基で１乃至３個置換された硫黄原子、酸素原子及び／又は窒素原子を１乃至３個含む５乃至７員複素環基を示し、
   Ｒ⁶及びＲ⁷は、同一又は異なって、水素原子又は置換基群ａから選択される基を示し、
   Ｒ¹⁰及びＲ¹¹は、同一又は異なって、水素原子又は低級アルキル基を示し、
   置換基群ａは、ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲノ低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、カルボキシ基、低級アルコキシカルボニル基、ヒドロキシ基、低級脂肪族アシル基、アミノ基、モノ−低級アルキルアミノ基、ジ−低級アルキルアミノ基、低級脂肪族アシルアミノ基、シアノ基及びニトロ基からなる群を示し、
   置換基群ｂは、Ｃ₃−Ｃ₁₀シクロアルキル基、Ｃ₆−Ｃ₁₀アリ−ル基、硫黄原子、酸素原子及び／又は窒素原子を１乃至３個含む５乃至７員複素環基、置換基群ａから選択される基で１乃至３個置換されたＣ₃−Ｃ₁₀シクロアルキル基、置換基群ａから選択される基で１乃至３個置換されたＣ₆−Ｃ₁₀アリ−ル基、及び置換基群ａから選択される基で１乃至３個置換された、硫黄原子、酸素原子及び／又は窒素原子を１乃至３個含む５乃至７員複素環基からなる群を示す。］
   を有する化合物又はその薬理上許容される塩。
8. 請求項７において、式（ＩＩＩ）を有する化合物が、式（ＩＩＩａ）
   

   

   を有する化合物。
9. 請求項７において、式（ＩＩＩ）を有する化合物が、式（ＩＩＩｂ）
   

   

   を有する化合物。
10. 請求項１乃至９から選択されるいずれか１項において、
    Ｒ¹及びＲ²が、同一又は異なって、水素原子、低級脂肪族アシル基、低級アルコキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基又は置換基群ａから選択される基で１乃至３個置換されたアラルキルオキシカルボニル基である化合物又はその薬理上許容される塩。
11. 請求項１乃至９から選択されるいずれか１項において、
    Ｒ¹及びＲ²が、同一又は異なって、水素原子、低級脂肪族アシル基又は低級アルコキシカルボニル基である化合物又はその薬理上許容される塩。
12. 請求項１乃至９から選択されるいずれか１項において、
    Ｒ¹及びＲ²が、同一又は異なって、水素原子、Ｃ₁−Ｃ₄脂肪族アシル基又はＣ₁−Ｃ₄アルコキシカルボニル基である化合物又はその薬理上許容される塩。
13. 請求項１乃至９から選択されるいずれか１項において、
    Ｒ¹及びＲ²が、同一又は異なって、水素原子、Ｃ₁−Ｃ₂脂肪族アシル基又はＣ₁−Ｃ₂アルコキシカルボニル基である化合物又はその薬理上許容される塩。
14. 請求項１乃至９から選択されるいずれか１項において、
    Ｒ¹及びＲ²が、同一又は異なって、水素原子、アセチル基又はメトキシカルボニル基である化合物又はその薬理上許容される塩。
15. 請求項１乃至９から選択されるいずれか１項において、
    Ｒ¹及びＲ²が、水素原子である化合物又はその薬理上許容される塩。
16. 請求項１乃至３及び１０乃至１５から選択されるいずれか１項において、
    Ｒ³が、水素原子、低級アルキル基、低級脂肪族アシル基、芳香族アシル基、置換基群ａから選択される基で１乃至３個置換された芳香族アシル基又はシリル基である化合物又はその薬理上許容される塩。
17. 請求項１乃至３及び１０乃至１５から選択されるいずれか１項において、
    Ｒ³が、水素原子又は低級アルキル基である化合物又はその薬理上許容される塩。
18. 請求項１乃至３及び１０乃至１５から選択されるいずれか１項において、
    Ｒ³が、水素原子又はＣ₁−Ｃ₄アルキル基である化合物又はその薬理上許容される塩。
19. 請求項１乃至３及び１０乃至１５から選択されるいずれか１項において、
    Ｒ³が、水素原子、メチル基又はエチル基である化合物又はその薬理上許容される塩。
20. 請求項１乃至３及び１０乃至１５から選択されるいずれか１項において、
    Ｒ³が、水素原子である化合物又はその薬理上許容される塩。
21. 請求項１乃至２０から選択されるいずれか１項において、
    Ｒ⁴が、Ｃ₁−Ｃ₄アルキル基である化合物又はその薬理上許容される塩。
22. 請求項１乃至２０から選択されるいずれか１項において、
    Ｒ⁴が、Ｃ₁−Ｃ₂アルキル基である化合物又はその薬理上許容される塩。
23. 請求項１乃至２０から選択されるいずれか１項において、
    Ｒ⁴が、メチル基である化合物又はその薬理上許容される塩。
24. 請求項１乃至２３から選択されるいずれか１項において、
    ｎが、２又は３である化合物又はその薬理上許容される塩。
25. 請求項１乃至２３から選択されるいずれか１項において、
    ｎが、２である化合物又はその薬理上許容される塩。
26. 請求項１乃至２５から選択されるいずれか１項において、
    Ｘが、酸素原子である化合物又はその薬理上許容される塩。
27. 請求項１乃至２５から選択されるいずれか１項において、
    Ｘが、式Ｎ−Ｄを有する基（式中、Ｄは水素原子、Ｃ₁−Ｃ₄アルキル基又はフェニル基を示す。）である化合物又はその薬理上許容される塩。
28. 請求項１乃至２５から選択されるいずれか１項において、
    Ｘが、式Ｎ−ＣＨ₃を有する基である化合物又はその薬理上許容される塩。
29. 請求項１乃至２８から選択されるいずれか１項において、
    Ｙが、エチレン基、エチニレン基、式−ＣＯ−ＣＨ₂−を有する基、式−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ₂−を有する基、フェニレン基、又はハロゲン原子及び低級アルキル基からなる群より選択される基で１乃至３個置換されたフェニレン基である化合物又はその薬理上許容される塩。
30. 請求項１乃至２８から選択されるいずれか１項において、
    Ｙが、エチレン基、エチニレン基、式−ＣＯ−ＣＨ₂−を有する基又はフェニレン基である化合物又はその薬理上許容される塩。
31. 請求項１乃至３０から選択されるいずれか１項において、
    Ｚが、Ｃ₁−Ｃ₁₀アルキレン基又は置換基群ａ及びｂから選択される基で１乃至３個置換されたＣ₁−Ｃ₁₀アルキレン基である化合物又はその薬理上許容される塩。
32. 請求項１乃至３０から選択されるいずれか１項において、
    ＺがＣ₁−Ｃ₆アルキレン基又はヒドロキシ基で１乃至３個置換されたＣ₁−Ｃ₆アルキレン基である化合物又はその薬理上許容される塩。
33. 請求項１乃至３０から選択されるいずれか１項において、
    ＺがＣ₁−Ｃ₅アルキレン基又はヒドロキシ基で１乃至３個置換されたＣ₁−Ｃ₅アルキレン基である化合物又はその薬理上許容される塩。
34. 請求項１乃至３０から選択されるいずれか１項において、
    Ｚが、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、又は１個のヒドロキシ基で置換されたエチレン基、トリメチレン基若しくはテトラメチレン基である化合物又はその薬理上許容される塩。
35. 請求項１乃至３０から選択されるいずれか１項において、
    Ｚが、エチレン基、トリメチレン基若しくはテトラメチレン基である化合物又はその薬理上許容される塩。
36. 請求項１乃至３０から選択されるいずれか１項において、
    Ｚが、エチレン若しくはトリメチレン基である化合物又はその薬理上許容される塩。
37. 請求項１乃至３０から選択されるいずれか１項において、
    Ｚが、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子若しくは硫黄原子を有するＣ₁−Ｃ₁₀アルキレン基、又は１個のヒドロキシ基で置換された、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子若しくは硫黄原子を有するＣ₁−Ｃ₁₀アルキレン基（該置換基は、低級アルキル基及びヒドロキシ基からなる群から選択される基である。）である化合物又はその薬理上許容される塩。
38. 請求項１乃至３０から選択されるいずれか１項において、
    Ｚが、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子若しくは硫黄原子を有するＣ₁−Ｃ₁₀アルキレン基である化合物又はその薬理上許容される塩。
39. 請求項１乃至３０から選択されるいずれか１項において、
    Ｚが、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子を有するＣ₁−Ｃ₁₀アルキレン基である化合物又はその薬理上許容される塩。
40. 請求項１乃至３０から選択されるいずれか１項において、
    Ｚが、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子を有するＣ₁−Ｃ₆アルキレン基である化合物又はその薬理上許容される塩。
41. 請求項１乃至３０から選択されるいずれか１項において、
    Ｚが、−Ｏ−ＣＨ₂−、−Ｏ−（ＣＨ₂）₂−、−Ｏ−（ＣＨ₂）₃−、−ＣＨ₂−Ｏ−、−（ＣＨ₂）₂−Ｏ−又は−（ＣＨ₂）₃−Ｏ−を有する基である化合物又はその薬理上許容される塩。
42. 請求項１乃至３０から選択されるいずれか１項において、
    Ｚが、−ＣＨ₂−Ｏ−又は−（ＣＨ₂）₂−Ｏ−を有する基である化合物又はその薬理上許容される塩。
43. 請求項１乃至４２から選択されるいずれか１項において、
    Ｒ⁵が、Ｃ₃−Ｃ₁₀シクロアルキル基、Ｃ₆−Ｃ₁₀アリール基、又はハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲノ低級アルキル基、低級アルコキシ基及び低級アルキルチオ基から成る群から選択される基で１乃至３個置換されたＣ₃−Ｃ₁₀シクロアルキル若しくはＣ₆−Ｃ₁₀アリール基である化合物又はその薬理上許容される塩。
44. 請求項１乃至４２から選択されるいずれか１項において、
    Ｒ⁵が、Ｃ₃−Ｃ₁₀シクロアルキル基、Ｃ₆−Ｃ₁₀アリール基、又はハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲノ低級アルキル基及び低級アルコキシ基から成る群から選択される基で１乃至３個置換されたＣ₃−Ｃ₁₀シクロアルキル若しくはＣ₆−Ｃ₁₀アリール基である化合物又はその薬理上許容される塩。
45. 請求項１乃至４２から選択されるいずれか１項において、
    Ｒ⁵が、Ｃ₅−Ｃ₆シクロアルキル基、フェニル基又はナフチル基である化合物又はその薬理上許容される塩。
46. 請求項１乃至４２から選択されるいずれか１項において、
    Ｒ⁵が、シクロヘキシル基又はフェニル基である化合物又はその薬理上許容される塩。
47. 請求項１乃至４６から選択されるいずれか１項において、
    Ｒ⁶及びＲ⁷が、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲノ低級アルキル基、低級アルコキシ基又は低級アルキルチオ基である化合物又はその薬理上許容される塩。
48. 請求項１乃至４６から選択されるいずれか１項において、
    Ｒ⁶及びＲ⁷が、水素原子である化合物又はその薬理上許容される塩。
49. 請求項４乃至１５及び２１乃至４８から選択されるいずれか１項において、
    Ｒ¹⁰及びＲ¹¹が、同一又は異なって、水素原子又は低級アルキル基である化合物又はその薬理上許容される塩。
50. 請求項４乃至１５及び２１乃至４８から選択されるいずれか１項において、
    Ｒ¹⁰及びＲ¹¹が、同一又は異なって、水素原子又はＣ₁−Ｃ₄アルキル基である化合物又はその薬理上許容される塩。
51. 請求項４乃至１５及び２１乃至４８から選択されるいずれか１項において、
    Ｒ¹⁰及びＲ¹¹が、同一又は異なって、水素原子、メチル基又はエチル基である化合物又はその薬理上許容される塩。
52. 請求項４乃至１５及び２１乃至４８から選択されるいずれか１項において、
    Ｒ¹⁰及びＲ¹¹が、水素原子である化合物又はその薬理上許容される塩。
53. 請求項１において、
    下記より選択されるいずれか１つの化合物又はその薬理上許容される塩：
    ２−アミノ−２−メチル−４−[５−（５−フェニルペンチル）フラン−２−イル]ブタン−１−オール、
    ２−アミノ−２−メチル−４−[５−（５−シクロヘキシルペント−１−イニル）フラン−２−イル]ブタン−１−オール、
    ２−アミノ−２−メチル−４−[５−（５−フェニルペント−１−イニル）フラン−２−イル]ブタン−１−オール、
    ２−アミノ−２−メチル−４−[５−（４−シクロヘキシルオキシブト−１−イニル）フラン−２−イル]ブタン−１−オール、
    ２−アミノ−２−メチル−４−[５−（５−シクロヘキシルペンタノイル）フラン−２−イル]ブタン−１−オール及び
    ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−（３，４−ジメチルフェノキシ）プロプー１−イニル]フラン−２−イル｝ブタン−１−オール。
54. 請求項１において、下記より選択されるいずれか１つの化合物又はその薬理上
    許容される塩:
    ２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（５−フェニルペント−１−イニル）ピロール−２−イル]ブタン−１−オール、
    ２−アミノ−２−メチル−４−｛１−メチル−５−[３−（４−メチルフェノキシ）プロプ−１−イニル]ピロール−２−イル｝ブタン−１−オール、
    ２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（４−シクロヘキシルオキシブト−１−イニル）ピロール−２−イル]ブタン−１−オール、
    ２−アミノ−２−メチル−４−｛１−メチル−５−[３−（３，４−ジメチルフェノキシ）プロプー１−イニル]ピロール−２−イル｝ブタン−１−オール、
    ２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル]ブタン−１−オール、
    ２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（５−シクロヘキシルペンタノイル）ピロール−２−イル]ブタン−１−オール、
    ２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（４−フェニルブタノイル）ピロール−２−イル]ブタン−１−オール、
    ２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（４−シクロヘキシルブタノイル）ピロール−２−イル]ブタン−１−オール、
    ２−アミノ−２−メチル−４−[１−エチル−５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル]ブタン−１−オール、
    ２−アミノ−２−メチル−４−[１−エチル−５−（５−シクロヘキシルペンタノイル）ピロール−２−イル]ブタン−１−オール、
    ２−アミノ−２−メチル−４−[１−エチル−５−（４−フェニルブタノイル）ピロール−２−イル]ブタン−１−オール及び
    ２−アミノ−２−メチル−４−[１−エチル−５−（４−シクロヘキシルブタノイル）ピロール−２−イル]ブタン−１−オール。
55. 請求項４において、下記より選択されるいずれか１つの化合物又はその薬理上
    許容される塩:
    リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−（５−フェニルペンチル）フラン−２−イル]−１−ブチル エステル、
    リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−（５−シクロヘキシルペント−１−イニル）フラン−２−イル]−１−ブチル エステル、
    リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−（５−フェニルペント−１−イニル）フラン−２−イル]−１−ブチル エステル、
    リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−（４−シクロヘキシルオキシブト−１−イニル）フラン−２−イル]−１−ブチル エステル、
    リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−（５−シクロヘキシルペンタノイル）フラン−２−イル]−１−ブチル エステル及び
    リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−（３，４−ジメチルフェノキシ）プロプー１−イニル]フラン−２−イル｝−１−ブチル エステル。
56. 請求項４において、下記より選択されるいずれか１つの化合物又はその薬理上
    許容される塩:
    リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（５−フェニルペント−１−イニル）ピロール−２−イル]−１−ブチル エステル、
    リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−｛１−メチル−５−[３−（４−メチルフェノキシ）プロプー１−イニル]ピロール−２−イル｝−１−ブチル
    エステル、
    リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（４−シクロヘキシルオキシブト−１−イニル）ピロール−２−イル]−１−ブチル エステル、
    リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−｛１−メチル−５−[３−（３，４−ジメチルフェノキシ）プロプー１−イニル]ピロール−２−イル｝−１−ブチル エステル、
    リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル]−１−ブチル エステル、
    リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（５−シクロヘキシルペンタノイル）ピロール−２−イル]−１−ブチル エステル、
    リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（４−フェニルブタノイル）ピロール−２−イル]−１−ブチル エステル、
    リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（４−シクロヘキシルブタノイル）ピロール−２−イル]−１−ブチル エステル、
    リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[１−エチル−５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル]−１−ブチル エステル、
    リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[１−エチル−５−（５−シクロヘキシルペンタノイル）ピロール−２−イル]−１−ブチル エステル
    リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[１−エチル−５−（４−フェニルブタノイル）ピロール−２−イル]−１−ブチル エステル及び
    リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[１−エチル−５−（４−シクロヘキシルブタノイル）ピロール−２−イル]−１−ブチル エステル。
57. 請求項７において、下記より選択されるいずれか１つの化合物又はその薬理上
    許容される塩:
    ３−アミノ−３−メチル−５−[５−（５−フェニルペンチル）フラン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
    ３−アミノ−３−メチル−５−[５−（５−シクロヘキシルペント−１−イニル）フラン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
    ３−アミノ−３−メチル−５−[５−（５−フェニルペント−１−イニル）フラン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
    ３−アミノ−３−メチル−５−[５−（４−シクロヘキシルオキシブト−１−イニル）フラン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
    ３−アミノ−３−メチル−５−[５−（５−シクロヘキシルペンタノイル）フラン−２−イル]ペンチルホスホン酸及び
    ３−アミノ−３−メチル−５−｛５−[３−（３，４−ジメチルフェノキシ）プロプー１−イニル]フラン−２−イル｝ペンチルホスホン酸。
58. 請求項７において、下記より選択されるいずれか１つの化合物又はその薬理上
    許容される塩:
    ３−アミノ−３−メチル−５−[１−メチル−５−（５−フェニルペント−１−イニル）ピロール−２−イル]ペンチルホスホン酸、
    ３−アミノ−３−メチル−５−｛１−メチル−５−[３−（４−メチルフェノキシ）プロプ−１−イニル]ピロール−２−イル｝ペンチルホスホン酸、
    ３−アミノ−３−メチル−５−[１−メチル−５−（４−シクロヘキシルオキシブト−１−イニル）ピロール−２−イル]ペンチルホスホン酸、
    ３−アミノ−３−メチル−５−｛１−メチル−５−[３−（３，４−ジメチルフェノキシ）プロプ−１−イニル]ピロール−２−イル｝ペンチルホスホン酸、
    ３−アミノ−３−メチル−５−[１−メチル−５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル]ペンチルホスホン酸、
    ３−アミノ−３−メチル−５−[１−メチル−５−（５−シクロヘキシルペンタノイル）ピロール−２−イル]ペンチルホスホン酸、
    ３−アミノ−３−メチル−５−[１−メチル−５−（４−フェニルブタノイル）ピロール−２−イル]ペンチルホスホン酸、
    ３−アミノ−３−メチル−５−[１−メチル−５−（４−シクロヘキシルブタノイル）ピロール−２−イル]ペンチルホスホン酸、
    ３−アミノ−３−メチル−５−[１−エチル−５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル]ペンチルホスホン酸、
    ３−アミノ−３−メチル−５−[１−エチル−５−（５−シクロヘキシルペンタノイル）ピロール−２−イル]ペンチルホスホン酸、
    ３−アミノ−３−メチル−５−[１−エチル−５−（４−フェニルブタノイル）ピロール−２−イル]ペンチルホスホン酸及び
    ３−アミノ−３−メチル−５−[１−エチル−５−（４−シクロヘキシルブタノイル）ピロール−２−イル]ペンチルホスホン酸。
59. Ｔ細胞のサイトカイン発現に関与する細胞内シグナルの伝達を阻害する作用を有する薬剤、
    免疫細胞中でのヌクレオシド合成を阻害する作用を有する薬剤、
    免疫細胞に対するサイトカインの作用を阻害し抗リウマチ作用を有する薬剤、
    ＤＮＡ鎖の破壊又はＤＮＡの合成障害により細胞死を引き起こすアルキル化剤、
    葉酸産生を抑制して核酸代謝を阻害する代謝拮抗剤、
    ＴＮＦ−α抑制作用を有する蛋白質製剤、
    細胞内のステロイドレセプターに結合して複合体を形成し、染色体上の反応部位に結合することにより合成された蛋白質により免疫抑制作用を示すステロイドホルモン剤及び
    プロスタグランジンの産生を抑制する物質及び／又はプロスタグランジンの作用に拮抗する非ステロイド系抗炎症剤
    からなる群より選択される少なくとも一つの免疫抑制剤と、下記一般式（Ｉ）を有する化合物
    

    

    ［式中、
    Ｒ¹及びＲ²は、同一又は異なって、水素原子、低級アルキル基、低級脂肪族アシル基、低級アルコキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基又は置換基群ａから選択される基で１乃至３個置換されたアラルキルオキシカルボニル基を示し、
    Ｒ³は、水素原子、低級アルキル基、低級脂肪族アシル基、芳香族アシル基、置換基群ａから選択される基で１乃至３個置換された芳香族アシル基又はシリル基を示し、
    Ｒ⁴は、低級アルキル基を示し、
    ｎは、１乃至６の整数を示し、
    Ｘは、酸素原子または式Ｎ−Ｄを有する基（式中、Ｄは水素原子、Ｃ₆−Ｃ₁₀アリール基、低級アルキルスルホニル基、Ｃ₆−Ｃ₁₀アリールスルホニル基又は置換基群aから選択される基を示す。）を示し、
    Ｙは、エチレン基、ビニレン基、エチニレン基、式−Ｅ−ＣＨ₂−を有する基（式中、Ｅは、カルボニル基又は式−ＣＨ（ＯＨ）−を有する基を示す。）、Ｃ₆−Ｃ₁₀アリーレン基又は置換基群ａから選択される基で１乃至３個置換されたＣ₆−Ｃ₁₀アリーレン基を示し、
    Ｚは、単結合、Ｃ₁−Ｃ₁₀アルキレン基、置換基群ａ及びｂから選択される基で１乃至３個置換されたＣ₁−Ｃ₁₀アルキレン基、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子若しくは硫黄原子を有するＣ₁−Ｃ₁₀アルキレン基、又は置換基群ａ及びｂから選択される基で１乃至３個置換された、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子若しくは硫黄原子を有するＣ₁−Ｃ₁₀アルキレン基を示し、
    Ｒ⁵は、Ｃ₃−Ｃ₁₀シクロアルキル基、Ｃ₆−Ｃ₁₀アリ−ル基、硫黄原子、酸素原子及び／又は窒素原子を１乃至３個含む５乃至７員複素環基、置換基群ａ及びｂから選択される基で１乃至３個置換されたＣ₃−Ｃ₁₀シクロアルキル基、置換基群ａ及びｂから選択される基で１乃至３個置換されたＣ₆−Ｃ₁₀アリ−ル基、又は置換基群ａ及びｂから選択される基で１乃至３個置換された硫黄原子、酸素原子及び／又は窒素原子を１乃至３個含む５乃至７員複素環基を示し、
    Ｒ⁶及びＲ⁷は、同一又は異なって、水素原子又は置換基群ａから選択される基を示し、
    置換基群ａは、ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲノ低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、カルボキシ基、低級アルコキシカルボニル基、ヒドロキシ基、低級脂肪族アシル基、アミノ基、モノ−低級アルキルアミノ基、ジ−低級アルキルアミノ基、低級脂肪族アシルアミノ基、シアノ基及びニトロ基からなる群を示し、
    置換基群ｂは、Ｃ₃−Ｃ₁₀シクロアルキル基、Ｃ₆−Ｃ₁₀アリ−ル基、硫黄原子、酸素原子及び／又は窒素原子を１乃至３個含む５乃至７員複素環基、置換基群ａから選択される基で１乃至３個置換されたＣ₃−Ｃ₁₀シクロアルキル基、置換基群ａから選択される基で１乃至３個置換されたＣ₆−Ｃ₁₀アリ−ル基、及び置換基群ａから選択される基で１乃至３個置換された、硫黄原子、酸素原子及び／又は窒素原子を１乃至３個含む５乃至７員複素環基からなる群を示す。］
    を有する化合物又はその薬理上許容される塩からなる群より選ばれる少なくとも一つの化合物とからなる医薬組成物。
60. 請求項５９において、一般式（Ｉ）を有する化合物が、下記一般式（Ｉａ）
    

    

    を有する化合物である医薬組成物。
61. 請求項５９において、一般式（Ｉ）を有する化合物が、下記一般式（Ｉｂ）
    

    

    を有する化合物である医薬組成物。
62. 請求項５９において、式（Ｉ）を有する化合物が、式（ＩＩ）
    

    

    （式中、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹は、同一又は異なって、水素原子又は低級アルキル基を示す。）を有する化合物である医薬組成物。
63. 請求項６２において、式（ＩＩ）を有する化合物が、式（ＩＩａ）
    

    

    を有する化合物である医薬組成物。
64. 請求項６２において、式（ＩＩ）を有する化合物が、式（ＩＩｂ）
    

    

    を有する化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
65. Ｔ細胞のサイトカイン発現に関与する細胞内シグナルの伝達を阻害する作用を有する薬剤、
    免疫細胞中でのヌクレオシド合成を阻害する作用を有する薬剤、
    免疫細胞に対するサイトカインの作用を阻害し抗リウマチ作用を有する薬剤、
    ＤＮＡ鎖の破壊又はＤＮＡの合成障害により細胞死を引き起こすアルキル化剤、
    葉酸産生を抑制して核酸代謝を阻害する代謝拮抗剤、
    ＴＮＦ−α抑制作用を有する蛋白質製剤、
    細胞内のステロイドレセプターに結合して複合体を形成し、染色体上の反応部位に結合することにより合成された蛋白質により免疫抑制作用を示すステロイドホルモン剤及び
    プロスタグランジンの産生を抑制する物質及び／又はプロスタグランジンの作用に拮抗する非ステロイド系抗炎症剤
    からなる群より選択される少なくとも一つの免疫抑制剤と、下記一般式（ＩＩＩ）を有する化合物
    

    

    ［式中、
    Ｒ¹及びＲ²は、同一又は異なって、水素原子、低級アルキル基、低級脂肪族アシル基、低級アルコキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基又は置換基群ａから選択される基で１乃至３個置換されたアラルキルオキシカルボニル基を示し、
    Ｒ⁴は、低級アルキル基を示し、
    ｎは、１乃至６の整数を示し、
    Ｘは、酸素原子または式Ｎ−Ｄを有する基（式中、Ｄは水素原子、Ｃ₆−Ｃ₁₀アリール基、低級アルキルスルホニル基、Ｃ₆−Ｃ₁₀アリールスルホニル基又は置換基群aから選択される基を示す。）を示し、
    Ｙは、エチレン基、ビニレン基、エチニレン基、式−Ｅ−ＣＨ₂−を有する基（式中、Ｅは、カルボニル基又は式−ＣＨ（ＯＨ）−を有する基を示す。）、Ｃ₆−Ｃ₁₀アリーレン基又は置換基群ａから選択される基で１乃至３個置換されたＣ₆−Ｃ₁₀アリーレン基を示し、
    Ｚは、単結合、Ｃ₁−Ｃ₁₀アルキレン基、置換基群ａ及びｂから選択される基で１乃至３個置換されたＣ₁−Ｃ₁₀アルキレン基、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子若しくは硫黄原子を有するＣ₁−Ｃ₁₀アルキレン基、又は置換基群ａ及びｂから選択される基で１乃至３個置換された、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子若しくは硫黄原子を有するＣ₁−Ｃ₁₀アルキレン基を示し、
    Ｒ⁵は、Ｃ₃−Ｃ₁₀シクロアルキル基、Ｃ₆−Ｃ₁₀アリ−ル基、硫黄原子、酸素原子及び／又は窒素原子を１乃至３個含む５乃至７員複素環基、置換基群ａ及びｂから選択される基で１乃至３個置換されたＣ₃−Ｃ₁₀シクロアルキル基、置換基群ａ及びｂから選択される基で１乃至３個置換されたＣ₆−Ｃ₁₀アリ−ル基、又は置換基群ａ及びｂから選択される基で１乃至３個置換された硫黄原子、酸素原子及び／又は窒素原子を１乃至３個含む５乃至７員複素環基を示し、
    Ｒ⁶及びＲ⁷は、同一又は異なって、水素原子又は置換基群ａから選択される基を示し、
    Ｒ¹⁰及びＲ¹¹は、同一又は異なって、水素原子又は低級アルキル基を示し、
    置換基群ａは、ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲノ低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、カルボキシ基、低級アルコキシカルボニル基、ヒドロキシ基、低級脂肪族アシル基、アミノ基、モノ−低級アルキルアミノ基、ジ−低級アルキルアミノ基、低級脂肪族アシルアミノ基、シアノ基及びニトロ基からなる群を示し、
    置換基群ｂは、Ｃ₃−Ｃ₁₀シクロアルキル基、Ｃ₆−Ｃ₁₀アリ−ル基、硫黄原子、酸素原子及び／又は窒素原子を１乃至３個含む５乃至７員複素環基、置換基群ａから選択される基で１乃至３個置換されたＣ₃−Ｃ₁₀シクロアルキル基、置換基群ａから選択される基で１乃至３個置換されたＣ₆−Ｃ₁₀アリ−ル基、及び置換基群ａから選択される基で１乃至３個置換された、硫黄原子、酸素原子及び／又は窒素原子を１乃至３個含む５乃至７員複素環基からなる群を示す。］
    を有する化合物又はその薬理上許容される塩からなる群より選ばれる少なくとも一つの化合物とからなる医薬組成物。
66. 請求項６５において、式（ＩＩＩ）を有する化合物が、式（ＩＩＩａ）
    

    

    を有する化合物である医薬組成物。
67. 請求項６５において、式（ＩＩＩ）を有する化合物が、式（ＩＩＩｂ）
    

    

    を有する化合物である医薬組成物。
68. 請求項５９乃至６７から選択されるいずれか１項において、
    Ｒ¹及びＲ²が、同一又は異なって、水素原子、低級脂肪族アシル基、低級アルコキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基又は置換基群ａから選択される基で１乃至３個置換されたアラルキルオキシカルボニル基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
69. 請求項５９乃至６７から選択されるいずれか１項において、
    Ｒ¹及びＲ²が、同一又は異なって、水素原子、低級脂肪族アシル基又は低級アルコキシカルボニル基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
70. 請求項５９乃至６７から選択されるいずれか１項において、
    Ｒ¹及びＲ²が、同一又は異なって、水素原子、Ｃ₁−Ｃ₄脂肪族アシル基又はＣ₁−Ｃ₄アルコキシカルボニル基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
71. 請求項５９乃至６７から選択されるいずれか１項において、
    Ｒ¹及びＲ²が、同一又は異なって、水素原子、Ｃ₁−Ｃ₂脂肪族アシル基又はＣ₁−Ｃ₂アルコキシカルボニル基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
72. 請求項５９乃至６７から選択されるいずれか１項において、
    Ｒ¹及びＲ²が、同一又は異なって、水素原子、アセチル基又はメトキシカルボニル基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
73. 請求項５９乃至６７から選択されるいずれか１項において、
    Ｒ¹及びＲ²が、水素原子である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
74. 請求項５９乃至６１及び６８乃至７３から選択されるいずれか１項において、
    Ｒ³が、水素原子、低級アルキル基、低級脂肪族アシル基、芳香族アシル基、置換基群ａから選択される基で１乃至３個置換された芳香族アシル基又はシリル基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
75. 請求項５９乃至６１及び６８乃至７３から選択されるいずれか１項において、
    Ｒ³が、水素原子又は低級アルキル基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
76. 請求項５９乃至６１及び６８乃至７３から選択されるいずれか１項において、
    Ｒ³が、水素原子又はＣ₁−Ｃ₄アルキル基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
77. 請求項５９乃至６１及び６８乃至７３から選択されるいずれか１項において、
    Ｒ³が、水素原子、メチル基又はエチル基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
78. 請求項５９乃至６１及び６８乃至７３から選択されるいずれか１項において、
    Ｒ³が、水素原子である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
79. 請求項５９乃至７８から選択されるいずれか１項において、
    Ｒ⁴が、Ｃ₁−Ｃ₄アルキル基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
80. 請求項５９乃至７８から選択されるいずれか１項において、
    Ｒ⁴が、Ｃ₁−Ｃ₂アルキル基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
81. 請求項５９乃至７８から選択されるいずれか１項において、
    Ｒ⁴が、メチル基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
82. 請求項５９乃至８１から選択されるいずれか１項において、
    ｎが、２又は３である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
83. 請求項５９乃至８１から選択されるいずれか１項において、
    ｎが、２である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
84. 請求項５９乃至８３から選択されるいずれか１項において、
    Ｘが、硫黄原子である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
85. 請求項５９乃至８３から選択されるいずれか１項において、
    Ｘが、酸素原子である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
86. 請求項５９乃至８３から選択されるいずれか１項において、
    Ｘが、式Ｎ−Ｄを有する基（式中、Ｄは水素原子、Ｃ₁−Ｃ₄アルキル基又はフェニル基を示す。）である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
87. 請求項５９乃至８３から選択されるいずれか１項において、
    Ｘが、式Ｎ−ＣＨ₃を有する基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
88. 請求項５９乃至８７から選択されるいずれか１項において、
    Ｙが、エチレン基、エチニレン基、式−ＣＯ−ＣＨ₂−を有する基、式−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ₂−を有する基、フェニレン基、又はハロゲン原子及び低級アルキル基からなる群より選択される基で１乃至３個置換されたフェニレン基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
89. 請求項５９乃至８７から選択されるいずれか１項において、
    Ｙが、エチレン基、エチニレン基、式−ＣＯ−ＣＨ₂−を有する基又はフェニレン基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
90. 請求項５９乃至８９から選択されるいずれか１項において、
    Ｚが、Ｃ₁−Ｃ₁₀アルキレン基又は置換基群ａ及びｂから選択される基で１乃至３個置換されたＣ₁−Ｃ₁₀アルキレン基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
91. 請求項５９乃至８９から選択されるいずれか１項において、
    ＺがＣ₁−Ｃ₆アルキレン基又はヒドロキシ基で１乃至３個置換されたＣ₁−Ｃ₆アルキレン基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
92. 請求項５９乃至８９から選択されるいずれか１項において、
    ＺがＣ₁−Ｃ₅アルキレン基又はヒドロキシ基で１乃至３個置換されたＣ₁−Ｃ₅アルキレン基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
93. 請求項５９乃至８９から選択されるいずれか１項において、
    Ｚが、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、又は１個のヒドロキシ基で置換されたエチレン基、トリメチレン基若しくはテトラメチレン基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
94. 請求項５９乃至８９から選択されるいずれか１項において、
    Ｚが、エチレン基、トリメチレン基若しくはテトラメチレン基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
95. 請求項５９乃至８９から選択されるいずれか１項において、
    Ｚが、エチレン若しくはトリメチレン基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
96. 請求項５９乃至８９から選択されるいずれか１項において、
    Ｚが、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子若しくは硫黄原子を有するＣ₁−Ｃ₁₀アルキレン基、又は１個のヒドロキシ基で置換された、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子若しくは硫黄原子を有するＣ₁−Ｃ₁₀アルキレン基（該置換基は、低級アルキル基及びヒドロキシ基からなる群から選択される基である。）である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
97. 請求項５９乃至８９から選択されるいずれか１項において、
    Ｚが、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子若しくは硫黄原子を有するＣ₁−Ｃ₁₀アルキレン基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
98. 請求項５９乃至８９から選択されるいずれか１項において、
    Ｚが、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子を有するＣ₁−Ｃ₁₀アルキレン基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
99. 請求項５９乃至８９から選択されるいずれか１項において、
    Ｚが、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子を有するＣ₁−Ｃ₆アルキレン基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
100. 請求項５９乃至８９から選択されるいずれか１項において、
     Ｚが、−Ｏ−ＣＨ₂−、−Ｏ−（ＣＨ₂）₂−、−Ｏ−（ＣＨ₂）₃−、−ＣＨ₂−Ｏ−、−（ＣＨ₂）₂−Ｏ−又は−（ＣＨ₂）₃−Ｏ−を有する基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
101. 請求項５９乃至８９から選択されるいずれか１項において、
     Ｚが、−ＣＨ₂−Ｏ−又は−（ＣＨ₂）₂−Ｏ−を有する基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
102. 請求項５９乃至１０１から選択されるいずれか１項において、
     Ｒ⁵が、Ｃ₃−Ｃ₁₀シクロアルキル基、Ｃ₆−Ｃ₁₀アリール基、又はハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲノ低級アルキル基、低級アルコキシ基及び低級アルキルチオ基から成る群から選択される基で１乃至３個置換されたＣ₃−Ｃ₁₀シクロアルキル若しくはＣ₆−Ｃ₁₀アリール基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
103. 請求項５９乃至１０１から選択されるいずれか１項において、
     Ｒ⁵が、Ｃ₃−Ｃ₁₀シクロアルキル基、Ｃ₆−Ｃ₁₀アリール基、又はハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲノ低級アルキル基及び低級アルコキシ基から成る群から選択される基で１乃至３個置換されたＣ₃−Ｃ₁₀シクロアルキル若しくはＣ₆−Ｃ₁₀アリール基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
104. 請求項５９乃至１０１から選択されるいずれか１項において、
     Ｒ⁵が、Ｃ₅−Ｃ₆シクロアルキル基、フェニル基又はナフチル基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
105. 請求項５９乃至１０１から選択されるいずれか１項において、
     Ｒ⁵が、シクロヘキシル基又はフェニル基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
106. 請求項５９乃至１０５から選択されるいずれか１項において、
     Ｒ⁶及びＲ⁷が、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲノ低級アルキル基、低級アルコキシ基又は低級アルキルチオ基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
107. 請求項５９乃至１０５から選択されるいずれか１項において、
     Ｒ⁶及びＲ⁷が、水素原子である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
108. 請求項６２乃至７３及び７９乃至１０７から選択されるいずれか１項において、
     Ｒ¹⁰及びＲ¹¹が、同一又は異なって、水素原子又は低級アルキル基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
109. 請求項６２乃至７３及び７９乃至１０７から選択されるいずれか１項において、
     Ｒ¹⁰及びＲ¹¹が、同一又は異なって、水素原子又はＣ₁−Ｃ₄アルキル基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
110. 請求項６２乃至７３及び７９乃至１０７から選択されるいずれか１項において、
     Ｒ¹⁰及びＲ¹¹が、同一又は異なって、水素原子、メチル基又はエチル基である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
111. 請求項６２乃至７３及び７９乃至１０７から選択されるいずれか１項において、
     Ｒ¹⁰及びＲ¹¹が、水素原子である化合物又はその薬理上許容される塩である医薬組成物。
112. 請求項５９において、一般式（Ｉ）を有する化合物又はその薬理上許容される塩からなる群が、下記化合物又はその薬理上許容される塩からなる群である医薬組成物：
     ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−シクロヘキシルブチル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
     ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(５−シクロヘキシルペンチル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
     ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(５−フェニルペンチル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
     ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−シクロヘキシルオキシブチル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
     ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[４−(４−フルオロフェノキシ)ブチル]チオフェン−２−イル｝ブタン−１−オ−ル、
     ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[４−(４−メトキシフェノキシ)ブチル]チオフェン−２−イル｝ブタン−１−オ−ル、
     ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−ベンジルオキシブチル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
     ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−シクロヘキシルブト−１−イニル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
     ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−フェニルブト−１−イニル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
     ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(５−シクロヘキシルペント−１−イニル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
     ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(５−フェニルペント−１−イニル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
     ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[５−(４−フルオロフェニル)ペント−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ブタン−１−オ−ル、
     ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[５−(４−メトキシフェニル)ペント−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ブタン−１−オ−ル、
     ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−(４−メチルフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ブタン−１−オ−ル、
     ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−(４−エチルフェノキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ブタン−１−オ−ル、
     ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−(４−メチルチオフェノキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ブタン−１−オ−ル、
     ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−シクロヘキシルオキシブト−１−イニル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
     ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[４−(４−フルオロフェノキシ)ブト−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ブタン−１−オ−ル、
     ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[４−(４−メチルフェノキシ)ブト−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ブタン−１−オ−ル、
     ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(３−シクロヘキシルメトキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ブタン−１−オ−ル、
     ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−ベンジルオキシブト−１−イニル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
     ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−シクロヘキシルブタノイル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オール、
     ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−フェニルブタノイル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
     ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(５−シクロヘキシルペンタノイル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
     ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(５−フェニルペンタノイル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
     ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[５−(４−フルオロフェニル)ペンタノイル]チオフェン−２−イル｝ブタン−１−オ−ル、
     ２−アミノ−２−エチル−４−[５−(５−シクロヘキシルペンチル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
     ２−アミノ−２−エチル−４−[５−(５−シクロヘキシルペント−１−イニル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
     ２−アミノ−２−エチル−４−[５−(５−シクロヘキシルペンタノイル)チオフェン−２−イル]ブタン−１−オ−ル、
     ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−(４−クロロフェノキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ブタン−１−オ−ル、
     ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−(３−メチルフェノキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ブタン−１−オ−ル、
     ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−(３,４−ジメチルフェノキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ブタン−１−オ−ル、
     ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−(３−メトキシフェノキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ブタン−１−オ−ル、
     ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−(３,４−ジメトキシフェノキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ブタン−１−オ−ル、
     ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−(３,５−ジメトキシフェノキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ブタン−１−オ−ル、
     ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−(３−アセチルフェノキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ブタン−１−オ−ル及び
     ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−(４−アセチルフェノキシプロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ブタン−１−オ−ル。
113. 請求項５９において、一般式（Ｉ）を有する化合物又はその薬理上許容される塩からなる群が、下記化合物又はその薬理上許容される塩からなる群である医薬組成物：
     ２−アミノ−２−メチル−４−[５−（５−フェニルペンチル）フラン−２−イル]ブタン−１−オール、
     ２−アミノ−２−メチル−４−[５−（５−シクロヘキシルペント−１−イニル）フラン−２−イル]ブタン−１−オール、
     ２−アミノ−２−メチル−４−[５−（５−フェニルペント−１−イニル）フラン−２−イル]ブタン−１−オール、
     ２−アミノ−２−メチル−４−[５−（４−シクロヘキシルオキシブト−１−イニル）フラン−２−イル]ブタン−１−オール、
     ２−アミノ−２−メチル−４−[５−（５−シクロヘキシルペンタノイル）フラン−２−イル]ブタン−１−オール及び
     ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−（３，４−ジメチルフェノキシ）プロプ−１−イニル]フラン−２−イル｝ブタン−１−オール。
114. 請求項５９において、一般式（Ｉ）を有する化合物又はその薬理上許容される塩からなる群が、下記化合物又はその薬理上許容される塩からなる群である医薬組成物：
     ２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（５−フェニルペント−１−イニル）ピロール−２−イル]ブタン−１−オール、
     ２−アミノ−２−メチル−４−｛１−メチル−５−[３−（４−メチルフェノキシ）プロプ−１−イニル]ピロール−２−イル｝ブタン−１−オール、
     ２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（４−シクロヘキシルオキシブト−１−イニル）ピロール−２−イル]ブタン−１−オール、
     ２−アミノ−２−メチル−４−｛１−メチル−５−[３−（３，４−ジメチルフェノキシ）プロプ−１−イニル]ピロール−２−イル｝ブタン−１−オール、
     ２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル]ブタン−１−オール、
     ２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（５−シクロヘキシルペンタノイル）ピロール−２−イル]ブタン−１−オール、
     ２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（４−フェニルブタノイル）ピロール−２−イル]ブタン−１−オール、
     ２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（４−シクロヘキシルブタノイル）ピロール−２−イル]ブタン−１−オール、
     ２−アミノ−２−メチル−４−[１−エチル−５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル]ブタン−１−オール、
     ２−アミノ−２−メチル−４−[１−エチル−５−（５−シクロヘキシルペンタノイル）ピロール−２−イル]ブタン−１−オール、
     ２−アミノ−２−メチル−４−[１−エチル−５−（４−フェニルブタノイル）ピロール−２−イル]ブタン−１−オール及び
     ２−アミノ−２−メチル−４−[１−エチル−５−（４−シクロヘキシルブタノイル）ピロール−２−イル]ブタン−１−オール。
115. 請求項６２において、一般式（ＩＩ）を有する化合物又はその薬理上許容される塩からなる群が、下記化合物又はその薬理上許容される塩からなる群である医薬組成物：
     リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−シクロヘキシルブチル)チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
     リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(５−シクロヘキシルペンチル)チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
     リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(５−フェニルペンチル)チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
     リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−シクロヘキシルオキシブチル)チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
     リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[４−(４−フルオロフェノキシ)ブチル]チオフェン−２−イル｝−１−ブチル エステル、
     リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[４−(４−メトキシフェノキシ)ブチル]チオフェン−２−イル｝−１−ブチル エステル、
     リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−ベンジルオキシブチル)チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
     リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−シクロヘキシルブト−１−イニル)チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
     リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−フェニルブト−１−イニル)チオフェン−２−イル]−１−ブチル エステル、
     リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(５−シクロヘキシルペント−１−イニル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
     リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(５−フェニルペント−１−イニル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
     リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[５−(４−フルオロフェニル)ペント−１−イニル]チオフェン−２−イル｝−１−ブチル エステル、
     リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[５−(４−メトキシフェニル)ペント−１−イニル]チオフェン−２−イル｝−１−ブチル エステル、
     リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−(４−メチルフェノキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝−１−ブチル エステル、
     リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−(４−エチルフェノキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝−１−ブチル エステル、
     リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−(４−メチルチオフェノキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝−１−ブチル エステル、
     リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−シクロヘキシルオキシブト−１−イニル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
     リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[４−(４−フルオロフェノキシ)ブト−１−イニル]チオフェン−２−イル｝−１−ブチル エステル、
     リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[４−(４−メチルフェノキシ)ブト−１−イニル]チオフェン−２−イル｝−１−ブチル エステル、
     リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(３−シクロヘキシルメトキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝−１−ブチル エステル、
     リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−ベンジルオキシブト−１−イニル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
     リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−（４−シクロヘキシルブタノイル）チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
     リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(４−フェニルブタノイル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
     リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(５−シクロヘキシルペンタノイル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
     リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−(５−フェニルペンタノイル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
     リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[５−(４−フルオロフェニル)ペンタノイル]チオフェン−２−イル｝−１−ブチル エステル、
     リン酸 モノ ２−アミノ−２−エチル−４−[５−(５−シクロヘキシルペンチル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
     リン酸 モノ ２−アミノ−２−エチル−４−[５−(５−シクロヘキシルペント−１−イニル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
     リン酸 モノ ２−アミノ−２−エチル−４−[５−(５−シクロヘキシルペンタノイル)チオフェン−２−イル] −１−ブチル エステル、
     リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−(４−クロロフェノキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝−１−ブチル エステル、
     リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−(３−メチルフェノキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝−１−ブチル エステル、
     リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−(３,４−ジメチルフェノキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝−１−ブチル エステル、
     リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−(３−メトキシフェノキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝−１−ブチル エステル、
     リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−(３,４−ジメトキシフェノキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝−１−ブチル エステル、
     リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−(３,５−ジメトキシフェノキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝−１−ブチル エステル、
     リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−(３−アセチルフェノキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝−１−ブチル エステル及び
     リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−(４−アセチルフェノキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝−１−ブチル エステル。
116. 請求項６２において、一般式（ＩＩ）を有する化合物又はその薬理上許容される塩からなる群が、下記化合物又はその薬理上許容される塩からなる群である医薬組成物：
     リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−（５−フェニルペンチル）フラン−２−イル] −１−ブチル エステル、
     リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−（５−シクロヘキシルペント−１−イニル）フラン−２−イル] −１−ブチル エステル、
     リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−（５−フェニルペント−１−イニル）フラン−２−イル] −１−ブチル エステル、
     リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−（４−シクロヘキシルオキシブト−１−イニル）フラン−２−イル] −１−ブチル エステル、
     リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[５−（５−シクロヘキシルペンタノイル）フラン−２−イル] −１−ブチル エステル及び
     リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−｛５−[３−（３，４−ジメチルフェノキシ）プロプ−１−イニル]フラン−２−イル｝−１−ブチル エステル。
117. 請求項６２において、一般式（ＩＩ）を有する化合物又はその薬理上許容される塩からなる群が、下記化合物又はその薬理上許容される塩からなる群である医薬組成物：
     リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（５−フェニルペント−１−イニル）ピロール−２−イル] −１−ブチル エステル、
     リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−｛１−メチル−５−[３−（４−メチルフェノキシ）プロプ−１−イニル]ピロール−２−イル｝−１−ブチル エステル、
     リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（４−シクロヘキシルオキシブト−１−イニル）ピロール−２−イル] −１−ブチル エステル、
     リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−｛１−メチル−５−[３−（３，４−ジメチルフェノキシ）プロプ−１−イニル]ピロール−２−イル｝−１−ブチル エステル、
     リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル] −１−ブチル エステル、
     リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（５−シクロヘキシルペンタノイル）ピロール−２−イル]−１−ブチル エステル、
     リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（４−フェニルブタノイル）ピロール−２−イル]−１−ブチル エステル、
     リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[１−メチル−５−（４−シクロヘキシルブタノイル）ピロール−２−イル]−１−ブチル エステル、
     リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[１−エチル−５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル]−１−ブチル エステル、
     リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[１−エチル−５−（５−シクロヘキシルペンタノイル）ピロール−２−イル]−１−ブチル エステル、
     リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[１−エチル−５−（４−フェニルブタノイル）ピロール−２−イル]−１−ブチル エステル及び
     リン酸 モノ ２−アミノ−２−メチル−４−[１−エチル−５−（４−シクロヘキシルブタノイル）ピロール−２−イル]−１−ブチル エステル。
118. 請求項６５において、一般式（ＩＩＩ）を有する化合物又はその薬理上許容される塩からなる群が、下記化合物又はその薬理上許容される塩からなる群である医薬組成物：
     ３−アミノ−３−メチル−５−[５−(４−シクロヘキシルブチル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
     ３−アミノ−３−メチル−５−[５−(５−シクロヘキシルペンチル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
     ３−アミノ−３−メチル−５−[５−(５−フェニルペンチル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
     ３−アミノ−３−メチル−５−[５−(４−シクロヘキシルオキシブチル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
     ３−アミノ−３−メチル−５−｛５−[４−(４−フルオロフェノキシ)ブチル]チオフェン−２−イル｝ペンチルホスホン酸、
     ３−アミノ−３−メチル−５−｛５−[４−(４−メトキシフェノキシ)ブチル]チオフェン−２−イル｝ペンチルホスホン酸、
     ３−アミノ−３−メチル−５−[５−(４−ベンジルオキシブチル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
     ３−アミノ−３−メチル−５−[５−(４−シクロヘキシルブト−１−イニル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
     ３−アミノ−３−メチル−５−[５−(４−フェニルブト−１−イニル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
     ３−アミノ−３−メチル−５−[５−(５−シクロヘキシルペント−１−イニル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
     ３−アミノ−３−メチル−５−[５−(５−フェニルペント−１−イニル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
     ３−アミノ−３−メチル−５−｛５−[５−(４−フルオロフェニル)ペント−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ペンチルホスホン酸、
     ３−アミノ−３−メチル−５−｛５−[５−(４−メトキシフェニル)ペント−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ペンチルホスホン酸、
     ３−アミノ−３−メチル−５−｛５−[３−(４−メチルフェノキシ)プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ペンチルホスホン酸、
     ３−アミノ−３−メチル−５−｛５−[３−(４−エチルフェノキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ペンチルホスホン酸、
     ３−アミノ−３−メチル−５−｛５−[３−(４−メチルチオフェノキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ペンチルホスホン酸、
     ３−アミノ−３−メチル−５−[５−(４−シクロヘキシルオキシブト−１−イニル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
     ３−アミノ−３−メチル−５−｛５−[４−(４−フルオロフェノキシ)ブト−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ペンチルホスホン酸、
     ３−アミノ−３−メチル−５−｛５−[４−(４−メチルフェノキシ)ブト−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ペンチルホスホン酸、
     ３−アミノ−３−メチル−５−[５−(３−シクロヘキシルメトキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ペンチルホスホン酸、
     ３−アミノ−３−メチル−５−[５−(４−ベンジルオキシブト−１−イニル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
     ３−アミノ−３−メチル−５−［５−（４−シクロヘキシルブタノイル）チオフェン−２−イル］ペンチルホスホン酸、
     ３−アミノ−３−メチル−５−[５−(４−フェニルブタノイル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
     ３−アミノ−３−メチル−５−[５−(５−シクロヘキシルペンタノイル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
     ３−アミノ−３−メチル−５−[５−(５−フェニルペンタノイル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
     ３−アミノ−３−メチル−５−｛５−[５−(４−フルオロフェニル)ペンタノイル]チオフェン−２−イル｝ペンチルホスホン酸、
     ３−アミノ−３−エチル−５−[５−(５−シクロヘキシルペンチル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
     ３−アミノ−３−エチル−５−[５−(５−シクロヘキシルペント−１−イニル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
     ３−アミノ−３−エチル−５−[５−(５−シクロヘキシルペンタノイル)チオフェン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
     ３−アミノ−３−メチル−５−｛５−[３−(４−クロロフェノキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ペンチルホスホン酸、
     ３−アミノ−３−メチル−５−｛５−[３−(３−メチルフェノキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ペンチルホスホン酸、
     ３−アミノ−３−メチル−５−｛５−[３−(３,４−ジメチルフェノキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ペンチルホスホン酸、
     ３−アミノ−３−メチル−５−｛５−[３−(３−メトキシフェノキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ペンチルホスホン酸、
     ３−アミノ−３−メチル−５−｛５−[３−(３,４−ジメトキシフェノキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ペンチルホスホン酸、
     ３−アミノ−３−メチル−５−｛５−[３−(３,５−ジメトキシフェノキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ペンチルホスホン酸、
     ３−アミノ−３−メチル−５−｛５−[３−(３−アセチルフェノキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ペンチルホスホン酸及び
     ３−アミノ−３−メチル−５−｛５−[３−(４−アセチルフェノキシ) プロプ−１−イニル]チオフェン−２−イル｝ペンチルホスホン酸。
119. 請求項６５において、一般式（ＩＩＩ）を有する化合物又はその薬理上許容される塩からなる群が、下記化合物又はその薬理上許容される塩からなる群である医薬組成物：
     ３−アミノ−３−メチル−５−[５−（５−フェニルペンチル）フラン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
     ３−アミノ−３−メチル−５−[５−（５−シクロヘキシルペント−１−イニル）フラン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
     ３−アミノ−３−メチル−５−[５−（５−フェニルペント−１−イニル）フラン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
     ３−アミノ−３−メチル−５−[５−（４−シクロヘキシルオキシブト−１−イニル）フラン−２−イル]ペンチルホスホン酸、
     ３−アミノ−３−メチル−５−[５−（５−シクロヘキシルペンタノイル）フラン−２−イル]ペンチルホスホン酸及び
     ３−アミノ−３−メチル−５−｛５−[３−（３，４−ジメチルフェノキシ）プロプ−１−イニル]フラン−２−イル｝ペンチルホスホン酸。
120. 請求項６５において、一般式（ＩＩＩ）を有する化合物又はその薬理上許容される塩からなる群が、下記化合物又はその薬理上許容される塩からなる群である医薬組成物：
     ３−アミノ−３−メチル−５−[１−メチル−５−（５−フェニルペント−１−イニル）ピロール−２−イル]ペンチルホスホン酸、
     ３−アミノ−３−メチル−５−｛１−メチル−５−[３−（４−メチルフェノキシ）プロプ−１−イニル]ピロール−２−イル｝ペンチルホスホン酸、
     ３−アミノ−３−メチル−５−[１−メチル−５−（４−シクロヘキシルオキシブト−１−イニル）ピロール−２−イル]ペンチルホスホン酸、
     ３−アミノ−３−メチル−５−｛１−メチル−５−[３−（３，４−ジメチルフェノキシ）プロプ−１−イニル]ピロール−２−イル｝ペンチルホスホン酸、
     ３−アミノ−３−メチル−５−[１−メチル−５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル]ペンチルホスホン酸、
     ３−アミノ−３−メチル−５−[１−メチル−５−（５−シクロヘキシルペンタノイル）ピロール−２−イル]ペンチルホスホン酸、
     ３−アミノ−３−メチル−５−[１−メチル−５−（４−フェニルブタノイル）ピロール−２−イル]ペンチルホスホン酸、
     ３−アミノ−３−メチル−５−[１−メチル−５−（４−シクロヘキシルブタノイル）ピロール−２−イル]ペンチルホスホン酸、
     ３−アミノ−３−メチル−５−[１−エチル−５−（５−フェニルペンタノイル）ピロール−２−イル]ペンチルホスホン酸、
     ３−アミノ−３−メチル−５−[１−エチル−５−（５−シクロヘキシルペンタノイル）ピロール−２−イル]ペンチルホスホン酸、
     ３−アミノ−３−メチル−５−[１−エチル−５−（４−フェニルブタノイル）ピロール−２−イル]ペンチルホスホン酸及び
     ３−アミノ−３−メチル−５−[１−エチル−５−（４−シクロヘキシルブタノイル）ピロール−２−イル]ペンチルホスホン酸。
121. 請求項５９乃至１２０から選択されるいずれか１項において、免疫抑制剤が、
     Ｔ細胞のサイトカイン発現に関与する細胞内シグナルの伝達を阻害する作用を有する薬剤（該薬剤は、サイクロスポリンＡ、タクロリムス、ラパマイシン、グスベリムス、エベロリムス、トレスペリムス、アニスペリムス、ＳＤＺ−２８１−２４０、ＡＢＴ−２８１、チグデリムス、Ａ−１１９４３５又は１７−エチル−１，１４−ジヒドロキシ−１２−[２−[４−（２−フェニルヒドラジノカルボニルオキシ）−３−メトキシシクロヘキシル]−１−メチルビニル]−２３，２５−ジメトキシ−１３，１９，２１，２７−テトラメチル−１１，２８−ジオキサ−４−アザトリシクロ[２２．３．１．０4,9]オクタコス−１８−エン−２，３，１０，１６−テトロンである。）、
     免疫細胞中でのヌクレオシド合成阻害する作用を有する薬剤（該薬剤は、ミゾリビン、アザチオプリン、ミコフェノ−ル酸、レフルノマイド、メリメンポディブ、ＨＭＲ−１２７９、ＴＳＫ−２０４又はＳＰ−１０００３０である。）、
     免疫細胞に対するサイトカインの作用を阻害し抗リウマチ作用を有する薬剤（該薬剤は、Ｔ−６１４、アクタリット、サラゾスルファピリジン又はＣＤＣ−８０１である。）、
     ＤＮＡ鎖の破壊又はＤＮＡの合成障害により細胞死を引き起こすアルキル化剤（該アルキル化剤は、シクロフォスファミドである。）、
     葉酸産生を抑制して核酸代謝を阻害する代謝拮抗剤（該代謝拮抗剤は、メトトレキセ−トである。）、
     ＴＮＦ−α抑制作用を有する蛋白質製剤（該蛋白質製剤は、レミケ−ド、エンブレル、ダクリズマブ、バシリキシマブ、アルムツズマブ、オマリズマブ、ＢＭＳ−１８８６６７、ＣＤＰ−５７１、イノリモマブ、ＡＴＭ−０２７又はＢＴＩ−３２２である。）、
     細胞内のステロイドレセプタ−に結合して複合体を形成し、染色体上の反応部位に結合することにより合成された蛋白質により免疫抑制作用を示すステロイドホルモン剤（該ステロイドホルモン剤は、プレドニゾロンである。）又は
     プロスタグランジンの産生を抑制する物質及び／又はプロスタグランジンの作用に拮抗する非ステロイド系抗炎症剤（該非ステロイド系抗炎症剤は、ロキソプロフェンナトリウム、ジクロフェナックナトリウム、メロキシカム、セレコキシブ、ロフェコキシブである。）からなる群より選択される少なくとも一つの薬剤である医薬組成物。
122. 請求項５９乃至１２０から選択されるいずれか１項において、免疫抑制剤が、
     サイクロスポリンＡ、タクロリムス、ラパマイシン、レフルノマイド、メトトレキセ−ト、レミケ−ド及びエンブレルからなる群より選択される少なくとも一つの薬剤である医薬組成物。