JP4249352B2 - 不揮発性半導体記憶装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、フラッシュメモリ等の電気的に書換え可能な不揮発性半導体記憶装置に関し、特に読み出しセルのソース側ビット線およびリファレンスセルのソース側ビット線に容量を付加して、その容量に充放電される電流変化に基づいて、プログラム・ベリファイおよびイレーズ・ベリファイをおこなう不揮発性半導体記憶装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
図5は、従来の不揮発性半導体記憶装置の要部を示す回路図であり、特にデータの読み出し、プログラム・ベリファイおよびイレーズ・ベリファイの動作を説明するための構成を示したものである。
【0003】
図5に示す不揮発性半導体記憶装置は、データを記憶する複数のメモリセル(読み出しセル)を格子状に配置したメモリセル・アレイ20と、アドレスの入力に基づいてメモリセル・アレイ20のロウ方向、すなわちワード線WL0〜WLnの一つを選択するロウデコーダ22と、図示しないコラムデコーダから入力されるコラム信号に基づいてメモリセル・アレイ20のコラム方向、すなわちビット線の一つを選択するドレイン側ビット線21およびソース側ビット線23と、を備えている。
【0004】
また、この不揮発性半導体記憶装置は、データ読み出し時の記憶状態の判断、プログラム・ベリファイおよびイレーズ・ベリファイをおこなうためのリファレンスセル30と、メモリセル・アレイ20およびリファレンスセル30のそれぞれから出力される信号間を比較するセンスアンプ40と、を備えている。
【0005】
また、データの読み出し、プログラム・ベリファイおよびイレーズ・ベリファイのそれぞれの動作に応じた電圧をリファレンスセル30のコントロール・ゲートに印加するリファレンス・ワード線ドライバ32と、データの読み出し用の電圧を生成する読み出し電圧発生器24と、プログラム・ベリファイ用の電圧を生成するプログラム・ベリファイ電圧発生器26と、イレーズ・ベリファイ用の電圧を生成するイレーズ・ベリファイ電圧発生器28と、を備えて構成されている。
【0006】
特に、メモリセル・アレイ20側のソース側ビット線23とリファレンスセル30側のソース側ビット線には、それぞれの出力端部に並列に、メモリセル・アレイ20から出力された信号を充電するための所定の容量が付加されており、後述するように、センスアンプ40が、これら容量間の充電速度の相違に基づく電位差を検出することにより、データの読み出し、プログラム・ベリファイおよびイレーズ・ベリファイをおこなうことができる。なお、通常これら容量は、センスアンプ40内の2つの入力線にそれぞれ並列に設けられる。
【0007】
また、上記した読み出しセルおよびリファレンスセル30は、たとえば、p型シリコン基板上に、ソースおよびドレインとしてn型拡散層を形成し、これらソースおよびドレイン間に配置されかつ絶縁体で覆われたフローティング・ゲートと、そのフローティング・ゲートへのホットエレクトロン注入およびゲート電圧の制御をおこなうコントロール・ゲートとから構成される電気的に書換え可能な不揮発性半導体記憶素子であり、たとえばフラッシュEEPROM(Electrically Erasable Programmable Read-Only Memory)等である。
【0008】
つぎに、この不揮発性半導体記憶装置のデータ読み出し、プログラム・ベリファイおよびイレーズ・ベリファイの動作について順に説明する。なお、データの書き込み(プログラム)は、たとえば、ソース電圧Vs=0[V]、ドレイン電圧Vd=5〜6[V]、コントロール・ゲート電圧Vcg=12[V](プログラム電圧)とし、ドレインからフローティング・ゲートにホットエレクトロンを注入することによりおこなわれる。
【0009】
また、データの消去(イレーズ)は、たとえば、ソース電圧Vs=5[V](電源電圧)、コントロール・ゲート電圧Vcg=−8.5[V](イレーズ電圧)とし、ドレインを開放状態として、フローティング・ゲートからソースに電子を引き抜くことによりおこなわれる。
【0010】
(データ読み出し)
まず、データ読み出し動作においては、図5において、pチャネル型MOSトランジスタTr11およびTr21を、それぞれ信号PD1、PD2によってON状態とする。
【0011】
そして、アドレスの指定に対し、図示しないコラムデコーダがドレイン側ビット線21とソース側ビット線23のそれぞれに接続されたMOSトランジスタをON状態とし(ビット線の選択)、ロウデコーダ22が、読み出し電圧発生器24から供給される読み出し電圧を読み出しセルのコントロール・ゲートに印加する(ワード線の選択)。
【0012】
すなわち、これらビット線とワード線の選択により、データ読み出しの対象となる読み出しセルが選択される。そして、この状態において、MOSトランジスタTr12およびTr13がコラムセレクト信号CSによりON状態にされることで、選択されたビット線が有効となり、読み出しセルに記憶されたデータを読み出すことができる。
【0013】
一方、リファレンスセル30側では、データ読み出し動作、プログラム動作およびイレーズ動作においてセンスアンプ40に入力される電流の特性を考慮して、読み出しセル側の動作において制御されるMOSトランジスタと同様な特性のMOSトランジスタTr22、Tr23、Tr25、Tr26が配置されており、これらMOSトランジスタは常時ON状態とされている。
【0014】
そして、リファレンスセル30側においても、上記したメモリセル・アレイ20側の動作にともなって、リファレンス・ワード線ドライバ32が、読み出し電圧発生器24から供給される読み出し電圧を、ワード線WLrefを介してリファレンスセル30のコントロール・ゲートに印加する。
【0015】
そして、メモリセル・アレイ20側とリファレンスセル30側の双方において、それぞれMOSトランジスタTr14およびTr24が信号EQによりON状態とされ、上記した容量に蓄積された電荷が放電(リセット)される。つづいて、所定のタイミングの信号EQの入力によりこれらMOSトランジスタTr14およびTr24がOFF状態とされる。
【0016】
これにより、メモリセル・アレイ20側のソース側ビット線23から出力される信号が、SAIN信号として、MOSトランジスタTr13を介してセンスアンプ40に入力される。なお、このSAIN信号は、実際には、上記した容量の電位変化として現れる。
【0017】
また、リファレンスセル30側においても、ソース側ビット線を通じて出力される信号が、SAREF信号としてセンスアンプ40に入力される。なお、このSAREF信号もまた、上記した容量の電位変化として現れる。
【0018】
そして、センスアンプ40が、SAIN信号とSAREF信号との間の電位変化、すなわち、上記した各容量への充電速度を検出することによって、SAIN信号とSAREF信号との電位差を演算する。
【0019】
たとえば、センスアンプ40は、メモリセル・アレイ20側の上記容量への充電速度がリファレンスセル30側の上記容量への充電速度よりも小さく、かつ信号LTによってMOSトランジスタTr15がON状態にされるタイミングにおいて、SAIN信号がSAREF信号の電位よりも小さい場合に、フローティング・ゲートにホットエレクトロンが注入された状態であると判断し、OUT信号としてデータ“0”を出力する。
【0020】
また、これとは逆に、メモリセル・アレイ20側の上記容量への充電速度がリファレンスセル30側の上記容量への充電速度よりも大きく、かつ信号LTによってMOSトランジスタTr15がON状態にされるタイミングにおいて、SAIN信号がSAREF信号の電位よりも大きい場合に、センスアンプ40は、フローティング・ゲートの電子が引き抜かれた状態であると判断し、OUT信号としてデータ“1”を出力する。
【0021】
なお、このデータ読み出しは、たとえば、ソース電圧Vs=0[V]、ドレイン電圧Vd=1[V]、コントロール・ゲート電圧Vcg=5[V]としておこなわれる。
【0022】
(プログラム・ベリファイ)
プログラム・ベリファイ動作についても、上記したデータ読み出し動作と同様に、まず、メモリセル・アレイ20側において読み出しセルの選択をおこなう。ただし、リファレンスセル30側においては、リファレンス・ワード線ドライバ32が、読み出し電圧発生器24により生成される読み出し電圧に代えて、プログラム・ベリファイ電圧発生器26により生成されるプログラム・ベリファイ電圧を、リファレンスセル30のコントロール・ゲートに印加する。
【0023】
ここで、このプログラム・ベリファイ電圧は、読み出し電圧が示す電圧値よりも低い値に設定される。これにより、センスアンプ40は、データ読み出し時よりも小さい電位を示すSAREF信号に対し、信号LTによってMOSトランジスタTr15がON状態にされるタイミングにおいて、SAIN信号がさらに小さくなる場合に、正常にプログラム動作がおこなわれたものと判断し、OUT信号としてデータ“0”を出力する。
【0024】
(イレーズ・ベリファイ)
一方、イレーズ・ベリファイ動作も、上記したデータ読み出し動作と同様に、メモリセル・アレイ20側において読み出しセルの選択をおこなう。ただし、リファレンスセル30側においては、リファレンス・ワード線ドライバ32が、読み出し電圧発生器24により生成される読み出し電圧に代えて、イレーズ・ベリファイ電圧発生器28により生成されるイレーズ・ベリファイ電圧を、リファレンスセル30のコントロール・ゲートに印加する。
【0025】
ここで、このイレーズ・ベリファイ電圧は、読み出し電圧が示す電圧値よりも大きい値に設定される。これにより、センスアンプ40は、データ読み出し時よりも大きな電位を示すSAREF信号に対し、信号LTによってMOSトランジスタTr15がON状態にされるタイミングにおいて、SAIN信号がさらに大きくなる場合に、正常にイレーズ動作がおこなわれたものと判断し、OUT信号としてデータ“1”を出力する。
【0026】
以上に説明したように、従来の不揮発性半導体記憶装置によれば、リファレンスセル30側のコントロール・ゲートに印加する電圧を、通常のデータ読み出し時の電圧に対して増減させることで、ベリファイ動作をおこなっている。
【0027】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述した従来の不揮発性半導体記憶装置では、ベリファイ動作をおこなうために、プログラム・ベリファイ電圧を発生するためのプログラム・ベリファイ電圧発生器26と、イレーズ・ベリファイ電圧を発生するためのイレーズ・ベリファイ電圧発生器28と、を備える必要があり、装置構成が複雑・大型化するとともに、省電力化を妨げる要因となっていた。
【0028】
本発明は、上述の問題点に鑑みてなされたものであって、上記したプログラム・ベリファイ電圧発生器26およびイレーズ・ベリファイ電圧発生器28のようなベリファイ動作をおこなうための電圧発生器を不要とし、装置構成を簡略化できるとともに、省電力化を図ることのできる不揮発性半導体記憶装置を提供することを目的とする。
【0029】
【課題を解決するための手段】
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明にかかる不揮発性半導体記憶装置は、電気的消去および書き込みを可能とするデータ記憶用メモリセル(後述するメモリセル・アレイ20に相当)と、そのデータ記憶用メモリセルの記憶状態を判断するためのリファレンス用メモリセル(後述するリファレンスセル30に相当)と、データ記憶用メモリセルに流れる電流を充電する第1の容量(後述する容量C10に相当)と、リファレンス用メモリ・セルに流れる電流を充電する第2の容量(後述する容量C11に相当)と、前記第1の容量と前記第2の容量との間の充電速度差および電位差を検出するセンスアンプ(後述するセンスアンプ40に相当)と、を備えている。
【0030】
そして、このセンスアンプによる検出結果によってデータ記憶用メモリセルのデータ読み出し、プログラム・ベリファイおよびイレーズ・ベリファイ動作をおこなう不揮発性半導体記憶装置において、容量値可変手段(後述する容量C20〜C22およびMOSトランジスタTr21、Tr22からなる構成に相当)によって、複数の容量を並列に接続または切り離すことにより、プログラム・ベリファイ動作時において、上記した第2の容量の容量値をデータ読み出し動作時よりも大きくし、イレーズ・ベリファイ動作時において、上記した第2の容量の容量値をデータ読み出し動作時よりも小さくする。
【0031】
これにより、プログラム・ベリファイ動作とイレーズ・ベリファイ動作に応じて、リファレンス用メモリ・セルに流れる電流の充電速度を増減させることができ、ベリファイ動作ごとにリファレンス用メモリ・セルのゲートに印加する電圧を変化させることなく、すなわちこのための電圧発生器を備えることなく、センスアンプによるデータ読み出し動作およびベリファイ動作が可能となる。
【0032】
【発明の実施の形態】
以下に添付図面を参照して、この発明にかかる不揮発性半導体記憶装置の好適な実施の形態を詳細に説明する。なお、この実施の形態によりこの発明が限定されるものではない。
【0033】
〔実施の形態1〕
まず、実施の形態1にかかる不揮発性半導体記憶装置について説明する。実施の形態1にかかる不揮発性半導体記憶装置は、従来の不揮発性半導体記憶装置において必要であったプログラム・ベリファイ電圧発生器とイレーズ・ベリファイ電圧発生器を備えずに、リファレンスセル側のソース側ビット線に、プログラム・ベリファイ動作とイレーズ・ベリファイ動作のそれぞれにおいて選択される容量を付加することで、これらベリファイ時のリファレンスセル側から出力されるSAREF信号の電位を変化させることを特徴としている。
【0034】
図1は、実施の形態1にかかる不揮発性半導体記憶装置の要部を示す回路図であり、特にデータの読み出し、プログラム・ベリファイおよびイレーズ・ベリファイの動作を説明するための構成を示したものである。なお、図5と共通する部分には同一符号を付して、その説明を省略する。
【0035】
図1に示す不揮発性半導体記憶装置は、図5に示した不揮発性半導体記憶装置に対し、プログラム・ベリファイ電圧発生器26とイレーズ・ベリファイ電圧発生器28を排除し、リファレンスセル30のソース側ビット線の出力部に、容量C20、C21およびC22を並列に設けている。
【0036】
さらに、容量C21への電流の充放電をON/OFF制御するMOSトランジスタTr21と、容量C22への電流の充放電をON/OFF制御するMOSトランジスタTr22と、を備えて構成される。なお、ここで、従来の不揮発性半導体記憶装置のメモリセル・アレイ20のソース側ビット線の出力部に並置された容量をC10とし、リファレンスセル30のソース側ビット線の出力部に並置された容量をC11として、上記した容量C20、C21およびC22と区別する。
【0037】
つぎに、この不揮発性半導体記憶装置のデータ読み出し、プログラム・ベリファイ動作およびイレーズ・ベリファイの動作について、図2および図3に示す波形図を参照しつつ順に説明する。なお、データの書き込み(プログラム)およびデータの消去(イレーズ)については、従来どおりであるので、ここではそれらの説明を省略する。
【0038】
(データ読み出し)
まず、データ読み出し動作においては、図1において、pチャネル型MOSトランジスタTr11およびTr21を、それぞれ信号PD1、PD2によりON状態とする。
【0039】
そして、アドレスの指定に対し、図示しないカラムデコーダがドレイン側ビット線21(DS0、DS1)とソース側ビット線23(SS0、SS1)のそれぞれに接続されたMOSトランジスタのうち、上記したアドレスが示すものをON状態とし、ロウデコーダ22が、ワード線WL0〜WLnのうち、上記したアドレスが示すものに対して読み出し電圧発生器24から供給される読み出し電圧を印加する。
【0040】
これにより、ビット線とワード線WLの選択、すなわちデータ読み出しの対象となる読み出しセルの選択がおこなわれ、選択された読み出しセルのコントロール・ゲートに上記した読み出し電圧が印加される。そして、この状態において、MOSトランジスタTr12およびTr13がコラムセレクト信号CSによりON状態にされることで、選択されたビット線が有効となり、読み出しセルのデータの読み出しが可能となる。
【0041】
一方、リファレンスセル30側では、データ読み出し、プログラムおよびイレーズ動作においてセンスアンプ40に入力される電流の特性を考慮して、読み出しセル側の動作において制御されるMOSトランジスタと同一特性のMOSトランジスタTr22、Tr23、Tr25、Tr26が配置されており、これらMOSトランジスタは常時ON状態とされている。
【0042】
そして、リファレンスセル30側においても、上記したメモリセル・アレイ20側の動作にともなって、リファレンス・ワード線ドライバ32が、読み出し電圧発生器24から供給される読み出し電圧を、ワード線WLrefを介してリファレンスセル30のコントロール・ゲートに印加する。
【0043】
そして、図2に示すように、上記したワード線WLおよびWLrefに印可される読み出し電圧が十分に立ち上がるまでの間、信号EQがハイレベルに遷移される。すなわち、読み出し電圧の印可と同時に、MOSトランジスタTr14およびTr24は、ハイレベルを示す信号EQをそのゲートに入力し、ON状態とされる。
【0044】
さらに、この際、MOSトランジスタTr21は、ローレベルを示す信号ERVによってインバータG1から出力されたハイレベルの信号をそのゲートに入力することでON状態にされるとともに、MOSトランジスタTr22は、ハイレベルを示す信号PGMVを入力することでON状態とされる。これにより、上記容量C10、C11、C21、C22およびC23に蓄積された電荷が放電(リセット)される。
【0045】
そして、上記したワード線WLおよびWLrefに印可された読み出し電圧が十分に立ち上がると、信号EQがローレベルに遷移され、これによりMOSトランジスタTr14およびTr24がOFF状態とされる。また、この際、信号ERVはハイレベルに遷移され、信号PGMVはローレベルに遷移されて、MOSトランジスタTr21およびTr22はともにOFF状態とされる。すなわち、リファレンスセル30側では、容量C11に加えて、容量C20およびC21が並列に接続された形態となる。
【0046】
そして、この状態において、メモリセル・アレイ20側のソース側ビット線から出力される信号が、SAIN信号として、MOSトランジスタTr13を介してセンスアンプ40に入力される。なお、このSAIN信号は、実際には、上記した容量の電位変化として現れる。
【0047】
また、リファレンスセル30側においても、ソース側ビット線を通じて出力される信号が、SAREF信号としてセンスアンプ40に入力される。なお、このSAREF信号もまた、上記した容量の電位変化として現れる。
【0048】
そして、センスアンプ40が、SAIN信号とSAREF信号との間の電位変化、すなわち、上記した各容量への充電速度を検出することによって、SAIN信号とSAREF信号との電位差を演算する。
【0049】
たとえば、センスアンプ40は、図2に示すように、容量C10への充電速度が容量C11、C20およびC21への充電速度よりも小さく、かつ信号LTがハイレベルに遷移されるタイミングにおいてSAIN信号がSAREF信号の電位よりも小さい場合に、フローティング・ゲートにホットエレクトロンが注入された状態であると判断し、OUT信号としてデータ“0”を出力する。
【0050】
また、これとは逆に、図3に示すように、容量C10への充電速度が容量C11、C20およびC21への充電速度よりも大きく、かつ信号LTがハイレベルに遷移されるタイミングにおいてSAIN信号がSAREF信号の電位よりも大きい場合に、センスアンプ40は、フローティング・ゲートの電子が引き抜かれた状態であると判断し、OUT信号としてデータ“1”を出力する。
【0051】
(プログラム・ベリファイ)
つぎに、プログラム・ベリファイ動作は、メモリセル・アレイ20側において上記したデータ読み出し動作と同様な読み出しセルの選択をおこなう。ただし、リファレンスセル30側においては、信号ERVがローレベルに遷移されるとともに信号PGMVがハイレベルに遷移されることで、MOSトランジスタTr21およびTr22がともにON状態とされ、リファレンスセル30側のソース側ビット線から供給される電流により、容量C11、C20およびC21とともに容量C22が充電される。
【0052】
すなわち、データ読み出し時と比較して、容量C22がさらに並列に接続されることにより、SAREF信号として示される充電速度は、データ読み出し時よりも小さくなる。よって、センスアンプ40は、より電位の小さくなったSAREF信号に対し、SAIN信号がさらに小さくなった際に、正常にプログラム動作がおこなわれたものと判断し、OUT信号としてデータ“0”を出力する。
【0053】
これは、リファレンスセル30のコントロール・ゲートに印加する電圧を変更することなく、すなわちプログラム・ベリファイ電圧発生器を備えることなく、プログラム・ベリファイ動作がおこなえることを意味している。
【0054】
(イレーズ・ベリファイ)
一方、イレーズ・ベリファイ動作は、プログラム・ベリファイ動作と同様に、メモリセル・アレイ20側においては上記したデータ読み出し動作と同様な読み出しセルの選択をおこなう。ただし、リファレンスセル30側においては、信号ERVがハイレベルに遷移されるとともに信号PGMVがローレベルに遷移されることで、MOSトランジスタTr21およびTr22がともにOFF状態とされ、リファレンスセル30側のソース側ビット線から供給される電流は、容量C11およびC20を充電する。
【0055】
すなわち、データ読み出し時と比較して、容量C21の接続が切り離されることにより、SAREF信号として示される充電速度は、データ読み出し時よりも大きくなる。よって、センスアンプ40は、より電位の大きくなったSAREF信号に対し、SAIN信号がさらに大きくなった際に、正常にイレーズ動作がおこなわれたものと判断し、OUT信号としてデータ“1”を出力する。
【0056】
これは、リファレンスセル30のコントロール・ゲートに印加する電圧を変更することなく、すなわちイレーズ・ベリファイ電圧発生器を備えることなく、イレーズ・ベリファイ動作がおこなえることを意味している。
【0057】
以上に説明したように実施の形態1にかかる不揮発性半導体記憶装置は、リファレンスセル30のソース側ビット線の出力部に並列に接続される容量C11に加えて、容量C20を並列に接続し、さらにデータ読み出し時およびプログラム・ベリファイ時に並列に接続されかつイレーズ・ベリファイ時に切り離される容量C21と、プログラム・ベリファイ時に並列に接続される容量C22と、を備えているので、プログラム・ベリファイとイレーズ・ベリファイ動作に応じて、リファレンスセル30側から出力されるSAREF信号の電位を増減させることができ、これにより、従来必要であったプログラム・ベリファイ電圧発生器およびイレーズ・ベリファイ電圧発生器を排除できるため、装置構成を簡略化できるとともに、低消費電力化を図ることができる。
【0058】
〔実施の形態2〕
つぎに、実施の形態2にかかる不揮発性半導体記憶装置について説明する。実施の形態2にかかる不揮発性半導体記憶装置は、メモリセルが多値の記憶を可能とする構成である場合に、上述した実施の形態1に説明したベリファイ動作の概念を適用させるものである。
【0059】
実施の形態1にかかる不揮発性半導体記憶装置においては、メモリセルを構成する一つのフローティング・ゲートにホットエレクトロンが注入されているか否かの2値の記憶を可能にするものであったが、多値の記憶を可能とするメモリセルも知られている。たとえば、同出願人による特開平7−273227号に「不揮発性多値記憶素子およびこれを用いた装置」が開示されている。
【0060】
この「不揮発性多値記憶素子およびこれを用いた装置」によれば、コントロール・ゲートと半導体基板との間に複数のフローティング・ゲートが形成されており、多値の一つの増加に対して、しきい電圧が略一定値変化するように複数のフローティング・ゲートの各々に電荷を注入する。これにより、2値記憶素子と同じ面積で多値を記憶することができるとともに、簡単な記憶値の判定を可能としている。
【0061】
図4は、実施の形態2にかかる不揮発性半導体記憶装置の要部を示す回路図であり、特にデータの読み出し、プログラム・ベリファイおよびイレーズ・ベリファイの動作を説明するための構成を示したものである。なお、図1と共通する部分には同一符号を付して、その説明を省略する。
【0062】
図4において、図1と異なる点は、リファレンスセル30側のソース側のビット線に並列に接続された容量C20、C21およびC22に加えて、さらに、プログラム・ベリファイ動作のための複数の容量C23〜C2nが並列に接続されていることである。
【0063】
また、これら複数の容量C23〜C2nの各々には、容量C22とMOSトランジスタTr22とからなる構成と同様に、それら容量と上記したソース側のビット線との接続を選択的にON/OFF制御するためのOSトランジスタTr23〜Tr2nが設けられている。なお、図中においてメモリセル・アレイ20を構成する読み出しセルおよびリファレンスセル30を構成するメモリセルは、上記した多値記憶を可能とする素子構造を有している。
【0064】
づきに、この不揮発性半導体記憶装置のデータ読み出し、プログラム・ベリファイ動作およびイレーズ・ベリファイの動作について説明する。なお、データのイレーズ動作については従来どおりであるが、データのプログラム動作は、読み出しセルのコントロール・ゲートに、記憶させる多値に応じて異なる電圧を印加し、フローティング・ゲートに注入するホットエレクトロンの量を変化させることでおこなわれる。
【0065】
(データ読み出し)
まず、データ読み出し動作は、実施の形態1に説明した動作と同様であるため、ここではその説明を省略する。ただし、センスアンプ40において、たとえば、検出されたSAIN信号とSAREF信号との差分量に応じて、多値を判断する必要がある。よって、センスアンプ40から出力されるOUT信号は、上記した差分量によって定まる電圧値を示し、たとえば、5[V]、6[V]、7[V]および8[V]を示すOUT信号を、順に記憶値“1”、“2”、“3”および“4”として判断する。
【0066】
(プログラム・ベリファイ)
つぎに、プログラム・ベリファイ動作は、上記したデータ読み出し動作と同様に、メモリセル・アレイ20側において読み出しセルの選択をおこなう。ただし、リファレンスセル30側においては、信号ERVがローレベルに遷移されるとともに、プログラムした記憶値に応じて、信号PGMV1〜PGMVnがハイレベルに遷移されることで、MOSトランジスタTr21と、MOSトランジスタTr22〜Tr2nのいくつかとがともにON状態とされ、リファレンスセル30側のソース側ビット線から供給される電流により、容量C11、C20およびC21とともに容量C22〜C2nのいくつかが充電される。
【0067】
たとえば、記憶値“1”のプログラム・ベリファイ動作をおこなうには、信号ERVをローレベルにするとともに、信号PGMV1をハイレベルにし、記憶値“2”のプログラム・ベリファイ動作をおこなうには、信号ERVをローレベルにするとともに、信号PGMV1およびPGMV2をハイレベルにする。このように、記憶値が増加するごとに、ハイレベルに遷移させる信号PGMV1〜PGMVnを順に重畳していく。
【0068】
すなわち、データ読み出し時と比較して、容量C22〜C2nがさらに並列に重畳して接続されることにより、SAREF信号として示される充電速度は、データ読み出し時よりも小さくなり、かつ記憶値に応じて変化する。よって、センスアンプ40は、より電位の小さくなったSAREF信号に対し、SAIN信号が記憶値に応じた範囲内でさらに小さくなった際に、正常にプログラム動作がおこなわれたものと判断し、OUT信号として記憶値を出力する。
【0069】
これは、リファレンスセル30のコントロール・ゲートに印加する電圧を変更することなく、すなわちプログラム・ベリファイ電圧発生器を備えることなく、多値のプログラム・ベリファイ動作がおこなえることを意味している。
【0070】
(イレーズ・ベリファイ)
一方、イレーズ・ベリファイ動作は、上記したデータ読み出し動作と同様に、メモリセル・アレイ20側において読み出しセルの選択をおこなう。ただし、リファレンスセル30側においては、信号ERVがハイレベルに遷移されるとともに信号PGMV1〜PGMVnのすべてがローレベルに遷移されることで、MOSトランジスタTr21〜Tr2nがすべてOFF状態とされ、リファレンスセル30側のソース側ビット線から供給される電流は、容量C11およびC20を充電する。
【0071】
すなわち、データ読み出し時と比較して、容量C21の接続が切り離されることにより、SAREF信号として示される充電速度は、データ読み出し時よりも大きくなる。よって、センスアンプ40は、より電位の大きくなったSAREF信号に対し、SAIN信号がさらに大きくなった際に、正常にイレーズ動作がおこなわれたものと判断し、OUT信号として消去状態を示す値を出力する。
【0072】
これは、リファレンスセル30のコントロール・ゲートに印加する電圧を変更することなく、すなわちイレーズ・ベリファイ電圧発生器を備えることなく、多値のイレーズ・ベリファイ動作がおこなえることを意味している。
【0073】
以上に説明したように実施の形態2にかかる不揮発性半導体記憶装置は、リファレンスセル30のソース側ビット線の出力部に並列に接続される容量C11に加えて、容量C20を並列に接続し、さらにデータ読み出し時およびプログラム・ベリファイ時に多値の記憶状態に応じて並列に接続されかつイレーズ・ベリファイ時に切り離される容量C21と、プログラム・ベリファイ時に多値の記憶状態に応じて並列に接続される容量C22〜C2nと、を備えているので、実施の形態1による効果を、多値の記憶を可能とする不揮発性半導体記憶装置においても享受することができる。
【0074】
【発明の効果】
以上説明したとおり、本発明によれば、プログラム・ベリファイ動作とイレーズ・ベリファイ動作に応じて、リファレンス用メモリ・セルに流れる電流の充電速度を増減させることができ、これにより、従来必要であったプログラム・ベリファイ電圧発生器およびイレーズ・ベリファイ電圧発生器を排除できるため、装置構成を簡略化できるとともに、低消費電力化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施の形態1にかかる不揮発性半導体記憶装置の要部を示す回路図である。
【図2】実施の形態1にかかる不揮発性半導体記憶装置の動作を説明するための波形図である。
【図3】実施の形態1にかかる不揮発性半導体記憶装置の動作を説明するための波形図である。
【図4】実施の形態2にかかる不揮発性半導体記憶装置の要部を示す回路図である。
【図5】従来の不揮発性半導体記憶装置の要部を示す回路図である。
【符号の説明】
20 メモリセル・アレイ
21 ドレイン側ビット線
22 ロウデコーダ
23 ソース側ビット線
24 読み出し電圧発生器
26 プログラム・ベリファイ電圧発生器
28 イレーズ・ベリファイ電圧発生器
30 リファレンスセル
32 リファレンス・ワード線ドライバ
40 センスアンプ
C20〜C23 容量
G1 インバータ
Tr11〜Tr15,Tr21〜Tr26 MOSトランジスタ
Claims (4)
- 電気的消去および書き込みを可能とするデータ記憶用メモリセルと、前記データ記憶用メモリセルの記憶状態を判断するためのリファレンス用メモリセルと、前記データ記憶用メモリセルに流れる電流を充電する第1の容量と前記リファレンス用メモリ・セルに流れる電流を充電する第2の容量との間の充電速度差および電位差を検出するセンスアンプと、を具備し、前記センスアンプによる検出結果によって前記データ記憶用メモリセルのデータ読み出し、プログラム・ベリファイおよびイレーズ・ベリファイ動作をおこなう不揮発性半導体記憶装置において、
前記データ読み出し、プログラム・ベリファイおよびイレーズ・ベリファイ動作に応じて、前記第2の容量の容量値を変化させる容量値可変手段を備えたことを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。 - 前記容量値可変手段は、
複数の容量を並列に接続または切り離すことにより、前記第2の容量の容量値を変化させることを特徴とする請求項1に記載の不揮発性半導体記憶装置。 - 前記容量値可変手段は、
前記プログラム・ベリファイ動作時において、前記第2の容量の容量値を前記データ読み出し動作時よりも大きくし、
前記イレーズ・ベリファイ動作時において、前記第2の容量の容量値を前記データ読み出し動作時よりも小さくすることを特徴とする請求項1または2に記載の不揮発性半導体記憶装置。 - 前記データ記憶用メモリセルおよび前記リファレンス用メモリセルは、多値を記憶する記憶素子により構成され、
前記容量値可変手段は、
前記プログラム・ベリファイ動作時において、前記第2の容量の容量値を前記データ読み出し動作時よりも、前記多値が示す記憶状態ごとに異なる大きさで大きくし、
前記イレーズ・ベリファイ動作時において、前記第2の容量の容量値を前記データ読み出し動作時よりも小さくすることを特徴とする請求項1または2に記載の不揮発性半導体記憶装置。
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