JP3609393B2 - 磁気記録媒体及びその製造方法並びに磁気記録装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、磁気記録媒体及びその製造方法並びに磁気記録装置に関し、特に熱安定性に優れ、高密度記録可能であり、低ノイズで再生可能な磁気記録媒体及びその製造方法並びに磁気記録装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、高度情報化社会の進展に伴い、マルチメディアが普及し、文字情報のみならず音声や画像情報の高速処理が可能になってきた。マルチメディアの一つに磁気記録装置がある。磁気記録装置には、複数の磁気記録媒体がスピンドル上に回転可能に装着されており、磁気記録装置に用いられる磁気記録媒体では、さらなる記録密度の向上を図りつつ、小型化する方向に開発が進められている。
【0003】
磁気記録媒体は、基板とその上に形成された磁性膜から構成され、磁気記録媒体における情報の記録は、特定の磁化方向を有する磁区を磁性膜中に形成することにより行われる。従来の磁気記録媒体では、磁化方向が膜面内方向である面内磁気記録方式が用いられていた。この方式における磁気記録媒体の高密度記録化は、磁性膜の薄膜化、磁性結晶粒の微小化及び各粒子間の磁気的相互作用を低減させることで達成できた。しかしながら、磁性結晶粒の微小化と各結晶粒子間の相互作用の低減により記録磁化の熱安定性が低下するという問題があった。
【0004】
この問題を解決する方法として提案されたのが、記録磁化の方向を基板に対して垂直方向にする垂直磁気記録方式である。この方式を用いることにより、隣接する記録ビット間が静磁気的に安定になり、熱安定性が向上するとともに、記録遷移領域が鋭くなる。さらに、垂直磁気記録方式の磁気記録媒体の記録層と基板との間に、軟磁性材料で形成された層(以下、軟磁性裏打ち層という)を加えることにより、記録層に印加される磁場を急峻にすることができるので、記録層に、より磁気異方性の高い材料を用いることができる。これにより、熱安定性が一層高くなり、高密度記録が可能になる。
【0005】
垂直磁気記録方式の磁気記録媒体の記録層の材料としては、主にCoCr系合金が研究対象であった。CoCr系合金で形成された記録層は、強磁性を有するCo濃度の高い結晶粒と、Cr濃度が高く非磁性の結晶粒界部からなる2相分離構造を有し、非磁性の結晶粒界部により結晶粒間の磁気的相互作用を遮断することができるので、高密度記録に必要な媒体の低ノイズ化を実現してきた。
【0006】
また、記録層にCoCr系合金を用いた垂直磁気記録方式の磁気記録媒体より、さらに低ノイズで高密度記録可能な磁気記録媒体を得るためには、磁化の熱安定性をさらに高める必要があり、そのためには記録層にCoCr系合金よりもさらに高い磁気異方性を有する材料を用いる必要がある。その材料として、例えば、CoとPdまたはCoとPtを交互に積層した多層膜(人工格子膜)や、FeとPtまたはCoとPtの規則合金等が考えられる。しかし、これらの材料は、結晶粒間の磁気的相互作用が強いため、最小磁区サイズが大きくなり、記録時に隣接する記録ビット間の記録遷移領域の遷移ノイズが大きくなるという問題があった。
【0007】
上記問題を解決するために、人工格子膜で形成された記録層にB元素及びO元素を含有させた磁気記録媒体が開示されている(例えば、特許文献1参照。)。この磁気記録媒体では、1〜15at%のBを人工格子膜に含有させることにより、記録層内の結晶粒子の結晶学的孤立性を向上させ、遷移ノイズを低減させる。また、この磁気記録媒体では、記録層の下地層に1〜30at%のBを含有させることにより記録層内の結晶粒子の孤立性をさらに向上させている。
【0008】
【特許文献1】
特開2002−25032号公報(第2−4頁、第2図)
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上記特許文献1で開示されているように、記録層にBを含有させた磁気記録媒体では、記録層内の結晶粒子の孤立性をさらに高めるために、記録層に過剰のB(例えば、特許文献1では15at%より高い値のB)を含有させると、Bが結晶粒子内に進入して垂直磁気異方性が劣化して遷移ノイズが増加するという問題があった。
【0010】
本発明は、上記従来技術の問題を解決するものであって、その第1の目的は、隣接する記録ビット間の遷移ノイズを一層低減することにより、信号対雑音比(S/N)を高くし、高密度記録に最適な磁気記録媒体、その製造方法及び磁気記録装置を提供することである。また、本発明の第2の目的は、より熱安定性に優れた磁気記録媒体、その製造方法及び磁気記録装置を提供することである。
【0011】
【課題を解決するための手段】
本発明の第一の態様に従えば、磁気記録媒体であって、基板と、上記基板上に、軟磁性材料で形成された裏打ち層と、上記裏打ち層上に、非磁性材料で形成されたシード層と、上記シード層上に隣接して、硬磁性材料を含む結晶粒と偏析成分を含む結晶粒界部とを有し且つ垂直磁化を示す記録層とを備え、上記記録層内で上記偏析成分は膜厚方向に濃度勾配を有し、該濃度勾配が上記記録層の上記シード層側境界面から上記シード層側とは反対側の境界面に向かって減少することを特徴とする磁気記録媒体が提供される。
【0012】
本発明の磁気記録媒体では、記録層に含まれる偏析成分としては、B(ホウ素)が好ましい。また、シード層はBを含み、シード層中のBの平均濃度が記録層中のBの平均濃度よりも高く、記録層のシード層側の境界面におけるB濃度をB1とし、記録層のシード層側の境界面と記録層のシード層側とは反対側の境界面との中間位置(シード層側の境界面までの距離と、シード層とは反対側の境界面までの距離が等しくなる記録層内の位置)におけるB濃度B2とすると、B1とB2の間には、B1>B2の関係が成立していることが好ましい。即ち、本発明の磁気記録媒体では、記録層内の膜厚方向に偏析成分Bの濃度勾配が生じており、この濃度勾配は記録層のシード層側境界面からシード層側とは反対側の境界面に向かって減少する。この偏析成分Bの濃度勾配は、シード層中のBの平均濃度を記録層中のBの平均濃度より高くしたために、シード層中のBの一部が記録層に向かって拡散したことによるものと考えられる。このような磁気記録媒体では、シード層から記録層に拡散したBが記録層内の結晶粒界部に浸入し、結晶粒界部におけるBの偏析が促進されて結晶粒界部の非磁性化が促進される。これにより、記録層の結晶粒間の磁気的相互作用が低減され、隣接する記録ビット間の遷移ノイズを大きく低減させることができると考えられる。また、本発明の磁気記録媒体では、記録層及びシード層に含まれる偏析成分に、後述する実施例に示したようにC(炭素)を用いても良く、その他の偏析成分として、例えば、Si、Al、Pなどを用い得る。しかしながら、偏析成分として、これらの元素に限らず任意の元素を用い得る。
【0013】
また、本発明の磁気記録媒体では、例えば、偏析成分がBである場合、記録層のシード層側の境界面におけるB濃度B1が17.0〜70.0at%であり、記録層のシード層側の境界面と記録層のシード層とは反対側の境界面との中間位置におけるB濃度B2が6.0〜17.0at%であることが好ましい。また、記録層内の膜厚方向に0.2〜4.2at%/nmのBの濃度勾配を有することが好ましい。
【0014】
本発明の磁気記録媒体では、記録層が、Bを含んだ白金族金属と、Bを含んだCoとを交互に積層した多層膜で形成されているのが好ましく、特に、白金族金属がPt及びPdの少なくとも一種であることが望ましい。また、記録層には、10at%以下の含有量で酸素が含まれるのが好ましい。
【0015】
本発明の磁気記録媒体では、軟磁性裏打ち層が、Co及びFeの少なくとも一方を主体とし、これにB及びCの少なくとも一種の元素を含む合金で形成されているのが好ましい。また、軟磁性裏打ち層が、CoZrを主体とし、これにTa,Nb及びTiからなる群から選ばれる少なくとも一種の元素を含む非晶質合金で形成されていても良い。さらに、軟磁性裏打ち層が、Fe中に、Ta,Nb及びZrからなる群から選ばれる少なくとも一種の元素の窒化物または炭化物が分散された構造を有する合金で形成されていても良い。
【0016】
本発明の第二の態様に従えば、磁気記録媒体の製造方法であって、基板上に、軟磁性材料を用いて裏打ち層を形成する第一工程と、上記裏打ち層上に、非磁性材料を含むシード層形成材料を用いてシード層を形成する第二工程と、上記シード層上に隣接して、硬磁性材料と特定成分とを含む記録層形成材料を用いて記録層を形成する第三工程とを含み、上記シード層形成材料は上記特定成分を含み、上記シード層形成材料中の上記特定成分の含有量Csと、上記記録層形成材料中の上記特定成分の含有量Crとの間に、Cs>Crの条件が成立することを特徴とする製造方法が提供される。
【0017】
本発明の磁気記録媒体の製造方法では、シード層上に隣接して記録層を堆積する際に、シード層形成材料中の特定成分の含有量Csと記録層形成材料中の特定成分の含有量Crとの間に、Cs>Crの条件が成立するように成膜する。
【0018】
本発明の磁気記録媒体の製造方法では、特定成分はBであることが好ましい。また、本発明の磁気記録媒体の製造方法では、高い垂直磁気異方性を示す材料、例えば、上記記録層が、白金族金属及びBを用いて形成された非磁性層と、Co及びBを用いて形成された磁性層とを交互に積層した多層膜で形成されることが好ましく、特に、白金族金属にはPd及びPtの少なくとも一方であることが好ましい。また、本発明の磁気記録媒体の製造方法では、特定成分に後述する実施例に示したようにCを用いても良く、その他の特性成分として、例えば、Si、Al、Pなどを用い得る。しかしながら、特定成分として、これらの元素に限らず任意の元素を用い得る。
【0019】
本発明の磁気記録媒体の製造方法では、記録層に特定成分を含有させることにより、記録層の結晶粒界部に特定成分を偏析させて、結晶粒界部を非磁性化し、各結晶粒間の磁気的相互作用を減少させる。しかしながら、記録層に特定成分を過剰に含有させると、特定成分が結晶粒内に浸入して記録層の磁気特性を劣化してしまう。従って、特定成分としてBを用いて記録層を成膜する場合には、記録層形成材料中のBの含有量Brは、5.0〜15.0at%とすることが好ましい。
【0020】
本発明の磁気記録媒体の製造方法では、特定成分としてBを用いる場合、第二工程でシード層を成膜する際のBの含有量Bsを、第三工程で記録層を成膜する際のBの含有量Brより十分大きくする。本発明の磁気記録媒体の製造方法では、シード層形成材料中のBの含有量Bsを33.0〜100.0at%とし、記録層形成材料中のBの含有量BrをBsより小さくするのが好ましい。このような成膜条件で記録層をシード層上に積層すると、シード層と記録層とのBの含有量の差により、積層時にシード層のBの一部が記録層に向かって拡散する。この際、シード層から記録層へ拡散するBは、主に、記録層内で結晶粒よりも拡散しやすい結晶粒界部に浸入する。従って、シード層から記録層へのBの拡散により、記録層の結晶粒界部でのB濃度がさらに高くなり、Bの結晶粒界部での偏析が促進される。この結果、記録層の結晶粒間の磁気的相互作用が一層減少され、隣接する記録ビット間の遷移ノイズを大きく低減させることができる。
【0021】
本発明の磁気記録媒体の製造方法では、特に、シード層形成材料中のBの含有量Bsが、33.0〜100.0at%であり、且つ記録層形成材料中のBの含有量Brが、5.0〜15.0at%であることが好ましい。
【0022】
本発明の磁気記録媒体の製造方法では、第三工程で、記録層がスパッタリングにより形成されることが好ましい。その際、スパッタガス中、0.5vol%以下の濃度で酸素を混入するのが好ましい。さらに、スパッタガスにKrガスを用いるのが好ましい。
【0023】
また、本発明の磁気記録媒体の製造方法では、特定成分としてBを用いる場合、第三工程で記録層を成膜した後に酸素雰囲気中で100〜500℃の温度でアニール処理を行うことが好ましい。このアニール処理により、シード層から記録層へのBの拡散がより促進される。
【0024】
本発明の第三の態様に従えば、第一の態様に従う磁気記録媒体と、該磁気記録媒体に情報を記録または再生するための磁気ヘッドと、該磁気記録媒体を該磁気ヘッドに対して駆動するための駆動装置とを備えた磁気記録装置が提供される。
【0025】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明の磁気記録媒体、磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録装置について実施例を用いて具体的に説明するが、本発明はこれに限定されない。
【0026】
【実施例1】
実施例1で作製した磁気ディスクの概略断面図を図1に示す。図1に示すように、磁気ディスク10は、基板1上に、密着層2、軟磁性裏打ち層3、シード層4、記録層5及び保護層6を順次積層して作製した。密着層2は、基板1と積層膜の剥離を防ぐための層であり、軟磁性裏打ち層3は、情報記録時に記録層5に印加される磁場を急峻にするための層である。シード層4は、記録層5の結晶粒サイズが均一になるように記録層5をシード層4上に形成させるための層であり、記録層5は、情報が磁化情報として記録される層であり、記録層5の磁化方向は膜面に対して垂直方向となる。保護層6は、基板1上に順次積層された積層膜2〜5を保護するための層である。
【0027】
基板1として、直径2.5inch(6.25cm)のガラス基板を用意し、その上に、Arガス雰囲気中でDCマグネトロンスパッタ法により、密着層2としてTi膜を形成した。密着層2の膜厚は5nmとした。
【0028】
次いで、密着層2上に、軟磁性裏打ち層3としてCoB膜を、Arガス雰囲気中でCo85B15合金ターゲットを用いてDCマグネトロンスパッタ法により形成した。軟磁性裏打ち層3の膜厚は200nmとした。
【0029】
さらに、軟磁性裏打ち層3上に、シード層4としてPdB膜を成膜した。成膜はArガス雰囲気中で同時スパッタ法を用いて行い、PdはDCマグネトロンスパッタ法を、BはRFマグネトロンスパッタ法を用いて、シード層4の組成がPd67B33となるように調整した。シード層4の膜厚は4nmとした。
【0030】
上記のように形成したシード層4上に、記録層5として垂直磁化を示すCoB/PdB交互多層膜を形成した。CoB/PdB交互多層膜の成膜方法は、Arガス雰囲気中でCoターゲットとPdターゲットを開閉するシャッターを交互に開閉しながら、DCマグネトロンスパッタすることにより、Coを主体とする磁性層とPdを主体とする金属層を交互に積層して多層膜を形成した。ここでは、0.14nmのCo層と0.94nmのPd層をそれぞれ25層積層した。Bは交互多層膜形成時にRFマグネトロンスパッタ法により同時スパッタして多層膜中に含有させた。この際、Bの記録層5中の含有量が12at%となるように調整した。
【0031】
最後に、記録層5上に、保護層6としてC膜を、Arガス雰囲気中でRFマグネトロンスパッタ法により形成した。保護層6の膜厚は3nmとした。
【0032】
この例で作製した磁気ディスクの構造を、高分解能透過電子顕微鏡(TEM)で分析した。TEMの分析結果は図示しないが、平面TEM観察からは記録層の結晶粒及び結晶粒界部が明瞭に観測された。高角度散乱暗視野像(HAADF−STEM像)からは記録層の結晶粒界部に軽元素が多く存在することが確認でき、Bが記録層の結晶粒界部に偏析していることが分かった。
【0033】
次に、この例で作製した磁気ディスクに含まれるのB濃度の膜厚方向の分布を、エックス線光電子分光法(XPS)で分析した。その結果を図2に示した。図2中の破線が、実施例1の磁気ディスクにおけるB濃度の膜厚方向分布である。ただし、この実験では保護層側から、エッチングとXPSによるB濃度測定とを繰り返し行いB濃度の膜厚方向分布を調べたので、図2の横軸はエッチング時間で表した。図2に示すように、エッチング時間0〜約1minが保護層、約1〜約3minが記録層、約3〜約4.25minがシード層、そして約4.25min以降が軟磁性裏打ち層の領域に相当する。
【0034】
実施例1で作製した磁気ディスクの記録層内では、図2に示すように、シード層との境界面から保護層との境界面に向かうにしたがってB濃度が減少しており、記録層内の膜厚方向にB濃度の勾配が生じている。これは、記録層の成膜時に、シード層に含有させたBの一部が記録層に拡散したためであると考えられる。記録層とシード層との境界面近傍ではB濃度は17.0at%であり、記録層のシード層側の境界面と記録層の保護層側の境界面との中間のB濃度12.5at%に比べて、シード層に近いためBの拡散量が大きくなりB濃度が増大しているが、記録層とシード層との境界面から保護層へ向かうにしたがって、シード層から離れるのでBの拡散量が小さくなりB濃度は減少している。なお、記録層とシード層との境界面近傍のB濃度は、記録層とシード層との境界面に対して、シード層側のエッチング時間3.2minのB濃度測定位置におけるB濃度分布曲線の接線と、記録層側のエッチング時間2.8minのB濃度測定位置におけるB濃度分布曲線の接線との交点により求めた。一方、記録層のシード層側の境界面と記録層の保護層側の境界面との中間におけるB濃度の求め方は、まず、保護層と記録層との境界面近傍のB濃度を、記録層とシード層との境界面近傍のB濃度の求め方と同様の方法で決定し、次いで、両境界面を基準にして記録層内の中間位置を決定する。そして、記録層の両境界面の位置及びB濃度と中間位置から記録層内の中間位置のB濃度を求めた。
【0035】
この例で作製した磁気ディスクでは、成膜後、記録層の平均B濃度は15at%であり、シード層の平均B濃度は28at%であった。シード層ではBの一部が記録層へ拡散し流出するので、シード層の成膜後の平均B濃度は、成膜時のシード層形成材料中のB含有量(33at%)より小さくなる。一方、記録層ではBがシード層からの拡散により流入するので、成膜後の記録層の平均B濃度は、成膜時の記録層形成材料中のB含有量(12at%)より大きくなった。
【0036】
次に、この例で作製した磁気ディスク10の保護層6上に潤滑材(不図示)を塗布した後、磁気ディスク10の記録再生特性を評価した。ただし、記録には垂直磁気記録に適した単磁極ヘッドを用い、再生にはスピンバルブ型GMR磁気ヘッドを用いた。磁気ヘッド面と磁気ディスク面との距離は10nmに保った。磁気ディスク10を評価した結果、Slf/Nd=23.1dBが得られた。なお、Slfは線記録密度が20kFCIの信号を記録した時の再生出力であり、Ndは線記録密度が450kFCIの信号を記録した時のノイズレベルであり、Slf/Ndは媒体の信号対雑音比の指標となる。
【0037】
また、この例で作製した磁気ディスク10を磁気記録装置に組み込んで、記録再生特性を評価した。磁気記録装置の概略平面図を図3(a)に示し、その概略断面図を図3(b)に示した。この例で用いた磁気記録装置30は、図3(a)および(b)に示すように、主に磁気ヘッド31と、磁気ヘッド31を制御する磁気ヘッド駆動部32と、複数の磁気ディスク10を同軸回転させるためのスピンドル33とで構成されている。磁気ヘッド31では、記録用磁気ヘッドと再生用磁気ヘッドが一体化されている。記録用磁気ヘッドには2.1Tの高飽和磁束密度を有するデュアルスピンバルブ型磁気ヘッドを用いた。
【0038】
この例で作製した磁気ディスク10を、図3に示すような磁気記録装置30に装着して、磁気ディスク10の再生試験を行った。ここでは、磁気ディスク10に60Gbits/inch2に相当する信号を記録した。磁気記録装置30の磁気ヘッド31面と、磁気ディスク10の表面との距離は10nmに保った。再生試験の結果、信号対雑音比S/N=30dBの再生信号が得られ、エラーレートは、信号処理を行わない場合に、1×10−5以下であった。
【0039】
【比較例1】
比較例1では、シード層の成膜時のBの含有量が、シード層を形成する材料中12at%となるように、即ち、Pd:B=88:12となるように調節して作製した以外は実施例1と同様に磁気ディスクを作製した。このシード層のB含有量は、記録層の成膜時のB含有量と同じ値である。
【0040】
この例で作製した磁気ディスクに含まれるBの濃度分布を、実施例1と同様に、エックス線光電子分光法(XPS)で分析した。その結果を図2に示した。図2中の実線が比較例1の磁気ディスクにおけるB濃度の膜厚方向分布である。この例で作製した磁気ディスクでは、図2に示すように、実施例1の結果(図2中の破線)と比べて、記録層内でB濃度の勾配が殆どなかった。これは、シード層と記録層の成膜時のB含有量が同じ値であるため、記録層の成膜時に、シード層から記録層へのBの拡散が生じなかったためであると考えられる。また、記録層内のB濃度について実施例1と比較例1の結果を比較すると、図2に示すように、実施例1で作製した磁気ディスクの記録層中のB濃度が、比較例1で作製したものより大きくなった。この濃度差はシード層から記録層へ拡散したBの拡散量に相当するものと考えられる。
【0041】
また、この例で作製した磁気ディスクについて、実施例1と同様に、Slf/Ndを測定した。その結果を、実施例1の結果と一緒に表1に示した。ただし、表1中のBrは記録層の成膜時のB含有量であり、Bsはシード層の成膜時のB含有量であり、B1は成膜後の記録層とシード層との境界面近傍におけるB濃度であり、そして、B2は成膜後の記録層のシード層側の境界面と記録層の保護層側の境界面との中間位置におけるB濃度である。
【0042】
【表1】
【0043】
比較例1で作製した磁気ディスクでは、表1に示すように、Slf/Nd=18.1dBとなり、実施例1の磁気ディスクより低い値となった。これは、シード層と記録層のB含有量が同じ値であるため、シード層から記録層へのBの拡散が殆どなく、記録層内の結晶粒界部におけるBの偏析が促進されなかったためであると考えられる。従って、実施例1のように、シード層の成膜時のB含有量を記録層のそれより十分大きくすることにより、シード層から記録層へBが拡散され、記録層の結晶粒界部でのBの偏析が促進されて、遷移ノイズが低減するために、Slf/Ndが増大するものと考えられる。
【0044】
【実施例2】
実施例2では、磁気ディスクの成膜時に、シード層のB含有量を33.0〜100.0at%、記録層のB含有量を5.0〜15.0at%の範囲でそれぞれ変化させて種々の磁気ディスクを作製した以外は、実施例1と同様に磁気ディスクを作製した。
【0045】
この例で作製した種々の磁気ディスクについて、実施例1と同様に、Slf/Ndを測定した。その結果を表2に示した。表2中のBrは記録層の成膜時のB含有量であり、Bsはシード層の成膜時のB含有量であり、B1は成膜後の記録層とシード層との境界面近傍におけるB濃度であり、そして、B2は成膜後の記録層のシード層側の境界面と記録層の保護層側の境界面との中間位置におけるB濃度である。また、表2には、実施例1及び比較例1の結果も一緒に記載した。
【0046】
【表2】
【0047】
表2に示したように、シード層の成膜時のB含有量Bsを33.0〜100.0at%とし、記録層の成膜時のB含有量Brを5.0〜15.0at%とし、且つBsとBrの含有量差を18.0〜95.0at%とすることにより、22.0dB以上のSlf/Ndが得られることが分かった。その時、磁気ディスクの記録層中のB1は18.0〜70.0at%であり、B2は6.0〜17.0at%であった。
【0048】
【実施例3】
実施例3では、記録層の成膜時に、Arガスに対して0.5vol%の流量比で酸素を混入させてスパッタリングを行った以外は実施例1と同様に磁気ディスクを作製した。得られた記録層の膜厚方向の組成をオージェ電子分光法(AES)で調査したところ、組成比で約3at%の酸素が含まれていることがわかった。また、この例で作製した磁気ディスクについて、実施例1と同様に、Slf/Ndを測定した。その結果、Slf/Nd=25dBが得られ、実施例1の磁気ディスクのSlf/Ndより高い値が得られた。これは、記録層の成膜時のスパッタガスに少量の酸素を混入することにより、記録層中に酸素が含有され、シード層から記録層へのBの拡散が促進されたためであると考えられる。
【0049】
【実施例4】
実施例4では、シード層及び記録層の成膜時に、Arガスの代わりにKrガスを用い、さらに記録層の成膜時には、Krガスに対して0.5vol%の流量比で酸素を混入させてスパッタリングを行った以外は実施例1と同様に磁気ディスクを作製した。得られた記録層の膜厚方向の組成をオージェ電子分光法(AES)で調査したところ、組成比で約3at%の酸素が含まれていることがわかった。
【0050】
この例で作製した磁気ディスクに含まれるCo濃度の膜厚方向分布を、オージェ電子分光法(AES)で分析した。その結果を図4に示した。また、図4には、実施例1で作製した磁気ディスクのCo濃度分布も示した。図4中の破線が実施例4の磁気ディスクのCo濃度の膜厚方向分布であり、実線が実施例1の磁気ディスクのCo濃度の膜厚方向分布である。ただし、この実験では磁気ディスクの保護層側から、エッチングとAESによるCo濃度測定とを繰り返し行いCo濃度の膜厚方向の分布を調べたので、図4の横軸はエッチング時間で表している。図4に示すように、エッチング時間0〜約2.8minが保護層、約2.8〜約10.2minが記録層、約10.2〜約14minがシード層、そして約14min以降が軟磁性裏打ち層の領域に相当する。
【0051】
図4に示すように、実施例1及び4ともに、Coが軟磁性裏打ち層からシード層へ拡散しており、実施例4の磁気ディスクの方がCoの拡散量が大きいことが分かった。また、図示しないが、実施例4の磁気ディスクでは、Bのシード層から記録層への拡散量も実施例1の場合より増加しており、記録層内の平均B濃度は、実施例1で作製した磁気ディスクの記録層内の平均B濃度(15at%)よりさらに増加し、17at%であった。即ち、スパッタガスをArガスからKrガスに代えたことにより、Co及びBの拡散が促進されることが分かった。これは、以下の理由によるものと考えられる。Krガスの分子量がArガスの分子量より大きいため、Krのスパッタ粒子の持つエネルギーがArの場合より大きくなり、ターゲットからスパッタされた粒子のエネルギーも大きくなる。これにより、成膜中の原子の移動量が大きくなり、CoやBの拡散が促進される。
【0052】
次に、この例で作製した磁気ディスクについて、実施例1と同様に、Slf/Ndを測定した。その結果を、実施例1及び3で作製した磁気ディスクの結果と一緒に表3に示した。
【0053】
【表3】
【0054】
この例で作製した磁気ディスクでは、表3に示すように、Slf/Nd=27dBが得られ、実施例1及び3の磁気ディスクより高いSlf/Ndが得られた。これは、成膜ガスをArガスより分子量の大きいKrガスを用いることにより、上述の理由からシード層から記録層へのBの拡散量が増加し、記録層内の結晶粒界部におけるBの偏析が促進され、磁性材結晶間の磁気的相互作用の一層低減されたためであると考えられる。
【0055】
また、この例で作製した磁気ディスクについて、実施例1と同様に、図3に示した磁気記録装置30に装着して、磁気ディスクの再生試験を行った。その結果、信号対雑音比S/N=32dBの再生信号が得られ、実施例1の場合(30dB)より高いS/Nが得られた。また、エラーレートは、信号処理を行わない場合に、1×10−5以下であった。
【0056】
【実施例5】
実施例5では、Co88Ta10Zr2合金ターゲットをDCスパッタすることにより、軟磁性裏打ち層としてCo88Ta10Zr2膜を成膜した以外は実施例1と同様に磁気ディスクを作製した。この例で作製した磁気ディスクについても、実施例1と同様に、Slf/Ndを測定した。その結果、Slf/Nd=23.1dBとなり、実施例1で作製した磁気ディスクとほぼ同じ結果が得られた。
【0057】
【実施例6】
実施例6では、Fe79Ta9C12合金ターゲットをDCスパッタすることにより、軟磁性裏打ち層としてFe79Ta9C12膜を成膜した以外は実施例1と同様に磁気ディスクを作製した。ただし、軟磁性裏打ち層成膜後、真空中で500℃で30秒加熱して軟磁性裏打ち層3中のFeを微結晶化させた。
【0058】
この例で作製した磁気ディスクについて、実施例1と同様に、Slf/Ndを測定した。その結果を実施例1及び5の結果と一緒に表4に示した。表4に示すように、この例の磁気ディスクではSlf/Nd=22.8dBとなり、実施例1で作製した磁気ディスクとほぼ同じ結果が得られた。
【0059】
【表4】
【0060】
【実施例7】
実施例7では、記録層を成膜した後、酸素雰囲気中で、200℃,60minのアニール処理を行った以外は実施例1と同様に磁気ディスクを作製した。ただし、この例では、アニール温度を200℃としたが、100〜500℃の範囲内の温度であれば任意である。この例で作製した磁気ディスクについて、実施例1と同様に、Slf/Ndを測定した。その結果、Slf/Nd=24.0dBが得られた。
【0061】
【実施例8】
実施例8では、シード層及び記録層の成膜時にBターゲットのかわりにCターゲットを使用した以外は実施例1と同様に磁気ディスクを作製した。この例で作製した磁気ディスクについて、AESで膜厚方向のC濃度を測定した。その結果、シード層と記録層との境界面近傍の記録層に含まれるC濃度は18.0at%であり、記録層内の膜厚方向の中間部のC濃度は15.0at%であった。さらに、記録層のシード層側の境界面から保護層側の境界面に向かうに従い、C濃度が減少することが分かった。記録層の平均C濃度は18.0at%であり、シード層の平均C濃度は29.0at%であった。また、この例で作製した磁気ディスクについて、実施例1と同様に、Slf/Ndを測定した。その結果、Slf/Nd=23.1dBが得られた。
【0062】
【比較例2】
比較例2では、シード層の成膜時のCの含有量が、シード層を形成する材料中12at%となるように、即ち、Pd:C=88:12となるように調節して作製した以外は実施例8と同様に磁気ディスクを作製した。このシード層のC含有量は、記録層の成膜時のC含有量と同じ値である。この例で作製した磁気ディスクについてもAESで膜厚方向のC濃度を測定した。その結果、記録層とシード層との境界面近傍の記録層のC濃度は12.0at%であり、記録層内の膜厚方向の中間部のC濃度は12.0at%であった。記録層の平均C濃度は12.0at%であり、 シード層の平均C濃度は12.0at%であった。この例で作製した磁気ディスクでは、実施例8で作製した磁気ディスクで見られた記録層内のシード層側境界面から保護層側境界面に向かってのC濃度の減少が観測されなかった。すなわち、この例で作製した磁気ディスクでは、記録層の膜厚方向にCの濃度勾配が生じなかった。また、この例で作製した磁気ディスクについて、実施例1と同様に、Slf/Ndを測定した。その結果、Slf/Nd=18.0dBが得られた。
【0063】
【実施例9】
実施例9では、シード層及び記録層の成膜時にPdターゲットの代わりにPtターゲットを使用した以外は実施例1と同様に磁気ディスクを作製した。この例で作製した磁気ディスクについて、AESで膜厚方向のB濃度を測定した。その結果、記録層とシード層との境界面近傍の記録層のB濃度は18.5at%であり、記録層内の膜厚方向の中間部のB濃度は15.5at%であった。さらに、記録層内の、シード層側の境界面から保護層側の境界面に向かうに従い、B濃度が減少することが分かった。記録層の平均B濃度は17.0at%であり、 シード層の平均B濃度は28.0at%であった。また、この例で作製した磁気ディスクについて、実施例1と同様に、Slf/Ndを測定した。その結果、Slf/Nd=22.0dBが得られた。
【0064】
【比較例3】
比較例3では、シード層の成膜時のBの含有量が、シード層を形成する材料中12at%となるように、即ち、Pt:B=88:12となるように調節して作製した以外は実施例9と同様に磁気ディスクを作製した。このシード層のB含有量は、記録層の成膜時のB含有量と同じ値である。この例で作製した磁気ディスクについてもAESで膜厚方向のB濃度を測定した。その結果、記録層とシード層との境界面近傍の記録層のB濃度は12.0at%であり、記録層内の膜厚方向の中間部のB濃度は12.0at%であった。記録層の平均B濃度は12.0at%であり、 シード層の平均B濃度は12.0at%であった。この例で作製した磁気ディスクでは、実施例9で作製した磁気ディスクで見られた記録層内のシード層側境界面から保護層側境界面に向かってのB濃度の減少が観測されなかった。すなわち、この例で作製した磁気ディスクでは、記録層の膜厚方向にBの濃度勾配が生じなかった。また、この例で作製した磁気ディスクについて、実施例1と同様に、Slf/Ndを測定した。その結果、Slf/Nd=17.2dBが得られた。
【0065】
【発明の効果】
本発明の磁気記録媒体の製造方法によれば、成膜時にシード層のBの含有量を記録層のBの含有量より十分大きくすることにより、シード層内のBの一部を記録層へ拡散させ、記録層内の結晶粒界部におけるBの偏析を促進し、記録層内の結晶粒間の磁気的相互作用を一層低減することができる。これにより、媒体ノイズが低減され高S/Nで情報再生可能な磁気記録媒体を提供することができる。また、本発明の磁気記録媒体を備えた磁気記録装置では、熱安定性が優れ、且つ60Gbit/inch2以上の高密度記録可能な磁気記録装置を提供することが出来る。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例1で作製した磁気ディスクの概略断面図である。
【図2】実施例1及び比較例1で作製した磁気ディスクのB濃度の膜厚方向分布図である。
【図3】実施例1で作製した磁気ディスクを備えた磁気記録装置の概略図であり、図3(a)は平面図であり、図3(b)は図3(a)中のA−A断面図である。
【図4】実施例1及び実施例4で作製した磁気ディスクのCo濃度の膜厚方向分布図である。
【符号の説明】
1 基板
2 密着層
3 軟磁性裏打ち層
4 シード層
5 記録層
6 保護層
10 磁気ディスク
30 磁気記録装置
Claims (21)
- 基板上に、軟磁性材料を用いて裏打ち層を形成する第一工程と、該裏打ち層上に、非磁性材料及び偏析成分を含むシード層形成材料を用いてシード層を形成する第二工程と、該シード層上に隣接して、硬磁性材料及び該偏析成分を含む記録層形成材料を用いて記録層を形成する第三工程とを含み、該シード層形成材料中の該偏析成分の含有量Csと、該記録層形成材料中の該偏析成分の含有量Crとの間に、Cs>Crの条件が成立する製造方法で作製された磁気記録媒体であって、
該記録層が硬磁性材料を含む結晶粒と偏析成分を含む結晶粒界部とを有し且つ垂直磁化を示す層であり、該記録層内で該偏析成分は膜厚方向に濃度勾配を有し、該濃度勾配が該記録層の該シード層側境界面から該シード層側とは反対側の境界面に向かって減少しており、
該偏析成分がBであり、該記録層の該シード層側の境界面におけるB濃度B1が17.0〜70.0at%であることを特徴とする磁気記録媒体。 - 上記シード層中のBの平均濃度が上記記録層中のBの平均濃度よりも高いことを特徴とする請求項1に記載の磁気記録媒体。
- 上記記録層の上記シード層側の境界面におけるB濃度B1と、上記記録層の上記シード層側の境界面及び上記記録層の上記シード層側とは反対側の境界面の中間におけるB濃度B2との間に、B1>B2の関係が成立することを特徴とする請求項2に記載の磁気記録媒体。
- 上記B濃度B2が6.0〜17.0at%であることを特徴とする請求項3に記載の磁気記録媒体。
- 上記記録層内の膜厚方向に0.2〜4.2at%/nmのBの濃度勾配を有することを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の磁気記録媒体。
- 上記記録層が、Bを含んだ白金族金属と、Bを含んだCoとを交互に積層した多層膜で形成されていることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の磁気記録媒体。
- 上記白金族金属が、Pt及びPdの少なくとも一方であることを特徴とする請求項6に記載の磁気記録媒体。
- 上記記録層中に10at%以下の酸素を含むことを特徴とする請求項1〜7のいずれか一項に記載の磁気記録媒体。
- 上記裏打ち層が、Co及びFeの少なくとも一方を主体とし、これにB及びCの少なくとも一種の元素を含む合金を用いて形成されていることを特徴とする請求項1〜8のいずれか一項に記載の磁気記録媒体。
- 上記裏打ち層が、CoZrを主体とし、これにTa、Nb及びTiからなる群から選ばれる少なくとも一種の元素を含む非晶質合金を用いて形成されていることを特徴とする請求項1〜9のいずれか一項に記載の磁気記録媒体。
- 上記裏打ち層が、Fe中に、Ta、Nb及びZrからなる群から選ばれる少なくとも一種の元素の窒化物または炭化物を分散させてなる構造を有することを特徴とする請求項1〜10のいずれか一項に記載の磁気記録媒体。
- 磁気記録媒体の製造方法であって、
基板上に、軟磁性材料を用いて裏打ち層を形成する第一工程と、
上記裏打ち層上に、非磁性材料を含むシード層形成材料を用いてシード層を形成する第二工程と、
上記シード層上に隣接して、硬磁性材料と特定成分とを含む記録層形成材料を用いて記録層を形成する第三工程とを含み、
上記シード層形成材料は上記特定成分を含み、上記シード層形成材料中の上記特定成分の含有量Csと、上記記録層形成材料中の上記特定成分の含有量Crとの間に、Cs>Crの条件が成立することを特徴とする製造方法。 - 上記特定成分がBであることを特徴とする請求項12に記載の製造方法。
- 上記記録層が、白金族金属及びBを用いて形成された非磁性層と、Co及びBを用いて形成された磁性層とを交互に積層した多層膜で形成されることを特徴とする請求項13に記載の製造方法。
- 上記シード層形成材料中のBの含有量Bsが、33.0〜100.0at%であり、且つ上記記録層形成材料中のBの含有量Brが、5.0〜15.0at%であることを特徴とする請求項13または14に記載の製造方法。
- 第三工程で記録層がスパッタリングにより形成されることを特徴とする請求項13〜15のいずれか一項に記載の製造方法。
- 上記スパッタリングで、スパッタガス中に0.5vol%以下の酸素が含まれていることを特徴とする請求項16に記載の製造方法。
- 上記スパッタリングで、スパッタガスにKrガスを用いることを特徴とする請求項16または17に記載の製造方法。
- 第三工程で記録層を成膜した後、酸素雰囲気中で、100〜500℃の温度でアニール処理を行うことを特徴とする請求項13〜18のいずれか一項に記載の製造方法。
- 請求項12に記載の製造方法で作製された磁気記録媒体であって、上記記録層が上記硬磁性材料を含む結晶粒と上記特定成分を含む結晶粒界部とを有し且つ垂直磁化を示す層であり、上記記録層内で上記特定成分は膜厚方向に濃度勾配を有し、該濃度勾配が上記記録層の上記シード層側境界面から上記シード層側とは反対側の境界面に向かって減少していることを特徴とする磁気記録媒体。
- 請求項1または20に記載の磁気記録媒体と、該磁気記録媒体に情報を記録または再生するための磁気ヘッドと、該磁気記録媒体を該磁気ヘッドに対して駆動するための駆動装置とを備えた磁気記録装置。
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