JP3488855B2 - 液晶表示装置とその製造方法 - Google Patents
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- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1345—Conductors connecting electrodes to cell terminals
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
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- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示装置に関す
るもので、特に有機絶縁膜が適用された開口率パネルの
上下接着力を強化させることができる液晶表示装置とそ
の製造方法に関するものである。
るもので、特に有機絶縁膜が適用された開口率パネルの
上下接着力を強化させることができる液晶表示装置とそ
の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】通常、液晶表示装置（Liquid Crystal D
isplay；ＬＣＤ）はマトリックス形態に配列された液晶
セルがビデオ信号によって光透過率を調節することで液
晶パネルにビデオ信号に該当する画像を表示する。この
ために、液晶表示装置は液晶セルがアクティブ マトリ
ックス（Active Matrix）形態で配列された液晶パネル
と、液晶セルを駆動するための駆動集積回路（Integrat
ed Circuit；以下、ＩＣという）とを具備する。駆動Ｉ
Ｃ等は通常チップ（Chip）形態で製作されてタプ（ＴＡ
Ｂ；Tape Autoamted Bonding）方式である場合ＴＣＰ
（Tape Carrier Package）の上に装着されたりＣＯＧ
（Chips On Glass）方式である場合液晶パネルの表面に
装着される。ＴＡＢ方式の場合、駆動ＩＣはＴＣＰによ
って液晶パネルに設けられるパッド部と電気的に接続さ
れている。
isplay；ＬＣＤ）はマトリックス形態に配列された液晶
セルがビデオ信号によって光透過率を調節することで液
晶パネルにビデオ信号に該当する画像を表示する。この
ために、液晶表示装置は液晶セルがアクティブ マトリ
ックス（Active Matrix）形態で配列された液晶パネル
と、液晶セルを駆動するための駆動集積回路（Integrat
ed Circuit；以下、ＩＣという）とを具備する。駆動Ｉ
Ｃ等は通常チップ（Chip）形態で製作されてタプ（ＴＡ
Ｂ；Tape Autoamted Bonding）方式である場合ＴＣＰ
（Tape Carrier Package）の上に装着されたりＣＯＧ
（Chips On Glass）方式である場合液晶パネルの表面に
装着される。ＴＡＢ方式の場合、駆動ＩＣはＴＣＰによ
って液晶パネルに設けられるパッド部と電気的に接続さ
れている。
【０００３】図１を参照すると、下板（４）と上板
（６）が対向して接着された構造の液晶パネル（２）に
対する平面図が図示されている。図１の液晶パネル
（２）はマトリックス形態で配列される画像表示部
（８）と、画像表示部（８）のゲートラインとデータラ
インと接続されるゲートパッド部（１２）及びデータパ
ッド部（１４）を含む。画像表示部（８）において、下
板（４）にはビデオ信号が印加されるデータラインが走
査信号が印加されるゲートラインが互いに交差して配置
されて、その交差部に液晶セルをスイッチングするため
の薄膜トランジスタと、薄膜トランジスタに接続されて
液晶セルを駆動する画素電極が形成されている。上板
（６）にはブラックマトリックスによってセル領域別で
分離されて塗布されたカラーフィルターと、カラーフィ
ルターの表面に共通の透明電極が塗布されている。この
ような構成を有する上板（６）と下板（４）はスペース
によって離隔されて内部にセルケップが設けられて、そ
のセルケップには液晶物質で満たされる。そして、上板
（６）と下板（４）は画像表示部（８）の外郭部に位置
するシーリング部（１０）に塗布されるシーリング剤に
よって接着される。ゲートパッド部（１２）と、データ
パッド部（１４）は上板（６）と重畳されない下板
（４）の端の領域に位置する。ゲートパッド部（１２）
はゲート駆動ＩＣから供給されるゲート信号を画像表示
部（８）のゲートラインに供給する。データパッド部
（１４）はデータ駆動ＩＣから供給されるビデオ信号を
画像表示部（８）のデータラインに供給する。
（６）が対向して接着された構造の液晶パネル（２）に
対する平面図が図示されている。図１の液晶パネル
（２）はマトリックス形態で配列される画像表示部
（８）と、画像表示部（８）のゲートラインとデータラ
インと接続されるゲートパッド部（１２）及びデータパ
ッド部（１４）を含む。画像表示部（８）において、下
板（４）にはビデオ信号が印加されるデータラインが走
査信号が印加されるゲートラインが互いに交差して配置
されて、その交差部に液晶セルをスイッチングするため
の薄膜トランジスタと、薄膜トランジスタに接続されて
液晶セルを駆動する画素電極が形成されている。上板
（６）にはブラックマトリックスによってセル領域別で
分離されて塗布されたカラーフィルターと、カラーフィ
ルターの表面に共通の透明電極が塗布されている。この
ような構成を有する上板（６）と下板（４）はスペース
によって離隔されて内部にセルケップが設けられて、そ
のセルケップには液晶物質で満たされる。そして、上板
（６）と下板（４）は画像表示部（８）の外郭部に位置
するシーリング部（１０）に塗布されるシーリング剤に
よって接着される。ゲートパッド部（１２）と、データ
パッド部（１４）は上板（６）と重畳されない下板
（４）の端の領域に位置する。ゲートパッド部（１２）
はゲート駆動ＩＣから供給されるゲート信号を画像表示
部（８）のゲートラインに供給する。データパッド部
（１４）はデータ駆動ＩＣから供給されるビデオ信号を
画像表示部（８）のデータラインに供給する。
【０００４】一方、下板（６）には金属電極と薄膜トラ
ンジスタを保護するための保護膜が全面塗布されてい
る。この保護膜の上に前記の画素電極がセル領域別に形
成される。保護膜には既存ではＳｉＮｘ、ＳｉＯｘのよ
うな無機膜を利用した。しかし、無機保護膜は誘電率が
大きくて蒸着方法によって形成されるので高さを増加さ
せることが困難な点が短所である。これによって、無機
保護膜を間に置いた画素電極とデータラインは寄生キャ
パシティによるカップリング効果を最小化するために一
定の間隔、例えば３〜５μｍの間隔を維持しなければな
らなかった。この結果、必然的に液晶セルの開口率を左
右する画素電極の大きさが減って開口率が低くなってい
た。これを解決するために、最近ではＢＣＢ（Benzocyc
lobutene）のように比較的誘電率が低い有機物が保護膜
に利用されるようになった。この有機保護膜が約２.７
程度の低い誘電率を有することとともにスピンコーティ
ング方法によって形成されるので所望の厚さで形成する
ことができる長所を有している。このような有機保護膜
によって寄生キャパシティの容量が初期化されて画素電
極とデータライン間の水平間隔無しで重畳させることが
できるようになった。この結果、画素電極の大きさが増
大されて開口率を向上させることができるようになっ
た。
ンジスタを保護するための保護膜が全面塗布されてい
る。この保護膜の上に前記の画素電極がセル領域別に形
成される。保護膜には既存ではＳｉＮｘ、ＳｉＯｘのよ
うな無機膜を利用した。しかし、無機保護膜は誘電率が
大きくて蒸着方法によって形成されるので高さを増加さ
せることが困難な点が短所である。これによって、無機
保護膜を間に置いた画素電極とデータラインは寄生キャ
パシティによるカップリング効果を最小化するために一
定の間隔、例えば３〜５μｍの間隔を維持しなければな
らなかった。この結果、必然的に液晶セルの開口率を左
右する画素電極の大きさが減って開口率が低くなってい
た。これを解決するために、最近ではＢＣＢ（Benzocyc
lobutene）のように比較的誘電率が低い有機物が保護膜
に利用されるようになった。この有機保護膜が約２.７
程度の低い誘電率を有することとともにスピンコーティ
ング方法によって形成されるので所望の厚さで形成する
ことができる長所を有している。このような有機保護膜
によって寄生キャパシティの容量が初期化されて画素電
極とデータライン間の水平間隔無しで重畳させることが
できるようになった。この結果、画素電極の大きさが増
大されて開口率を向上させることができるようになっ
た。
【０００５】このような高開口率の液晶表示装置の上下
板をシーリング剤を利用して合着する場合シーリング剤
は通常、下板の有機保護膜と接触する。しかし、有機保
護膜はエポキシ樹脂が利用されるシーリング剤と弱い接
着特性を有している。共に、有機保護膜の自体の強度が
弱かったり有機保護膜とシーリング剤またはゲート絶縁
膜間の接着力が良好でない場合、微細な衝撃によっても
その接着力が良好でない部分に隙（Crack）が生じたり
層間の分離現象が発生ずる。この結果、有機保護膜の上
下部のシーリング剤及びゲート絶縁膜間の接着力が良好
でない部分を通して液晶材料が漏れる問題がある。以
下、添付図面を参照して従来の液晶表示装置の問題点を
詳細に見ることにする。
板をシーリング剤を利用して合着する場合シーリング剤
は通常、下板の有機保護膜と接触する。しかし、有機保
護膜はエポキシ樹脂が利用されるシーリング剤と弱い接
着特性を有している。共に、有機保護膜の自体の強度が
弱かったり有機保護膜とシーリング剤またはゲート絶縁
膜間の接着力が良好でない場合、微細な衝撃によっても
その接着力が良好でない部分に隙（Crack）が生じたり
層間の分離現象が発生ずる。この結果、有機保護膜の上
下部のシーリング剤及びゲート絶縁膜間の接着力が良好
でない部分を通して液晶材料が漏れる問題がある。以
下、添付図面を参照して従来の液晶表示装置の問題点を
詳細に見ることにする。
【０００６】図２は図１でシーリング部（１０）と交差
するデータリンク部の一部分を拡大して図示したもので
ある。図２でデータリンク（１６）はデータパッド（１
４）と画像表示部のデータラインの連結部としてデータ
パッド（１４）及びデータラインと共に形成される。デ
ータリンク（１６）の下部には半導体パターン（１８）
がデータパッド（１４）まで延長されて形成される。シ
ーリング剤が塗布されるシーリング部（１０）はデータ
リング（１６）を横切る方向に位置する。データパッド
（１４）は有機保護膜に形成されたコンタクホール（１
９）を通して有機保護膜の上に形成された透明電極（１
７）と接触する。この透明電極（１７）はＴＡＢ過程で
要求されるＴＣＰの接着過程の反復時、データパッド
（１４）である金属電極を保護すると共に金属電極の酸
化を防止する役割を有する。
するデータリンク部の一部分を拡大して図示したもので
ある。図２でデータリンク（１６）はデータパッド（１
４）と画像表示部のデータラインの連結部としてデータ
パッド（１４）及びデータラインと共に形成される。デ
ータリンク（１６）の下部には半導体パターン（１８）
がデータパッド（１４）まで延長されて形成される。シ
ーリング剤が塗布されるシーリング部（１０）はデータ
リング（１６）を横切る方向に位置する。データパッド
（１４）は有機保護膜に形成されたコンタクホール（１
９）を通して有機保護膜の上に形成された透明電極（１
７）と接触する。この透明電極（１７）はＴＡＢ過程で
要求されるＴＣＰの接着過程の反復時、データパッド
（１４）である金属電極を保護すると共に金属電極の酸
化を防止する役割を有する。
【０００７】図３Ａは図２に図示されたシーリング部
（１０）を水平方向のＡーＡ′線に沿って切断した垂直
断面を図示し、図３Ｂはシーリング部（１０）を垂直方
向のＢーＢ′線に沿って切断した垂直断面を表す。図３
Ａ乃至図３Ｂで下板（４）は下部ガラス（２０）上にゲ
ート絶縁膜（２２）と半導体パターン（１８）及びデー
タリンク（１６）が順次的に積層されて、その上に有機
保護膜（２４）が全面塗布された構造を有する。図３Ｂ
でシーリング剤（１１）の右側部は画像表示部として液
晶（３２）が注入されている。上板（６）は上部ガラス
（３０）上にカラーフィルター及びブラックマトリック
ス（２６）が形成されて、その上に共通透明電極（２
６）が前面塗布された構造を有する。このような下板
（６）と上板（４）はシーリング剤（１１）によって合
着される。この場合、シーリング剤（１１）が有機保護
膜（２４）は下部のゲート絶縁膜（２４）とも弱い接着
力を有する。また、有機保護膜（２４）は下部のゲート
絶縁膜（２４）とも弱い接着力を有している。このよう
に、有機保護膜（２４）とシーリング剤（１１）または
ゲート絶縁膜（２４）との接着力が弱い場合、微細な衝
撃にも隙間が生じて液晶材料が漏れる問題がある。
（１０）を水平方向のＡーＡ′線に沿って切断した垂直
断面を図示し、図３Ｂはシーリング部（１０）を垂直方
向のＢーＢ′線に沿って切断した垂直断面を表す。図３
Ａ乃至図３Ｂで下板（４）は下部ガラス（２０）上にゲ
ート絶縁膜（２２）と半導体パターン（１８）及びデー
タリンク（１６）が順次的に積層されて、その上に有機
保護膜（２４）が全面塗布された構造を有する。図３Ｂ
でシーリング剤（１１）の右側部は画像表示部として液
晶（３２）が注入されている。上板（６）は上部ガラス
（３０）上にカラーフィルター及びブラックマトリック
ス（２６）が形成されて、その上に共通透明電極（２
６）が前面塗布された構造を有する。このような下板
（６）と上板（４）はシーリング剤（１１）によって合
着される。この場合、シーリング剤（１１）が有機保護
膜（２４）は下部のゲート絶縁膜（２４）とも弱い接着
力を有する。また、有機保護膜（２４）は下部のゲート
絶縁膜（２４）とも弱い接着力を有している。このよう
に、有機保護膜（２４）とシーリング剤（１１）または
ゲート絶縁膜（２４）との接着力が弱い場合、微細な衝
撃にも隙間が生じて液晶材料が漏れる問題がある。
【０００８】図４は図１でシーリング部（１０）と交差
するゲートリンク部の一部分を拡大して図示する。図４
でゲートリンク（３４）はゲートパッド（１２）と画像
表示部のゲートラインの連結部としてゲートパッド（１
２）及びゲートラインと共に形成される。ゲートパッド
（１２）はゲート絶縁膜と有機保護膜を経由して形成さ
れたコンタクホール（１９）を通して透明電極（１７）
と接触する。この透明電極（１７）はゲートパッド（１
２）である金属電極を保護する役割を有する。シーリン
グ剤が塗布されるシーリング部（１０）はゲートリンク
（３４）と交差する方向に位置する。
するゲートリンク部の一部分を拡大して図示する。図４
でゲートリンク（３４）はゲートパッド（１２）と画像
表示部のゲートラインの連結部としてゲートパッド（１
２）及びゲートラインと共に形成される。ゲートパッド
（１２）はゲート絶縁膜と有機保護膜を経由して形成さ
れたコンタクホール（１９）を通して透明電極（１７）
と接触する。この透明電極（１７）はゲートパッド（１
２）である金属電極を保護する役割を有する。シーリン
グ剤が塗布されるシーリング部（１０）はゲートリンク
（３４）と交差する方向に位置する。
【０００９】図５Ａは図４に図示されたシーリング部
（１０）を水平方向のＡーＡ′線に沿って切断した垂直
断面を図示し、図５Ｂはシーリング部（１０）を垂直方
向のＢーＢ′線に沿って切断した垂直断面を表す。図５
Ａ乃至図５Ｂで下板（４）は下部ガラス（２０）上にゲ
ートリンク（３４）とゲート絶縁膜（２２）が順次積層
されて、その上に有機保護膜（２４）が全面塗布された
構造を有する。上板（６）は上部ガラス（３０）上にカ
ラーフィルター及びブラックマトリックス（２６）が形
成されて、その上に共通透明電極（２６）が全面塗布さ
れた構造を有する。このような下板（６）と上板（４）
はシーリング剤（１１）によって合着される。この場
合、シーリング剤（１１）が有機保護膜（２４）と接触
することによって弱い接着力を有する。また、有機保護
膜（２４）は下部のゲート絶縁膜（２４）とも弱い接着
力を有している。このように、有機保護膜（２４）とシ
ーリング剤（１１）またはゲート絶縁膜（２４）との接
着力が弱い場合、微細な衝撃にも隙間が生じて液晶が漏
れる問題点がある。
（１０）を水平方向のＡーＡ′線に沿って切断した垂直
断面を図示し、図５Ｂはシーリング部（１０）を垂直方
向のＢーＢ′線に沿って切断した垂直断面を表す。図５
Ａ乃至図５Ｂで下板（４）は下部ガラス（２０）上にゲ
ートリンク（３４）とゲート絶縁膜（２２）が順次積層
されて、その上に有機保護膜（２４）が全面塗布された
構造を有する。上板（６）は上部ガラス（３０）上にカ
ラーフィルター及びブラックマトリックス（２６）が形
成されて、その上に共通透明電極（２６）が全面塗布さ
れた構造を有する。このような下板（６）と上板（４）
はシーリング剤（１１）によって合着される。この場
合、シーリング剤（１１）が有機保護膜（２４）と接触
することによって弱い接着力を有する。また、有機保護
膜（２４）は下部のゲート絶縁膜（２４）とも弱い接着
力を有している。このように、有機保護膜（２４）とシ
ーリング剤（１１）またはゲート絶縁膜（２４）との接
着力が弱い場合、微細な衝撃にも隙間が生じて液晶が漏
れる問題点がある。
【００１０】結果的に、従来の有機保護膜が適用された
開口率の高い液晶表示装置は有機保護膜がシーリング剤
及びゲート絶縁膜と弱い接着特性を有することによって
微細な外部の衝撃にも容易に隙間が発生してその隙間を
通して液晶が漏れる問題点を有している。
開口率の高い液晶表示装置は有機保護膜がシーリング剤
及びゲート絶縁膜と弱い接着特性を有することによって
微細な外部の衝撃にも容易に隙間が発生してその隙間を
通して液晶が漏れる問題点を有している。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は有機保護膜が適用された高開口率の液晶表示装置でシ
ーリング剤と下板接着力を強化させることができる構造
を有する液晶表示装置を提供することである。本発明の
また他の目的は有機保護膜が適用された高開口率の液晶
表示装置でシーリング剤と下板接着力を強化させること
ができる液晶表示装置製造方法を提供することである。
は有機保護膜が適用された高開口率の液晶表示装置でシ
ーリング剤と下板接着力を強化させることができる構造
を有する液晶表示装置を提供することである。本発明の
また他の目的は有機保護膜が適用された高開口率の液晶
表示装置でシーリング剤と下板接着力を強化させること
ができる液晶表示装置製造方法を提供することである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】前記の目的を達成するた
めに、本発明による液晶表示装置は基板と、シーリング
剤が基板と直接に接するように基板の上に形成されてパ
タニングされた有機保護膜とゲート絶縁膜とを具備する
ことを特徴とする。本発明による液晶表示装置は、シー
リング剤がゲート絶縁膜と直接に接するようにパタニン
グされた有機保護膜とを具備することを特徴とする。
めに、本発明による液晶表示装置は基板と、シーリング
剤が基板と直接に接するように基板の上に形成されてパ
タニングされた有機保護膜とゲート絶縁膜とを具備する
ことを特徴とする。本発明による液晶表示装置は、シー
リング剤がゲート絶縁膜と直接に接するようにパタニン
グされた有機保護膜とを具備することを特徴とする。
【００１３】本発明による液晶表示装置の製造方法はは
シーリング剤が基板と直接に接するように有機保護膜と
ゲート絶縁膜をパタニングする段階とを含むことを特徴
とする。本発明による液晶表示装置の製造方法はシーリ
ング剤がゲート絶縁膜と接するように有機保護膜をパタ
ニングする段階を含むことを特徴とする。
シーリング剤が基板と直接に接するように有機保護膜と
ゲート絶縁膜をパタニングする段階とを含むことを特徴
とする。本発明による液晶表示装置の製造方法はシーリ
ング剤がゲート絶縁膜と接するように有機保護膜をパタ
ニングする段階を含むことを特徴とする。
【００１４】
【作用】本発明による液晶表示装置及びその製造方法で
はシーリング剤が塗布される領域の有機保護膜とゲート
絶縁膜を部分的または全面的に除去してシーリング剤が
ガラス基板と直接に接するようにすることでシーリング
剤と下板の接着力を強化させることができる。また、本
発明による液晶表示素子及びその製造方法ではシーリン
グ剤が塗布される領域の有機保護膜とゲート絶縁膜を部
分的または全面的に除去してシーリング剤がゲート絶縁
膜と直接に接されることでシーリング剤と下板の接着力
を強化させることができる。これによって、有機保護膜
が適用された高開口率の液晶表示装置でシーリング剤と
有機保護膜または有機保護膜とゲート絶縁膜の接着力の
弱化で外部衝撃による液晶材料の漏れを防止することが
できる。
はシーリング剤が塗布される領域の有機保護膜とゲート
絶縁膜を部分的または全面的に除去してシーリング剤が
ガラス基板と直接に接するようにすることでシーリング
剤と下板の接着力を強化させることができる。また、本
発明による液晶表示素子及びその製造方法ではシーリン
グ剤が塗布される領域の有機保護膜とゲート絶縁膜を部
分的または全面的に除去してシーリング剤がゲート絶縁
膜と直接に接されることでシーリング剤と下板の接着力
を強化させることができる。これによって、有機保護膜
が適用された高開口率の液晶表示装置でシーリング剤と
有機保護膜または有機保護膜とゲート絶縁膜の接着力の
弱化で外部衝撃による液晶材料の漏れを防止することが
できる。
【００１５】
【発明の実施態様】以下、本発明の好ましい実施例を図
６乃至図２５を参照して詳細に説明することにする。図
６は本発明の第１参考例による液晶表示装置のデータリ
ンク部を部分的に拡大して図示したものである。図６で
データリンク（１６）はデータパッド（１４）及び画像
表示部のデータラインと共に形成される。データパッド
（１４）は有機保護膜に形成されたコンタクホール（１
９）を通して透明電極（１７）と電気的に接続される。
データリンク（１６）の下部には半導体パターン（１
８）がデータパッド（１４）まで延長されて形成され
る。シーリング剤が塗布されるシーリング部（１０）は
データリンク（１６）を横切る方向に位置する。データ
リンク（１６）の間のシーリング部（１０）に位置する
有機保護膜とゲート絶縁膜をパタニングして多数個のホ
ール（４０）を形成することでシーリング剤がホール
（４０）がシーリング部（１０）の外郭部まで延長され
て形成されるようにすることでシーリング剤の塗布時、
気泡の発生が防止できる。
６乃至図２５を参照して詳細に説明することにする。図
６は本発明の第１参考例による液晶表示装置のデータリ
ンク部を部分的に拡大して図示したものである。図６で
データリンク（１６）はデータパッド（１４）及び画像
表示部のデータラインと共に形成される。データパッド
（１４）は有機保護膜に形成されたコンタクホール（１
９）を通して透明電極（１７）と電気的に接続される。
データリンク（１６）の下部には半導体パターン（１
８）がデータパッド（１４）まで延長されて形成され
る。シーリング剤が塗布されるシーリング部（１０）は
データリンク（１６）を横切る方向に位置する。データ
リンク（１６）の間のシーリング部（１０）に位置する
有機保護膜とゲート絶縁膜をパタニングして多数個のホ
ール（４０）を形成することでシーリング剤がホール
（４０）がシーリング部（１０）の外郭部まで延長され
て形成されるようにすることでシーリング剤の塗布時、
気泡の発生が防止できる。
【００１６】 図７は図６でホール（４０）が形成され
たシーリング部（１０）をＡーＡ'線に沿って切断した
下板の垂直断面を図示したものである。図６及び図７を
参照して本発明の第１参考例によるデータリンク部の製
造方法を見ると次のようである。このゲート絶縁膜（２
２）の上に半導体パターン（１８）及びデータリンク
（１６）を順次形成した後、全面に有機保護膜（２４）
を形成する。その次、マスクパターンを利用した乾式の
蝕刻方によってシーリング剤（１１）が塗布される位置
の有機保護膜（２４）とゲート絶縁膜を順次パタニング
することでホール（４０）を形成する。この場合、ホー
ル（４０）の一つの側の端部がシーリング部（１０）の
外側に位置するようにする。その次、シーリング部（１
０）にシーリング剤（１１）を塗布して上板と下板を合
着させる。この場合、シーリング剤（１１）がホール
（４０）を通して部分的に下部ガラス（２０）と直接に
接触することでシーリング剤（１１）と下板の接着力を
強化させることができる。
たシーリング部（１０）をＡーＡ'線に沿って切断した
下板の垂直断面を図示したものである。図６及び図７を
参照して本発明の第１参考例によるデータリンク部の製
造方法を見ると次のようである。このゲート絶縁膜（２
２）の上に半導体パターン（１８）及びデータリンク
（１６）を順次形成した後、全面に有機保護膜（２４）
を形成する。その次、マスクパターンを利用した乾式の
蝕刻方によってシーリング剤（１１）が塗布される位置
の有機保護膜（２４）とゲート絶縁膜を順次パタニング
することでホール（４０）を形成する。この場合、ホー
ル（４０）の一つの側の端部がシーリング部（１０）の
外側に位置するようにする。その次、シーリング部（１
０）にシーリング剤（１１）を塗布して上板と下板を合
着させる。この場合、シーリング剤（１１）がホール
（４０）を通して部分的に下部ガラス（２０）と直接に
接触することでシーリング剤（１１）と下板の接着力を
強化させることができる。
【００１７】 図８に、本発明の第１参考例による液晶
表示装置のゲートリンク部を部分的に拡大して図示し
た。図８でゲートリンク（３４）はゲートパッド（１
２）と画像表示部のゲートラインと共に形成される。ゲ
ートパッド（１２）はゲート絶縁膜と有機保護膜を経由
して形成されたコンタクホール（１９）を通して透明電
極（１７）と電気的に接続される。シーリング剤が塗布
されるシーリング部（１１）はゲートリンク（３４）を
横切る方向に位置する。この場合、前述したデータリン
ク部と同一にゲートリンク（３４）の間のシーリング部
（１０）に位置する有機保護膜とゲート絶縁膜をパタニ
ングして多数個のホール（４０）を形成することでシー
リング剤がホール（４０）を通して下部ガラスと部分的
に直接接着されるようにする。特に、ホール（４０）が
シーリング部（１０）の外郭部まで延長して形成される
ようにすることでシーリング剤の塗布時、気泡が発生さ
れることを防止する。
表示装置のゲートリンク部を部分的に拡大して図示し
た。図８でゲートリンク（３４）はゲートパッド（１
２）と画像表示部のゲートラインと共に形成される。ゲ
ートパッド（１２）はゲート絶縁膜と有機保護膜を経由
して形成されたコンタクホール（１９）を通して透明電
極（１７）と電気的に接続される。シーリング剤が塗布
されるシーリング部（１１）はゲートリンク（３４）を
横切る方向に位置する。この場合、前述したデータリン
ク部と同一にゲートリンク（３４）の間のシーリング部
（１０）に位置する有機保護膜とゲート絶縁膜をパタニ
ングして多数個のホール（４０）を形成することでシー
リング剤がホール（４０）を通して下部ガラスと部分的
に直接接着されるようにする。特に、ホール（４０）が
シーリング部（１０）の外郭部まで延長して形成される
ようにすることでシーリング剤の塗布時、気泡が発生さ
れることを防止する。
【００１８】 図８でホール（４０）が形成されたシー
リング部（１０）をＡーＡ'線に沿って切断した下板の
垂直断面は前述した図７で図示したものと同様である。
図７及び図８を参照して本発明の第１参考例によるゲー
トリンク部の製造方法を見ると次のようである。下部ガ
ラス（２０）の上にゲートリンク（３４）を形成して、
全面にゲート絶縁膜（２２）を形成する。このゲート絶
縁膜（２２）の全面に有機保護膜（２４）を形成した
後、マスクパターンを利用した乾式の蝕刻方によってシ
ーリング剤（１１）が塗布される位置の有機保護膜（２
４）とゲート絶縁膜（２２）を順次的にパタニングする
ことでホール（４０）を形成する。この場合、ホール
（４０）の一側の端部がシーリング部（１０）の外側に
位置するようにする。その次、シーリング部（１０）に
シーリング剤（１１）を塗布して上板と下板を合着させ
る。この場合、シーリング剤（１１）がホール（４０）
を通して部分的に下部ガラス（２０）と直接に接触させ
ることでシーリング剤（１１）と下板の接着力を強化さ
せることができる。
リング部（１０）をＡーＡ'線に沿って切断した下板の
垂直断面は前述した図７で図示したものと同様である。
図７及び図８を参照して本発明の第１参考例によるゲー
トリンク部の製造方法を見ると次のようである。下部ガ
ラス（２０）の上にゲートリンク（３４）を形成して、
全面にゲート絶縁膜（２２）を形成する。このゲート絶
縁膜（２２）の全面に有機保護膜（２４）を形成した
後、マスクパターンを利用した乾式の蝕刻方によってシ
ーリング剤（１１）が塗布される位置の有機保護膜（２
４）とゲート絶縁膜（２２）を順次的にパタニングする
ことでホール（４０）を形成する。この場合、ホール
（４０）の一側の端部がシーリング部（１０）の外側に
位置するようにする。その次、シーリング部（１０）に
シーリング剤（１１）を塗布して上板と下板を合着させ
る。この場合、シーリング剤（１１）がホール（４０）
を通して部分的に下部ガラス（２０）と直接に接触させ
ることでシーリング剤（１１）と下板の接着力を強化さ
せることができる。
【００１９】 図９に、本発明の第１実施例による液晶
表示装置のデータリンク部を部分的に拡大して図示し
た。図９でデータリンク（４４）はデータパッド（４
２）をゲートラインと同一な金属材料を利用してゲート
ラインの形成時、共に形成する。このデータリンク（４
４）はコンタクホール（１９）に形成された透明電極
（１７）を通して異なる層に形成されたデータライン
（５０）と電気的に接続される。換言すれば、ゲート絶
縁膜の上に形成されたデータライン（５０）はコンタク
ホール（１９）に形成された透明電極（１７）を経由し
てゲート絶縁膜の下部に形成されたデータリンク（４
４）と電気的に接続される。シーリング部（１０）と交
差するデータリンク（４４）の上には半導体パターン
（４６）が位置する。シーリング部（１０）の有機保護
膜と半導体パターン（４６）が形成された部位を除いた
ゲート絶縁膜をすべてエッチングすることでシーリング
剤が半導体パターン（４６）及び下部ガラスと接着され
るようにする。この場合、シーリング剤と下部ガラスが
接着される面積がより広くなることによってシーリング
剤と下板の接着力はより強化される。特に、有機保護膜
とゲート絶縁膜がエッチングされる領域（４８）の幅を
シーリング部（１０）の幅より大きくすることでシーリ
ング剤の塗布時、気泡の発生を防止することができる。
表示装置のデータリンク部を部分的に拡大して図示し
た。図９でデータリンク（４４）はデータパッド（４
２）をゲートラインと同一な金属材料を利用してゲート
ラインの形成時、共に形成する。このデータリンク（４
４）はコンタクホール（１９）に形成された透明電極
（１７）を通して異なる層に形成されたデータライン
（５０）と電気的に接続される。換言すれば、ゲート絶
縁膜の上に形成されたデータライン（５０）はコンタク
ホール（１９）に形成された透明電極（１７）を経由し
てゲート絶縁膜の下部に形成されたデータリンク（４
４）と電気的に接続される。シーリング部（１０）と交
差するデータリンク（４４）の上には半導体パターン
（４６）が位置する。シーリング部（１０）の有機保護
膜と半導体パターン（４６）が形成された部位を除いた
ゲート絶縁膜をすべてエッチングすることでシーリング
剤が半導体パターン（４６）及び下部ガラスと接着され
るようにする。この場合、シーリング剤と下部ガラスが
接着される面積がより広くなることによってシーリング
剤と下板の接着力はより強化される。特に、有機保護膜
とゲート絶縁膜がエッチングされる領域（４８）の幅を
シーリング部（１０）の幅より大きくすることでシーリ
ング剤の塗布時、気泡の発生を防止することができる。
【００２０】 図１０は図９のシーリング部（１０）を
ＡーＡ'線に沿って切断した下板の垂直断面を図示すも
のである。図１０を参照して本発明の第１実施例による
データリンク部の製造方法を見ると次のようである。下
部ガラス（２０）の上にデータリンク（４４）を形成し
た後、その上にゲート絶縁膜（２２）を全面塗布する。
ゲート絶縁層（２２）の上に半導体パターン（４６）を
形成して、その上に有機保護膜を全面塗布する。その
次、マスクパターンを利用してシーリング部の有機保護
膜（２４）と半導体パターン（４６）が形成された部位
を除いたゲート絶縁層（２２）をすべてエッチングす
る。この場合、有機保護膜（２４）とゲート絶縁膜がエ
ッチングされる領域（４８）の幅をシーリング部（１
０）の幅より大きくする。半導体パターン（４６）はゲ
ート絶縁膜のエッチング時、エッチスタッパー（Etchst
opper）で作用してその下部のゲート絶縁膜（２２）と
データリンク（４４）を保護する。このために、半導体
パターン（４６）の幅をデータリンク（４４）の幅より
広く設定する。続いて、シーリング部（１０）にシーリ
ング剤（１１）を塗布して上板と下板を合着させる。こ
の場合、シーリング剤（１１）が下部ガラス（２０）及
び半導体パターン（４６）と接触することでシーリング
剤（１１）と下板の接着特性を強化させることができ
る。
ＡーＡ'線に沿って切断した下板の垂直断面を図示すも
のである。図１０を参照して本発明の第１実施例による
データリンク部の製造方法を見ると次のようである。下
部ガラス（２０）の上にデータリンク（４４）を形成し
た後、その上にゲート絶縁膜（２２）を全面塗布する。
ゲート絶縁層（２２）の上に半導体パターン（４６）を
形成して、その上に有機保護膜を全面塗布する。その
次、マスクパターンを利用してシーリング部の有機保護
膜（２４）と半導体パターン（４６）が形成された部位
を除いたゲート絶縁層（２２）をすべてエッチングす
る。この場合、有機保護膜（２４）とゲート絶縁膜がエ
ッチングされる領域（４８）の幅をシーリング部（１
０）の幅より大きくする。半導体パターン（４６）はゲ
ート絶縁膜のエッチング時、エッチスタッパー（Etchst
opper）で作用してその下部のゲート絶縁膜（２２）と
データリンク（４４）を保護する。このために、半導体
パターン（４６）の幅をデータリンク（４４）の幅より
広く設定する。続いて、シーリング部（１０）にシーリ
ング剤（１１）を塗布して上板と下板を合着させる。こ
の場合、シーリング剤（１１）が下部ガラス（２０）及
び半導体パターン（４６）と接触することでシーリング
剤（１１）と下板の接着特性を強化させることができ
る。
【００２１】 図１１には本発明の第１実施例による液
晶表示装置のゲートリンク部を部分的に拡大して図示し
た。図１１でゲートリンク（３４）はゲートパッド（１
２）及びゲートラインと共に形成される。ゲートパッド
（１３２）はゲート絶縁膜及び有機保護膜を経由して形
成されたコンタクホール（１９）を通して透明電極（１
７）と電気的に接続される。シーリング部（１０）と交
差するゲートリンク（３４）の上にゲートリンク（３
４）を保護するための半導体パターン（４６）が形成さ
れる。シーリング部（１０）に位置する有機保護膜と半
導体パターン（４６）が形成された部位を除いたゲート
絶縁膜をすべてエッチングすることでシーリング剤が半
導体パターン（４６）及び下部ガラスと接触するように
する。この場合、シーリング剤と下部ガラスが接着され
る面積がより広くなることによってシーリング剤と下板
の接着力はより強化される。特に、有機保護膜とゲート
絶縁膜がエッチングされる領域（４８）の幅をシーリン
グ部（１０）の幅より大きくすることでシーリング剤の
塗布時に気泡の発生を防止することができる。図１１で
シーリング部（１０）をＡーＡ'線に沿って切断した下
板の垂直断面はデータリンク（４４）がゲートリンク
（３４）で代替される場合、前述した図１０と同一の構
造を有する。
晶表示装置のゲートリンク部を部分的に拡大して図示し
た。図１１でゲートリンク（３４）はゲートパッド（１
２）及びゲートラインと共に形成される。ゲートパッド
（１３２）はゲート絶縁膜及び有機保護膜を経由して形
成されたコンタクホール（１９）を通して透明電極（１
７）と電気的に接続される。シーリング部（１０）と交
差するゲートリンク（３４）の上にゲートリンク（３
４）を保護するための半導体パターン（４６）が形成さ
れる。シーリング部（１０）に位置する有機保護膜と半
導体パターン（４６）が形成された部位を除いたゲート
絶縁膜をすべてエッチングすることでシーリング剤が半
導体パターン（４６）及び下部ガラスと接触するように
する。この場合、シーリング剤と下部ガラスが接着され
る面積がより広くなることによってシーリング剤と下板
の接着力はより強化される。特に、有機保護膜とゲート
絶縁膜がエッチングされる領域（４８）の幅をシーリン
グ部（１０）の幅より大きくすることでシーリング剤の
塗布時に気泡の発生を防止することができる。図１１で
シーリング部（１０）をＡーＡ'線に沿って切断した下
板の垂直断面はデータリンク（４４）がゲートリンク
（３４）で代替される場合、前述した図１０と同一の構
造を有する。
【００２２】 図１２は本発明の第１実施例による液晶
表示装置のデータリンク部を部分的に拡大して図示した
ものである。図１２でデータパッド（１４）とデータリ
ンク（１６）は画像表示部のデータラインと同時に形成
される。データリンク（１６）は有機保護膜を経由して
形成されたコンタクホール（１９）を通して透明電極
（１７）と電気的に接続される。データリンク（１６）
の下部には半導体パターン（１８）が形成される。この
半導体パターン（１８）でシーリング部（１０）に位置
する部分（１８ａ）はゲート絶縁膜のエッチング時、エ
ッチストッパ（Etchstopper）として作用して半導体の
パターン（１８ａ）下部のゲート絶縁膜（２２）がアン
ダーカット（Under-cut）されることを防止する。この
ために、シーリング部（１０）に位置する半導体パター
ン（１８ａ）の幅を異なる部位に比べて広く設定する。
シーリング部（１０）の有機保護膜と半導体パターン
（１８ａ）部位を除いたゲート絶縁膜がすべてエッチン
グされる。そして、データリンク（１６）の上部にはデ
ータリンク（１６）を保護することと共にデータリンク
（１６）よりシーリング剤（１１）と強い接着特性を有
する透明電極（４７）が位置する。これによって、シー
リング剤が透明電極（４７）及び下部ガラスと直接接触
するので下板との接着力が強化される。特に、エッチン
グ部（４８）の幅をシーリング部（１０）の幅より大き
くすることでシーリング剤の塗布時、気泡の発生を防止
することができる。
表示装置のデータリンク部を部分的に拡大して図示した
ものである。図１２でデータパッド（１４）とデータリ
ンク（１６）は画像表示部のデータラインと同時に形成
される。データリンク（１６）は有機保護膜を経由して
形成されたコンタクホール（１９）を通して透明電極
（１７）と電気的に接続される。データリンク（１６）
の下部には半導体パターン（１８）が形成される。この
半導体パターン（１８）でシーリング部（１０）に位置
する部分（１８ａ）はゲート絶縁膜のエッチング時、エ
ッチストッパ（Etchstopper）として作用して半導体の
パターン（１８ａ）下部のゲート絶縁膜（２２）がアン
ダーカット（Under-cut）されることを防止する。この
ために、シーリング部（１０）に位置する半導体パター
ン（１８ａ）の幅を異なる部位に比べて広く設定する。
シーリング部（１０）の有機保護膜と半導体パターン
（１８ａ）部位を除いたゲート絶縁膜がすべてエッチン
グされる。そして、データリンク（１６）の上部にはデ
ータリンク（１６）を保護することと共にデータリンク
（１６）よりシーリング剤（１１）と強い接着特性を有
する透明電極（４７）が位置する。これによって、シー
リング剤が透明電極（４７）及び下部ガラスと直接接触
するので下板との接着力が強化される。特に、エッチン
グ部（４８）の幅をシーリング部（１０）の幅より大き
くすることでシーリング剤の塗布時、気泡の発生を防止
することができる。
【００２３】 図１３は図１２でデータリンク（１６）
と交差するシーリング部（１０）をＡーＡ'線に沿って
切断した下板の垂直断面を図示したものである。同図を
参照して本発明の第２ 実施例によるリンク部の製造方
法を説明する。ゲートラインが形成された下部ガラス
（２０）上にゲート絶縁層（２２）を全面塗布する。ゲ
ート絶縁層（２２）の上に半導体パターン（１８ａ）を
形成する。シーリング部（１０）での半導体パターン
（１８ａ）は以後のゲート絶縁膜（２２）のエッチング
過程でエッチストッパとしてその下部のゲート絶縁層
（２２）がアンダーカットされることを防止するために
異なる部位より幅を広く設定する。半導体パターン（１
８ａ）の上にデータリンク（１６）をデータライン及び
データパッドと共に形成した後、その上に有機保護膜を
全面塗布する。その次、マスクパターンを利用してシー
リング部（１０）の有機保護膜と半導体パターン（１８
ａ）の部位を除いたゲート絶縁層（２２）をすべてエッ
チングする。続いて、データリンク（１６）と半導体パ
ターン（１８ａ）及びゲート絶縁膜（２２）を保護する
ように透明電極（４７）を形成した後、シーリング部
（１０）にシーリング剤（１１）を塗布して上下板を合
着させる。これによって、シーリング剤（１１）が下部
ガラス（２０）及び透明電極（４７）と接着されるよう
にすることでシーリング剤（１１）と下板の接着特性を
強化させることができる。
と交差するシーリング部（１０）をＡーＡ'線に沿って
切断した下板の垂直断面を図示したものである。同図を
参照して本発明の第２ 実施例によるリンク部の製造方
法を説明する。ゲートラインが形成された下部ガラス
（２０）上にゲート絶縁層（２２）を全面塗布する。ゲ
ート絶縁層（２２）の上に半導体パターン（１８ａ）を
形成する。シーリング部（１０）での半導体パターン
（１８ａ）は以後のゲート絶縁膜（２２）のエッチング
過程でエッチストッパとしてその下部のゲート絶縁層
（２２）がアンダーカットされることを防止するために
異なる部位より幅を広く設定する。半導体パターン（１
８ａ）の上にデータリンク（１６）をデータライン及び
データパッドと共に形成した後、その上に有機保護膜を
全面塗布する。その次、マスクパターンを利用してシー
リング部（１０）の有機保護膜と半導体パターン（１８
ａ）の部位を除いたゲート絶縁層（２２）をすべてエッ
チングする。続いて、データリンク（１６）と半導体パ
ターン（１８ａ）及びゲート絶縁膜（２２）を保護する
ように透明電極（４７）を形成した後、シーリング部
（１０）にシーリング剤（１１）を塗布して上下板を合
着させる。これによって、シーリング剤（１１）が下部
ガラス（２０）及び透明電極（４７）と接着されるよう
にすることでシーリング剤（１１）と下板の接着特性を
強化させることができる。
【００２４】 図１４は本発明の第２参考例による液晶
表示装置のデータリンク部を拡大して図示したものであ
り、図１５は図１４でシーリング部（１０）をＡーＡ'
線に沿って切断した下板の垂直の断面を図示したもので
ある。図１４及び図１５において、シーリング部（１
０）と交差するデータリンク（１６）の間の有機保護膜
（２４）とゲート絶縁膜（２２）の多数個のホール（５
２）を形成してシーリング剤（１１）が多数個のホール
（５２）を通して下部ガラス（２０）と直接に接するこ
とで接着力が強化される。データリンク（１６）はデー
タパッド及びデータラインと共にゲート絶縁層（２２）
が形成された下部ガラス（２０）上に形成される。デー
タリンク（１６）の下部には半導体パターン（１８）が
形成される。有機保護膜（２４）はデータリンク（１
６）が形成された下板上に全面塗布される。多数個のホ
ール（５２）はシーリング部（１０）と交差するデータ
リンク（１６）の間の有機保護膜（２４）とゲート絶縁
膜（２２）をパタニングすることで形成される。これに
よって、シーリング剤（１１）が有機保護膜（２４）の
上に塗布される場合、多数個のホール（５２）を通して
下部ガラス（２０）と直接接することでシーリング剤
（１１）の接着力が強化される。これと同一に、シーリ
ング部（１０）と交差するゲートリンクの間の有機保護
膜とゲート絶縁膜にも多数個のホール（５２）を形成す
ることでシーリング剤（１１）の接着力を強化させるこ
とができる。
表示装置のデータリンク部を拡大して図示したものであ
り、図１５は図１４でシーリング部（１０）をＡーＡ'
線に沿って切断した下板の垂直の断面を図示したもので
ある。図１４及び図１５において、シーリング部（１
０）と交差するデータリンク（１６）の間の有機保護膜
（２４）とゲート絶縁膜（２２）の多数個のホール（５
２）を形成してシーリング剤（１１）が多数個のホール
（５２）を通して下部ガラス（２０）と直接に接するこ
とで接着力が強化される。データリンク（１６）はデー
タパッド及びデータラインと共にゲート絶縁層（２２）
が形成された下部ガラス（２０）上に形成される。デー
タリンク（１６）の下部には半導体パターン（１８）が
形成される。有機保護膜（２４）はデータリンク（１
６）が形成された下板上に全面塗布される。多数個のホ
ール（５２）はシーリング部（１０）と交差するデータ
リンク（１６）の間の有機保護膜（２４）とゲート絶縁
膜（２２）をパタニングすることで形成される。これに
よって、シーリング剤（１１）が有機保護膜（２４）の
上に塗布される場合、多数個のホール（５２）を通して
下部ガラス（２０）と直接接することでシーリング剤
（１１）の接着力が強化される。これと同一に、シーリ
ング部（１０）と交差するゲートリンクの間の有機保護
膜とゲート絶縁膜にも多数個のホール（５２）を形成す
ることでシーリング剤（１１）の接着力を強化させるこ
とができる。
【００２５】 図１６は本発明の第３参考例による液晶
表示装置のデータリンク部を拡大して図示したものであ
り、図１７Ａ及び図１７Ｂは図１５でシーリング部（１
０）をＡーＡ'線及びＢーＢ'線に沿って切断した下板の
垂直の断面をそれぞれ図示したものである。図１６乃至
図１７Ｂにおいて、シーリング部（１０）の有機保護膜
（２４）とゲート絶縁膜（２２）でデータリンク（１
６）を横切る方向にライン型のホール（５４）を形成し
てシーリング剤（１１）がライン型のホール（５４）を
通して下部ガラス（２０）と直接に接することで接着力
が強化される。データリンク（１６）はデータパッド及
びデータラインと共にゲート絶縁層（２２）が形成され
た下部ガラス（２０）上に形成される。データリンク
（１６）の下部には半導体パターン（１８）が形成され
る。有機保護膜（２４）はデータリンク（１６）が形成
された下板上に全面塗布される。ライン型のホール（５
４）はデータリンク（１６）を横切る方向にシーリング
部（１０）の有機保護膜（２４）とゲート絶縁膜（２
２）をパタニングすることで形成される。これによっ
て、シーリング剤（１１）が塗布される際、ライン型の
ホール（５４）を通して下部ガラス（２０）と直接に接
することでシーリング剤（１１）の接着力が強化され
る。これと同一に、シーリング部（１０）と交差するゲ
ートリンクの間の有機保護膜とゲート絶縁膜にもライン
型のホール（５４）を形成することでシーリング剤（１
１）の接着力を強化させることができる。
表示装置のデータリンク部を拡大して図示したものであ
り、図１７Ａ及び図１７Ｂは図１５でシーリング部（１
０）をＡーＡ'線及びＢーＢ'線に沿って切断した下板の
垂直の断面をそれぞれ図示したものである。図１６乃至
図１７Ｂにおいて、シーリング部（１０）の有機保護膜
（２４）とゲート絶縁膜（２２）でデータリンク（１
６）を横切る方向にライン型のホール（５４）を形成し
てシーリング剤（１１）がライン型のホール（５４）を
通して下部ガラス（２０）と直接に接することで接着力
が強化される。データリンク（１６）はデータパッド及
びデータラインと共にゲート絶縁層（２２）が形成され
た下部ガラス（２０）上に形成される。データリンク
（１６）の下部には半導体パターン（１８）が形成され
る。有機保護膜（２４）はデータリンク（１６）が形成
された下板上に全面塗布される。ライン型のホール（５
４）はデータリンク（１６）を横切る方向にシーリング
部（１０）の有機保護膜（２４）とゲート絶縁膜（２
２）をパタニングすることで形成される。これによっ
て、シーリング剤（１１）が塗布される際、ライン型の
ホール（５４）を通して下部ガラス（２０）と直接に接
することでシーリング剤（１１）の接着力が強化され
る。これと同一に、シーリング部（１０）と交差するゲ
ートリンクの間の有機保護膜とゲート絶縁膜にもライン
型のホール（５４）を形成することでシーリング剤（１
１）の接着力を強化させることができる。
【００２６】 図１８は本発明の第３実施例による液晶
表示装置のゲートリンク部を一部分を拡大して図示した
ものである。図１８でゲートリンク（３４）はゲートパ
ッド（１２）及びゲートラインと一体化されて形成され
る。ゲートパッド（１２）はゲート絶縁膜及び有機保護
膜を経由して形成されたコンタクホール（１９）を通し
て透明電極（１７）と電気的に接続される。ゲートリン
ク（３４）を横切る方向に設けられるシーリング部（１
０）の領域の有機保護膜を除去することでシーリング剤
が有機保護膜の下部に位置するゲート絶縁膜と全体また
は部分的に接触するようにする。特に、有機保護膜が除
去される領域はその両側部または一側部がシーリング部
（１０）の線幅の外側に位置するように図１８に図示さ
れた第１乃至第３エッチング領域（Ｄ１乃至Ｄ３）のよ
うに設定する。この場合、シーリング剤の塗布時、図１
９に図示されたところのようにシーリング剤（１１）と
有機保護膜（２４）の間の空間を通して空気が排出され
ることで気泡の発生を防止することができる。有機保護
膜が除去される領域が図１８に図示された第１エッチン
グ領域（Ｄ１）のようにシーリング部（１０）の線幅よ
り広く設定される場合、シーリング剤の全体がゲート絶
縁膜と接触する。第２及び第３エッチング領域（Ｄ２、
Ｄ３）のように有機保護膜が除去される領域の一側部が
シーリング部（１０）の外側に位置するように設定され
る場合、シーリング剤は部分的にゲート絶縁膜と接触す
る。
表示装置のゲートリンク部を一部分を拡大して図示した
ものである。図１８でゲートリンク（３４）はゲートパ
ッド（１２）及びゲートラインと一体化されて形成され
る。ゲートパッド（１２）はゲート絶縁膜及び有機保護
膜を経由して形成されたコンタクホール（１９）を通し
て透明電極（１７）と電気的に接続される。ゲートリン
ク（３４）を横切る方向に設けられるシーリング部（１
０）の領域の有機保護膜を除去することでシーリング剤
が有機保護膜の下部に位置するゲート絶縁膜と全体また
は部分的に接触するようにする。特に、有機保護膜が除
去される領域はその両側部または一側部がシーリング部
（１０）の線幅の外側に位置するように図１８に図示さ
れた第１乃至第３エッチング領域（Ｄ１乃至Ｄ３）のよ
うに設定する。この場合、シーリング剤の塗布時、図１
９に図示されたところのようにシーリング剤（１１）と
有機保護膜（２４）の間の空間を通して空気が排出され
ることで気泡の発生を防止することができる。有機保護
膜が除去される領域が図１８に図示された第１エッチン
グ領域（Ｄ１）のようにシーリング部（１０）の線幅よ
り広く設定される場合、シーリング剤の全体がゲート絶
縁膜と接触する。第２及び第３エッチング領域（Ｄ２、
Ｄ３）のように有機保護膜が除去される領域の一側部が
シーリング部（１０）の外側に位置するように設定され
る場合、シーリング剤は部分的にゲート絶縁膜と接触す
る。
【００２７】図１９は図１８で図示されたシーリング部
（１０）を水平方向のＡーＡ′線に沿って切断した垂直
断面を図示したものである。図１９を参照して本発明に
よるゲートリンク部の製造方法を見ると次のようであ
る。下部ガラス（２０）上にゲートリンク（３４）を形
成して、全面にゲート絶縁層（２２）を形成する。この
ゲート絶縁層（２２）の全面に有機保護膜（２４）を形
成した後、マスクパターンを利用してシーリング剤（１
１）が塗布される位置の有機保護膜（２４）をエッチン
グし出す。この場合、有機保護膜（２４）エッチング領
域の両側部または一側部がシーリング剤が塗布されるシ
ーリング部の線幅の外側に位置するようにする。その
次、シーリング部（１０）にシーリング剤（１１）を塗
布して上板と下板を合着させる。この場合、シーリング
剤（１１）が無機物であるゲート絶縁膜（２２）と接触
されることでシーリング剤（１１）と下板の接着力を強
化させることができる。
（１０）を水平方向のＡーＡ′線に沿って切断した垂直
断面を図示したものである。図１９を参照して本発明に
よるゲートリンク部の製造方法を見ると次のようであ
る。下部ガラス（２０）上にゲートリンク（３４）を形
成して、全面にゲート絶縁層（２２）を形成する。この
ゲート絶縁層（２２）の全面に有機保護膜（２４）を形
成した後、マスクパターンを利用してシーリング剤（１
１）が塗布される位置の有機保護膜（２４）をエッチン
グし出す。この場合、有機保護膜（２４）エッチング領
域の両側部または一側部がシーリング剤が塗布されるシ
ーリング部の線幅の外側に位置するようにする。その
次、シーリング部（１０）にシーリング剤（１１）を塗
布して上板と下板を合着させる。この場合、シーリング
剤（１１）が無機物であるゲート絶縁膜（２２）と接触
されることでシーリング剤（１１）と下板の接着力を強
化させることができる。
【００２８】 図２０は本発明の第３実施例による液晶
表示装置のデータリンク部を部分的に拡大して図示した
ものである。図２０でデータリンク（１６）はデータパ
ッド（１４）及びデータラインと一体化されて形成され
る。データパッド（１４）は有機保護膜に形成されたコ
ンタクホール（１９）を通して透明電極（１７）と電気
的に接続される。データリンク（１６）を横切る方向に
設けられるシーリング部（１０）の領域の有機保護膜を
除去することでシーリング剤が有機保護膜の下部に位置
するゲート絶縁膜と全体または部分的に接触されるよう
にする。この場合、シーリング剤と接合されるデータリ
ンク（１６）の上部にはデータリンク（１６）を保護す
ることと共にシーリング剤と接着特性が良い透明電極
（５６）がもっと形成される。シーリング剤の塗布時、
気泡の発生を防止するために有機保護膜が除去される領
域は図２０に図示された第１乃至第３エッチング領域
（Ｄ１乃至Ｄ３）のようにその両側部または一方の側部
がシーリング部（１０）の線幅の外側の方に位置するよ
うに設定する。
表示装置のデータリンク部を部分的に拡大して図示した
ものである。図２０でデータリンク（１６）はデータパ
ッド（１４）及びデータラインと一体化されて形成され
る。データパッド（１４）は有機保護膜に形成されたコ
ンタクホール（１９）を通して透明電極（１７）と電気
的に接続される。データリンク（１６）を横切る方向に
設けられるシーリング部（１０）の領域の有機保護膜を
除去することでシーリング剤が有機保護膜の下部に位置
するゲート絶縁膜と全体または部分的に接触されるよう
にする。この場合、シーリング剤と接合されるデータリ
ンク（１６）の上部にはデータリンク（１６）を保護す
ることと共にシーリング剤と接着特性が良い透明電極
（５６）がもっと形成される。シーリング剤の塗布時、
気泡の発生を防止するために有機保護膜が除去される領
域は図２０に図示された第１乃至第３エッチング領域
（Ｄ１乃至Ｄ３）のようにその両側部または一方の側部
がシーリング部（１０）の線幅の外側の方に位置するよ
うに設定する。
【００２９】図２１は図２０で図示されたシーリング部
（１０）を水平方向のＡーＡ′線に沿って切断した垂直
断面を図示したものである。同図を参照して本発明によ
るデータリンク部の製造方法を記載する。下部ガラス
（２０）上にゲートリンク（３４）を形成して、全面に
ゲート絶縁層（２２）を形成する。このゲート絶縁層
（２２）の上にデータリンク（１６）を形成した後、全
面に有機保護膜（２４）を形成する。その次、マスクパ
ターンを利用してシーリング剤（１１）が塗布される位
置の有機保護膜（２４）をエッチングを行う。この場
合、有機保護膜（２４）エッチング領域の両側部または
一側部がシーリング剤が塗布されるシーリング部の線幅
の外側に位置するようにする。続いて、有機保護膜のエ
ッチングによって露出されたデータリンク（１６）の上
部に透明電極（５６）を形成する。その次、シーリング
部（１０）にシーリング剤（１１）を塗布して上板と下
板を合着させる。この場合、シーリング剤（１１）がゲ
ート絶縁膜（２２）及び透明電極（５６）と接触される
ことでシーリング剤（１１）と下板の接着力を強化させ
ることができる。
（１０）を水平方向のＡーＡ′線に沿って切断した垂直
断面を図示したものである。同図を参照して本発明によ
るデータリンク部の製造方法を記載する。下部ガラス
（２０）上にゲートリンク（３４）を形成して、全面に
ゲート絶縁層（２２）を形成する。このゲート絶縁層
（２２）の上にデータリンク（１６）を形成した後、全
面に有機保護膜（２４）を形成する。その次、マスクパ
ターンを利用してシーリング剤（１１）が塗布される位
置の有機保護膜（２４）をエッチングを行う。この場
合、有機保護膜（２４）エッチング領域の両側部または
一側部がシーリング剤が塗布されるシーリング部の線幅
の外側に位置するようにする。続いて、有機保護膜のエ
ッチングによって露出されたデータリンク（１６）の上
部に透明電極（５６）を形成する。その次、シーリング
部（１０）にシーリング剤（１１）を塗布して上板と下
板を合着させる。この場合、シーリング剤（１１）がゲ
ート絶縁膜（２２）及び透明電極（５６）と接触される
ことでシーリング剤（１１）と下板の接着力を強化させ
ることができる。
【００３０】 図２２は本発明の第４参考例による液晶
表示装置のゲートリンク部の一部分を拡大して図示した
ものである。図２２でゲートリンク（３４）を横切る方
向に設けられるシーリング部（１０）の領域の有機保護
膜を部分的に除去することでシーリング剤が有機保護膜
の下部に位置するゲート絶縁膜と部分的に接触されるよ
うにする。この場合、ゲートリンク（３４）の間の有機
保護膜に並んだライン形態のホール（５８、６０、６
２）を形成する。特に、シーリング剤の塗布時、気泡の
発生を防止するためにラインのホールの両端部または一
側端部をシーリング部（１０）の外側まで延長して形成
する。具体的に、第１ラインホール（５８）のように両
端部をシーリング部（１０）の外側まで延長して形成し
たり第２または第３ラインホール（６０、６２）のよう
に両端部をシーリング部（１０）の外側まで延長して形
成する。
表示装置のゲートリンク部の一部分を拡大して図示した
ものである。図２２でゲートリンク（３４）を横切る方
向に設けられるシーリング部（１０）の領域の有機保護
膜を部分的に除去することでシーリング剤が有機保護膜
の下部に位置するゲート絶縁膜と部分的に接触されるよ
うにする。この場合、ゲートリンク（３４）の間の有機
保護膜に並んだライン形態のホール（５８、６０、６
２）を形成する。特に、シーリング剤の塗布時、気泡の
発生を防止するためにラインのホールの両端部または一
側端部をシーリング部（１０）の外側まで延長して形成
する。具体的に、第１ラインホール（５８）のように両
端部をシーリング部（１０）の外側まで延長して形成し
たり第２または第３ラインホール（６０、６２）のよう
に両端部をシーリング部（１０）の外側まで延長して形
成する。
【００３１】図２３は図２２で図示されたシーリング部
（１０）を水平方向のＡーＡ′線に沿って切断した垂直
断面を図示したものである。同図を参照して本発明によ
るゲートリンク部の製造方法を以下に示す。下部ガラス
（２０）上にゲートリンク（３４）を形成して、全面に
ゲート絶縁層（２２）を形成する。このゲート絶縁層
（２２）の全面に有機保護膜（２４）を形成した後、マ
スクパターンを利用してシーリング剤（１１）が塗布さ
れる位置の有機保護膜（２４）をエッチングする。換言
すれば、ゲートリンク（３４）の間の有機保護膜（２
４）にラインホール（５８、６０、６２）を形成する。
この場合、ラインホール（５８、６０、６２）の両端部
または一側端部がシーリング部の外側まで延長して形成
する。その次、シーリング部（１０）にシーリング剤
（１１）を塗布して上板と下板を合着させる。これによ
って、シーリング剤（１１）がゲート絶縁膜（２２）と
部分的に接触することでシーリング剤（１１）と下板の
接着力を強化させることができる。
（１０）を水平方向のＡーＡ′線に沿って切断した垂直
断面を図示したものである。同図を参照して本発明によ
るゲートリンク部の製造方法を以下に示す。下部ガラス
（２０）上にゲートリンク（３４）を形成して、全面に
ゲート絶縁層（２２）を形成する。このゲート絶縁層
（２２）の全面に有機保護膜（２４）を形成した後、マ
スクパターンを利用してシーリング剤（１１）が塗布さ
れる位置の有機保護膜（２４）をエッチングする。換言
すれば、ゲートリンク（３４）の間の有機保護膜（２
４）にラインホール（５８、６０、６２）を形成する。
この場合、ラインホール（５８、６０、６２）の両端部
または一側端部がシーリング部の外側まで延長して形成
する。その次、シーリング部（１０）にシーリング剤
（１１）を塗布して上板と下板を合着させる。これによ
って、シーリング剤（１１）がゲート絶縁膜（２２）と
部分的に接触することでシーリング剤（１１）と下板の
接着力を強化させることができる。
【００３２】 図２４は本発明の第４参考例による液晶
表示装置のデータリンク部の一部分を拡大して図示した
ものである。図２４でデータリンク（１６）を横切る方
向に設けられるシーリング部（１０）の領域の有機保護
膜を部分的に除去することでシーリング剤が有機保護膜
の下部に位置するゲート絶縁膜と部分的に接触されるよ
うにする。この場合、データリンク（１６）の間の有機
保護膜にデータリンク（１６）と並んだライン形態のホ
ール（５８、６０、６２）を形成する。特に、シーリン
グ剤の塗布時、気泡の発生を防止するためにラインのホ
ールの両端部または一側端部をシーリング部（１０）の
外側まで延長して形成する。具体的に、第１ラインホー
ル（５８）のように両端部をシーリング部（１０）の外
側まで延長して形成したり第２または第３ラインホール
（６０、６２）のように両端部をシーリング部（１０）
の外側まで延長して形成する。
表示装置のデータリンク部の一部分を拡大して図示した
ものである。図２４でデータリンク（１６）を横切る方
向に設けられるシーリング部（１０）の領域の有機保護
膜を部分的に除去することでシーリング剤が有機保護膜
の下部に位置するゲート絶縁膜と部分的に接触されるよ
うにする。この場合、データリンク（１６）の間の有機
保護膜にデータリンク（１６）と並んだライン形態のホ
ール（５８、６０、６２）を形成する。特に、シーリン
グ剤の塗布時、気泡の発生を防止するためにラインのホ
ールの両端部または一側端部をシーリング部（１０）の
外側まで延長して形成する。具体的に、第１ラインホー
ル（５８）のように両端部をシーリング部（１０）の外
側まで延長して形成したり第２または第３ラインホール
（６０、６２）のように両端部をシーリング部（１０）
の外側まで延長して形成する。
【００３３】図２５は図２３で図示されたシーリング部
（１０）を水平方向のＡーＡ′線に沿って切断した垂直
断面を図示したものである。同図を参照して本発明によ
るデータリンク部の製造方法を以下に示す。下部ガラス
（２０）の全面にゲート絶縁層（２２）を形成する。こ
のゲート絶縁層（２２）の上にデータリンク（１６）を
形成した後、全面に有機保護膜（２４）を形成する。そ
の次、マスクパターンを利用してシーリング剤（１１）
が塗布される位置の有機保護膜（２４）を部分的にエッ
チングする。換言すれば、データリンク（１６）の間の
有機保護膜（２４）にラインホール（５８、６０、６
２）を形成する。この場合、ラインホール（５８、６
０、６２）の両端部または一側端部をシーリング部の外
側まで延長して形成する。その次、シーリング部（１
０）にシーリング剤（１１）を塗布して上板と下板を合
着させる。この場合、シーリング剤（１１）がゲート絶
縁膜（２２）と部分的に接触することでシーリング剤
（１１）と下板の接着力を強化させることができる。
（１０）を水平方向のＡーＡ′線に沿って切断した垂直
断面を図示したものである。同図を参照して本発明によ
るデータリンク部の製造方法を以下に示す。下部ガラス
（２０）の全面にゲート絶縁層（２２）を形成する。こ
のゲート絶縁層（２２）の上にデータリンク（１６）を
形成した後、全面に有機保護膜（２４）を形成する。そ
の次、マスクパターンを利用してシーリング剤（１１）
が塗布される位置の有機保護膜（２４）を部分的にエッ
チングする。換言すれば、データリンク（１６）の間の
有機保護膜（２４）にラインホール（５８、６０、６
２）を形成する。この場合、ラインホール（５８、６
０、６２）の両端部または一側端部をシーリング部の外
側まで延長して形成する。その次、シーリング部（１
０）にシーリング剤（１１）を塗布して上板と下板を合
着させる。この場合、シーリング剤（１１）がゲート絶
縁膜（２２）と部分的に接触することでシーリング剤
（１１）と下板の接着力を強化させることができる。
【００３４】
【発明の効果】上述したように、本発明による液晶表示
装置及びその製造方法によれば、シーリング剤が塗布さ
れる領域の有機保護膜とゲート絶縁膜を部分的または全
面的に除去してシーリング剤がガラス基板と直接接する
ようにすることでシーリング剤と下板の接着力を強化さ
せることができる。また、本発明による液晶表示素子及
びその製造方法ではシーリング剤が塗布される領域の有
機保護膜とゲート絶縁膜を部分的または全面的に除去し
てシーリング剤をゲート絶縁膜と直接接触させることで
シーリング剤と下板の接着力を強化させることができ
る。これによって、有機保護膜が適用された開口率の大
きな液晶表示装置でシーリング剤と有機保護膜または有
機保護膜とゲート絶縁膜の接着力の弱化に伴う外部衝撃
による液晶材料漏れを防止することができる。
装置及びその製造方法によれば、シーリング剤が塗布さ
れる領域の有機保護膜とゲート絶縁膜を部分的または全
面的に除去してシーリング剤がガラス基板と直接接する
ようにすることでシーリング剤と下板の接着力を強化さ
せることができる。また、本発明による液晶表示素子及
びその製造方法ではシーリング剤が塗布される領域の有
機保護膜とゲート絶縁膜を部分的または全面的に除去し
てシーリング剤をゲート絶縁膜と直接接触させることで
シーリング剤と下板の接着力を強化させることができ
る。これによって、有機保護膜が適用された開口率の大
きな液晶表示装置でシーリング剤と有機保護膜または有
機保護膜とゲート絶縁膜の接着力の弱化に伴う外部衝撃
による液晶材料漏れを防止することができる。
【００３５】以上説明した内容を通して当業者であれば
本発明の技術思想を逸脱しない範囲で多様な変更及び修
正が可能であることがわかる。従って、本発明の技術的
範囲は明細書の詳細な説明に記載された内容に限らず特
許請求の範囲によって定めなければならない。
本発明の技術思想を逸脱しない範囲で多様な変更及び修
正が可能であることがわかる。従って、本発明の技術的
範囲は明細書の詳細な説明に記載された内容に限らず特
許請求の範囲によって定めなければならない。
【図１】 図１は通常の液晶パネルを表す平面図であ
る。
る。
【図２】 図２は図１でシーリング部と交差するデータ
リンク部の一部分を拡大して表した平面図である。
リンク部の一部分を拡大して表した平面図である。
【図３】 図３Ａは図２に図示されたシーリング部をＡ
ーＡ'線に沿って切断した垂直の断面を表して、図３Ｂ
はそのＢーＢ'線に沿って切断した垂直の断面を表した
断面である。
ーＡ'線に沿って切断した垂直の断面を表して、図３Ｂ
はそのＢーＢ'線に沿って切断した垂直の断面を表した
断面である。
【図４】 図４は図１でシーリング部と交差するゲート
リンク部の一部分を拡大して表した平面図である。
リンク部の一部分を拡大して表した平面図である。
【図５】 図５Ａは図４に図示されたシーリング部をＡ
ーＡ'線に沿って切断した垂直の断面を表して、図５Ｂ
はそのＢーＢ'線に沿って切断した垂直の断面を表した
断面である。
ーＡ'線に沿って切断した垂直の断面を表して、図５Ｂ
はそのＢーＢ'線に沿って切断した垂直の断面を表した
断面である。
【図６】 図６は本発明の第１参考例による液晶表示装
置のデータリンク部を部分的に拡大して表した平面図で
ある。
置のデータリンク部を部分的に拡大して表した平面図で
ある。
【図７】 図７Ａは図６に図示されたシーリング部をＡ
ーＡ'線に沿って切断した下板の垂直の断面図である。
ーＡ'線に沿って切断した下板の垂直の断面図である。
【図８】 図８は本発明の第１参考例による液晶表示装
置のゲートリンク部を部分的に拡大して表した平面図で
ある。
置のゲートリンク部を部分的に拡大して表した平面図で
ある。
【図９】 図９は本発明の第１実施例による液晶表示装
置のデータリンク部を部分的に拡大して表した平面図で
ある。
置のデータリンク部を部分的に拡大して表した平面図で
ある。
【図１０】 図１０は図９に図示されたシーリング部を
ＡーＡ'線に沿って切断した下板の垂直の断面図であ
る。
ＡーＡ'線に沿って切断した下板の垂直の断面図であ
る。
【図１１】 図１１は本発明の第１実施例による液晶表
示装置のゲートリンク部を部分的に拡大して表した平面
図である。
示装置のゲートリンク部を部分的に拡大して表した平面
図である。
【図１２】 図１２は本発明の第２実施例による液晶表
示装置のデータリンク部を部分的に拡大して表した平面
図である。
示装置のデータリンク部を部分的に拡大して表した平面
図である。
【図１３】 図１３は図１２に図示されたシーリング部
をＡーＡ'線に沿って切断した下板の垂直の断面図であ
る。
をＡーＡ'線に沿って切断した下板の垂直の断面図であ
る。
【図１４】 図１４は本発明の第２参考例による液晶表
示装置のデータリンク部を部分的に拡大して表した平面
図である。
示装置のデータリンク部を部分的に拡大して表した平面
図である。
【図１５】 図１５は図１４に図示されたシーリング部
をＡーＡ'線に沿って切断した下板の垂直の断面図であ
る。
をＡーＡ'線に沿って切断した下板の垂直の断面図であ
る。
【図１６】 図１６は本発明の第３参考例による液晶表
示装置のデータリンク部を部分的に拡大して表した平面
図である。
示装置のデータリンク部を部分的に拡大して表した平面
図である。
【図１７】 図１７Ａ及び図１７Ｂは図１５に図示され
たシーリング部をＡーＡ'線及びＢーＢ'線に沿って切断
した下板の垂直の断面図である。
たシーリング部をＡーＡ'線及びＢーＢ'線に沿って切断
した下板の垂直の断面図である。
【図１８】 図１８は本発明の第３実施例による液晶表
示装置のゲートリンク部を部分的に拡大して表した平面
図である。
示装置のゲートリンク部を部分的に拡大して表した平面
図である。
【図１９】 図１９は図１８に図示されたシーリング部
をＡーＡ'線に沿って切断した下板の垂直の断面図であ
る。
をＡーＡ'線に沿って切断した下板の垂直の断面図であ
る。
【図２０】 図２０は本発明の第３実施例による液晶表
示装置のデータリンク部を部分的に拡大して表した平面
図である。
示装置のデータリンク部を部分的に拡大して表した平面
図である。
【図２１】 図２１は図２０に図示されたシーリング部
をＡーＡ'線に沿って切断した下板の垂直の断面図であ
る。
をＡーＡ'線に沿って切断した下板の垂直の断面図であ
る。
【図２２】 図２２は本発明の第４参考例による液晶表
示装置のゲートリンク部を部分的に拡大して表した平面
図である。
示装置のゲートリンク部を部分的に拡大して表した平面
図である。
【図２３】 図２３は図２２に図示されたシーリング部
をＡーＡ'線に沿って切断した下板の垂直の断面図であ
る。
をＡーＡ'線に沿って切断した下板の垂直の断面図であ
る。
【図２４】 図２４は本発明の第４参考例による液晶表
示装置のデータリンク部を部分的に拡大して表した平面
図である。
示装置のデータリンク部を部分的に拡大して表した平面
図である。
【図２５】 図２５は図２４に図示されたシーリング部
をＡーＡ'線に沿って切断した下板の垂直の断面図であ
る。
をＡーＡ'線に沿って切断した下板の垂直の断面図であ
る。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 クワク，ドン ユン
大韓民国 ダエク−シ， ダルセオ−
ク， ソンギュン−ドン， グリーン
マンション， 103−1108号
(72)発明者 リー， グン ヒー
大韓民国 キュンサンブク−ドー， ク
ミ−シ， ゴア−ミュン， ウォンホ−
リ， ハンヌリ タウン， 202−101号
(72)発明者 パク， クワン サップ
大韓民国 キュンサンブク−ドー， ク
ミ−シ， イムス−ドン 401−３，
ドンラクォン−ブドン 712号
(56)参考文献 特開 平10−48611（ＪＰ，Ａ)
特開 平10−186381（ＪＰ，Ａ)
特開 平10−206862（ＪＰ，Ａ)
特開 平９−33933（ＪＰ，Ａ)
特開 平10−111515（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
G02F 1/1339
G02F 1/1345
Claims (22)
- 【請求項１】 基板と、複数の電極ラインと、複数の電
極パッドと、前記の電極ラインと前記の電極パッドを各
々接続させる複数の電極リンクと、前記の電極ラインと
前記の電極パッドの間の電極リンクと交差する方向に塗
布されたシーリング剤と、前記のシーリング剤が基板と
接するように前記の基板の上に形成されて前記のシーリ
ング剤が形成された方向に連続した谷の形状でエッチン
グされた有機保護膜及びゲート絶縁膜と、前記の電極リ
ンクが前記のシーリング剤に直接接することを防ぐため
の保護層とを具備し、前記の電極リンクはゲートリンクを構成し、前記の保護
層は前記のゲート絶縁膜上に形成された半導体パターン
である ことを特徴とする液晶表示装置。 - 【請求項２】 前記の有機保護膜とゲート絶縁膜はシー
リング剤が塗布される領域より広くエッチングされたこ
とを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。 - 【請求項３】 基板と、複数の電極ラインと、複数の電
極パッドと、前記の電極ラインと前記の電極パッドを各
々接続させる電極リンクと、前記の電極ラインと前記の
電極パッドの間の電極リンクと交差する方向に塗布され
たシーリング剤と、前記のシーリング剤が基板と接する
ように前記の基板の上に形成されて前記のシーリング剤
が形成された方向に連続した谷の形状でエッチングされ
た有機保護膜及びゲート絶縁膜と、前記の電極リンクが
前記のシーリング剤に直接接することを防ぐための保護
層とを具備し、 前記の電極リンクはデータリンクを構成し、 前記の保護
層は前記のデータリンクとその下部の半導体パターン及
びゲート絶縁膜を保護するように塗布された透明電極で
あることを特徴とする液晶表示装置。 - 【請求項４】 前記の半導体パターンの幅は前記のデー
タリンクより広く設定されたことを特徴とする請求項３
に記載の液晶表示装置。 - 【請求項５】 基板と、電極ラインと、電極パッドと、
前記の電極ラインと前記の電極パッドを接続させる電極
リンクと、前記の電極ラインと前記の電極パッドの間の
前記電極リンクと交差する方向に塗布されるシーリング
剤と、前記の基板の上に形成されたゲート絶縁膜及び有
機保護膜と、前記電極リンクを保護するための保護層を
具備し、 前記の有機保護膜は前記のシーリング剤が前記のゲート
絶縁膜と直接に接するようにパタニングされ、前記の電極リンクはデータリンクを構成し、前記の保護
膜は透明電極である ことを特徴とする液晶表示装置。 - 【請求項６】 前記の有機保護膜のエッチング領域は前
記のシーリング剤が塗布される領域より広く形成された
ことを特徴とする請求項５記載の液晶表示装置。 - 【請求項７】 前記の有機保護膜は前記のシーリング剤
が部分的に前記のゲート絶縁膜と接するようにエッチン
グされた領域とを具備することを特徴とする請求項５記
載の液晶表示装置。 - 【請求項８】 前記の有機保護膜のエッチング領域は前
記のシーリング剤が塗布される方向につれて連続した谷
形状を有してその一側部がシーリング剤が塗布される部
分の外側に位置するように形成されたことを特徴とする
請求項７に記載の液晶表示装置。 - 【請求項９】 第２電極ラインと、第２電極パッドと、
前記の第２電極ラインと前記の第２電極パッドを接続さ
せる第２電極リンクとを具備して、前記の有機保護膜の
エッチング領域は前記の電極リンクと前記の第２電極リ
ンクとの間に形成されたことを特徴とする請求項７に記
載の液晶表示装置。 - 【請求項１０】 前記の有機保護膜のエッチング領域の
両端部が前記のシーリング剤が塗布される部分の外側ま
で延長されるように形成されたことを特徴とする請求項
９に記載の液晶表示装置。 - 【請求項１１】 前記の有機保護膜のエッチング領域の
片側の端部が前記のシーリング剤が塗布される部分の外
側まで延長されるように形成されたことを特徴とする請
求項９記載の液晶表示装置。 - 【請求項１２】 基板と、複数の電極ラインと、複数の
電極パッドと、前記の電極ラインを各々接続させる複数
の電極リンクと、前記の電極ラインと前記の電極パッド
の間の前記電極リンクと交差する方向に塗布されるシー
リング剤と、前記の基板の上に形成されたゲート絶縁膜
と有機保護膜とを具備する液晶表示装置の製造方法にお
いて、前記のシーリング剤が基板と接するように前記の
シーリング剤が形成された方向に前記のシーリング剤が
塗布される領域の有機保護膜とゲート絶縁膜を連続した
谷の形状でパタニングする段階と、前記の電極リンクが
前記のシーリング剤に直接接することを防ぐための保護
層を形成する段階を含み、前記の電極リンクはゲートリンクを構成し、前記の保護
層は前記のゲート絶縁膜の上に形成された半導体パター
ンである ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項１３】 前記の有機保護膜と前記のゲート絶縁
膜は前記のシーリング剤が塗布される領域より広くエッ
チングされることを特徴とする請求項１２に記載の液晶
表示装置の製造方法。 - 【請求項１４】 基板と、複数の電極ラインと、複数の
電極パッドと、前記の電極ラインと前記の電極パッドを
各々接続させる複数の電極リンクと、前記の電極ライン
と前記の電極パッドの間の前記の電極リンクと交差する
方向に塗布されるシーリング剤と、前記の基板の上に形
成されたゲート絶縁膜と有機保護膜とを具備する液晶表
示装置の製造方法において、前記のシーリング剤が基板
と接するように前記のシーリング剤が形成された方向に
前記のシーリング剤が塗布される領域の有機保護膜とゲ
ート絶縁膜を連続した谷の形状でパタニングする段階
と、前記の電極リンクが前記のシーリング剤に直接接す
ることを防ぐための保護層を形成する段階を含み、 前記の電極リンクはデータリンクを構成し、前記の保護
層は前記の データリンクとその下部の半導体パターンお
よびゲート絶縁膜を保護する透明電極であることを特徴
とする液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項１５】 前記の半導体パターンの幅は前記のデ
ータリンクより広く設定されたことを特徴とする請求項
１４記載の液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項１６】 基板と、電極ラインと、電極パッド
と、前記の電極ラインと前記の電極パッドを接続させる
電極リンクと、前記の電極ラインと前記の電極パッドの
間の前記電極リンクと交差する方向に塗布されるシーリ
ング剤と、前記の基板の上に形成されてゲート絶縁膜と
有機保護膜とを具備する液晶表示装置の製造方法におい
て、前記のシーリング剤が前記のゲート絶縁膜と直接接
するように前記のシーリング剤が塗布される領域の有機
保護膜をパタニングする段階と、前記の電極リンクを保
護するための保護層を形成する段階を含み、前記の電極リンクはデータリンクを構成し、前記の保護
層は透明電極である ことを特徴とする液晶表示装置の製
造方法。 - 【請求項１７】 前記の有機保護膜のエッチング領域が
前記のシーリング剤が塗布される領域より広く形成され
たことを特徴とする請求項１６記載の液晶表示装置の製
造方法。 - 【請求項１８】 前記の有機保護膜をパタニングする段
階は前記のシーリング剤が部分的に前記のゲート絶縁膜
と接するように前記のシーリング剤が塗布される部位の
有機保護膜をエッチングする段階を含むことを特徴とす
る請求項１６記載の液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項１９】 前記の有機保護膜のエッチング領域が
前記のシーリング剤が塗布される方向に連続した谷の形
状を有してその一側部がシーリング剤が塗布される部分
の外側に位置するように形成することを特徴とする請求
項１８記載の液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項２０】 前記の液晶表示装置は第２電極ライン
と、第２電極パッドと、前記の第２電極ラインと前記の
第２電極パッドを接続させる第２電極リンクとをさらに
具備して、前記の有機保護膜のエッチング領域が前記の
電極リンクと前記の第２の電極リンクとの間に形成され
たことを特徴とする請求項１８記載の液晶表示装置の製
造方法。 - 【請求項２１】 前記の有機保護膜のエッチング領域の
両端部が前記のシーリング剤が塗布される部分の外側ま
で延長されるように形成されたことを特徴とする請求項
２０記載の液晶表示素子の製造方法。 - 【請求項２２】 前記の有機保護膜のエッチング領域の
両側の端部が前記のシーリング剤が塗布される部分の外
側まで延長されるように形成されたことを特徴とする請
求項２０記載の液晶表示素子の製造方法。
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