JPH01283515A - カラーフィルタを有する液晶表示装置の製造方法 - Google Patents
カラーフィルタを有する液晶表示装置の製造方法Info
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- JPH01283515A JPH01283515A JP63112644A JP11264488A JPH01283515A JP H01283515 A JPH01283515 A JP H01283515A JP 63112644 A JP63112644 A JP 63112644A JP 11264488 A JP11264488 A JP 11264488A JP H01283515 A JPH01283515 A JP H01283515A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133514—Colour filters
- G02F1/133516—Methods for their manufacture, e.g. printing, electro-deposition or photolithography
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は液晶表示装置に関し、特にカラーフィルタを有
する液晶表示装置の製造方法に関する。
する液晶表示装置の製造方法に関する。
［従来の技術］
カラー表示できる液晶表示装置の１種としてカラーフィ
ルタを用いるものがある。その代表的構造を第３図に示
す、１対のガラスの基板１１．１２間に封止部材１３を
用いて液晶１４を封入している。下側基板１２上には遮
光膜１５が形成され、所定パターンの窓１６を画定して
いる。この窓１６上にカラー表示用フィルタ１７．１８
．１９が作成されている。たとえば、赤（Ｒ）、緑（Ｇ
）、青（Ｂ）の３原色のフィルタが１単位となって合成
色を表示する１画素を形成する。フィルタ１７．１８．
１つの上を有機系保護膜２１が覆い、その上に下側基板
１２の全カラー表示用フィルタ１７．１８．１９に共通
の電極であるインジウム鍋酸化！ｔ＃（ＩＴＯ）製の透
明電［！２２が設けられ、パターニングされている。上
側基板１１には薄膜トランジスタ２４を形成している。
ルタを用いるものがある。その代表的構造を第３図に示
す、１対のガラスの基板１１．１２間に封止部材１３を
用いて液晶１４を封入している。下側基板１２上には遮
光膜１５が形成され、所定パターンの窓１６を画定して
いる。この窓１６上にカラー表示用フィルタ１７．１８
．１９が作成されている。たとえば、赤（Ｒ）、緑（Ｇ
）、青（Ｂ）の３原色のフィルタが１単位となって合成
色を表示する１画素を形成する。フィルタ１７．１８．
１つの上を有機系保護膜２１が覆い、その上に下側基板
１２の全カラー表示用フィルタ１７．１８．１９に共通
の電極であるインジウム鍋酸化！ｔ＃（ＩＴＯ）製の透
明電［！２２が設けられ、パターニングされている。上
側基板１１には薄膜トランジスタ２４を形成している。
このようなカラー液晶表示装置はたとえば以下の手順で
作製される。上側ガラス基板１１上に薄膜トランジスタ
２４を作製する。下側ガラス基板１２上に遮光膜１５を
形成し、その上にフォトリングラフ技術を用いてパター
ニングしたカラーフィルタ１７．１８、Ｉ９を作製する
。カラーフィルタ１７．１８．１９を覆って有機系保護
ｒｇＪ、２１を全面にコートする。共通電極として■Ｔ
Ｏ透明電極を全面に形成し、パターニングする。上側ガ
ラス基板１１と下側ガラス基板１２とを封止部材１３を
用いて貼り合せる。ｊＩ＆に液晶１４を注入する。
作製される。上側ガラス基板１１上に薄膜トランジスタ
２４を作製する。下側ガラス基板１２上に遮光膜１５を
形成し、その上にフォトリングラフ技術を用いてパター
ニングしたカラーフィルタ１７．１８、Ｉ９を作製する
。カラーフィルタ１７．１８．１９を覆って有機系保護
ｒｇＪ、２１を全面にコートする。共通電極として■Ｔ
Ｏ透明電極を全面に形成し、パターニングする。上側ガ
ラス基板１１と下側ガラス基板１２とを封止部材１３を
用いて貼り合せる。ｊＩ＆に液晶１４を注入する。
［発明が解決しようとする課題］
第３図に示す従来技術による液相表示装置は封止部材１
３の密着性が悪く、両差板１１．１２間が剥離しやすい
。
３の密着性が悪く、両差板１１．１２間が剥離しやすい
。
本発明の目的はシールの密着性が高く、封止が堅固なカ
ラーフィルタを有する液晶表示装置の製造方法を提供す
ることである。
ラーフィルタを有する液晶表示装置の製造方法を提供す
ることである。
［課題を解決するために行った解析］
カラーフィルタはフォトリングラフ技術を用いてパター
ンを形成するが、パターン外のところに非常に薄いカラ
ーフィルタ膜が残ってしまい、そのため保護膜とガラス
の密着が悪く、シールｆｆ１ｌＪがれが発生することが
判った。
ンを形成するが、パターン外のところに非常に薄いカラ
ーフィルタ膜が残ってしまい、そのため保護膜とガラス
の密着が悪く、シールｆｆ１ｌＪがれが発生することが
判った。
［課題を解決するための手段］
透明電極のパターニングに用いたフォトレジストマスク
の除去を灰化（アッシング）処理によって行い、同時に
有機系保護膜およびその下の残留・カラーフィルタ膜等
を除去し、基板表面を清浄に露出し、封止をおこなう。
の除去を灰化（アッシング）処理によって行い、同時に
有機系保護膜およびその下の残留・カラーフィルタ膜等
を除去し、基板表面を清浄に露出し、封止をおこなう。
［作用］
カラーフィルタ膜等の封止力を弱める基板表面上の残留
物を除去した清浄な基板表面に封止を行うので、封止が
堅固で劣化しない、そのため装置の平均寿命も長くなる
。
物を除去した清浄な基板表面に封止を行うので、封止が
堅固で劣化しない、そのため装置の平均寿命も長くなる
。
［実施例］
第１図に本発明の１実施例による液晶表示装置を示す、
第１図（Ａ）の概略断面図に示すように、１対のガラス
の基板１１．１２間に封止部材１３を用いて液晶１４を
封入している。下側基板１２上には遮光膜１５が形成さ
れ、所定パターンの窓１６を画定している。この窓１６
上にカラー表示用フィルタ１７．１８．１９が作成され
ている。
第１図（Ａ）の概略断面図に示すように、１対のガラス
の基板１１．１２間に封止部材１３を用いて液晶１４を
封入している。下側基板１２上には遮光膜１５が形成さ
れ、所定パターンの窓１６を画定している。この窓１６
上にカラー表示用フィルタ１７．１８．１９が作成され
ている。
たとえば、第１図（Ｂ）（Ｃ）に示すようなトライアン
グル構造、モザイク構造で赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ
）の３原色のフィルタ、が１単位となって合成色を表示
する１画素を形成する。フィルタ１７．１８．１９の上
をアクリル系、シリコン系のスピンコード膜、シリコン
系モノマ、弗素系モノマ等のプラズマ重合膜、ポリバラ
キシリレンの蒸着膜等の厚さ０．５−１μｍ程度の有機
系保護膜２１が覆い、その上に下側基板１２上の全カラ
ー表示フィルタ１７．１８．１９に対して共通の電極で
あるインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）等の透明量＠２２が
設けられ、パターニングされている。有機系保護［２１
は共通電極である透明電極２２と同形にパターニングさ
れている。これは透明電極２２のパターニングをフォト
レジストマスクを用いて行い、このマスクを除去する工
程をたとえば酸素プラズマの灰化（アッシング）処理に
よって行うことにより達成される。′この灰化処理によ
って、フォトレジストマスクの除去と同時に有機系保護
膜の露出部分、基板１２表面の残留物（カラーフィルタ
膜等）も除去され、結合力の強い清浄な表面が顕れる。
グル構造、モザイク構造で赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ
）の３原色のフィルタ、が１単位となって合成色を表示
する１画素を形成する。フィルタ１７．１８．１９の上
をアクリル系、シリコン系のスピンコード膜、シリコン
系モノマ、弗素系モノマ等のプラズマ重合膜、ポリバラ
キシリレンの蒸着膜等の厚さ０．５−１μｍ程度の有機
系保護膜２１が覆い、その上に下側基板１２上の全カラ
ー表示フィルタ１７．１８．１９に対して共通の電極で
あるインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）等の透明量＠２２が
設けられ、パターニングされている。有機系保護［２１
は共通電極である透明電極２２と同形にパターニングさ
れている。これは透明電極２２のパターニングをフォト
レジストマスクを用いて行い、このマスクを除去する工
程をたとえば酸素プラズマの灰化（アッシング）処理に
よって行うことにより達成される。′この灰化処理によ
って、フォトレジストマスクの除去と同時に有機系保護
膜の露出部分、基板１２表面の残留物（カラーフィルタ
膜等）も除去され、結合力の強い清浄な表面が顕れる。
上側基板１１には薄膜トランジスタ２４が形成されてい
る。 このようなカラーフィルタを有する液晶表示装置
は、たとえば、０２プラズマ、０゜にＣＦ４を微量に添
加したプラズマ等による灰化（アッシング）によってフ
ォトレジストマスクと有機系保護膜、残留カラーフィル
タ膜等を同一工程で除去する以下の手順で作製すること
ができる。
る。 このようなカラーフィルタを有する液晶表示装置
は、たとえば、０２プラズマ、０゜にＣＦ４を微量に添
加したプラズマ等による灰化（アッシング）によってフ
ォトレジストマスクと有機系保護膜、残留カラーフィル
タ膜等を同一工程で除去する以下の手順で作製すること
ができる。
第２図を参照して、（Ａ）から（Ｅ）までの工程は従来
技術と同様である。すなわち第２図（Ａ）に示すように
、Ｃｒ、Ｍｏ等を全面に付はフォトリングラフ工程を通
して格子状に遮光ＩＩ！１５を形成する。遮光１ｇ１１
５の窓部分１６に、第２図（Ｂ）に示すように、フォト
リングラフ工程を用いた染色法などによりカラーフィル
タ１７．１８．１９を作製する。第２図（Ｃ）に示すよ
うにカラーフィルタ１７．１８．１９を覆って有機系の
保護膜２１を全面にコートする。材料は、たとえばアク
リル系、シリコン系の樹脂である。第２図（Ｄ＞に示す
ようにＩＴＯ等の透明を極２２を保護膜２１上にスパッ
タ、蒸着等により形成する。このＩＴＯの透明電極を例
えば東京応化製０ＦＰＲ８００として知られるフォトレ
ジストの約１μｍの層で覆い、露光現像してマスク２３
を形成し、このマスクを用いたエツチング工程によって
パターニングし、第２図（Ｅ）に示す構造を得る。
技術と同様である。すなわち第２図（Ａ）に示すように
、Ｃｒ、Ｍｏ等を全面に付はフォトリングラフ工程を通
して格子状に遮光ＩＩ！１５を形成する。遮光１ｇ１１
５の窓部分１６に、第２図（Ｂ）に示すように、フォト
リングラフ工程を用いた染色法などによりカラーフィル
タ１７．１８．１９を作製する。第２図（Ｃ）に示すよ
うにカラーフィルタ１７．１８．１９を覆って有機系の
保護膜２１を全面にコートする。材料は、たとえばアク
リル系、シリコン系の樹脂である。第２図（Ｄ＞に示す
ようにＩＴＯ等の透明を極２２を保護膜２１上にスパッ
タ、蒸着等により形成する。このＩＴＯの透明電極を例
えば東京応化製０ＦＰＲ８００として知られるフォトレ
ジストの約１μｍの層で覆い、露光現像してマスク２３
を形成し、このマスクを用いたエツチング工程によって
パターニングし、第２図（Ｅ）に示す構造を得る。
本実施例ではこの後有機系保護膜の除去と基板表面の清
浄化を行う、たとえば電力密度３００−５００ｍＷ／Ｃ
１１２、圧力１００−３００Ｐａの高周波０２プラズマ
による室温のアッシング処理により、フォトレジストマ
スク２３の除去と同時に露出している有機系保護膜２１
を除去し、さらにその下に残っている可能性のある残留
カラーフィルタ膜も同時に除去する。フォトレジストの
マスク２３と透明電極２２とがマスクとして働くので。
浄化を行う、たとえば電力密度３００−５００ｍＷ／Ｃ
１１２、圧力１００−３００Ｐａの高周波０２プラズマ
による室温のアッシング処理により、フォトレジストマ
スク２３の除去と同時に露出している有機系保護膜２１
を除去し、さらにその下に残っている可能性のある残留
カラーフィルタ膜も同時に除去する。フォトレジストの
マスク２３と透明電極２２とがマスクとして働くので。
有機系の保護膜２１は透明：１極２２と同じ形状になる
。このようにして第２図（Ｆ）に示す構造を得る。その
後ＴＰＴ２４を作製した上側基板１１と合せ、封止部材
１３で封止することにより第１図の構造が得られる。
。このようにして第２図（Ｆ）に示す構造を得る。その
後ＴＰＴ２４を作製した上側基板１１と合せ、封止部材
１３で封止することにより第１図の構造が得られる。
［発明の効果］
保護膜アッシングの際パターン外に残っている薄いカラ
ーフィルタ膜等の残留物も同時に除去できる。
ーフィルタ膜等の残留物も同時に除去できる。
基板と封止部材が直接密着するなめ封止性、密着性が向
上する。
上する。
プラズマのアッシングの場合、イオンボンバードの効果
によりガラス表面を完全に親水性にすることができる。
によりガラス表面を完全に親水性にすることができる。
表面層が８１０２等となり、接着性をあげることができ
る。
る。
透明電極パターニング用のフォトレジストマスクのアッ
シングと同時に行えるため、工程数としては増加させず
に済む。
シングと同時に行えるため、工程数としては増加させず
に済む。
なお、光学式エツチングエンドモニタによりアッシング
の終点検出が可能である。
の終点検出が可能である。
第１図（Ａ）−（Ｃ）は本発明の１実施例による液晶表
示装置の断面図、およびカラーフィルタの配置例を示す
上面図、 第２図（Ａ）−（Ｆ）は第１図の液晶表示装置の製造プ
ロセスを説明するための断面図、第３図は従来技術によ
る液晶表示装置の断面図である。 符号の説明 １１．１２ 基板 １３ 封止部材 １４ 液晶 １５ 遮光膜 １６窓 １７．１８．１９ カラーフィルタ ２１ 有機系保護膜 ２２ 透明電極 ２３ フォトレジストのマスク２４
ＴＰＴ 代理人 弁理士 高橋 敬四部 （Ａ） 第 １ 図
示装置の断面図、およびカラーフィルタの配置例を示す
上面図、 第２図（Ａ）−（Ｆ）は第１図の液晶表示装置の製造プ
ロセスを説明するための断面図、第３図は従来技術によ
る液晶表示装置の断面図である。 符号の説明 １１．１２ 基板 １３ 封止部材 １４ 液晶 １５ 遮光膜 １６窓 １７．１８．１９ カラーフィルタ ２１ 有機系保護膜 ２２ 透明電極 ２３ フォトレジストのマスク２４
ＴＰＴ 代理人 弁理士 高橋 敬四部 （Ａ） 第 １ 図
Claims (1)
- （１）、基板上にカラーフィルタを作成し、カラーフィ
ルタを有機系保護膜で覆い、その上に電極を形成し、フ
ォトレジストのマスクを用いて電極をパターニングした
後、灰化工程により、マスクの除去と同時に少なくとも
該有機系保護膜を除去し、基板表面を露出させることを
含む液晶表示装置の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63112644A JPH01283515A (ja) | 1988-05-11 | 1988-05-11 | カラーフィルタを有する液晶表示装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63112644A JPH01283515A (ja) | 1988-05-11 | 1988-05-11 | カラーフィルタを有する液晶表示装置の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01283515A true JPH01283515A (ja) | 1989-11-15 |
Family
ID=14591889
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63112644A Pending JPH01283515A (ja) | 1988-05-11 | 1988-05-11 | カラーフィルタを有する液晶表示装置の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01283515A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0373912U (ja) * | 1989-11-22 | 1991-07-25 | ||
| JPH05323325A (ja) * | 1992-05-20 | 1993-12-07 | Canon Inc | 液晶素子の製造方法 |
| US5790219A (en) * | 1994-10-13 | 1998-08-04 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Color liquid-crystal display panel with black-mask overlapping color-filter more on downwardly rubbing side of switching element |
| KR100329006B1 (ko) * | 1999-07-14 | 2002-03-20 | 구본준, 론 위라하디락사 | 액정표시소자와 그 제조 방법 |
| KR100335462B1 (ko) * | 1999-08-11 | 2002-05-04 | 구본준, 론 위라하디락사 | 액정표시패널 |
| KR100361468B1 (ko) * | 1999-05-21 | 2002-11-18 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정표시소자와 그 제조 방법 |
| US7889306B1 (en) | 1999-05-21 | 2011-02-15 | Lg Display Co., Ltd. | Liquid crystal display and fabrication method thereof |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61145533A (ja) * | 1984-12-19 | 1986-07-03 | Citizen Watch Co Ltd | カラ−液晶パネル |
| JPS61174546A (ja) * | 1985-01-29 | 1986-08-06 | Shimadzu Corp | アスペクト比の大きい微細パタ−ンの製作法 |
-
1988
- 1988-05-11 JP JP63112644A patent/JPH01283515A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61145533A (ja) * | 1984-12-19 | 1986-07-03 | Citizen Watch Co Ltd | カラ−液晶パネル |
| JPS61174546A (ja) * | 1985-01-29 | 1986-08-06 | Shimadzu Corp | アスペクト比の大きい微細パタ−ンの製作法 |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0373912U (ja) * | 1989-11-22 | 1991-07-25 | ||
| JPH05323325A (ja) * | 1992-05-20 | 1993-12-07 | Canon Inc | 液晶素子の製造方法 |
| US5790219A (en) * | 1994-10-13 | 1998-08-04 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Color liquid-crystal display panel with black-mask overlapping color-filter more on downwardly rubbing side of switching element |
| KR100361468B1 (ko) * | 1999-05-21 | 2002-11-18 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정표시소자와 그 제조 방법 |
| US7889306B1 (en) | 1999-05-21 | 2011-02-15 | Lg Display Co., Ltd. | Liquid crystal display and fabrication method thereof |
| US8184254B2 (en) | 1999-05-21 | 2012-05-22 | Lg Display Co., Ltd. | Liquid crystal display and fabrication method thereof |
| KR100329006B1 (ko) * | 1999-07-14 | 2002-03-20 | 구본준, 론 위라하디락사 | 액정표시소자와 그 제조 방법 |
| KR100335462B1 (ko) * | 1999-08-11 | 2002-05-04 | 구본준, 론 위라하디락사 | 액정표시패널 |
| US6424401B1 (en) | 1999-08-11 | 2002-07-23 | Lg. Philips Lcd Co., Ltd. | LCD panel with seal crossing opening in an organic protective film |
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