JP2002148597A - 液晶表示素子用基板とそれを用いた液晶表示素子とその製造方法 - Google Patents
液晶表示素子用基板とそれを用いた液晶表示素子とその製造方法Info
- Publication number
- JP2002148597A JP2002148597A JP2000344776A JP2000344776A JP2002148597A JP 2002148597 A JP2002148597 A JP 2002148597A JP 2000344776 A JP2000344776 A JP 2000344776A JP 2000344776 A JP2000344776 A JP 2000344776A JP 2002148597 A JP2002148597 A JP 2002148597A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid crystal
- crystal display
- film
- contact angle
- transparent electrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】
【課題】 液晶表示素子において、基板上の透明電極が
パターンエッチングによって除かれた部分の表面とシー
ル材もしくは接着材との密着力が十分ではなかった。ま
た塗布性もシール切れなどの問題を起こしていた。 【解決手段】 樹脂層の上に水の接触角５０゜以下の膜
が形成もしくは樹脂層の上を親水化処理により、水の接
触角５０゜以下の表面に改質後、さらにその上に透明電
極膜が形成されたことを特徴とする。
パターンエッチングによって除かれた部分の表面とシー
ル材もしくは接着材との密着力が十分ではなかった。ま
た塗布性もシール切れなどの問題を起こしていた。 【解決手段】 樹脂層の上に水の接触角５０゜以下の膜
が形成もしくは樹脂層の上を親水化処理により、水の接
触角５０゜以下の表面に改質後、さらにその上に透明電
極膜が形成されたことを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ＴＶやコンピュー
タ画像を表示するフラットパネルディスプレイに用いら
れる液晶表示パネルにおいて、液晶表示素子用基板とそ
れを用いた液晶表示素子とその製造方法に関する。
タ画像を表示するフラットパネルディスプレイに用いら
れる液晶表示パネルにおいて、液晶表示素子用基板とそ
れを用いた液晶表示素子とその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、液晶表示素子において、２つの対
向基板を貼り合わせてセル形成するためのシール材や、
液晶表示素子を駆動させるための端子を接着させるため
の接着材は、基板上の透明電極がパターンエッチングに
よって除かれた部分の表面に塗布されていた。
向基板を貼り合わせてセル形成するためのシール材や、
液晶表示素子を駆動させるための端子を接着させるため
の接着材は、基板上の透明電極がパターンエッチングに
よって除かれた部分の表面に塗布されていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】したがって、貼り合わ
せた基板同士や端子と基板の接着力、基板上の透明電極
がパターンエッチングによって除かれた部分の表面とシ
ール材もしくは接着材との密着力となる。したがって樹
脂層の上に直接透明電極が設けられた液晶表示基板の場
合、樹脂層とシール材もしくは接着材との密着性にな
る。その密着力を改善するために、シール材もしくは接
着材が改良されてきたが、その密着力が十分ではなかっ
た。また塗布性もシール切れなどの問題を起こしてい
た。
せた基板同士や端子と基板の接着力、基板上の透明電極
がパターンエッチングによって除かれた部分の表面とシ
ール材もしくは接着材との密着力となる。したがって樹
脂層の上に直接透明電極が設けられた液晶表示基板の場
合、樹脂層とシール材もしくは接着材との密着性にな
る。その密着力を改善するために、シール材もしくは接
着材が改良されてきたが、その密着力が十分ではなかっ
た。また塗布性もシール切れなどの問題を起こしてい
た。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めの液晶表示素子用基板は、樹脂層の上に水の接触角５
０゜以下の膜が形成され、さらにその上に透明電極膜が
形成されたことを特徴とする。
めの液晶表示素子用基板は、樹脂層の上に水の接触角５
０゜以下の膜が形成され、さらにその上に透明電極膜が
形成されたことを特徴とする。
【０００５】この構成にすると、基板上の透明電極がパ
ターンエッチングによって除かれた部分の表面の水の接
触角が５０°以下となるため、その表面ではシール材や
接着材の塗布性が向上して切れることがなく、またその
接着力も大きく向上する。
ターンエッチングによって除かれた部分の表面の水の接
触角が５０°以下となるため、その表面ではシール材や
接着材の塗布性が向上して切れることがなく、またその
接着力も大きく向上する。
【０００６】前記液晶表示素子用基板において、水の接
触角５０゜以下の膜がＳｉＯx、もしくはＳｉＮxおよび
それらのうち少なくとも１つを含む複合膜であることを
特徴とする。
触角５０゜以下の膜がＳｉＯx、もしくはＳｉＮxおよび
それらのうち少なくとも１つを含む複合膜であることを
特徴とする。
【０００７】この構成にすると、上記の効果に加え、基
板上の透明電極がパターンエッチングによって除かれた
部分の表面がＳｉＯx、もしくはＳｉＮxおよびそれらの
うち少なくとも１つを含む複合膜となるから、エッチン
グ液によりそれらの膜がエッチングされることがなく、
また、透明電極膜のエッチングレートを安定化する効果
も有する。
板上の透明電極がパターンエッチングによって除かれた
部分の表面がＳｉＯx、もしくはＳｉＮxおよびそれらの
うち少なくとも１つを含む複合膜となるから、エッチン
グ液によりそれらの膜がエッチングされることがなく、
また、透明電極膜のエッチングレートを安定化する効果
も有する。
【０００８】前記液晶表示素子用基板において、樹脂層
の上を親水化処理により、水の接触角５０゜以下の表面
に改質後、その上に透明電極膜が形成されたことを特徴
とする。
の上を親水化処理により、水の接触角５０゜以下の表面
に改質後、その上に透明電極膜が形成されたことを特徴
とする。
【０００９】この構成にすると、基板上の透明電極がパ
ターンエッチングによって除かれた部分の表面は、親水
化処理により、水の接触角５０゜以下の膜に改質してい
るので、その表面ではシール材や接着材の塗布性が向上
して切れることがなく、またその接着力も大きく向上す
る。
ターンエッチングによって除かれた部分の表面は、親水
化処理により、水の接触角５０゜以下の膜に改質してい
るので、その表面ではシール材や接着材の塗布性が向上
して切れることがなく、またその接着力も大きく向上す
る。
【００１０】前記液晶表示素子用基板において、上記親
水化処理が、ＵＶ照射処理、もしくはプラズマ処理のい
ずれかであることを特徴とする。
水化処理が、ＵＶ照射処理、もしくはプラズマ処理のい
ずれかであることを特徴とする。
【００１１】この構成にすると基板上の透明電極がパタ
ーンエッチングによって除かれた部分の表面、あるいは
基板自身にダメージを与えることなく、親水化処理でき
る。
ーンエッチングによって除かれた部分の表面、あるいは
基板自身にダメージを与えることなく、親水化処理でき
る。
【００１２】前記液晶表示素子用基板において、樹脂層
が少なくとも、アクリル、エポキシ、シロキサン、ポリ
イミド、ポリカーボネート、ポリビニールアルコール、
ポリエチレンのうちの１つ、もしくは少なくともそれら
のうちの１つを含む共重合体であることを特徴とする。
が少なくとも、アクリル、エポキシ、シロキサン、ポリ
イミド、ポリカーボネート、ポリビニールアルコール、
ポリエチレンのうちの１つ、もしくは少なくともそれら
のうちの１つを含む共重合体であることを特徴とする。
【００１３】この構成によると、これらの樹脂は樹脂層
の上に水の接触角５０゜以下の膜が形成されやすく、ま
た、親水化処理により、水の接触角５０゜以下の表面に
改質されやすい。
の上に水の接触角５０゜以下の膜が形成されやすく、ま
た、親水化処理により、水の接触角５０゜以下の表面に
改質されやすい。
【００１４】上記の課題を解決するための液晶表示素子
は、樹脂層の上に水の接触角が５０゜以下の膜が形成さ
れ、さらにその上に透明電極膜が形成されたことを特徴
とする。
は、樹脂層の上に水の接触角が５０゜以下の膜が形成さ
れ、さらにその上に透明電極膜が形成されたことを特徴
とする。
【００１５】この構成にすると、基板上の透明電極がパ
ターンエッチングによって除かれた部分の表面の水の接
触角が５０°以下となるため、その表面ではシール材や
接着材の塗布性が向上して切れることがなく、またその
接着力も大きく向上した液晶表示素子となる。
ターンエッチングによって除かれた部分の表面の水の接
触角が５０°以下となるため、その表面ではシール材や
接着材の塗布性が向上して切れることがなく、またその
接着力も大きく向上した液晶表示素子となる。
【００１６】前記液晶表示素子において、水の接触角５
０゜以下の膜がＳｉＯx、もしくはＳｉＮxおよびそれら
のうち少なくとも１つを含む複合膜であることを特徴と
する。
０゜以下の膜がＳｉＯx、もしくはＳｉＮxおよびそれら
のうち少なくとも１つを含む複合膜であることを特徴と
する。
【００１７】この構成にすると、上記の効果に加え、基
板上の透明電極がパターンエッチングによって除かれた
部分の表面がＳｉＯx、もしくはＳｉＮxおよびそれらの
うち少なくとも１つを含む複合膜となるから、エッチン
グ液によりそれらの膜がエッチングされることがない液
晶表示素子となる。
板上の透明電極がパターンエッチングによって除かれた
部分の表面がＳｉＯx、もしくはＳｉＮxおよびそれらの
うち少なくとも１つを含む複合膜となるから、エッチン
グ液によりそれらの膜がエッチングされることがない液
晶表示素子となる。
【００１８】前記液晶表示素子において、樹脂層を親水
化処理により、水の接触角５０゜以下の表面に改質後、
その上に透明電極膜が形成されたことを特徴とする。
化処理により、水の接触角５０゜以下の表面に改質後、
その上に透明電極膜が形成されたことを特徴とする。
【００１９】この構成にすると、基板上の透明電極がパ
ターンエッチングによって除かれた部分の表面は、親水
化処理により、水の接触角５０゜以下の膜に改質したこ
とにより、その表面ではシール材や接着材の塗布性が向
上して切れることがなく、またその接着力も大きく向上
した液晶表示素子となる。
ターンエッチングによって除かれた部分の表面は、親水
化処理により、水の接触角５０゜以下の膜に改質したこ
とにより、その表面ではシール材や接着材の塗布性が向
上して切れることがなく、またその接着力も大きく向上
した液晶表示素子となる。
【００２０】前記液晶表示素子において、前記親水化処
理が、ＵＶ照射処理、もしくはプラズマ処理のいずれか
であることを特徴とする。
理が、ＵＶ照射処理、もしくはプラズマ処理のいずれか
であることを特徴とする。
【００２１】この構成にすると、基板上の透明電極がパ
ターンエッチングによって除かれた部分の表面、あるい
は基板自身にダメージが少ない液晶表示素子となる。
ターンエッチングによって除かれた部分の表面、あるい
は基板自身にダメージが少ない液晶表示素子となる。
【００２２】前記液晶表示素子において、樹脂層が少な
くとも、アクリル、エポキシ、シロキサン、ポリイミ
ド、ポリカーボネート、ポリビニールアルコール、ポリ
エチレンのうちの１つ、もしくは少なくともそれらのう
ちの１つを含む共重合体であることを特徴とする。
くとも、アクリル、エポキシ、シロキサン、ポリイミ
ド、ポリカーボネート、ポリビニールアルコール、ポリ
エチレンのうちの１つ、もしくは少なくともそれらのう
ちの１つを含む共重合体であることを特徴とする。
【００２３】この構成によると、これらの樹脂は樹脂層
の上に水の接触角５０゜以下の膜が形成されやすく、ま
た、親水化処理により、水の接触角５０゜以下の表面に
改質されやすい。
の上に水の接触角５０゜以下の膜が形成されやすく、ま
た、親水化処理により、水の接触角５０゜以下の表面に
改質されやすい。
【００２４】上記の課題を解決するための液晶表示素子
の製造方法は、樹脂層の上に水の接触角が５０゜以下の
膜を形成する工程と、透明電極膜をパターンエッチング
する工程を透明電極がエッチング除去され露出した水の
接触角が５０゜以下の膜上にシールを形成する工程を有
することを特徴とする。
の製造方法は、樹脂層の上に水の接触角が５０゜以下の
膜を形成する工程と、透明電極膜をパターンエッチング
する工程を透明電極がエッチング除去され露出した水の
接触角が５０゜以下の膜上にシールを形成する工程を有
することを特徴とする。
【００２５】また、上記液晶表示素子の製造方法におい
て、樹脂層の上に水の接触角が５０゜以下の膜を形成す
る工程と、透明電極膜をパターンエッチングする工程
と、透明電極がエッチング除去され露出した水の接触角
が５０゜以下の膜上に端子を接着する接着材を設ける工
程を有することを特徴とする。
て、樹脂層の上に水の接触角が５０゜以下の膜を形成す
る工程と、透明電極膜をパターンエッチングする工程
と、透明電極がエッチング除去され露出した水の接触角
が５０゜以下の膜上に端子を接着する接着材を設ける工
程を有することを特徴とする。
【００２６】この構成にすると、基板上の透明電極がパ
ターンエッチングによって除かれた部分の表面の水の接
触角が５０°以下となるため、その表面ではシール材や
接着材の塗布性が向上して切れることがなく、またその
接着力も大きく向上できる液晶表示素子の製造方法とな
る。
ターンエッチングによって除かれた部分の表面の水の接
触角が５０°以下となるため、その表面ではシール材や
接着材の塗布性が向上して切れることがなく、またその
接着力も大きく向上できる液晶表示素子の製造方法とな
る。
【００２７】前記液晶表示素子の製造方法において、水
の接触角５０゜未満の膜がＳｉＯx、もしくはＳｉＮxお
よびそれらのうち少なくとも１つを含む複合膜であるこ
とを特徴とする。
の接触角５０゜未満の膜がＳｉＯx、もしくはＳｉＮxお
よびそれらのうち少なくとも１つを含む複合膜であるこ
とを特徴とする。
【００２８】この構成にすると、上記の効果に加え、基
板上の透明電極がパターンエッチングによって除かれた
部分の表面がＳｉＯx、もしくはＳｉＮxおよびそれらの
うち少なくとも１つを含む複合膜となるから、エッチン
グ液によりそれらの膜がエッチングされることがなく、
また、透明電極膜のエッチングレートを安定化させるこ
ともでき、品質が安定な液晶表示素子を製造できる。
板上の透明電極がパターンエッチングによって除かれた
部分の表面がＳｉＯx、もしくはＳｉＮxおよびそれらの
うち少なくとも１つを含む複合膜となるから、エッチン
グ液によりそれらの膜がエッチングされることがなく、
また、透明電極膜のエッチングレートを安定化させるこ
ともでき、品質が安定な液晶表示素子を製造できる。
【００２９】前記液晶表示素子の製造方法において、樹
脂層を親水化処理により、水の接触角５０゜以下の表面
に改質する工程と、透明電極膜をパターンエッチングす
る工程を透明電極がエッチング除去され露出した水の接
触角が５０゜以下の膜上にシールを形成する工程を有す
ることを特徴とする。
脂層を親水化処理により、水の接触角５０゜以下の表面
に改質する工程と、透明電極膜をパターンエッチングす
る工程を透明電極がエッチング除去され露出した水の接
触角が５０゜以下の膜上にシールを形成する工程を有す
ることを特徴とする。
【００３０】また、樹脂層を親水化処理により、水の接
触角が５０゜以下の膜に改質後する工程と、透明電極膜
をパターンエッチングする工程と、透明電極がエッチン
グ除去され露出した水の接触角が５０゜以下の膜上に端
子を接着する接着材を設ける工程を有することを特徴と
する。
触角が５０゜以下の膜に改質後する工程と、透明電極膜
をパターンエッチングする工程と、透明電極がエッチン
グ除去され露出した水の接触角が５０゜以下の膜上に端
子を接着する接着材を設ける工程を有することを特徴と
する。
【００３１】この構成にすると、基板上の透明電極がパ
ターンエッチングによって除かれた部分の表面の水の接
触角が、親水化処理により、水の接触角５０゜以下の膜
に改質したことにより、その表面ではシール材や接着材
の塗布性が向上して切れることがなく、またその接着力
も大きく向上した液晶表示素子を製造できる。
ターンエッチングによって除かれた部分の表面の水の接
触角が、親水化処理により、水の接触角５０゜以下の膜
に改質したことにより、その表面ではシール材や接着材
の塗布性が向上して切れることがなく、またその接着力
も大きく向上した液晶表示素子を製造できる。
【００３２】前記液晶表示素子の製造方法において、前
記親水化処理が、ＵＶ照射処理、もしくはプラズマ処理
のいずれかであることを特徴とする。
記親水化処理が、ＵＶ照射処理、もしくはプラズマ処理
のいずれかであることを特徴とする。
【００３３】この構成にすると基板上の透明電極がパタ
ーンエッチングによって除かれた部分の表面、あるいは
基板自身にダメージを与えることなく、親水化処理した
液晶表示素子を製造できる。
ーンエッチングによって除かれた部分の表面、あるいは
基板自身にダメージを与えることなく、親水化処理した
液晶表示素子を製造できる。
【００３４】
【発明の実施の形態】本発明の液晶表示素子用基板は、
樹脂層の上に水の接触角５０゜以下の膜が形成もしくは
樹脂層の上を親水化処理により、水の接触角５０゜以下
の表面に改質後、さらにその上に透明電極膜が形成され
たことを特徴とする。
樹脂層の上に水の接触角５０゜以下の膜が形成もしくは
樹脂層の上を親水化処理により、水の接触角５０゜以下
の表面に改質後、さらにその上に透明電極膜が形成され
たことを特徴とする。
【００３５】この構成にすると、基板上の透明電極がパ
ターンエッチングによって除かれた部分の表面の水の接
触角が５０°以下となるため、その表面ではシール材や
接着材の塗布性が向上して切れることがなく、またその
接着力も大きく向上する。従来から、液晶表示素子にお
いて、２つの対向基板を貼り合わせてセル形成するため
のシール材や、液晶表示素子を駆動させるための端子を
接着させるための接着材は、基板上の透明電極がパター
ンエッチングによって除かれた部分の表面に塗布されて
いた。したがって、貼り合わせた基板同士や端子と基板
の接着力、基板上の透明電極がパターンエッチングによ
って除かれた部分の表面とシール材もしくは接着材との
密着力となる。従来、その密着力を改善するために、シ
ール材もしくは接着材が改良されてきたが、基板上の透
明電極がパターンエッチングによって除かれた部分の表
面によってはその密着力が十分ではなかった。また塗布
性もシール切れなどの問題を起こしていたが、本発明で
は、基板上の透明電極がパターンエッチングによって除
かれた部分を親水化することで、この問題を解決するこ
とができる。
ターンエッチングによって除かれた部分の表面の水の接
触角が５０°以下となるため、その表面ではシール材や
接着材の塗布性が向上して切れることがなく、またその
接着力も大きく向上する。従来から、液晶表示素子にお
いて、２つの対向基板を貼り合わせてセル形成するため
のシール材や、液晶表示素子を駆動させるための端子を
接着させるための接着材は、基板上の透明電極がパター
ンエッチングによって除かれた部分の表面に塗布されて
いた。したがって、貼り合わせた基板同士や端子と基板
の接着力、基板上の透明電極がパターンエッチングによ
って除かれた部分の表面とシール材もしくは接着材との
密着力となる。従来、その密着力を改善するために、シ
ール材もしくは接着材が改良されてきたが、基板上の透
明電極がパターンエッチングによって除かれた部分の表
面によってはその密着力が十分ではなかった。また塗布
性もシール切れなどの問題を起こしていたが、本発明で
は、基板上の透明電極がパターンエッチングによって除
かれた部分を親水化することで、この問題を解決するこ
とができる。
【００３６】なお、本発明の水の接触角５０゜以下の膜
としては、ＳｉＯx、ＳｉＮx、ＡｌＯx、ＴｉＯx、Ｚｒ
Ｏxおよびそれらの複合酸化物が有効であるが、液晶表
示素子として用いる場合の光電気特性を考慮すると、特
にＳｉＯx、ＳｉＮxおよびそれらの複合酸化物が有効で
ある。また水の接触角５０゜以上の有機膜でも、親水化
処理により水の接触角５０゜以下になれば本発明の水の
接触角５０゜以下の膜に適応する。この親水化処理の例
として、ＵＶ照射処理、もしくはプラズマ処理が有効で
ある。特にＫｒＦエキシマＵＶ光を用いると膜へのダメ
ージがほとんどない。また、樹脂層としては、液晶表示
素子として用いることから透光性に優れているアクリ
ル、エポキシ、シロキサン、ポリイミド、ポリカーボネ
ート、ポリビニールアルコール、ポリエチレン、もしく
はそれらの共重合体が有効である。
としては、ＳｉＯx、ＳｉＮx、ＡｌＯx、ＴｉＯx、Ｚｒ
Ｏxおよびそれらの複合酸化物が有効であるが、液晶表
示素子として用いる場合の光電気特性を考慮すると、特
にＳｉＯx、ＳｉＮxおよびそれらの複合酸化物が有効で
ある。また水の接触角５０゜以上の有機膜でも、親水化
処理により水の接触角５０゜以下になれば本発明の水の
接触角５０゜以下の膜に適応する。この親水化処理の例
として、ＵＶ照射処理、もしくはプラズマ処理が有効で
ある。特にＫｒＦエキシマＵＶ光を用いると膜へのダメ
ージがほとんどない。また、樹脂層としては、液晶表示
素子として用いることから透光性に優れているアクリ
ル、エポキシ、シロキサン、ポリイミド、ポリカーボネ
ート、ポリビニールアルコール、ポリエチレン、もしく
はそれらの共重合体が有効である。
【００３７】また、本発明の導電電極膜としては、ＩＴ
Ｏと呼ばれるインジュウムと錫の複合酸化物が有効で、
本発明では複合比に依存せず有効である。また、錫酸化
物等も有効である。
Ｏと呼ばれるインジュウムと錫の複合酸化物が有効で、
本発明では複合比に依存せず有効である。また、錫酸化
物等も有効である。
【００３８】（実施例１）エポキシ基板上にスパッタ法
でＳｉＯ2層を設けた後、この後、ＩＴＯの透明電極膜
を設け、さらにＲＧＢの画素と配線をパターニングし、
本発明の液晶表示素子基板Ａを作製した。
でＳｉＯ2層を設けた後、この後、ＩＴＯの透明電極膜
を設け、さらにＲＧＢの画素と配線をパターニングし、
本発明の液晶表示素子基板Ａを作製した。
【００３９】（実施例２）エポキシ基板上に室温で１７
２ｎｍの単色光を有するＫｒＦエキシマＵＶ光（ウシオ
電機製装置使用）を４８０ｍＪ／ｃｍ2（１７２ｎｍ）
照射した。この後、ＩＴＯの透明電極膜を設け、さらに
ＲＧＢの画素と配線をパターニングし、本発明の液晶表
示素子基板Ｂを作製した。
２ｎｍの単色光を有するＫｒＦエキシマＵＶ光（ウシオ
電機製装置使用）を４８０ｍＪ／ｃｍ2（１７２ｎｍ）
照射した。この後、ＩＴＯの透明電極膜を設け、さらに
ＲＧＢの画素と配線をパターニングし、本発明の液晶表
示素子基板Ｂを作製した。
【００４０】（比較例３）実施例２の室温で１７２ｎｍ
の単色光を有するＫｒＦエキシマＵＶ光（ウシオ電機製
装置使用）を２４０，１２０，０ｍＪ／ｃｍ2（１７２
ｎｍ）照射したこと以外は、実施例２と同じ方法で液晶
表示素子基板Ｃ、Ｄ、Ｅを作製した。
の単色光を有するＫｒＦエキシマＵＶ光（ウシオ電機製
装置使用）を２４０，１２０，０ｍＪ／ｃｍ2（１７２
ｎｍ）照射したこと以外は、実施例２と同じ方法で液晶
表示素子基板Ｃ、Ｄ、Ｅを作製した。
【００４１】（端子との接着性）液晶表示素子基板Ａか
らＥのＩＴＯ透明電極膜形成前の接触角とパターニング
後に端子接続部に接着剤が付着したフレキシブル端子を
熱圧着し、その剥離強度を調べた。その結果を表１に示
す。
らＥのＩＴＯ透明電極膜形成前の接触角とパターニング
後に端子接続部に接着剤が付着したフレキシブル端子を
熱圧着し、その剥離強度を調べた。その結果を表１に示
す。
【００４２】
【表１】
【００４３】なお、５００ｇｆ／ｃｍ以上有すれば実用
上問題がないので、本発明の液晶表示素子基板は端子と
の密着力を向上させるのに効果的である。
上問題がないので、本発明の液晶表示素子基板は端子と
の密着力を向上させるのに効果的である。
【００４４】（対向基板との密着性）液晶表示素子基板
Ａ、Ｂ、Ｅと洗剤洗浄したガラス基板上に透明電極膜を
設け、さらにＲＧＢの画素と配線をパターニングした対
向基板を洗剤洗浄し、配向膜を設けＴＮ配向処理を施し
た後、両者の基板を貼り合わせてセルを形成し、そのセ
ル内にＴＮ液晶を注入し、封止後、上下基板に偏光板を
ノーマリーブラックになるように貼り付けた。こうして
液晶表示素子基板Ａ（発明品・図１）、Ｂ（発明品・図
２）、Ｃから液晶表示素子ＬＡ、ＬＢ、ＬＥを完成させ
た。この液晶表示素子を８０℃１時間と−３０℃１時間
を１サイクルとしこれを繰り返すヒートショック試験器
にいれ、接着性を確認した。その結果を表２に示す。
Ａ、Ｂ、Ｅと洗剤洗浄したガラス基板上に透明電極膜を
設け、さらにＲＧＢの画素と配線をパターニングした対
向基板を洗剤洗浄し、配向膜を設けＴＮ配向処理を施し
た後、両者の基板を貼り合わせてセルを形成し、そのセ
ル内にＴＮ液晶を注入し、封止後、上下基板に偏光板を
ノーマリーブラックになるように貼り付けた。こうして
液晶表示素子基板Ａ（発明品・図１）、Ｂ（発明品・図
２）、Ｃから液晶表示素子ＬＡ、ＬＢ、ＬＥを完成させ
た。この液晶表示素子を８０℃１時間と−３０℃１時間
を１サイクルとしこれを繰り返すヒートショック試験器
にいれ、接着性を確認した。その結果を表２に示す。
【００４５】
【表２】
【００４６】したがって、本発明の液晶表示素子は、基
板同士の接着力（シール性）の信頼性が優れていること
がわかる。
板同士の接着力（シール性）の信頼性が優れていること
がわかる。
【００４７】
【発明の効果】本発明の液晶表示素子用基板は、樹脂層
の上に水の接触角５０゜以下の膜が形成もしくは樹脂層
の上を親水化処理により、水の接触角５０゜以下の表面
に改質後、さらにその上に透明電極膜が形成されたこと
を特徴とする。この構成にすると、基板上の透明電極が
パターンエッチングによって除かれた部分の表面の水の
接触角が５０°以下となるため、その表面ではシール材
や接着材の塗布性が向上して切れることがなく、またそ
の接着力も大きく向上する。従来から、液晶表示素子に
おいて、２つの対向基板を貼り合わせてセル形成するた
めのシール材や、液晶表示素子を駆動させるための端子
を接着させるための接着材は、基板上の透明電極がパタ
ーンエッチングによって除かれた部分の表面に塗布され
ていた。したがって、貼り合わせた基板同士や端子と基
板の接着力、基板上の透明電極がパターンエッチングに
よって除かれた部分の表面とシール材もしくは接着材と
の密着力となる。従来、その密着力を改善するために、
シール材もしくは接着材が改良されてきたが、基板上の
透明電極がパターンエッチングによって除かれた部分の
表面によってはその密着力が十分ではなかった。また塗
布性もシール切れなどの問題を起こしていたが、本発明
では、基板上の透明電極がパターンエッチングによって
除かれた部分を親水化することで、この問題を解決する
ことができる。
の上に水の接触角５０゜以下の膜が形成もしくは樹脂層
の上を親水化処理により、水の接触角５０゜以下の表面
に改質後、さらにその上に透明電極膜が形成されたこと
を特徴とする。この構成にすると、基板上の透明電極が
パターンエッチングによって除かれた部分の表面の水の
接触角が５０°以下となるため、その表面ではシール材
や接着材の塗布性が向上して切れることがなく、またそ
の接着力も大きく向上する。従来から、液晶表示素子に
おいて、２つの対向基板を貼り合わせてセル形成するた
めのシール材や、液晶表示素子を駆動させるための端子
を接着させるための接着材は、基板上の透明電極がパタ
ーンエッチングによって除かれた部分の表面に塗布され
ていた。したがって、貼り合わせた基板同士や端子と基
板の接着力、基板上の透明電極がパターンエッチングに
よって除かれた部分の表面とシール材もしくは接着材と
の密着力となる。従来、その密着力を改善するために、
シール材もしくは接着材が改良されてきたが、基板上の
透明電極がパターンエッチングによって除かれた部分の
表面によってはその密着力が十分ではなかった。また塗
布性もシール切れなどの問題を起こしていたが、本発明
では、基板上の透明電極がパターンエッチングによって
除かれた部分を親水化することで、この問題を解決する
ことができる。
【００４８】これらの効果によって、高品質、高信頼性
の液晶表示素子用基板および液晶表示素子を提供でき、
本発明の効果は絶大である。
の液晶表示素子用基板および液晶表示素子を提供でき、
本発明の効果は絶大である。
【図１】本発明の一実施例の液晶セル用の液晶表示素子
を示す図
を示す図
【図２】本発明の一実施例の液晶セル用の液晶表示素子
を示す図
を示す図
１ エポキシ樹脂基板 ２ ガラス基板 ３ ＳｉＯ2膜 ４ 透明電極膜 ５ 配向膜 ６ シール材 ７ 液晶 ８ 端子 １１ エポキシ樹脂基板 １２ ガラス基板 １３ 親水化したエポキシ樹脂層 １４ 透明電極膜 １５ 配向膜 １６ シール材 １７ 液晶 １８ 端子
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 金子 尚美 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Ｆターム(参考） 2H089 LA48 QA16 TA01 TA02 2H090 HB03X JB02 JB03 JC07 LA01 2H092 GA25 GA34 HA02 HA06 HA23 MA08 MA09 NA18 PA01 4F100 AA12B AA20B AA33C AK01A AK04A AK21A AK25A AK45A AK49A AK52A AK53A AL01A AT00A BA03 BA07 BA10A EH66 EJ54 EJ61 GB41 JG01C JK06 JL11 JM02B JN01C 5G435 AA07 AA14 BB12 EE33 KK05
Claims (16)
- 【請求項１】 樹脂層の上に水の接触角５０゜以下の膜
が形成され、さらにその上に透明電極膜が形成された液
晶表示素子用基板。 - 【請求項２】 水の接触角が５０゜以下の膜がＳｉ
Ｏx、もしくはＳｉＮxおよびそれらのうち少なくとも１
つを含む複合膜であることを特徴とする請求項１記載の
液晶表示素子用基板。 - 【請求項３】 樹脂層の上を親水化処理により、水の接
触角５０゜以下の表面に改質後、その上に透明電極膜が
形成された液晶表示素子用基板。 - 【請求項４】 前記親水化処理が、ＵＶ照射処理、もし
くはプラズマ処理のいずれかであることを特徴とする請
求項２記載の液晶表示素子用基板。 - 【請求項５】 前記樹脂層が少なくとも、アクリル、エ
ポキシ、シロキサン、ポリイミド、ポリカーボネート、
ポリビニールアルコール、ポリエチレンのうちの１つ、
もしくは少なくともそれらのうちの１つを含む共重合体
であることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記
載の液晶表示素子用基板。 - 【請求項６】 樹脂層の上に水の接触角が５０゜以下の
膜が形成され、さらにその上に透明電極膜が形成された
液晶表示素子。 - 【請求項７】 水の接触角が５０゜以下の膜がＳｉ
Ｏx、もしくはＳｉＮxおよびそれらのうち少なくとも１
つを含む複合膜であることを特徴とする請求項６記載の
液晶表示素子。 - 【請求項８】 樹脂層を親水化処理により、水の接触角
５０゜以下の表面に改質後、その上に透明電極膜が形成
された液晶表示素子。 - 【請求項９】 前記親水化処理が、ＵＶ照射処理、もし
くはプラズマ処理のいずれかであることを特徴とする請
求項８記載の液晶表示素子。 - 【請求項１０】 樹脂層が少なくとも、アクリル、エポ
キシ、シロキサン、ポリイミド、ポリカーボネート、ポ
リビニールアルコール、ポリエチレンのうちの１つ、も
しくは少なくともそれらのうちの１つを含む共重合体で
あることを特徴とする請求項６から９のいずれかに記載
の液晶表示素子。 - 【請求項１１】 樹脂層の上に水の接触角が５０゜以下
の膜を形成する工程と、透明電極膜をパターンエッチン
グする工程を透明電極がエッチング除去され露出した水
の接触角が５０゜以下の膜上にシールを形成する工程を
有する液晶表示素子の製造方法。 - 【請求項１２】 樹脂層の上に水の接触角が５０゜以下
の膜を形成する工程と、透明電極膜をパターンエッチン
グする工程と、透明電極がエッチング除去され露出した
水の接触角が５０゜以下の膜上に端子を接着する接着材
を設ける工程を有する液晶表示素子の製造方法。 - 【請求項１３】 水の接触角５０゜未満の膜がＳｉ
Ｏx、もしくはＳｉＮxおよびそれらのうち少なくとも１
つを含む複合膜であることを特徴とする請求項１１また
は１２に記載の液晶表示素子の製造方法。 - 【請求項１４】 樹脂層を親水化処理により、水の接触
角５０゜以下の表面に改質する工程と、透明電極膜をパ
ターンエッチングする工程を透明電極がエッチング除去
され露出した水の接触角が５０゜以下の膜上にシールを
形成する工程を有する液晶表示素子の製造方法。 - 【請求項１５】 樹脂層を親水化処理により、水の接触
角が５０゜以下の膜に改質後する工程と、透明電極膜を
パターンエッチングする工程と、透明電極がエッチング
除去され露出した水の接触角が５０゜以下の膜上に端子
を接着する接着材を設ける工程を有する液晶表示素子の
製造方法。 - 【請求項１６】 前記親水化処理が、ＵＶ照射処理、も
しくはプラズマ処理のいずれかであることを特徴とする
請求項１４もしくは１５記載の液晶表示素子の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000344776A JP2002148597A (ja) | 2000-11-13 | 2000-11-13 | 液晶表示素子用基板とそれを用いた液晶表示素子とその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000344776A JP2002148597A (ja) | 2000-11-13 | 2000-11-13 | 液晶表示素子用基板とそれを用いた液晶表示素子とその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002148597A true JP2002148597A (ja) | 2002-05-22 |
Family
ID=18818923
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000344776A Pending JP2002148597A (ja) | 2000-11-13 | 2000-11-13 | 液晶表示素子用基板とそれを用いた液晶表示素子とその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002148597A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006049288A1 (en) * | 2004-11-02 | 2006-05-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Organic transistor and manufacturing method thereof |
| JP2012025010A (ja) * | 2010-07-22 | 2012-02-09 | Hitachi Chem Co Ltd | 調光フィルム |
| US8735870B2 (en) | 2005-12-29 | 2014-05-27 | Lg Display Co., Ltd. | Organic thin film transistor and method for manufacturing the same |
| US10520771B2 (en) | 2016-12-05 | 2019-12-31 | Seiko Epson Corporation | Liquid crystal device, electronic apparatus, method for manufacturing liquid crystal device, mother substrate for liquid cystal device, and method for manufacturing mother substrate for liquid crystal device |
-
2000
- 2000-11-13 JP JP2000344776A patent/JP2002148597A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006049288A1 (en) * | 2004-11-02 | 2006-05-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Organic transistor and manufacturing method thereof |
| US8735870B2 (en) | 2005-12-29 | 2014-05-27 | Lg Display Co., Ltd. | Organic thin film transistor and method for manufacturing the same |
| US9224965B2 (en) | 2005-12-29 | 2015-12-29 | Lg Display Co., Ltd. | Organic thin film transistor and method for manufacturing the same |
| JP2012025010A (ja) * | 2010-07-22 | 2012-02-09 | Hitachi Chem Co Ltd | 調光フィルム |
| US10520771B2 (en) | 2016-12-05 | 2019-12-31 | Seiko Epson Corporation | Liquid crystal device, electronic apparatus, method for manufacturing liquid crystal device, mother substrate for liquid cystal device, and method for manufacturing mother substrate for liquid crystal device |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101201304B1 (ko) | 액정표시장치 및 그의 제조방법 | |
| KR100792982B1 (ko) | 전기광학소자의 제조방법 | |
| US8623162B2 (en) | Fabricating method of flexible display | |
| CN100428010C (zh) | 柔性显示器的制造方法 | |
| KR20090017014A (ko) | 가요성 표시 장치의 제조 방법 | |
| TW201245809A (en) | Method of fabricating lightweight and thin liquid crystal display device | |
| JP2002148597A (ja) | 液晶表示素子用基板とそれを用いた液晶表示素子とその製造方法 | |
| JP3177347B2 (ja) | 液晶表示素子の製造方法 | |
| KR100277650B1 (ko) | 자외선 실란트를 사용한 플렉시블한 액정표시소자와 이의 제조방법 | |
| JP2001296530A (ja) | 電気光学装置およびその製造方法 | |
| JPH06250222A (ja) | 液晶表示装置 | |
| JPH01283515A (ja) | カラーフィルタを有する液晶表示装置の製造方法 | |
| JPH1138422A (ja) | 液晶表示素子およびその製造方法 | |
| JP2000193923A (ja) | 液晶表示素子の製造方法 | |
| JPS6363021A (ja) | 表示装置 | |
| JP2000206520A (ja) | 液晶表示パネルおよびその製造方法 | |
| JP2001247339A (ja) | マイクロレンズアレイの製造方法及び電気光学装置の製造方法 | |
| KR100488585B1 (ko) | 전광 기기에 사용되는 모듈레이터의 제조방법 | |
| JPH08278519A (ja) | 液晶表示装置の製造方法 | |
| KR100685912B1 (ko) | 액정 패널의 제조방법 | |
| JP2002162612A (ja) | 液晶装置用異物除去方法 | |
| JP5071323B2 (ja) | 液晶表示パネルおよび液晶表示パネルの製造方法 | |
| JPH0460513A (ja) | 液晶表示素子の製造方法 | |
| JP3832950B2 (ja) | プラスチック液晶表示素子の製造方法 | |
| JP2008040390A (ja) | 表示装置の製造方法及び表示装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20061109 |