JP3485525B2 - 半導体装置の製造方法 - Google Patents

半導体装置の製造方法

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体装置の製造方
法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】一般に、広く採用されている半導体装置
を構成する半導体素子が複数個形成されたウエハを個別
の半導体素子に分割するまでの製造工程の断面図を図7
に示す。
【0003】図7の(a)において、半導体素子を複数
個形成したウエハ1を準備する。ウエハ1の材質は一般
にシリコンが採用されている。
【0004】(b)に示すように、ウエハ1の裏面を所
望の厚さに削るために、バックグラインド用保護テープ
2をウエハ1の表面(半導体素子面)に貼り付ける。
【0005】バックグラインド用保護テープ2は、テー
プ基材21と接着剤22によって構成されており、テー
プ基材21はウエハ1を搬送する方式等を考慮して、ウ
エハ1がたわまないような材質、厚さを選択する。接着
剤22には、粘着性樹脂、UV(紫外線)硬化樹脂等が
使用される。
【0006】(c)に示すように、図示してない切削装
置(バックグラインダー)で所望の厚さに切削(バック
グラインド処理)し、(d)に示すようにバックグライ
ンド用保護テープ2を剥す。バックグラインド用保護テ
ープこの接着剤22が粘着性樹脂の場合は機械的に、U
V硬化樹脂の場合はUVを前記テープ2に照射して接着
性を低下させた後に剥す。その後、洗浄する場合もあ
る。
【0007】次に(e)において、ウエハ1は所望の電
気特性が得られているかプロービング針7等により選別
(プロービングされ、良品・不良品をインクマーキン
グ、又はマッピングする等して区別する。
【0008】その後、ウエハ1上に形成された複数個の
半導体素子を個別に分割(ダイシング)するために、
(f)に示すように切削されたウエハ1の裏面にダイシ
ング用保護テープ3を貼り付ける。
【0009】ダイシング用保護テープ3は、テープ基材
31と接着剤32によって構成されている。接着剤32
にはUV硬化樹脂が広く使用されている。
【0010】(g)では、ウエハ1の全厚とダイシング
用保護テープ3の厚さの半分程度の切り代4を図示して
ないダイシング装置で入れ、個別の半導体素子のサイズ
に分割する。
【0011】そして、ダイシング用保護テープ3全面に
UVを照射し、ダイシング用保護テープ3の接着性を低
下させた後、(h)に示すようにダイスボンド装置のピ
ックアップツール5でピックアップして個別の半導体素
子11とダイシング用保護テープ3を分離する。
【0012】その後、ダイスボンド工程に入り、最終形
態となるパッケージ形状ごとに設定されている組立工程
が実施され、パッケージングが完了する。ダイスボンド
以降の工程は周知なので説明を省略する。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
製造方法による半導体装置では、以下に示す問題があっ
た。
【0014】背景:ウエハがこれまでの6インチ(約1
50mm)ウエハや8インチ(約200mm)ウエハか
ら12インチ(約300mm)ウエハへと大口径化して
きており、もともとのウエハ厚が厚くなってきている
(6インチウエハでは約625μm、8インチウエハで
は約725μm)。
【0015】しかし、搭載するパッケージからウエハ厚
(チップ厚)が設定されているため、ウエハ厚を変えな
い場合、切削する量が増加し、ウエハの機械的な強度が
低下する。
【0016】さらに、近年、パッケージのさらなる薄型
化要求が強まっており、これに対応するため、ウエハ厚
を薄くする必要が生じている。例えば、ICカード等の
薄型パッケージへの搭載は150μmレベルのウエハ厚
が必要である。
【0017】問題点:上述の背景において、ウエハの厚
さを薄型化(特に150μmレベル)した場合、 (1)バックグラインド処理した後、バックグラインド
用保護テープを剥す際に、ウエハが割れることがあり、
不良を発生させ、結果的にコストアップになっていた。
【0018】(2)バックグラインド用保護テープを剥
した後、プロービングする際に、プロービング針の圧力
が加わることにより、ウエハが割れることがあり、不良
を発生させ、結果的にコストアップになっていた。
【0019】(3)プロービング後、ダイシング用保護
テープを貼り付ける際に、ウエハが割れることがあり、
不良を発生させ、結果的にコストアップになっていた。
【0020】(4)上記全ての工程の搬送に際して、ウ
エハがたわむ等により、ウエハが割れることがあり、不
良を発生させ、結果的にコストアップになっていた。
【0021】(5)この対策として、ウエハ厚(チップ
厚)を厚くしていたため、薄型パッケージへの採用が困
難になったり、他の材料(特にチップをカバーするパッ
ケージ材料)を薄くする等して対応するため、耐湿性、
耐はんだ付け性等の品質を低下させていた。
【0022】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明は、ウエハの表面にバックグラインド用保護
テープを貼り付けてバックグラインド処理をした後、バ
ックグラインド用保護テープを貼り付けた状態でバック
グラインド処理したウエハの裏面にダイスボンド用テー
プ状接着剤を貼り付け、ダイシング工程等を経て前記ダ
イスボンド用テープ状接着剤を利用してダイスボンドす
るようにしたものである。また、本発明は、プロービン
グが完了したウエハの表面にバックグラインド用保護テ
ープを貼り付けてバックグラインド処理をした後、バッ
クグラインド用保護テープを貼り付けた状態でダイシン
グし、又はバックグラインド用保護テープを剥した後に
ダイシングするようにしたものである。
【0023】
【発明の実施の形態】図1は本発明の第1の実施形態を
示す断面図で、ウエハを個別の半導体素子に分割するま
での製造工程を示している。
【0024】(a)において、半導体素子を複数個形成
したウエハ1を準備する。
【0025】(b)に示すように、ウエハ1の裏面を所
望の厚さに削るためにバックグラインド用保護テープ2
をウエハ1の表面(半導体素子面)に貼り付ける。この
とき使用するバックグラインド用保護テープ2はテープ
基材21と接着剤22によって構成されており、ウエハ
を搬送する方式等を考慮して、テープ基材21はウエハ
がたわまないような材質、厚さを選択する。接着剤22
には、粘着性樹脂、UV硬化樹脂、熱可塑性樹脂が使用
される。
【0026】(c)に示すように、図示してない切削装
置で所定の厚さに切削(バックグラインド処理)する。
【0027】(d)に示すように、バックグラインド用
保護テープ2を貼ったまま、バックグラインド処理が完
了したウエハ1の裏面にダイスボンド用テープ状接着剤
6を貼り付ける。ダイスボンド用テープ状接着剤6には
熱可塑性樹脂等が使用される。
【0028】その後、(e)に示すようにバックグライ
ンド用保護テープ2を剥す。バックグラインド用保護テ
ープ2の接着剤22が粘着性樹脂の場合は機械的に、U
V硬化樹脂の場合はUVをバックグラインド用保護テー
プ2に照射して、熱可塑性樹脂の場合は加熱して接着性
を低下させた後に剥す。その後、洗浄する場合もある。
【0029】次に(f)において、ウエハ1は所望の電
気特性が得られているかプロービング針7等により選別
(プロービング)され、良品・不良品をインクマーキン
グ、又はマッピングする等して区別する。
【0030】(g)に示すように、ウエハ1上に形成さ
れた複数個の半導体素子を個別に分割(ダイシング)す
るために、切削されたウエハ1の裏面にダイシング用保
護テープ3を貼り付ける。ダイシング用保護テープ3
は、テープ基材31と接着剤32によって構成されてお
り、接着剤32には広く使用されているUV硬化樹脂を
使用する。
【0031】(h)では、ウエハ1及びダイスボンド用
テープ状接着剤6の全厚とダイシング用保護テープ3の
厚さの半分程度の切り代4を図示してないダイシング装
置で入れ、ダイシング用保護テープ3の基材31の一部
を残して個別の半導体素子のサイズに分割する。
【0032】そして、ダイシング用保護テープ3全面に
UVを照射し、ダイシング用保護テープ3の接着性を低
下させた後、(i)に示すように、ダイスボンド装置の
ピックアップツール5でピックアップし、ダイシング用
保護テープ3からダイスボンド用テープ状接着剤6が貼
り付いた状態の個別の半導体素子11に分離する。
【0033】その後、図示してないが、ダイスボンド工
程に入り、熱が加えられ、ダイスボンド用テープ状接着
剤6の粘着力で半導体素子11がダイスボンドされる。
【0034】以後、最終形態となるパッケージ形状ごと
に設定されている周知の組立工程が実施され、パッケー
ジングが完了する。
【0035】以上のように、第1の実施形態によれば、
下記の効果がある。
【0036】(1)ウエハを所望の厚さにバックグライ
ンド処理した後、バックグラインド用保護テープを剥す
際に、ダイスボンド用テープ状接着剤が貼り付けられて
いるため、ダイスボンド用テープ状接着剤がウエハを補
強することとなり、ウエハの厚さを薄型化(特に150
μmレベル、以下同じ)した場合でもウエハが割れるこ
とを抑制可能と、不良を発生させず、結果的にコスト
ダウンすることが可能となった。
【0037】(2)プロービングを実施する際に、ダイ
スボンド用テープ状接着剤が貼り付けられているため、
ダイスボンド用テープ状接着剤がウエハを補強すること
となり、ウエハの厚さを薄型化した場合でもウエハが割
れることを抑制可能と、不良を発生させず、結果的に
コストダウンすることが可能となった。
【0038】(3)上記全ての工程の搬送に際して、ダ
イスボンド用テープ状接着剤が貼り付けられているた
め、ダイスボンド用テープ状接着剤がウエハを補強する
こととなり、ウエハの厚さを薄型化した場合でもウエハ
が割れることを抑制可能と、不良を発生させず、結果
的にコストダウンすることが可能となった。
【0039】(4)ウエハの厚さを薄型化することが可
能となるため、ウエハ厚(チップ厚)を厚くする必要が
なくなって薄型パッケージへの採用が可能になり、他の
材料(特にチップをカバーするパッケージ材料)を薄く
する等の必要もなくなるため、耐湿性、耐はんだ付け性
等の品質を低下させることがなくなった。
【0040】(5)ダイスボンド用テープ状接着剤が貼
り付けられているため、ダイスボンドする際に接着剤を
塗布せずにダイスボンドが実施できるようになった。
【0041】図2は本発明の第2の実施形態を示す断面
図で、ウエハを個別の半導体素子に分割するまでの製造
工程を示している。
【0042】(a)において、半導体素子を複数個形成
し、プロービングが完了したウエハ10を準備する。こ
の場合は、半導体素子を複数個形成したウエハを準備
し、その後、プロービングすることや、また、半導体素
子を複数個形成したウエハを準備する工程のいずれかの
段階でプロービングを完了させることを意味している。
【0043】従って、ウエハ10は所望の電気特性を得
られているかプロービングされ、良品・不良品をインク
マーキング、又はマッピングする等して区別されてい
る。
【0044】(b)に示すように、ウエハ10の裏面を
所望の厚さに削るためにバックグラインド用保護テープ
2をウエハ10の表面に貼り付ける。このとき使用する
バックグラインド用保護テープ2はテープ基材21と接
着剤22によって構成されている。
【0045】(c)に示すように、図示してない切削装
置で所定の厚さに切削する。
【0046】(d)に示すように、バックグラインド用
保護テープ2を貼ったまま、ウエハ10上に形成された
複数個の半導体素子を個別に分割するために、切削され
たウエハ10の裏面にダイシング用保護テープ3を貼り
付ける。ダイシング用保護テープ3は、テープ基材31
と接着剤32によって構成されており、接着剤32には
広く使用されているUV硬化樹脂を使用する。
【0047】(e)では、ウエハ10の全厚とダイシン
グ用保護テープ3の厚さの半分程度の切り代4を図示し
てないダイシング装置で入れ、個別の半導体素子のサイ
ズに分割する。従って、バックグラインド用保護テープ
2は個別チップに分割するために設けられているスクラ
イブラインが見える程度の透明度を有する必要がある。
【0048】そして(f)において、剥し用ツール等を
使用してチップ1個ずつに付いているバックグラインド
用保護テープ2を剥す。
【0049】次にダイシング用保護テープ3全面にUV
を照射し、ダイシング用保護テープ3の接着性を低下さ
せた後、(g)に示すように、ダイスボンド装置のピッ
クアップツール5でピックアップして、個別の半導体素
子11とダイシング用保護テープ3を分離する。
【0050】その後、ダイスボンド工程に入り、最終形
態となるパッケージ形状ごとに設定されている組立工程
が実施され、パッケージが完了する。ダイスボンド以降
の工程は省略する。
【0051】以上のように、第2の実施形態によれば、
下記の効果がある。
【0052】(1)バックグラインド工程に入る前段階
で、プロービングを完了させるため、ウエハが厚いまま
であり、プロービング針の圧力が加わることによるウエ
ハが割れることを抑制可能と、不良を発生させず、結
果的にコストダウンすることが可能となった。
【0053】(2)ウエハを所望の厚さにバックグライ
ンド処理した後、バックグラインド用保護テープを剥す
際に、ダイシング用保護テープが貼り付けられているた
め、ダイシング用保護テープがウエハを補強することと
なり、ウエハの厚さを薄型化した場合でもウエハが割れ
ることを抑制可能と、不良を発生させず、結果的にコ
ストダウンすることが可能となった。
【0054】(3)上記全ての工程の搬送に際して、バ
ックグラインド用保護テープ及びダイシング用保護テー
プが貼り付けられているため、ウエハを補強することと
なり、ウエハの厚さを薄型化した場合でもウエハが割れ
ることを抑制可能と、不良を発生させず、結果的にコ
ストダウンすることが可能となった。
【0055】(4)ウエハの厚さを薄型化することが可
能となるため、ウエハ厚(チップ厚)を厚くする必要が
なくなって薄型パッケージへの採用が可能になり、他の
材料(特にチップをカバーするパッケージ材料)を薄く
する等の必要もなくなるため、耐湿性、耐はんだ付け性
等の品質を低下させることがなくなった。
【0056】図3は本発明の第3の実施形態を示す断面
図で、ウエハを個別の半導体素子に分割するまでの製造
工程を示している。
【0057】(a)から(d)までの工程は第2の実施
形態と同じなので説明を省略する。
【0058】(e)において、バックグラインド用保護
テープ2を剥す。
【0059】次に(f)に示すように、ウエハ10の全
厚とダイシング用保護テープ3の厚さの半分程度の切り
代4を図示してないダイシング装置で入れ、個別の半導
体素子のサイズに分割する。
【0060】そして、ダイシング用保護テープ3全面に
UVを照射し、ダイシング用保護テープ3の接着性を低
下させた後、(g)に示すようにダイスボンド装置のピ
ックアップツール5でピックアップし、ダイシングテー
プ3から個別の半導体素子11に分離する。
【0061】その後、ダイスボンド工程に入り、最終形
態となるパッケージ形状ごとに設定されている組立工程
が実施され、パッケージングが完了する。ダイスボンド
以降の工程は省略する。
【0062】以上のように、第3の実施形態によれば第
2の実施形態と同等の効果を奏する。
【0063】図4は本発明の第4の実施形態を示す断面
図で、ウエハを個別の半導体素子に分割するまでの製造
工程を示している。
【0064】(a)から(c)までの工程は第2の実施
形態と同じなので説明を省略する。
【0065】(d)において、ウエハ10の表面にバッ
クグラインド用保護テープ2を貼ったまま、バックグラ
インド処理が完了したウエハ10の裏面にダイスボンド
用テープ状接着剤6を貼り付ける。ダイスボンド用テー
プ状接着剤6には熱可塑性樹脂等が使用される。
【0066】その後、(e)に示すようにバックグライ
ンド用保護テープ2を剥す。
【0067】(f)に示すようにウエハ10上に形成さ
れた複数個の半導体素子を個別に分割するために、切削
されたウエハ10の裏面にダイシング用保護テープ3を
貼り付ける。
【0068】次に(g)に示すようにウエハ10及びダ
イスボンド用テープ状接着剤6の全厚とダイシング用保
護テープ3の厚さの半分程度の切り代4を図示してない
ダイシング装置で入れ、個別の半導体素子のサイズに分
割する。
【0069】そして、ダイシング用保護テープ3全面に
UVを照射し、ダイシング用保護テープ3の接着性を低
下させた後、(h)に示すように、ダイスボンド装置の
ピックアップツール5で個別にチップをピックアップし
て、ダイスボンド用テープ状接着剤6が貼り付いた半導
体素子11とダイシング用保護テープ3を分離する。
【0070】その後、図示してないが、ダイスボンド工
程に入り、熱が加えられ、ダイスボンド用テープ状接着
剤6の粘着力で半導体素子11がダイスボンドされる。
【0071】以後、最終形態となるパッケージ形状ごと
に設定されている周知の組立工程が実施され、パッケー
ジングが完了する。
【0072】以上のように、第4の実施形態によれば、
下記の効果がある。
【0073】(1)バックグラインド工程に入る前段階
で、プロービングを完了させるため、ウエハが厚いまま
であり、プロービング針の圧力が加わることによるウエ
ハが割れることを抑制可能と、不良を発生させず、結
果的にコストダウンすることが可能となった。
【0074】(2)ウエハを所望の厚さにバックグライ
ンド処理した後、バックグラインド用保護テープを剥す
際に、ダイスボンド用テープ状接着剤が貼り付けられて
いるため、ダイスボンド用テープ状接着剤がウエハを補
強することとなり、ウエハの厚さを薄型化した場合でも
ウエハが割れることを抑制可能と、不良を発生させ
ず、結果的にコストダウンすることが可能となった。
【0075】(3)上記全ての工程の搬送に際して、ダ
イスボンド用テープ状接着剤が貼り付けられているた
め、ダイスボンド用テープ状接着剤がウエハを補強する
こととなり、ウエハの厚さを薄型化した場合でもウエハ
が割れることを抑制可能と、不良を発生させず、結果
的にコストダウンすることが可能となった。
【0076】(4)ウエハの厚さを薄型化することが可
能となるため、ウエハ厚(チップ厚)を厚くする必要が
なくなって薄型パッケージへの採用が可能になり、他
材料(特にチップをカバーするパッケージ材料)を薄く
する等の必要もなくなるため、耐湿性、耐はんだ付け性
等の品質を低下させることがなくなった。
【0077】(5)ダイスボンド用テープ状接着剤が貼
り付けられているため、ダイスボンドする際に接着剤を
塗布せずにダイスボンドが実施できるようになった。
【0078】図5は本発明の第5の実施形態を示す断面
図で、ウエハを個別の半導体素子に分割するまでの製造
工程を示している。
【0079】(a)から(d)までの工程は第4の実施
形態と同じなので説明を省略する。
【0080】(e)において、ウエハ10上に形成され
た複数個の半導体素子を個別に分割するために、切削さ
れ、ダイスボンド用テープ状接着剤6が貼り付けられた
ウエハ10の裏面にダイシング用保護テープ3を貼り付
ける。
【0081】そして、(f)に示すようにバックグライ
ンド用保護テープ2を剥す。
【0082】次に(g)に示すようにウエハ10及びダ
イスボンド用テープ状接着剤6の全厚とダイシング用保
護テープ3の厚さの半分程度の切り代4を図示してない
ダイシング装置で入れ、個別の半導体素子のサイズに分
割する。
【0083】そして、ダイシング用保護テープ3の全面
にUVを照射し、ダイシング用保護テープ3の接着性を
低下させた後、(h)に示すように、ダイスボンド装置
のピックアップツール5でピックアップして、ダイスボ
ンド用テープ状接着剤6が貼り付いた半導体素子11と
ダイシング用保護テープ3を分離する。
【0084】その後、図示してないが、ダイスボンド工
程に入り、熱が加えられ、ダイスボンド用テープ状接着
剤6の粘着力で半導体素子11がダイスボンドされる。
【0085】以後最終形態となるパッケージ形状ごとに
設定されている周知の組立工程が実施され、パッケージ
ングが完了する。
【0086】以上のように、第5の実施形態によれば、
第4の実施形態と同等の効果を奏する。
【0087】図6は本発明の第6の実施形態を示す断面
図で、ウエハを個別の半導体素子に分割するまでの製造
工程を示している。
【0088】(a)から(e)までの工程は第5の実施
形態と同じなので説明を省略する。
【0089】(f)において、バックグラインド用保護
テープ2、ウエハ10及びダイスボンド用テープ状接着
剤6の全厚とダイシング用保護テープ3の厚さの半分程
度の切り代4を図示してないダイシング装置で個別の半
導体素子のサイズに分離する。従って、バックグライン
ド用保護テープ2は個別チップに分割するために設けら
れているスクライブラインが見える程度の透明度を有す
る必要がある。
【0090】そして、ダイシング用保護テープ3の全面
にUVを照射し、ダイシング用保護テープ3の接着性を
低下させた後、(g)に示すように、ダイスボンド装置
のピックアップツール5でピックアップして、バックグ
ラインド用保護テープ2とダイスボンド用テープ状接着
剤6が貼り付た半導体素子11とダイシング用保護テ
ープ3を分離する。
【0091】その後、ピックアップツール5でピックア
ップしたまま又は同様の形状のダイスボンドツールを使
用して、図示してないが周知のダイスボンド工程に入
り、熱が加えられ、ダイスボンド用テープ状接着剤6の
粘着力で半導体素子11がダイスボンドされる。
【0092】そして、(h)に示すように、ピックアッ
プツールのような形状の剥し用ツール等を使用して半導
体素子11に付いているバックグラインド用保護テープ
2を剥す。この際バックグラインド用保護テープ2の接
着剤22が粘着性樹脂の場合は剥し用ツールに付いた粘
着テープ等により機械的に剥し、UV硬化樹脂の場合は
UV照射後、剥し用ツールに付けた粘着テープ等により
剥し、熱可塑性樹脂の場合は剥し用ツールで加熱して剥
す。
【0093】以後、最終形態となるパッケージ形状ごと
に設定されている周知の組立工程が実施され、パッケー
ジングが完了する。
【0094】以上のように、第6の実施形態によれば、
下記の効果がある。
【0095】(1)バックグラインド工程に入る前段階
で、プロービングを完了させるため、ウエハが厚いまま
であり、プロービング針の圧力が加わることによるウエ
ハが割れることを抑制可能と、不良を発生させず、結
果的にコストダウンすることが可能となった。
【0096】(2)上記全ての工程の搬送に際して、個
別の半導体素子に分割する前にバックグラインド用保護
テープ、ダイスボンド用テープ状接着剤、ダイシング用
保護テープが貼り付けられているため、これらの材料が
ウエハを補強することとなり、ウエハの厚さを薄型化し
た場合でも、ウエハが割れることを抑制可能と、不良
を発生させず、結果的にコストダウンすることが可能と
なった。
【0097】(3)ウエハの厚さを薄型化することが可
能となるため、ウエハ厚(チップ厚)を厚くする必要が
なくなって薄型パッケージへの採用が可能になり、他
材料(特にチップをカバーするパッケージ材料)を薄く
する等の必要もなくなるため、耐湿性、耐はんだ付け
の品質を低下させることがなくなった。
【0098】(4)ダイスボンド用テープ状接着剤が貼
り付けられているため、ダイスボンドする際に接着剤を
塗布せずにダイスボンドが実施できるようになった。
【0099】(5)ダイスボンドする際にバックグライ
ンド用保護テープが半導体素子上に存在するため、傷等
を保護する役割を果たし、結果的に品質を向上させた。
【0100】
【発明の効果】上記したように、本発明によれば、ウ
ハが割れるのを防止してコストダウンをはかることがで
き、品質の低下をなくし、ウエハの薄型化を実現して薄
型パッケージの採用を可能とし、さらにダイスボンド時
の接着剤の塗布をなくすことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施形態を示す断面図。
【図2】本発明の第2の実施形態を示す断面図。
【図3】本発明の第3の実施形態を示す断面図。
【図4】本発明の第4の実施形態を示す断面図。
【図5】本発明の第5の実施形態を示す断面図。
【図6】本発明の第6の実施形態を示す断面図。
【図7】従来の製造方法を示す断面図。
【符号の説明】
1,10 ウエハ 2 バックグラインド用保護テープ 21 基材 22 接着剤 3 ダイシング用保護テープ 31 基材 32 接着剤 4 切り代 6 ダイスボンド用テープ状接着剤 11 半導体素子
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/52 H01L 21/301 H01L 21/304 631

Claims (5)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体素子を複数個形成したウエハを準
    備する工程と、 前記ウエハの表面にバックグラインド用保護テープを貼
    り付ける工程と、 前記バックグラインド用保護テープを貼り付けた前記ウ
    エハの裏面をバックグラインド処理する工程と、 バックグラインド処理した前記ウエハの裏面にダイスボ
    ンド用テープ状接着剤を貼り付ける工程と、 その後、前記バックグラインド用保護テープを剥す工程
    と、 前記ダイスボンド用テープ状接着剤を貼り付けた状態の
    前記ウエハをプロ−ビングする工程と、 前記ダイスボンド用テープ状接着剤にダイシング用保護
    テープを貼り付ける工程と、 前記ウエハ、ダイスボンド用テープ状接着剤及びダイシ
    ング用保護テープの一部を個別の半導体素子のサイズに
    ダイシングする工程と、 前記ダイシング用保護テープから、前記ダイスボンド用
    テープ状接着剤が貼り付いた前記個別の半導体素子を分
    離する工程と、 分離した前記半導体素子を前記ダイスボンド用テープ状
    接着剤を利用してダイスボンドする工程とを備えたこと
    を特徴とする半導体装置の製造方法。
  2. 【請求項2】 前記ダイスボンド用テープ状接着剤が熱
    可塑性樹脂であることを特徴とする請求項1記載の半導
    体装置の製造方法。
  3. 【請求項3】 前記バックグラインド用保護テープが粘
    着性樹脂であることを特徴とする請求項1または請求項
    2記載の半導体装置の製造方法。
  4. 【請求項4】 前記バックグラインド用保護テープがU
    V硬化樹脂であることを特徴とする請求項1または請求
    項2記載の半導体装置の製造方法。
  5. 【請求項5】 前記バックグラインド用保護テープが熱
    可塑性樹脂であることを特徴とする請求項1または請求
    項2記載の半導体装置の製造方法。
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Families Citing this family (45)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000258495A (ja) * 1999-03-12 2000-09-22 Oki Electric Ind Co Ltd 半導体デバイス試験装置
JP4239352B2 (ja) * 2000-03-28 2009-03-18 株式会社日立製作所 電子装置の製造方法
JP2003124147A (ja) * 2001-10-15 2003-04-25 Fujitsu Ltd 半導体装置の製造方法
JP3553551B2 (ja) 2002-01-11 2004-08-11 沖電気工業株式会社 半導体ウェハを用いた半導体装置の製造方法
JP4312419B2 (ja) * 2002-05-09 2009-08-12 リンテック株式会社 半導体ウエハの加工方法
JP4565804B2 (ja) 2002-06-03 2010-10-20 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 被研削基材を含む積層体、その製造方法並びに積層体を用いた極薄基材の製造方法及びそのための装置
US7534498B2 (en) * 2002-06-03 2009-05-19 3M Innovative Properties Company Laminate body, method, and apparatus for manufacturing ultrathin substrate using the laminate body
JP2004063799A (ja) * 2002-07-29 2004-02-26 Sony Corp 半導体装置の製造方法
US6780733B2 (en) * 2002-09-06 2004-08-24 Motorola, Inc. Thinned semiconductor wafer and die and corresponding method
JP4471563B2 (ja) 2002-10-25 2010-06-02 株式会社ルネサステクノロジ 半導体装置の製造方法
KR100486290B1 (ko) * 2002-12-23 2005-04-29 삼성전자주식회사 반도체 패키지 조립방법 및 반도체 패키지 공정의보호테이프 제거장치
US20050064683A1 (en) * 2003-09-19 2005-03-24 Farnworth Warren M. Method and apparatus for supporting wafers for die singulation and subsequent handling
US20050064679A1 (en) * 2003-09-19 2005-03-24 Farnworth Warren M. Consolidatable composite materials, articles of manufacture formed therefrom, and fabrication methods
US7713841B2 (en) * 2003-09-19 2010-05-11 Micron Technology, Inc. Methods for thinning semiconductor substrates that employ support structures formed on the substrates
US7041579B2 (en) * 2003-10-22 2006-05-09 Northrop Grumman Corporation Hard substrate wafer sawing process
JP2005150235A (ja) * 2003-11-12 2005-06-09 Three M Innovative Properties Co 半導体表面保護シート及び方法
JP4405246B2 (ja) * 2003-11-27 2010-01-27 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 半導体チップの製造方法
KR100555559B1 (ko) * 2004-03-03 2006-03-03 삼성전자주식회사 백 그라인딩 공정용 표면 보호 테이프를 이용하여 다이싱공정을 수행하는 반도체 장치의 제조 방법
US7190058B2 (en) * 2004-04-01 2007-03-13 Chippac, Inc. Spacer die structure and method for attaching
US7244665B2 (en) 2004-04-29 2007-07-17 Micron Technology, Inc. Wafer edge ring structures and methods of formation
US7547978B2 (en) * 2004-06-14 2009-06-16 Micron Technology, Inc. Underfill and encapsulation of semiconductor assemblies with materials having differing properties
JP4614700B2 (ja) * 2004-07-08 2011-01-19 日東電工株式会社 ウェハのダイシング方法、半導体装置及びその製造方法、回路基板並びに電子機器
US7235431B2 (en) 2004-09-02 2007-06-26 Micron Technology, Inc. Methods for packaging a plurality of semiconductor dice using a flowable dielectric material
JP4694845B2 (ja) * 2005-01-05 2011-06-08 株式会社ディスコ ウエーハの分割方法
JP2007196156A (ja) * 2006-01-27 2007-08-09 Calsonic Kansei Corp メタル担体及びメタル担体の製造方法
JP4540642B2 (ja) * 2006-07-05 2010-09-08 積水化学工業株式会社 半導体の製造方法
US20080014532A1 (en) * 2006-07-14 2008-01-17 3M Innovative Properties Company Laminate body, and method for manufacturing thin substrate using the laminate body
JP5054949B2 (ja) 2006-09-06 2012-10-24 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置の製造方法
US7371664B2 (en) * 2006-09-27 2008-05-13 Grace Semiconductor Manufacturing Corporation Process for wafer thinning
CN101244613B (zh) * 2007-02-16 2012-02-22 探微科技股份有限公司 保护晶片正面结构及进行晶片切割的方法
JP2008263070A (ja) * 2007-04-12 2008-10-30 Disco Abrasive Syst Ltd デバイスの製造方法
US20090017323A1 (en) * 2007-07-13 2009-01-15 3M Innovative Properties Company Layered body and method for manufacturing thin substrate using the layered body
US20090017248A1 (en) * 2007-07-13 2009-01-15 3M Innovative Properties Company Layered body and method for manufacturing thin substrate using the layered body
US7923298B2 (en) 2007-09-07 2011-04-12 Micron Technology, Inc. Imager die package and methods of packaging an imager die on a temporary carrier
CN101821834A (zh) * 2007-10-09 2010-09-01 日立化成工业株式会社 带粘接膜半导体芯片的制造方法及用于该制造方法的半导体用粘接膜、以及半导体装置的制造方法
JP2010062269A (ja) * 2008-09-02 2010-03-18 Three M Innovative Properties Co ウェーハ積層体の製造方法、ウェーハ積層体製造装置、ウェーハ積層体、支持層剥離方法、及びウェーハの製造方法
JP5522773B2 (ja) * 2008-12-09 2014-06-18 リンテック株式会社 半導体ウエハの保持方法、チップ体の製造方法、およびスペーサ
JP2009111431A (ja) * 2009-02-16 2009-05-21 Nitto Denko Corp ウェハのダイシング方法、半導体装置及びその製造方法、回路基板並びに電子機器
US20100279109A1 (en) * 2009-04-30 2010-11-04 Nitto Denko Corporation Laminated film and process for producing semiconductor device
JP2010260893A (ja) * 2009-04-30 2010-11-18 Nitto Denko Corp 積層フィルム及び半導体装置の製造方法
JP5572353B2 (ja) * 2009-09-29 2014-08-13 日東電工株式会社 保護テープ剥離方法およびその装置
US8507322B2 (en) * 2010-06-24 2013-08-13 Akihiro Chida Semiconductor substrate and method for manufacturing semiconductor device
US8703581B2 (en) * 2011-06-15 2014-04-22 Applied Materials, Inc. Water soluble mask for substrate dicing by laser and plasma etch
US8709877B2 (en) 2012-06-13 2014-04-29 Stats Chippac Ltd. Integrated circuit packaging system with an encapsulation and method of manufacture thereof
CN114628261B (zh) * 2020-12-10 2024-11-15 武汉新芯集成电路股份有限公司 半导体器件的制作方法

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5219765A (en) * 1990-09-12 1993-06-15 Hitachi, Ltd. Method for manufacturing a semiconductor device including wafer aging, probe inspection, and feeding back the results of the inspection to the device fabrication process
TW311927B (ja) * 1995-07-11 1997-08-01 Minnesota Mining & Mfg
JP3496347B2 (ja) * 1995-07-13 2004-02-09 株式会社デンソー 半導体装置及びその製造方法
JPH10337823A (ja) * 1997-04-11 1998-12-22 Lintec Corp 基材および該基材を用いた粘着テープ
JPH11204551A (ja) 1998-01-19 1999-07-30 Sony Corp 半導体装置の製造方法
US6177722B1 (en) * 1998-04-21 2001-01-23 Atmel Corporation Leadless array package
JP4343286B2 (ja) * 1998-07-10 2009-10-14 シチズンホールディングス株式会社 半導体装置の製造方法
JP3556503B2 (ja) * 1999-01-20 2004-08-18 沖電気工業株式会社 樹脂封止型半導体装置の製造方法
US6338980B1 (en) * 1999-08-13 2002-01-15 Citizen Watch Co., Ltd. Method for manufacturing chip-scale package and manufacturing IC chip

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