JP3440722B2 - 固体撮像装置およびその駆動方法並びにカメラ - Google Patents
固体撮像装置およびその駆動方法並びにカメラInfo
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- H04N25/50—Control of the SSIS exposure
- H04N25/57—Control of the dynamic range
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- H04N25/00—Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、固体撮像装置およ
びその駆動方法、並びに撮像デバイスとして固体撮像装
置を用いたカメラに関し、特にオーバーフロードレイン
(OFD)構造を持つCCD(Charge Coupled Device)
型固体撮像素子(以下、CCD撮像素子と称する)を用
いた固体撮像装置およびその駆動方法、並びにメカニカ
ルシャッタ等の遮光手段を備えたカメラに関する。
びその駆動方法、並びに撮像デバイスとして固体撮像装
置を用いたカメラに関し、特にオーバーフロードレイン
(OFD)構造を持つCCD(Charge Coupled Device)
型固体撮像素子(以下、CCD撮像素子と称する)を用
いた固体撮像装置およびその駆動方法、並びにメカニカ
ルシャッタ等の遮光手段を備えたカメラに関する。
【0002】
【従来の技術】CCD撮像素子の読み出し方式として、
図13に示すように、各画素において1/60秒(1フ
ィールド相当期間)だけ信号電荷を蓄積し、各画素から
読み出した信号電荷を垂直CCD中において垂直方向に
て隣り合う2画素間で混合し、また混合する垂直2画素
の組み合わせを奇数フィールドおよび偶数フィールドで
変えることによってインターレース走査を実現するいわ
ゆるフィールド読み出し方式と、図14に示すように、
1/30秒の蓄積時間で奇数ラインの信号電荷と偶数ラ
インの信号電荷をフィールドごとに交互に読み出すいわ
ゆるフレーム読み出し方式と、図15に示すように、各
画素の信号電荷を垂直CCD中で混合せずに同一時刻に
独立に読み出すいわゆる全画素読み出し方式とがある。
図13に示すように、各画素において1/60秒(1フ
ィールド相当期間)だけ信号電荷を蓄積し、各画素から
読み出した信号電荷を垂直CCD中において垂直方向に
て隣り合う2画素間で混合し、また混合する垂直2画素
の組み合わせを奇数フィールドおよび偶数フィールドで
変えることによってインターレース走査を実現するいわ
ゆるフィールド読み出し方式と、図14に示すように、
1/30秒の蓄積時間で奇数ラインの信号電荷と偶数ラ
インの信号電荷をフィールドごとに交互に読み出すいわ
ゆるフレーム読み出し方式と、図15に示すように、各
画素の信号電荷を垂直CCD中で混合せずに同一時刻に
独立に読み出すいわゆる全画素読み出し方式とがある。
【0003】これらの読み出し方式のうち、フィールド
読み出し方式は、各画素における信号電荷の蓄積時間が
1/60秒であり、蓄積時間が1/30秒のフレーム読
み出し方式と比較して半分であることから、動画像の撮
像を良好に行うことができるため、ビデオカメラ等には
適している。その反面、垂直方向において2画素間で信
号電荷を混合しているために垂直解像度が低いという欠
点がある。このため、垂直解像度も要求される電子スチ
ルカメラでは、メカニカルシャッタを使用したフレーム
読み出し方式、あるいは全画素読み出し方式が用いられ
ている。
読み出し方式は、各画素における信号電荷の蓄積時間が
1/60秒であり、蓄積時間が1/30秒のフレーム読
み出し方式と比較して半分であることから、動画像の撮
像を良好に行うことができるため、ビデオカメラ等には
適している。その反面、垂直方向において2画素間で信
号電荷を混合しているために垂直解像度が低いという欠
点がある。このため、垂直解像度も要求される電子スチ
ルカメラでは、メカニカルシャッタを使用したフレーム
読み出し方式、あるいは全画素読み出し方式が用いられ
ている。
【0004】ところで、フレーム読み出し方式では、1
枚(1フレーム)の画像を得るためには、2つのフィー
ルドの信号が必要である。これに対し、電子スチルカメ
ラのように1回の露光で1枚の画像を得る場合には、2
つのフィールド間で画像を変化させないようにする必要
があり、そのためには、露光完了後にメカニカルシャッ
タ等の遮光手段を用いて遮光する必要がある。
枚(1フレーム)の画像を得るためには、2つのフィー
ルドの信号が必要である。これに対し、電子スチルカメ
ラのように1回の露光で1枚の画像を得る場合には、2
つのフィールド間で画像を変化させないようにする必要
があり、そのためには、露光完了後にメカニカルシャッ
タ等の遮光手段を用いて遮光する必要がある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、オーバ
ーフロードレイン構造を持つCCD撮像素子において、
露光完了後に遮光した場合、蓄積されている信号電荷の
フェルミ準位とオーバーフローバリアのポテンシャル差
が時間の経過とともに増加し、ある一定値になるまでオ
ーバーフローバリアを越えて信号電荷の一部がオーバー
フロードレインへ放出される。
ーフロードレイン構造を持つCCD撮像素子において、
露光完了後に遮光した場合、蓄積されている信号電荷の
フェルミ準位とオーバーフローバリアのポテンシャル差
が時間の経過とともに増加し、ある一定値になるまでオ
ーバーフローバリアを越えて信号電荷の一部がオーバー
フロードレインへ放出される。
【0006】このため、メカニカルシャッタを閉じてか
ら信号電荷を読み出すまでの間に、時間の経過とともに
飽和信号電荷量Qsが減少し、また第2フィールドで
は、メカニカルシャッタを閉じてから信号電荷を読み出
すまでの期間が第1フィールドの場合よりも1フィール
ド相当期間だけさらに長いので、飽和信号電荷量Qsが
さらに減少し、第1フィールドと第2フィールドの飽和
信号電荷量Qsに段差が生じることになる。これらの飽
和信号電荷量Qsの減少は、S/Nやダイナミックレン
ジ等の特性を悪化させるので好ましくない。
ら信号電荷を読み出すまでの間に、時間の経過とともに
飽和信号電荷量Qsが減少し、また第2フィールドで
は、メカニカルシャッタを閉じてから信号電荷を読み出
すまでの期間が第1フィールドの場合よりも1フィール
ド相当期間だけさらに長いので、飽和信号電荷量Qsが
さらに減少し、第1フィールドと第2フィールドの飽和
信号電荷量Qsに段差が生じることになる。これらの飽
和信号電荷量Qsの減少は、S/Nやダイナミックレン
ジ等の特性を悪化させるので好ましくない。
【0007】本発明は、上記課題に鑑みてなされたもの
であり、その目的とするところは、露光完了から信号電
荷の読み出しまでの期間に生ずる飽和信号電荷量の減少
によるS/Nやダイナミックレンジ等の特性の悪化を防
止した固体撮像装置およびその駆動方法並びにカメラを
提供することにある。
であり、その目的とするところは、露光完了から信号電
荷の読み出しまでの期間に生ずる飽和信号電荷量の減少
によるS/Nやダイナミックレンジ等の特性の悪化を防
止した固体撮像装置およびその駆動方法並びにカメラを
提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明による固体撮像装
置は、オーバーフロードレイン構造を持つ行列状に配列
された複数のセンサ部およびこれらのセンサ部から読み
出された信号電荷を転送する電荷転送部を有する固体撮
像素子と、露光完了後に当該固体撮像素子の撮像エリア
への光の入射を遮光した状態で信号電荷を読み出す動作
モード時に少なくとも遮光状態での信号電荷の読み出し
期間において固体撮像素子のオーバーフローバリアのポ
テンシャルを浅くすべく駆動する駆動系とを備えた構成
となっている。
置は、オーバーフロードレイン構造を持つ行列状に配列
された複数のセンサ部およびこれらのセンサ部から読み
出された信号電荷を転送する電荷転送部を有する固体撮
像素子と、露光完了後に当該固体撮像素子の撮像エリア
への光の入射を遮光した状態で信号電荷を読み出す動作
モード時に少なくとも遮光状態での信号電荷の読み出し
期間において固体撮像素子のオーバーフローバリアのポ
テンシャルを浅くすべく駆動する駆動系とを備えた構成
となっている。
【0009】本発明による駆動方法は、オーバーフロー
ドレイン構造を持つ行列状に配列された複数のセンサ部
およびこれらのセンサ部から読み出された信号電荷を転
送する電荷転送部を有する固体撮像素子を備えた固体撮
像装置において、露光完了後に固体撮像素子の撮像エリ
アへの光の入射を遮光した状態で信号電荷を読み出す動
作モード時に少なくとも遮光状態での信号電荷の読み出
し期間において固体撮像素子のオーバーフローバリアの
ポテンシャルを浅くするようにする。
ドレイン構造を持つ行列状に配列された複数のセンサ部
およびこれらのセンサ部から読み出された信号電荷を転
送する電荷転送部を有する固体撮像素子を備えた固体撮
像装置において、露光完了後に固体撮像素子の撮像エリ
アへの光の入射を遮光した状態で信号電荷を読み出す動
作モード時に少なくとも遮光状態での信号電荷の読み出
し期間において固体撮像素子のオーバーフローバリアの
ポテンシャルを浅くするようにする。
【0010】本発明によるカメラは、オーバーフロード
レイン構造を持つ行列状に配列された複数のセンサ部お
よびこれらのセンサ部から読み出された信号電荷を転送
する電荷転送部を有する固体撮像素子と、この固体撮像
素子の撮像エリアに対して入射光を導く光学系と、この
光学系による前記固体撮像素子の撮像エリアへの光の入
射を遮断して露光期間を決める遮光手段と、露光完了後
に当該遮光手段によって固体撮像素子の撮像エリアへの
光の入射を遮光した状態で信号電荷を読み出す動作モー
ド時に少なくとも遮光状態での信号電荷の読み出し期間
において固体撮像素子のオーバーフローバリアのポテン
シャルを浅くすべく駆動する駆動系とを具備した構成と
なっている。
レイン構造を持つ行列状に配列された複数のセンサ部お
よびこれらのセンサ部から読み出された信号電荷を転送
する電荷転送部を有する固体撮像素子と、この固体撮像
素子の撮像エリアに対して入射光を導く光学系と、この
光学系による前記固体撮像素子の撮像エリアへの光の入
射を遮断して露光期間を決める遮光手段と、露光完了後
に当該遮光手段によって固体撮像素子の撮像エリアへの
光の入射を遮光した状態で信号電荷を読み出す動作モー
ド時に少なくとも遮光状態での信号電荷の読み出し期間
において固体撮像素子のオーバーフローバリアのポテン
シャルを浅くすべく駆動する駆動系とを具備した構成と
なっている。
【0011】上記の構成において、遮光時には、センサ
部の信号電荷の一部が時間の経過とともにオーバーフロ
ードレインへ放出される。そこで、少なくとも遮光状態
での信号電荷の読み出し期間において、この信号電荷の
減少を見込んでオーバーフローバリアのポテンシャルを
浅くする。これにより、遮光時に時間の経過とともに減
少する前の飽和信号電荷量をその減少分を見込んで増加
させることができる。その結果、所望の飽和信号電荷量
を確保できる。
部の信号電荷の一部が時間の経過とともにオーバーフロ
ードレインへ放出される。そこで、少なくとも遮光状態
での信号電荷の読み出し期間において、この信号電荷の
減少を見込んでオーバーフローバリアのポテンシャルを
浅くする。これにより、遮光時に時間の経過とともに減
少する前の飽和信号電荷量をその減少分を見込んで増加
させることができる。その結果、所望の飽和信号電荷量
を確保できる。
【0012】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、本実施形態
では、インターライン転送(IT)方式のCCD撮像素
子に適用した場合を例に採って説明するものとする。
て図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、本実施形態
では、インターライン転送(IT)方式のCCD撮像素
子に適用した場合を例に採って説明するものとする。
【0013】図1は、本発明に係る固体撮像装置の一例
を示す概略構成図である。図1において、行(垂直)方
向および列(水平)方向にマトリクス状に配列され、か
つ入射光をその光量に応じた電荷量の信号電荷に変換し
て蓄積する複数のセンサ部11と、これらセンサ部11
の垂直列ごとに設けられ、各センサ部11から読み出し
ゲート部12によって読み出された信号電荷を垂直転送
する複数本の垂直CCD13とによって撮像エリア14
が構成されている。
を示す概略構成図である。図1において、行(垂直)方
向および列(水平)方向にマトリクス状に配列され、か
つ入射光をその光量に応じた電荷量の信号電荷に変換し
て蓄積する複数のセンサ部11と、これらセンサ部11
の垂直列ごとに設けられ、各センサ部11から読み出し
ゲート部12によって読み出された信号電荷を垂直転送
する複数本の垂直CCD13とによって撮像エリア14
が構成されている。
【0014】この撮像エリア14において、センサ部1
1は例えばPN接合のフォトダイオードからなってい
る。このセンサ部11に蓄積された信号電荷は、読み出
しゲート部12に後述する読み出しパルスXSGが印加
されることにより垂直CCD13に読み出される。垂直
CCD13は、例えば4相の垂直転送クロックφV1〜
φV4によって転送駆動され、読み出された信号電荷を
水平ブランキング期間の一部にて1走査線(1ライン)
に相当する部分ずつ順に垂直方向に転送する。
1は例えばPN接合のフォトダイオードからなってい
る。このセンサ部11に蓄積された信号電荷は、読み出
しゲート部12に後述する読み出しパルスXSGが印加
されることにより垂直CCD13に読み出される。垂直
CCD13は、例えば4相の垂直転送クロックφV1〜
φV4によって転送駆動され、読み出された信号電荷を
水平ブランキング期間の一部にて1走査線(1ライン)
に相当する部分ずつ順に垂直方向に転送する。
【0015】ここで、垂直CCD13において、1相目
および3相目の転送電極は、読み出しゲート部12のゲ
ート電極を兼ねている。このことから、4相の垂直転送
クロックφV1〜φV4のうち、1相目の転送クロック
φV1と3相目の転送クロックφV3が低レベル、中間
レベルおよび高レベルの3値を採るように設定されてお
り、その3値目の高レベルのパルスが読み出しゲート部
12に与えられる読み出しパルスXSGとなる。
および3相目の転送電極は、読み出しゲート部12のゲ
ート電極を兼ねている。このことから、4相の垂直転送
クロックφV1〜φV4のうち、1相目の転送クロック
φV1と3相目の転送クロックφV3が低レベル、中間
レベルおよび高レベルの3値を採るように設定されてお
り、その3値目の高レベルのパルスが読み出しゲート部
12に与えられる読み出しパルスXSGとなる。
【0016】撮像エリア14の図面上の下側には、水平
CCD15が配されている。この水平CCD15には、
複数本の垂直CCD13から1ラインに相当する信号電
荷が順次転送される。水平CCD15は、例えば2相の
水平転送クロックφH1,φH2によって転送駆動さ
れ、複数本の垂直CCD13から移された1ライン分の
信号電荷を、水平ブランキング期間後の水平走査期間に
おいて順次水平方向に転送する。
CCD15が配されている。この水平CCD15には、
複数本の垂直CCD13から1ラインに相当する信号電
荷が順次転送される。水平CCD15は、例えば2相の
水平転送クロックφH1,φH2によって転送駆動さ
れ、複数本の垂直CCD13から移された1ライン分の
信号電荷を、水平ブランキング期間後の水平走査期間に
おいて順次水平方向に転送する。
【0017】水平CCD15の転送先の端部には、例え
ばフローティング・ディフュージョン・アンプ構成の電
荷電圧変換部16が設けられている。この電荷電圧変換
部16は、水平CCD15によって水平転送されてきた
信号電荷を順次電圧信号に変換して出力する。この電圧
信号は、出力回路(図示せず)を経た後、被写体からの
光の入射量に応じたCCD出力OUTとして、出力端子
17から外部に出力される。
ばフローティング・ディフュージョン・アンプ構成の電
荷電圧変換部16が設けられている。この電荷電圧変換
部16は、水平CCD15によって水平転送されてきた
信号電荷を順次電圧信号に変換して出力する。この電圧
信号は、出力回路(図示せず)を経た後、被写体からの
光の入射量に応じたCCD出力OUTとして、出力端子
17から外部に出力される。
【0018】上述したセンサ部11、読み出しゲート部
12、垂直CCD13、水平CCD15および電荷電圧
変換部16等は半導体基板(以下、単に基板と称す)1
8上に形成される。以上により、インターライン転送方
式のCCD撮像素子10が構成されている。このCCD
撮像素子10を駆動するための4相の垂直転送クロック
φV1〜φV4および2相の水平転送クロックφH1,
φH2は、タイミング発生回路19から発生される。
12、垂直CCD13、水平CCD15および電荷電圧
変換部16等は半導体基板(以下、単に基板と称す)1
8上に形成される。以上により、インターライン転送方
式のCCD撮像素子10が構成されている。このCCD
撮像素子10を駆動するための4相の垂直転送クロック
φV1〜φV4および2相の水平転送クロックφH1,
φH2は、タイミング発生回路19から発生される。
【0019】4相の垂直転送クロックφV1〜φV4
は、基板18上に形成された端子(パッド)22-1〜2
2-4を介して垂直CCD13に供給される。2相の水平
転送クロックφH1,φH2は、端子23-1,23-2を
介して水平CCD15に供給される。タイミング発生回
路19はさらに、これらの転送クロックの外に、センサ
部11に蓄積された信号電荷を基板18へ掃き出すため
のシャッタパルスφSUBなどの各種のタイミング信号
をも適宜発生する。
は、基板18上に形成された端子(パッド)22-1〜2
2-4を介して垂直CCD13に供給される。2相の水平
転送クロックφH1,φH2は、端子23-1,23-2を
介して水平CCD15に供給される。タイミング発生回
路19はさらに、これらの転送クロックの外に、センサ
部11に蓄積された信号電荷を基板18へ掃き出すため
のシャッタパルスφSUBなどの各種のタイミング信号
をも適宜発生する。
【0020】基板18上にはさらに、当該基板18をバ
イアスするバイアス電圧(以下、基板バイアスと称す
る)Vsubを発生するバイアス電圧発生回路20も形
成されている。このバイアス電圧発生回路20で生成さ
れた基板バイアスVsubは、トランジスタQ1を介し
て基板18に印加される。この基板バイアスVsubの
作用については、後で詳述する。
イアスするバイアス電圧(以下、基板バイアスと称す
る)Vsubを発生するバイアス電圧発生回路20も形
成されている。このバイアス電圧発生回路20で生成さ
れた基板バイアスVsubは、トランジスタQ1を介し
て基板18に印加される。この基板バイアスVsubの
作用については、後で詳述する。
【0021】図2は、センサ部11の周辺の基板深さ方
向の構造を示す断面図である。図2において、例えばN
型の基板18の表面にP型のウェル領域31が形成され
ている。このウェル領域31の表面にはN+ 型の信号電
荷蓄積領域32が形成され、さらにその上にP+ 型の正
孔蓄積領域33が形成されることにより、いわゆるHA
D(正孔蓄積ダイオード)構造のセンサ部11が構成さ
れている。
向の構造を示す断面図である。図2において、例えばN
型の基板18の表面にP型のウェル領域31が形成され
ている。このウェル領域31の表面にはN+ 型の信号電
荷蓄積領域32が形成され、さらにその上にP+ 型の正
孔蓄積領域33が形成されることにより、いわゆるHA
D(正孔蓄積ダイオード)構造のセンサ部11が構成さ
れている。
【0022】このセンサ部11に蓄積される信号電荷e
の電荷量は、図3のポテンシャル分布図に示すように、
P型のウェル領域31で構成されるオーバーフローバリ
アOFBのポテンシャルバリアの高さによって決定され
る。すなわち、このオーバーフローバリアOFBは、セ
ンサ部11に蓄積される飽和信号電荷量Qsを決めるも
のであり、蓄積電荷量がこの飽和信号電荷量Qsを越え
た場合に、その越えた分の電荷がポテンシャルバリアを
越えて基板18側へ掃き出される。
の電荷量は、図3のポテンシャル分布図に示すように、
P型のウェル領域31で構成されるオーバーフローバリ
アOFBのポテンシャルバリアの高さによって決定され
る。すなわち、このオーバーフローバリアOFBは、セ
ンサ部11に蓄積される飽和信号電荷量Qsを決めるも
のであり、蓄積電荷量がこの飽和信号電荷量Qsを越え
た場合に、その越えた分の電荷がポテンシャルバリアを
越えて基板18側へ掃き出される。
【0023】以上により、いわゆる縦型オーバーフロー
ドレイン構造のセンサ部11が構成されている。縦型オ
ーバーフロードレイン構造においては、基板18がオー
バーフロードレインとなる。このセンサ部11におい
て、飽和信号電荷量Qsは、デバイスのS/N特性、垂
直CCD13の取り扱い電荷量などによって決定される
が、製造ばらつきにより、オーバーフローバリアOFB
のポテンシャルがばらつくことになる。このオーバーフ
ローバリアOFBのポテンシャルは、オーバーフロード
レインバイアス、即ち先述した基板バイアスVsubに
よって制御可能である。
ドレイン構造のセンサ部11が構成されている。縦型オ
ーバーフロードレイン構造においては、基板18がオー
バーフロードレインとなる。このセンサ部11におい
て、飽和信号電荷量Qsは、デバイスのS/N特性、垂
直CCD13の取り扱い電荷量などによって決定される
が、製造ばらつきにより、オーバーフローバリアOFB
のポテンシャルがばらつくことになる。このオーバーフ
ローバリアOFBのポテンシャルは、オーバーフロード
レインバイアス、即ち先述した基板バイアスVsubに
よって制御可能である。
【0024】センサ部11の横方向には、読み出しゲー
ト部12を構成するP型領域34を介してN+ 型の信号
電荷転送領域35およびP+ 型のチャネルストッパ領域
36が形成されている。信号電荷転送領域35の下に
は、スミア成分の混入を防止するためのP+ 型の不純物
拡散領域37が形成されている。さらに、信号電荷転送
領域35の上方には、ゲート絶縁膜38を介して例えば
多結晶シリコンからなる転送電極39が配されることに
より、垂直CCD13が構成されている。転送電極39
は、P型領域34の上方に位置する部分が、読み出しゲ
ート部12のゲート電極を兼ねている。
ト部12を構成するP型領域34を介してN+ 型の信号
電荷転送領域35およびP+ 型のチャネルストッパ領域
36が形成されている。信号電荷転送領域35の下に
は、スミア成分の混入を防止するためのP+ 型の不純物
拡散領域37が形成されている。さらに、信号電荷転送
領域35の上方には、ゲート絶縁膜38を介して例えば
多結晶シリコンからなる転送電極39が配されることに
より、垂直CCD13が構成されている。転送電極39
は、P型領域34の上方に位置する部分が、読み出しゲ
ート部12のゲート電極を兼ねている。
【0025】垂直CCD13の上方には、転送電極39
を覆うようにして層間膜40を介してAl(アルミニウ
ム)遮光膜41が形成されている。このAl遮光膜41
は、センサ部11において選択的にエッチング除去され
ており、外部からの光Lはこのエッチング除去によって
形成された開口42を通してセンサ部11内に入射す
る。そして、基板18には、上述したように、センサ部
11に蓄積される信号電荷の電荷量を決定する、即ちオ
ーバーフローバリアOFBのポテンシャルを決める基板
バイアスVsubが印加されるようになっている。
を覆うようにして層間膜40を介してAl(アルミニウ
ム)遮光膜41が形成されている。このAl遮光膜41
は、センサ部11において選択的にエッチング除去され
ており、外部からの光Lはこのエッチング除去によって
形成された開口42を通してセンサ部11内に入射す
る。そして、基板18には、上述したように、センサ部
11に蓄積される信号電荷の電荷量を決定する、即ちオ
ーバーフローバリアOFBのポテンシャルを決める基板
バイアスVsubが印加されるようになっている。
【0026】基板バイアスVsubは、図1に示す基板
バイアス発生回路20において、デバイス個々の製造ば
らつきに伴うセンサ部11におけるオーバーフローバリ
アOFB(図3を参照)のポテンシャルのばらつきを考
慮してチップごとに最適値に設定され、バイポーラトラ
ンジスタQ1でインピーダンス変換された後基板18に
与えられる。このバイポーラトランジスタQ1も、基板
バイアス発生回路20と共に基板18上に形成されてい
る。
バイアス発生回路20において、デバイス個々の製造ば
らつきに伴うセンサ部11におけるオーバーフローバリ
アOFB(図3を参照)のポテンシャルのばらつきを考
慮してチップごとに最適値に設定され、バイポーラトラ
ンジスタQ1でインピーダンス変換された後基板18に
与えられる。このバイポーラトランジスタQ1も、基板
バイアス発生回路20と共に基板18上に形成されてい
る。
【0027】一方、電子シャッタ動作時に、タイミング
発生回路19から発生されるシャッタパルスφSUB
は、コンデンサC8で直流カットされた後、端子24を
介してバイポーラトランジスタQ1のエミッタに印加さ
れる。バイポーラトランジスタQ1は、シャッタパルス
φSUBの低レベルを基板バイアスVsubの直流レベ
ルにクランプするためのクランプ回路21を構成してい
る。端子24とグランドとの間には、抵抗R1が接続さ
れている。
発生回路19から発生されるシャッタパルスφSUB
は、コンデンサC8で直流カットされた後、端子24を
介してバイポーラトランジスタQ1のエミッタに印加さ
れる。バイポーラトランジスタQ1は、シャッタパルス
φSUBの低レベルを基板バイアスVsubの直流レベ
ルにクランプするためのクランプ回路21を構成してい
る。端子24とグランドとの間には、抵抗R1が接続さ
れている。
【0028】また、外部から与えられる基板電圧コント
ロール信号VsubCont.は、抵抗R2を介してバ
イポーラトランジスタQ2のベースに印加される。この
バイポーラトランジスタQ2のエミッタは接地されてお
り、そのコレクタは抵抗R3を介して端子25に接続さ
れている。端子25には、バイポーラトランジスタQ1
のベースが接続されている。バイポーラトランジスタQ
2および抵抗R2,R3により、基板電圧コントロール
信号VsubCont.に基づいて基板バイアスVsu
bを一時的に下げるべく駆動する駆動系26が構成され
ている。
ロール信号VsubCont.は、抵抗R2を介してバ
イポーラトランジスタQ2のベースに印加される。この
バイポーラトランジスタQ2のエミッタは接地されてお
り、そのコレクタは抵抗R3を介して端子25に接続さ
れている。端子25には、バイポーラトランジスタQ1
のベースが接続されている。バイポーラトランジスタQ
2および抵抗R2,R3により、基板電圧コントロール
信号VsubCont.に基づいて基板バイアスVsu
bを一時的に下げるべく駆動する駆動系26が構成され
ている。
【0029】すなわち、この駆動系26において、基板
電圧コントロール信号VsubCont.が低レベルの
ときには、バイポーラトランジスタQ2がオフ状態にあ
るため、基板バイアス発生回路20で生成された基板バ
イアスVsubはそのままバイポーラトランジスタQ1
を介して基板18に印加される。一方、基板電圧コント
ロール信号VsubCont.が高レベルになると、バ
イポーラトランジスタQ2がオン状態となり、バイポー
ラトランジスタQ1のベースを抵抗R3を介して接地す
るため、基板バイアス発生回路20で生成された基板バ
イアスVsubが、抵抗R3の抵抗値に応じた電位だけ
低下する。
電圧コントロール信号VsubCont.が低レベルの
ときには、バイポーラトランジスタQ2がオフ状態にあ
るため、基板バイアス発生回路20で生成された基板バ
イアスVsubはそのままバイポーラトランジスタQ1
を介して基板18に印加される。一方、基板電圧コント
ロール信号VsubCont.が高レベルになると、バ
イポーラトランジスタQ2がオン状態となり、バイポー
ラトランジスタQ1のベースを抵抗R3を介して接地す
るため、基板バイアス発生回路20で生成された基板バ
イアスVsubが、抵抗R3の抵抗値に応じた電位だけ
低下する。
【0030】図4は、上記構成の本実施形態による固体
撮像装置を撮像デバイスとして用いた本発明に係るカメ
ラの概略構成図である。図4において、被写体(図示せ
ず)からの光は、レンズ51等の光学系およびメカニカ
ルシャッタ52を経てCCD固体撮像素子53の撮像エ
リアに入射する。メカニカルシャッタ52は、CCD固
体撮像素子53の撮像エリアへの光の入射を遮断して露
光時間を決めるためのものである。
撮像装置を撮像デバイスとして用いた本発明に係るカメ
ラの概略構成図である。図4において、被写体(図示せ
ず)からの光は、レンズ51等の光学系およびメカニカ
ルシャッタ52を経てCCD固体撮像素子53の撮像エ
リアに入射する。メカニカルシャッタ52は、CCD固
体撮像素子53の撮像エリアへの光の入射を遮断して露
光時間を決めるためのものである。
【0031】CCD固体撮像素子53としては、先述し
た本実施形態に係るCCD固体撮像素子が用いられる。
このCCD固体撮像素子53は、先述したタイミング発
生回路19や駆動系26などを含むCCD駆動回路54
によって駆動される。CCD固体撮像素子53の出力信
号は、次段の信号処理回路55において、自動ホワイト
バランス調整などの種々の信号処理が行われた後、撮像
信号として外部に導出される。メカニカルシャッタ52
の開閉制御、CCD駆動回路54の制御、信号処理回路
55の制御などは、システムコントローラ56によって
行われる。
た本実施形態に係るCCD固体撮像素子が用いられる。
このCCD固体撮像素子53は、先述したタイミング発
生回路19や駆動系26などを含むCCD駆動回路54
によって駆動される。CCD固体撮像素子53の出力信
号は、次段の信号処理回路55において、自動ホワイト
バランス調整などの種々の信号処理が行われた後、撮像
信号として外部に導出される。メカニカルシャッタ52
の開閉制御、CCD駆動回路54の制御、信号処理回路
55の制御などは、システムコントローラ56によって
行われる。
【0032】次に、上記構成のカメラの基本的な動作に
ついて、図5のタイミングチャートを用いて説明する。
ついて、図5のタイミングチャートを用いて説明する。
【0033】先ず、シャッタ(図示せず)が押される
と、これに応答して数msのパルス幅のトリガパルスT
RIG.が発生し、その期間においてシャッタパルスφ
SUBが数個発生することで、全てのセンサ部11の信
号電荷が基板18に掃き捨てられる。そして、ある一定
の露光期間が経過すると、メカニカルシャッタ52が閉
じ、例えばフレーム読み出しによって全画素の信号電荷
を読み出す全画素読み出し期間に入る。
と、これに応答して数msのパルス幅のトリガパルスT
RIG.が発生し、その期間においてシャッタパルスφ
SUBが数個発生することで、全てのセンサ部11の信
号電荷が基板18に掃き捨てられる。そして、ある一定
の露光期間が経過すると、メカニカルシャッタ52が閉
じ、例えばフレーム読み出しによって全画素の信号電荷
を読み出す全画素読み出し期間に入る。
【0034】この全画素読み出し期間において、先ず、
垂直CCD13の高速転送駆動によって垂直CCD13
中の電荷が掃き出される。そして、垂直転送クロックφ
V1に読み出しパルスXSGが立つことで、第1フィー
ルドの各画素の信号電荷が読み出される。第1フィール
ドの信号電荷の読み出し後、再び高速転送駆動によって
垂直CCD13中の電荷が掃き出され、続いて垂直転送
クロックφV3に読み出しパルスXSGが立つことで、
第2フィールドの各画素の信号電荷が読み出される。
垂直CCD13の高速転送駆動によって垂直CCD13
中の電荷が掃き出される。そして、垂直転送クロックφ
V1に読み出しパルスXSGが立つことで、第1フィー
ルドの各画素の信号電荷が読み出される。第1フィール
ドの信号電荷の読み出し後、再び高速転送駆動によって
垂直CCD13中の電荷が掃き出され、続いて垂直転送
クロックφV3に読み出しパルスXSGが立つことで、
第2フィールドの各画素の信号電荷が読み出される。
【0035】その後、メカニカルシャッタ52が開き、
高速撮像期間に移行する。この高速撮像期間では、撮像
中の画像をモニタに映し出すモニタリングや、アイリス
(図示せず)の開度を制御することによって露光を調整
する自動アイリス制御や、レンズ51の光軸方向の位置
を制御することによって焦点を調整する自動フォーカス
制御や、ホワイトバランスをとる自動ホワイトバランス
制御などの各種の自動制御が行われる。
高速撮像期間に移行する。この高速撮像期間では、撮像
中の画像をモニタに映し出すモニタリングや、アイリス
(図示せず)の開度を制御することによって露光を調整
する自動アイリス制御や、レンズ51の光軸方向の位置
を制御することによって焦点を調整する自動フォーカス
制御や、ホワイトバランスをとる自動ホワイトバランス
制御などの各種の自動制御が行われる。
【0036】さて、課題の項で述べたように、露光完了
から信号電荷の読み出しまでの間には、センサ部11の
飽和信号電荷の一部が時間の経過とともに放出されるこ
とによって飽和信号電荷量Qsが減少する。この露光完
了から信号電荷の読み出しまでの期間と飽和信号電荷量
Qsの関係を図6に示す。この飽和信号電荷量Qsの減
少によるS/Nやダイナミックレンジ等の特性の悪化を
防ぐには、飽和信号電荷が時間の経過とともに放出され
ないだけの十分なポテンシャルバリア差を確保すれば良
い訳であるが、この飽和信号電荷量Qsは、CCD固体
撮像素子10の垂直CCD13の取扱い電荷量やブルー
ミング特性等によって決定されるため、当該ポテンシャ
ルバリア差を確保するのは困難である。
から信号電荷の読み出しまでの間には、センサ部11の
飽和信号電荷の一部が時間の経過とともに放出されるこ
とによって飽和信号電荷量Qsが減少する。この露光完
了から信号電荷の読み出しまでの期間と飽和信号電荷量
Qsの関係を図6に示す。この飽和信号電荷量Qsの減
少によるS/Nやダイナミックレンジ等の特性の悪化を
防ぐには、飽和信号電荷が時間の経過とともに放出され
ないだけの十分なポテンシャルバリア差を確保すれば良
い訳であるが、この飽和信号電荷量Qsは、CCD固体
撮像素子10の垂直CCD13の取扱い電荷量やブルー
ミング特性等によって決定されるため、当該ポテンシャ
ルバリア差を確保するのは困難である。
【0037】また、先述した基板バイアスVsubを下
げて、時間の経過とともに減少する前の飽和信号電荷量
Qsをその減少分を見込んで予め増加させることによっ
ても、飽和信号電荷量Qsの減少によるS/Nやダイナ
ミックレンジ等の特性の悪化を防ぐことができる。ここ
で、図5において、基板バイアスVsubを全ての期間
で変えた場合、全画素読み出し期間では、露光期間に垂
直CCD13の取扱い電荷量以上の信号やブルーミング
等の成分が発生しても、掃き出し期間にて掃き捨てら
れ、またメカニカルシャッタ52が閉じていることか
ら、上記成分が信号出力中に発生しないため問題とはな
らない。
げて、時間の経過とともに減少する前の飽和信号電荷量
Qsをその減少分を見込んで予め増加させることによっ
ても、飽和信号電荷量Qsの減少によるS/Nやダイナ
ミックレンジ等の特性の悪化を防ぐことができる。ここ
で、図5において、基板バイアスVsubを全ての期間
で変えた場合、全画素読み出し期間では、露光期間に垂
直CCD13の取扱い電荷量以上の信号やブルーミング
等の成分が発生しても、掃き出し期間にて掃き捨てら
れ、またメカニカルシャッタ52が閉じていることか
ら、上記成分が信号出力中に発生しないため問題とはな
らない。
【0038】これに対し、モニタリングや、自動アイリ
ス制御/自動フォーカス制御/自動ホワイトバランス制
御等の自動制御などに用いる高速撮像期間では、メカニ
カルシャッタ52が開いているので、垂直CCD13の
取扱い電荷量以上の信号やブルーミング等の成分が発生
し、これを掃き捨てる期間も無いため問題となってしま
う。そこで、本発明では、少なくとも信号電荷の読み出
し期間、即ち全画素読み出し期間において基板バイアス
Vsubを下げることにより、飽和信号電荷量Qsをそ
の減少分を見込んで予め増加させるようにしている。
ス制御/自動フォーカス制御/自動ホワイトバランス制
御等の自動制御などに用いる高速撮像期間では、メカニ
カルシャッタ52が開いているので、垂直CCD13の
取扱い電荷量以上の信号やブルーミング等の成分が発生
し、これを掃き捨てる期間も無いため問題となってしま
う。そこで、本発明では、少なくとも信号電荷の読み出
し期間、即ち全画素読み出し期間において基板バイアス
Vsubを下げることにより、飽和信号電荷量Qsをそ
の減少分を見込んで予め増加させるようにしている。
【0039】この基板バイアスVsubを下げるための
制御信号、即ち先述した基板バイアスコントロール信号
VsubCont.は、例えばシステムコントローラ5
6から出力される。基板バイアスコントロール信号Vs
ubCont.をタイミング発生回路19から出力する
ことも可能である。この基板バイアスコントロール信号
VsubCont.が、図1のバイポーラトランジスタ
Q2のベースに抵抗R2を介して印加されることによ
り、先述したように、抵抗R3の抵抗値に応じた電位だ
け基板バイアスVsubが低下する。この低下分は、セ
ンサ部11におけるオーバーフローバリアOFB(図3
を参照)の遮光時のポテンシャル低下分を見込んで設定
される。
制御信号、即ち先述した基板バイアスコントロール信号
VsubCont.は、例えばシステムコントローラ5
6から出力される。基板バイアスコントロール信号Vs
ubCont.をタイミング発生回路19から出力する
ことも可能である。この基板バイアスコントロール信号
VsubCont.が、図1のバイポーラトランジスタ
Q2のベースに抵抗R2を介して印加されることによ
り、先述したように、抵抗R3の抵抗値に応じた電位だ
け基板バイアスVsubが低下する。この低下分は、セ
ンサ部11におけるオーバーフローバリアOFB(図3
を参照)の遮光時のポテンシャル低下分を見込んで設定
される。
【0040】このように、少なくとも全画素読み出し期
間において、基板バイアスVsubを下げることによ
り、その低下した分だけセンサ部11におけるオーバー
フローバリアOFBのポテンシャルが浅くなり、遮光時
に時間の経過とともに減少する前の飽和信号電荷量Qs
をその減少分を見込んで増加させることができるため、
飽和信号電荷量Qsを向上できる。したがって、飽和信
号電荷量Qsの減少によるS/Nやダイナミックレンジ
等の特性の悪化を防ぐことができる。
間において、基板バイアスVsubを下げることによ
り、その低下した分だけセンサ部11におけるオーバー
フローバリアOFBのポテンシャルが浅くなり、遮光時
に時間の経過とともに減少する前の飽和信号電荷量Qs
をその減少分を見込んで増加させることができるため、
飽和信号電荷量Qsを向上できる。したがって、飽和信
号電荷量Qsの減少によるS/Nやダイナミックレンジ
等の特性の悪化を防ぐことができる。
【0041】以下に、基板バイアスVsubを下げる開
始タイミングの4つの具体例について、図8〜図10の
タイミングチャートを用いて説明する。
始タイミングの4つの具体例について、図8〜図10の
タイミングチャートを用いて説明する。
【0042】先ず、図8に示す具体例1では、基板バイ
アスVsubを下げる開始点を露光開始前としている。
これによれば、露光期間も含めた全ての期間での飽和信
号電荷量Qsの減少を補うことが可能となる。したがっ
て、ストロボ光のような露光期間中の一部の期間で飽和
してしまう信号にも対応可能となる。なお、図8におい
て、基板バイアスコントロール信号VsubCont.
を露光完了前から数ms前としているのは、図7に示す
ように、基板バイアスコントロール信号VsubCon
t.が印加されてから基板バイアスVsubが実際に下
がるのに、図1の抵抗R1の抵抗値とコンデンサCの容
量値で決まる時定数によって数msの時間を要するため
である。
アスVsubを下げる開始点を露光開始前としている。
これによれば、露光期間も含めた全ての期間での飽和信
号電荷量Qsの減少を補うことが可能となる。したがっ
て、ストロボ光のような露光期間中の一部の期間で飽和
してしまう信号にも対応可能となる。なお、図8におい
て、基板バイアスコントロール信号VsubCont.
を露光完了前から数ms前としているのは、図7に示す
ように、基板バイアスコントロール信号VsubCon
t.が印加されてから基板バイアスVsubが実際に下
がるのに、図1の抵抗R1の抵抗値とコンデンサCの容
量値で決まる時定数によって数msの時間を要するため
である。
【0043】次に、図9に示す具体例2では、基板バイ
アスVsubを下げる開始点を露光期間中としている。
これによれば、メカニカルシャッタ52を閉じている期
間での飽和信号電荷量Qsの減少を補うことが可能とな
る。ここで、図8の場合のように、基板バイアスVsu
bを下げる開始点を露光開始前としていないことによる
利点は、図中のトリガ信号TRIG.がONした状態
(カメラのシャッタが押された状態)からメカニカルシ
ャッタ52が閉じる(露光完了)までの期間が速くなる
ことである。
アスVsubを下げる開始点を露光期間中としている。
これによれば、メカニカルシャッタ52を閉じている期
間での飽和信号電荷量Qsの減少を補うことが可能とな
る。ここで、図8の場合のように、基板バイアスVsu
bを下げる開始点を露光開始前としていないことによる
利点は、図中のトリガ信号TRIG.がONした状態
(カメラのシャッタが押された状態)からメカニカルシ
ャッタ52が閉じる(露光完了)までの期間が速くなる
ことである。
【0044】図10に示す具体例3では、基板バイアス
Vsubを下げる開始点を第1フィールドの信号電荷の
読み出しから第2フィールドの信号電荷の読み出しまで
の期間内としている。これによれば、第1フィールドの
信号電荷を読み出すまでに飽和信号電荷量Qsが減少し
てしまうものの、第2フィールドの飽和信号電荷量Qs
の減少を防ぐことができる。したがって、従来技術で問
題となっていた第1フィールドと第2フィールドの飽和
信号電荷量Qsの違い(段差)を無くすことが可能とな
る。
Vsubを下げる開始点を第1フィールドの信号電荷の
読み出しから第2フィールドの信号電荷の読み出しまで
の期間内としている。これによれば、第1フィールドの
信号電荷を読み出すまでに飽和信号電荷量Qsが減少し
てしまうものの、第2フィールドの飽和信号電荷量Qs
の減少を防ぐことができる。したがって、従来技術で問
題となっていた第1フィールドと第2フィールドの飽和
信号電荷量Qsの違い(段差)を無くすことが可能とな
る。
【0045】図11に示す具体例4では、基板バイアス
Vsubを下げる開始点を露光完了から信号電荷の読み
出しまでの期間内としている。これによれば、一部飽和
信号電荷量Qsが減少してしまう期間があるものの、露
光期間中において基板バイアスVsubを下げたことに
より発生するブルーミング等の成分が減少し、露光完了
直後に行う掃き出し期間での掃き捨てがよりし易くな
る。
Vsubを下げる開始点を露光完了から信号電荷の読み
出しまでの期間内としている。これによれば、一部飽和
信号電荷量Qsが減少してしまう期間があるものの、露
光期間中において基板バイアスVsubを下げたことに
より発生するブルーミング等の成分が減少し、露光完了
直後に行う掃き出し期間での掃き捨てがよりし易くな
る。
【0046】なお、上記実施形態においては、フレーム
読み出し方式を例にとって説明したが、信号電荷の読み
出し方式はフィールド読み出し方式や全画素読み出し方
式であっても構わない。また、遮光手段としてメカニカ
ルシャッタ52を用いたが、メカニカルシャッタ52に
限定されるものではなく、液晶シャッタ等の他の遮光手
段であっても良い。
読み出し方式を例にとって説明したが、信号電荷の読み
出し方式はフィールド読み出し方式や全画素読み出し方
式であっても構わない。また、遮光手段としてメカニカ
ルシャッタ52を用いたが、メカニカルシャッタ52に
限定されるものではなく、液晶シャッタ等の他の遮光手
段であっても良い。
【0047】また、上記実施形態では、基板バイアス発
生回路20およびクランプ回路21がCCD固体撮像素
子10の内部に設けられた場合において、クランプ回路
21の入力端(バイポーラトランジスタQ1のベース)
を抵抗R3を介して接地するか否かを基板バイアスコン
トロール信号VsubCont.によって選択的に切り
替えることにより、少なくとも信号電荷の読み出し期間
で基板バイアスVsubを下げる構成としたが、基板バ
イアス発生回路20およびクランプ回路21がCCD撮
像素子10の外部に設けられた場合にも同様に適用する
ことが可能である。
生回路20およびクランプ回路21がCCD固体撮像素
子10の内部に設けられた場合において、クランプ回路
21の入力端(バイポーラトランジスタQ1のベース)
を抵抗R3を介して接地するか否かを基板バイアスコン
トロール信号VsubCont.によって選択的に切り
替えることにより、少なくとも信号電荷の読み出し期間
で基板バイアスVsubを下げる構成としたが、基板バ
イアス発生回路20およびクランプ回路21がCCD撮
像素子10の外部に設けられた場合にも同様に適用する
ことが可能である。
【0048】この場合の構成を図12に示す。図12に
おいて、CCD撮像素子10′の基本的な構成は先の実
施形態に係るCCD撮像素子10と同じである。このC
CD撮像素子10′の外部には、基板バイアスVsub
を発生する基板バイアス発生回路27が設けられてい
る。この基板バイアス発生回路27で発生された基板バ
イアスVsubは、クランプ回路28を構成するバイポ
ーラトランジスタQ3のベースに印加される。
おいて、CCD撮像素子10′の基本的な構成は先の実
施形態に係るCCD撮像素子10と同じである。このC
CD撮像素子10′の外部には、基板バイアスVsub
を発生する基板バイアス発生回路27が設けられてい
る。この基板バイアス発生回路27で発生された基板バ
イアスVsubは、クランプ回路28を構成するバイポ
ーラトランジスタQ3のベースに印加される。
【0049】バイポーラトランジスタQ3のコレクタは
端子29に接続され、そのエミッタは抵抗R4を介して
接地されている。これにより、基板バイアスVsub
は、バイポーラトランジスタQ1でインピーダンス変換
された後、端子29を介して基板18に与えられる。一
方、タイミング発生回路19で発生されるシャッタパル
スφSUBは、コンデンサCで直流カットされた後、バ
イポーラトランジスタQ3のエミッタに印加される。こ
のとき、シャッタパルスφSUBはバイポーラトランジ
スタQ3によってその低レベルが基板バイアスVsub
の直流レベルにクランプされる。
端子29に接続され、そのエミッタは抵抗R4を介して
接地されている。これにより、基板バイアスVsub
は、バイポーラトランジスタQ1でインピーダンス変換
された後、端子29を介して基板18に与えられる。一
方、タイミング発生回路19で発生されるシャッタパル
スφSUBは、コンデンサCで直流カットされた後、バ
イポーラトランジスタQ3のエミッタに印加される。こ
のとき、シャッタパルスφSUBはバイポーラトランジ
スタQ3によってその低レベルが基板バイアスVsub
の直流レベルにクランプされる。
【0050】このように、基板バイアス発生回路27お
よびクランプ回路28がCCD撮像素子10′の外部に
設けられた固体撮像装置において、基板バイアスVsu
bを下げるには、基板バイアス発生回路27に対して基
板バイアスVsub自体を一定期間だけ下げるためのタ
イミング信号を与えるとともに、このタイミング信号が
与えられたら、基板バイアス発生回路27から通常より
も一定の電位だけ低い基板バイアスVsubが上記一定
期間に亘って出力される構成とすれば良い。また、基板
バイアスVsubを下げる開始タイミングについては、
先述した実施形態に係る具体例1〜4の場合と同様に設
定すれば良い。
よびクランプ回路28がCCD撮像素子10′の外部に
設けられた固体撮像装置において、基板バイアスVsu
bを下げるには、基板バイアス発生回路27に対して基
板バイアスVsub自体を一定期間だけ下げるためのタ
イミング信号を与えるとともに、このタイミング信号が
与えられたら、基板バイアス発生回路27から通常より
も一定の電位だけ低い基板バイアスVsubが上記一定
期間に亘って出力される構成とすれば良い。また、基板
バイアスVsubを下げる開始タイミングについては、
先述した実施形態に係る具体例1〜4の場合と同様に設
定すれば良い。
【0051】なお、上記実施形態では、縦型オーバーフ
ロードレイン構造を持つCCD撮像素子に適用し、少な
くとも信号電荷の読み出し期間においてオーバーフロー
ドレインとなる基板18に印加する基板バイアスVsu
bを下げるようにした場合について説明したが、横型オ
ーバーフロードレイン構造を持つCCD撮像素子にも同
様に適用可能であり、この場合には、少なくとも信号電
荷の読み出し期間において直接オーバーフロードレイン
バイアスを下げるようにすれば良い。
ロードレイン構造を持つCCD撮像素子に適用し、少な
くとも信号電荷の読み出し期間においてオーバーフロー
ドレインとなる基板18に印加する基板バイアスVsu
bを下げるようにした場合について説明したが、横型オ
ーバーフロードレイン構造を持つCCD撮像素子にも同
様に適用可能であり、この場合には、少なくとも信号電
荷の読み出し期間において直接オーバーフロードレイン
バイアスを下げるようにすれば良い。
【0052】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
センサ部がオーバーフロードレイン構造を持つ固体撮像
素子において、露光完了後に固体撮像素子の撮像エリア
を遮光した状態で信号電荷を読み出す動作モード時に、
少なくとも遮光状態での信号電荷の読み出し期間におい
て固体撮像素子のオーバーフローバリアのポテンシャル
を浅くするようにしたことにより、遮光時に時間の経過
とともに減少する前の飽和信号電荷量をその減少分を見
込んで増加させることができるので、露光完了から信号
電荷の読み出しまでの期間に生ずる飽和信号電荷量の減
少によるS/Nやダイナミックレンジ等の特性の悪化を
防止することが可能となる。
センサ部がオーバーフロードレイン構造を持つ固体撮像
素子において、露光完了後に固体撮像素子の撮像エリア
を遮光した状態で信号電荷を読み出す動作モード時に、
少なくとも遮光状態での信号電荷の読み出し期間におい
て固体撮像素子のオーバーフローバリアのポテンシャル
を浅くするようにしたことにより、遮光時に時間の経過
とともに減少する前の飽和信号電荷量をその減少分を見
込んで増加させることができるので、露光完了から信号
電荷の読み出しまでの期間に生ずる飽和信号電荷量の減
少によるS/Nやダイナミックレンジ等の特性の悪化を
防止することが可能となる。
【図1】本発明に係る固体撮像装置の概略構成図であ
る。
る。
【図2】センサ部周辺の断面構造図である。
【図3】センサ部の基板深さ方向のポテンシャル分布図
である。
である。
【図4】本発明に係るカメラの概略構成図である。
【図5】基本的な動作を説明するためのタイミングチャ
ートである。
ートである。
【図6】露光完了から読み出しまでの期間と飽和信号電
荷量Qsとの関係を示す特性図である。
荷量Qsとの関係を示す特性図である。
【図7】基板バイアス制御時のタイミングチャートであ
る。
る。
【図8】具体例1の場合のタイミングチャートである。
【図9】具体例2の場合のタイミングチャートである。
【図10】具体例3の場合のタイミングチャートであ
る。
る。
【図11】具体例4の場合のタイミングチャートであ
る。
る。
【図12】本発明の変形例を示す概略構成図である。
【図13】フィールド読み出し方式の説明図である。
【図14】フレーム読み出し方式の説明図である。
【図15】全画素読み出し方式の説明図である。
10,10′ CCD撮像素子 11 センサ部
13 垂直CCD 14 撮像エリア 15 水平CCD 16 電荷
電圧変換部 18 半導体基板 19 タイミング発生回路 20,27 基板バイアス発生回路 21,28 ク
ランプ回路 52 メカニカルシャッタ 56 システムコントロ
ーラ φSUB シャッタパルス Vsub 基板バイアス VsubCont. 基板バイアスコントロール信号
13 垂直CCD 14 撮像エリア 15 水平CCD 16 電荷
電圧変換部 18 半導体基板 19 タイミング発生回路 20,27 基板バイアス発生回路 21,28 ク
ランプ回路 52 メカニカルシャッタ 56 システムコントロ
ーラ φSUB シャッタパルス Vsub 基板バイアス VsubCont. 基板バイアスコントロール信号
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名)
H01L 27/148
H04N 5/335
JICSTファイル(JOIS)
Claims (11)
- 【請求項1】 オーバーフロードレイン構造を持つ行列
状に配列された複数のセンサ部およびこれらのセンサ部
から読み出された信号電荷を転送する電荷転送部を有す
る固体撮像素子と、 露光完了後に前記固体撮像素子の撮像エリアへの光の入
射を遮光した状態で信号電荷を読み出す動作モード時に
少なくとも遮光状態での信号電荷の読み出し期間におい
て前記固体撮像素子のオーバーフローバリアのポテンシ
ャルを浅くすべく駆動する駆動系とを備えたことを特徴
とする固体撮像装置。 - 【請求項2】 前記駆動系は、前記固体撮像素子のオー
バーフローバリアのポテンシャルを浅くする開始点を露
光開始前とすることを特徴とする請求項1記載の固体撮
像装置。 - 【請求項3】 前記駆動系は、前記固体撮像素子のオー
バーフローバリアのポテンシャルを浅くする開始点を露
光期間中とすることを特徴とする請求項1記載の固体撮
像装置。 - 【請求項4】 前記駆動系は、前記固体撮像素子のオー
バーフローバリアのポテンシャルを浅くする開始点を第
1フィールドの信号電荷の読み出しから第2フィールド
の信号電荷の読み出しまでの期間内とすることを特徴と
する請求項1記載の固体撮像装置。 - 【請求項5】 前記駆動系は、前記固体撮像素子のオー
バーフローバリアのポテンシャルを浅くする開始点を露
光完了から信号電荷の読み出しまでの期間内とすること
を特徴とする請求項1記載の固体撮像装置。 - 【請求項6】 オーバーフロードレイン構造を持つ行列
状に配列された複数のセンサ部およびこれらのセンサ部
から読み出された信号電荷を転送する電荷転送部を有す
る固体撮像素子を備えた固体撮像装置において、 露光完了後に前記固体撮像素子の撮像エリアへの光の入
射を遮光した状態で信号電荷を読み出す動作モード時に
少なくとも遮光状態での信号電荷の読み出し期間におい
て前記固体撮像素子のオーバーフローバリアのポテンシ
ャルを浅くすることを特徴とする固体撮像装置の駆動方
法。 - 【請求項7】 前記固体撮像素子のオーバーフローバリ
アのポテンシャルを浅くする開始点を露光開始前とする
ことを特徴とする請求項6記載の固体撮像装置の駆動方
法。 - 【請求項8】 前記固体撮像素子のオーバーフローバリ
アのポテンシャルを浅くする開始点を露光期間中とする
ことを特徴とする請求項6記載の固体撮像装置の駆動方
法。 - 【請求項9】 前記固体撮像素子のオーバーフローバリ
アのポテンシャルを浅くする開始点を第1フィールドの
信号電荷の読み出しから第2フィールドの信号電荷の読
み出しまでの期間内とすることを特徴とする請求項6記
載の固体撮像装置の駆動方法。 - 【請求項10】 前記固体撮像素子のオーバーフローバ
リアのポテンシャルを浅くする開始点を露光完了から信
号電荷の読み出しまでの期間内とすることを特徴とする
請求項6記載の固体撮像装置の駆動方法。 - 【請求項11】 オーバーフロードレイン構造を持つ行
列状に配列された複数のセンサ部およびこれらのセンサ
部から読み出された信号電荷を転送する電荷転送部を有
する固体撮像素子と、 前記固体撮像素子の撮像エリアに対して入射光を導く光
学系と、 前記光学系による前記固体撮像素子の撮像エリアへの光
の入射を遮断して露光期間を決める遮光手段と、 露光完了後に前記遮光手段によって前記固体撮像素子の
撮像エリアへの光の入射を遮光した状態で信号電荷を読
み出す動作モード時に少なくとも遮光状態での信号電荷
の読み出し期間において前記固体撮像素子のオーバーフ
ローバリアのポテンシャルを浅くすべく駆動する駆動系
とを具備したことを特徴とするカメラ。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30144496A JP3440722B2 (ja) | 1996-09-20 | 1996-11-13 | 固体撮像装置およびその駆動方法並びにカメラ |
US08/933,533 US6559889B2 (en) | 1996-09-20 | 1997-09-18 | Solid-state imaging apparatus with lowered overflow drain bias, method for driving same and camera using same |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24965296 | 1996-09-20 | ||
JP8-249652 | 1996-09-20 | ||
JP30144496A JP3440722B2 (ja) | 1996-09-20 | 1996-11-13 | 固体撮像装置およびその駆動方法並びにカメラ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10150183A JPH10150183A (ja) | 1998-06-02 |
JP3440722B2 true JP3440722B2 (ja) | 2003-08-25 |
Family
ID=26539416
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP30144496A Expired - Lifetime JP3440722B2 (ja) | 1996-09-20 | 1996-11-13 | 固体撮像装置およびその駆動方法並びにカメラ |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6559889B2 (ja) |
JP (1) | JP3440722B2 (ja) |
Cited By (1)
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1997
- 1997-09-18 US US08/933,533 patent/US6559889B2/en not_active Expired - Lifetime
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