JP3337564B2 - 半導体記憶装置 - Google Patents

半導体記憶装置

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JP3337564B2 JP22157994A JP22157994A JP3337564B2 JP 3337564 B2 JP3337564 B2 JP 3337564B2 JP 22157994 A JP22157994 A JP 22157994A JP 22157994 A JP22157994 A JP 22157994A JP 3337564 B2 JP3337564 B2 JP 3337564B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ダイナミックRAM のよ
うなダイナミックセンス型の半導体記憶装置に関し、特
にワードリセットトランジスタを備えた半導体記憶装置
の改良に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、機器のポータブル化、低消費電力
化の進展に伴い、ダイナミックRAMに対する低消費電
力化要望は強く、特に携帯情報機器においては、電池に
よる連続動作の長短が機器の価値を左右するため、動作
時の電流はもちろんのこと、バッテリーバックアップ時
の電流をも低減したローパワー版ダイナミックRAMの
要望が高まっている。このようなローパワー版ダイナミ
ックRAMにおいては、製造工程中のダスト等によるワ
ード線,ビット線間のショート起因のスタンバイ電流増
加を抑制する回路的工夫が施されるようになってきた。
【0003】従来、このような半導体記憶装置(ダイナ
ミックRAM)として、例えば特公平3ー88195号
公報に開示されたものが知られている。この公報におい
て、半導体記憶装置の製造工程中のダスト等によるビッ
ト線ワード線のショートがあった場合のチップの様子を
図10に、ローデコーダー部を図9に示す。
【0004】図9において、ワード線は、トランジスタ
T1〜T7で構成されるローデコーダー、ワードドライ
バーT8、ワードリセット能力調整用トランジスタT1
0’により制御される。トランジスタT10´は、ワー
ドリセット能力を制御できるように、そのゲート電圧V
GLEAKが制御される。
【0005】図9に示すように、従来の半導体記憶装置
では、ローデコーダー部のリセットトランジスタT10
´のゲート電圧は、スタンバイ時と動作時とで異なる電
圧に設定され、動作時にはトランジスタT30のON動
作によりローデコーダーロジックと同じ電圧が、スタン
バイ時にはそれより低い電圧VTTがトランジスタT3
1により設定される。
【0006】前記従来例の動作を説明する。尚、動作と
しては、ビット線ワード線間にショートはあるものの、
冗長回路により不良アドレスアクセス時には、冗長ブロ
ックより正しいデータがアクセスされる半導体記憶装置
のチップ(良品)の場合を考える。
【0007】スタンバイ時には、全てのビット線は次回
動作に備えてプリチャージ用トランジスタを介してビッ
ト線プリチャージレベルにプリチャージされている。一
方ワード線は、ビット線とメモリーセル間のトランスフ
ァーゲートの遮断のため、グランドレベルになってい
る。ビット線−ワード線間にショートがあるチップにお
いて、スタンバイ時にこのような電圧印加状態になる
と、ビット線プリチャージ用トランジスタを介して、順
次、ビット線、ダスト等によるショート部、ワード線、
ワードリセット能力調整用トランジスタT10´の経路
を経てグランドに電流が流れる。この経路の中でワード
リセット能力調整用トランジスタT10´のゲート電圧
VTTは、スタンバイ時には閾値電圧より少し高い1V
程度になるようになっている。ゲート電圧が閾値電圧よ
り少し高い1V程度であるため、ワードリセット能力調
整用トランジスタは高インピーダンスの状態となって、
前記ショート部により流れるようになる電流は十分に制
限され、10μA 程度以下となる。このゲート電圧を制限
しない場合には、ショートによる電流増加は数100μ
A であるので、このようなショートによるスタンバイ電
流上昇を有効に抑制することができる。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来例では、動作時に次のような問題点が存在する。
【0009】すなわち、動作時にはリセットトランジス
タのゲート電位は、チップ活性化信号(ダイナミックRA
M では/RAS信号)を受けて、ローデコーダー回路のロジ
ック"H" レベルとなる。そして、チップ活性化信号が終
了するとまた、元の閾値電圧より少し高い1V程度に下
がるようになっている。ここで、16Mbitの汎用ダイナミ
ックRAM (4 ビットx4M ワード、2048リフレッシュサイ
クル)を例にとって考えてみる。この場合物理的なワー
ド線本数は8192本ある。そして、このワード線一本
ごとに先のワードリセット能力調整用トランジスタが接
続されており、また構成によって変化するが、通常ロー
デコーダーはチップ中央に配置されているために、その
数はワード線本数の2倍になる。今、仮に、このワード
リセット能力調整用トランジスタのサイズをチャンネル
幅2μmチャンネル長1μm とすると、その容量は
(ゲート酸化膜圧14nm換算)70pFに及ぶ。また、この
サイズのリセットトランジスタにおいて、ショート部に
より流れる電流を10μA 程度以下に制限しようとする
と、そのゲート電圧は1V程度以下に下げる必要がある。
この場合に、サイクルタイムを90nsとして、チップ内部
での昇圧電源からの電源電流を計算すると、3mA に及
ぶ。
【0010】また、更に、低電圧(例えば3.3 V)まで
の動作を保証する場合、前記ローデコーダーの電源とし
ては、電源電圧をチップ内部のチャージポンプにより高
電位(例えば5 V程度)に昇圧した内部昇圧電源が用い
られる。内部昇圧回路は一般的に能率が悪く、50%程度
しかないために、電源電流として更に大きい6mA 程度
消費することとなる。即ち、通常ビット線ワード線間
にショートがあるチップにおけるスタンバイ時の電流の
増加は、数100μA 程度であるものの、その増加分を
抑制するために、動作時の電源電流が3mA程度、回路構
成によっては6mA程度も増加することとなる。一般に、
消費電力を抑えた仕様はローパワー版と呼ばれるが、こ
のような仕様のチップが必要とされる携帯機器において
は、スタンバイ電流を低減すると共に、その動作電流を
も低減する必要があり、この動作時の電流をも低減する
必要がある。
【0011】また、他の問題点は、スタンバイ時にワー
ドリセット能力調整用トランジスタT10´のゲートに
印加する電圧VTTの発生回路に存在する。
【0012】すなわち、前記の電圧発生回路は、具体的
には、例えば外部電源とグランドとの間に、PCH トラン
ジスターと、ダイオード接続されたNCH トランジスター
とを直列接続した回路により構成して、この直列回路の
中間ノードから1V程度の低電圧を取り出すことが可能
である。但し、前記PCH トランジスターを低インピーダ
ンスのもので構成すると、その直列回路を流れる貫通電
流が増大するため、高インピーダンスのもので構成し
て、前記直列回路を流れる貫通電流を数μA 以下に抑え
て低電流化を図ることが必要である。しかし、この構成
の低電圧発生回路を用いた場合には、バッテリーでデー
タを保持するためのバッテリーバックアップ電流(スロ
ーリフレッシュ電流やセルフリフレッシュ電流)を有効
に抑制できない。
【0013】前記の問題をより具体的に説明すると、ス
ローリフレッシュやセルフリフレッシュは、周期やその
動作のさせ方について多少の差はあるが、基本的には30
〜数100 μs のスタンバイ状態に引き続いて1 回のリフ
レッシュ動作があり、その後、再び30〜数100 μs のス
タンバイ状態が存在するという,動作状態が間欠的に存
在するモードであって、これにより低電力でデータ保持
を行うものである。ここで、前記低電圧発生回路の出力
端子は、前述の通りワードリセット能力調整用トランジ
スタのゲートに接続され、このゲートは、チップの活性
化信号終了後、ローデコーダの電源の電位レベルから低
電圧レベルVTTの1V程度の電位に下がる際に、前記
低電圧発生回路を、高インピーダンスのPch負荷と、グ
ランドに接続されたダイオード接続のNchMOS トランジ
スタとで構成した低消費電流の簡単な回路では、低電圧
VTTに戻るまでに数十μs 程度の時間を要し、このた
め、スローやセルフリフレッシュモード等の間欠モード
時(数十μs 毎の動作)には、ワードリセット能力調整
用トランジスタのゲート電位が低電圧レベルVTTより
も高い期間が比率的多く存在して、その結果、ワードリ
セット能力調整用トランジスタが低インピーダンスの状
態が比較的長く続いて、ビット線−ワード線間のショー
トによるスタンバイ電流が有効には抑制されず、バッテ
リーバックアップ電流(スローリフレッシュ電流やセル
フリフレッシュ電流)が多く消費される問題がある。
【0014】本発明は、上記従来例の問題点を解決する
ものであり、その目的は、前記のようなワードリセット
能力調整用トランジスタを用いてビット線−ワード線シ
ョート時のスタンバイ電流を抑制する半導体記憶装置に
おいて、その動作時の消費電流やバッテリーバックアッ
プ電流の低減を図ることにある。
【0015】
【課題を解決するための手段】以上の目的を達成するた
め、本発明では、ワードリセット能力調整用トランジス
タの駆動電源として、ローデコーダの電源とは別系統の
電源を用いる構成とし、また、動作時には、半導体記憶
装置に備えるワードリセット能力調整用トランジスタの
全てを動作させる(動作状態を変更する)のではなく、
その動作状態を変更するワードリセット能力調整用トラ
ンジスタの数を限定制限して低減し、その動作時の電源
電流を抑制し、更に、スローリフレッシュ動作やセルフ
リフレッシュ動作等の間欠動作モード時であっても、動
作終了時に所定電圧レベルまで復帰する期間を短く制限
し、例えば数10ns以内に抑えるよう低電圧発生回路を
構成して、製造工程中でのパーティクル等によるビット
線−ワード線間のショートによる電流増加に対しても電
流抑制が効いて、バッテリーバックアップ電流を低減す
ることとする。
【0016】その具体的な解決手段は、請求項1記載の
発明の半導体記憶装置では、マトリクス状に配置された
メモリーセルを活性化するワード線と、前記各ワード線
の電圧を制御する行デコーダー、ワードドライバー及び
ワードリセットトランジスタとを有し、前記ワードリセ
ットトランジスタは、前記ワード線の各々とグランドと
の間に各々直列接続された第1及び第2のトランジスタ
により構成され、前記第1のトランジスタは前記行デコ
ーダーの出力信号により制御され、前記第2のトランジ
スタは、そのゲート電圧が、昇圧電源以外の電源と、前
記昇圧電源及び昇圧電源以外の前記電源よりも電位の低
い低電圧電源とに時間的に切り替え印加されることを特
徴とする。
【0017】請求項2記載の発明の半導体記憶装置は、
マトリクス状に配置されたメモリーセルを活性化するワ
ード線と、前記各ワード線の電圧を制御する行デコーダ
ー、ワードドライバー及びワードリセットトランジスタ
とを有し、前記ワードリセットトランジスタは、前記ワ
ード線とグランドとの間に直列接続された第1及び第2
のトランジスタにより構成され、前記第1のトランジス
タは前記行デコーダーの出力信号により制御され、前記
第2のトランジスタは、そのゲート電圧が、昇圧電源以
外の電源と、前記昇圧電源及び昇圧電源以外の前記電源
よりも電位の低い低電圧電源とに時間的に切り替え印加
され、前記各ワード線に対応するワードリセットトラン
ジスタは、ワード線が冗長置換される1組のワード線本
数に等しい本数のワード線間で、前記第2のトランジス
タが共有されることを特徴とする。
【0018】また、請求項記載の発明の半導体記憶装
置では、マトリクス状に配置されたメモリーセルを活性
化するワード線と、前記各ワード線の電圧を制御する行
デコーダー、ワードドライバー及びワードリセットトラ
ンジスタとを有し、前記ワードリセットトランジスタ
は、前記ワード線とグランドとの間に直列接続された第
1及び第2のトランジスタと、前記ワード線とグランド
との間に接続された第3のトランジスタとにより構成さ
れ、前記第1のトランジスタは前記行デコーダーの出力
信号により制御され、前記第2のトランジスタは、ハイ
レベルとローレベルとに切り替わる設定制御信号により
制御され、前記第3のトランジスタは、そのゲート電圧
として昇圧電源よりも電位の十分低い低電圧電源の電圧
と接地電圧とが前記設定制御信号に基いて切り替え制御
されることを特徴としている。
【0019】更に、請求項記載の発明の半導体記憶装
置では、マトリクス状に配置されたメモリーセルを活性
化するワード線と、前記各ワード線の電圧を制御する行
デコーダー、ワードドライバー及びワードリセットトラ
ンジスタとを有し、前記ワードリセットトランジスタ
は、前記ワード線とグランドとの間に直列接続された第
1及び第2のトランジスタと、前記ワード線とグランド
との間に直列接続された第3及び第4のトランジスタと
により構成され、前記第1のトランジスタは前記行デコ
ーダーの出力信号により制御され、前記第2のトランジ
スタはハイレベルとローレベルとに切り替わる設定制御
信号により制御され、前記第3のトランジスタは前記設
定制御信号を反転した信号により制御され、前記第4の
トランジスタは、そのゲート電圧が、昇圧電源よりも電
位の十分低い低電圧電源の電位であることを特徴とす
る。
【0020】加えて、請求項記載の発明では、前記請
求項1、請求項2、請求項又は請求項記載の半導体
記憶装置において、昇圧電源以外の電源、又は設定制御
信号のハイレベルを生成する電源は、行デコーダーに接
続される電源以外の電源により構成されることを特徴と
する。
【0021】更に加えて、請求項記載の発明では、前
記請求項1、請求項2、請求項又は請求項記載の半
導体記憶装置において、第2のトランジスタのゲート電
圧を昇圧電源以外の電源の電圧又はハイレベルの設定制
御信号の電圧にする期間は、ビット線のセンス動作開始
直前から前記ビット線の終了までの間を含むことを特徴
としている。
【0022】加えて、請求項記載の発明では、前記請
求項1又は請求項2記載の半導体記憶装置において、多
数のメモリセル及びワード線は複数のブロックに区画さ
れ、各ブロックには、自己のブロックに属する複数のワ
ード線に対応する複数のワードリセットトランジスタの
第2のトランジスタのゲート電圧を制御する制御回路が
備えられ、前記各制御回路は、活性化されるメモリセル
を含むブロックの制御回路のみがブロック選択信号を受
けて、第2のトランジスタのゲート電圧を昇圧電源以外
の電源の電圧に切り替えるよう制御することを特徴とす
る。
【0023】更に加えて、請求項記載の発明では、前
記請求項記載の半導体記憶装置において、多数のメモ
リセル及びワード線は複数のブロックに区画され、各ブ
ロックには、自己のブロックに属する複数のワード線に
対応する複数のワードリセットトランジスタの第2及び
第3のトランジスタのゲート電圧を制御する制御回路が
備えられ、前記各制御回路は、活性化されるメモリセル
を含むブロックの制御回路のみがブロック選択信号を受
けて、第2のトランジスタのゲート電圧を設定制御信号
のハイレベル側の電圧に切り替えると共に、第3のトラ
ンジスタのゲート電圧を接地電圧に切り替えるよう制御
することを特徴とする。
【0024】また、請求項記載の発明では、前記請求
記載の半導体記憶装置において、多数のメモリセル
及びワード線は複数のブロックに区画され、各ブロック
には、自己のブロックに属する複数のワード線に対応す
る複数のワードリセットトランジスタの第2及び第3
トランジスタのゲート電圧を制御する制御回路が備えら
れ、前記各制御回路は、活性化されるメモリセルを含む
ブロックの制御回路のみがブロック選択信号を受けて、
第2のトランジスタのゲート電圧を設定制御信号のハイ
レベル側の電圧に切り替えると共に、第3のトランジス
タのゲート電圧を前記設定制御信号のローレベル側の電
圧に切り替えるよう制御することを特徴としている。
【0025】更に、請求項10記載の発明では、前記請
求項、請求項又は請求項記載の半導体記憶装置に
おいて、ブロック選択信号は、アドレス信号の情報が用
いられることを特徴とする。
【0026】加えて、請求項11記載の発明では、前記
請求項1、請求項6又は請求項記載の半導体記憶装置
において、低電圧電源は、出力端子に設定低電圧を発生
させる高インピーダンスの電源と、メモリセルの活性化
の終了後の設定期間の間活性化され、前記出力端子の電
位を前記設定低電圧に引き下げる電荷引き抜き回路とを
有することを特徴とする。
【0027】更に加えて、請求項12記載の発明では、
前記請求項、請求項6又は請求項記載の半導体記憶
装置前記において、低電圧電源は、出力端子に設定低電
圧を発生させる高インピーダンスの電源と、メモリセル
の活性化の終了後の設定期間の間活性化され、前記出力
端子の電位を前記設定低電圧に引き上げる電荷注入回路
とを有することを特徴とする。
【0028】また、請求項13記載の発明の半導体記憶
装置では、マトリクス状に配置されたメモリーセルを活
性化するワード線と、前記各ワード線の電圧を制御する
行デコーダー、ワードドライバー及びワードリセットト
ランジスタとを有し、前記ワードリセットトランジスタ
は、そのゲート電圧が、前記行デコーダーの所定電位の
出力信号と、前記所定電位よりも電位の低い低電圧電源
の電位とに時間的に切り替え印加される半導体記憶装置
において、前記低電圧電源は、出力端子に設定低電圧を
発生させる高インピーダンスの電源と、メモリセルの活
性化の終了後の設定期間の間活性化され、前記出力端子
の電位を前記設定低電圧に引き下げる電荷引き抜き回路
とを有することを特徴とする。
【0029】更に、請求項14記載の半導体記憶装置で
は、マトリクス状に配置されたメモリーセルを活性化す
るワード線と、前記各ワード線の電圧を制御する行デコ
ーダー、ワードドライバー及びワードリセットトランジ
スタとを有し、前記ワードリセットトランジスタは、そ
のゲート電圧が、前記行デコーダーの所定電位の出力信
号と、前記所定電位よりも電位の低い低電圧電源の電位
とに時間的に切り替え印加される半導体記憶装置におい
て、前記低電圧電源は、出力端子に設定低電圧を発生さ
せる高インピーダンスの電源と、メモリセルの活性化の
終了後の設定期間の間活性化され、前記出力端子の電位
を前記設定低電圧に引き上げる電荷注入回路とを有する
ことを特徴とする。
【0030】加えて、請求項15記載の発明では、前記
請求項11、請求項12、請求項13又は請求項14
載の半導体記憶装置において、低電圧電源は、電源投入
時に出力端子の電位を設定低電圧に立ち上げる低インピ
ーダンスの立ち上げ回路を更に有することを特徴とす
る。
【0031】
【作用】以上の構成により、請求項1〜請求項記載の
発明では、昇圧電源以外の電源、即ち外部電源やその外
部電源の電圧を降圧した降圧電源の電圧を用いて、スタ
ンバイ時にワードリセットトランジスタを高インピーダ
ンスの状態にできるので、昇圧電源を用いて高インピー
ダンスの状態にする場合に比して、低消費電流化が図ら
れる。
【0032】特に、請求項2記載の発明では、各ワード
線に対応するワードリセットトランジスタの第2のトラ
ンジスタが、冗長置換される1組のワード線本数に等し
い本数のワード線間で共有されているので、実効的な問
題を生じずに、ワード線リセットトランジスタを構成す
るトランジスタの個数を低減できる。
【0033】また、請求項記載の発明では、動作時に
ワードリセットトランジスタを低インピーダンスの状態
する機能を第2のトランジスタが分担し、スタンバイ時
にワードリセットトランジスタを高インピーダンスの状
態する機能を第3のトランジスタが分担するので、第2
及び第3の各トランジスタの能力を他に拘束されず、独
自に容易に決定することができる。
【0034】また、請求項記載の発明では、スタンバ
イ時にワードリセットトランジスタを高インピーダンス
の状態する機能を第3及び第4の2個のトランジスタが
分担し、第4のトランジスタのゲートには低電圧電源の
低電圧が印加され、この低電圧電源には、動作時からス
タンバイ時への切り替え時に昇圧電源の電圧は流入しな
いので、この低電圧電源を簡易に構成することができ
る。
【0035】更に、請求項載の発明では、第2のトラ
ンジスタのゲート電圧を昇圧電源以外の電源の電圧又は
ハイレベルの設定制御信号の電圧にする期間には、ビッ
ト線のセンス動作開始直前から前記ビット線の終了まで
の間、即ち、ワード線がノイズを受ける可能性が高くな
る期間を含むので、適切な期間でワード線のリセット能
力を高めて、ノイズに対する耐性が向上する。
【0036】また、請求項〜請求項10記載の発明で
は、複数のブロックのうち、活性化されるメモリセルに
対応するワード線を含むブロックのみについて、制御回
路が動作して、そのブロックに属するワードリセットト
ランジスタのみが低インピーダンスの状態に制御され、
他のブロックに属するワードリセットトランジスタは高
インピーダンスの状態に保持されるので、高インピーダ
ンスの状態に動作させるワードリセットトランジスタの
個数が低減されて、低消費電流となる。
【0037】更に、請求項11及び請求項13記載の発
明では、メモリセルの活性化の終了後の設定期間の間
は、動作時の電圧が低電圧電源に流入するものの、電荷
引き抜き回路が活性化されて、その出力端子の電位を設
定低電圧に素早く引き下げ、このことによりワードリセ
ットトランジスタは直ちに高インピーダンスの状態とな
るので、スタンバイ電流が低減されて、スローリフレッ
シュ時やセルフリフレッシュ時であっても、バックアッ
プ電流が効果的に低減される。
【0038】更に、請求項12及び請求項14記載の発
明では、メモリセルの活性化の終了後の設定期間の間
は、低電圧電源からグランドに対して電荷が流出するも
のの、電荷注入回路が活性化されて、その出力端子の電
位を設定低電圧に素早く引き上げ、このことによりワー
ドリセットトランジスタは直ちに高インピーダンスの状
態となるので、スタンバイ電流が低減されて、スローリ
フレッシュ時やセルフリフレッシュ時であっても、バッ
クアップ電流を効果的に低減される。
【0039】加えて、請求項15記載の発明では、電源
投入時には、低電圧電源の立ち上げ回路が動作して、低
電圧を素早くその出力端子に供給するので、ワードリセ
ットトランジスタのフローティングが確実に防止され
て、電源投入直後に書き込んだデータであっても、その
保証が可能である。
【0040】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基いて説明す
る。 (第1の実施例) 図1は、本半導体記憶回路の第1実施例の半導体記憶装
置の全体構成を示し、図2は図1の半導体記憶装置の要
部構成を示し、図3は図2の構成の詳細を示し、図4は
タイミングチャートを示す。
【0041】図1において、1は内部昇圧電源電圧Vpp
で動作するローデコーダー(行デコーダー)、T1〜T
7は前記ローデコーダー1を構成するトランジスタであ
る。2はワード線、T8はワードドライバー、3はワー
ドリセットトランジスタであって、このワードリセット
トランジスタ3は、前記ワード線2とグランドとの間に
直列接続された第1のトランジスタT9及び第2のトラ
ンジスタT10により構成される。前記第1のトランジ
スタT9は、前記ローデコーダー1からの昇圧電位VPP
の出力信号により制御される。前記ワード線2は、前記
ローデコーダー1、ワードドライバーT8及び前記ワー
ドリセットトランジスタにより制御される。
【0042】また、4は前記ワードリセットトランジス
タ3の第2のトランジスタT10のゲートに出力端子が
接続されたワードリセットトランジスタ能力制御回路
(制御回路)、5は、トランジスタの閾値電圧よりも
0.2〜0.5V程度高い例えば1V程度の設定低電圧
VTTを発生する低電圧発生回路である。
【0043】図2は、各回路がどのように配置されるか
の一例を示したものであり、10…はセンス動作するビ
ット線に直交するワード線領域を複数に分割したブロッ
ク、11…は各ブロック1…に対応して設けられたセン
スアンプである。前記図1に示すワードドライバーT8
及びワードリセットトランジスタ3は、共に、図2にお
いて各ブロック10…に対応してチップ中央位置に配置
される。
【0044】前記図1に示すワードドライバーT8及び
ワードリセットトランジスタ3は、図3に示すように、
1つのブロック10内にワード線2と直交する方向に
ワード線2に対応してワード線2の本数と同数配置され
ると共に、ローデコーダー1も同方向に多数配置され
る。前記図1に示すワードリセットトランジスタ能力制
御回路4は、図2において上下のブロック10を1単位
として1個づつ設けられる。
【0045】次に、図1に示したワードリセットトラン
ジスタ能力制御回路4及び低電圧発生回路5の詳細を図
1に基いて説明する。
【0046】前記ワードリセットトランジスタ能力制御
回路4において、Vccは例えば3.3Vの電源又はこの
電圧に降圧された電源であり、内蔵するチャージポンプ
により昇圧された前記ローデコーダ1の電源である昇圧
電源以外の電源である。RA3、RA4はブロック選択
用アドレス信号であって、AND回路20に入力され
る。前記AND回路20の出力は、ブロック選択信号BL
K となり、このブロック選択信号BLK は、インバータ2
1を介してNchトランジスタT11及びPchトランジス
タT12の各ゲートに入力される。前記一方のPchトラ
ンジスタT12は、前記ブロック選択信号BLK がHIGHと
なった自己のブロックの選択時に、ON動作して、前記
昇圧電源以外の電源Vccを自己のブロック10内に属す
る全ての前記ワードリセットトランジスタ3の第2のト
ランジスタT10のゲートに印加して、ワードリセット
トランジスタ3を低インピーダンスな状態とし、ワード
リセット能力を高める。一方、他方のNchトランジスタ
T11は、前記低電圧発生回路5の出力端子が接続され
ていて、前記ブロック選択信号BLK がLOW となったブロ
ック非選択時に、ON動作して、前記低電圧電源5の設
定低電圧VTTをワードリセットトランジスタ3の第2の
トランジスタT10のゲートに印加して、ワードリセッ
トトランジスタ3を高インピーダンスな状態として、ワ
ードリセット能力を低く制御する。従って、このワード
リセットトランジスタ能力制御回路4は、1ブロック1
0を単位として、ワードリセットトランジスタ3の第2
のトランジスタT10のゲート電圧VGLEAKを各ブ
ロック単位で制御する。
【0047】前記ブロック選択用アドレス信号RA3、
RA4は、図3に示すように、ブロック選択用アドレス
制御回路30の制御信号、及びこの制御信号を受ける4
個のAND回路31…等により生成される。前記ブロッ
ク選択用アドレス制御回路30は、図4のタイミングシ
ーケンスに示すように、ビット線のセンス動作開始時
(図中記号Aで示す)の直前の時点Bから前記ビット線
センス動作終了時C後の時点Dまでの間で、ブロック
選択信号BLK をHIGHにして、ワードリセットトランジス
タ3の第2のトランジスタT10のベース電圧VGLE
AKとして昇圧電源以外の電源の電圧Vccを印加するよ
うに、ブロック選択用アドレス信号を生成する。
【0048】尚、ローデコーダー用アドレス信号RA
1,RA2は、ローデコーダー用アドレス信号制御回路
32の制御信号、及びこの制御信号を受ける4個のAN
D回路33…等により生成される。
【0049】また、図1の低電圧発生回路5において、
6は設定低電圧VTTを発生する基準電圧発生回路(高イ
ンピーダンスの電源)であって、グランドにダイオード
接続されたNchトランジスタT17と、昇圧電源以外の
電源電圧Vccに接続された高インピーダンスのPchトラ
ンジスタT18とを直列接続して成っている。
【0050】また、前記低電圧発生回路5において、7
は出力端子の電位を設定低電圧VTTのレベルにまで引き
下げる電荷引き抜き回路であって、前記電荷引き抜き回
路7は、前記基準電圧発生回路6と同電位を発生する2
個のトランジスタT13,T14より構成される基準電
圧発生部8と、この基準電圧発生部8の発生電圧と出力
端子の電圧とを入力とする差動アンプ9と、この差動ア
ンプ9の出力により制御されるトランジスタT16と、
他のトランジスタT15とから成っている。従って、前
記ワード線リセットトランジスタ能力制御回路4により
ワードリセットトランジスタ3の第2のトランジスタT
10のベース電圧VGLEAKが、昇圧電源以外の電源
Vccの電位から、低電圧発生回路5の設定低電圧VTTに
低下する際に、差動アンプ9の出力によりトランジスタ
T16をON動作させて、出力端子をグランドに接続
し、速やかに出力端子の余剰電荷を引き抜くように構成
している。
【0051】尚、図1において、15はタイミング制御
回路であって、このタイミング制御回路15は、半導体
記憶装置の活性化信号/RASを受けて低電圧発生回路制御
信号VTTCTRLを発生させて、ワードリセットトラ
ンジスタ3の第2のトランジスタT10のベース電圧V
GLEAKが昇圧電源以外の電源Vccの電位から低電圧
発生回路5の設定低電圧VTTに低下する時点から所定期
間経過後、差動アンプ9の作動を停止させると共に、ト
ランジスタT15をOFF動作させるようにしている。
【0052】また、前記低電圧発生回路5において、1
7は立ち上げ回路であって、昇圧電源以外の電源Vccが
接続され、低インピーダンスな2個のトランジスタT2
1、T22と、パワーオンリセット信号PORを受けて
ON動作するトランジスタT19とから成り、パワーオ
ン時に、低電圧電源回路5の出力電位の立ち上がりを速
くする。
【0053】したがって、上記実施例においては、図4
のタイミングシーケンスに示すように、活性化信号/R
ASが入力されて、ブロック選択用アドレス信号RA
3、RA4に基いてブロック選択信号BLK が発生する
と、その選択された活性ブロック10のみに属する全て
のワードリセットトランジスタ10の第2のトランジス
タT10のゲート電圧VGLEAKとして、昇圧電源以
外の電源Vccが印加され、他の非活性ブロック10…は
依然として設定低電圧VTTのままの、ワードリセット能
力が低く絞られたままの状態になっている。これは、非
活性ブロック10…については、その領域でのセンス動
作がないため、ワード線2…がノイズを受けることがな
く、そのワードリセット能力を増加させる必要がない点
に着目したからである。
【0054】以上のことから、本実施例では、ワードリ
セットトランジスタ3を第1及び第2の2個のトランジ
スタT9,T10によって構成し、その第2のトランジ
スタT10のゲート電圧VGLEAKとして昇圧電源以
外の電源Vccの電圧を印加して、ワード線リセットトラ
ンジスタ3のワードリセット能力を高めたので、駆動電
源に効率の悪い昇圧電源を使用する場合(ローデコーダ
に昇圧電源を用いる低電圧動作可能なDRAM)に比し
て、低消費電流化を図ることができる。
【0055】また、本実施例では、ブロック選択信号BL
K を用いて、選択された活性ブロック10のみに属する
ワードリセットトランジスタ3の第2のトランジスタT
10を制御して、選択ブロック10内のワード線のリセ
ット能力のみを高め、他の非活性ブロック10…のワー
ドリセットトランジスタ3については、依然として設定
低電圧VTTの継続印加によりワードリセット能力が低く
絞られたままの状態に制御されるので、ワードリセット
トランジスタ3のゲートの充放電に掛かるトランジスタ
数を、例えば従来の16MDRAMの場合の1/8〜1
/16(リフレッシュサイクルにより異なる。)に少な
く制限でき、よって一層低消費電流化が可能である。
【0056】更に、本実施例では、低電圧発生回路5の
基準電圧発生回路6にて、基準の設定低電圧VTTを発生
させる。半導体記憶装置が活性化されると、ブロック選
択用アドレス信号によって選択されたブロックに属する
ワードリセットトランジスタ3の第2のトランジスタT
10のゲート電位が、上記低電圧発生回路5で発生した
設定低電圧VTTレベルから昇圧電源以外の電源Vccの電
位レベルに切り替えられる。このことにより、活性選択
ブロック10のワードリセット能力が増強され、センス
時のビット線からのカップリングノイズによるワード線
の浮きや沈み込みが無くなる。そして、半導体記憶装置
の活性状態が解かれると、ブロック選択が解除され、ワ
ードリセットトランジスタゲート3の電位は、元の設定
低電圧VTTレベルに戻される。この時、昇圧電源以外の
電源Vccの電位レベルと前記設定低電圧VTTレベルの差
分の電荷が余剰となるが、この余剰電荷は、電荷引き抜
き回路7により速やかにグランドに引き抜かれる。
【0057】仮に、前記電荷引き抜き回路7が無い場合
を考えると、選択ブロック10のみの容量は数pF存在
し、この余剰分の電荷を放電するためには高インピーダ
ンスの基準電圧発生回路6のみでは、設定低電圧VTTに
戻るまでの時間は数十μs 要する。16Mのダイナミッ
クRAMのローパワー(例えば3.3 V)でのリフレッシ
ュ周期は、4Kリフレッシュで128msであるので、
分散リフレッシュでは31μs 程度の周期で半導体記憶
装置が活性化される。この31μs の期間に対して、数
十μs の期間は、ビット線−ワード線間のショートによ
るスタンバイ電流の増大を充分に抑制できなくなる。し
かし、本実施例では、ワードリセットトランジスタ3の
第2のトランジスタT10のゲート電圧VGLEAKを
スタンバイ時の設定低電圧VTTに戻すときに、前述の通
り、余剰電荷は電荷引き抜き回路7により図5に破線で
示すように速やかにグランドに引き抜かれるので、出力
端子は速やかに設定低電圧VTTレベルに引き下げるられ
る。従って、スローやセルフの各リフレッシュモード等
の間欠モード時にも、ビット線−ワード線間のショート
によるスタンバイ電流の増大を効果的に抑制できる。
【0058】また、低電圧発生回路5において、半導体
記憶装置が電源投入された際には、前述した高インピー
ダンスの基準電圧発生回路6(仮に、その電源インピー
ダンスを1Mohm とした場合)だけでは、設定低電圧V
TTの電位の立ち上がりに数十μs の時間を必要とし、そ
れまでの間は、ワードリセットトランジスタ3の能力が
充分でなく、最悪ではフローティングの状態となり、書
き込んだデータの保証ができなくなる。しかし、本実施
例では、電源投入後のパワーオンリセット信号PORに
より立ち上り回路17が速やかに設定低電圧VTTの電位
を立ち上げるので、電源投入からそれまでの間に書き込
まれたデータの保証が可能である。この時、電位が所定
レベルよりも多少高くても、電源投入の僅かな期間のみ
のスタンバイ電流が増加するのみであるので、特に問題
とならない。 (第2の実施例) 図6は本発明の第2の実施例の半導体記憶装置を示す。
【0059】図6において、WL0、WL1、WL2、
WL3はワード線である。
【0060】本実施例では、ローデコーダー1´は、ト
ランジスタT1〜T6及びT7a〜T7dにより構成さ
れ、ワードドライバーは4個のトランジスタT8a〜T
8dにより構成される。また、ワードリセットトランジ
スタ3´は、4個の第1のトランジスタT9a〜T9d
と、2個の第2のトランジスタT10a、T10bによ
り構成され、そのうち、4個の第1のトランジスタT9
a〜T9dによりワードリセット部が、2個の第2のト
ランジスタT10a、T10bによりワードリセット能
力調整部が構成される。
【0061】本実施例では、前記第1の実施例に対し
て、1個のローデコーダー1´に対して、プリデコード
された4本の信号φwが各々対応するワードドライバー
T8a〜T8dに入力され、またワードリセットトラン
ジスタ3´の第1のトランジスタT9a〜T9dは、ロ
ーデコーダー1´の出力信号によって共通して制御さ
れ、前記4個の第1のトランジスタT9a〜T9dは、
2個づつそのグランド側が接続されて、各々、前記第2
のトランジスタT10a、T10bに接続されている。
即ち、本実施例では、ワードリセットトランジスタ3´
の第2のトランジスタT10a、T10bが、本来は4
個備えるべきところ、2個づつ共用化される。
【0062】したがって、本実施例では、前記第1の実
施例に比べ、ワードリセットトランジスタの第2のトラ
ンジスタ(ワードリセット能力調整用トランジスタ)の
個数を半減することができる。このように接続しても、
ビット線−ワード線間のショートによる電流増加を抑制
できる。
【0063】しかし、前記のように接続することによ
り、ビット線−ワード線間のショートが有った場合、例
えば図6に示すワード線WL0がビット線とショートし
ている場合を考えると、スタンバイ時にはショート部で
の電流増加を抑制する目的から、第2のトランジスタT
10a,T10bのベース電圧VGLEAKは設定低電
圧VTTになっているため、この第2のトランジスタ(ワ
ードリセット能力調整用トランジスタ)T10a,T1
0bは高インピーダンスな状態になっている。一方、第
1のトランジスタT9a〜T9dは、ローデコーダー1
´からの出力信号によりON状態になっている。従っ
て、ワード線WL0はビット線プリチャージ電位にな
り、その結果、ワード線WL1もビット線プリチャージ
電位になる。このことは、ショートしているワード線W
L0と、ショートしていないワード線WL1とに対応す
るメモリーセルのデータが破壊することになる。しか
し、ワード線の冗長は一般に冗長前後でのデータトポロ
ジーの維持やローデコーダのレイアウトの制限のため、
複数ワード線単位(2本もしくは4本単位)での置き換
えを行っている。従って、この共用化する第2のトラン
ジスタ(ワードリセット能力調整用トランジスタ)を冗
長救済時の冗長単位に合わせることにより、実効的な問
題を生じることなく、第2のトランジスタの個数を半減
しつつ、動作時の電流を低減することができるできる。
尚、本実施例では、ワードリセットトランジスタ3´の
第2のトランジスタを2個づつ共用化したが、ワード線
の冗長救済時の冗長単位が4本のワード線である場合に
は、4個づつ共用化すればよい。
【0064】また、以上のような接続をすることによ
り、次のような別の利点が生まれる。即ち、冗長単位で
ある2本のワード線WL0、WL1の組は、各々、ビッ
ト線対の互いに反対側のビット線のメモリーセルトラン
スファーゲートに接続されている。また、CMOSタイ
プの半導体記憶装置のセンスアンプでは、ロー側センス
アンプ、ハイ側センスアンプがほぼ同時に活性化され
る。このため、センス動作に伴うビット線からワード線
に対するカップリングノイズは、ワード線WL0、WL
1両方を考慮するとキャンセルし合う。一方のワード線
だけでは、データパターンによっては、一方が全てハイ
側ビット線、他方が全てロー側ビット線とのカップリン
グになる場合があるが、ビット線の立ち上がり、立ち下
がりスピードを同じになるようにすることにより、ワー
ドリセット能力を常に低い状態にしておくことが可能と
なり、従って、本実施例では、第2のトランジスタ10
a、10bのベース電圧VGLEAKとして一定の設定
低電圧VTTが印加される。この構成により、本実施例で
は、前記第1の実施例の低電圧発生回路5を簡略化した
低電圧発生回路を備えればよく、またブロックでのタイ
ミング制御回路15が不要となるので、更に簡単な回路
構成となると共に、動作時の電源電流を一層低減できる
効果を奏する。 (第3の実施例) 図7は本発明の第3の実施例を示す。
【0065】本実施例では、ワードリセットトランジス
タ3´´は第1、第2及び第3の3個のトランジスタT
9、T40、T41により構成される。
【0066】第1のトランジスタT9は前記第1のトラ
ンジスタT8と同一である。第2のトランジスタT40
は、そのゲートにブロック選択信号BLK (設定制御信
号)が入力されており、ハイレベルのブロック選択信号
BLK によりON動作して、第1のトランジスタT9と共
働でワード線WLをグランドに接続し、ワードリセット
能力を大に制御する機能を有する。
【0067】一方、第3のトランジスタT41は、ワー
ド線WLの両端部のうち、前記第2のトランジスタT4
0が配置された側の端部(図6では左端部)とは異なる
端部(右端部)とグランドとの間に配置されると共に、
そのゲートには、前記第1の実施例と同様のワードリセ
ットトランジスタ能力制御回路4´の出力が入力されて
いて、そのゲートに設定低電圧VTTが印加された時、ワ
ード線WLを高抵抗でグランドに接続し、そのゲートに
0電圧が印加された時、OFF動作してワード線WLと
グランドとの接続を立つ機能を有する。
【0068】前記ワードリセットトランジスタ能力制御
回路4´は、前記ワードリセットトランジスタ3´´の
第3のトランジスタT41を制御して、ワード線WLの
リセット能力を小に又はなくす制御をする機能を有す
る。但し、この能力制御回路4´には、昇圧電源以外の
電源Vccと、トランジスタT12とは備えられず、トラ
ンジスタT12´が備えられる。このトランジスタT1
2´は、前記第3のトランジスタT41のゲート電極と
接地間に配置されると共に、ブロック選択信号BLK によ
り制御され、自己のブロックが選択された時に、ハイレ
ベルのブロック選択信号BLK によりON動作して、第3
のトランジスタT41のベース電圧VGLEAKを0V
にする機能を有する。
【0069】前記ワードリセットトランジスタ能力制御
回路4´は、低電圧発生回路5´から設定低電圧VTTを
受ける。前記低電圧発生回路5´は、前記第1の実施例
の低電圧発生回路5と同一構成の基準電圧発生回路6と
立ち上げ回路17とを備えると共に、電荷注入回路7´
とを備える。この電荷注入回路7´は、図11に示すよ
うに、前記ワード線リセットトランジスタ能力制御回路
4´によりワードリセットトランジスタ3''の第3のト
ランジスタT41のベース電圧VGLEAKが、接地電
位から、低電圧発生回路5´の設定低電圧VTTに上昇す
る際に、差動アンプ9´の出力によりトランジスタT1
6´をON動作させて、出力端子を昇圧電源以外の電源
Vccに接続し、速やかに出力端子余剰電荷を注入し
て、ベース電圧VGLEAKを設定低電圧VTTに上昇さ
せる機能を有する。
【0070】したがって、本実施例では、ワードリセッ
ト能力を大に制御する機能を第1及び第2のトランジス
タT9、T40が分担し、ワードリセット能力を小に制
御する機能を第3のトランジスタT41が分担するの
で、第2及び第3のトランジスタT40、T41の能力
(サイズ)を他に拘束されずに自由に決定することが可
能である。
【0071】また、半導体を非活性化した際、それまで
選択されていたブロックの0V電位のワード線が接続さ
れて、設定低電圧VTTが低下し、その結果、短いサイク
ルで動作させた場合には、この設定低電圧VTTの低下が
繰返し連続して、設定低電圧VTTが第3のトランジスタ
T41の閾値電圧を下回り、ワード線がフローティング
状態になることが想定されるものの、本実施例では、前
記低電圧発生回路5´の電荷注入回路7´による電荷注
入によって設定低電圧VTTが速やかに上昇するので、前
記のような問題は生じない。
【0072】尚、本実施例では、第3のトランジスタT
41を図6の右端部に配置したが、第2のトランジスタ
T40が配置された側の端部(左端部)に配置してもよ
い。但し、第2のトランジスタT40が配置される側
は、ローデコーダー1等の多くのトランジスタが配置さ
れるため、レイアウトの容易性を考慮すれば、本実施例
のようにローデコーダー1とは反対側が望ましい。 (第4の実施例) 図8は本発明の第4の実施例を示す。
【0073】本実施例、前記第3の実施例を更に変形
した実施例であって、前記第3の実施例のワードリセッ
トトランジスタ3´´の第3のトランジスタT41の機
能を2個のトランジスタT41a、T41bに分割した
ものである。
【0074】前記2個のトランジスタT41a、T41
bは、ワード線WLとグランドとの間に直列に接続され
ると共に、その2個のうち、一方の第3のトランジスタ
T41aは、そのゲートに、ブロック選択信号BLK の反
転信号/BLKが入力され、ローレベルの反転ブロック選択
信号/BLKによりOFF動作し、ハイレベルの反転ブロッ
ク選択信号/BLKによりON動作する。
【0075】他方の第4のトランジスタT41bは、前
記第1の実施例における低電圧発生回路5と同様の低電
圧発生回路5´の出力により制御され、前記低電圧発生
回路5´の出力(設定低電圧VTT) により常時高抵抗の
状態でON動作している。
【0076】前記低電圧発生回路5´は、第1の実施例
の低電圧発生回路5に比し、電荷引き抜き回路7又は電
荷注入回路7´を有しない。
【0077】したがって、本実施例においては、第4の
トランジスタT41bのベースに低電圧発生回路5´の
出力(設定低電圧VTT) が入力され、この低電圧発生回
路5´には設定低電圧VTTを越える高電圧の逆流又はこ
の設定低電圧VTTからの電荷放出がないので、電荷引き
抜き回路7又は電荷注入回路7´を設ける必要がなく、
その分、低電圧発生回路5´の構成を簡易にできる特殊
の効果を奏する。
【0078】尚、以上の説明では、ローデコーダー1に
は、昇圧電圧Vppを発生する昇圧電源を接続してその動
作を行わせたが、その他、低電圧までの動作を保証しな
くてよい場合には、前記昇圧電源以外の電源であって前
記昇圧電圧Vpp以下の電圧を発生する電源(例えば3.3V
電源)を接続してその動作を行わせてもよいのは勿論で
ある。
【0079】また、本発明は、ダイナミックセンス型の
強誘電体メモリーにおいても適用可能である。
【0080】
【発明の効果】以上説明したように、請求項1〜請求項
記載の発明によれば、昇圧電源以外の電源の電圧を用
いて、スタンバイ時にワードリセットトランジスタを高
インピーダンスの状態にできるように複数のトランジス
タで構成したので、ワード線のリセット能力を制御する
トランジスタを1個で構成した場合の低電圧動作対応
品、即ち、ローデコーダの電源に昇圧電源を用いてワー
ド線リセット能力の調整を昇圧電位とこれより低い低電
圧電位とで切り替えて行う場合に比して、低消費電流化
を図ることができる。
【0081】特に、請求項2記載の発明によれば、各ワ
ードリセットトランジスタを構成する一部のトランジス
タを、冗長置換される1組のワード線本数に等しい本数
のワード線間で共有したので、実効的な問題を生じず
に、ワード線リセットトランジスタを構成するトランジ
スタの個数を低減できる効果を奏する。
【0082】更に、請求項記載の発明によれば、ワー
ドリセットトランジスタを構成する第2及び第3の各ト
ランジスタの能力を他に拘束されず、独自に決定するこ
とができる。
【0083】また、請求項記載の発明によれば、低電
圧電源の低電圧がワードリセットトランジスタの第4の
トランジスタのゲートに印加して、動作時からスタンバ
イ時への切り替え時にこの低電圧電源に対して昇圧電源
の電圧の流入がないので、この低電圧電源の構成を簡易
にできる。
【0084】更に、請求項記載の発明によれば、ワー
ド線がノイズを受ける可能性が高くなる期間でワードリ
セットトランジスタを低インピーダンスの状態に制御し
たので、必要な期間でワード線リセット能力を高めて、
ノイズ耐性の向上を図ることができる。
【0085】また、請求項〜請求項10記載の発明に
よれば、複数のブロックのうち、活性化されるメモリセ
ルに対応するワード線を含むブロックのみについて、そ
のブロックに属するワードリセットトランジスタのみを
低インピーダンスの状態に制御したので、ゲート電圧が
遷移するワードリセットトランジスタの個数を低減し
て、低消費電流化を図ることができる。
【0086】更に、請求項11〜請求項14記載の発明
によれば、メモリセルの活性化の終了後の設定期間の間
で、動作時の電圧が低電圧電源に流入し、又は低電圧電
源の電荷が流出しても、その電荷を素早く引き抜き又は
注入したので、ワードリセットトランジスタを直ちに所
定インピーダンスの状態として、通常動作が安定に、ま
たスローリフレッシュ時やセルフリフレッシュ時でのバ
ックアップ電流を効果的に低減することができる。
【0087】加えて、請求項15記載の発明によれば、
電源投入時には、低電圧電源の立ち上げ回路により低電
圧を素早くその出力端子に供給したので、ワードリセッ
トトランジスタのフローティングを確実に防止して、早
期に書き込んだデータであっても、これを保証すること
ができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例の半導体記憶装置のロー
デコーダー周りを示す回路図である。
【図2】同実施例の半導体記憶装置の全体概略構成図で
ある。
【図3】同実施例のブロック選択揺アドレス信号の生成
の構成を示す図である。
【図4】同実施例でのタイミングチャートを示す図であ
る。
【図5】同実施例の低電圧発生回路の電荷引き抜き回路
の作動の説明図である。
【図6】本発明の第2の実施例の半導体記憶装置のロー
デコーダー周りを示す回路図である。
【図7】本発明の第3の実施例の半導体記憶装置のロー
デコーダー周りを示す回路図である。
【図8】本発明の第4の実施例の半導体記憶装置のロー
デコーダー周りを示す回路図である。
【図9】従来例の半導体記憶装置のローデコーダー周り
を示す回路図である。
【図10】従来例の半導体製造工程中のダスト等による
ビット線とワード線間のショートによるスタンバイ電流
上昇のモデル図である。
【図11】第3の実施例の低電圧発生回路の電荷注入回
路の作動の説明図である。
【符号の説明】
1 ローデコーダー 2,WL WL1〜WL4 ワード線 3 ワードリセットトランジスタ 4 ワードリセットトランジスタ
能力制御回路 5、5´ 低電圧発生回路 6 基準電圧発生回路 7 電荷引き抜き回路 7´ 電荷注入回路 T8,T8a〜T8d ワードドライバートランジス
タ T9,T9a〜T9d T10,T 10a,T10b ワードリセットトランジスタの
構成トランジスタ T15,T16 電荷引き抜き回路用トランジ
スタ T19〜T21 電源投入時用トランジスタ /RA ローデコーダーリセット信号 RA1〜RA4 ブロック選択用アドレス信号 VTT 設定低電圧 VCC 昇圧電源以外の電源 VPP 内部昇圧電源 /RAS 半導体記憶装置活性化信号 BLK ブロック選択信号

Claims (15)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 マトリクス状に配置されたメモリーセル
    を活性化するワード線と、 前記各ワード線の電圧を制御する行デコーダー、ワード
    ドライバー及びワードリセットトランジスタとを有し、 前記ワードリセットトランジスタは、前記ワード線の各
    とグランドとの間に各々直列接続された第1及び第2
    のトランジスタにより構成され、前記第1のトランジス
    タは前記行デコーダーの出力信号により制御され、前記
    第2のトランジスタは、そのゲート電圧が、昇圧電源以
    外の電源と、前記昇圧電源及び昇圧電源以外の前記電源
    よりも電位の低い低電圧電源とに時間的に切り替え印加
    されることを特徴とする半導体記憶装置。
  2. 【請求項2】 マトリクス状に配置されたメモリーセル
    を活性化するワード線と、 前記各ワード線の電圧を制御する行デコーダー、ワード
    ドライバー及びワードリセットトランジスタとを有し、 前記ワードリセットトランジスタは、前記ワード線とグ
    ランドとの間に直列接続された第1及び第2のトランジ
    スタにより構成され、前記第1のトランジスタは前記行
    デコーダーの出力信号により制御され、前記第2のトラ
    ンジスタは、そのゲート電圧が、昇圧電源以外の電源
    と、前記昇圧電源及び昇圧電源以外の前記電源よりも電
    位の低い低電圧電源とに時間的に切り替え印加され、 前記各ワード線に対応するワードリセットトランジスタ
    は、ワード線が冗長置換される1組のワード線本数に等
    しい本数のワード線間で、前記第2のトランジスタが共
    有される ことを特徴とする半導体記憶装置。
  3. 【請求項3】 マトリクス状に配置されたメモリーセル
    を活性化するワード線と、 前記各ワード線の電圧を制御する行デコーダー、ワード
    ドライバー及びワードリセットトランジスタとを有し、 前記ワードリセットトランジスタは、前記ワード線とグ
    ランドとの間に直列接続された第1及び第2のトランジ
    スタと、前記ワード線とグランドとの間に接続された第
    3のトランジスタとにより構成され、前記第1のトラン
    ジスタは前記行デコーダーの出力信号により制御され、
    前記第2のトランジスタは、ハイレベルとローレベルと
    に切り替わる設定制御信号により制御され、前記第3の
    トランジスタは、そのゲート電圧として昇圧電源よりも
    電位の十分低い低電圧電源の電圧と接地電圧とが前記設
    定制御信号に基いて切り替え制御されることを特徴とす
    る半導体記憶装置。
  4. 【請求項4】 マトリクス状に配置されたメモリーセル
    を活性化するワード線と、 前記各ワード線の電圧を制御する行デコーダー、ワード
    ドライバー及びワードリセットトランジスタとを有し、 前記ワードリセットトランジスタは、前記ワード線とグ
    ランドとの間に直列接続された第1及び第2のトランジ
    スタと、前記ワード線とグランドとの間に直列接続され
    た第3及び第4のトランジスタとにより構成され、前記
    第1のトランジスタは前記行デコーダーの出力信号によ
    り制御され、前記第2のトランジスタはハイレベルとロ
    ーレベルとに切り替わる設定制御信号により制御され、
    前記第3のトランジスタは前記設定制御信号を反転した
    信号により制御され、前記第4のトランジスタは、その
    ゲート電圧が、昇圧電源よりも電位の十分低い低電圧電
    源の電位であることを特徴とする半導体記憶装置。
  5. 【請求項5】 昇圧電源以外の電源、又は設定制御信号
    のハイレベルを生成する電源は、行デコーダーに接続さ
    れる電源以外の電源により構成されることを特徴とする
    請求項1、請求項2、請求項又は請求項記載の半導
    体記憶装置。
  6. 【請求項6】 第2のトランジスタのゲート電圧を昇圧
    電源以外の電源の電圧又はハイレベルの設定制御信号の
    電圧にする期間は、ビット線のセンス動作開始直前から
    前記ビット線の終了までの間を含むことを特徴とする請
    求項1、請求項2、請求項又は請求項記載の半導体
    記憶装置。
  7. 【請求項7】 多数のメモリセル及びワード線は複数の
    ブロックに区画され、各ブロックには、自己のブロック
    に属する複数のワード線に対応する複数のワードリセッ
    トトランジスタの第2のトランジスタのゲート電圧を制
    御する制御回路が備えられ、 前記各制御回路は、活性化されるメモリセルを含むブロ
    ックの制御回路のみがブロック選択信号を受けて、第2
    のトランジスタのゲート電圧を昇圧電源以外の電源の電
    圧に切り替えるよう制御することを特徴とする請求項1
    又は請求項2記載の半導体記憶装置。
  8. 【請求項8】 多数のメモリセル及びワード線は複数の
    ブロックに区画され、各ブロックには、自己のブロック
    に属する複数のワード線に対応する複数のワードリセッ
    トトランジスタの第2及び第3のトランジスタのゲート
    電圧を制御する制御回路が備えられ、 前記各制御回路は、活性化されるメモリセルを含むブロ
    ックの制御回路のみがブロック選択信号を受けて、第2
    のトランジスタのゲート電圧を設定制御信号のハイレベ
    ル側の電圧に切り替えると共に、第3のトランジスタの
    ゲート電圧を接地電圧に切り替えるよう制御することを
    特徴とする請求項記載の半導体記憶装置。
  9. 【請求項9】 多数のメモリセル及びワード線は複数の
    ブロックに区画され、各ブロックには、自己のブロック
    に属する複数のワード線に対応する複数のワードリセッ
    トトランジスタの第2及び第3のトランジスタのゲート
    電圧を制御する制御回路が備えられ、 前記各制御回路は、活性化されるメモリセルを含むブロ
    ックの制御回路のみがブロック選択信号を受けて、第2
    のトランジスタのゲート電圧を設定制御信号のハイレベ
    ル側の電圧に切り替えると共に、第3のトランジスタの
    ゲート電圧を前記設定制御信号のローレベル側の電圧に
    切り替えるよう制御することを特徴とする請求項記載
    の半導体記憶装置。
  10. 【請求項10】 ブロック選択信号は、アドレス信号の
    情報が用いられることを特徴とする請求項、請求項
    又は請求項記載の半導体記憶装置。
  11. 【請求項11】 低電圧電源は、出力端子に設定低電圧
    を発生させる高インピーダンスの電源と、 メモリセルの活性化の終了後の設定期間の間活性化さ
    れ、前記出力端子の電位を前記設定低電圧に引き下げる
    電荷引き抜き回路とを有することを特徴とする請求項
    1、請求項6又は請求項記載の半導体記憶装置。
  12. 【請求項12】 低電圧電源は、出力端子に設定低電圧
    を発生させる高インピーダンスの電源と、 メモリセルの活性化の終了後の設定期間の間活性化さ
    れ、前記出力端子の電位を前記設定低電圧に引き上げる
    電荷注入回路とを有することを特徴とする請求項、請
    求項6又は請求項記載の半導体記憶装置。
  13. 【請求項13】 マトリクス状に配置されたメモリーセ
    ルを活性化するワード線と、 前記各ワード線の電圧を制御する行デコーダー、ワード
    ドライバー及びワードリセットトランジスタとを有し、 前記ワードリセットトランジスタは、そのゲート電圧
    が、前記行デコーダーの所定電位の出力信号と、前記所
    定電位よりも電位の低い低電圧電源の電位とに時間的に
    切り替え印加される半導体記憶装置において、 前記低電圧電源は、出力端子に設定低電圧を発生させる
    高インピーダンスの電源と、 メモリセルの活性化の終了後の設定期間の間活性化さ
    れ、前記出力端子の電位を前記設定低電圧に引き下げる
    電荷引き抜き回路とを有することを特徴とする半導体記
    憶装置。
  14. 【請求項14】 マトリクス状に配置されたメモリーセ
    ルを活性化するワード線と、 前記各ワード線の電圧を制御する行デコーダー、ワード
    ドライバー及びワードリセットトランジスタとを有し、 前記ワードリセットトランジスタは、そのゲート電圧
    が、前記行デコーダーの所定電位の出力信号と、前記所
    定電位よりも電位の低い低電圧電源の電位とに時間的に
    切り替え印加される半導体記憶装置において、 前記低電圧電源は、出力端子に設定低電圧を発生させる
    高インピーダンスの電源と、 メモリセルの活性化の終了後の設定期間の間活性化さ
    れ、前記出力端子の電位を前記設定低電圧に引き上げる
    電荷注入回路とを有することを特徴とする半導体記憶装
    置。
  15. 【請求項15】 低電圧電源は、電源投入時に出力端子
    の電位を設定低電圧に立ち上げる低インピーダンスの立
    ち上げ回路を更に有することを特徴とする請求項11
    請求項12、請求項13又は請求項14記載の半導体記
    憶装置。
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Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5777940A (en) * 1996-11-12 1998-07-07 Winbond Electronics Corp. Circuit with regulated power supply for reducing memory device operating power
JPH1173769A (ja) * 1997-08-27 1999-03-16 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置
US6011383A (en) * 1998-07-21 2000-01-04 International Business Machines Corporation Low powering apparatus for automatic reduction of power in active and standby modes
JP2000048563A (ja) * 1998-07-30 2000-02-18 Nec Corp 半導体メモリ
KR100297725B1 (ko) * 1999-04-23 2001-10-29 윤종용 반도체 메모리 장치의 로우 디코더 드라이버
KR100311041B1 (ko) * 1999-05-07 2001-11-02 윤종용 대기 상태시 누설전류가 발생되지 않는 로우 디코더들 및 칼럼디코더들을 갖는 반도체 메모리장치
JP2001126473A (ja) 1999-10-29 2001-05-11 Oki Electric Ind Co Ltd ワード線リセット回路を含むメモリ回路及びワード線のリセット方法
JP2001338490A (ja) 2000-05-25 2001-12-07 Nec Corp 半導体記憶装置
US6426914B1 (en) * 2001-04-20 2002-07-30 International Business Machines Corporation Floating wordline using a dynamic row decoder and bitline VDD precharge
JP2003173675A (ja) * 2001-12-03 2003-06-20 Mitsubishi Electric Corp 半導体集積回路
JP3772774B2 (ja) * 2002-03-22 2006-05-10 セイコーエプソン株式会社 強誘電体記憶装置
JP2004220716A (ja) * 2003-01-16 2004-08-05 Seiko Epson Corp 強誘電体記憶装置
JP4354917B2 (ja) 2003-02-27 2009-10-28 富士通マイクロエレクトロニクス株式会社 半導体記憶装置
JP4962828B2 (ja) * 2004-08-25 2012-06-27 マイクロン テクノロジー, インク. ワード線ドライバ回路およびこれを利用する方法
DE102004042362B3 (de) * 2004-09-01 2006-03-30 Infineon Technologies Ag Integrierter Halbleiterspeicher mit mindestens einer Wortleitung und Verfahren
JP4927356B2 (ja) * 2005-07-11 2012-05-09 エルピーダメモリ株式会社 半導体装置
KR101202429B1 (ko) * 2007-10-11 2012-11-16 삼성전자주식회사 저항체를 이용한 비휘발성 메모리 장치
JP5157584B2 (ja) * 2008-03-28 2013-03-06 富士通セミコンダクター株式会社 半導体記憶装置、半導体記憶装置の製造方法およびシステム
US20090307891A1 (en) * 2008-06-17 2009-12-17 Ge-Hitachi Nuclear Energy Americas Llc Method and apparatus for remotely inspecting and/or treating welds, pipes, vessels and/or other components used in reactor coolant systems or other process applications
US8737137B1 (en) * 2013-01-22 2014-05-27 Freescale Semiconductor, Inc. Flash memory with bias voltage for word line/row driver
US9525338B2 (en) 2015-03-16 2016-12-20 International Business Machines Corporation Voltage charge pump with segmented boost capacitors
US10580491B2 (en) * 2018-03-23 2020-03-03 Silicon Storage Technology, Inc. System and method for managing peak power demand and noise in non-volatile memory array

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5265052A (en) * 1989-07-20 1993-11-23 Texas Instruments Incorporated Wordline driver circuit for EEPROM memory cell
JP2737293B2 (ja) * 1989-08-30 1998-04-08 日本電気株式会社 Mos型半導体記憶装置
JPH07111826B2 (ja) * 1990-09-12 1995-11-29 株式会社東芝 半導体記憶装置
JPH06338193A (ja) * 1993-05-28 1994-12-06 Hitachi Ltd 不揮発性半導体記憶装置

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