JP3258537B2 - 電子写真感光体 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、電子写真感光体に
関する。より詳しくは、特定末端基を有するポリカーボ
ネート樹脂を光導電層中の結合剤樹脂として使用するこ
とにより、耐摩耗性及び帯電特性が向上した電子写真感
光体に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】電子写真技術は、即時性、高画質の画像
が得られることなどから、近年では複写機の分野に留ま
らず、各種プリンターの分野でも使われ、広く応用され
ている。電子写真感光体については、その光導電材料と
して従来から、セレニウム、ヒ素‐セレニウム合金、セ
レニウム‐テルル合金、硫化カドミウム、酸化亜鉛とい
った無機系の光導電材料が使用されているが、最近で
は、無公害、良好な成膜性、容易な製造等の利点を有す
る有機系の光導電材料を使用した感光体が開発されてい
る。

【０００３】有機系感光体の中でも電荷発生層および電
荷移動層を積層した、いわゆる積層型感光体が考案さ
れ、研究開発の主流となっている。すなわち、積層型感
光体では、それぞれ効率の良い電荷発生物質および電荷
移動物質を組合せることにより、高感度な感光体が得ら
れること、材料の選択範囲が広く安全性の高い感光体が
得られること、また塗布の生産性が高く、比較的コスト
面でも有利なことなどから、感光体の主流となってい
る。また、その性能も総コピー数が２０万枚以上、１分
間のコピー速度も７０枚以上といった、高性能な複写機
まで上市されている。

【０００４】このように、これまで実用化されている有
機系積層型感光体の中には優れた性能を有する感光体も
あり、その性能も無機系感光体のセレンを上回るものさ
えある。しかしながら、大部分の有機系積層型感光体
は、その性能を追及する上で、感光体製造に関する種々
の問題がある。

【０００５】まず通常、積層型感光体の表面は電荷移動
層より成立っているが、この表面では潜像作成、トナー
と呼ばれる乾式現像粉による可視像作成、転写紙への可
視像の転写といった過程が幾度ともなく繰返される。そ
のため、電荷移動層には、強い機械的強度および電気特
性の劣化防止といった性能が要求される。更には、あら
ゆる環境下においても電気特性の変動の少ない感光体が
求められている。また生産効率を向上させる為に、物理
的にも化学的にもより安定した感光体溶液が要求されて
いる。これらの要求に対して電荷移動層中に含まれる結
合剤樹脂の役割は非常に重要である。

【０００６】結合剤樹脂としては、種々の天然樹脂、合
成樹脂等が挙げられるが、実用に供される樹脂は数少な
いのが現状である。この中で特にポリエステル系樹脂、
とりわけポリカーボネート樹脂が代表的な樹脂である。
しかしながら、市販されているポリカーボネート樹脂
は、有機ガラス等のプラスチック成型材料用のものが大
部分であり、電子写真感光体用としての開発を目的とし
ておらず、このため不適切な末端基処理が行われている
ものが多いという問題がある。更には、モノマー単位も
ビスフェノールＡを用いたものが主流であり、あらゆる
面で電子写真感光体用の結合剤樹脂として十分耐えられ
るものではないという問題がある。

【０００７】また、従来より、電子写真感光体において
は、電荷移動剤（ＣＴ剤）や電荷発生剤（ＣＧ剤）等の
結合剤樹脂としてポリカーボネート樹脂が用いられてい
る。従来のポリカーボネート樹脂は、感光体に必要な透
明性、機械的特性、ＣＴ剤やＣＧ剤との相溶性などを有
しているものの、さらなる物性の改良やハンドリングの
改善を目的として様々な電子写真感光体用ポリカーボネ
ート樹脂が開発されている。

【０００８】従来のビスフェノールＡ型ポリカーボネー
ト樹脂を電子写真感光体として用いた場合、いくつかの
問題点があった。特に、ＣＴ剤とポリカーボネート樹脂
とを溶媒に溶解して塗工液を調製し、湿式成形にて電荷
移動層を形成した場合、溶媒によっては塗工液の白化
（ゲル化）が生じて塗工が困難になったり、形成した電
荷移動層が不均一になるという問題があった。また、光
導電層が電荷発生層と電荷移動層とからなる２層型電子
写真感光体では、通常のビスフェノールＡ型ポリカーボ
ネート樹脂を用いると、電荷輸送層と電荷発生層との密
着性が劣り、剥離や摩耗が起こりやすくなるという問題
があった。

【０００９】これらの電子写真感光体用結合剤樹脂の問
題点を改善すべく、ポリカーボネート樹脂の末端に炭素
数６〜３０の長鎖アルキル基を有する末端変性ポリカー
ボネート樹脂が開発されている（特開平４−１９６６７
号公報参照）。この末端変性ポリカーボネート樹脂は、
塗工液安定性や感光体の表面硬度の改善にはある程度効
果が認められたが、実際に電子写真感光体を複写機に装
着し、性能を評価した場合、耐摩耗性や帯電特性につい
ては従来のビスフェノールＡ型ポリカーボネート樹脂と
変わらないか、あるいはやや劣る結果となった。

【００１０】この原因を解析した結果、長鎖アルキル基
が塗工時の表面自由エネルギーによって、表面に偏析し
ていることが判明した。従って、感光体表面のポリカー
ボネート樹脂のガラス転移温度を著しく低下させ、感光
体の複写機実装時における環境温度（局部的には８０℃
以上）により表面が軟化し、これにより、耐摩耗性が低
下するとともに帯電特性も悪化すると考えられる。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明者ら
は、これらの問題点を解決するために種々の電子写真感
光体に適したポリカーボネート樹脂を検討した結果、あ
らゆる環境下においても電子写真特性に優れ、かつ強い
機械的強度を有し、さらには感光体生産の効率向上に優
れた特定の構造を有するポリカーボネート樹脂を見いだ
し、さらに、本発明者らは、特定の末端基を有するポリ
カーボネート樹脂を結合剤樹脂として用いた電子写真感
光体は、良好な耐摩耗性と帯電特性とを兼ね備えた良質
なものとなることを見いだし、本発明を完成するに至っ
た。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明の電子写真感光体
は、導電性支持体上に、光導電層を有する電子写真感光
体において、該光導電層中に結合剤樹脂として、一般式
（II）

【化４】 （式中、Ｒ１１〜Ｒ１８はそれぞれ、水素原子、ハロゲ
ン原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数６〜１２の
アリール基、炭素数２〜５のアルケニル基、炭素数１〜
５のアルコキシ基、炭素数７〜１７のアラルキル基を示
し、これらの基は置換基を有してもよく、該置換基が、
炭素数１〜５のアルキル基またはアルケニル基、炭素数
１〜５のアルコキシ基、ハロゲン原子である。Ｘ′は、

【化５】 を示し、ここでＲ１９〜Ｒ２０はそれぞれ、水素原子、
ハロゲン原子、炭素数１〜５のアルキル基、アルケニル
基又はアルコキシ基、炭素数６〜１２のアリール基を表
すか、あるいは、Ｒ１９〜Ｒ２０が一緒に結合して、炭
素環または複素環を形成する基を表し、これらの基は置
換基を有してもよく、該置換基が、炭素数１〜５のアル
キル基又はアルケニル基、炭素数１〜５のアルコキシ
基、ハロゲン原子である。aは０〜２０の整数を表す。
（Ａ）は

【化６】 を示し、ここでＲ２１は、炭素数１〜５のアルキル基で
ある。ｍは１以上の整数を示す。）で表される構造単位
を有し、かつ、極限粘度が0.30〜2.0dl/gであるポリカ
ーボネート樹脂が含有されていることを特徴とする。

【００１３】

【発明の実施の形態】電子写真感光体は、一般に、光導
電層が単一の層からなる単層型電子写真感光体と、光導
電層が露光により電荷を発生する電荷発生層と、電荷が
移動する電荷移動層とから主になる積層型（機能分離
型）電子写真感光体とに分類される。後者の場合、本発
明によれば、上記一般式（II）で示されるポリカーボネ
ート樹脂は、電荷移動層中に結合剤（バインダー）樹脂
として含有される。又、必要に応じて保護層、接着層等
を設けても良い。

【００１４】導電性支持体としては、アルミニウム、ス
テンレス鋼、ニッケル等の金属材料からなる支持体、或
いはポリエステルフィルム、フェノール樹脂、紙等の絶
縁性支持体表面にアルミニウム、銅、パラジウム、酸化
錫、酸化インジウム等の導電性層を設けたもの等が使用
される。また、導電性支持体と光導電層との間にバリア
ー層を設けてもよい。

【００１５】バリアー層としては、例えばアルミニウム
陽極酸化被膜、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム
等の無機層、ポリビニルアルコール、カゼイン、ポリビ
ニルピロリドン、ポリアクリル酸、セルロース類、ゼラ
チン、デンプン、ポリウレタン、ポリイミド、ポリアミ
ド等の有機層が使用される。

【００１６】積層型電子写真感光体の場合、光導電層の
電荷発生層に用いられる電荷発生物質としては、セレン
及びその合金、ヒ素‐セレン、硫化カドミウム、酸化亜
鉛、その他の無機光導電物質、フタロシアニン系、アゾ
キシベンゼン系、ジスアゾ系、トリスアゾ系等のアゾ顔
料、キナクリドン、多環キノン、ピリリウム塩、チアピ
リリウム塩、インジゴ、チオインジゴ、アンスアンスロ
ン、ピラントロン、シアニン、ベンズイミダゾール系、
多環式キノリン系、インジゴイド系、キナクリドン系、
ペリレン系、メチン系等の各種有機光導電物質が使用で
きる。中でもインジウム、ガリウム、チタン、銅、錫、
亜鉛、バナジウム等の金属、またはその酸化物や塩化物
の配位したフタロシアニン、無金属フタロシアニン、モ
ノアゾ、ビスアゾ、トリスアゾ、ポリアゾ類等のアゾ顔
料が好ましい。

【００１７】上記一般式（II）で示されるポリカーボネ
ート樹脂を結合剤樹脂として用いた電子写真感光体の場
合、これらの電荷発生物質は、溶解性及び電荷発生性の
観点から、結合剤樹脂１００重量部に対して、５から１
０００重量部の範囲で使用される。また、電荷発生層の
膜厚は０．０１μｍから２０μｍ、好ましくは０．１μ
ｍから２μｍである。

【００１８】結合剤樹脂としては、例えばポリエステル
樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、ポリアクリル酸エス
テル樹脂、ポリメタクリル酸エステル樹脂、ポリカーボ
ネート樹脂、ポリビニルアセトアセタール樹脂、ポリビ
ニルプロピオナール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、
フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、セルロ
ースエステル、セルロースエーテル、ポリビニルホルマ
ール樹脂、シリコーン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスチ
レン樹脂、ポリウレタン樹脂等があげられる。電荷発生
物質は、その微粒子をこれらの結合剤樹脂に分散させた
形で使用される。また、電荷発生層は必要に応じて塗布
性を改善するためのレベリング剤や酸化防止剤、増感剤
等の各種添加剤を含んでいてもよい。また電荷発生層は
上記電荷発生物質の蒸着膜であってもよい。

【００１９】電荷発生層の上に設けられる電荷移動層中
の電荷移動物質としては、主として低分子化合物が用い
られ、例えば、ヒドラゾン系化合物（特開昭５４−５９
１４３号参照）、ピラゾリン系化合物、トリフェニルア
ミン系化合物（特公昭５８−３２３７２号参照）、トリ
フェニルメタン系化合物、スチルベン系化合物（特開昭
５８−１９８０４３号参照）、オキサジアゾール系化合
物等が使用可能であり、このほかにポリビニルカルバゾ
ール誘導体が使用可能である。

【００２０】さらなる電荷移動物質の具体例としては、
ポリテトラシアノエチレン；２，４，７−トリニトロ−
９−フルオレノン等のフルオレノン系化合物；ジニトロ
アントラセン等のニトロ化合物；無水コハク酸；無水マ
レイン酸；ジブロモ無水マレイン酸；トリフェニルメタ
ン系化合物；２，５−ジ（４−ジメチルアミノフェニ
ル）−１，３，４−オキサジアゾール等のオキサジアゾ
ール系化合物；９−（４−ジエチルアミノスチリル）ア
ントラセン等のスチリル系化合物；ポリ−Ｎ−ビニルカ
ルバゾール等のカルバゾール系化合物；１−フェニル−
３−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）ピラゾリン等のピ
ラゾリン系化合物；４，４'，４"−トリス（Ｎ，Ｎ−ジ
フェニルアミノ）トリフェニルアミン等のアミン誘導
体；１、１ービス（４−ジエチルアミノフェニル）−
４，４−ジフェニル−１，３−ブタジエン等の共役不飽
和化合物；４−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）ベンズアル
デヒド−Ｎ，Ｎ−ジフェニルヒドラゾン等のヒドラゾン
系化合物；インドール系化合物、オキサゾール系化合
物、イソオキサゾール系化合物、チアゾール系化合物、
チアジアゾール系化合物、イミダゾール系化合物、ピラ
ゾール系化合物、ピラゾリン系化合物、トリアゾール系
化合物等の含窒素環式化合物；縮合多環式化合物等が挙
げられる。上記電荷移動物質は単独で使用しても、複数
種併用しても良い。さらに、電荷移動層は、必要に応じ
て２，６‐ジtertブチル‐４‐メチルフェノール、トコ
フェノール等の酸化防止剤、ｐ‐ニトロベンジルシアナ
ミド、α‐シアノ‐３，４‐ジニトロスチルベン等の電
子吸引性物質、レベリング剤、分子増感剤等の各種添加
剤を含んでもよい。

【００２１】本発明の一般式（II）で表されるポリカー
ボネート樹脂の重合方法としては、ビスフェノールＡか
らポリカーボネートを製造する際に用いられている方
法、例えば二価フェノールとホスゲンとの直接反応（ホ
スゲン法）、あるいは二価フェノールとビスアリールカ
ーボネートとのエステル交換反応（エステル交換法）な
どの方法を採用することができる。なお、ホスゲン法と
エステル交換法とを比較した場合、一般式（II）で表さ
れるポリカーボネート樹脂の末端構造（Ａ）を誘導する
１官能性化合物の反応性を考慮すれば、ホスゲン法の方
が好ましい。

【００２２】前者のホスゲン法においては、通常酸結合
剤および溶媒の存在下において、本発明における一般式
（II）で表されるポリカーボネート樹脂を誘導する二価
フェノール及びそのポリカーボネート樹脂の末端構造
（Ａ）を誘導する１官能性化合物とホスゲンを反応させ
る。酸結合剤としては、例えばピリジンや、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属の水酸化物
などが用いられ、また溶媒としては、例えば塩化メチレ
ン、クロロホルム、クロロベンゼン、キシレンなどが用
いられる。さらに、縮重合反応を促進するために、トリ
エチルアミンのような第三級アミンまたは第四級アンモ
ニウム塩などの触媒が添加される。また、所望に応じ亜
硫酸ナトリウム、ハイドロサルファイトなどの酸化防止
剤や、フロログルシン、イサチンビスフェノールなど分
岐化剤を小量添加してもよい。反応は通常０〜１５０
℃、好ましくは５〜４０℃の範囲とするのが適当であ
る。反応時間は反応温度によって左右されるが、通常
０．５分〜１０時間、好ましくは１分〜２時間である。
また、反応中は、反応系のpHを１０以上に保持すること
が望ましい。

【００２３】一方、後者のエステル交換法においては、
一般式（II）で表されるポリカーボネート樹脂を誘導す
る二価フェノールとそのポリカーボネート樹脂の末端構
造（Ａ）を誘導する１官能性化合物とビスアリールカー
ボネートとを混合し、減圧下で高温において反応させ
る。反応は通常１５０〜３５０℃、好ましくは２００〜
３００℃の範囲の温度において行われ、また減圧度は最
終で好ましくは１mmHg以下にして、エステル交換反応に
より生成した該ビスアリールカーボネートから由来する
フェノール類を系外へ留去させる。反応時間は反応温度
や減圧度などによって左右されるが、通常１〜４時間程
度である。反応は窒素やアルゴンなどの不活性ガス雰囲
気下で行うことが好ましい。また、所望に応じ、酸化防
止剤や分岐化剤を添加して反応を行ってもよい。

【００２４】一般式（II）で表されるポリカーボネート
樹脂を誘導する二価フェノールとしては、具体的にはビ
フェノール、ビス（4−ヒドロキシフェニル）メタン、
ビス（4−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（4−ヒ
ドロキシフェニル）スルホン、ビス（4−ヒドロキシフ
ェニル）スルホキシド、ビス（4−ヒドロキシフェニ
ル）スルファイド、ビス（4−ヒドロキシフェニル）ケ
トン、1,1-ビス（4−ヒドロキシフェニル）エタン、2,2
-ビス（4−ヒドロキシフェニル）プロパン（ビスフェノ
−ルＡ；BPA）、2,2-ビス（4−ヒドロキシフェニル）ブ
タン、1,1-ビス（4−ヒドロキシフェニル）シクロペン
タン、1,1-ビス（4−ヒドロキシフェニル）シクロヘキ
サン（ビスフェノ−ルZ；BPZ）、1,1-ビス（4−ヒドロ
キシフェニル）-3,3,5-トリメチルシクロヘキサン、2,2
-ビス（4−ヒドロキシ−3,5-ジブロモフェニル）プロパ
ン、2,2-ビス（4−ヒドロキシ−3,5-ジクロロフェニ
ル）プロパン、2,2-ビス（4−ヒドロキシ−3-ブロモフ
ェニル）プロパン、2,2-ビス（4−ヒドロキシ−3-クロ
ロフェニル）プロパン、2,2-ビス（4−ヒドロキシ−3-
メチルフェニル）プロパン、2,2-ビス（4−ヒドロキシ
−3-アリルフェニル）プロパン、2,2-ビス（4−ヒドロ
キシ−3,5-ジメチルフェニル）プロパン、1,1-ビス（4
−ヒドロキシフェニル）-1-フェニルエタン、ビス（4−
ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタン、ビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）メチルフェニルメタンなどが例示さ
れる。これらは、２種類以上併用して用いてもよい。ま
た、これらの中でも特に2,2-ビス（4−ヒドロキシフェ
ニル）プロパン、1,1-ビス（4−ヒドロキシフェニル）
シクロヘキサン、2,2-ビス（4−ヒドロキシ−3-メチル
フェニル）プロパン、1,1-ビス（4−ヒドロキシフェニ
ル）-1-フェニルエタン、ビス（4−ヒドロキシフェニ
ル）エーテル、ビス（4−ヒドロキシフェニル）スルフ
ァイドから選ばれることが好ましい。

【００２５】一方、炭酸エステル形成性化合物として
は、例えばホスゲンや、ジフェニルカーボネート、ジ−
ｐ−トリルカーボネート、フェニル−ｐ−トリルカーボ
ネート、ジ−ｐ−クロロフェニルカーボネート、ジナフ
チルカーボネートなどのビスアリルカーボネートが挙げ
られる。これらの化合物は２種類以上併用して使用する
ことも可能である。

【００２６】前記一般式（II）で表されるポリカーボネ
ート樹脂の末端構造（Ａ）を誘導する１官能性化合物
は、官能基として水酸基またはクロロホーメート基を有
するアルキルベンゾエートであり、具体的には、パラヒ
ドロキシ安息香酸メチル、パラヒドロキシ安息香酸エチ
ル、パラヒドロキシ安息香酸−n−プロピル、パラヒド
ロキシ安息香酸−s−プロピル、パラヒドロキシ安息香
酸イソプロピル、パラヒドロキシ安息香酸−n−ブチ
ル、パラヒドロキシ安息香酸−s-ブチル、パラヒドロキ
シ安息香酸−t−ブチル、パラヒドロキシ安息香酸イソ
ブチル、パラヒドロキシ安息香酸−n−ペンチル、パラ
ヒドロキシ安息香酸イソペンチル、パラヒドロキシ安息
香酸−s−ペンチル、パラヒドロキシ安息香酸−t−ペン
チル、オルトヒドロキシ安息香酸メチル、オルトヒドロ
キシ安息香酸エチル、オルトヒドロキシ安息香酸−n−
プロピル、オルトヒドロキシ安息香酸−sープロピル、
オルトヒドロキシ安息香酸イソプロピル、オルトヒドロ
キシ安息香酸−n−ブチル、オルトヒドロキシ安息香酸
−s-ブチル、オルトヒドロキシ安息香酸−t−ブチル、
オルトヒドロキシ安息香酸イソブチル、オルトヒドロキ
シ安息香酸−n−ペンチル、オルトヒドロキシ安息香酸
イソペンチル、オルトヒドロキシ安息香酸−s−ペンチ
ル、オルトヒドロキシ安息香酸−t−ペンチル等が挙げ
られる。中でもパラヒドロキシ安息香酸−n−ブチル、
パラヒドロキシ安息香酸−n−プロピル、パラヒドロキ
シ安息香酸エチルが反応性や物性面から好ましい。ま
た、これらの１官能性化合物は２種類以上組み合わせて
使用する事が可能である。

【００２７】これらの反応で合成されたポリカーボネー
ト樹脂は、湿式成形で容易に成形可能である。湿式成形
で成形された電子写真感光体が十分な膜強度を得るため
には極限粘度が0.30〜2.0dl/gであることが好ましい。
0.30dl/g未満では膜強度が不足し、2.0dl/gを越えると
粘度が高すぎて成形が困難な場合が多い。

【００２８】電荷発生層及び電荷移動層は、上記電荷発
生物質又は電荷移動物質を、それぞれ結合剤樹脂と共
に、適当な溶媒に溶解させ、その溶液を浸漬塗布法やス
プレー法、ロールコート法等により塗布し、乾燥させる
事により形成される。この溶媒としては、ハロゲン系有
機溶媒と非ハロゲン系溶媒の２種類に大別できる。

【００２９】非ハロゲン系溶媒ではベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族系溶媒、アセトン、メチルエチ
ルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジエチ
ルエーテル等のエーテル系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチ
ル、エチルセロソルブ等のエステル系溶媒、メタノー
ル、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶
媒、その他ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ド、ジエチルホルムアミド等が挙げられる。またハロゲ
ン系溶媒としては塩化メチレン、クロロホルム、四塩化
炭素、塩化エチレン、テトラクロロエタン、クロロベン
ゼン等が挙げられ、これらの溶媒は非ハロゲン、ハロゲ
ンを問わず単独で使用しても良く、又は、２種以上を併
用し混合用溶媒として使用しても良い。

【００３０】また、本発明の一般式（II）で表されるポ
リカーボネート樹脂に少量のポリエステル樹脂、ポリア
リレート樹脂等の他の樹脂を添加して、結合剤樹脂とし
てもよい。電荷移動物質は、膜強度と電荷移動性とを考
慮して、上記ポリカーボネート樹脂を主成分とする結合
剤樹脂１００重量部に対して、１０〜１０００重量部の
範囲で使用される。電荷移動層の膜厚は２〜１００μ
ｍ、好ましくは１０〜３５μｍが好適である。

【００３１】本発明の電子写真感光体は、末端に炭素数
１〜５のアルキルベンゾエートを有するポリカーボネー
ト樹脂をバインダー樹脂として用いることより、感光体
製造時の塗工液のゲル化を抑制し、感光体の表面硬度を
向上させる。しかも、複写機実装時の環境温度で表面が
軟化せず、良好な耐摩耗性と帯電特性を保持する事か
ら、各種の電子写真感光体分野に有効に利用する事がで
きる。

【００３２】

【実施例】次に、実施例により本発明をさらに詳細に説
明するが、本発明はこれらの実施例によってなんら限定
されるものではない。一般式（II）で示されるポリカー
ボネート樹脂の合成例を以下に記す。 （合成例１） 水酸化ナトリウム５００ｇを水６リットルに溶解し、得
られた水酸化ナトリウム水溶液に、１５℃に保ちなが
ら、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン
（以下「ＢＰＡ」と記す）９１２ｇとハイドロサルファ
イト１ｇを溶解した。これにメチレンクロライド５リッ
トルを加えて撹拌しつつ、パラヒドロキシ安息香酸−n
−ブチル（以下「Ｂ−１」と記す）１２ｇを加え、つい
でホスゲン４８０ｇを６０分かけて吹き込んだ。ホスゲ
ンの吹き込み終了後、激しく撹拌して反応液を乳化さ
せ、乳化後、１ｇのトリエチルアミンを加え、約１時間
撹拌を続け重合させた。

【００３３】重合液を水相と有機相に分離し、有機相を
硫酸で中和した後、洗液のｐＨが中性になるまで水洗を
繰り返した後、イソプロパノールを３５リットル加え
て、重合物を沈澱させた。沈澱物を濾過し、その後乾燥
する事により粉末状のポリカーボネート樹脂を得た（以
下「Ｐ−１」と記す）。このポリカーボネート重合体の
極限粘度は０．８１dl/g（２０℃，ジクロロメタン溶
液）であった。

【００３４】（合成例２） Ｂ−１の代わりにパラヒドロキシ安息香酸メチル（以下
「Ｂ−２」と記す）１０ｇに変更した以外は、合成例１
と同様に行った。得られた粉末状のポリカーボネート樹
脂（以下「Ｐ−２」と記す）の極限粘度は０．７９dl/g
であった。

【００３５】（合成例３） Ｂ−１の代わりにパラヒドロキシ安息香酸エチル（以下
「Ｂ−３」と記す）１１ｇに変更した以外は、合成例１
と同様に行った。得られた粉末状のポリカーボネート樹
脂（以下「Ｐ−３」と記す）の極限粘度は０．８０dl/g
であった。

【００３６】（合成例４） Ｂ−１の代わりにパラヒドロキシ安息香酸−ｎ−プロピ
ル（以下「Ｂ−４」と記す）１２ｇに変更した以外は合
成例１と同様に行った。得られた粉末状のポリカーボネ
ート樹脂（以下「Ｐ−４」と記す）の極限粘度は０．８
１dl/gであった。

【００３７】（合成例５） Ｂ−１の代わりにパラヒドロキシ安息香酸−ｎ−ペンチ
ル（以下「Ｂ−５」と記す）１４ｇに変更した以外は合
成例１と同様に行った。得られた粉末状のポリカーボネ
ート樹脂（以下「Ｐ−５」と記す）の極限粘度は０．７
９dl/gであった。

【００３８】（合成例６） ＢＰＡの代わりに、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）シクロヘキサン（以下「ＢＰＺ」と記す）１０７
２ｇに変更した以外は、合成例１と同様に行った。得ら
れた粉末状のポリカーボネート樹脂（以下「Ｐ−６」と
記す）の極限粘度は０．７５dl/gであった。

【００３９】（合成例７） ＢＰＡの代わりに、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３
−メチルフェニル）プロパン（以下「ＤＭＢＰＡ」と記
す）１０２４ｇに変更した以外は合成例１と同様に行っ
た。得られた粉末状のポリカーボネート樹脂（以下「Ｐ
−７」と記す）の極限粘度は０．８３dl/gであった。

【００４０】（合成例８） 合成は行わず、末端がｐ−ｔ−ブチルフェノール（以下
「Ｃ−１」と記す）より誘導された市販のＢＰＡ型ポリ
カーボネート（三菱ガス化学（株）製ユーピロン）をそ
のまま試料とした。このポリカーボネート樹脂（以下
「Ｐ−８」と記す）の極限粘度は０．８０dl/gであっ
た。

【００４１】（合成例９） Ｂ−１の代わりに、パラヒドロキシ安息香酸−ｎ−ヘキ
シル（以下「Ｃ−２」）１５ｇに変更した以外は合成例
１と同様に行った。得られた粉末状のポリカーボネート
樹脂（以下「Ｐ−９」と記す）の極限粘度は０．７７dl
/gであった。

【００４２】（合成例１０） Ｂ−１の代わりに、パラヒドロキシ安息香酸−ｎ−ドデ
シル（以下「Ｃ−３」）２０ｇに変更した以外は合成例
１と同様に行った。得られた粉末状のポリカーボネート
樹脂（以下「Ｐ−１０」と記す）の極限粘度は０．８２
dl/gであった。以上得られた結果を表１に示す。

【００４３】

【表１】

【００４４】以下、本発明の一般式（II）で示されるポ
リカーボネート樹脂（ここでは、Ｐ−１〜Ｐ７）を用い
た感光体と、本発明の範囲外のポリマー（ここでは、Ｐ
−８〜Ｐ１０）を用いた感光体とを、電子写真特性等に
関して比較検討した。

【００４５】実施例１ クロロダイアンブルー電荷発生剤１０重量部、フェノキ
シ樹脂５重量部、ポリビニルブチラール樹脂５重量部及
びジメトキシエタン１００重量部を混合し、サンドグラ
インドミルにて粉砕分散処理を行って電荷発生層用塗布
液を調製した。この塗布液を、表面にアルマイト加工を
施した内径５０ｍｍのアルミドラム上に塗布し、乾燥さ
せて、乾燥後の膜厚約０．５μｍの電荷発生層を形成し
た。

【００４６】次に、Ｎ−エチルカルバゾールー３−アル
デヒドジフェニルヒドラゾン電荷移動剤５０重量部、合
成例−１により得られたポリカーボネート樹脂（Ｐ−
１）５０重量部、テトラヒドロフラン３５０重量部及び
ジクロロメタン３５０重量部から調製した電荷移動層用
塗布液を、上記電荷発生層上に塗布し、風乾した。風乾
後１００℃、８時間乾燥させ、乾燥後の膜厚約２０μｍ
の電荷移動層を形成して、積層型電子写真感光体を作製
した。

【００４７】このようにして得られた電子写真感光体
を、電位計付き市販複写機（シャープ社製ＳＦ−７３５
０）に登載し、連続１万枚の実写試験を行った。この時
の感光体の膜減りの度合いを、複写後の感光体の一部を
剥離させ、段差計により測定し、さらに初期及び１万回
使用後の帯電電位（Ｖ０）と残留電位（ＶＲ）とを測定
し、感光体の耐摩耗性と帯電特性変化を調べた。また、
電荷移動層用塗布液を密封ガラス容器中にて、暗所で１
カ月間放置した後の溶液状態も調べた。

【００４８】実施例２〜７ Ｐ−１のポリカーボネート樹脂の代わりに合成例２〜７
で得られたＰ−２〜Ｐ−７のポリカーボネート樹脂を用
いた以外は実施例１と同様に行った。

【００４９】比較例１〜３ Ｐ−１のポリカーボネート樹脂の代わりに合成例８〜１
０で得られたＰ−８〜Ｐ−１０を用いた以外は実施例１
と同様に行った。得られた結果を表２に示す。

【００５０】

【表２】

【００５１】

【発明の効果】以上において詳述したように、本発明の
一般式（II）で示される、特定の末端構造を有するポリ
カーボネート樹脂を電子写真感光体用バインダー樹脂と
して用いることより、従来の電子写真感光体に比して、
良好な耐摩耗性及び帯電特性を有する電子写真感光体を
提供することができる。従って、本発明の一般式（II）
に示すポリカーボネート樹脂を電荷移動層における結合
剤樹脂として用いた電子写真感光体を使用すれば、電子
写真感光体の寿命を従来より延ばすことができると共
に、複写機やレーザービームプリンタ等のメンテナンス
の簡略化やランニングコストの削減が可能となる。

フロントページの続き (72)発明者 西垣 敏 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シャープ株式会社内 (72)発明者 森田 和茂 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シャープ株式会社内 (72)発明者 小川 典慶 大阪府豊中市神州町２番12号 三菱瓦斯 化学株式会社大阪工場内 (72)発明者 田島 純 大阪府豊中市神州町２番12号 三菱瓦斯 化学株式会社大阪工場内 (72)発明者 高田 聡明 大阪府豊中市神州町２番12号 三菱瓦斯 化学株式会社大阪工場内 (56)参考文献 特開 平５−306335（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) C08G 64/00 - 64/42

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 導電性支持体上に、光導電層を有する電
   子写真感光体において、該光導電層中に結合剤樹脂とし
   て、一般式（II） 【化１】 （式中、Ｒ１１〜Ｒ１８はそれぞれ、水素原子、ハロゲ
   ン原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数６〜１２の
   アリール基、炭素数２〜５のアルケニル基、炭素数１〜
   ５のアルコキシ基、炭素数７〜１７のアラルキル基を示
   し、これらの基は置換基を有してもよく、該置換基が、
   炭素数１〜５のアルキル基またはアルケニル基、炭素数
   １〜５のアルコキシ基、ハロゲン原子である。Ｘ′は、 【化２】 を示し、ここでＲ１９〜Ｒ２０はそれぞれ、水素原子、
   ハロゲン原子、炭素数１〜５のアルキル基、アルケニル
   基又はアルコキシ基、炭素数６〜１２のアリール基を表
   すか、あるいは、Ｒ１９〜Ｒ２０が一緒に結合して、炭
   素環または複素環を形成する基を表し、これらの基は置
   換基を有してもよく、該置換基が、炭素数１〜５のアル
   キル基又はアルケニル基、炭素数１〜５のアルコキシ
   基、ハロゲン原子である。aは０〜２０の整数を表す。
   （Ａ）は 【化３】 を示し、ここでＲ２１は、炭素数１〜５のアルキル基で
   ある。ｍは１以上の整数を示す。） で表される構造単位を有し、かつ、極限粘度が0.30〜2.
   0dl/gであるポリカーボネート樹脂が含有されているこ
   とを特徴とする電子写真感光体。
2. 【請求項２】 前記光導電層は少なくとも電荷発生層と
   電荷移動層とからなり、当該電荷移動層中に結合剤樹脂
   として前記一般式（II）で示されるポリカーボネート樹
   脂が含有されていることを特徴とする請求項１記載の電
   子写真感光体。
3. 【請求項３】 前記一般式（II）の（Ａ）により示され
   る末端構造がパラヒドロキシ安息香酸−ｎ−ブチル、パ
   ラヒドロキシ安息香酸−ｎ−プロピル又はパラヒドロキ
   シ安息香酸エチルより誘導されることを特徴とする請求
   項１記載の電子写真感光体。
4. 【請求項４】 前記一般式（II）の主鎖構造単位が2,2-
   ビス（4−ヒドロキシフェニル）プロパン、1,1-ビス（4
   −ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、2,2-ビス（4
   −ヒドロキシ−3-メチルフェニル）プロパン、1,1-ビス
   （4−ヒドロキシフェニル）-1-フェニルエタン、ビス
   （4−ヒドロキシフェニル）エーテル又はビス（4−ヒド
   ロキシフェニル）スルファイドより誘導されることを特
   徴とする請求項１記載の電子写真感光体。