JP3206821B2 - ３−アルコキシメチル−セファロスポリン誘導体の製法 - Google Patents
３−アルコキシメチル−セファロスポリン誘導体の製法Info
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D501/00—Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
-
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- C07D501/16—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7 with a double bond between positions 2 and 3
- C07D501/18—7-Aminocephalosporanic or substituted 7-aminocephalosporanic acids
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- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は７−アミノ−３−アルコ
キシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸またはその
塩の製法に関するものである。本化合物は優れた抗菌作
用を有するセファロスポリン系抗生物質の原料物質とし
て重要なものである。
キシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸またはその
塩の製法に関するものである。本化合物は優れた抗菌作
用を有するセファロスポリン系抗生物質の原料物質とし
て重要なものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、７−アミノ−３−アルコキシメチ
ル−３−セフェム−４−カルボン酸の製法のうち比較的
収率の良い方法としては、７−アミノ−３−アセトキシ
メチル−３−セフェム−４−カルボン酸（以下７−ＡＣ
Ａという）をプロトン酸、ルイス酸またはその錯化合物
とホウ酸エステル類、オルソ有機酸エステル類またはア
セタール類と反応させる方法（特開平２−４９７９０
号）が知られている。
ル−３−セフェム−４−カルボン酸の製法のうち比較的
収率の良い方法としては、７−アミノ−３−アセトキシ
メチル−３−セフェム−４−カルボン酸（以下７−ＡＣ
Ａという）をプロトン酸、ルイス酸またはその錯化合物
とホウ酸エステル類、オルソ有機酸エステル類またはア
セタール類と反応させる方法（特開平２−４９７９０
号）が知られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】この従来法は、未だラ
クトン体やβ- ラクタム環の分解等による副生物の量が
多く、また目的物の収率が低いという欠点があった。
クトン体やβ- ラクタム環の分解等による副生物の量が
多く、また目的物の収率が低いという欠点があった。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者等は上述の問題
点について鋭意研究を重ねた結果、７−ＡＣＡまたはそ
の塩と、低級アルコキシスルフォン酸を含む低級アルコ
ール溶液並びにホウ酸トリ低級アルキル及び／またはメ
チラール類を存在させ、反応させることにより、目的化
合物を従来法よりも高純度且つ高収率で製造できること
を見出し、本発明を完成した。
点について鋭意研究を重ねた結果、７−ＡＣＡまたはそ
の塩と、低級アルコキシスルフォン酸を含む低級アルコ
ール溶液並びにホウ酸トリ低級アルキル及び／またはメ
チラール類を存在させ、反応させることにより、目的化
合物を従来法よりも高純度且つ高収率で製造できること
を見出し、本発明を完成した。
【０００５】
【発明の構成】本発明は、式（Ｉ）
【０００６】
【化３】
【０００７】で示される７−アミノ−３−アセトキシメ
チル−３−セフェム−４−カルボン酸またはその塩と、
一般式Ｒ1 ＯＳＯ3 Ｈで示される低級アルコキシスルフ
ォン酸を含む低級アルコール（一般式Ｒ1 ＯＨ）溶液並
びに一般式Ｂ（ＯＲ1 ）3 で示されるホウ酸トリ低級ア
ルキル及び／または一般式ＣＨ2 （ＯＲ1 ）2 で示され
るメチラール類を存在させ、反応させることを特徴とす
る 一般式（ＩＩ）
チル−３−セフェム−４−カルボン酸またはその塩と、
一般式Ｒ1 ＯＳＯ3 Ｈで示される低級アルコキシスルフ
ォン酸を含む低級アルコール（一般式Ｒ1 ＯＨ）溶液並
びに一般式Ｂ（ＯＲ1 ）3 で示されるホウ酸トリ低級ア
ルキル及び／または一般式ＣＨ2 （ＯＲ1 ）2 で示され
るメチラール類を存在させ、反応させることを特徴とす
る 一般式（ＩＩ）
【０００８】
【化４】
【０００９】［前記各一般式中のＲ1 は低級アルキル
基］で示される７−アミノ−３−アルコキシメチル−３
−セフェム−４−カルボン酸またはその塩の製法であ
る。
基］で示される７−アミノ−３−アルコキシメチル−３
−セフェム−４−カルボン酸またはその塩の製法であ
る。
【００１０】前記式（Ｉ）及び一般式（ＩＩ）で示され
る化合物の塩とは、それらにおいて遊離に存在するカル
ボキシル基における塩またはアミノ基における酸付加塩
を意味し、カルボキシル基における塩としては、例え
ば、アルカリ金属やアルカリ土類金属との塩、アンモニ
ウム塩、含窒素有機塩基との塩等が挙げられ、またアミ
ノ基における塩としては、塩酸、硫酸等の鉱酸との酸付
加塩、シュウ酸、ギ酸、トリクロル酢酸、トリフルオロ
酢酸等のカルボン酸との酸付加塩、メタンスルフォン
酸、トルエンスルフォン酸、ナフタレンスルフォン酸、
メトキシスルフォン酸等のスルフォン酸との酸付加塩等
が挙げられる。
る化合物の塩とは、それらにおいて遊離に存在するカル
ボキシル基における塩またはアミノ基における酸付加塩
を意味し、カルボキシル基における塩としては、例え
ば、アルカリ金属やアルカリ土類金属との塩、アンモニ
ウム塩、含窒素有機塩基との塩等が挙げられ、またアミ
ノ基における塩としては、塩酸、硫酸等の鉱酸との酸付
加塩、シュウ酸、ギ酸、トリクロル酢酸、トリフルオロ
酢酸等のカルボン酸との酸付加塩、メタンスルフォン
酸、トルエンスルフォン酸、ナフタレンスルフォン酸、
メトキシスルフォン酸等のスルフォン酸との酸付加塩等
が挙げられる。
【００１１】本発明で用いられる一般式Ｒ1 ＯＨで示さ
れる低級アルコールのＲ1 基は、炭素数１乃至４のアル
キル基が挙げられ、その例としては、メチル、エチル、
プロピル及びブチル等の基を挙げることができ、その低
級アルコールの例としては、メチルアルコール、エチル
アルコール、プロピルアルコール及びブチルアルコール
等が挙げられる。
れる低級アルコールのＲ1 基は、炭素数１乃至４のアル
キル基が挙げられ、その例としては、メチル、エチル、
プロピル及びブチル等の基を挙げることができ、その低
級アルコールの例としては、メチルアルコール、エチル
アルコール、プロピルアルコール及びブチルアルコール
等が挙げられる。
【００１２】一般式Ｒ1 ＯＳＯ3 Ｈで示される低級アル
コキシスルフォン酸のＲ1 基は、前記の基と同義であ
り、その低級アルコキシスルフォン酸の例としては、メ
トキシスルフォン酸、エトキシスルフォン酸、プロポキ
シスルフォン酸及びブトキシスルフォン酸等が挙げられ
る。
コキシスルフォン酸のＲ1 基は、前記の基と同義であ
り、その低級アルコキシスルフォン酸の例としては、メ
トキシスルフォン酸、エトキシスルフォン酸、プロポキ
シスルフォン酸及びブトキシスルフォン酸等が挙げられ
る。
【００１３】本発明に用いられる、一般式Ｒ1 ＯＳＯ3
Ｈで示される低級アルコキシスルフォン酸を含む低級ア
ルコール溶液とは、該低級アルコキシスルフォン酸が主
成分である低級アルコールとの混合物である。
Ｈで示される低級アルコキシスルフォン酸を含む低級ア
ルコール溶液とは、該低級アルコキシスルフォン酸が主
成分である低級アルコールとの混合物である。
【００１４】当該低級アルコキシスルフォン酸を含む低
級アルコール溶液の製法は、クロルスルフォン酸または
無水硫酸１モルに対して、当倍モル以上、好ましくは２
倍モル以内の低級アルコールを反応させることにより得
られるが、その際、必要ならば、反応に悪影響を及ぼさ
ないような溶剤、例えば、ジクロルエタンのような有機
塩素系溶剤を加え、反応させ、クロルスルフォン酸を用
いた場合は、順次生成する塩化水素を窒素ガスなどにっ
て系外に十分に排出除去する。また、無水硫酸を用いた
場合は、クロルスルフォン酸を用いる場合よりも、より
低温で反応させることにより製造される。それぞれの場
合の反応温度および反応時間は、使用する原材料の種類
と量および副生物の生成を抑えるために種々異なるが、
大体−２０℃〜７０℃位で、数分乃至数十時間である。
通常、このような方法によっては、純粋な低級アルコキ
シスルフォン酸を単離することは難しく、低級アルコー
ルを過剰に存在させる方が、本発明で得られる目的化合
物を製造するためには適当である。しかしながら、クロ
ルスルフォン酸または無水硫酸１モルと当倍モルの低級
アルコールとの反応で得られた９８％前後の低級アルコ
キシスルフォン酸と２％前後の低級アルコールとから成
る混合溶液を用いることによっても、本発明における目
的化合物を高純度高収率で製造することが出来る。
級アルコール溶液の製法は、クロルスルフォン酸または
無水硫酸１モルに対して、当倍モル以上、好ましくは２
倍モル以内の低級アルコールを反応させることにより得
られるが、その際、必要ならば、反応に悪影響を及ぼさ
ないような溶剤、例えば、ジクロルエタンのような有機
塩素系溶剤を加え、反応させ、クロルスルフォン酸を用
いた場合は、順次生成する塩化水素を窒素ガスなどにっ
て系外に十分に排出除去する。また、無水硫酸を用いた
場合は、クロルスルフォン酸を用いる場合よりも、より
低温で反応させることにより製造される。それぞれの場
合の反応温度および反応時間は、使用する原材料の種類
と量および副生物の生成を抑えるために種々異なるが、
大体−２０℃〜７０℃位で、数分乃至数十時間である。
通常、このような方法によっては、純粋な低級アルコキ
シスルフォン酸を単離することは難しく、低級アルコー
ルを過剰に存在させる方が、本発明で得られる目的化合
物を製造するためには適当である。しかしながら、クロ
ルスルフォン酸または無水硫酸１モルと当倍モルの低級
アルコールとの反応で得られた９８％前後の低級アルコ
キシスルフォン酸と２％前後の低級アルコールとから成
る混合溶液を用いることによっても、本発明における目
的化合物を高純度高収率で製造することが出来る。
【００１５】本発明の目的化合物を製造するために用い
られる低級アルコールは、低級アルコキシスルフォン酸
を含む低級アルコール溶液を製造するために用いられる
ものの他に、新たに低級アルコールを添加でき、７−Ａ
ＣＡに対する低級アルコールの総計使用量は特に限定さ
れないが、一般には当倍モル以上使用するのが好まし
い。しかし、当倍モル未満であっても従来法よりも比較
的収率良く、目的化合物を得ることができる。
られる低級アルコールは、低級アルコキシスルフォン酸
を含む低級アルコール溶液を製造するために用いられる
ものの他に、新たに低級アルコールを添加でき、７−Ａ
ＣＡに対する低級アルコールの総計使用量は特に限定さ
れないが、一般には当倍モル以上使用するのが好まし
い。しかし、当倍モル未満であっても従来法よりも比較
的収率良く、目的化合物を得ることができる。
【００１６】本発明で用いられる低級アルコキシスルフ
ォン酸を含む低級アルコール溶液中の低級アルコキシス
ルフォン酸の７−ＡＣＡに対する使用量は特に限定され
ないが、一般には当倍モル乃至４０倍モル使用され、３
倍モル乃至２０倍モル使用するのが好ましい。低級アル
コキシスルフォン酸の使用量が当倍モルより少ない場合
には反応速度が遅くなり、また４０倍モルより多い場合
には７−ＡＣＡ及び反応で生成する目的化合物（ＩＩ）
の分解が増進され、目的化合物（ＩＩ）の収率が低下す
る。
ォン酸を含む低級アルコール溶液中の低級アルコキシス
ルフォン酸の７−ＡＣＡに対する使用量は特に限定され
ないが、一般には当倍モル乃至４０倍モル使用され、３
倍モル乃至２０倍モル使用するのが好ましい。低級アル
コキシスルフォン酸の使用量が当倍モルより少ない場合
には反応速度が遅くなり、また４０倍モルより多い場合
には７−ＡＣＡ及び反応で生成する目的化合物（ＩＩ）
の分解が増進され、目的化合物（ＩＩ）の収率が低下す
る。
【００１７】本発明で用いられる一般式Ｂ（ＯＲ1 ）3
で示されるホウ酸トリ低級アルキルのＲ1 基は、前記の
基と同義であり、そのホウ酸トリ低級アルキルの例とし
ては、ホウ酸トリメチル、ホウ酸トリエチル、ホウ酸ト
リプロピル及びホウ酸トリブチル等が挙げられる。
で示されるホウ酸トリ低級アルキルのＲ1 基は、前記の
基と同義であり、そのホウ酸トリ低級アルキルの例とし
ては、ホウ酸トリメチル、ホウ酸トリエチル、ホウ酸ト
リプロピル及びホウ酸トリブチル等が挙げられる。
【００１８】本発明で用いられるホウ酸トリ低級アルキ
ル の使用量は特に限定されないが、一般には７−ＡＣ
Ａに対して０. １倍モル乃至３０倍モル使用され、０.
３倍モル乃至２０倍モル使用するのが好ましい。
ル の使用量は特に限定されないが、一般には７−ＡＣ
Ａに対して０. １倍モル乃至３０倍モル使用され、０.
３倍モル乃至２０倍モル使用するのが好ましい。
【００１９】本発明で用いられる一般式ＣＨ2 （ＯＲ
1 ）2 ［Ｒ1 は前記の基と同義］で示されるメチラール
類は、公知の製法、例えば、パラホルムアルデヒドを濃
硫酸の存在下、一般式Ｒ1 ＯＨ［Ｒ1 基は前記の基と同
義］で示される低級アルコールと必要ならば、反応に悪
影響を及ぼさない有機溶剤、例えば低級アルコール、ア
ルカン類、ハロゲン化アルカン類及び芳香族炭化水素類
等を用いて反応させることによって製造することができ
る。その際の反応温度及び反応時間は、低級アルコール
及び有機溶剤の種類および量等によって異なるが、大体
室温乃至１５０℃位並びに数分乃至数十時間である。
1 ）2 ［Ｒ1 は前記の基と同義］で示されるメチラール
類は、公知の製法、例えば、パラホルムアルデヒドを濃
硫酸の存在下、一般式Ｒ1 ＯＨ［Ｒ1 基は前記の基と同
義］で示される低級アルコールと必要ならば、反応に悪
影響を及ぼさない有機溶剤、例えば低級アルコール、ア
ルカン類、ハロゲン化アルカン類及び芳香族炭化水素類
等を用いて反応させることによって製造することができ
る。その際の反応温度及び反応時間は、低級アルコール
及び有機溶剤の種類および量等によって異なるが、大体
室温乃至１５０℃位並びに数分乃至数十時間である。
【００２０】本発明で用いられるＣＨ2 （ＯＲ1 ）2
［Ｒ1 は前記の基と同義］で示されるメチラール類とし
ては、ホルムアルデヒドジ低級アルキルアセタールが挙
げられ、その具体例としては、メチラール、エチラー
ル、ホルムアルデヒドジプロピルアセタール及びホルム
アルデヒドジブチルアセタール等が挙げられる。
［Ｒ1 は前記の基と同義］で示されるメチラール類とし
ては、ホルムアルデヒドジ低級アルキルアセタールが挙
げられ、その具体例としては、メチラール、エチラー
ル、ホルムアルデヒドジプロピルアセタール及びホルム
アルデヒドジブチルアセタール等が挙げられる。
【００２１】本発明に用いられるメチラール類の使用量
は特に限定されないが、一般には７−ＡＣＡに対して
０. ２倍モル乃至３０倍モル使用され、０. ５倍モル乃
至２０倍モル使用するのが好ましい。
は特に限定されないが、一般には７−ＡＣＡに対して
０. ２倍モル乃至３０倍モル使用され、０. ５倍モル乃
至２０倍モル使用するのが好ましい。
【００２２】本発明で用いられるホウ酸トリ低級アルキ
ルとメチラール類の併用割合は任意であり、その合計量
がホウ酸トリ低級アルキルまたはメチラール類の通常用
いられる範囲の量であればよい。本発明方法の実施に際
し、有機溶媒の存在は不可欠ではないが、存在する方が
好ましい。
ルとメチラール類の併用割合は任意であり、その合計量
がホウ酸トリ低級アルキルまたはメチラール類の通常用
いられる範囲の量であればよい。本発明方法の実施に際
し、有機溶媒の存在は不可欠ではないが、存在する方が
好ましい。
【００２３】その有機溶媒としては、スルホラン、炭酸
エステル、エーテル類及び有機酸エステル（例えば、有
機モノカルボン酸エステル、有機ジカルボン酸エステ
ル）等が挙げられる。その具体例としては、スルホラ
ン、炭酸ジメチル、炭酸ジエチル、炭酸ジプロピル、炭
酸ジブチル、炭酸エチレン等の炭酸エステル、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジイソプ
ロピルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル
等のエーテル類、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸プロピ
ル、ギ酸ブチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピ
ル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エ
チル、プロピオン酸ブチル、酪酸メチル、酪酸エチル、
イソ酪酸メチル、吉草酸メチル、イソ吉草酸エチル、メ
チルエチル酢酸メチル、ピバリン酸メチル、アクリル酸
メチル、メタクリル酸メチル、クロトン酸メチル、イソ
クロトン酸メチル、プロピオール酸メチル、ジ酢酸エチ
レングリコール、シュウ酸ジエチル、マロン酸ジメチ
ル、マロン酸ジエチル、マロン酸ジブチル、コハク酸ジ
メチル、アジピン酸ジメチル、アジピン酸ジエチル、ア
ジピン酸ジプロピル、アジピン酸ジブチル、グルタル酸
ジメチル、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、
マレイン酸ジプロピル、マレイン酸ジブチル、フマル酸
ジメチル、イタコン酸ジメチル、グルタコン酸ジメチ
ル、アセチレンジカルボン酸ジメチル等の有機酸エステ
ル等が挙げられ、これらの有機溶媒を２種以上混合して
用いることもできる。
エステル、エーテル類及び有機酸エステル（例えば、有
機モノカルボン酸エステル、有機ジカルボン酸エステ
ル）等が挙げられる。その具体例としては、スルホラ
ン、炭酸ジメチル、炭酸ジエチル、炭酸ジプロピル、炭
酸ジブチル、炭酸エチレン等の炭酸エステル、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジイソプ
ロピルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル
等のエーテル類、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸プロピ
ル、ギ酸ブチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピ
ル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エ
チル、プロピオン酸ブチル、酪酸メチル、酪酸エチル、
イソ酪酸メチル、吉草酸メチル、イソ吉草酸エチル、メ
チルエチル酢酸メチル、ピバリン酸メチル、アクリル酸
メチル、メタクリル酸メチル、クロトン酸メチル、イソ
クロトン酸メチル、プロピオール酸メチル、ジ酢酸エチ
レングリコール、シュウ酸ジエチル、マロン酸ジメチ
ル、マロン酸ジエチル、マロン酸ジブチル、コハク酸ジ
メチル、アジピン酸ジメチル、アジピン酸ジエチル、ア
ジピン酸ジプロピル、アジピン酸ジブチル、グルタル酸
ジメチル、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、
マレイン酸ジプロピル、マレイン酸ジブチル、フマル酸
ジメチル、イタコン酸ジメチル、グルタコン酸ジメチ
ル、アセチレンジカルボン酸ジメチル等の有機酸エステ
ル等が挙げられ、これらの有機溶媒を２種以上混合して
用いることもできる。
【００２４】また、反応に悪影響を及ぼさない限り他の
有機溶媒、例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル
等のニトリル類、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、トリフル
オロ酢酸等の有機カルボン酸類、ニトロメタン、ニトロ
エタン、ニトロプロパン等のニトロアルカン類、ジクロ
ルメタン、クロロホルム、ジクロルエタン、四塩化炭素
等のハロゲン化アルカン類、ジクロルエチレン、トリク
ロルエチレン等のハロゲン化アルケン類、ｎ−ヘキサ
ン、ヘプタン等のアルカン類、シクロヘキサン等の脂環
式アルカン類等を使用することができ、またこれらの有
機溶媒を２種以上混合して用いることもできる。
有機溶媒、例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル
等のニトリル類、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、トリフル
オロ酢酸等の有機カルボン酸類、ニトロメタン、ニトロ
エタン、ニトロプロパン等のニトロアルカン類、ジクロ
ルメタン、クロロホルム、ジクロルエタン、四塩化炭素
等のハロゲン化アルカン類、ジクロルエチレン、トリク
ロルエチレン等のハロゲン化アルケン類、ｎ−ヘキサ
ン、ヘプタン等のアルカン類、シクロヘキサン等の脂環
式アルカン類等を使用することができ、またこれらの有
機溶媒を２種以上混合して用いることもできる。
【００２５】本発明における反応温度に特に限定はない
が通常、−３０℃〜８０℃で行われ、−１０℃乃至６０
℃が好ましい。
が通常、−３０℃〜８０℃で行われ、−１０℃乃至６０
℃が好ましい。
【００２６】本発明の反応に要する時間は主として、７
−ＡＣＡ、低級アルコキシスルフォン酸を含む低級アル
コール溶液、ホウ酸トリ低級アルキルおよびメチラール
類の量、有機溶媒を使用した場合はその種類、反応温度
等によっても異なり、数分乃至数十時間である。
−ＡＣＡ、低級アルコキシスルフォン酸を含む低級アル
コール溶液、ホウ酸トリ低級アルキルおよびメチラール
類の量、有機溶媒を使用した場合はその種類、反応温度
等によっても異なり、数分乃至数十時間である。
【００２７】本発明方法において用いられる原材料の添
加順序は任意であるが、通常、７−ＡＣＡまたはその塩
をそのまま、またはこれを有機溶媒に懸濁または溶解さ
せたものを、低級アルコキシスルフォン酸を含む低級ア
ルコール溶液、低級アルコール、ホウ酸トリ低級アルキ
ル及び／またはメチラール類の混合系または更にこれに
有機溶媒を添加した系に添加するか、またはその逆に添
加する等の方法がある。
加順序は任意であるが、通常、７−ＡＣＡまたはその塩
をそのまま、またはこれを有機溶媒に懸濁または溶解さ
せたものを、低級アルコキシスルフォン酸を含む低級ア
ルコール溶液、低級アルコール、ホウ酸トリ低級アルキ
ル及び／またはメチラール類の混合系または更にこれに
有機溶媒を添加した系に添加するか、またはその逆に添
加する等の方法がある。
【００２８】本発明方法の実施に際しては、用いられる
化合物、有機溶媒及び反応系中の水分は無水乃至出来る
だけ無水に近い状態で行うのが好ましい。
化合物、有機溶媒及び反応系中の水分は無水乃至出来る
だけ無水に近い状態で行うのが好ましい。
【００２９】本発明で得られた目的化合物（ＩＩ）は反
応終了後、反応混合物を水または氷に加えた後、反応混
合物のｐＨを調整して、析出する結晶を濾取するか、ま
たは析出前に所望の造塩基質を加えて中和し所望の塩と
して採取することができる。この結晶を水で洗った後、
減圧で乾燥することによって目的化合物（ＩＩ）が得ら
れる。このものは必要ならばアンモニア水やアルカリ水
溶液または塩酸や硫酸に溶解した後、吸着剤（例えば活
性炭）で脱色して吸着剤を濾過後、濾液をｐＨ調整する
か、または吸着樹脂等のカラムにかけて溶出させ、溶出
液をｐＨ調整して、析出する結晶を濾取することによっ
て更に精製することができる。
応終了後、反応混合物を水または氷に加えた後、反応混
合物のｐＨを調整して、析出する結晶を濾取するか、ま
たは析出前に所望の造塩基質を加えて中和し所望の塩と
して採取することができる。この結晶を水で洗った後、
減圧で乾燥することによって目的化合物（ＩＩ）が得ら
れる。このものは必要ならばアンモニア水やアルカリ水
溶液または塩酸や硫酸に溶解した後、吸着剤（例えば活
性炭）で脱色して吸着剤を濾過後、濾液をｐＨ調整する
か、または吸着樹脂等のカラムにかけて溶出させ、溶出
液をｐＨ調整して、析出する結晶を濾取することによっ
て更に精製することができる。
【００３０】更に、目的化合物（ＩＩ）が遊離の形で採
取された場合は、必要に応じて常法により塩の形に変換
することができる。また、目的化合物（ＩＩ）が塩の形
で採取された場合は、必要に応じて常法により遊離の形
に変換することもでき、更に得られた遊離の形を別の所
望の塩に変換することるできる。これらの変換はそれぞ
れの生成物を単離することなく、続けて行こうともでき
る。
取された場合は、必要に応じて常法により塩の形に変換
することができる。また、目的化合物（ＩＩ）が塩の形
で採取された場合は、必要に応じて常法により遊離の形
に変換することもでき、更に得られた遊離の形を別の所
望の塩に変換することるできる。これらの変換はそれぞ
れの生成物を単離することなく、続けて行こうともでき
る。
【００３１】以下に本発明で用いられる低級アルコキシ
スルフォン酸を含む低級アルコール溶液及びメチラール
類の合成方法を例を挙げて具体的に説明する。
スルフォン酸を含む低級アルコール溶液及びメチラール
類の合成方法を例を挙げて具体的に説明する。
【００３２】［合成例１］メタノール４０ｍｌ（１モ
ル）に１５〜２０℃でクロルスルフォン酸６６ｍ１（１
モル）を加えた後、生成する塩化水素を減圧化、６０℃
で３時間加熱して除去すると９８％のメトキシスルフォ
ン酸を含有するメトキシスルフォン酸のメタノール溶液
１１２ｇが得られた。
ル）に１５〜２０℃でクロルスルフォン酸６６ｍ１（１
モル）を加えた後、生成する塩化水素を減圧化、６０℃
で３時間加熱して除去すると９８％のメトキシスルフォ
ン酸を含有するメトキシスルフォン酸のメタノール溶液
１１２ｇが得られた。
【００３３】［合成例２］メタノール４８ｍｌ（１. ２
モル）に１５〜２０℃でクロルスルフォン酸６６ｍｌ
（１モル）を加えた後、４０℃に加熱して窒素ガスを４
時間通じて、生成する塩化水素を除去するとメトキシス
ルフォン酸のメタノール溶液１１８ｇが得られた。
モル）に１５〜２０℃でクロルスルフォン酸６６ｍｌ
（１モル）を加えた後、４０℃に加熱して窒素ガスを４
時間通じて、生成する塩化水素を除去するとメトキシス
ルフォン酸のメタノール溶液１１８ｇが得られた。
【００３４】［合成例３］メタノール３０ｍｌ（０. ７
５モル）を氷冷した後、クロルスルフォン酸３３ｍｌ
（０. ５モル）を１０℃で加え、窒素ガスを５時間通じ
て、生成する塩化水素を除去するとメトキシスルフォン
酸のメタノール溶液６３. ７ｇが得られた。
５モル）を氷冷した後、クロルスルフォン酸３３ｍｌ
（０. ５モル）を１０℃で加え、窒素ガスを５時間通じ
て、生成する塩化水素を除去するとメトキシスルフォン
酸のメタノール溶液６３. ７ｇが得られた。
【００３５】［合成例４］メタノール８０ｍｌ（２モ
ル）に−５〜０℃で三酸化イオウ４２ｍｌ（１モル）を
加えて反応させるとメトキシスルフォン酸のメタノール
溶液１４４ｇが得られた。
ル）に−５〜０℃で三酸化イオウ４２ｍｌ（１モル）を
加えて反応させるとメトキシスルフォン酸のメタノール
溶液１４４ｇが得られた。
【００３６】［合成例５］メタノール４０ｍｌにパラホ
ルムアルデヒド１０ｇ及び濃硫酸０. ４ｍｌを加えて加
熱して５時間反応させた。反応後冷却し、３０％水酸化
ナトリウム水溶液３ｍｌを加えて、分留管を用 いて清
留するとメチラール２０. ５ｇが得られた。
ルムアルデヒド１０ｇ及び濃硫酸０. ４ｍｌを加えて加
熱して５時間反応させた。反応後冷却し、３０％水酸化
ナトリウム水溶液３ｍｌを加えて、分留管を用 いて清
留するとメチラール２０. ５ｇが得られた。
【００３７】
【実施例】次に本発明方法を実施例を挙げて具体的に説
明するが、本発明方法はこれらによって限定されるもの
ではない。
明するが、本発明方法はこれらによって限定されるもの
ではない。
【００３８】７−アミノ−３−メトキシメチル−３−セ
フェム−４−カルボン酸の製法 ［実施例１］スルホラン１５ｍｌに合成例２で得られた
メトキシスルフォン酸のメタノール溶液８. ９４ｇ及び
ホウ酸トリメチル２. １０ｇを加えて２０℃に冷却した
後、７−ＡＣＡ２. ７４ｇを加えて２ ０℃で１.５時
間撹拌した。反応経過をＨＰＬＣでチェックした。反応
終了後、反応混合物を砕氷中に投入し、次いでアンモニ
ア水を加えてp Ｈ３. ５に調整した。析出した結晶を濾
取し、水洗後乾燥すると粗７−アミノ−３−メトキシメ
チル−３−セフェム−４−カルボン酸２. ８４ｇが得ら
れた。この粗結晶をアンモニア水に溶解した後p Ｈ７に
調整した。この液を吸着カラム（ポリスチレン系ハイポ
ーラスポリマー）にかけ、溶出液を塩酸によりp Ｈ３.
５に調整した。析出した結晶を濾取し、水洗後乾燥する
と高純度の目的化合物２. １４ｇ（収率８７％）が得ら
れた。
フェム−４−カルボン酸の製法 ［実施例１］スルホラン１５ｍｌに合成例２で得られた
メトキシスルフォン酸のメタノール溶液８. ９４ｇ及び
ホウ酸トリメチル２. １０ｇを加えて２０℃に冷却した
後、７−ＡＣＡ２. ７４ｇを加えて２ ０℃で１.５時
間撹拌した。反応経過をＨＰＬＣでチェックした。反応
終了後、反応混合物を砕氷中に投入し、次いでアンモニ
ア水を加えてp Ｈ３. ５に調整した。析出した結晶を濾
取し、水洗後乾燥すると粗７−アミノ−３−メトキシメ
チル−３−セフェム−４−カルボン酸２. ８４ｇが得ら
れた。この粗結晶をアンモニア水に溶解した後p Ｈ７に
調整した。この液を吸着カラム（ポリスチレン系ハイポ
ーラスポリマー）にかけ、溶出液を塩酸によりp Ｈ３.
５に調整した。析出した結晶を濾取し、水洗後乾燥する
と高純度の目的化合物２. １４ｇ（収率８７％）が得ら
れた。
【００３９】［実施例２］炭酸ジメチル３０ｍｌに合成
例３で得られたメトキシスルフォン酸のメタノール溶液
２２. ０ｇ及びホウ酸トリメチル２. １０ｇを加えて１
０℃に冷却した後、７−ＡＣＡ２. ７４ｇを加えて１０
℃で１. ５時間撹拌した。反応終了後、反応混合物を砕
氷中に投入し、次いでアンモニア水を加えて、ｐＨ３.
５に調整した。析出した結晶を濾取し、水洗後乾燥する
と粗７−アミノ−３−メトキシメチル−３−セフェム−
４−カルボン酸２. ８０ｇが得られた。この粗結晶に水
を加え、次いでアンモニア水でｐＨ８に調整した後、活
性炭で脱色した。活性炭を濾過し、塩酸によりｐＨ３.
５に調整した。析出した結晶を濾取し、水洗後乾燥する
と高純度の目的化合物２. １１ｇ（収率８６％）が得ら
れた。
例３で得られたメトキシスルフォン酸のメタノール溶液
２２. ０ｇ及びホウ酸トリメチル２. １０ｇを加えて１
０℃に冷却した後、７−ＡＣＡ２. ７４ｇを加えて１０
℃で１. ５時間撹拌した。反応終了後、反応混合物を砕
氷中に投入し、次いでアンモニア水を加えて、ｐＨ３.
５に調整した。析出した結晶を濾取し、水洗後乾燥する
と粗７−アミノ−３−メトキシメチル−３−セフェム−
４−カルボン酸２. ８０ｇが得られた。この粗結晶に水
を加え、次いでアンモニア水でｐＨ８に調整した後、活
性炭で脱色した。活性炭を濾過し、塩酸によりｐＨ３.
５に調整した。析出した結晶を濾取し、水洗後乾燥する
と高純度の目的化合物２. １１ｇ（収率８６％）が得ら
れた。
【００４０】［実施例３］アジピン酸ジメチル２０ｍｌ
に合成例４で得られたメトキシスルフォン酸のメタノー
ル溶液１７. ９０ｇ及びホウ酸トリメチル１. ０４ｇを
加えて１５℃に冷却した後、７−ＡＣＡ２. ７４ｇを加
えて１５℃で１. ５時間撹拌した。反応終了後、反応混
合物を以下、実施例２の方法に準じて処理すると高純度
の目的化合物２. ０６ｇ（収率８４％）が得られた。
に合成例４で得られたメトキシスルフォン酸のメタノー
ル溶液１７. ９０ｇ及びホウ酸トリメチル１. ０４ｇを
加えて１５℃に冷却した後、７−ＡＣＡ２. ７４ｇを加
えて１５℃で１. ５時間撹拌した。反応終了後、反応混
合物を以下、実施例２の方法に準じて処理すると高純度
の目的化合物２. ０６ｇ（収率８４％）が得られた。
【００４１】［実施例４］マレイン酸ジメチル３０ｍｌ
に合成例１で得られたメトキシスルフォン酸のメタノー
ル溶液１１. ３０ｇ及びホウ酸トリメチル３. １１ｇを
加えて２５℃に冷却した後、７−ＡＣＡ２. ７４ｇを加
えて２５℃で１. ０時間撹拌した。反応終了後、反応混
合物を以下、実施例２の方法に準じて処理すると高純度
の目的化合物２. ０４ｇ（収率８３％）が得られた。
に合成例１で得られたメトキシスルフォン酸のメタノー
ル溶液１１. ３０ｇ及びホウ酸トリメチル３. １１ｇを
加えて２５℃に冷却した後、７−ＡＣＡ２. ７４ｇを加
えて２５℃で１. ０時間撹拌した。反応終了後、反応混
合物を以下、実施例２の方法に準じて処理すると高純度
の目的化合物２. ０４ｇ（収率８３％）が得られた。
【００４２】［実施例５］炭酸ジメチル２５ｍｌ及び酢
酸メチル５ｍｌに合成例２で得られたメトキシスルフォ
ン酸のメタノール溶液１１. ９０ｇ及びホウ酸トリメチ
ル３. １１ｇを加えて２０℃に冷却した後、７−ＡＣＡ
２. ７４ｇを加えて２０℃で１. ０時間撹拌した。反応
終了後、反応混合物を以下、実施例２の方法に準じて処
理すると高純度の目的化合物２.０６ｇ（収率８４％）
が得られた。
酸メチル５ｍｌに合成例２で得られたメトキシスルフォ
ン酸のメタノール溶液１１. ９０ｇ及びホウ酸トリメチ
ル３. １１ｇを加えて２０℃に冷却した後、７−ＡＣＡ
２. ７４ｇを加えて２０℃で１. ０時間撹拌した。反応
終了後、反応混合物を以下、実施例２の方法に準じて処
理すると高純度の目的化合物２.０６ｇ（収率８４％）
が得られた。
【００４３】［実施例６］スルホラン１５ｍｌに合成例
２で得られたメトキシスルフォン酸のメタノール溶液１
１. ９０ｇ及びホウ酸トリメチル２. １０ｇを加えて１
５℃に冷却した後、７−ＡＣＡ２. ７４ｇを加えて１５
℃で１. ０時間撹拌した。反応終了後、反応混合物を以
下、実施例２の方法に準じて処理すると高純度の目的化
合物２. １６ｇ（収率８８％）が得られた。
２で得られたメトキシスルフォン酸のメタノール溶液１
１. ９０ｇ及びホウ酸トリメチル２. １０ｇを加えて１
５℃に冷却した後、７−ＡＣＡ２. ７４ｇを加えて１５
℃で１. ０時間撹拌した。反応終了後、反応混合物を以
下、実施例２の方法に準じて処理すると高純度の目的化
合物２. １６ｇ（収率８８％）が得られた。
【００４４】［実施例７］スルホラン１０ｍｌ及び酢酸
メチル５ｍｌに合成例２で得られたメトキシスルフォン
酸のメタノール溶液１１. ９０ｇ及びホウ酸トリメチル
２. １０ｇ を加えて２０℃で冷却した後、７−ＡＣＡ
２. ７４ｇを加えて２０℃で１. ０時間撹拌した。反応
終了後、反応混合物を以下、実施例２の方法に準じて処
理すると高純度の目的化合物２. １１ｇ（収率８６％）
が得られた。
メチル５ｍｌに合成例２で得られたメトキシスルフォン
酸のメタノール溶液１１. ９０ｇ及びホウ酸トリメチル
２. １０ｇ を加えて２０℃で冷却した後、７−ＡＣＡ
２. ７４ｇを加えて２０℃で１. ０時間撹拌した。反応
終了後、反応混合物を以下、実施例２の方法に準じて処
理すると高純度の目的化合物２. １１ｇ（収率８６％）
が得られた。
【００４５】［実施例８］合成例２で得られたメトキシ
スルフォン酸のメタノール溶液１７. ９０ｇにホウ酸ト
リメチル１５. ８０ｇを加えて−５℃に冷却した後、７
−ＡＣＡ２. ７４ｇを加えて−５℃で５. ０時間撹拌し
た。反応終了後、反応混合物を以下、実施例２の方法に
準じて処理すると高純度の目的化合物２. ０４ｇ（収率
８３％）が得られた。
スルフォン酸のメタノール溶液１７. ９０ｇにホウ酸ト
リメチル１５. ８０ｇを加えて−５℃に冷却した後、７
−ＡＣＡ２. ７４ｇを加えて−５℃で５. ０時間撹拌し
た。反応終了後、反応混合物を以下、実施例２の方法に
準じて処理すると高純度の目的化合物２. ０４ｇ（収率
８３％）が得られた。
【００４６】［実施例９］ジオキサン１０ｍｌに合成例
１で得られたメトキシスルフォン酸のメタノール溶液１
７. ９４ｇ、ホウ酸トリメチル０. ３１ｇ及びメタノー
ル２. ３１ｇを加えて０℃に冷却した後、７−ＡＣＡ
２. ７４ｇを加えて０℃で５. ０時間撹拌した。反応終
了後、反応混合物を以下、実施例２の方法に準じて処理
すると高純度の目的化合物２. ０９ｇ（収率８５％）が
得られた。
１で得られたメトキシスルフォン酸のメタノール溶液１
７. ９４ｇ、ホウ酸トリメチル０. ３１ｇ及びメタノー
ル２. ３１ｇを加えて０℃に冷却した後、７−ＡＣＡ
２. ７４ｇを加えて０℃で５. ０時間撹拌した。反応終
了後、反応混合物を以下、実施例２の方法に準じて処理
すると高純度の目的化合物２. ０９ｇ（収率８５％）が
得られた。
【００４７】［実施例１０］ジオキサン３. ５ｍｌに合
成例２で得られたメトキシスルフォン酸のメタノール溶
液２０. ２８ｇ、ホウ酸トリメチル２. ２０ｇ及びメタ
ノール１. １５ｇを加えて−１５℃に冷却した後、７−
ＡＣＡ２. ７４ｇをｎ−ヘキサン１５ｍｌに懸濁させた
スラリー液を加えて−６℃で５. ０時間撹拌した。反応
終了後、反応混合物を以下、実施例２の方法に準じて処
理すると高純度の目的化合物２. １１ｇ（収率８６％）
が得られた。
成例２で得られたメトキシスルフォン酸のメタノール溶
液２０. ２８ｇ、ホウ酸トリメチル２. ２０ｇ及びメタ
ノール１. １５ｇを加えて−１５℃に冷却した後、７−
ＡＣＡ２. ７４ｇをｎ−ヘキサン１５ｍｌに懸濁させた
スラリー液を加えて−６℃で５. ０時間撹拌した。反応
終了後、反応混合物を以下、実施例２の方法に準じて処
理すると高純度の目的化合物２. １１ｇ（収率８６％）
が得られた。
【００４８】［実施例１１］コハク酸ジメチル３０ｍｌ
に合成例１で得られたメトキシスルフォン酸のメタノー
ル溶液１７. ９４ｇ及び合成例５で得られたメチラール
６. １２ｇを加えて１５℃に冷却した後、７−ＡＣＡ
２. ７４ｇを加えて１５℃で１. ５時間撹拌した。反応
終了後、反応混合物を以下、実施例２の方法に準じて処
理すると高純度の目的化合物 ２.０４ｇ（収率８３
％）が得られた。
に合成例１で得られたメトキシスルフォン酸のメタノー
ル溶液１７. ９４ｇ及び合成例５で得られたメチラール
６. １２ｇを加えて１５℃に冷却した後、７−ＡＣＡ
２. ７４ｇを加えて１５℃で１. ５時間撹拌した。反応
終了後、反応混合物を以下、実施例２の方法に準じて処
理すると高純度の目的化合物 ２.０４ｇ（収率８３
％）が得られた。
【００４９】［実施例１２］炭酸ジメチル３０ｍｌに合
成例２で得られたメトキシスルフォン酸のメタノール溶
液２０. ２８ｇ、メタノール１. ７７ｇ及び合成例５で
得られたメチラール２. ３０ｇを加えて１０℃で冷却し
た後、７−ＡＣＡ２. ７４ｇを加えて１０℃で１. ０時
間撹拌した。反応終了後、反応混合物を以下、実施例２
の方法に準じて処理すると高純度の目的化合物２. ０１
ｇ（収率８２％）が得られた。
成例２で得られたメトキシスルフォン酸のメタノール溶
液２０. ２８ｇ、メタノール１. ７７ｇ及び合成例５で
得られたメチラール２. ３０ｇを加えて１０℃で冷却し
た後、７−ＡＣＡ２. ７４ｇを加えて１０℃で１. ０時
間撹拌した。反応終了後、反応混合物を以下、実施例２
の方法に準じて処理すると高純度の目的化合物２. ０１
ｇ（収率８２％）が得られた。
【００５０】［実施例１３］スルホラン２０ｍｌに合成
例２で得られたメトキシスルフォン酸のメタノール溶液
１６. ７０ｇ、ホウ酸トリメチル２. １８ｇ及び合成例
５で得られたメチラール２. ４５ｇを加えて１０℃に冷
却した後、７−ＡＣＡ２. ７４ｇを加えて１０℃で１.
５時間撹拌した。反応終了後、反応混合 物を以下、実
施例２の方法に準じて処理すると高純度の目的化合物
１. ９４ｇ（収率７９％）が得られた。
例２で得られたメトキシスルフォン酸のメタノール溶液
１６. ７０ｇ、ホウ酸トリメチル２. １８ｇ及び合成例
５で得られたメチラール２. ４５ｇを加えて１０℃に冷
却した後、７−ＡＣＡ２. ７４ｇを加えて１０℃で１.
５時間撹拌した。反応終了後、反応混合 物を以下、実
施例２の方法に準じて処理すると高純度の目的化合物
１. ９４ｇ（収率７９％）が得られた。
【００５１】以下に従来法を追試した結果を示す。
【００５２】［比較例１］７−ＡＣＡ２. ７４ｇ、五塩
化アンチモン５. ４２ｇ、濃硫酸２. ０７ｇ、ホウ酸ト
リメチル２. ０７ｇをスルホラン２０ｍｌ中に入れ、０
℃で７時間撹拌した。反応終了後、反応混合物を以下、
実施例２の方法に準じて処理すると目的化合物０. ４９
ｇ（収率２０％）が得られた。
化アンチモン５. ４２ｇ、濃硫酸２. ０７ｇ、ホウ酸ト
リメチル２. ０７ｇをスルホラン２０ｍｌ中に入れ、０
℃で７時間撹拌した。反応終了後、反応混合物を以下、
実施例２の方法に準じて処理すると目的化合物０. ４９
ｇ（収率２０％）が得られた。
【００５３】［比較例２］７−ＡＣＡ２. ７４ｇ、塩化
亜鉛５. ８３ｇ、濃硫酸１. ０４ｇ、ホウ酸トリメチル
５. ６６ｇを酢酸メチル２０ｍｌに入れ、３０℃で６時
間撹拌した。反応終了後、反応混合物を以下、実施例２
の方法に準じて処理すると目的化合物１.５５ｇ（収率
６３％）が得られた。
亜鉛５. ８３ｇ、濃硫酸１. ０４ｇ、ホウ酸トリメチル
５. ６６ｇを酢酸メチル２０ｍｌに入れ、３０℃で６時
間撹拌した。反応終了後、反応混合物を以下、実施例２
の方法に準じて処理すると目的化合物１.５５ｇ（収率
６３％）が得られた。
【００５４】［比較例３］７−ＡＣＡ２. ７４ｇ、メタ
ンスルフォン酸１４. ６８ｇ、ホウ酸トリメチル１. ８
９ｇをジクロルメタン２０ｍｌ中に入れ、０℃で５時間
撹拌した。反応終了後、反応混合物を以下、実施例２の
方法に準じて処理すると目的化合物０. ２７ｇ（収率１
１％）が得られた。
ンスルフォン酸１４. ６８ｇ、ホウ酸トリメチル１. ８
９ｇをジクロルメタン２０ｍｌ中に入れ、０℃で５時間
撹拌した。反応終了後、反応混合物を以下、実施例２の
方法に準じて処理すると目的化合物０. ２７ｇ（収率１
１％）が得られた。
【００５５】以上実施例および比較例を対比すれば明ら
かな如く、本発明方法が従来法に比べて優れていること
が分かる。
かな如く、本発明方法が従来法に比べて優れていること
が分かる。
【００５６】
【発明の効果】本発明によれば、７−ＡＣＡまたはその
塩から７−アミノ−３−アルコキシメチル−３−セフェ
ム−４−カルボン酸またはその塩を工業的に容易な操作
で、高純度且つ高収率で得る方法が提供される。
塩から７−アミノ−３−アルコキシメチル−３−セフェ
ム−４−カルボン酸またはその塩を工業的に容易な操作
で、高純度且つ高収率で得る方法が提供される。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山口 清実 神奈川県川崎市高津区久地788番地 三 共有機合成株式会社内 (72)発明者 宮本 茂 神奈川県川崎市高津区久地788番地 三 共有機合成株式会社内 (72)発明者 高橋 泰雄 神奈川県川崎市高津区久地788番地 三 共有機合成株式会社内 (72)発明者 加藤 圭介 神奈川県川崎市高津区久地788番地 三 共有機合成株式会社内 (72)発明者 笹尾 富夫 神奈川県平塚市中原上宿字構之内173番 地 三共株式会社内 (72)発明者 飯島 清史 東京都品川区広町１丁目２番58号 三共 株式会社内 (56)参考文献 特開 昭59−163387（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−49790（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C07D 501/00 - 501/62 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (1)
- 【請求項１】式 【化１】 で示される７−アミノ−３−アセトキシメチル−３−セ
フェム−４−カルボン酸またはその塩と、一般式Ｒ1 Ｏ
ＳＯ3 Ｈ で示される低級アルコキシスルフォン酸を含
む低級アルコール（一般式Ｒ1 ＯＨ）溶液並びに一般式
Ｂ（ＯＲ1 ）3で示されるホウ酸トリ低級アルキル及び
／または一般式ＣＨ2 （ＯＲ1 ）2で示されるメチラー
ル類を存在させ、反応させることを特徴とする 一般式 【化２】 ［前記各一般式中のＲ1 は低級アルキル基］で示される
７−アミノ−３−アルコキシメチル−３−セフェム−４
−カルボン酸またはその塩の製法。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP29012291A JP3206821B2 (ja) | 1990-11-07 | 1991-11-06 | ３−アルコキシメチル−セファロスポリン誘導体の製法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2-302071 | 1990-11-07 | ||
| JP30207190 | 1990-11-07 | ||
| JP29012291A JP3206821B2 (ja) | 1990-11-07 | 1991-11-06 | ３−アルコキシメチル−セファロスポリン誘導体の製法 |
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|---|---|
| JPH04364188A JPH04364188A (ja) | 1992-12-16 |
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ID=17904568
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29012291A Expired - Fee Related JP3206821B2 (ja) | 1990-11-07 | 1991-11-06 | ３−アルコキシメチル−セファロスポリン誘導体の製法 |
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| EP (1) | EP0485204B1 (ja) |
| JP (1) | JP3206821B2 (ja) |
| KR (1) | KR0140196B1 (ja) |
| AT (1) | ATE123286T1 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
| AT401177B (de) * | 1993-10-22 | 1996-07-25 | Biochemie Gmbh | Verfahren zur herstellung von 7-amino-3-cephem-4-carbonsäure-derivaten |
| KR100343434B1 (ko) * | 1999-10-13 | 2002-07-11 | 민경윤 | 7-아미노-3-메톡시메틸-3-세펨-4-카복실산의 제조방법 |
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