JPH04364188A - 3−アルコキシメチル−セファロスポリン誘導体の製法 - Google Patents

3−アルコキシメチル−セファロスポリン誘導体の製法

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JPH04364188A
JPH04364188A JP3290122A JP29012291A JPH04364188A JP H04364188 A JPH04364188 A JP H04364188A JP 3290122 A JP3290122 A JP 3290122A JP 29012291 A JP29012291 A JP 29012291A JP H04364188 A JPH04364188 A JP H04364188A
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Masao Hirayama
平山 征男
Shuji Sayama
佐山 修二
Kiyomi Yamaguchi
山口 清実
Shigeru Miyamoto
茂 宮本
Yasuo Takahashi
泰雄 高橋
Keisuke Kato
圭介 加藤
Tomio Sasao
笹尾 富夫
Seishi Iijima
飯島 清史
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Sankyo Organic Chemicals Co Ltd
Sankyo Co Ltd
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Sankyo Co Ltd
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    • C07ORGANIC CHEMISTRY
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    • C07D501/00Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
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    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D501/00Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
    • C07D501/14Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7
    • C07D501/16Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7 with a double bond between positions 2 and 3
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は7−アミノ−3−アルコ
キシメチル−3−セフェム−4−カルボン酸またはその
塩の製法に関するものである。本化合物は優れた抗菌作
用を有するセファロスポリン系抗生物質の原料物質とし
て重要なものである。
【0002】
【従来の技術】従来、7−アミノ−3−アルコキシメチ
ル−3−セフェム−4−カルボン酸の製法のうち比較的
収率の良い方法としては、7−アミノ−3−アセトキシ
メチル−3−セフェム−4−カルボン酸(以下7−AC
Aという)をプロトン酸、ルイス酸またはその錯化合物
とホウ酸エステル類、オルソ有機酸エステル類またはア
セタール類と反応させる方法(特開平2−49790号
)が知られている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】この従来法は、未だラ
クトン体やβ− ラクタム環の分解等による副生物の量
が多く、また目的物の収率が低いという欠点があった。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者等は上述の問題
点について鋭意研究を重ねた結果、7−ACAまたはそ
の塩と、低級アルコキシスルフォン酸を含む低級アルコ
ール溶液並びにホウ酸トリ低級アルキル及び/またはメ
チラール類を存在させ、反応させることにより、目的化
合物を従来法よりも高純度且つ高収率で製造できること
を見出し、本発明を完成した。
【0005】
【発明の構成】本発明は、式(I)
【0006】
【化3】
【0007】で示される7−アミノ−3−アセトキシメ
チル−3−セフェム−4−カルボン酸またはその塩と、
一般式R1 OSO3 Hで示される低級アルコキシス
ルフォン酸を含む低級アルコール(一般式R1 OH)
溶液並びに一般式B(OR1 )3 で示されるホウ酸
トリ低級アルキル及び/または一般式CH2 (OR1
 )2 で示されるメチラール類を存在させ、反応させ
ることを特徴とする 一般式(II)
【0008】
【化4】
【0009】[前記各一般式中のR1 は低級アルキル
基]で示される7−アミノ−3−アルコキシメチル−3
−セフェム−4−カルボン酸またはその塩の製法である
【0010】前記式(I)及び一般式(II)で示され
る化合物の塩とは、それらにおいて遊離に存在するカル
ボキシル基における塩またはアミノ基における酸付加塩
を意味し、カルボキシル基における塩としては、例えば
、アルカリ金属やアルカリ土類金属との塩、アンモニウ
ム塩、含窒素有機塩基との塩等が挙げられ、またアミノ
基における塩としては、塩酸、硫酸等の鉱酸との酸付加
塩、シュウ酸、ギ酸、トリクロル酢酸、トリフルオロ酢
酸等のカルボン酸との酸付加塩、メタンスルフォン酸、
トルエンスルフォン酸、ナフタレンスルフォン酸、メト
キシスルフォン酸等のスルフォン酸との酸付加塩等が挙
げられる。
【0011】本発明で用いられる一般式R1 OHで示
される低級アルコールのR1 基は、炭素数1乃至4の
アルキル基が挙げられ、その例としては、メチル、エチ
ル、プロピル及びブチル等の基を挙げることができ、そ
の低級アルコールの例としては、メチルアルコール、エ
チルアルコール、プロピルアルコール及びブチルアルコ
ール等が挙げられる。
【0012】一般式R1 OSO3 Hで示される低級
アルコキシスルフォン酸のR1 基は、前記の基と同義
であり、その低級アルコキシスルフォン酸の例としては
、メトキシスルフォン酸、エトキシスルフォン酸、プロ
ポキシスルフォン酸及びブトキシスルフォン酸等が挙げ
られる。
【0013】本発明に用いられる、一般式R1 OSO
3 Hで示される低級アルコキシスルフォン酸を含む低
級アルコール溶液とは、該低級アルコキシスルフォン酸
が主成分である低級アルコールとの混合物である。
【0014】当該低級アルコキシスルフォン酸を含む低
級アルコール溶液の製法は、クロルスルフォン酸または
無水硫酸1モルに対して、当倍モル以上、好ましくは2
倍モル以内の低級アルコールを反応させることにより得
られるが、その際、必要ならば、反応に悪影響を及ぼさ
ないような溶剤、例えば、ジクロルエタンのような有機
塩素系溶剤を加え、反応させ、クロルスルフォン酸を用
いた場合は、順次生成する塩化水素を窒素ガスなどにっ
て系外に十分に排出除去する。また、無水硫酸を用いた
場合は、クロルスルフォン酸を用いる場合よりも、より
低温で反応させることにより製造される。それぞれの場
合の反応温度および反応時間は、使用する原材料の種類
と量および副生物の生成を抑えるために種々異なるが、
大体−20℃〜70℃位で、数分乃至数十時間である。 通常、このような方法によっては、純粋な低級アルコキ
シスルフォン酸を単離することは難しく、低級アルコー
ルを過剰に存在させる方が、本発明で得られる目的化合
物を製造するためには適当である。しかしながら、クロ
ルスルフォン酸または無水硫酸1モルと当倍モルの低級
アルコールとの反応で得られた98%前後の低級アルコ
キシスルフォン酸と2%前後の低級アルコールとから成
る混合溶液を用いることによっても、本発明における目
的化合物を高純度高収率で製造することが出来る。
【0015】本発明の目的化合物を製造するために用い
られる低級アルコールは、低級アルコキシスルフォン酸
を含む低級アルコール溶液を製造するために用いられる
ものの他に、新たに低級アルコールを添加でき、7−A
CAに対する低級アルコールの総計使用量は特に限定さ
れないが、一般には当倍モル以上使用するのが好ましい
。しかし、当倍モル未満であっても従来法よりも比較的
収率良く、目的化合物を得ることができる。
【0016】本発明で用いられる低級アルコキシスルフ
ォン酸を含む低級アルコール溶液中の低級アルコキシス
ルフォン酸の7−ACAに対する使用量は特に限定され
ないが、一般には当倍モル乃至40倍モル使用され、3
倍モル乃至20倍モル使用するのが好ましい。低級アル
コキシスルフォン酸の使用量が当倍モルより少ない場合
には反応速度が遅くなり、また40倍モルより多い場合
には7−ACA及び反応で生成する目的化合物(II)
の分解が増進され、目的化合物(II)の収率が低下す
る。
【0017】本発明で用いられる一般式B(OR1 )
3 で示されるホウ酸トリ低級アルキルのR1 基は、
前記の基と同義であり、そのホウ酸トリ低級アルキルの
例としては、ホウ酸トリメチル、ホウ酸トリエチル、ホ
ウ酸トリプロピル及びホウ酸トリブチル等が挙げられる
【0018】本発明で用いられるホウ酸トリ低級アルキ
ル  の使用量は特に限定されないが、一般には7−A
CAに対して0. 1倍モル乃至30倍モル使用され、
0. 3倍モル乃至20倍モル使用するのが好ましい。
【0019】本発明で用いられる一般式CH2 (OR
1 )2 [R1 は前記の基と同義]で示されるメチ
ラール類は、公知の製法、例えば、パラホルムアルデヒ
ドを濃硫酸の存在下、一般式R1 OH[R1 基は前
記の基と同義]で示される低級アルコールと必要ならば
、反応に悪影響を及ぼさない有機溶剤、例えば低級アル
コール、アルカン類、ハロゲン化アルカン類及び芳香族
炭化水素類等を用いて反応させることによって製造する
ことができる。その際の反応温度及び反応時間は、低級
アルコール及び有機溶剤の種類および量等によって異な
るが、大体室温乃至150℃位並びに数分乃至数十時間
である。
【0020】本発明で用いられるCH2 (OR1 )
2 [R1 は前記の基と同義]で示されるメチラール
類としては、ホルムアルデヒドジ低級アルキルアセター
ルが挙げられ、その具体例としては、メチラール、エチ
ラール、ホルムアルデヒドジプロピルアセタール及びホ
ルムアルデヒドジブチルアセタール等が挙げられる。
【0021】本発明に用いられるメチラール類の使用量
は特に限定されないが、一般には7−ACAに対して0
. 2倍モル乃至30倍モル使用され、0. 5倍モル
乃至20倍モル使用するのが好ましい。
【0022】本発明で用いられるホウ酸トリ低級アルキ
ルとメチラール類の併用割合は任意であり、その合計量
がホウ酸トリ低級アルキルまたはメチラール類の通常用
いられる範囲の量であればよい。本発明方法の実施に際
し、有機溶媒の存在は不可欠ではないが、存在する方が
好ましい。
【0023】その有機溶媒としては、スルホラン、炭酸
エステル、エーテル類及び有機酸エステル(例えば、有
機モノカルボン酸エステル、有機ジカルボン酸エステル
)等が挙げられる。その具体例としては、スルホラン、
炭酸ジメチル、炭酸ジエチル、炭酸ジプロピル、炭酸ジ
ブチル、炭酸エチレン等の炭酸エステル、ジオキサン、
テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジイソプロピ
ルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル等の
エーテル類、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、
ギ酸ブチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、
酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル
、プロピオン酸ブチル、酪酸メチル、酪酸エチル、イソ
酪酸メチル、吉草酸メチル、イソ吉草酸エチル、メチル
エチル酢酸メチル、ピバリン酸メチル、アクリル酸メチ
ル、メタクリル酸メチル、クロトン酸メチル、イソクロ
トン酸メチル、プロピオール酸メチル、ジ酢酸エチレン
グリコール、シュウ酸ジエチル、マロン酸ジメチル、マ
ロン酸ジエチル、マロン酸ジブチル、コハク酸ジメチル
、アジピン酸ジメチル、アジピン酸ジエチル、アジピン
酸ジプロピル、アジピン酸ジブチル、グルタル酸ジメチ
ル、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、マレイ
ン酸ジプロピル、マレイン酸ジブチル、フマル酸ジメチ
ル、イタコン酸ジメチル、グルタコン酸ジメチル、アセ
チレンジカルボン酸ジメチル等の有機酸エステル等が挙
げられ、これらの有機溶媒を2種以上混合して用いるこ
ともできる。
【0024】また、反応に悪影響を及ぼさない限り他の
有機溶媒、例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル
等のニトリル類、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、トリフル
オロ酢酸等の有機カルボン酸類、ニトロメタン、ニトロ
エタン、ニトロプロパン等のニトロアルカン類、ジクロ
ルメタン、クロロホルム、ジクロルエタン、四塩化炭素
等のハロゲン化アルカン類、ジクロルエチレン、トリク
ロルエチレン等のハロゲン化アルケン類、n−ヘキサン
、ヘプタン等のアルカン類、シクロヘキサン等の脂環式
アルカン類等を使用することができ、またこれらの有機
溶媒を2種以上混合して用いることもできる。
【0025】本発明における反応温度に特に限定はない
が通常、−30℃〜80℃で行われ、−10℃乃至60
℃が好ましい。
【0026】本発明の反応に要する時間は主として、7
−ACA、低級アルコキシスルフォン酸を含む低級アル
コール溶液、ホウ酸トリ低級アルキルおよびメチラール
類の量、有機溶媒を使用した場合はその種類、反応温度
等によっても異なり、数分乃至数十時間である。
【0027】本発明方法において用いられる原材料の添
加順序は任意であるが、通常、7−ACAまたはその塩
をそのまま、またはこれを有機溶媒に懸濁または溶解さ
せたものを、低級アルコキシスルフォン酸を含む低級ア
ルコール溶液、低級アルコール、ホウ酸トリ低級アルキ
ル及び/またはメチラール類の混合系または更にこれに
有機溶媒を添加した系に添加するか、またはその逆に添
加する等の方法がある。
【0028】本発明方法の実施に際しては、用いられる
化合物、有機溶媒及び反応系中の水分は無水乃至出来る
だけ無水に近い状態で行うのが好ましい。
【0029】本発明で得られた目的化合物(II)は反
応終了後、反応混合物を水または氷に加えた後、反応混
合物のpHを調整して、析出する結晶を濾取するか、ま
たは析出前に所望の造塩基質を加えて中和し所望の塩と
して採取することができる。この結晶を水で洗った後、
減圧で乾燥することによって目的化合物(II)が得ら
れる。このものは必要ならばアンモニア水やアルカリ水
溶液または塩酸や硫酸に溶解した後、吸着剤(例えば活
性炭)で脱色して吸着剤を濾過後、濾液をpH調整する
か、または吸着樹脂等のカラムにかけて溶出させ、溶出
液をpH調整して、析出する結晶を濾取することによっ
て更に精製することができる。
【0030】更に、目的化合物(II)が遊離の形で採
取された場合は、必要に応じて常法により塩の形に変換
することができる。また、目的化合物(II)が塩の形
で採取された場合は、必要に応じて常法により遊離の形
に変換することもでき、更に得られた遊離の形を別の所
望の塩に変換することるできる。これらの変換はそれぞ
れの生成物を単離することなく、続けて行こうともでき
る。
【0031】以下に本発明で用いられる低級アルコキシ
スルフォン酸を含む低級アルコール溶液及びメチラール
類の合成方法を例を挙げて具体的に説明する。
【0032】[合成例1]メタノール40ml(1モル
)に15〜20℃でクロルスルフォン酸66m1(1モ
ル)を加えた後、生成する塩化水素を減圧化、60℃で
3時間加熱して除去すると98%のメトキシスルフォン
酸を含有するメトキシスルフォン酸のメタノール溶液1
12gが得られた。
【0033】[合成例2]メタノール48ml(1. 
2モル)に15〜20℃でクロルスルフォン酸66ml
(1モル)を加えた後、40℃に加熱して窒素ガスを4
時間通じて、生成する塩化水素を除去するとメトキシス
ルフォン酸のメタノール溶液118gが得られた。
【0034】[合成例3]メタノール30ml(0. 
75モル)を氷冷した後、クロルスルフォン酸33ml
(0. 5モル)を10℃で加え、窒素ガスを5時間通
じて、生成する塩化水素を除去するとメトキシスルフォ
ン酸のメタノール溶液63. 7gが得られた。
【0035】[合成例4]メタノール80ml(2モル
)に−5〜0℃で三酸化イオウ42ml(1モル)を加
えて反応させるとメトキシスルフォン酸のメタノール溶
液144gが得られた。
【0036】[合成例5]メタノール40mlにパラホ
ルムアルデヒド10g及び濃硫酸0. 4mlを加えて
加熱して5時間反応させた。反応後冷却し、30%水酸
化ナトリウム水溶液3mlを加えて、分留管を用  い
て清留するとメチラール20. 5gが得られた。
【0037】
【実施例】次に本発明方法を実施例を挙げて具体的に説
明するが、本発明方法はこれらによって限定されるもの
ではない。
【0038】7−アミノ−3−メトキシメチル−3−セ
フェム−4−カルボン酸の製法 [実施例1]スルホラン15mlに合成例2で得られた
メトキシスルフォン酸のメタノール溶液8. 94g及
びホウ酸トリメチル2. 10gを加えて20℃に冷却
した後、7−ACA2. 74gを加えて2  0℃で
1.5時間撹拌した。反応経過をHPLCでチェックし
た。反応終了後、反応混合物を砕氷中に投入し、次いで
アンモニア水を加えてp H3. 5に調整した。析出
した結晶を濾取し、水洗後乾燥すると粗7−アミノ−3
−メトキシメチル−3−セフェム−4−カルボン酸2.
 84gが得られた。この粗結晶をアンモニア水に溶解
した後p H7に調整した。この液を吸着カラム(ポリ
スチレン系ハイポーラスポリマー)にかけ、溶出液を塩
酸によりp H3. 5に調整した。析出した結晶を濾
取し、水洗後乾燥すると高純度の目的化合物2. 14
g(収率87%)が得られた。
【0039】[実施例2]炭酸ジメチル30mlに合成
例3で得られたメトキシスルフォン酸のメタノール溶液
22. 0g及びホウ酸トリメチル2. 10gを加え
て10℃に冷却した後、7−ACA2. 74gを加え
て10℃で1. 5時間撹拌した。反応終了後、反応混
合物を砕氷中に投入し、次いでアンモニア水を加えて、
pH3. 5に調整した。析出した結晶を濾取し、水洗
後乾燥すると粗7−アミノ−3−メトキシメチル−3−
セフェム−4−カルボン酸2. 80gが得られた。こ
の粗結晶に水を加え、次いでアンモニア水でpH8に調
整した後、活性炭で脱色した。活性炭を濾過し、塩酸に
よりpH3. 5に調整した。析出した結晶を濾取し、
水洗後乾燥すると高純度の目的化合物2. 11g(収
率86%)が得られた。
【0040】[実施例3]アジピン酸ジメチル20ml
に合成例4で得られたメトキシスルフォン酸のメタノー
ル溶液17. 90g及びホウ酸トリメチル1. 04
gを加えて15℃に冷却した後、7−ACA2. 74
gを加えて15℃で1. 5時間撹拌した。反応終了後
、反応混合物を以下、実施例2の方法に準じて処理する
と高純度の目的化合物2. 06g(収率84%)が得
られた。
【0041】[実施例4]マレイン酸ジメチル30ml
に合成例1で得られたメトキシスルフォン酸のメタノー
ル溶液11. 30g及びホウ酸トリメチル3. 11
gを加えて25℃に冷却した後、7−ACA2. 74
gを加えて25℃で1. 0時間撹拌した。反応終了後
、反応混合物を以下、実施例2の方法に準じて処理する
と高純度の目的化合物2. 04g(収率83%)が得
られた。
【0042】[実施例5]炭酸ジメチル25ml及び酢
酸メチル5mlに合成例2で得られたメトキシスルフォ
ン酸のメタノール溶液11. 90g及びホウ酸トリメ
チル3. 11gを加えて20℃に冷却した後、7−A
CA2. 74gを加えて20℃で1. 0時間撹拌し
た。反応終了後、反応混合物を以下、実施例2の方法に
準じて処理すると高純度の目的化合物2.06g(収率
84%)が得られた。
【0043】[実施例6]スルホラン15mlに合成例
2で得られたメトキシスルフォン酸のメタノール溶液1
1. 90g及びホウ酸トリメチル2. 10gを加え
て15℃に冷却した後、7−ACA2. 74gを加え
て15℃で1. 0時間撹拌した。反応終了後、反応混
合物を以下、実施例2の方法に準じて処理すると高純度
の目的化合物2. 16g(収率88%)が得られた。
【0044】[実施例7]スルホラン10ml及び酢酸
メチル5mlに合成例2で得られたメトキシスルフォン
酸のメタノール溶液11. 90g及びホウ酸トリメチ
ル2. 10g  を加えて20℃で冷却した後、7−
ACA2. 74gを加えて20℃で1. 0時間撹拌
した。反応終了後、反応混合物を以下、実施例2の方法
に準じて処理すると高純度の目的化合物2. 11g(
収率86%)が得られた。
【0045】[実施例8]合成例2で得られたメトキシ
スルフォン酸のメタノール溶液17. 90gにホウ酸
トリメチル15. 80gを加えて−5℃に冷却した後
、7−ACA2. 74gを加えて−5℃で5. 0時
間撹拌した。反応終了後、反応混合物を以下、実施例2
の方法に準じて処理すると高純度の目的化合物2. 0
4g(収率83%)が得られた。
【0046】[実施例9]ジオキサン10mlに合成例
1で得られたメトキシスルフォン酸のメタノール溶液1
7. 94g、ホウ酸トリメチル0. 31g及びメタ
ノール2. 31gを加えて0℃に冷却した後、7−A
CA2. 74gを加えて0℃で5. 0時間撹拌した
。反応終了後、反応混合物を以下、実施例2の方法に準
じて処理すると高純度の目的化合物2. 09g(収率
85%)が得られた。
【0047】[実施例10]ジオキサン3. 5mlに
合成例2で得られたメトキシスルフォン酸のメタノール
溶液20. 28g、ホウ酸トリメチル2. 20g及
びメタノール1. 15gを加えて−15℃に冷却した
後、7−ACA2. 74gをn−ヘキサン15mlに
懸濁させたスラリー液を加えて−6℃で5. 0時間撹
拌した。反応終了後、反応混合物を以下、実施例2の方
法に準じて処理すると高純度の目的化合物2. 11g
(収率86%)が得られた。
【0048】[実施例11]コハク酸ジメチル30ml
に合成例1で得られたメトキシスルフォン酸のメタノー
ル溶液17. 94g及び合成例5で得られたメチラー
ル6. 12gを加えて15℃に冷却した後、7−AC
A2. 74gを加えて15℃で1. 5時間撹拌した
。反応終了後、反応混合物を以下、実施例2の方法に準
じて処理すると高純度の目的化合物  2.04g(収
率83%)が得られた。
【0049】[実施例12]炭酸ジメチル30mlに合
成例2で得られたメトキシスルフォン酸のメタノール溶
液20. 28g、メタノール1. 77g及び合成例
5で得られたメチラール2. 30gを加えて10℃で
冷却した後、7−ACA2. 74gを加えて10℃で
1. 0時間撹拌した。反応終了後、反応混合物を以下
、実施例2の方法に準じて処理すると高純度の目的化合
物2. 01g(収率82%)が得られた。
【0050】[実施例13]スルホラン20mlに合成
例2で得られたメトキシスルフォン酸のメタノール溶液
16. 70g、ホウ酸トリメチル2. 18g及び合
成例5で得られたメチラール2. 45gを加えて10
℃に冷却した後、7−ACA2. 74gを加えて10
℃で1. 5時間撹拌した。反応終了後、反応混合  
物を以下、実施例2の方法に準じて処理すると高純度の
目的化合物1. 94g(収率79%)が得られた。
【0051】以下に従来法を追試した結果を示す。
【0052】[比較例1]7−ACA2. 74g、五
塩化アンチモン5. 42g、濃硫酸2. 07g、ホ
ウ酸トリメチル2. 07gをスルホラン20ml中に
入れ、0℃で7時間撹拌した。反応終了後、反応混合物
を以下、実施例2の方法に準じて処理すると目的化合物
0. 49g(収率20%)が得られた。
【0053】[比較例2]7−ACA2. 74g、塩
化亜鉛5. 83g、濃硫酸1. 04g、ホウ酸トリ
メチル5. 66gを酢酸メチル20mlに入れ、30
℃で6時間撹拌した。反応終了後、反応混合物を以下、
実施例2の方法に準じて処理すると目的化合物1.55
g(収率63%)が得られた。
【0054】[比較例3]7−ACA2. 74g、メ
タンスルフォン酸14. 68g、ホウ酸トリメチル1
. 89gをジクロルメタン20ml中に入れ、0℃で
5時間撹拌した。反応終了後、反応混合物を以下、実施
例2の方法に準じて処理すると目的化合物0. 27g
(収率11%)が得られた。
【0055】以上実施例および比較例を対比すれば明ら
かな如く、本発明方法が従来法に比べて優れていること
が分かる。
【0056】
【発明の効果】本発明によれば、7−ACAまたはその
塩から7−アミノ−3−アルコキシメチル−3−セフェ
ム−4−カルボン酸またはその塩を工業的に容易な操作
で、高純度且つ高収率で得る方法が提供される。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】式 【化1】 で示される7−アミノ−3−アセトキシメチル−3−セ
    フェム−4−カルボン酸またはその塩と、一般式R1 
    OSO3 H  で示される低級アルコキシスルフォン
    酸を含む低級アルコール(一般式R1 OH)溶液並び
    に一般式B(OR1 )3で示されるホウ酸トリ低級ア
    ルキル及び/または一般式CH2 (OR1 )2で示
    されるメチラール類を存在させ、反応させることを特徴
    とする一般式 【化2】 [前記各一般式中のR1 は低級アルキル基]で示され
    る7−アミノ−3−アルコキシメチル−3−セフェム−
    4−カルボン酸またはその塩の製法。
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