JPS59163387A - 3−アルコキシメチルセフアロスポリンの製造方法 - Google Patents
3−アルコキシメチルセフアロスポリンの製造方法Info
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- JPS59163387A JPS59163387A JP3715283A JP3715283A JPS59163387A JP S59163387 A JPS59163387 A JP S59163387A JP 3715283 A JP3715283 A JP 3715283A JP 3715283 A JP3715283 A JP 3715283A JP S59163387 A JPS59163387 A JP S59163387A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は3−アルコキシメチルセファロスポリンの!!
!遣方法に関するものである。更に詳しくは、本発明は
式(■) で示される1−アミノ−3−アセトキシメチル−3−セ
フェム−4−カルボン酸IJ、下、7−ACAという)
またはその塩にスルフォン酸類の存在下、低級アルコー
ルを反応させることを特徴とする 一般式(n) 品 〔式中、Rは低級アルキル基を#わす。〕で示される3
−アルコキシメチルセファロスポリンまたはその塩の製
造方法にiカするものであろ。
!遣方法に関するものである。更に詳しくは、本発明は
式(■) で示される1−アミノ−3−アセトキシメチル−3−セ
フェム−4−カルボン酸IJ、下、7−ACAという)
またはその塩にスルフォン酸類の存在下、低級アルコー
ルを反応させることを特徴とする 一般式(n) 品 〔式中、Rは低級アルキル基を#わす。〕で示される3
−アルコキシメチルセファロスポリンまたはその塩の製
造方法にiカするものであろ。
一般式(ジで示されろ3−アルコキシメチルセファロス
ポリン誘導体およびその塩は、種々の抗菌作用を有する
セファロスポリン系抗生物質の原料物質として重要なも
のである。
ポリン誘導体およびその塩は、種々の抗菌作用を有する
セファロスポリン系抗生物質の原料物質として重要なも
のである。
一般式(II)で示される3−アルコキシメチルセファ
ロスポリン誘導体の製造法としてはa) 3−アセト
キシメチル体を低級アルコールと反応させる方法(特公
昭50−10873号)b)3−ヒドロキンメチル体を
アルキル化する方法(tF+公昭50−10873号)
c) 3−ハロメチル体を低級アルコールと反応させ
る方法(特公昭5G−10872号)d) 3−ハロ
アセトキシメチル体を低級アルコールと反応させる方法
(特公昭5G−10872号) リ Δ−3−ハロメチル体を低級アルコールド反応させ
た後73体に異性化する方法(J、Med。
ロスポリン誘導体の製造法としてはa) 3−アセト
キシメチル体を低級アルコールと反応させる方法(特公
昭50−10873号)b)3−ヒドロキンメチル体を
アルキル化する方法(tF+公昭50−10873号)
c) 3−ハロメチル体を低級アルコールと反応させ
る方法(特公昭5G−10872号)d) 3−ハロ
アセトキシメチル体を低級アルコールと反応させる方法
(特公昭5G−10872号) リ Δ−3−ハロメチル体を低級アルコールド反応させ
た後73体に異性化する方法(J、Med。
Ohem、14 、113 (1971) )などが知
られているが、いずれも工業的規模での製造方法として
は満足しりるものではない。
られているが、いずれも工業的規模での製造方法として
は満足しりるものではない。
すなわちa)法は例えば特公昭50−10813号の例
1に記述さ゛れている如く収率が極めて低い上分離精製
が困難である。
1に記述さ゛れている如く収率が極めて低い上分離精製
が困難である。
b)法はアルキル化剤としてジアゾメタンを三弗化ホウ
素の存・布下反応させる吟に好収率で得られるが、この
方法では3−アセトキシメチル基を−H3−ヒドロキシ
メチル基に変えねばならナイこと、4位のカルボキシル
基を保獲する必要があること、ジアゾメタンを大量に使
用することは食性、危険性の面から問題があることなど
が問題である。
素の存・布下反応させる吟に好収率で得られるが、この
方法では3−アセトキシメチル基を−H3−ヒドロキシ
メチル基に変えねばならナイこと、4位のカルボキシル
基を保獲する必要があること、ジアゾメタンを大量に使
用することは食性、危険性の面から問題があることなど
が問題である。
C)法は原料化合物となる3−110メチル体の製造が
特公昭50−10872号、218頁にも記述されてい
る如く工業的に入手し得る3−アセトキシメチル基から
2工程を要すること(実質的にはカルボキシル基を保藤
するために3工程(前記特許実施例8参照))であり且
つ3−ハロメチル体とアルコールとの反応収率か必すし
もよくない。
特公昭50−10872号、218頁にも記述されてい
る如く工業的に入手し得る3−アセトキシメチル基から
2工程を要すること(実質的にはカルボキシル基を保藤
するために3工程(前記特許実施例8参照))であり且
つ3−ハロメチル体とアルコールとの反応収率か必すし
もよくない。
d)’/;::もC琺と同様に原料となる3 −7%
Oアセトキシメチル体の製造に3−アセトキシメチル体
から3〜4工程要することとアルコールとの反応収率が
悪い。
Oアセトキシメチル体の製造に3−アセトキシメチル体
から3〜4工程要することとアルコールとの反応収率が
悪い。
り法はΔ3−3−メチル体をΔ2−3−メチル体に異性
化した後、ハロゲン化してj−3−ハロメチル体となし
、これを原料として低級アルコールとの反応を行ない、
再び3−セフェム体に戻すため工程が長い。
化した後、ハロゲン化してj−3−ハロメチル体となし
、これを原料として低級アルコールとの反応を行ない、
再び3−セフェム体に戻すため工程が長い。
このような状況のため、3位にアルコキシメチル基を有
するセファロスポリンの中に有用な化合物が見出されて
も実用化することは困難である。
するセファロスポリンの中に有用な化合物が見出されて
も実用化することは困難である。
この門灯(点について、本発明者らは鋭意研究を重ねた
六、百果、原料化合物<1)またはその塩にスルフォン
& OBIの存在下低級アルコールを反応させることに
よシ、目的化合物(IDが一工程で比較的収率よく製造
されることを見出し、更に本反応について検討を重ねて
本発明を完成するに至った。
六、百果、原料化合物<1)またはその塩にスルフォン
& OBIの存在下低級アルコールを反応させることに
よシ、目的化合物(IDが一工程で比較的収率よく製造
されることを見出し、更に本反応について検討を重ねて
本発明を完成するに至った。
即ち、本発明の目的とするところは、優れた抗菌作用を
有するセファロスポリン系化合物の重要な中間体である
前記式叩を有する化合物またはその塩を前記式(1)を
有する7−ACAまたはその塩から工業的に容易な操作
で且つ高純度で得る方法を提供することにある。
有するセファロスポリン系化合物の重要な中間体である
前記式叩を有する化合物またはその塩を前記式(1)を
有する7−ACAまたはその塩から工業的に容易な操作
で且つ高純度で得る方法を提供することにある。
本発明の方法に用いられるスルフォン酸類は工業的にも
入手性が優れ、且つこれを使用する方法は反応溶媒およ
び反応装゛次に対する制限が緩和であシ、反応過程およ
び後処理工程での取扱いが容易であるという利点も有す
る。
入手性が優れ、且つこれを使用する方法は反応溶媒およ
び反応装゛次に対する制限が緩和であシ、反応過程およ
び後処理工程での取扱いが容易であるという利点も有す
る。
前記式(I)および0)で示される化合物の塩とはそれ
らにおいて遊離に存在するカルボキシル基における塩ま
たはアミノ基における酸付加塩をiKし、カルボキシル
基における塩としては例えばナトリウム、カリウムなど
のアルカリ金属との塩;カルシウム、マグネシウムなど
のアルカリ土類金属との塩;アンモニウム塩;トリエチ
ルアミン、ターシャリ−オクチルアミン、ジエチルアミ
ン、ピリジン、N−メチルビペリジン、N−メチルモル
ホリン、N、N−ジメチルアニリンなどの含窒素有イ賎
塩基との塩があげられ、またアミン基における塩として
は、塩酸、硫酸などの鉱酸との酸付加塩二ンユウ酸、ギ
酸、トリクロル+酢7 、トリフルオル酢酸などのカル
ボン酸との酸伺加塩;メタンスルフォン酸、トルエンス
ルフォン酸、ナフタレンスルフォン酸などのスルフォン
酸との酸付加塩があげられる。
らにおいて遊離に存在するカルボキシル基における塩ま
たはアミノ基における酸付加塩をiKし、カルボキシル
基における塩としては例えばナトリウム、カリウムなど
のアルカリ金属との塩;カルシウム、マグネシウムなど
のアルカリ土類金属との塩;アンモニウム塩;トリエチ
ルアミン、ターシャリ−オクチルアミン、ジエチルアミ
ン、ピリジン、N−メチルビペリジン、N−メチルモル
ホリン、N、N−ジメチルアニリンなどの含窒素有イ賎
塩基との塩があげられ、またアミン基における塩として
は、塩酸、硫酸などの鉱酸との酸付加塩二ンユウ酸、ギ
酸、トリクロル+酢7 、トリフルオル酢酸などのカル
ボン酸との酸伺加塩;メタンスルフォン酸、トルエンス
ルフォン酸、ナフタレンスルフォン酸などのスルフォン
酸との酸付加塩があげられる。
要するに反応に際し溶媒に溶解する塩または反応後目的
物を採取するのに適した塩であればどのような塩でもよ
い。
物を採取するのに適した塩であればどのような塩でもよ
い。
本発明の方法ておいて最も重要な点は、スルフォン酸類
の存在下反応させることである。スルフォン酸類が存在
しない場合には前述の特公昭50−10873号から明
らかな如く極めて反応収率が悪い。一方スルフオン酸頌
の存在下反応を行なうと、反応は円滑に進行し反応収率
が上昇することを見出した。
の存在下反応させることである。スルフォン酸類が存在
しない場合には前述の特公昭50−10873号から明
らかな如く極めて反応収率が悪い。一方スルフオン酸頌
の存在下反応を行なうと、反応は円滑に進行し反応収率
が上昇することを見出した。
本発明の方法において縮合試薬として使用されるスルフ
ォン酸類とは、反応に悪影響を及ぼさない全てのスルフ
ォン酸が含まれるが、反応を速かに進行させるためには
強い酸性を有するスルフォン酸の使用が好ましく、その
ようなスルフォン酸としては一般式 %式%(2) (式中 R1は有機基、ハロゲン原子またけヒドロキシ
ル基を示す。)で示されるスルフォン酸である。Rが有
イ幾基である化合物としては例えばメタンスルフォン酸
、エタンスルフォン酸のようなアルキルスルフォン酸人
q;メトキシスルン酸のようなアリールオキシスルフォ
ン酸類;トリフルオルメタンスルフォン酸のようなハロ
ゲン置換アルキルスルフォン′酸類:スルフォン酸型強
酸性陽イオン交換樹脂等、R1がハロゲン原子である化
合物としては例えばクロルスルフォン酸、フルオルスル
フォン酸、ブロムスルフォン酸などのハロゲンスルフォ
ン酸等、そしてR1がヒドロキシル基である化合物とし
ては硫酸があけられる。あるいは式(2)を有するスル
フォン酸の誘導体としてジメチル硫酸、ジエチル硫關の
ようなジアルキル硫酸;トリフルオルメタンスルフォニ
ルトリメチルシリルエーテルのようなエーテル化合物も
自まれる。史に、以上の化合物を各4鬼担体に保持した
ものも含まれる。
ォン酸類とは、反応に悪影響を及ぼさない全てのスルフ
ォン酸が含まれるが、反応を速かに進行させるためには
強い酸性を有するスルフォン酸の使用が好ましく、その
ようなスルフォン酸としては一般式 %式%(2) (式中 R1は有機基、ハロゲン原子またけヒドロキシ
ル基を示す。)で示されるスルフォン酸である。Rが有
イ幾基である化合物としては例えばメタンスルフォン酸
、エタンスルフォン酸のようなアルキルスルフォン酸人
q;メトキシスルン酸のようなアリールオキシスルフォ
ン酸類;トリフルオルメタンスルフォン酸のようなハロ
ゲン置換アルキルスルフォン′酸類:スルフォン酸型強
酸性陽イオン交換樹脂等、R1がハロゲン原子である化
合物としては例えばクロルスルフォン酸、フルオルスル
フォン酸、ブロムスルフォン酸などのハロゲンスルフォ
ン酸等、そしてR1がヒドロキシル基である化合物とし
ては硫酸があけられる。あるいは式(2)を有するスル
フォン酸の誘導体としてジメチル硫酸、ジエチル硫關の
ようなジアルキル硫酸;トリフルオルメタンスルフォニ
ルトリメチルシリルエーテルのようなエーテル化合物も
自まれる。史に、以上の化合物を各4鬼担体に保持した
ものも含まれる。
反応に使用されるスルフォン酸類の使用量は用いられる
スルフォン酸の種tA1反応条件などによって異なるが
、一般には出発物質に対して当モル乃至20倍モル、通
常は過剰赦が使用される。ま7′c、?tj合試薬とし
ては二種以上のスルフォン酸ヲ混合して使用してもよい
。
スルフォン酸の種tA1反応条件などによって異なるが
、一般には出発物質に対して当モル乃至20倍モル、通
常は過剰赦が使用される。ま7′c、?tj合試薬とし
ては二種以上のスルフォン酸ヲ混合して使用してもよい
。
本発明の方法で使用される低級アルコールとしてはメチ
ルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール
、イングロビルアルコール、ブチルアルコールなどのよ
うな炭素数1〜501〜3級アルコールがあげられる。
ルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール
、イングロビルアルコール、ブチルアルコールなどのよ
うな炭素数1〜501〜3級アルコールがあげられる。
反応は7Iil承適当な溶媒中で行われる。このような
溶媒と、しては、反応に悪影響を及はさないものであれ
ば特に限定はなく、例えば反応に使用する低級アルコー
ルをそのまま使用できる他、アセトニトリル、プロピオ
ニトリルなどのニトリ/I/W4:ギ酸、酢酸、プロピ
オン酸、トリフルオル酢酸などの有機カルボン酸頑;ジ
オキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジ
イソプロピルエーテル、エチレングリコールジメチルエ
ーテルなどのエーテル類;ニトロメタン、ニトロエタン
、ニトロプロパンなどのニトロアルカン’JA ;アセ
トン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンな
どのアルキルケトン類;ジクロルメタン、クロロホルム
、ジクロルエタン、四塩化炭素などのハロゲン化アルカ
ン類;ジクロルエチレン、トリクロルエチレンなどのハ
ロゲン化アルケン類;ホルムアミド、ジメチルホルムア
ミド、アセトアミドなどの酸アミド類;ヘンゼン、トル
エン、クロルベンゼン、ニトロベンゼンなどの芳香族ア
ルカン類;n−ヘキサン、ヘプタンなどのアルカン類;
シクロヘキサンなどの脂環式アルカン類:スルホラン;
またはジメチルスルホキシド等があげられる。
溶媒と、しては、反応に悪影響を及はさないものであれ
ば特に限定はなく、例えば反応に使用する低級アルコー
ルをそのまま使用できる他、アセトニトリル、プロピオ
ニトリルなどのニトリ/I/W4:ギ酸、酢酸、プロピ
オン酸、トリフルオル酢酸などの有機カルボン酸頑;ジ
オキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジ
イソプロピルエーテル、エチレングリコールジメチルエ
ーテルなどのエーテル類;ニトロメタン、ニトロエタン
、ニトロプロパンなどのニトロアルカン’JA ;アセ
トン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンな
どのアルキルケトン類;ジクロルメタン、クロロホルム
、ジクロルエタン、四塩化炭素などのハロゲン化アルカ
ン類;ジクロルエチレン、トリクロルエチレンなどのハ
ロゲン化アルケン類;ホルムアミド、ジメチルホルムア
ミド、アセトアミドなどの酸アミド類;ヘンゼン、トル
エン、クロルベンゼン、ニトロベンゼンなどの芳香族ア
ルカン類;n−ヘキサン、ヘプタンなどのアルカン類;
シクロヘキサンなどの脂環式アルカン類:スルホラン;
またはジメチルスルホキシド等があげられる。
これらの溶媒は2種以上混合して用いることもできる。
また試薬として使用されろスルフォン酸類が反応温度で
液体である場合ては、それ自体を溶媒として使用するこ
ともできる。そして、これらの溶媒は実質的に無水の状
態で使用するのが好ましい。
液体である場合ては、それ自体を溶媒として使用するこ
ともできる。そして、これらの溶媒は実質的に無水の状
態で使用するのが好ましい。
反応温度に特に限定はなく通常反応は一30℃乃至80
℃、特に低温で行うのが好ましいがそれ以上またはそれ
以下でも反応は進行する。
℃、特に低温で行うのが好ましいがそれ以上またはそれ
以下でも反応は進行する。
反応に要する時間は主として出発物質、試薬、溶媒等の
fIE頃、試薬の級、反応温度等によっても異なp数分
乃至数十時間である。
fIE頃、試薬の級、反応温度等によっても異なp数分
乃至数十時間である。
反応終了後、目的化合物は常法によって反応混合物から
採取される。例えば反応混合物に氷水を加えた後、反応
混合物の液性をpH3〜4ま和し所望の塩として採取す
ることができる。この結晶を水で洗った後減圧で乾燥す
ることによりで目的化合物が得られる。このものは必要
ならば常法例えば再沈澱法等によって更に精製すること
ができる。
採取される。例えば反応混合物に氷水を加えた後、反応
混合物の液性をpH3〜4ま和し所望の塩として採取す
ることができる。この結晶を水で洗った後減圧で乾燥す
ることによりで目的化合物が得られる。このものは必要
ならば常法例えば再沈澱法等によって更に精製すること
ができる。
なお、原料化合物の前記式(1)を有する7−ACAが
塩である場合に、目的化合物の前記一般式(nJを有す
る化合物の塩は、反応条件等の影響によシ原料化合物の
塩とは異なる塩の形で採取されることがある。
塩である場合に、目的化合物の前記一般式(nJを有す
る化合物の塩は、反応条件等の影響によシ原料化合物の
塩とは異なる塩の形で採取されることがある。
虹に、前記一般式(IIJを有する化合物が遊離の形で
採取された場合は、必要に応じて常法により塩の形に変
換することができる。また、前記一般式(IDを有する
化合物が塩の形で採取された場合は、必要に応じて常法
によシ遊離の形に変換することもでき、更に待られた遊
1ξ1!−の形を別の所望の塩に変換することもできる
。これらの変換はそれぞれの生成物を単1iiiするこ
となく、続けて行なうこともできる。
採取された場合は、必要に応じて常法により塩の形に変
換することができる。また、前記一般式(IDを有する
化合物が塩の形で採取された場合は、必要に応じて常法
によシ遊離の形に変換することもでき、更に待られた遊
1ξ1!−の形を別の所望の塩に変換することもできる
。これらの変換はそれぞれの生成物を単1iiiするこ
となく、続けて行なうこともできる。
次に本発明の方法を実施例をあげて具体的に説明するが
、本発明の方法はこれrよって限定されるものではない
。
、本発明の方法はこれrよって限定されるものではない
。
実施例1 γ−アミノー3−メトキシメチルー3−セフ
ェム−4−カルボンh5? 1)1−アミノ−3−アセトキシメチル−3−セフェム
−4−カルボン酸(7−AOA)5.41にメタノール
085m〆およびジクロルメタン30mt;を加えて冷
却した後、メタンスルフォン酸7.8rniを加えた。
ェム−4−カルボンh5? 1)1−アミノ−3−アセトキシメチル−3−セフェム
−4−カルボン酸(7−AOA)5.41にメタノール
085m〆およびジクロルメタン30mt;を加えて冷
却した後、メタンスルフォン酸7.8rniを加えた。
反応混合物を14〜17℃で2時間撹拌した。反応終了
後、反応混合物を氷水中に注入し、次いで10%水酸化
ナトリウム水溶液を加えてpH3,5に調整した。生成
した結晶8F取し、冷水で洗浄後、乾燥すると粗7−ア
ミノー3−メトキシメチル−3−セフェム−4−カルボ
ン−7・メタンスルフォン酸塩2.61が礼゛られた。
後、反応混合物を氷水中に注入し、次いで10%水酸化
ナトリウム水溶液を加えてpH3,5に調整した。生成
した結晶8F取し、冷水で洗浄後、乾燥すると粗7−ア
ミノー3−メトキシメチル−3−セフェム−4−カルボ
ン−7・メタンスルフォン酸塩2.61が礼゛られた。
NMRスペクトル(OF Coon、δ’ppm)3.
1 2(3H、S 、0H6So、H)3、63 (
3H、S 、 −0H200H,)3.77(2H,S
、2位の −C皆、−)4、86 (2Hj19 、−
C!H20(:!H5)s、43(2m、s、s位およ
び1泣のH)工R7,ペクト/l/ (1/NujOt
cm ′1)aX 3160 (−NH2) 1soo(、:c−o、β−ラクタム)1 s 2 o
(−000H) 1s4o−:1520(−NH2> 11 g g (0H3EIO3H) 1100 (−0H2QC!H3) 2)1)で得られた粗T−アミノー3−メトキシメチル
−3−セフェム−4−カルボン酸・メタンスルフォン酸
塩を水15m1に懸濁し、次いで塩酸を加えて溶解した
後、10チ水酸化ナトリウム水溶液を加えてpH3,5
に調整した。析出する結晶を炉取し、水洗後乾燥すると
表記化合物1.48 fが得られた。
1 2(3H、S 、0H6So、H)3、63 (
3H、S 、 −0H200H,)3.77(2H,S
、2位の −C皆、−)4、86 (2Hj19 、−
C!H20(:!H5)s、43(2m、s、s位およ
び1泣のH)工R7,ペクト/l/ (1/NujOt
cm ′1)aX 3160 (−NH2) 1soo(、:c−o、β−ラクタム)1 s 2 o
(−000H) 1s4o−:1520(−NH2> 11 g g (0H3EIO3H) 1100 (−0H2QC!H3) 2)1)で得られた粗T−アミノー3−メトキシメチル
−3−セフェム−4−カルボン酸・メタンスルフォン酸
塩を水15m1に懸濁し、次いで塩酸を加えて溶解した
後、10チ水酸化ナトリウム水溶液を加えてpH3,5
に調整した。析出する結晶を炉取し、水洗後乾燥すると
表記化合物1.48 fが得られた。
NMRスペクトル(OF C0OH,δ’ ppm)3
、63 (3H、S 、 −0H20CR,)3.77
(2H,S、2位の−C!H2−)4、 B 6 (2
H、S 、 −OH,,0OH3)5.43(2H,S
、6位および7位のH)■Rスヘクトル(シNu−〇L
C「1)maX 3160 (−4JH2) 1aooにc=o、β−ラクタム) 1620 (−000H) 1540〜1520(−NH2) 1100 C−0H200H3) 元紮分析11龜 C2H1204N2Sとして言1拉1
匿0,44.26:I(,4,95;N、11.47;
Sj 13.12 実測値0,43.93;H,4,82;Njll、23
;F3,13.13 実施例21−アミノ−3−メトキシメチル−3−セフェ
ム−4−カルボンh4 7−アミノ−3−アセトキンメチル−3−セフェム−4
−カルボン酸(7−ACA) 0.27 fにメタノー
ル0.4 mlおよびジクロルメタン22m1を加え冷
却した後、伯1波0.49 fを加えた。反応混合物を
10℃で撹拌した。反応経過をHPLC!でチェックし
た。反応終了後、反応混合物を以下、実施例1の1)お
よび2)の方法に準じて処理すると表記化合物o、os
rが得られた。
、63 (3H、S 、 −0H20CR,)3.77
(2H,S、2位の−C!H2−)4、 B 6 (2
H、S 、 −OH,,0OH3)5.43(2H,S
、6位および7位のH)■Rスヘクトル(シNu−〇L
C「1)maX 3160 (−4JH2) 1aooにc=o、β−ラクタム) 1620 (−000H) 1540〜1520(−NH2) 1100 C−0H200H3) 元紮分析11龜 C2H1204N2Sとして言1拉1
匿0,44.26:I(,4,95;N、11.47;
Sj 13.12 実測値0,43.93;H,4,82;Njll、23
;F3,13.13 実施例21−アミノ−3−メトキシメチル−3−セフェ
ム−4−カルボンh4 7−アミノ−3−アセトキンメチル−3−セフェム−4
−カルボン酸(7−ACA) 0.27 fにメタノー
ル0.4 mlおよびジクロルメタン22m1を加え冷
却した後、伯1波0.49 fを加えた。反応混合物を
10℃で撹拌した。反応経過をHPLC!でチェックし
た。反応終了後、反応混合物を以下、実施例1の1)お
よび2)の方法に準じて処理すると表記化合物o、os
rが得られた。
NMRスペクトルおよび工Rスペクトルは、実施例1で
得られたものと同じであった。
得られたものと同じであった。
実Fa例3 ’7−アミノー3−メトキシメチル−3−
セフェム−4−カルボン酸 1−アミノ−3−アセトキンメチル−3−セフェム−4
−カルボン酸(7−A CA ) 0.54’ fにメ
タノール0.49mAおよびトリクロルエチレン5 m
Aを加えて冷却した後、メタンスルフォン酸11rLi
を加えた。反応混合物を冷蔵庫(−8℃)中に24時間
放置した。反応Al1−1後、反応混合物を以下、実施
例1の1)および2)の方法に準じて処理すると表記化
合□’lq O,2yが萄られた。
セフェム−4−カルボン酸 1−アミノ−3−アセトキンメチル−3−セフェム−4
−カルボン酸(7−A CA ) 0.54’ fにメ
タノール0.49mAおよびトリクロルエチレン5 m
Aを加えて冷却した後、メタンスルフォン酸11rLi
を加えた。反応混合物を冷蔵庫(−8℃)中に24時間
放置した。反応Al1−1後、反応混合物を以下、実施
例1の1)および2)の方法に準じて処理すると表記化
合□’lq O,2yが萄られた。
NMRスペクトルおよび工Rスペクトルは、実施例1で
得られたものと同じであった。
得られたものと同じであった。
実施例4 T−アミノ−3−メトキシメチル−3−セフ
ェム−4−カルボンj浚 γ−アミノー3−アセトキンメチル−3−セフェム−4
−カルボン酸(7−ACA ) 2.72 tを四塩化
炭素13.6mAおよびメタノール2.05m/4に加
えて一20℃に冷却した後、エタンスルフォン酸9.8
n113を加えた。反応混合物を冷蔵庫中(−8℃)
に41,5時間数作[7た。反応終了後、反応混合物を
砕氷中に投入し、次し)で10%水酸化ナトリウム水溶
液を加えてpH3,5に調整した。
ェム−4−カルボンj浚 γ−アミノー3−アセトキンメチル−3−セフェム−4
−カルボン酸(7−ACA ) 2.72 tを四塩化
炭素13.6mAおよびメタノール2.05m/4に加
えて一20℃に冷却した後、エタンスルフォン酸9.8
n113を加えた。反応混合物を冷蔵庫中(−8℃)
に41,5時間数作[7た。反応終了後、反応混合物を
砕氷中に投入し、次し)で10%水酸化ナトリウム水溶
液を加えてpH3,5に調整した。
生成した結晶を調毛し、冷水で洗浄後、乾燥すると11
.7−アミノ−3−メトキシメチル−3−セフェム−4
−カルボン酸・エタンスルフォンlρ塩117グが得ら
れた。
.7−アミノ−3−メトキシメチル−3−セフェム−4
−カルボン酸・エタンスルフォンlρ塩117グが得ら
れた。
上8己で得られた1且7−アミノ−3−メトキシメチル
−3−セフェム−4−カルボン酸・エタンスルフォンL
ik KA L O?に氷水5 m13を加え、次いで
拶拌下で塩酸1 nt13を加えて溶解した0反応混合
物に活性炭02グを加えて脱色濾過し、得られたP液に
20饅水酸化すl−IJウム水溶液を加えてpH3,5
に調Y−シた。析出する結晶を沢取し、水洗後乾燥する
と表記化合物0.57 rが得られた。
−3−セフェム−4−カルボン酸・エタンスルフォンL
ik KA L O?に氷水5 m13を加え、次いで
拶拌下で塩酸1 nt13を加えて溶解した0反応混合
物に活性炭02グを加えて脱色濾過し、得られたP液に
20饅水酸化すl−IJウム水溶液を加えてpH3,5
に調Y−シた。析出する結晶を沢取し、水洗後乾燥する
と表記化合物0.57 rが得られた。
NMRスペクトルおよび工Rスペクトルは、実施例1で
得られたものと同じであった。
得られたものと同じであった。
実施例57−アミノ−3−メトキシメチル−3−セフェ
ム−4−カルボン酸 トリフルオルメタンスルフォン酸21.6 yにメタノ
ール2.051d3 f、<氷水冷却下で加えて混合し
た。
ム−4−カルボン酸 トリフルオルメタンスルフォン酸21.6 yにメタノ
ール2.051d3 f、<氷水冷却下で加えて混合し
た。
上記の溶液を、7−アミノ−3−アセトキシメチル−3
−セフェム−4−カルボン酸(7’a A) 2.’7
2 ?f四塩化炭素18 yrteK %3fp3し、
−15℃に冷却した溶液に加えた。反応混合物を冷蔵庫
(−8℃)中に放置した。反応混合物を24時間後に、
HPLC!を用いて分析した結果、表記化合物が25%
の収率で生成されていることを確認した。
−セフェム−4−カルボン酸(7’a A) 2.’7
2 ?f四塩化炭素18 yrteK %3fp3し、
−15℃に冷却した溶液に加えた。反応混合物を冷蔵庫
(−8℃)中に放置した。反応混合物を24時間後に、
HPLC!を用いて分析した結果、表記化合物が25%
の収率で生成されていることを確認した。
実施例67−アミノ−3−メトキンメチル−3−セフェ
ム−4−カルボン酸 7−アミノ−3−アセトvジメチル−3−セフエムー4
−カルボンHO,2γ1にジクロルメタン2.2 mA
!およびメタノール0.2厩を加え、次いで10〜12
℃でエチル硫酸063fを加えた。
ム−4−カルボン酸 7−アミノ−3−アセトvジメチル−3−セフエムー4
−カルボンHO,2γ1にジクロルメタン2.2 mA
!およびメタノール0.2厩を加え、次いで10〜12
℃でエチル硫酸063fを加えた。
反応混合物を250分りにHPLOを用いて分析した結
果、表記化合物が13.6%の収率で生成されているこ
とを確認した。
果、表記化合物が13.6%の収率で生成されているこ
とを確認した。
実施例7 T−アミノ−3−メトキシメチル−3−セフ
ェム−4−カルボン酸 25t16発煙硫酸102そジクロルエチレン136N
に混合し、次いで冷却下でメタノール2Nを滴加した。
ェム−4−カルボン酸 25t16発煙硫酸102そジクロルエチレン136N
に混合し、次いで冷却下でメタノール2Nを滴加した。
上記の溶液を、T−アミノ−3−アセトキシメチル−3
−セフェム−4−カルボン酸(T−AOA ) 2.7
2 fをジクロルエチレン13.ξmBおよびメタノー
ル2.05m/に溶解した溶液に二30℃で加え、次い
で冷蔵庫(−8℃)中に放置した。反応混合物を16時
間後に、HPLOを用いて分析した結果、表記化合物が
25.1%の収率で生成されていることを確認した。
−セフェム−4−カルボン酸(T−AOA ) 2.7
2 fをジクロルエチレン13.ξmBおよびメタノー
ル2.05m/に溶解した溶液に二30℃で加え、次い
で冷蔵庫(−8℃)中に放置した。反応混合物を16時
間後に、HPLOを用いて分析した結果、表記化合物が
25.1%の収率で生成されていることを確認した。
手続補正書(自発)
昭和59年4月lθ日
適
特許庁長官 若 杉 和 夫殿
1、事件の表示
昭和58年特許願第3715’2号
2、発明の名称
3−アルコキシメチルセファロスポリンの製造方法3、
補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 〒103東京都中央区日本橋本町3丁目1番地の
6名称 (185)三共株式会社 代表者 取締役社長 河村喜典 4、代理人 居所 〒140東京部品川区広町1丁目2番58号三共
株式会社内 1、 明細書第10頁5行の 「有機カルボン酸類」全「有機カル−?ン酸およびその
エステル類」と訂正するO 以上
補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 〒103東京都中央区日本橋本町3丁目1番地の
6名称 (185)三共株式会社 代表者 取締役社長 河村喜典 4、代理人 居所 〒140東京部品川区広町1丁目2番58号三共
株式会社内 1、 明細書第10頁5行の 「有機カルボン酸類」全「有機カル−?ン酸およびその
エステル類」と訂正するO 以上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 式 で示されるγ−アミノー3−アセトキシメチル−3−セ
フェム−4−カルボン酸またはそメ塩〔式中、Rは低級
アルキル基を示す。〕で示される3−アルコキシメチル
セファロスポリンまたはその塩の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3715283A JPS59163387A (ja) | 1983-03-07 | 1983-03-07 | 3−アルコキシメチルセフアロスポリンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3715283A JPS59163387A (ja) | 1983-03-07 | 1983-03-07 | 3−アルコキシメチルセフアロスポリンの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59163387A true JPS59163387A (ja) | 1984-09-14 |
JPH0454674B2 JPH0454674B2 (ja) | 1992-08-31 |
Family
ID=12489631
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3715283A Granted JPS59163387A (ja) | 1983-03-07 | 1983-03-07 | 3−アルコキシメチルセフアロスポリンの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59163387A (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0204657A2 (en) * | 1985-06-03 | 1986-12-10 | BIOCHEMIE Gesellschaft m.b.H. | Process for the production of 7-aca derivatives |
US4902793A (en) * | 1986-10-02 | 1990-02-20 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Process for preparing 3-alkoxymethylcephalosporins |
US5034521A (en) * | 1988-05-24 | 1991-07-23 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Process for preparing 3-substituted methyl-3-cephem-4-carboxylic acid |
EP0485204A2 (en) | 1990-11-07 | 1992-05-13 | Sankyo Company Limited | Process for the preparation of 3-alkoxymethyl cephalosporin derivatives |
US5597914A (en) * | 1993-10-22 | 1997-01-28 | Biochemie Gesellschaft M.B.H. | Process for the production of cephalosporins |
WO1997034027A1 (fr) * | 1996-03-13 | 1997-09-18 | Otsuka Kagaku Kabushiki Kaisha | Processus de preparation de 3-alcoxymethylcephems |
JP2002510694A (ja) * | 1998-04-02 | 2002-04-09 | バイオケミ・ゲゼルシヤフト・エム・ベー・ハー | セファロスポリン誘導体の精製方法 |
WO2013041999A1 (en) | 2011-09-20 | 2013-03-28 | Dhanuka Laboratories Ltd. | An improved process for cefpodoxime acid |
WO2017153824A1 (en) | 2016-03-07 | 2017-09-14 | Dhanuka Laboratories Ltd. | A process for alkylating the hydroxymethyl group at position -3 of cephalosporins |
-
1983
- 1983-03-07 JP JP3715283A patent/JPS59163387A/ja active Granted
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0204657A2 (en) * | 1985-06-03 | 1986-12-10 | BIOCHEMIE Gesellschaft m.b.H. | Process for the production of 7-aca derivatives |
US4902793A (en) * | 1986-10-02 | 1990-02-20 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Process for preparing 3-alkoxymethylcephalosporins |
US5034521A (en) * | 1988-05-24 | 1991-07-23 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Process for preparing 3-substituted methyl-3-cephem-4-carboxylic acid |
EP0485204A2 (en) | 1990-11-07 | 1992-05-13 | Sankyo Company Limited | Process for the preparation of 3-alkoxymethyl cephalosporin derivatives |
EP0485204A3 (en) * | 1990-11-07 | 1992-09-23 | Sankyo Company Limited | Process for the preparation of 3-alkoxymethyl cephalosporin derivatives |
US5597914A (en) * | 1993-10-22 | 1997-01-28 | Biochemie Gesellschaft M.B.H. | Process for the production of cephalosporins |
WO1997034027A1 (fr) * | 1996-03-13 | 1997-09-18 | Otsuka Kagaku Kabushiki Kaisha | Processus de preparation de 3-alcoxymethylcephems |
US5968335A (en) * | 1996-03-13 | 1999-10-19 | Otsuka Kagaku Kabushiki Kaisha | Process for preparing 3-alkoxymethylcephem compounds |
JP2002510694A (ja) * | 1998-04-02 | 2002-04-09 | バイオケミ・ゲゼルシヤフト・エム・ベー・ハー | セファロスポリン誘導体の精製方法 |
WO2013041999A1 (en) | 2011-09-20 | 2013-03-28 | Dhanuka Laboratories Ltd. | An improved process for cefpodoxime acid |
WO2017153824A1 (en) | 2016-03-07 | 2017-09-14 | Dhanuka Laboratories Ltd. | A process for alkylating the hydroxymethyl group at position -3 of cephalosporins |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0454674B2 (ja) | 1992-08-31 |
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