JP3031268B2 - 磁器コンデンサ - Google Patents

磁器コンデンサ

Info

Publication number
JP3031268B2
JP3031268B2 JP8309811A JP30981196A JP3031268B2 JP 3031268 B2 JP3031268 B2 JP 3031268B2 JP 8309811 A JP8309811 A JP 8309811A JP 30981196 A JP30981196 A JP 30981196A JP 3031268 B2 JP3031268 B2 JP 3031268B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
alloy
electrode
ceramic body
electrodes
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP8309811A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH10149943A (ja
Inventor
満 永島
和宏 吉田
雅宣 岸
誠 村田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Murata Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Murata Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Murata Manufacturing Co Ltd filed Critical Murata Manufacturing Co Ltd
Priority to JP8309811A priority Critical patent/JP3031268B2/ja
Priority to TW086116889A priority patent/TW405133B/zh
Priority to US08/974,289 priority patent/US6043973A/en
Priority to CN97123163A priority patent/CN1096694C/zh
Priority to KR1019970061405A priority patent/KR100258676B1/ko
Priority to DE19751549A priority patent/DE19751549C2/de
Publication of JPH10149943A publication Critical patent/JPH10149943A/ja
Priority to US09/484,950 priority patent/US6326052B1/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3031268B2 publication Critical patent/JP3031268B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01GCAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES OR LIGHT-SENSITIVE DEVICES, OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G4/00Fixed capacitors; Processes of their manufacture
    • H01G4/002Details
    • H01G4/005Electrodes
    • H01G4/008Selection of materials
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00Metal working
    • Y10T29/43Electric condenser making
    • Y10T29/435Solid dielectric type

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
  • Ceramic Capacitors (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁器コンデンサ、
特に高温環境下において用いられる板状磁器コンデンサ
に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、この種の磁器コンデンサは、板
状のセラミック素体の両面に電極が設けられ、さらにこ
れら電極にリード端子が半田接合された構造を有してい
る。そして、従来の電極としては、半田付けが容易な金
属であるAg,Cu等の塗布焼付電極または湿式めっき
電極が採用されたり、半田に含まれているSnの拡散が
生じにくい金属であるNi,Zn等の塗布焼付電極又は
湿式めっき電極の採用が検討されたりしていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、Ag,
Cu等の塗布焼付け電極又は湿式めっき電極を有した磁
器コンデンサを高温(例えば150℃程度)環境下で使
用すると、リード端子の接合に用いられている半田に含
まれているSnが電極内に拡散することにより、電極と
セラミックの密着強度が低下することがあった。このた
め、磁器コンデンサの誘電損失が増大したり、電極とセ
ラミック間に発生した空隙でコロナ放電が生じて磁器コ
ンデンサが破壊されたり等の不具合が発生する心配があ
った。
【0004】また、Ni,Zn等の塗布焼付電極又は湿
式めっき電極を有した磁器コンデンサの場合には、半田
に含まれているSnの拡散が生じにくいため、前記不具
合は発生しないが、電極の半田付け性が悪くなるという
新たな問題を招き、リード端子接合に信頼性上問題のあ
る塩素系フラックスを用いる必要が生じたり、リード端
子取付用電極をNi,Zn等の電極上に別に設ける必要
が生じた。
【0005】そこで、本発明の目的は、電極の半田付け
性が良好でかつ高温環境下で用いても半田食われの進行
がなく、特性劣化の少ない磁器コンデンサを提供するこ
とにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】以上の目的を達成するた
め、本発明に係る磁器コンデンサは、(a)セラミック
素体とこのセラミック素体の表面に設けられた乾式めっ
き電極とを備え、(b)前記乾式めっき電極が、Cu,
Ni−Cu合金,Znのいずれか一つ以上の物質からな
る第1層と、この第1層の表面に設けられ、前記第1層
の物質と異なりかつCr,Ni−Cr合金,Fe−Cr
合金,Co−Cr合金,Ti,Zn,Al,W,V,M
oのいずれか一つ以上の物質からなる第2層と、この第
2層の表面に設けられ、Cu,Ni−Cu合金,Ag,
Auのいずれか一つ以上の物質からなる第3層とで構成
されていること、を特徴とする。そして、第1層の厚み
は500オングストローム以上であり、第2層の厚みは
100オングストローム以上であり、第3層の厚みは5
00オングストローム以上であることが好ましい。
【0007】
【作用】以上の構成により、第1層が、セラミック素体
と電極の間の適度の密着強度を確保する。第2層が、半
田(特に、半田に含まれているSn)の拡散がセラミッ
ク素体と電極の界面にまで進まないようにする。そし
て、第3層が、半田付け性を良好なものにする。
【0008】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る磁器コンデン
サの一実施形態について添付図面を参照して説明する。
図1に示すように、磁器コンデンサは、セラミック素体
1と、このセラミック素体の両面にそれぞれ形成された
電極5a,5bと、電極5a,5bに半田9a,9bに
て接合されたリード端子6a,6bとを備えている。セ
ラミック素体1は、例えばBaTiO3系やSrTiO3
系及びTiO2系のセラミック誘電体等からなる。
【0009】電極5a,5bは、セラミック素体1を加
熱して所定の温度にした後、乾式めっき法によりセラミ
ック素体の両面に形成される。セラミック素体1の加熱
温度は任意であるが、セラミック素体1内の残留熱応力
を小さくするために150℃以下に設定するのが好まし
い。乾式めっき法としては、例えばスパッタリング法、
蒸着法、溶射法、イオンプレーティング法等がある。こ
の乾式めっき電極5a,5bは3層構造を有している。
【0010】電極5a,5bの第1層2a,2bは、そ
れぞれセラミック素体1の両面に設けられ、Cu,Ni
−Cu合金,Znのいずれか一つ以上の物質からなる。
これらの金属や合金は、セラミックと適度な結合力が得
られるものであり、この結合力はセラミック内の酸素と
の適度の結合により得られるものと考えられる。従っ
て、セラミック素体1と電極5a,5bの間に適度の密
着強度を確保することができる。これに対して、金属
(あるいは合金)とセラミック内の酸素との結合が弱過
ぎると、セラミック素体と電極の密着強度が不足し、逆
に強過ぎるとセラミック素体の還元による特性劣化が生
じる。
【0011】電極5a,5bの第2層3a,3bは、そ
れぞれ第1層2a,2bの表面に設けられ、第1層2
a,2bの物質と異なりかつCr,Ni−Cr合金,F
e−Cr合金,Co−Cr合金,Ti,Zn,Al,
W,V,Moのいずれか一つ以上の物質からなる。これ
らの金属や合金は、Sn,Pbの拡散しにくいものであ
り、半田9a,9b(特に、半田9a,9bに含まれて
いるSn)の拡散がセラミック素体1と電極5aの界
面、並びにセラミック素体1と電極5bの界面にまで達
しないようにすることができる。このため、電極5a,
5bとセラミック素体1の密着強度が低下せず、磁器コ
ンデンサの誘電損失の増大、あるいは電極とセラミック
素体間に発生した空隙でのコロナ放電による磁器コンデ
ンサの破壊といった問題が発生しない。
【0012】電極5a,5bの第3層4a,4bは、そ
れぞれ第2層3a,3bの表面に設けられ、Cu,Ni
−Cu合金,Ag,Auのいずれか一つ以上の物質から
なる。これらの金属や合金は、半田濡れ性が良好なもの
であり、リード端子6a,6bと電極5a,5bは高い
信頼性で接合することができる。また、第1層2a,2
bの厚みは500オングストローム以上に設定され、第
2層3a,3bの厚みは100オングストローム以上に
設定され、第3層4a,4bの厚みは500オングスト
ローム以上に設定されている。それ以下の厚みになる
と、各層2a〜4bの前記作用効果が充分に発揮できな
くなる懸念が考えられるからである。こうして得られた
磁器コンデンサは、電極5a,5bの半田付け性が良好
で、かつ、高温環境下で用いても半田食われの進行がな
く、特性劣化の少ないものとなる。
【0013】なお、本発明に係る磁器コンデンサは前記
実施形態に限定するものではなく、その要旨の範囲内で
種々に変更することができる。特に、セラミック素体の
形状や電極の形状等は任意であり、円形、楕円形、矩形
等のように仕様に合わせて種々のものが選択される。
【0014】
【実施例】次に、本発明者らが行なった実験結果につい
て、図1を参照しながら説明する。実験のための磁器コ
ンデンサ試料は以下のようにして製作した。直径が13
mm、厚さが0.5mmの円板状のBaTiO3系セラ
ミック素体1を、10-4Torrの真空中で、150℃
以下に加熱した後、このセラミック素体1の上下面にC
u,Ni−Cu合金,Znから選択された金属あるいは
合金をスパッタリングして厚さ500オングストローム
以上の第1層2a,2bをそれぞれ形成した。
【0015】次に、Cr,Ni−Cr合金,Fe−Cr
合金,Co−Cr合金,Ti,Zn,Al,W,V,M
oから選択された金属あるいは合金をスパッタリングし
て厚さ100オングストローム以上の第2層3a,3b
をそれぞれ第1層2a,2bの表面に形成した。さら
に、Cu,Ni−Cu合金,Ag,Auから選択された
金属あるいは合金をスパッタリングして厚さ500オン
グストローム以上の第3層4a,4bをそれぞれ第2層
3a,3bの表面に形成した。
【0016】こうしてセラミック素体1の両面にそれぞ
れ電極5a,5bを形成した後、半田引き軟銅線からな
る直径が0.6mmのリード端子6a,6bをそれぞれ
半田9a,9bにて電極5a,5bに接合させ、その半
田濡れ性を観察した。さらに、この磁器コンデンサ試料
を125℃の温度に保持した状態で1000時間放置し
た後、電気的特性として誘電率ε、誘電損失及び絶縁抵
抗を測定したところ、表1−1〜表1−11に示す測定
結果が得られた。なお、表中の半田濡れ性は、電極5
a,5bと半田9a,9bの接触角が90度未満であれ
ば良とし、90度以上であれば不良と判定した。表1−
1〜表1−11からわかるように、電極5a,5bは半
田付け性が良好であり、高温環境下においても、誘電率
ε、誘電損失及び絶縁抵抗は極めて優れた数値を維持し
ており、その効果には著しいものがある。
【0017】
【表1】
【0018】
【表2】
【0019】
【表3】
【0020】
【表4】
【0021】
【表5】
【0022】
【表6】
【0023】
【表7】
【0024】
【表8】
【0025】
【表9】
【0026】
【表10】
【0027】
【表11】
【0028】
【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明に
よれば、セラミック素体の表面の乾式めっき電極を、C
u,Ni−Cu合金,Znのいずれか一つ以上の物質か
らなる第1層と、この第1層の表面に設けられ、前記第
1層の物質と異なりかつCr,Ni−Cr合金,Fe−
Cr合金,Co−Cr合金,Ti,Zn,Al,W,
V,Moのいずれか一つ以上の物質からなる第2層と、
この第2層の表面に設けられ、Cu,Ni−Cu合金,
Ag,Auのいずれか一つ以上の物質からなる第3層と
で構成したので、電極の半田付け性が良好でかつ高温環
境下でも半田食われの進行がなく、特性劣化の少ない電
極を備えた磁器コンデンサを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る磁器コンデンサの一実施形態を示
す断面図。
【符号の説明】
1…セラミック素体 2a,2b…第1層 3a,3b…第2層 4a,4b…第3層 5a,5b…電極 6a,6b…リード端子 9a,9b…半田
フロントページの続き (72)発明者 村田 誠 京都府長岡京市天神二丁目26番10号 株 式会社村田製作所内 (56)参考文献 特開 昭56−110219(JP,A) 特開 昭60−195915(JP,A) 特開 昭63−78512(JP,A) 特開 平3−225810(JP,A) 特開 平5−175013(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01G 4/12

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 セラミック素体とこのセラミック素体の
    表面に設けられた乾式めっき電極とを備え、 前記乾式めっき電極が、Cu,Ni−Cu合金,Znの
    いずれか一つ以上の物質からなる第1層と、この第1層
    の表面に設けられ、前記第1層の物質と異なりかつC
    r,Ni−Cr合金,Fe−Cr合金,Co−Cr合
    金,Ti,Zn,Al,W,V,Moのいずれか一つ以
    上の物質からなる第2層と、この第2層の表面に設けら
    れ、Cu,Ni−Cu合金,Ag,Auのいずれか一つ
    以上の物質からなる第3層とで構成されていること、 を特徴とする磁器コンデンサ。
  2. 【請求項2】 前記第1層の厚みが500オングストロ
    ーム以上であり、前記第2層の厚みが100オングスト
    ローム以上であり、前記第3層の厚みが500オングス
    トローム以上であることを特徴とする請求項1記載の磁
    器コンデンサ。
JP8309811A 1996-11-20 1996-11-20 磁器コンデンサ Expired - Lifetime JP3031268B2 (ja)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8309811A JP3031268B2 (ja) 1996-11-20 1996-11-20 磁器コンデンサ
TW086116889A TW405133B (en) 1996-11-20 1997-11-13 Ceramic capacitor
US08/974,289 US6043973A (en) 1996-11-20 1997-11-19 Ceramic capacitor
KR1019970061405A KR100258676B1 (ko) 1996-11-20 1997-11-20 세라믹 커패시터
CN97123163A CN1096694C (zh) 1996-11-20 1997-11-20 陶瓷电容器及其制造方法
DE19751549A DE19751549C2 (de) 1996-11-20 1997-11-20 Keramikkondensator
US09/484,950 US6326052B1 (en) 1996-11-20 2000-01-18 Ceramic capacitor

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8309811A JP3031268B2 (ja) 1996-11-20 1996-11-20 磁器コンデンサ

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH10149943A JPH10149943A (ja) 1998-06-02
JP3031268B2 true JP3031268B2 (ja) 2000-04-10

Family

ID=17997539

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8309811A Expired - Lifetime JP3031268B2 (ja) 1996-11-20 1996-11-20 磁器コンデンサ

Country Status (6)

Country Link
US (2) US6043973A (ja)
JP (1) JP3031268B2 (ja)
KR (1) KR100258676B1 (ja)
CN (1) CN1096694C (ja)
DE (1) DE19751549C2 (ja)
TW (1) TW405133B (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101965060B1 (ko) * 2017-06-15 2019-04-02 이승우 실외용 발 당구대

Families Citing this family (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11176642A (ja) * 1997-12-08 1999-07-02 Taiyo Yuden Co Ltd 電子部品とその製造方法
JP3494431B2 (ja) * 1998-12-03 2004-02-09 株式会社村田製作所 セラミック電子部品の製造方法およびセラミック電子部品
US6181200B1 (en) * 1999-04-09 2001-01-30 Integra Technologies, Inc. Radio frequency power device
JP3446713B2 (ja) * 2000-03-14 2003-09-16 株式会社村田製作所 リード端子付きセラミック電子部品
JP3804539B2 (ja) * 2001-04-10 2006-08-02 株式会社村田製作所 セラミック電子部品
JP2002314306A (ja) 2001-04-13 2002-10-25 Murata Mfg Co Ltd 非可逆回路素子及び通信装置
TW556237B (en) 2001-09-14 2003-10-01 Matsushita Electric Ind Co Ltd Ceramic capacitor
US6555912B1 (en) 2001-10-23 2003-04-29 International Business Machines Corporation Corrosion-resistant electrode structure for integrated circuit decoupling capacitors
US20060098383A1 (en) * 2002-09-27 2006-05-11 Hubertus Goesmann Electrical component and an assembly comprising said component
US7886684B2 (en) * 2003-05-09 2011-02-15 Mt Industries, Inc. Gantry tower spraying system with cartridge/receptacle assembly
US7626828B1 (en) * 2003-07-30 2009-12-01 Teradata Us, Inc. Providing a resistive element between reference plane layers in a circuit board
US6795296B1 (en) * 2003-09-30 2004-09-21 Cengiz A. Palanduz Capacitor device and method
TWI246696B (en) * 2004-05-12 2006-01-01 Lei-Ya Wang Method for manufacturing dielectric ceramic layer and internal polar layer of multiple layer ceramic capacitors (MLCC) by vacuum sputtering
CN100380542C (zh) * 2004-05-28 2008-04-09 立隆电子工业股份有限公司 难燃性电容器
US20060000542A1 (en) * 2004-06-30 2006-01-05 Yongki Min Metal oxide ceramic thin film on base metal electrode
CN100372642C (zh) * 2004-10-20 2008-03-05 桂迪 微带电容的实用焊接工艺
US7290315B2 (en) * 2004-10-21 2007-11-06 Intel Corporation Method for making a passive device structure
US20060099803A1 (en) * 2004-10-26 2006-05-11 Yongki Min Thin film capacitor
US20060091495A1 (en) * 2004-10-29 2006-05-04 Palanduz Cengiz A Ceramic thin film on base metal electrode
US20060220177A1 (en) * 2005-03-31 2006-10-05 Palanduz Cengiz A Reduced porosity high-k thin film mixed grains for thin film capacitor applications
US7629269B2 (en) * 2005-03-31 2009-12-08 Intel Corporation High-k thin film grain size control
US7375412B1 (en) * 2005-03-31 2008-05-20 Intel Corporation iTFC with optimized C(T)
US7453144B2 (en) * 2005-06-29 2008-11-18 Intel Corporation Thin film capacitors and methods of making the same
US7863665B2 (en) * 2007-03-29 2011-01-04 Raytheon Company Method and structure for reducing cracks in a dielectric layer in contact with metal
US8085522B2 (en) * 2007-06-26 2011-12-27 Headway Technologies, Inc. Capacitor and method of manufacturing the same and capacitor unit
KR101018645B1 (ko) 2008-11-03 2011-03-03 삼화콘덴서공업주식회사 고압 및 고주파용 세라믹 커패시터
JP5885027B2 (ja) * 2012-03-16 2016-03-15 三菱マテリアル株式会社 サーミスタ素子
JP2015173835A (ja) * 2014-03-14 2015-10-05 日本ライフライン株式会社 ガイドワイヤ
US10102973B2 (en) 2014-09-12 2018-10-16 Nanotek Instruments, Inc. Graphene electrode based ceramic capacitor
CN104332307A (zh) * 2014-10-23 2015-02-04 苏州华冲精密机械有限公司 一种高绝缘性电极
CN108447683B (zh) * 2018-03-29 2020-07-17 南京邮电大学 一种宽频带的ltcc叉指电容
KR20210012444A (ko) 2019-07-25 2021-02-03 삼성전기주식회사 적층 세라믹 전자부품 및 이의 제조방법

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3638085A (en) * 1970-11-13 1972-01-25 Sprague Electric Co Thin film capacitor and method of making same
US4038587A (en) * 1975-08-21 1977-07-26 Sprague Electric Company Ceramic disc capacitor and method of making the same
US4130854A (en) * 1976-09-23 1978-12-19 Erie Technological Products, Inc. Borate treated nickel pigment for metallizing ceramics
JPS5925986A (ja) * 1982-07-16 1984-02-10 Asahi Glass Co Ltd 高耐久性低水素過電圧陰極及びその製法
US4584629A (en) * 1984-07-23 1986-04-22 Avx Corporation Method of making ceramic capacitor and resulting article
US4604676A (en) * 1984-10-02 1986-08-05 Murata Manufacturing Co., Ltd. Ceramic capacitor
DE3590792T (ja) * 1985-05-10 1987-07-16
JPS62194607A (ja) * 1986-02-20 1987-08-27 株式会社村田製作所 セラミックコンデンサ
US4740863A (en) * 1987-05-15 1988-04-26 Sfe Technologies Current-limiting thin film termination for capacitors
JP2852372B2 (ja) * 1989-07-07 1999-02-03 株式会社村田製作所 積層セラミックコンデンサ
JPH03225810A (ja) * 1990-01-30 1991-10-04 Rohm Co Ltd 積層型コンデンサーにおける端子電極膜の構造及び端子電極膜の形成方法
JPH04352309A (ja) * 1991-05-29 1992-12-07 Rohm Co Ltd 積層セラミックコンデンサにおける端子電極の構造及び端子電極の形成方法
JP2967660B2 (ja) * 1992-11-19 1999-10-25 株式会社村田製作所 電子部品
JPH06231906A (ja) * 1993-01-28 1994-08-19 Mitsubishi Materials Corp サーミスタ
JPH0721533A (ja) * 1993-07-05 1995-01-24 Sumitomo Metal Ind Ltd 薄膜磁気ヘッドの製造方法
US5585300A (en) * 1994-08-01 1996-12-17 Texas Instruments Incorporated Method of making conductive amorphous-nitride barrier layer for high-dielectric-constant material electrodes
US5612560A (en) * 1995-10-31 1997-03-18 Northern Telecom Limited Electrode structure for ferroelectric capacitors for integrated circuits
DE19635406B4 (de) * 1996-08-31 2005-09-01 Philips Intellectual Property & Standards Gmbh Kondensator und Vielschichtkondensator mit einem Dielektrium aus wolframhaltiger BCZT-Keramik

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101965060B1 (ko) * 2017-06-15 2019-04-02 이승우 실외용 발 당구대

Also Published As

Publication number Publication date
DE19751549C2 (de) 2002-08-01
CN1182946A (zh) 1998-05-27
TW405133B (en) 2000-09-11
JPH10149943A (ja) 1998-06-02
US6326052B1 (en) 2001-12-04
US6043973A (en) 2000-03-28
KR100258676B1 (ko) 2000-06-15
CN1096694C (zh) 2002-12-18
DE19751549A1 (de) 1998-05-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3031268B2 (ja) 磁器コンデンサ
JPH11189894A (ja) Sn合金メッキ皮膜、電子部品およびチップ型セラミック電子部品
JP2001210545A (ja) チップ型電子部品及びチップ型コンデンサ
JP3494431B2 (ja) セラミック電子部品の製造方法およびセラミック電子部品
JP2967660B2 (ja) 電子部品
JP3760770B2 (ja) 積層セラミック電子部品及びその製造方法
EP1134757B1 (en) Ceramic electronic component having lead terminal
JP4993545B2 (ja) 電子部品および電子部品の製造方法
JPH0722268A (ja) チップ型電子部品
JP2001274037A (ja) セラミック電子部品
JP2000077253A (ja) 電子部品、チップ型セラミック電子部品、およびそれらの製造方法
JP2002252124A (ja) チップ型電子部品及びその製造方法
JP2002313667A (ja) セラミック電子部品
JP2003243245A (ja) セラミック電子部品およびその製造方法
JPH0878279A (ja) チップ型電子部品の外部電極形成方法
JP2746778B2 (ja) タンタルコンデンサ
JP2002198253A (ja) セラミック電子部品及び導電性ペースト
JP3458701B2 (ja) 電子部品及びその製造方法
JP3019568B2 (ja) セラミック電子部品及びその製造方法
JP2976048B2 (ja) チップ型セラミック電子部品の製造方法
JP2000124063A (ja) セラミック電子部品
JP3840936B2 (ja) セラミック電子部品
JPH04105310A (ja) 積層セラミックコンデンサ
JPH0722282A (ja) チップ型固体電解コンデンサ
JPS60195915A (ja) 積層セラミツクコンデンサの端子電極形成方法

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090210

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090210

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100210

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110210

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110210

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120210

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130210

Year of fee payment: 13

EXPY Cancellation because of completion of term