JP3005117B2 - 電子写真感光体用支持体の洗浄方法 - Google Patents
電子写真感光体用支持体の洗浄方法Info
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- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば電子写真複写機
に使用される導電性支持体の製造工程における、水また
は水系洗浄剤を用いた洗浄方法に関する。更に詳しくは
洗浄ムラ、または、洗浄による支持体の欠陥等の発生の
ない改良された洗浄方法に関する。
に使用される導電性支持体の製造工程における、水また
は水系洗浄剤を用いた洗浄方法に関する。更に詳しくは
洗浄ムラ、または、洗浄による支持体の欠陥等の発生の
ない改良された洗浄方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】電子写真感光体は、アルミニウム、アル
ミニウム合金、ステンレス、鉄、銅、真鍮等の金属材料
やアルミニウム、アルミニウム合金、酸化インジウム、
酸化錫合金などを蒸着によって皮膜形成された層を有す
る導電性支持体や、導電性粒子（例えばカーボンブラッ
ク、酸化錫粒子、酸化アンチモン粒子）を適当なバイン
ダーと共にプラスチックや紙などに分散、含浸した支持
体、そのほか導電性プラスチック等の支持体上に蒸着、
塗布等の方法で感光層を形成させ得られるが、いかなる
感光層形成方法を採ったとしても電子写真特性、画像特
性、さらには経時安定性の見地からも該支持体は、感光
層形成時には清浄であることが求められる。従来これら
の洗浄方法としては、フロン系、ハロゲン系炭化水素類
の有機溶剤が使われてきたが、環境問題に対する国際的
な動きの中でこれらの溶剤の使用が制限される方向にあ
る。代わって代替溶剤、水または、水系洗浄剤を用いた
洗浄が提案されている。なかでも環境に対するローイン
パクト性において、水または、水系洗浄剤を用いた洗浄
が注目されている。しかしながら、水または、水系洗浄
剤を用いた洗浄方法はそれだけでは他の、方法に比べ洗
浄力が落ちるため温度を上げたり、超音波と併用するな
ど使いこなしが検討されているが、これによる弊害もま
た発生する。超音波によっては、局部的な超音波照射ム
ラにより支持体表面上一部に、エロージョンと呼ばれる
微細欠陥が生じたり、また水温を上げた場合においては
支持体表面上の一部に酸化皮膜が生じ支持体表面がムラ
状になり思うような洗浄効果を上げられなかった。
ミニウム合金、ステンレス、鉄、銅、真鍮等の金属材料
やアルミニウム、アルミニウム合金、酸化インジウム、
酸化錫合金などを蒸着によって皮膜形成された層を有す
る導電性支持体や、導電性粒子（例えばカーボンブラッ
ク、酸化錫粒子、酸化アンチモン粒子）を適当なバイン
ダーと共にプラスチックや紙などに分散、含浸した支持
体、そのほか導電性プラスチック等の支持体上に蒸着、
塗布等の方法で感光層を形成させ得られるが、いかなる
感光層形成方法を採ったとしても電子写真特性、画像特
性、さらには経時安定性の見地からも該支持体は、感光
層形成時には清浄であることが求められる。従来これら
の洗浄方法としては、フロン系、ハロゲン系炭化水素類
の有機溶剤が使われてきたが、環境問題に対する国際的
な動きの中でこれらの溶剤の使用が制限される方向にあ
る。代わって代替溶剤、水または、水系洗浄剤を用いた
洗浄が提案されている。なかでも環境に対するローイン
パクト性において、水または、水系洗浄剤を用いた洗浄
が注目されている。しかしながら、水または、水系洗浄
剤を用いた洗浄方法はそれだけでは他の、方法に比べ洗
浄力が落ちるため温度を上げたり、超音波と併用するな
ど使いこなしが検討されているが、これによる弊害もま
た発生する。超音波によっては、局部的な超音波照射ム
ラにより支持体表面上一部に、エロージョンと呼ばれる
微細欠陥が生じたり、また水温を上げた場合においては
支持体表面上の一部に酸化皮膜が生じ支持体表面がムラ
状になり思うような洗浄効果を上げられなかった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】解決しようとする問題
点は上述のような水または水系洗浄剤を用いた洗浄の場
合生ずる支持体表面上の酸化皮膜である。
点は上述のような水または水系洗浄剤を用いた洗浄の場
合生ずる支持体表面上の酸化皮膜である。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、電子写真感光
体用支持体を洗浄液が充たされた超音波発振装置を具備
した洗浄槽の中に浸漬し洗浄する電子写真感光体用支持
体の洗浄方法において、超音波を該支持体に向け発振す
る際、超音波発振方向に対して交差する方向に超音波発
振装置を移動させることを特徴とする電子写真感光体用
支持体の洗浄方法である。
体用支持体を洗浄液が充たされた超音波発振装置を具備
した洗浄槽の中に浸漬し洗浄する電子写真感光体用支持
体の洗浄方法において、超音波を該支持体に向け発振す
る際、超音波発振方向に対して交差する方向に超音波発
振装置を移動させることを特徴とする電子写真感光体用
支持体の洗浄方法である。
【０００５】本発明を図１に従って説明する。
【０００６】１は感光層塗布前の洗浄を必要とする支持
体で２の治具にセットされる２の治具は洗浄の均一性を
得るためにモーターにより１の支持体を任意の回転数で
回転させることができる。３は洗浄槽であり、槽の中に
は、水または、水系洗浄剤が充填されており、通常の洗
浄機と同様に、循環機ポンプ、フィルター、ヒーター等
が装備されている。４は超音波発振装置であり、該発振
装置は１０の超音波発振装置昇降装置により３０〜３０
００ｍｍ／ｍｉｎの速度で支持体長の昇降を繰り返す構
造となっている。５は支持体昇降装置で６の駆動モータ
ーにより、支持体の浸漬および洗浄中の支持体の昇降を
任意に選択できる。７は超音波発振装置の支柱（レー
ル）。本発明では、ここに示した装置により、支持体
を、水または水系の洗浄槽の中に完全に浸漬させ、しか
る後に、超音波を照射し、１０の超音波発振装置昇降装
置を３０〜３０００ｍｍ／ｍｉｎの速度で超音波発振方
向に対して交差する方向、即ち本図においては上下方向
に支持体長の距離を動かすことにより達成される。更に
５の、支持体昇降装置を６の駆動モーターにより上下に
動かせることでも効果的である。本発明においては、か
かる洗浄方法により、極部的に超音波が集中したり、ま
たは、照射不足が発生したりすることがなく、支持体全
域に渡って均一な洗浄効果を期待することができる。
体で２の治具にセットされる２の治具は洗浄の均一性を
得るためにモーターにより１の支持体を任意の回転数で
回転させることができる。３は洗浄槽であり、槽の中に
は、水または、水系洗浄剤が充填されており、通常の洗
浄機と同様に、循環機ポンプ、フィルター、ヒーター等
が装備されている。４は超音波発振装置であり、該発振
装置は１０の超音波発振装置昇降装置により３０〜３０
００ｍｍ／ｍｉｎの速度で支持体長の昇降を繰り返す構
造となっている。５は支持体昇降装置で６の駆動モータ
ーにより、支持体の浸漬および洗浄中の支持体の昇降を
任意に選択できる。７は超音波発振装置の支柱（レー
ル）。本発明では、ここに示した装置により、支持体
を、水または水系の洗浄槽の中に完全に浸漬させ、しか
る後に、超音波を照射し、１０の超音波発振装置昇降装
置を３０〜３０００ｍｍ／ｍｉｎの速度で超音波発振方
向に対して交差する方向、即ち本図においては上下方向
に支持体長の距離を動かすことにより達成される。更に
５の、支持体昇降装置を６の駆動モーターにより上下に
動かせることでも効果的である。本発明においては、か
かる洗浄方法により、極部的に超音波が集中したり、ま
たは、照射不足が発生したりすることがなく、支持体全
域に渡って均一な洗浄効果を期待することができる。
【０００７】水系洗浄剤としては、水に界面活性剤が溶
解されたものが一般に使用される。界面活性剤は、疎水
基と親水基とからなる化合物であり、２物質間（基板−
油）の界面に集まりやすい性質をもち、その２物質間の
離脱に効果がある。親水基の種類によりイオン型、非イ
オン型の２種類に大別される。イオン型には脂肪族高級
アルコール硫酸エステルナトリウム塩、アルキルトリメ
チルアンモニウムクロライドまたはアルキルジメチルペ
ンタインなどがあり、非イオン型には脂肪族高級アルコ
ールエチレンオキサイド付加物（ポリエチレングリコー
ルアルキルエーテル）などがあり、本発明にはいずれも
有効に作用する。
解されたものが一般に使用される。界面活性剤は、疎水
基と親水基とからなる化合物であり、２物質間（基板−
油）の界面に集まりやすい性質をもち、その２物質間の
離脱に効果がある。親水基の種類によりイオン型、非イ
オン型の２種類に大別される。イオン型には脂肪族高級
アルコール硫酸エステルナトリウム塩、アルキルトリメ
チルアンモニウムクロライドまたはアルキルジメチルペ
ンタインなどがあり、非イオン型には脂肪族高級アルコ
ールエチレンオキサイド付加物（ポリエチレングリコー
ルアルキルエーテル）などがあり、本発明にはいずれも
有効に作用する。
【０００８】水又は水系洗浄液は供給バルブ９で調整さ
れ供給管８を通して洗浄槽３に供給される。
れ供給管８を通して洗浄槽３に供給される。
【０００９】
実施例１ シリンダーとして外径φ８０ｍｍ、肉厚１．５ｍｍ、長
さ３６３ｍｍの引き抜き加工アルミシリンダーを用意し
た。該シリンダーは通常入手される形態を取っており、
引き抜き加工時、及び、切断時の加工油、切り粉、保存
時の防錆油、更に支持体を移動輸送時などに人の指紋等
の付着した状態である。該シリンダーを、図１で示した
超音波洗浄装置に投入し、なお洗浄槽には、水または、
水系洗浄剤が満たされ洗浄中はシリンダーを完全に浸漬
した状態で、ここでは超音波発振効果を期待する手段と
して、洗浄槽のなかで超音波発振子を上下に作動（作動
範囲４００ｍｍ、速度３５０ｍｍ／ｍｉｎ）さすことに
よりシリンダー全域に照射ムラ、照射不足のないよう
に、また更に補助的にシリンダーを回転（回転２０ｒｐ
ｍ）させ、超音波発振器（８００Ｗ、３０ＫＨｚ）にし
て３０秒間処理した、なお洗浄液は３０℃にたもった。
シリンダーの洗浄度は、水滴噴霧法によって表面上の水
滴が均一に付着しているかで行った。シリンダーの洗浄
度は非常に良好であった。この洗浄済シリンダーを用い
て次のような電荷発生層、電荷輸送層を有する積層型電
子写真感光体を作成した。
さ３６３ｍｍの引き抜き加工アルミシリンダーを用意し
た。該シリンダーは通常入手される形態を取っており、
引き抜き加工時、及び、切断時の加工油、切り粉、保存
時の防錆油、更に支持体を移動輸送時などに人の指紋等
の付着した状態である。該シリンダーを、図１で示した
超音波洗浄装置に投入し、なお洗浄槽には、水または、
水系洗浄剤が満たされ洗浄中はシリンダーを完全に浸漬
した状態で、ここでは超音波発振効果を期待する手段と
して、洗浄槽のなかで超音波発振子を上下に作動（作動
範囲４００ｍｍ、速度３５０ｍｍ／ｍｉｎ）さすことに
よりシリンダー全域に照射ムラ、照射不足のないよう
に、また更に補助的にシリンダーを回転（回転２０ｒｐ
ｍ）させ、超音波発振器（８００Ｗ、３０ＫＨｚ）にし
て３０秒間処理した、なお洗浄液は３０℃にたもった。
シリンダーの洗浄度は、水滴噴霧法によって表面上の水
滴が均一に付着しているかで行った。シリンダーの洗浄
度は非常に良好であった。この洗浄済シリンダーを用い
て次のような電荷発生層、電荷輸送層を有する積層型電
子写真感光体を作成した。
【００１０】
【外１】 のジスアゾ顔料１０部、ポリビニルブチラール樹脂（エ
スレックＢＸ−１、積水化学製）６部及びシクロヘキサ
ノン５０部をガラスビーズを用いたサンドミル装置で分
散した。この分散液にテトラヒドロフラン１００部を加
えて洗浄したシリンダー上に塗布して０．２μｍ厚の電
荷発生層を形成した。
スレックＢＸ−１、積水化学製）６部及びシクロヘキサ
ノン５０部をガラスビーズを用いたサンドミル装置で分
散した。この分散液にテトラヒドロフラン１００部を加
えて洗浄したシリンダー上に塗布して０．２μｍ厚の電
荷発生層を形成した。
【００１１】次に、構造式
【００１２】
【外２】 で表わされるスチルベン化合物１０部及びポリカーボネ
ート樹脂（パンライトＬ１２５０帝人化成製）１０部を
ジクロメタン５０部及びモノクロロベンゼン１０部に溶
解した。これを上記電荷発生層上に浸漬塗布して１９μ
ｍ厚の電荷輸送層を形成した電子写真感光体を作成し
た。このようにして得られた電子写真感光体を実際の複
写機であるキヤノン製ＮＰ−３８２５に装着し画像を出
したところ良好な画像が得られた。
ート樹脂（パンライトＬ１２５０帝人化成製）１０部を
ジクロメタン５０部及びモノクロロベンゼン１０部に溶
解した。これを上記電荷発生層上に浸漬塗布して１９μ
ｍ厚の電荷輸送層を形成した電子写真感光体を作成し
た。このようにして得られた電子写真感光体を実際の複
写機であるキヤノン製ＮＰ−３８２５に装着し画像を出
したところ良好な画像が得られた。
【００１３】比較例１〜２ 図２に示された従来の洗浄方法でシリンダーを超音波発
振器（８００Ｗ、３０ＫＨｚ）で３０秒間洗浄処理し、
乾燥を施した後、実施例１と同様にシリンダー上に感光
層を形成させ電子写真感光体にした。これを比較例１と
した。また、比較例１で示されたシリンダーの洗浄方法
で洗浄槽の中で３０秒間停止処理後引き上げ、乾燥を施
した後、実施例１と同様に感光層を形成させ電子写真感
光体にした。これを比較例２にした。
振器（８００Ｗ、３０ＫＨｚ）で３０秒間洗浄処理し、
乾燥を施した後、実施例１と同様にシリンダー上に感光
層を形成させ電子写真感光体にした。これを比較例１と
した。また、比較例１で示されたシリンダーの洗浄方法
で洗浄槽の中で３０秒間停止処理後引き上げ、乾燥を施
した後、実施例１と同様に感光層を形成させ電子写真感
光体にした。これを比較例２にした。
【００１４】比較例１ 超音波によるエロージョン欠陥がシリンダー上の一部に
観察されこの部分は感光層の表面が荒れ画像欠陥となっ
た。
観察されこの部分は感光層の表面が荒れ画像欠陥となっ
た。
【００１５】比較例２ 超音波によるエロージョン欠陥がシリンダー上の一部に
観察されこの部分は感光層の表面が荒れ画像欠陥となっ
た。
観察されこの部分は感光層の表面が荒れ画像欠陥となっ
た。
【００１６】なお図２において、１はシリンダー、２は
治具、３は超音波洗浄槽、４は超音波発振子、５は昇降
装置、６は昇降駆動モーター、７は供給管および８は供
給バルブである。
治具、３は超音波洗浄槽、４は超音波発振子、５は昇降
装置、６は昇降駆動モーター、７は供給管および８は供
給バルブである。
【００１７】
【発明の効果】以上説明したように、本発明による洗浄
方法は支持体を均一に洗浄でき、画像欠陥のない感光体
を提供できるものである。
方法は支持体を均一に洗浄でき、画像欠陥のない感光体
を提供できるものである。
【図１】本発明による洗浄方法の説明図である。
【図２】従来の洗浄方法の説明図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ▲吉▼田 晃 東京都大田区下丸子３丁目30番２号キヤ ノン株式会社内 (56)参考文献 特開 平４−328751（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−226158（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−108568（ＪＰ，Ａ) 実開 平２−67369（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G03G 5/00 101 G03G 21/00
Claims (1)
- 【請求項１】 電子写真感光体用支持体を洗浄液が充た
された超音波発振装置を具備した洗浄槽の中に浸漬し洗
浄する電子写真感光体用支持体の洗浄方法において、超
音波を該支持体に向け発振する際、超音波発振方向に対
して交差する方向に超音波発振装置を移動させることを
特徴とする電子写真感光体用支持体の洗浄方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4169444A JP3005117B2 (ja) | 1992-06-26 | 1992-06-26 | 電子写真感光体用支持体の洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4169444A JP3005117B2 (ja) | 1992-06-26 | 1992-06-26 | 電子写真感光体用支持体の洗浄方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0611849A JPH0611849A (ja) | 1994-01-21 |
| JP3005117B2 true JP3005117B2 (ja) | 2000-01-31 |
Family
ID=15886721
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4169444A Expired - Fee Related JP3005117B2 (ja) | 1992-06-26 | 1992-06-26 | 電子写真感光体用支持体の洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3005117B2 (ja) |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5593505A (en) * | 1995-04-19 | 1997-01-14 | Memc Electronic Materials, Inc. | Method for cleaning semiconductor wafers with sonic energy and passing through a gas-liquid-interface |
| US6391067B2 (en) | 1997-02-04 | 2002-05-21 | Canon Kabushiki Kaisha | Wafer processing apparatus and method, wafer convey robot, semiconductor substrate fabrication method, and semiconductor fabrication apparatus |
| JPH10223585A (ja) * | 1997-02-04 | 1998-08-21 | Canon Inc | ウェハ処理装置及びその方法並びにｓｏｉウェハの製造方法 |
| AU2004257354A1 (en) * | 2003-07-16 | 2005-01-27 | Soniclean Pty Ltd | A space adaptable ultrasonic cleaning apparatus |
| JP5493887B2 (ja) * | 2010-01-12 | 2014-05-14 | 信越半導体株式会社 | 単結晶ブロックの洗浄装置及び洗浄方法 |
| CN104438192A (zh) * | 2014-10-30 | 2015-03-25 | 东莞市青麦田数码科技有限公司 | 一种旋转式缸体半自动清洗机 |
| CN105213040A (zh) * | 2015-08-21 | 2016-01-06 | 张萍 | 一种用于清洗医疗护理工具的清洁装置 |
| CN105457938B (zh) * | 2016-01-12 | 2017-12-05 | 常州朗锐凯迩必减振技术有限公司 | 高度阀腔体自动清洗机及其清洗方法 |
| CN107282531A (zh) * | 2017-06-16 | 2017-10-24 | 枞阳县金源汽车零部件有限公司 | 一种汽车橡塑零部件生产用清洗柜 |
| CN108405520B (zh) * | 2018-04-18 | 2020-09-01 | 芜湖天梦信息科技有限公司 | 一种农产品榨油用储存罐用清理装置 |
| CN108246711A (zh) * | 2018-04-20 | 2018-07-06 | 安徽忠盛新型装饰材料有限公司 | 一种五金轴承用清洗装置 |
| CN108324978A (zh) * | 2018-05-03 | 2018-07-27 | 李瑞珍 | 一种消毒供应室的自动消毒设备 |
| CN111167792B (zh) * | 2020-01-10 | 2021-03-16 | 淮阴工学院 | 一种伯努利实验设备用自动清洗装置 |
| CN113058925A (zh) * | 2021-03-22 | 2021-07-02 | 苏州工业园区时运精工有限公司 | 一种仪器仪表加工用清理装置 |
-
1992
- 1992-06-26 JP JP4169444A patent/JP3005117B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0611849A (ja) | 1994-01-21 |
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