JP3529850B2 - 電子写真感光体の製造方法 - Google Patents
電子写真感光体の製造方法Info
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- JP3529850B2 JP3529850B2 JP20137294A JP20137294A JP3529850B2 JP 3529850 B2 JP3529850 B2 JP 3529850B2 JP 20137294 A JP20137294 A JP 20137294A JP 20137294 A JP20137294 A JP 20137294A JP 3529850 B2 JP3529850 B2 JP 3529850B2
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Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、電子写真感光体および
その製造方法に関するものであり、詳しくは、電気特性
の不均一性を抑制し且つ環境特性の改良された電子写真
感光体およびその製造方法に関するものである。
その製造方法に関するものであり、詳しくは、電気特性
の不均一性を抑制し且つ環境特性の改良された電子写真
感光体およびその製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】一般に、電子写真感光体は、円筒状導電
性基体に感光層を形成して構成され、円筒状導電性基体
に使用される材料としては、アルミニウム、アルミニウ
ム合金、鉄、ステンレス、銅、亜鉛、ニッケル、導電化
処理したプラスチック、ガラス等が挙げられる。以下、
円筒状導電性基体を単に基体と略記する。
性基体に感光層を形成して構成され、円筒状導電性基体
に使用される材料としては、アルミニウム、アルミニウ
ム合金、鉄、ステンレス、銅、亜鉛、ニッケル、導電化
処理したプラスチック、ガラス等が挙げられる。以下、
円筒状導電性基体を単に基体と略記する。
【０００３】上記の基体は、その表面を清浄化して使用
される。例えば、アルミニウム基体の場合は、その加工
工程で付着した油分を洗浄する必要があり、その他の材
料から成る基体の場合にも、適宜、必要な洗浄処理が行
なわれる。
される。例えば、アルミニウム基体の場合は、その加工
工程で付着した油分を洗浄する必要があり、その他の材
料から成る基体の場合にも、適宜、必要な洗浄処理が行
なわれる。
【０００４】ところで、従来、上記の清浄化処理には、
１，１，１−トリクロルエタンやトリクロルエチレンを
初めとする各種の有機溶剤が使用されていたが、環境規
制などの観点から、その使用は制限され、その代替品と
して、水系洗浄剤を使用した処理が行なわれつつある。
１，１，１−トリクロルエタンやトリクロルエチレンを
初めとする各種の有機溶剤が使用されていたが、環境規
制などの観点から、その使用は制限され、その代替品と
して、水系洗浄剤を使用した処理が行なわれつつある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、水系洗
浄剤で処理された基体を使用した電子写真感光体は、そ
の電気特性に不均一性が生じたり、高温高湿下での環境
特性が悪化するため、実用に耐えないことが多く、その
改良が望まれている。本発明は、斯かる実情に鑑みなさ
れたものであり、その目的は、電気特性の不均一性を抑
制し且つ環境特性の改良された電子写真感光体およびそ
の製造方法を提供することにある。
浄剤で処理された基体を使用した電子写真感光体は、そ
の電気特性に不均一性が生じたり、高温高湿下での環境
特性が悪化するため、実用に耐えないことが多く、その
改良が望まれている。本発明は、斯かる実情に鑑みなさ
れたものであり、その目的は、電気特性の不均一性を抑
制し且つ環境特性の改良された電子写真感光体およびそ
の製造方法を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明の要旨
は、アルミニウム基体の表面を水系洗浄剤で処理した後
に当該アルミニウム基体の表面に感光層を形成する電子
写真感光体の製造方法において、アルミニウム基体を水
系洗浄剤で処理した後に、当該アルミニウム基体の表面
を６０〜１００℃の温度で１〜６０分に亘り純水もしく
はイオン交換水に浸漬することによって水和酸化処理
し、その後、更に、ｐＨ７〜９に調節され、珪酸塩溶液
の濃度が１０ −５ 〜１０ −１ ｍｏｌ／ｌの範囲である珪
酸塩溶液中で３０〜９５℃の温度で１０秒から３０分珪
酸塩処理することを特徴とする電子写真感光体の製造方
法に存する。
は、アルミニウム基体の表面を水系洗浄剤で処理した後
に当該アルミニウム基体の表面に感光層を形成する電子
写真感光体の製造方法において、アルミニウム基体を水
系洗浄剤で処理した後に、当該アルミニウム基体の表面
を６０〜１００℃の温度で１〜６０分に亘り純水もしく
はイオン交換水に浸漬することによって水和酸化処理
し、その後、更に、ｐＨ７〜９に調節され、珪酸塩溶液
の濃度が１０ −５ 〜１０ −１ ｍｏｌ／ｌの範囲である珪
酸塩溶液中で３０〜９５℃の温度で１０秒から３０分珪
酸塩処理することを特徴とする電子写真感光体の製造方
法に存する。
【０００７】以下、本発明を詳細に説明する。本発明で
使用される基体としては、アルミニウム、アルミニウム
合金、鉄、ステンレス、銅、亜鉛、ニッケル、導電化処
理したプラスチック、ガラス等が挙げられるが、主に、
アルミニウム又はアルミニウム合金が使用される。これ
らのアルミニウム基体は、インパクト加工、しごき加工
または切削加工を行うことにより得ることが出来る。
使用される基体としては、アルミニウム、アルミニウム
合金、鉄、ステンレス、銅、亜鉛、ニッケル、導電化処
理したプラスチック、ガラス等が挙げられるが、主に、
アルミニウム又はアルミニウム合金が使用される。これ
らのアルミニウム基体は、インパクト加工、しごき加工
または切削加工を行うことにより得ることが出来る。
【０００８】本発明においては、基体の表面を清浄化す
るため、水系洗浄剤で基体を処理する。斯かる処理は、
例えば、アルミニウム基体の場合、その表面に、引抜
油、切削油、空気中のダスト、切粉などが付着している
ため、主として、脱脂処理のために行なわれる。また、
アルミニウム基体の場合、脱脂洗浄処理後に水洗処理や
必要に応じて水和酸化処理などが行われる。以下、各処
理を説明するが、これらの処理の順序や回数は、必要に
応じて任意に設定してもよい。
るため、水系洗浄剤で基体を処理する。斯かる処理は、
例えば、アルミニウム基体の場合、その表面に、引抜
油、切削油、空気中のダスト、切粉などが付着している
ため、主として、脱脂処理のために行なわれる。また、
アルミニウム基体の場合、脱脂洗浄処理後に水洗処理や
必要に応じて水和酸化処理などが行われる。以下、各処
理を説明するが、これらの処理の順序や回数は、必要に
応じて任意に設定してもよい。
【０００９】脱脂洗浄処理：アルミニウム基体は、脱脂
槽にて処理される。脱脂洗浄処理に使用する水系洗浄剤
としては、公知の処理方法を使用することが出来る。例
えば、純水を使用した処理、イオン性または非イオン性
の界面活性剤を含有した水溶液による処理、炭化水素系
溶剤または高級アルコール類のエマルジョンの処理など
が挙げられる。また、化学エッチング等の化学処理、ブ
ラシを基体に押しつけてするブラシ処理、水を基体に向
けて高圧で噴出させるジェットスプレー処理、超音波を
使用した超音波洗浄などの物理処理、更に、これらを適
宜組み合わせた処理を挙げることが出来る。
槽にて処理される。脱脂洗浄処理に使用する水系洗浄剤
としては、公知の処理方法を使用することが出来る。例
えば、純水を使用した処理、イオン性または非イオン性
の界面活性剤を含有した水溶液による処理、炭化水素系
溶剤または高級アルコール類のエマルジョンの処理など
が挙げられる。また、化学エッチング等の化学処理、ブ
ラシを基体に押しつけてするブラシ処理、水を基体に向
けて高圧で噴出させるジェットスプレー処理、超音波を
使用した超音波洗浄などの物理処理、更に、これらを適
宜組み合わせた処理を挙げることが出来る。
【００１０】脱脂槽には、例えば、界面活性剤を含有す
る洗浄剤が満たされている。洗浄剤は、ヒーターにより
一定温度に保温され、且つ、脱脂槽下部には、超音波発
振器が備え付けられており、アルミニウム基体の浸漬時
には超音波が発振される様になっている。なお、必要に
応じてアルミニウム基体を揺動または回転させてもよ
い。
る洗浄剤が満たされている。洗浄剤は、ヒーターにより
一定温度に保温され、且つ、脱脂槽下部には、超音波発
振器が備え付けられており、アルミニウム基体の浸漬時
には超音波が発振される様になっている。なお、必要に
応じてアルミニウム基体を揺動または回転させてもよ
い。
【００１１】脱脂槽の処理温度は、３０〜８０℃、好ま
しくは４０〜７０℃の範囲に設定されるのがよい。処理
温度が３０℃より低い場合は、脱脂性が劣るため洗浄ム
ラが発生し易い。処理温度が８０℃を超える場合は、乾
燥ムラが発生し易く感光層の形成時に塗布ムラが発生し
易いので好ましくない。
しくは４０〜７０℃の範囲に設定されるのがよい。処理
温度が３０℃より低い場合は、脱脂性が劣るため洗浄ム
ラが発生し易い。処理温度が８０℃を超える場合は、乾
燥ムラが発生し易く感光層の形成時に塗布ムラが発生し
易いので好ましくない。
【００１２】脱脂槽での処理時間は、１０秒〜３０分、
好ましくは３０秒〜１０分の範囲がよい。処理時間が１
０秒より短い場合は、脱脂性が不十分のため外観ムラが
発生し易い。処理温度が３０分を超える場合は、洗浄力
が落ちたりエロージョン等の洗浄ムラが発生し易いので
好ましくない。
好ましくは３０秒〜１０分の範囲がよい。処理時間が１
０秒より短い場合は、脱脂性が不十分のため外観ムラが
発生し易い。処理温度が３０分を超える場合は、洗浄力
が落ちたりエロージョン等の洗浄ムラが発生し易いので
好ましくない。
【００１３】水洗処理：脱脂洗浄処理後のアルミニウム
基体は、水洗槽にて水洗処理が行われる。水洗には水道
水を使用してもよいが、純水またはイオン交換水を使用
するのが好ましい。水洗処理としては、水洗槽にこれら
の水を満たしアルミニウム基体を浸漬して水洗する。ま
たは、スプレーでアルミニウム基体をシャワーリングし
てもよい。更に、両者の組合せによる水洗でもよい。な
お、浸漬して水洗する場合は、超音波で処理すると、ア
ルミニウム基体表面の付着物が基体表面より容易に分離
されて水中に拡散されるので好ましい。
基体は、水洗槽にて水洗処理が行われる。水洗には水道
水を使用してもよいが、純水またはイオン交換水を使用
するのが好ましい。水洗処理としては、水洗槽にこれら
の水を満たしアルミニウム基体を浸漬して水洗する。ま
たは、スプレーでアルミニウム基体をシャワーリングし
てもよい。更に、両者の組合せによる水洗でもよい。な
お、浸漬して水洗する場合は、超音波で処理すると、ア
ルミニウム基体表面の付着物が基体表面より容易に分離
されて水中に拡散されるので好ましい。
【００１４】水和酸化処理：水洗処理後のアルミニウム
基体を６０〜１００℃の範囲の純水もしくはイオン交換
水に浸漬し、水和酸化皮膜を形成させる。この場合、酸
化皮膜を厚くするため、エチルアミン、ジエチルアミ
ン、トリエチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタ
ノールアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミノ
エタノール、トリエチレンテトラアミン、ヘキサメチレ
ンテトラアミン、トリエチレンテトラアミン、ヘキサメ
チレンテトラアミン、エチレンジアミン、アンモニア等
を添加してもよい。
基体を６０〜１００℃の範囲の純水もしくはイオン交換
水に浸漬し、水和酸化皮膜を形成させる。この場合、酸
化皮膜を厚くするため、エチルアミン、ジエチルアミ
ン、トリエチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタ
ノールアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミノ
エタノール、トリエチレンテトラアミン、ヘキサメチレ
ンテトラアミン、トリエチレンテトラアミン、ヘキサメ
チレンテトラアミン、エチレンジアミン、アンモニア等
を添加してもよい。
【００１５】水和酸化の処理時間は、１〜６０分、好ま
しくは３〜２０分の範囲に設定されるのがよい。処理時
間が１分より短い場合は、水和酸化皮膜が均一に形成さ
れない場合がある。処理時間が６０分より長い場合は、
酸化皮膜がそれ以上成長しないので製造上好ましくな
い。
しくは３〜２０分の範囲に設定されるのがよい。処理時
間が１分より短い場合は、水和酸化皮膜が均一に形成さ
れない場合がある。処理時間が６０分より長い場合は、
酸化皮膜がそれ以上成長しないので製造上好ましくな
い。
【００１６】本発明においては、上記のように、少なく
とも、水系洗浄剤で処理された基体の表面を珪酸塩溶液
で処理することを特徴とする。珪酸塩としては、オルト
ケイ酸塩、メタケイ酸塩が挙げられ、塩には、ナトリウ
ム塩、カリウム塩が挙げられる。溶液としては、水溶液
が好適に使用される。
とも、水系洗浄剤で処理された基体の表面を珪酸塩溶液
で処理することを特徴とする。珪酸塩としては、オルト
ケイ酸塩、メタケイ酸塩が挙げられ、塩には、ナトリウ
ム塩、カリウム塩が挙げられる。溶液としては、水溶液
が好適に使用される。
【００１７】珪酸塩溶液の濃度としては、１０-5〜１０
-1ｍｏｌ／ｌの範囲が好ましい。１０-5ｍｏｌ／ｌより
低い場合は、所望の効果が得られない。また、１０-1ｍ
ｏｌ／ｌより高い場合は、効果が飽和されるため不経済
である。
-1ｍｏｌ／ｌの範囲が好ましい。１０-5ｍｏｌ／ｌより
低い場合は、所望の効果が得られない。また、１０-1ｍ
ｏｌ／ｌより高い場合は、効果が飽和されるため不経済
である。
【００１８】珪酸塩処理の温度は、３０〜９５℃の範囲
に設定されるのが好ましい。処理温度が３０℃より低い
場合は、珪酸塩の溶解度が低くなるため所望の効果が得
られない。また、処理温度が９５℃を超える場合は、乾
燥ムラが発生し易いので好ましくない。
に設定されるのが好ましい。処理温度が３０℃より低い
場合は、珪酸塩の溶解度が低くなるため所望の効果が得
られない。また、処理温度が９５℃を超える場合は、乾
燥ムラが発生し易いので好ましくない。
【００１９】珪酸塩処理の時間は、１０秒〜３０分、好
ましくは３０秒〜１０分の範囲である。処理時間が１０
秒より短い場合は、所望の効果が得られない。また、処
理時間が３０分より長い場合は、その効果が飽和される
ため製造上好ましくない。なお、珪酸塩処理液に硫酸や
酢酸などを添加し、ｐＨを７〜９に調整して使用するの
が好ましい。ｐＨがこの範囲から外れると、アルミニウ
ム基体が溶解されるからである。
ましくは３０秒〜１０分の範囲である。処理時間が１０
秒より短い場合は、所望の効果が得られない。また、処
理時間が３０分より長い場合は、その効果が飽和される
ため製造上好ましくない。なお、珪酸塩処理液に硫酸や
酢酸などを添加し、ｐＨを７〜９に調整して使用するの
が好ましい。ｐＨがこの範囲から外れると、アルミニウ
ム基体が溶解されるからである。
【００２０】上記の水洗処理、水和酸化処理および珪酸
塩処理において、純水またはイオン交換水を使用する場
合は、その比抵抗を１ＭΩ・ｃｍ以上とするのが好まし
い。
塩処理において、純水またはイオン交換水を使用する場
合は、その比抵抗を１ＭΩ・ｃｍ以上とするのが好まし
い。
【００２１】珪酸塩処理後のアルミニウム基体は、乾燥
処理により基体表面に付着している水分が除去される。
乾燥手段としては、湯上げ乾燥、熱風乾燥または赤外線
乾燥などが挙げられるが、基体表面の水分を除去する方
法であれば手段は問わない。
処理により基体表面に付着している水分が除去される。
乾燥手段としては、湯上げ乾燥、熱風乾燥または赤外線
乾燥などが挙げられるが、基体表面の水分を除去する方
法であれば手段は問わない。
【００２２】湯上げ乾燥の場合は、ヒーターにより一定
温度に保温された純水またはイオン交換水にアルミニウ
ム基体を浸漬後、一定速度で引き上げて乾燥する。熱風
乾燥の場合は、ヒーターにより一定温度に加熱された空
気を使用し、アルミニウム基体表面の水分を除去する。
また、赤外線乾燥の場合は、赤外線ヒーターをアルミニ
ウム基体と対向する位置に取付け、アルミニウム基体を
均等に加熱して水分を除去する。
温度に保温された純水またはイオン交換水にアルミニウ
ム基体を浸漬後、一定速度で引き上げて乾燥する。熱風
乾燥の場合は、ヒーターにより一定温度に加熱された空
気を使用し、アルミニウム基体表面の水分を除去する。
また、赤外線乾燥の場合は、赤外線ヒーターをアルミニ
ウム基体と対向する位置に取付け、アルミニウム基体を
均等に加熱して水分を除去する。
【００２３】次に、上記のようにして処理されたアルミ
ニウム基体上には、電荷発生層および電荷移動層よりな
る積層型感光層が設けられる。電荷発生層および電荷移
動層は、これらを構成する物質をそれぞれ含有する塗布
液を使用し、スプレー法や浸漬塗布方法などにより、ア
ルミニウム基体の表面に形成される。
ニウム基体上には、電荷発生層および電荷移動層よりな
る積層型感光層が設けられる。電荷発生層および電荷移
動層は、これらを構成する物質をそれぞれ含有する塗布
液を使用し、スプレー法や浸漬塗布方法などにより、ア
ルミニウム基体の表面に形成される。
【００２４】電荷発生層に使用する感光体としては、セ
レン及びその合金、ヒ素−セレン、硫化カドミウム、酸
化亜鉛、その他の無機感光体、フタロシアニン、アゾ、
キナクリドン、多環キノン、ペリレン、インジゴ、ベン
ズイミダゾール等の有機顔料を使用することが出来る。
特に、銅、塩化インジウム、塩化カリウム、スズ、オキ
シチタニウム、亜鉛、バナジウム等の金属またはその酸
化物や塩化物の配位したフタロシアニン類、無金属フタ
ロシアニン類、または、モノアゾ、ビスアゾ、トリスア
ゾ、ポリアゾ類などのアゾ顔料が好ましい。
レン及びその合金、ヒ素−セレン、硫化カドミウム、酸
化亜鉛、その他の無機感光体、フタロシアニン、アゾ、
キナクリドン、多環キノン、ペリレン、インジゴ、ベン
ズイミダゾール等の有機顔料を使用することが出来る。
特に、銅、塩化インジウム、塩化カリウム、スズ、オキ
シチタニウム、亜鉛、バナジウム等の金属またはその酸
化物や塩化物の配位したフタロシアニン類、無金属フタ
ロシアニン類、または、モノアゾ、ビスアゾ、トリスア
ゾ、ポリアゾ類などのアゾ顔料が好ましい。
【００２５】電荷発生層は、これらの物質の均一層とし
て又はバインダー中に微粒子で分散した状態で形成され
る。バインダー樹脂としては、ポリビニルブチラール、
フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ア
クリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩
化ビニル、メチルセルロース、ポリカーボネート樹脂な
どが挙げられる。
て又はバインダー中に微粒子で分散した状態で形成され
る。バインダー樹脂としては、ポリビニルブチラール、
フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ア
クリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩
化ビニル、メチルセルロース、ポリカーボネート樹脂な
どが挙げられる。
【００２６】電荷発生層は、バインダー樹脂１００重量
部に対し、上記感光体を２０〜３００重量部の範囲含有
させることが好ましく、特に、３０〜１５０重量部の範
囲が好ましい。また、電荷発生層の膜厚は、通常、５μ
ｍ以下、好ましくは０．０１〜１μｍの範囲である。
部に対し、上記感光体を２０〜３００重量部の範囲含有
させることが好ましく、特に、３０〜１５０重量部の範
囲が好ましい。また、電荷発生層の膜厚は、通常、５μ
ｍ以下、好ましくは０．０１〜１μｍの範囲である。
【００２７】電荷移動層に使用する電荷移動材料として
は、ポリビニルカルバゾール、ポリビニルピレン、ポリ
アセナフチレン等の高分子化合物、または、各種ピラゾ
リン誘導体、オキサゾール誘導体、ヒドラゾン誘導体、
スチルベン誘導体などの低分子化合物が使用できる。
は、ポリビニルカルバゾール、ポリビニルピレン、ポリ
アセナフチレン等の高分子化合物、または、各種ピラゾ
リン誘導体、オキサゾール誘導体、ヒドラゾン誘導体、
スチルベン誘導体などの低分子化合物が使用できる。
【００２８】これらの電荷移動材料と共に必要に応じて
バインダー樹脂が配合される。好ましいバインダー樹脂
としては、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、
ポリ塩化ビニル等のビニル重合体およびその共重合体、
ポリカーボネート、ポリエステル、ポリスルホン、フェ
ノキシ樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂などが挙げ
られる。また、これらの部分的架橋硬化物も使用され
る。
バインダー樹脂が配合される。好ましいバインダー樹脂
としては、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、
ポリ塩化ビニル等のビニル重合体およびその共重合体、
ポリカーボネート、ポリエステル、ポリスルホン、フェ
ノキシ樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂などが挙げ
られる。また、これらの部分的架橋硬化物も使用され
る。
【００２９】上記電荷移動材料は、バインダー樹脂１０
０重量部に対し、３０〜２００重量部、特に、５０〜１
５０重量部の範囲含有させることが好ましい。
０重量部に対し、３０〜２００重量部、特に、５０〜１
５０重量部の範囲含有させることが好ましい。
【００３０】また、電荷移動層には、必要に応じて酸化
防止剤、増感剤などの添加剤を含んでいてもよい。電荷
移動層の膜厚は、通常、１０〜４０μｍ、好ましくは１
３〜２５μｍの範囲とされる。
防止剤、増感剤などの添加剤を含んでいてもよい。電荷
移動層の膜厚は、通常、１０〜４０μｍ、好ましくは１
３〜２５μｍの範囲とされる。
【００３１】なお、感光層の他の例として、バインダー
樹脂と上記の電荷移動材料から成る結合剤中に前記の感
光体粒子を分散させた分散型感光層がある。この場合、
感光体と電荷移動材料の合計量は、バインダー樹脂１０
０重量部に対し、２０〜２００重量部の範囲が好まし
く、特に、４０〜１５０重量部の範囲が好ましい。
樹脂と上記の電荷移動材料から成る結合剤中に前記の感
光体粒子を分散させた分散型感光層がある。この場合、
感光体と電荷移動材料の合計量は、バインダー樹脂１０
０重量部に対し、２０〜２００重量部の範囲が好まし
く、特に、４０〜１５０重量部の範囲が好ましい。
【００３２】本発明の電子写真感光体は、上記のように
して製造され、珪酸塩溶液で表面処理された基体上に感
光層を形成して成り、後述の実施例に示すように、電気
特性の不均一性が抑制され且つ環境特性が改良された特
徴を有する。
して製造され、珪酸塩溶液で表面処理された基体上に感
光層を形成して成り、後述の実施例に示すように、電気
特性の不均一性が抑制され且つ環境特性が改良された特
徴を有する。
【００３３】
【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明は、その要旨を超えない限り、以下の実施
例に限定されるものではない。
るが、本発明は、その要旨を超えない限り、以下の実施
例に限定されるものではない。
【００３４】参考例１
水系洗剤「マックスクリーンＮＧ−３０」（キザイ
（株）製）の３０ｇ／ｌの水溶液中に表面を鏡面仕上げ
した肉厚１ｍｍのアルミニウム基体を浸漬し、超音波を
照射しながら、５５℃で５分間脱脂洗浄を行い、比抵抗
が１ＭΩ・ｃｍ以上の純水を使用して水洗した。次に、
希硫酸によりｐＨ７．５に調整したオルト珪酸ソーダ
（２Ｎａ2 Ｏ・ＳｉＯ2 ・ｎＨ2 Ｏ）の１０-3ｍｏｌ／
ｌ水溶液にアルニウム基体を浸漬し、９３℃で５分間珪
酸塩処理を行い、十分水洗した後、９５℃の熱風で乾燥
した。
（株）製）の３０ｇ／ｌの水溶液中に表面を鏡面仕上げ
した肉厚１ｍｍのアルミニウム基体を浸漬し、超音波を
照射しながら、５５℃で５分間脱脂洗浄を行い、比抵抗
が１ＭΩ・ｃｍ以上の純水を使用して水洗した。次に、
希硫酸によりｐＨ７．５に調整したオルト珪酸ソーダ
（２Ｎａ2 Ｏ・ＳｉＯ2 ・ｎＨ2 Ｏ）の１０-3ｍｏｌ／
ｌ水溶液にアルニウム基体を浸漬し、９３℃で５分間珪
酸塩処理を行い、十分水洗した後、９５℃の熱風で乾燥
した。
【００３５】電荷発生体としてのビスアゾ化合物１重量
部にジメトキシエタン２０重量部を加え、サンドグライ
ンダーで分散した。ポリビニルアセタール樹脂（電気化
学工業（株）製、商品名「電荷ブチラール＃６０００
Ｃ」）０．５重量部をジメトキシエタン１０重量部に溶
解した溶液に上記の分散液を加え、電荷発生層用分散液
を得た。
部にジメトキシエタン２０重量部を加え、サンドグライ
ンダーで分散した。ポリビニルアセタール樹脂（電気化
学工業（株）製、商品名「電荷ブチラール＃６０００
Ｃ」）０．５重量部をジメトキシエタン１０重量部に溶
解した溶液に上記の分散液を加え、電荷発生層用分散液
を得た。
【００３６】上記の電荷発生層用分散液に、洗浄処理し
たアルミニウム基体を浸漬し、乾燥後の膜厚が０．６３
μｍになるように電荷発生層を設けた。一方、テトラヒ
ドロフラン５００重量部に電荷移動材料として次の化学
式〔化１〕に示すヒドラゾン化合物１１０重量部、〔化
２〕に示すポリカーボネート樹脂（粒度平均分子量：約
２２０００）１００重量部およびフェノール化合物８重
量部を溶解した。この溶解液に電荷発生層を設けたアル
ミニウム基体を浸漬し、１２５℃で２０分間乾燥し、乾
燥後の膜厚が２１μｍになるように電荷移動層を設け、
電子写真感光体を得た。
たアルミニウム基体を浸漬し、乾燥後の膜厚が０．６３
μｍになるように電荷発生層を設けた。一方、テトラヒ
ドロフラン５００重量部に電荷移動材料として次の化学
式〔化１〕に示すヒドラゾン化合物１１０重量部、〔化
２〕に示すポリカーボネート樹脂（粒度平均分子量：約
２２０００）１００重量部およびフェノール化合物８重
量部を溶解した。この溶解液に電荷発生層を設けたアル
ミニウム基体を浸漬し、１２５℃で２０分間乾燥し、乾
燥後の膜厚が２１μｍになるように電荷移動層を設け、
電子写真感光体を得た。
【００３７】
【化１】
【００３８】
【化２】
【００３９】温度／湿度が５℃／１０％、２５℃／５０
％、３５℃／８５％の各環境下において、得られた電子
写真感光体を暗所に置き、先ず、コロナ帯電器で−６０
０Ｖに帯電し、次いで、ハロゲンランプ及びＴＮＤフィ
ルターを使用し、０．４８、０．７５、１．００、１．
３０ｌｕｘ・ｓｅｃの各光量で露光した時の表面電位を
測定し、環境特性を評価した。結果を表１に示す。
％、３５℃／８５％の各環境下において、得られた電子
写真感光体を暗所に置き、先ず、コロナ帯電器で−６０
０Ｖに帯電し、次いで、ハロゲンランプ及びＴＮＤフィ
ルターを使用し、０．４８、０．７５、１．００、１．
３０ｌｕｘ・ｓｅｃの各光量で露光した時の表面電位を
測定し、環境特性を評価した。結果を表１に示す。
【００４０】
【表１】
【００４１】参考例２ 参考例１
において、珪酸塩処理を除いた以外は、参考例
１と同様な方法により、電子写真感光体を得て表面電位
を測定した。結果を表２に示す。
１と同様な方法により、電子写真感光体を得て表面電位
を測定した。結果を表２に示す。
【００４２】
【表２】
【００４３】表１〜２により、本発明の珪酸塩処理をし
た電子写真感光体を使用した場合、珪酸塩処理なしの比
較例１と比べ、環境特性が改良されことが分かった。ま
た、環境変化の影響を受け難くなることが分かった。
た電子写真感光体を使用した場合、珪酸塩処理なしの比
較例１と比べ、環境特性が改良されことが分かった。ま
た、環境変化の影響を受け難くなることが分かった。
【００４４】実施例１ 参考例１
において、珪酸塩処理の前処理として水和酸化
処理を行った以外は、参考例１と同様な方法により、電
子写真感光体を得た。水和酸化処理は、アルミニウム基
体を比抵抗が１ＭΩ・ｃｍ以上の純水に浸漬し、９５℃
で５分間処理した。電子写真感光体の表面電位を測定し
た。結果を表３に示す。
処理を行った以外は、参考例１と同様な方法により、電
子写真感光体を得た。水和酸化処理は、アルミニウム基
体を比抵抗が１ＭΩ・ｃｍ以上の純水に浸漬し、９５℃
で５分間処理した。電子写真感光体の表面電位を測定し
た。結果を表３に示す。
【００４５】
【表３】
【００４６】比較例１ 実施例１
において、珪酸塩処理を除いた以外は、実施例
１と同様の方法により、電子写真感光体を得て表面電位
を測定した。結果を表４に示す。
１と同様の方法により、電子写真感光体を得て表面電位
を測定した。結果を表４に示す。
【００４７】
【表４】
【００４８】表３〜４により、本発明の水和酸化処理お
よび珪酸塩処理をした電子写真感光体を使用した場合、
珪酸塩処理なしの比較例１と比べ、環境特性が改良され
ことが分かった。また、環境変化の影響を受け難くなる
ことが分かった。
よび珪酸塩処理をした電子写真感光体を使用した場合、
珪酸塩処理なしの比較例１と比べ、環境特性が改良され
ことが分かった。また、環境変化の影響を受け難くなる
ことが分かった。
【００４９】
【発明の効果】本発明の方法によれば、珪酸塩溶液で導
電性基体を処理することにより、アルミニウム基体を使
用した電子写真感光体の電気特性の不均一性は抑制され
且つ環境特性も改良される。
電性基体を処理することにより、アルミニウム基体を使
用した電子写真感光体の電気特性の不均一性は抑制され
且つ環境特性も改良される。
フロントページの続き
(56)参考文献 特開 昭60−174864（ＪＰ，Ａ)
特開 昭60−166956（ＪＰ，Ａ)
特開 平６−202363（ＪＰ，Ａ)
特開 平６−89033（ＪＰ，Ａ)
特開 平５−40356（ＪＰ，Ａ)
特開 平２−111955（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
G03G 5/00
Claims (2)
- 【請求項１】 アルミニウム基体の表面を水系洗浄剤で
処理した後に当該アルミニウム基体の表面に感光層を形
成する電子写真感光体の製造方法において、アルミニウ
ム基体を水系洗浄剤で処理した後に、当該アルミニウム
基体の表面を６０〜１００℃の温度で１〜６０分に亘り
純水もしくはイオン交換水に浸漬することによって水和
酸化処理し、その後、更に、ｐＨ７〜９に調節され、珪
酸塩溶液の濃度が１０−５〜１０−１ｍｏｌ／ｌの範囲
である珪酸塩溶液中で３０〜９５℃の温度で１０秒から
３０分珪酸塩処理することを特徴とする電子写真感光体
の製造方法。 - 【請求項２】 珪酸塩がナトリウム塩またはカリウム塩
である請求項１に記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20137294A JP3529850B2 (ja) | 1994-08-03 | 1994-08-03 | 電子写真感光体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20137294A JP3529850B2 (ja) | 1994-08-03 | 1994-08-03 | 電子写真感光体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0844090A JPH0844090A (ja) | 1996-02-16 |
| JP3529850B2 true JP3529850B2 (ja) | 2004-05-24 |
Family
ID=16439983
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20137294A Expired - Fee Related JP3529850B2 (ja) | 1994-08-03 | 1994-08-03 | 電子写真感光体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3529850B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3740795B2 (ja) * | 1997-06-26 | 2006-02-01 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | 電子写真感光体基体の洗浄方法及び電子写真感光体の製造方法 |
| US6156472A (en) * | 1997-11-06 | 2000-12-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of manufacturing electrophotographic photosensitive member |
| JP3890153B2 (ja) * | 1997-12-26 | 2007-03-07 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体の製造方法及び製造装置 |
| US6406554B1 (en) | 1997-12-26 | 2002-06-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Method and apparatus for producing electrophotographic photosensitive member |
-
1994
- 1994-08-03 JP JP20137294A patent/JP3529850B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0844090A (ja) | 1996-02-16 |
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