JPH0328705B2 - - Google Patents
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- JPH0328705B2 JPH0328705B2 JP58101000A JP10100083A JPH0328705B2 JP H0328705 B2 JPH0328705 B2 JP H0328705B2 JP 58101000 A JP58101000 A JP 58101000A JP 10100083 A JP10100083 A JP 10100083A JP H0328705 B2 JPH0328705 B2 JP H0328705B2
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
（技術分野）
本発明は電子写真用感光体、特に機能分離型電
子写真用感光体の製造方法に関するものである。
子写真用感光体の製造方法に関するものである。
（従来技術）
従来、有機電荷発生材料を電荷発生層として有
する機能分離型電子写真用感光体は、例えば第１
図に示すようにアルミニウム等の導電性基板１１
の上に電荷発生層１２として有機電荷発生材料の
薄膜を真空蒸着あるいは溶液コーテイング法で形
成し、この電荷発生層１２上に更に有機物電荷輸
送層１３を溶液コーテイング法で形成している。
する機能分離型電子写真用感光体は、例えば第１
図に示すようにアルミニウム等の導電性基板１１
の上に電荷発生層１２として有機電荷発生材料の
薄膜を真空蒸着あるいは溶液コーテイング法で形
成し、この電荷発生層１２上に更に有機物電荷輸
送層１３を溶液コーテイング法で形成している。
かかる構成の機能分離型電子写真用感光体に用
いる導電性基板１１としては一般にアルミニウム
材料が用いられ、また感光体の帯電能を向上させ
るために陽極酸化処理を行うことが多い。そして
陽極酸化処理を施したままの表面は非常に吸着性
に富み仮りに有機物、油脂などによつて汚染され
るとその汚れが著しく除去困難となり、そこで一
般には封孔処理を行い該表面を不活性化して基板
として用いるのが普通である。
いる導電性基板１１としては一般にアルミニウム
材料が用いられ、また感光体の帯電能を向上させ
るために陽極酸化処理を行うことが多い。そして
陽極酸化処理を施したままの表面は非常に吸着性
に富み仮りに有機物、油脂などによつて汚染され
るとその汚れが著しく除去困難となり、そこで一
般には封孔処理を行い該表面を不活性化して基板
として用いるのが普通である。
さらにこの電荷発生層１２は、フタロシアニン
系またはメロシアニン系などの有機材料を真空蒸
着法により厚さ0.1〜0.5μｍに形成した薄膜、ま
たはクロロダイアンブルー，スクウアリリウム酸
誘導体、トリフエニルメタン系色素などの有機材
料を有機溶媒に溶解しこれらをドクターブレード
法などの溶液コーテイングにより形成した薄膜で
あつて、その乾燥厚さは概ね１〜3μｍが普通で
ある。次に電荷輸送層１３は、ポリ−Ｎ−ビニル
カルバゾール，ポリカーボネート樹脂と混合した
ピラゾリン誘導体またはアクリル樹脂と混合した
ヒドラゾン誘導体などの溶液を溶液コーテイング
により形成した乾燥膜厚10〜20μｍの薄膜で構成
される。
系またはメロシアニン系などの有機材料を真空蒸
着法により厚さ0.1〜0.5μｍに形成した薄膜、ま
たはクロロダイアンブルー，スクウアリリウム酸
誘導体、トリフエニルメタン系色素などの有機材
料を有機溶媒に溶解しこれらをドクターブレード
法などの溶液コーテイングにより形成した薄膜で
あつて、その乾燥厚さは概ね１〜3μｍが普通で
ある。次に電荷輸送層１３は、ポリ−Ｎ−ビニル
カルバゾール，ポリカーボネート樹脂と混合した
ピラゾリン誘導体またはアクリル樹脂と混合した
ヒドラゾン誘導体などの溶液を溶液コーテイング
により形成した乾燥膜厚10〜20μｍの薄膜で構成
される。
以上述べた如き構成の従来の感光体を製造する
に際して、特に上記電荷発生層１２の形成のため
の真空蒸着法は、0.1〜0.5μｍと云う極く薄い膜
でもこれを容易に均一な膜厚として得られるが、
大がかりな真空装置を必要とするばかりでなくそ
の作業は非常に繁雑であり、かつ消費電力も大き
い等コスト高になる欠点がある。
に際して、特に上記電荷発生層１２の形成のため
の真空蒸着法は、0.1〜0.5μｍと云う極く薄い膜
でもこれを容易に均一な膜厚として得られるが、
大がかりな真空装置を必要とするばかりでなくそ
の作業は非常に繁雑であり、かつ消費電力も大き
い等コスト高になる欠点がある。
一方上記の溶液コーテイング法は、電荷発生用
材料だけでは膜を形成する能力がないことから成
膜用に重合体結合剤を添加する必要があり、従つ
てかかる方法により上記の電荷発生層を均一厚さ
でしかも0.1μｍ程度の極薄膜化することは非常に
難しく一般には1μｍ以上となるのが避け難い。
そして更に発生した電荷がトラツプされる確率が
大きくなりあるいは上記重合体結合剤の添加によ
り電荷の発生効率が低下するなどの欠点が免がれ
ない。
材料だけでは膜を形成する能力がないことから成
膜用に重合体結合剤を添加する必要があり、従つ
てかかる方法により上記の電荷発生層を均一厚さ
でしかも0.1μｍ程度の極薄膜化することは非常に
難しく一般には1μｍ以上となるのが避け難い。
そして更に発生した電荷がトラツプされる確率が
大きくなりあるいは上記重合体結合剤の添加によ
り電荷の発生効率が低下するなどの欠点が免がれ
ない。
（発明の目的）
ここに本発明者等は、導電性基板上に電荷発生
層を形成しこの上に電荷輸送層を形成した機能分
離型電子写真用感光体における上記の問題を解決
すべく試験研究を行つた結果、前記導電性基板に
アルミニウム基板を用い、陽極酸化処理を行つた
後これを上述の封孔処理を施さずに表面活性を保
ち低分子量の有機電荷発生材料と重合体結合剤と
の混合溶液に浸漬することにより、該陽極酸化処
理したアルミニウムの活性な表面に低分子である
有機電荷発生材料が吸着され、さらに基板を混合
溶液から引き上げ基板表面に付着している混合溶
液層の溶媒を飛散させることにより有機電荷発生
材料と重合体結合剤とからなる層による、電荷発
生層が効率的に形成され、しかもこれが機械的強
度に優れた特性の良い電子写真用感光体を与える
ことを見出しこの発明に到つたものである。
層を形成しこの上に電荷輸送層を形成した機能分
離型電子写真用感光体における上記の問題を解決
すべく試験研究を行つた結果、前記導電性基板に
アルミニウム基板を用い、陽極酸化処理を行つた
後これを上述の封孔処理を施さずに表面活性を保
ち低分子量の有機電荷発生材料と重合体結合剤と
の混合溶液に浸漬することにより、該陽極酸化処
理したアルミニウムの活性な表面に低分子である
有機電荷発生材料が吸着され、さらに基板を混合
溶液から引き上げ基板表面に付着している混合溶
液層の溶媒を飛散させることにより有機電荷発生
材料と重合体結合剤とからなる層による、電荷発
生層が効率的に形成され、しかもこれが機械的強
度に優れた特性の良い電子写真用感光体を与える
ことを見出しこの発明に到つたものである。
（発明の構成）
即ち本発明は、導電性基板上に電荷発生層を形
成し、この上に電荷輸送層を形成した機能分離型
電子写真用感光体において、前記導電性基板にア
ルミニウム基板を用い、該アルミニウム基板を陽
極酸化処理して該基板表面に陽極酸化膜を形成
し、該陽極酸化膜に封孔処理を施さずに、前記基
板表面を低分子量の有機電荷発生材料を高分子重
合体結合剤中に混合した混合溶液に浸漬し、前記
基板表面に有機電荷発生材料を吸着させ、さらに
その上に有機電荷発生材料と重合体結合剤とから
なる層を形成させ電荷発生層を形成するようにし
たことを特徴とする電子写真用感光体の製造方法
である。
成し、この上に電荷輸送層を形成した機能分離型
電子写真用感光体において、前記導電性基板にア
ルミニウム基板を用い、該アルミニウム基板を陽
極酸化処理して該基板表面に陽極酸化膜を形成
し、該陽極酸化膜に封孔処理を施さずに、前記基
板表面を低分子量の有機電荷発生材料を高分子重
合体結合剤中に混合した混合溶液に浸漬し、前記
基板表面に有機電荷発生材料を吸着させ、さらに
その上に有機電荷発生材料と重合体結合剤とから
なる層を形成させ電荷発生層を形成するようにし
たことを特徴とする電子写真用感光体の製造方法
である。
この発明において上記の有機電荷発生材料とし
ては、比較的低分子量のアンスラキノン系，ニト
ロソ系，モノアゾ系，ビスアゾ系，ザンセン系，
ピラゾロン系，トリフエニルメタン系，フタロシ
アニン系などの広範囲の有機電荷発生材料が使用
可能であるが、特にフタロシアニン系材料が好ま
しい電荷発生材料である。そして具体的には、次
式で示されるクロロインジウムフタロシアニンク
ロリド，ブロムインジウムフタロシアニンブロミ
ドが好ましい材料である。
ては、比較的低分子量のアンスラキノン系，ニト
ロソ系，モノアゾ系，ビスアゾ系，ザンセン系，
ピラゾロン系，トリフエニルメタン系，フタロシ
アニン系などの広範囲の有機電荷発生材料が使用
可能であるが、特にフタロシアニン系材料が好ま
しい電荷発生材料である。そして具体的には、次
式で示されるクロロインジウムフタロシアニンク
ロリド，ブロムインジウムフタロシアニンブロミ
ドが好ましい材料である。
（式中ＸはCl，Br）
そして重合体結合剤としてはポリ−Ｎ−ビニル
カルバゾール，ポリカーボネート樹脂，ポリエス
テル樹脂、アクリル樹脂などが特に好ましい。
カルバゾール，ポリカーボネート樹脂，ポリエス
テル樹脂、アクリル樹脂などが特に好ましい。
これらの有機電荷発生材料と重合体結合剤との
混合割合は該有機電荷発生材料１重量部に対して
重合体結合剤0.5〜５重量部としそれら混合溶液
の粘度が10〜50cps程度であるのが望ましい。そ
して更に該混合溶液の浸漬時の温度は30〜70℃が
望ましく又浸漬時間は30〜60分が適当である。
混合割合は該有機電荷発生材料１重量部に対して
重合体結合剤0.5〜５重量部としそれら混合溶液
の粘度が10〜50cps程度であるのが望ましい。そ
して更に該混合溶液の浸漬時の温度は30〜70℃が
望ましく又浸漬時間は30〜60分が適当である。
上記有機電荷発生材料の表面活性なアルミニウ
ム基板への選択的吸着を効率化する要因は、その
分子量の相対的に低いこと、更にその粘度及び温
度などでありこれらを種々に組合せることが必要
である。
ム基板への選択的吸着を効率化する要因は、その
分子量の相対的に低いこと、更にその粘度及び温
度などでありこれらを種々に組合せることが必要
である。
（実施例）
以下実施例によりこの発明を具体的に説明す
る。
る。
実施例 １
アルミニウム基板１１をあらかじめ50℃の界面
活性剤を添加した10％硫酸に浸漬して第１回目の
脱脂を行い、これを水洗し、次に水酸化ナトリウ
ム溶液に浸漬して第２回目の脱脂を行つた。その
後希硝酸に浸漬し水洗した。次に該脱脂処理後の
アルミニウム基板を陽極側として、10％硫酸中で
電流密度2A／ｄm2で電解した。この時の陽極酸
化膜の生成速度は0.3μｍ／分であつた。かかるア
ルミニウム基板の電解を10分間行い約3μｍの陽
極酸化膜１４が形成された。次にこの基板を水洗
乾燥した後、クロロインジウムフタロシアニンク
ロリド１ｇとポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール２ｇ
とをテトラヒドロフラン溶媒１に混合した処理
液（35℃）に浸漬し10分間処理した。このとき上
記陽極酸化処理したアルミニウム基板表面が非常
に活性であることから上述の低分子であるクロロ
インジウムフタロシアニンクロリドの吸着層１５
が形成され、他方重合体結合剤（ポリ−Ｎ−ビニ
ルカルバゾール）は高分子であるため殆んど吸着
は生じなかつた。
活性剤を添加した10％硫酸に浸漬して第１回目の
脱脂を行い、これを水洗し、次に水酸化ナトリウ
ム溶液に浸漬して第２回目の脱脂を行つた。その
後希硝酸に浸漬し水洗した。次に該脱脂処理後の
アルミニウム基板を陽極側として、10％硫酸中で
電流密度2A／ｄm2で電解した。この時の陽極酸
化膜の生成速度は0.3μｍ／分であつた。かかるア
ルミニウム基板の電解を10分間行い約3μｍの陽
極酸化膜１４が形成された。次にこの基板を水洗
乾燥した後、クロロインジウムフタロシアニンク
ロリド１ｇとポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール２ｇ
とをテトラヒドロフラン溶媒１に混合した処理
液（35℃）に浸漬し10分間処理した。このとき上
記陽極酸化処理したアルミニウム基板表面が非常
に活性であることから上述の低分子であるクロロ
インジウムフタロシアニンクロリドの吸着層１５
が形成され、他方重合体結合剤（ポリ−Ｎ−ビニ
ルカルバゾール）は高分子であるため殆んど吸着
は生じなかつた。
次に、このクロロインジウムフタロシアニンク
ロリドの吸着層が形成されたアルミニウム基板を
処理液から引き上げ、この場合該基板表面に処理
液が付着され溶媒を飛散させることにより上記吸
着層の上にクロロインジウムフタロシアニンクロ
リドと重合体結合剤とからなる被膜１６が得られ
た。続いてこれを十分に乾燥させた。
ロリドの吸着層が形成されたアルミニウム基板を
処理液から引き上げ、この場合該基板表面に処理
液が付着され溶媒を飛散させることにより上記吸
着層の上にクロロインジウムフタロシアニンクロ
リドと重合体結合剤とからなる被膜１６が得られ
た。続いてこれを十分に乾燥させた。
次にポリ−Ｎ−ビニルカルバゾールのテトラヒ
ドロフラン溶液をドクターブレードを用いて乾燥
厚さが10μｍになるようにコーテイングし、電荷
輸送層１３を形成し、80℃の空気恒温槽で３時間
加熱し含有溶媒を完全に除去した。
ドロフラン溶液をドクターブレードを用いて乾燥
厚さが10μｍになるようにコーテイングし、電荷
輸送層１３を形成し、80℃の空気恒温槽で３時間
加熱し含有溶媒を完全に除去した。
得られた電子写真用感光体の帯電特性を測定し
た結果、コロナ電圧−6KV時の初期表面電位V0
は600Vであり、このV0を半分にするのに必要な
露光量は、800nmの照射光を用いた場合1.5μJ／
cm2であり非常に高感度であつた。また残留電位は
50V以下と小さく良好な電子写真特性を示した。
た結果、コロナ電圧−6KV時の初期表面電位V0
は600Vであり、このV0を半分にするのに必要な
露光量は、800nmの照射光を用いた場合1.5μJ／
cm2であり非常に高感度であつた。また残留電位は
50V以下と小さく良好な電子写真特性を示した。
実施例 ２
クロロインジウムフタロシアニンクロリド１ｇ
とポリエステル樹脂１ｇとをテトラヒドロフラン
溶媒１中で混合し、処理液を作成しこれらを用
いた外は実施例１と全く同様に実施した。
とポリエステル樹脂１ｇとをテトラヒドロフラン
溶媒１中で混合し、処理液を作成しこれらを用
いた外は実施例１と全く同様に実施した。
得られた電子写真用感光体の帯電特性は初期表
面電位は800V，800nmでの半減露光量は2μJ／
cm2、残留電位は50Vであり実施例１と同様に良好
な特性を示した。
面電位は800V，800nmでの半減露光量は2μJ／
cm2、残留電位は50Vであり実施例１と同様に良好
な特性を示した。
更に上記ポリエステル樹脂の代りにポリカーボ
ネート樹脂、アクリル樹脂を用いて行つたが帯電
特性はほぼ同様に良好な結果を示した。
ネート樹脂、アクリル樹脂を用いて行つたが帯電
特性はほぼ同様に良好な結果を示した。
（発明の効果）
以上説明したように、本発明によれば陽極酸化
処理したアルミニウム基板を処理液に浸漬するだ
けで容易に電荷発生層が形成され、真空装置等の
大がかりな装置を必要とせず作業性が著しく向上
する。更に電荷発生材料の吸着層上に電荷発生材
料と重合体結合剤とからなる被膜が形成されてい
るために電荷発生層の剥離耐性を増し、しかもこ
の電荷発生層が上述の如く厚い形で得られ、光を
良く吸収でき電荷発生効率も良好であるなど機械
的強度の大きい特性のよい電子写真用感光体を容
易に製造し得る効果がある。
処理したアルミニウム基板を処理液に浸漬するだ
けで容易に電荷発生層が形成され、真空装置等の
大がかりな装置を必要とせず作業性が著しく向上
する。更に電荷発生材料の吸着層上に電荷発生材
料と重合体結合剤とからなる被膜が形成されてい
るために電荷発生層の剥離耐性を増し、しかもこ
の電荷発生層が上述の如く厚い形で得られ、光を
良く吸収でき電荷発生効率も良好であるなど機械
的強度の大きい特性のよい電子写真用感光体を容
易に製造し得る効果がある。
第１図は機能分離型感光体の断面図、第２図は
本発明の電子写真用感光体の断面説明図である。 １１……導電性基板、１２……電荷発生層、１
３……電荷輸送層、１４……陽極酸化処理層、１
５……電荷発生材料吸着層、１６……電荷発生材
料と重合体結合剤との被膜。
本発明の電子写真用感光体の断面説明図である。 １１……導電性基板、１２……電荷発生層、１
３……電荷輸送層、１４……陽極酸化処理層、１
５……電荷発生材料吸着層、１６……電荷発生材
料と重合体結合剤との被膜。
Claims (1)
- １ 導電性基板上に電荷発生層を形成し、この上
に電荷輸送層を形成した機能分離型電子写真用感
光体において、前記導電性基板にアルミニウム基
板を用い、該アルミニウム基板を陽極酸化処理し
て該基板表面に陽極酸化膜を形成し、該陽極酸化
膜に封孔処理を施さずに、前記基板表面を低分子
量の有機電荷発生材料を高分子重合体結合剤中に
混合した混合溶液に浸漬し、前記基板表面に有機
電荷発生材料を吸着させ、さらにその上に有機電
荷発生材料と重合体結合剤とからなる層を形成さ
せ電荷発生層を形成するようにしたことを特徴と
する電子写真用感光体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10100083A JPS59226350A (ja) | 1983-06-08 | 1983-06-08 | 電子写真用感光体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10100083A JPS59226350A (ja) | 1983-06-08 | 1983-06-08 | 電子写真用感光体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59226350A JPS59226350A (ja) | 1984-12-19 |
| JPH0328705B2 true JPH0328705B2 (ja) | 1991-04-19 |
Family
ID=14289004
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10100083A Granted JPS59226350A (ja) | 1983-06-08 | 1983-06-08 | 電子写真用感光体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59226350A (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0727264B2 (ja) * | 1986-11-04 | 1995-03-29 | ミノルタ株式会社 | 積層型感光体 |
| JP2515307B2 (ja) * | 1986-11-04 | 1996-07-10 | ミノルタ株式会社 | 積層型感光体 |
| JPH0727263B2 (ja) * | 1986-11-04 | 1995-03-29 | ミノルタ株式会社 | 積層型感光体 |
| JPH0727266B2 (ja) * | 1986-11-04 | 1995-03-29 | ミノルタ株式会社 | 積層型感光体 |
| JPH0727265B2 (ja) * | 1986-11-04 | 1995-03-29 | ミノルタ株式会社 | 積層型感光体 |
| JPS63179365A (ja) * | 1987-01-21 | 1988-07-23 | Mitsubishi Kasei Corp | 反転現像用電子写真感光体 |
| JP2783802B2 (ja) * | 1987-09-25 | 1998-08-06 | 株式会社リコー | 電子写真感光体 |
| WO2005085365A1 (ja) * | 2004-03-04 | 2005-09-15 | Mitsubishi Chemical Corporation | フタロシアニン組成物並びにそれを用いた光導電性材料、電子写真感光体、電子写真感光体カートリッジ及び画像形成装置 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5087629A (ja) * | 1973-12-06 | 1975-07-14 | ||
| JPS5729051A (en) * | 1980-07-30 | 1982-02-16 | Fuji Electric Co Ltd | Pretreatment of substrate of electrophotographic receptor |
| JPS5811944A (ja) * | 1981-07-16 | 1983-01-22 | Ricoh Co Ltd | 電子写真用感光体の製造方法 |
-
1983
- 1983-06-08 JP JP10100083A patent/JPS59226350A/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5087629A (ja) * | 1973-12-06 | 1975-07-14 | ||
| JPS5729051A (en) * | 1980-07-30 | 1982-02-16 | Fuji Electric Co Ltd | Pretreatment of substrate of electrophotographic receptor |
| JPS5811944A (ja) * | 1981-07-16 | 1983-01-22 | Ricoh Co Ltd | 電子写真用感光体の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59226350A (ja) | 1984-12-19 |
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