JPS5811944A - 電子写真用感光体の製造方法 - Google Patents
電子写真用感光体の製造方法Info
- Publication number
- JPS5811944A JPS5811944A JP11004981A JP11004981A JPS5811944A JP S5811944 A JPS5811944 A JP S5811944A JP 11004981 A JP11004981 A JP 11004981A JP 11004981 A JP11004981 A JP 11004981A JP S5811944 A JPS5811944 A JP S5811944A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- oxide film
- photoreceptor
- photosensitive layer
- protrusions
- treated
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/08—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being inorganic
- G03G5/082—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being inorganic and not being incorporated in a bonding material, e.g. vacuum deposited
- G03G5/08207—Selenium-based
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、電子写真用感光体の製造方法に関する。
従来電子写真用感光体は、アルミニウム、銅、ニッケル
などの導電性支持体上に、セレンを主成分とする感光体
層を真空蒸着法などにより被着することにより製造され
てきた。ところがこのようにして製造された感光体表面
は、完全には平滑ではなく、凹凸ならびに突起が発生す
るという欠点がある。
などの導電性支持体上に、セレンを主成分とする感光体
層を真空蒸着法などにより被着することにより製造され
てきた。ところがこのようにして製造された感光体表面
は、完全には平滑ではなく、凹凸ならびに突起が発生す
るという欠点がある。
感光体表面に突起が生ずると、感光体表面の帯電時に帯
電ムラが生じたり、あるい幻現像時にトナーの付着ムラ
が生じたりするため、斑点のあるコピー画像が形成され
ることになる。
電ムラが生じたり、あるい幻現像時にトナーの付着ムラ
が生じたりするため、斑点のあるコピー画像が形成され
ることになる。
また、ブレードを用いて感光体表面をクリーニングする
場合には、支持体ドラム表面に被着された感光体表面の
突起により、ブレードが徐々に削られ、この削られた箇
所のクリーニング性能が著しく低下する。そして最終的
には、クリーニング不良を起こし、コピー画像中に、い
わゆる黒すじが多発するようになる。
場合には、支持体ドラム表面に被着された感光体表面の
突起により、ブレードが徐々に削られ、この削られた箇
所のクリーニング性能が著しく低下する。そして最終的
には、クリーニング不良を起こし、コピー画像中に、い
わゆる黒すじが多発するようになる。
このように、感光体表面に突起が生ずると鮮明なコピー
画像を得ることができなくなるが、これらの突起は、主
として感光体層を導電体表面に真空蒸着する除に形成さ
れる。
画像を得ることができなくなるが、これらの突起は、主
として感光体層を導電体表面に真空蒸着する除に形成さ
れる。
また、感光体表面における突起発生の１つの原因として
は、支持体ドラム表面の凹凸あるいは前記表面への塵芥
の付着などが考えられ、これらを回避するため、支持体
ドラム表面に、パークレン洗浄、化学エツチング、水洗
あるいはパフ研磨、電解研磨、タイヤびきなどの各種の
研磨を施すことが提案されている。
は、支持体ドラム表面の凹凸あるいは前記表面への塵芥
の付着などが考えられ、これらを回避するため、支持体
ドラム表面に、パークレン洗浄、化学エツチング、水洗
あるいはパフ研磨、電解研磨、タイヤびきなどの各種の
研磨を施すことが提案されている。
また、感光体表面における突起発生の他の原因としては
、感光体層を支持体ドラム上に蒸着する際に起こる蒸着
源中のセレン系材料の突沸現象が挙げられており、この
ような突沸を防止するため、いくつかの対策が施されて
いる。
、感光体層を支持体ドラム上に蒸着する際に起こる蒸着
源中のセレン系材料の突沸現象が挙げられており、この
ような突沸を防止するため、いくつかの対策が施されて
いる。
さらに感光体表面の突起形成を防止するため、真空蒸着
時の蒸着源温度、支持体温度を調節したり、蒸着後に表
面に形成された突起を削り取るなどの対策がとられて負
た。
時の蒸着源温度、支持体温度を調節したり、蒸着後に表
面に形成された突起を削り取るなどの対策がとられて負
た。
しかしながら、感光体表面における突起の生成を防止す
るための前記対策を施しても、完全Ｉ／Ｃは突起の形成
を防止することはできない。
るための前記対策を施しても、完全Ｉ／Ｃは突起の形成
を防止することはできない。
本発明者は、このような感光体表面における突起の形成
される原因をさらに検討した結果、アルミニウム支持体
表面は感光体層を被着する前に空気中に放置されている
ため自然に酸化されて薄いアルマイト系自然酸化物皮膜
を生じているが、この自然酸化物皮膜は必ずしも均一に
は形成プれておらず、このためアルミニウム支持体ヒに
感光体層を被着すると必然的に突起が形成されることを
見出した。そして本発明者１はさらに研究し、た結果、
アルミニウム支持体表面に形成されている自然酸化物皮
膜を除去１７た後に、前記表面をイオン交換水を沸騰さ
せて得られる水蒸気で処１１Ｆ、 して新たにベーマイ
ト系酸化物皮膜を形成させＺ）と、均一なアルミニウム
表面が得られることを見出して、本発明を児成實せた。
される原因をさらに検討した結果、アルミニウム支持体
表面は感光体層を被着する前に空気中に放置されている
ため自然に酸化されて薄いアルマイト系自然酸化物皮膜
を生じているが、この自然酸化物皮膜は必ずしも均一に
は形成プれておらず、このためアルミニウム支持体ヒに
感光体層を被着すると必然的に突起が形成されることを
見出した。そして本発明者１はさらに研究し、た結果、
アルミニウム支持体表面に形成されている自然酸化物皮
膜を除去１７た後に、前記表面をイオン交換水を沸騰さ
せて得られる水蒸気で処１１Ｆ、 して新たにベーマイ
ト系酸化物皮膜を形成させＺ）と、均一なアルミニウム
表面が得られることを見出して、本発明を児成實せた。
すなわち、本発明による′ｔニ子写真用感光体の製造方
法（ｒｉ、アルミニウム支持体表面をアルカリエツチン
グなどにより処理してアルマイト系自然酸化物皮膜を除
去した後に、前記表面を、イオン交換水の沸騰により得
られた水蒸気で処］：！ｌ！ して均一なベーマイト系
酸化物皮膜を形成させる工程を含むことを特徴としてい
る。
法（ｒｉ、アルミニウム支持体表面をアルカリエツチン
グなどにより処理してアルマイト系自然酸化物皮膜を除
去した後に、前記表面を、イオン交換水の沸騰により得
られた水蒸気で処］：！ｌ！ して均一なベーマイト系
酸化物皮膜を形成させる工程を含むことを特徴としてい
る。
アルミニウム支持体表面は、感光体層の破着前に空気中
に放置されているため、アルマイト系自然酸化物皮膜が
形成されているが、このアルマイ（３） ト系自然酸化物皮膜は、アルカリエツチングなどの化学
エツチング法により除去することができる。
に放置されているため、アルマイト系自然酸化物皮膜が
形成されているが、このアルマイ（３） ト系自然酸化物皮膜は、アルカリエツチングなどの化学
エツチング法により除去することができる。
アルマイト系自然酸化物皮膜をアルカリエツチングなど
により除去した後に、直ちに、イオン交換水を沸騰させ
て得られる水蒸気により、アルミニウム支持体表面を一
宇時間以−ト、好ましくは３０秒以上処理してベーマイ
ト系酸化皮膜を形成させる。イオン交換水としては、比
抵抗が１．ＯＸ １０６Ω・ｍ以上であることが好まし
い。この際イオン交換水の比抵抗が／、ＯＸ １０６Ω
・σ以下であると、水中に七←的Ｆθ針、Ｍｇ２＋、Ｃ
ａ２“などの金属イオンが比較的多量に含まれており、
このためこれらの金属イオンがアルミニウム金属表面に
付着し、ベーマイト系駿化物皮膜の生成が阻害京れるた
め好ましくない。ベーマイト系酸化皮膜は、次式（Ｉ）
Ｋより形成されるであろうと考えられる。
により除去した後に、直ちに、イオン交換水を沸騰させ
て得られる水蒸気により、アルミニウム支持体表面を一
宇時間以−ト、好ましくは３０秒以上処理してベーマイ
ト系酸化皮膜を形成させる。イオン交換水としては、比
抵抗が１．ＯＸ １０６Ω・ｍ以上であることが好まし
い。この際イオン交換水の比抵抗が／、ＯＸ １０６Ω
・σ以下であると、水中に七←的Ｆθ針、Ｍｇ２＋、Ｃ
ａ２“などの金属イオンが比較的多量に含まれており、
このためこれらの金属イオンがアルミニウム金属表面に
付着し、ベーマイト系駿化物皮膜の生成が阻害京れるた
め好ましくない。ベーマイト系酸化皮膜は、次式（Ｉ）
Ｋより形成されるであろうと考えられる。
コムｌ ＋４４Ｈ２０−＋ ：ｌＡＩ・０・ＯＨ＋３馬
（１）以下本発明を実施例により説明するが、本
発明はこれらの実施例に限定されない。
（１）以下本発明を実施例により説明するが、本
発明はこれらの実施例に限定されない。
実施例
（ψ）
ｉｏｏφＸ １１００ ｇＫ、肉厚ｓ、ｏ龍のアルミニ
ウム支持体ドラム上に、以下の手順に従って電子写真用
感光体を被着させた。
ウム支持体ドラム上に、以下の手順に従って電子写真用
感光体を被着させた。
ｌ）アルミニウム支持体表面を研磨して、而粗さ１．ユ
μ以内とした。
μ以内とした。
：２）前記表面をパークレンでコ分間洗浄、脱脂処理し
た。
た。
３）前記表面を、それぞれ１分間コ度にわたって水洗し
た。
た。
ＩＡ）前記表面を、アルカリエツチングして、アルマイ
ト系自然酸化物皮膜を除去した。
ト系自然酸化物皮膜を除去した。
Ｓ）アルマイト系自然酸化物皮膜を除去後、直ちに、比
抵抗３．ＯＸ １０６Ω・α以上を有するイオン交換水
の沸騰により得られる水蒸気で二分間、前記アルミニウ
ム支持体表面を処理した。
抵抗３．ＯＸ １０６Ω・α以上を有するイオン交換水
の沸騰により得られる水蒸気で二分間、前記アルミニウ
ム支持体表面を処理した。
６）前記表面を、温風で乾燥させた後に、真空蒸着装置
内にセットし、ざ、ＯＸ １Ｏ−５Ｔｏｒｒ Ｋ排気し
た。
内にセットし、ざ、ＯＸ １Ｏ−５Ｔｏｒｒ Ｋ排気し
た。
り）アルミニウム支持体を、：ＬＯＯ’Ｃに保ち、ムθ
雪Ｓθ、を入れたタンタルボート蒸着源を４４ｔｏ ’
ｃまで昇温させ、前記支持体を毎分／３回転の速度で回
転１せながら、アルミニウム支持体上にＡｓｔＢｅ、を
蒸着させた。
雪Ｓθ、を入れたタンタルボート蒸着源を４４ｔｏ ’
ｃまで昇温させ、前記支持体を毎分／３回転の速度で回
転１せながら、アルミニウム支持体上にＡｓｔＢｅ、を
蒸着させた。
このようにして得られた感光体表面を光学顕微鐘で観察
したところ、５０μ以上の突起は認められなかった。
したところ、５０μ以上の突起は認められなかった。
比較例
上紀実施例の手暁弘）およびＳ）を行なわなかった以外
は、すべて実施例と同様にして、電子写真用感光体を製
造した。
は、すべて実施例と同様にして、電子写真用感光体を製
造した。
得られた感光体表面を、実施例と同様にして観察１〜だ
ところ、ＳＯμ以上の突起が少なくともり細身」＝詔め
られた。
ところ、ＳＯμ以上の突起が少なくともり細身」＝詔め
られた。
出願人代理人 猪 股 清
（７）
２９９−
Claims (1)
- アルミニウム支持体上に感光体層を設けて電子写真用感
光体を製造するに際し、前記アルミニウム支持体表面上
の自然酸化物皮膜を除去し、次いで前記表面をイオン交
換水の沸騰により得られた水蒸気で処理する工程を含む
ことを特徴とする電子写真用感光体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11004981A JPS5811944A (ja) | 1981-07-16 | 1981-07-16 | 電子写真用感光体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11004981A JPS5811944A (ja) | 1981-07-16 | 1981-07-16 | 電子写真用感光体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5811944A true JPS5811944A (ja) | 1983-01-22 |
Family
ID=14525800
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11004981A Pending JPS5811944A (ja) | 1981-07-16 | 1981-07-16 | 電子写真用感光体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5811944A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59226350A (ja) * | 1983-06-08 | 1984-12-19 | Oki Electric Ind Co Ltd | 電子写真用感光体の製造方法 |
| JPS60174865A (ja) * | 1984-02-15 | 1985-09-09 | Showa Alum Corp | 薄膜形成用アルミニウム基材の表面処理方法 |
| JPS60174864A (ja) * | 1984-02-15 | 1985-09-09 | Showa Alum Corp | 薄膜形成用アルミニウム基材の表面処理方法 |
| JPS60174863A (ja) * | 1984-02-15 | 1985-09-09 | Showa Alum Corp | 薄膜形成用アルミニウム基材の表面処理方法 |
-
1981
- 1981-07-16 JP JP11004981A patent/JPS5811944A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59226350A (ja) * | 1983-06-08 | 1984-12-19 | Oki Electric Ind Co Ltd | 電子写真用感光体の製造方法 |
| JPH0328705B2 (ja) * | 1983-06-08 | 1991-04-19 | Oki Electric Ind Co Ltd | |
| JPS60174865A (ja) * | 1984-02-15 | 1985-09-09 | Showa Alum Corp | 薄膜形成用アルミニウム基材の表面処理方法 |
| JPS60174864A (ja) * | 1984-02-15 | 1985-09-09 | Showa Alum Corp | 薄膜形成用アルミニウム基材の表面処理方法 |
| JPS60174863A (ja) * | 1984-02-15 | 1985-09-09 | Showa Alum Corp | 薄膜形成用アルミニウム基材の表面処理方法 |
| JPH0461070B2 (ja) * | 1984-02-15 | 1992-09-29 | Showa Aluminium Co Ltd | |
| JPH0461068B2 (ja) * | 1984-02-15 | 1992-09-29 | Showa Aluminium Co Ltd | |
| JPH0461069B2 (ja) * | 1984-02-15 | 1992-09-29 | Showa Aluminium Co Ltd |
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