JP3012537B2 - 電子写真感光体およびその製造方法 - Google Patents
電子写真感光体およびその製造方法Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、複写機，プリン
タ，あるいはファクシミリ等のように電子写真プロセス
により画像形成を行う際に用いられる電子写真感光体お
よびその製造方法に関する。
タ，あるいはファクシミリ等のように電子写真プロセス
により画像形成を行う際に用いられる電子写真感光体お
よびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】電子写真感光体を用いた画像形成システ
ムは、光導電性を有する感光体の表面にコロナ放電など
で電荷を帯電させた後、画像露光を行い静電潜像を形成
させ、トナーによる現像で可視化することにより画像形
成を行う。
ムは、光導電性を有する感光体の表面にコロナ放電など
で電荷を帯電させた後、画像露光を行い静電潜像を形成
させ、トナーによる現像で可視化することにより画像形
成を行う。
【０００３】このシステムに用いられる電子写真感光体
で問題となるのが、感光体上の欠陥等による局所的帯電
不良であり、黒点やかぶりといった著しい画像不良とな
ることが多い。局所的帯電不良を引き起こす原因には様
々な事が考えられるが、その多くは導電性支持体と光導
電層の間で局所的に電荷注入が起こるためと考えられて
いる。
で問題となるのが、感光体上の欠陥等による局所的帯電
不良であり、黒点やかぶりといった著しい画像不良とな
ることが多い。局所的帯電不良を引き起こす原因には様
々な事が考えられるが、その多くは導電性支持体と光導
電層の間で局所的に電荷注入が起こるためと考えられて
いる。
【０００４】導電性支持体は、その多くがアルミニウム
またはアルミニウムを主成分とする合金を基体として使
用しているが、問題改善のためアルミニウム基体と光導
電層の間にブロッキング層を設けることが考えられ、従
来から公知技術としてポリアミドやポリイミド，ポリビ
ニルアルコール，ポリウレタン，カゼイン，セルロース
類等の樹脂層や酸化アルミニウムや水酸化アルミニウム
等の無機層を設ける方法がある。ブロッキング層として
無機層、つまり陽極酸化皮膜を設ける方法は、帯電位低
下防止のほかに光導電層の密着性向上や洗浄の容易化等
を目的として使用される。
またはアルミニウムを主成分とする合金を基体として使
用しているが、問題改善のためアルミニウム基体と光導
電層の間にブロッキング層を設けることが考えられ、従
来から公知技術としてポリアミドやポリイミド，ポリビ
ニルアルコール，ポリウレタン，カゼイン，セルロース
類等の樹脂層や酸化アルミニウムや水酸化アルミニウム
等の無機層を設ける方法がある。ブロッキング層として
無機層、つまり陽極酸化皮膜を設ける方法は、帯電位低
下防止のほかに光導電層の密着性向上や洗浄の容易化等
を目的として使用される。
【０００５】また、近年、光導電層として有機材料が広
く用いられている。理由として、有機材料が材料コスト
や製造コストが安価で無公害であるため等の利点を有す
るからである。この有機材料は、塗料化してディップコ
ート法やリングコート法によって陽極酸化皮膜上に塗布
されるが、光導電層を均一かつ安定的に形成するために
は、塗料の分散性や溶解性が良好である必要がある。そ
の実現のために、塗料に様々な溶剤が使用されており、
特に高沸点溶剤の使用が検討されている。高沸点溶剤を
使用した場合は、溶剤成分を揮発除去するために、当然
ながら高温での乾燥工程が必要となる。
く用いられている。理由として、有機材料が材料コスト
や製造コストが安価で無公害であるため等の利点を有す
るからである。この有機材料は、塗料化してディップコ
ート法やリングコート法によって陽極酸化皮膜上に塗布
されるが、光導電層を均一かつ安定的に形成するために
は、塗料の分散性や溶解性が良好である必要がある。そ
の実現のために、塗料に様々な溶剤が使用されており、
特に高沸点溶剤の使用が検討されている。高沸点溶剤を
使用した場合は、溶剤成分を揮発除去するために、当然
ながら高温での乾燥工程が必要となる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ようなブロッキング層を有する電子写真感光体を使用し
ても、黒点やかぶり等の画像欠陥を完全になくすような
改善は難しい。特に、高温高湿環境下ではかぶり発生が
著しい。
ようなブロッキング層を有する電子写真感光体を使用し
ても、黒点やかぶり等の画像欠陥を完全になくすような
改善は難しい。特に、高温高湿環境下ではかぶり発生が
著しい。
【０００７】また、陽極酸化皮膜は時間とともに自然酸
化が進み、耐熱性の低下を起こすことになる。耐熱性が
劣ると乾燥工程中に表面にクラックが入ったり、光導電
層形成の際の塗工ムラや絶縁破壊強度の低下，光導電層
へのクラックの成長等の問題を引き起こすことになる。
化が進み、耐熱性の低下を起こすことになる。耐熱性が
劣ると乾燥工程中に表面にクラックが入ったり、光導電
層形成の際の塗工ムラや絶縁破壊強度の低下，光導電層
へのクラックの成長等の問題を引き起こすことになる。
【０００８】さらに、陽極酸化皮膜はその多孔質な表面
状態のために、一旦吸着した空気中のコンタミ等を除去
することは困難である。有機溶剤等の液体洗浄を試みて
も、液切りが完全でなく微量な残査が存在してしまう。
液体洗浄を行うと陽極酸化皮膜の表面酸化は急激に進む
ので、さらにクラック発生の危険性が増すことになる。
状態のために、一旦吸着した空気中のコンタミ等を除去
することは困難である。有機溶剤等の液体洗浄を試みて
も、液切りが完全でなく微量な残査が存在してしまう。
液体洗浄を行うと陽極酸化皮膜の表面酸化は急激に進む
ので、さらにクラック発生の危険性が増すことになる。
【０００９】本発明の目的は、上記の問題点を改善し、
耐熱性および帯電性に優れ、あらゆる使用環境下で良好
な画像が得られる電子写真感光体およびその製造方法を
提供することにある。
耐熱性および帯電性に優れ、あらゆる使用環境下で良好
な画像が得られる電子写真感光体およびその製造方法を
提供することにある。
【００１０】
【００１１】
【００１２】
【００１３】
【００１４】
【００１５】また、本発明の電子写真感光体は、アルミ
ニウムまたはアルミニウム合金からなるアルミニウム基
体上に陽極酸化皮膜を形成して封孔処理を施し，さらに
光導電層を設けて成る電子写真感光体において、前記光
導電層を設ける前処理に際し液体洗浄後に紫外線を照射
して構成される。
ニウムまたはアルミニウム合金からなるアルミニウム基
体上に陽極酸化皮膜を形成して封孔処理を施し，さらに
光導電層を設けて成る電子写真感光体において、前記光
導電層を設ける前処理に際し液体洗浄後に紫外線を照射
して構成される。
【００１６】さらに、本発明の電子写真感光体におい
て、前記前処理後の陽極酸化皮膜の純水による接触角は
３０〜８０°，かつアドミッタンスは０．４Ｓ／ｍ2 以
上である。
て、前記前処理後の陽極酸化皮膜の純水による接触角は
３０〜８０°，かつアドミッタンスは０．４Ｓ／ｍ2 以
上である。
【００１７】また、本発明による電子写真感光体の製造
方法は、アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる
アルミニウム基体上に陽極酸化皮膜を形成して封孔処理
を施し、さらに液体洗浄後に紫外線を照射し、続いて光
導電層を塗布して実現される。
方法は、アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる
アルミニウム基体上に陽極酸化皮膜を形成して封孔処理
を施し、さらに液体洗浄後に紫外線を照射し、続いて光
導電層を塗布して実現される。
【００１８】すなわち、局所的な欠陥による黒点等の印
字欠陥や高温高湿環境下でのカブリ発生等を解決するた
めに検討した結果、特定の陽極酸化皮膜を有するアルマ
イト基体を用いることによって良好な画像特性を示す電
子写真感光体が得られた。
字欠陥や高温高湿環境下でのカブリ発生等を解決するた
めに検討した結果、特定の陽極酸化皮膜を有するアルマ
イト基体を用いることによって良好な画像特性を示す電
子写真感光体が得られた。
【００１９】また、陽極酸化皮膜表面の自然酸化により
耐熱性の低下したアルミニウム基体に有効であり、耐熱
性とともに清浄性を上げる紫外線照射による処理方法が
見出された。
耐熱性の低下したアルミニウム基体に有効であり、耐熱
性とともに清浄性を上げる紫外線照射による処理方法が
見出された。
【００２０】
【００２１】
【００２２】また、長期間保管していたり洗浄処理等に
より、表面の自然酸化が進み耐熱性が低下したアルミニ
ウム基体を用いる場合には、陽極酸化皮膜表面の酸化状
態をできるだけ進めないようにし、かつコンタミ等の有
機物不純物を完全に除去するために液体洗浄を行った
後、紫外線を用いて照射洗浄することにより微量な不純
物を取り去り、酸化の進んだ表面を元の活性化した状態
へ戻す回復効果のあることが見出された。
より、表面の自然酸化が進み耐熱性が低下したアルミニ
ウム基体を用いる場合には、陽極酸化皮膜表面の酸化状
態をできるだけ進めないようにし、かつコンタミ等の有
機物不純物を完全に除去するために液体洗浄を行った
後、紫外線を用いて照射洗浄することにより微量な不純
物を取り去り、酸化の進んだ表面を元の活性化した状態
へ戻す回復効果のあることが見出された。
【００２３】すなわち、本発明の電子写真感光体は、ア
ルミニウムまたはアルミニウム合金からなるアルミニウ
ム基体上に陽極酸化皮膜を形成して封孔処理を施し、さ
らに光導電層を設けて成る電子写真感光体において前記
光導電層を設ける前処理に際し液体洗浄後に紫外線を照
射して構成され、紫外線照射処理後の陽極酸化皮膜の純
水による接触角は３０〜８０°、かつアドミッタンスは
０．４Ｓ／ｍ2 以上である。
ルミニウムまたはアルミニウム合金からなるアルミニウ
ム基体上に陽極酸化皮膜を形成して封孔処理を施し、さ
らに光導電層を設けて成る電子写真感光体において前記
光導電層を設ける前処理に際し液体洗浄後に紫外線を照
射して構成され、紫外線照射処理後の陽極酸化皮膜の純
水による接触角は３０〜８０°、かつアドミッタンスは
０．４Ｓ／ｍ2 以上である。
【００２４】本発明による電子写真感光体の製造方法
は、アルミニウムまたはアルミニウム合金からなるアル
ミニウム基体の表面に封孔処理を施した陽極酸化皮膜を
形成した後、その上に光導電層を積層して電子写真感光
体を製造する方法において、光導電層を積層する前に、
液体洗浄等の物理的洗浄を行った後に、紫外線を用いて
目的表面を照射することにより、陽極酸化皮膜の耐熱性
を損なわずに微量な不純物を除去することができる。こ
のとき、陽極酸化皮膜の純水による接触角が３０〜８０
°の範囲で、かつアドミッタンスは０．４Ｓ／ｍ2 以上
である条件を満たすことにより、あらゆる環境下で画像
欠陥のない優れた電子写真感光体が得られる。
は、アルミニウムまたはアルミニウム合金からなるアル
ミニウム基体の表面に封孔処理を施した陽極酸化皮膜を
形成した後、その上に光導電層を積層して電子写真感光
体を製造する方法において、光導電層を積層する前に、
液体洗浄等の物理的洗浄を行った後に、紫外線を用いて
目的表面を照射することにより、陽極酸化皮膜の耐熱性
を損なわずに微量な不純物を除去することができる。こ
のとき、陽極酸化皮膜の純水による接触角が３０〜８０
°の範囲で、かつアドミッタンスは０．４Ｓ／ｍ2 以上
である条件を満たすことにより、あらゆる環境下で画像
欠陥のない優れた電子写真感光体が得られる。
【００２５】
【発明の実施の形態】以下、本発明について図表を参照
しながら説明する。
しながら説明する。
【００２６】図１は本発明による電子写真感光体の構造
を示す説明図である。同図において電子写真感光体は、
アルミニウム基体１０と，陽極酸化皮膜１１と，電荷発
生層１２および電荷輸送層１３からなる光導電層とを有
している。すなわち、本発明の電子写真感光体は、アル
ミニウム基体上に特定の陽極酸化皮膜を施した後、光導
電層を設けて作成する。ただし、この実施の形態では、
光導電層を設ける前に、陽極酸化皮膜に紫外線を照射し
ないものとする。
を示す説明図である。同図において電子写真感光体は、
アルミニウム基体１０と，陽極酸化皮膜１１と，電荷発
生層１２および電荷輸送層１３からなる光導電層とを有
している。すなわち、本発明の電子写真感光体は、アル
ミニウム基体上に特定の陽極酸化皮膜を施した後、光導
電層を設けて作成する。ただし、この実施の形態では、
光導電層を設ける前に、陽極酸化皮膜に紫外線を照射し
ないものとする。
【００２７】アルミニウム基体の材料は準Ａｌ系のほか
にＡｌ−Ｍｇ−Ｓｉ系，Ａｌ−Ｍｎ系等のアルミニウム
合金も使用できる。アルミニウム基体は、陽極酸化処理
を施す前にアルキレン等の有機溶剤や界面活性剤，乳化
脱脂剤等で脱脂処理した後、さらにエッチング処理する
ことが好ましい。
にＡｌ−Ｍｇ−Ｓｉ系，Ａｌ−Ｍｎ系等のアルミニウム
合金も使用できる。アルミニウム基体は、陽極酸化処理
を施す前にアルキレン等の有機溶剤や界面活性剤，乳化
脱脂剤等で脱脂処理した後、さらにエッチング処理する
ことが好ましい。
【００２８】陽極酸化皮膜は公知の方法、例えば硫酸や
シュウ酸，クロム酸，ホウ酸等の酸性浴中で陽極酸化処
理することにより形成される。硫酸中で陽極酸化処理し
た場合、硫酸濃度は１００〜２００ｇ／ｌ，アルミニウ
ムイオン濃度は１〜１０ｇ／ｌ，液温は２５℃前後，電
解電圧は約２０Ｖで行うことが望ましいが、これに限ら
れるものではない。
シュウ酸，クロム酸，ホウ酸等の酸性浴中で陽極酸化処
理することにより形成される。硫酸中で陽極酸化処理し
た場合、硫酸濃度は１００〜２００ｇ／ｌ，アルミニウ
ムイオン濃度は１〜１０ｇ／ｌ，液温は２５℃前後，電
解電圧は約２０Ｖで行うことが望ましいが、これに限ら
れるものではない。
【００２９】形成された陽極酸化皮膜は酢酸ニッケルを
含有する水溶液中に浸積させて封孔処理を施すが、濃度
は５〜１０ｇ／ｌ，処理温度は５０〜７５℃，処理時間
は４〜１０分間，ｐＨは４〜６の範囲で行う。陽極酸化
皮膜の膜厚は２０μｍ以下、好ましくは５〜１０μｍで
ある。このようにして形成された陽極酸化皮膜は必要に
応じて純水等により洗浄される。
含有する水溶液中に浸積させて封孔処理を施すが、濃度
は５〜１０ｇ／ｌ，処理温度は５０〜７５℃，処理時間
は４〜１０分間，ｐＨは４〜６の範囲で行う。陽極酸化
皮膜の膜厚は２０μｍ以下、好ましくは５〜１０μｍで
ある。このようにして形成された陽極酸化皮膜は必要に
応じて純水等により洗浄される。
【００３０】上記のようにして形成された陽極酸化皮膜
のアドミッタンスは次のようにして測定される。常温の
環境下でサンプル試料面上に非導電性セルを取り付け、
３．５重量％の硫酸カリウム水溶液をセルに満たした状
態で３０分間放置した後、アドミッタンス測定機の電極
の一方を素地に接続し，他方を水溶液で満たしたセルに
挿入し、周波数１ｋＨｚのもとでアドミッタンスを測定
する。測定されるアドミッタンスの値が０．４〜３０Ｓ
／ｍ2 の範囲内にあるためには、封孔処理温度と浸積時
間の関係で決定される。
のアドミッタンスは次のようにして測定される。常温の
環境下でサンプル試料面上に非導電性セルを取り付け、
３．５重量％の硫酸カリウム水溶液をセルに満たした状
態で３０分間放置した後、アドミッタンス測定機の電極
の一方を素地に接続し，他方を水溶液で満たしたセルに
挿入し、周波数１ｋＨｚのもとでアドミッタンスを測定
する。測定されるアドミッタンスの値が０．４〜３０Ｓ
／ｍ2 の範囲内にあるためには、封孔処理温度と浸積時
間の関係で決定される。
【００３１】また、同時に封孔処理温度と浸積時間との
関係は純水による接触角が３０°〜８０°の範囲にある
ことを加味して決定される。図２に示すように、上記の
接触角１５は陽極酸化皮膜１１表面の塗れ性を評価する
ものであり、陽極酸化皮膜１１上に落下させた純水の水
滴１４が構成する角度を接触角１５とする。
関係は純水による接触角が３０°〜８０°の範囲にある
ことを加味して決定される。図２に示すように、上記の
接触角１５は陽極酸化皮膜１１表面の塗れ性を評価する
ものであり、陽極酸化皮膜１１上に落下させた純水の水
滴１４が構成する角度を接触角１５とする。
【００３２】なお、上記の陽極酸化皮膜上には、後述す
る有機材料を用いた光導電層が順次積層されるが、均一
かつ安定的に形成するために良好な分散性と溶解性を有
する塗料が必要になってくる。そこで、様々な溶剤、特
に高沸点溶剤が使用されており、溶剤成分除去のために
当然ながら高温での乾燥工程が必要になっている。そこ
で、高温の乾燥工程を実施しても、陽極酸化皮膜にクラ
ックが発生しない条件を検討したところ、アドミッタン
スが０．４Ｓ／ｍ2 以上必要であった。
る有機材料を用いた光導電層が順次積層されるが、均一
かつ安定的に形成するために良好な分散性と溶解性を有
する塗料が必要になってくる。そこで、様々な溶剤、特
に高沸点溶剤が使用されており、溶剤成分除去のために
当然ながら高温での乾燥工程が必要になっている。そこ
で、高温の乾燥工程を実施しても、陽極酸化皮膜にクラ
ックが発生しない条件を検討したところ、アドミッタン
スが０．４Ｓ／ｍ2 以上必要であった。
【００３３】陽極酸化皮膜上に設ける光導電層は少なく
とも電荷発生層，電荷輸送層の順に積層されるが、陽極
酸化皮膜と光導電層の間に各種の中間層を設けることも
できる。
とも電荷発生層，電荷輸送層の順に積層されるが、陽極
酸化皮膜と光導電層の間に各種の中間層を設けることも
できる。
【００３４】中間層は、ポリアミドやポリビニルアルコ
ール，ポリウレタン，ポリアクリル酸，エポキシ樹脂，
またはこれらの樹脂に導電性微粒子等の各種添加剤を混
ぜることができる。これらの中間層は、単層でも２層以
上に積層されたものでも良い。中間層の膜厚は０．１〜
１０μｍ、好ましくは０．２〜４μｍ程度が適当であ
る。
ール，ポリウレタン，ポリアクリル酸，エポキシ樹脂，
またはこれらの樹脂に導電性微粒子等の各種添加剤を混
ぜることができる。これらの中間層は、単層でも２層以
上に積層されたものでも良い。中間層の膜厚は０．１〜
１０μｍ、好ましくは０．２〜４μｍ程度が適当であ
る。
【００３５】電荷発生層には公知の電荷発生材料、例え
ば無金属フタロシアニン顔料や金属フタロシアニン顔
料，アゾ顔料，ジスアゾ顔料，インジゴ顔料，キナクリ
ドン顔料等が用いられる。これらの電荷発生材料は１種
または２種以上組み合わせて使用できる。電荷発生層を
形成するにはバインダー樹脂中に電荷発生材料を分散さ
せる。バインダー樹脂としては、ポリ塩化ビニル，ポリ
酢酸ビニル，ポリビニルブチラール，ポリビニルホマー
ル，ポリエステル，ポリウレタン，ポリカーボネート，
アクリル樹脂，フェノール樹脂等を単独または２種以上
組み合わせて用いる。
ば無金属フタロシアニン顔料や金属フタロシアニン顔
料，アゾ顔料，ジスアゾ顔料，インジゴ顔料，キナクリ
ドン顔料等が用いられる。これらの電荷発生材料は１種
または２種以上組み合わせて使用できる。電荷発生層を
形成するにはバインダー樹脂中に電荷発生材料を分散さ
せる。バインダー樹脂としては、ポリ塩化ビニル，ポリ
酢酸ビニル，ポリビニルブチラール，ポリビニルホマー
ル，ポリエステル，ポリウレタン，ポリカーボネート，
アクリル樹脂，フェノール樹脂等を単独または２種以上
組み合わせて用いる。
【００３６】電荷発生層は、電荷発生材料とバインダー
樹脂を、トルエン，キシレン，モノクロルベンゼン，メ
チルアルコール，エチルアルコール，酢酸エチル，塩化
メチレン，テトラヒドロフラン，シクロヘキサン等の溶
媒に溶解または分散した塗料を塗布することにより形成
する。これらの溶媒は単独または混合して用いられる。
これらの塗布方法は、スピンコーター，アプリケータ
ー，スプレーコーター，パーコーター，ディップコータ
ー，ドクターブレード等公知の手法が用いられる。電荷
発生層の膜厚は０．０５〜５μｍ、好ましくは０．１〜
２μｍ程度が適当である。
樹脂を、トルエン，キシレン，モノクロルベンゼン，メ
チルアルコール，エチルアルコール，酢酸エチル，塩化
メチレン，テトラヒドロフラン，シクロヘキサン等の溶
媒に溶解または分散した塗料を塗布することにより形成
する。これらの溶媒は単独または混合して用いられる。
これらの塗布方法は、スピンコーター，アプリケータ
ー，スプレーコーター，パーコーター，ディップコータ
ー，ドクターブレード等公知の手法が用いられる。電荷
発生層の膜厚は０．０５〜５μｍ、好ましくは０．１〜
２μｍ程度が適当である。
【００３７】電荷発生層の上に形成される電荷輸送層
は、電荷輸送材料とこれらを分散固定するためのバイン
ダー樹脂を溶媒中に溶解または分散して構成される電荷
輸送層用塗料を塗工することにより形成される。電荷輸
送層用塗料には、酸化防止剤，表面潤滑剤，紫外線吸収
剤等の添加剤を用いることができる。
は、電荷輸送材料とこれらを分散固定するためのバイン
ダー樹脂を溶媒中に溶解または分散して構成される電荷
輸送層用塗料を塗工することにより形成される。電荷輸
送層用塗料には、酸化防止剤，表面潤滑剤，紫外線吸収
剤等の添加剤を用いることができる。
【００３８】電荷輸送材料は、ポリ−Ｎ−ビニルカルバ
ゾールおよびその誘導体，ピレン−ホルムアルデヒド縮
合物およびその誘導体，ポリシランおよびその誘導体，
オキサゾール誘導体，オキサジアゾール誘導体，モノア
リールアミン誘導体，ジアリールアミン誘導体，トリア
リールアミン誘導体，スチルベン誘導体，ベンジジン誘
導体，ピラゾリン誘導体，ヒドラゾン誘導体，ブタジエ
ン誘導体等公知の材料が挙げられる。電荷輸送材料は１
種または２種以上組み合わせて用いることができる。
ゾールおよびその誘導体，ピレン−ホルムアルデヒド縮
合物およびその誘導体，ポリシランおよびその誘導体，
オキサゾール誘導体，オキサジアゾール誘導体，モノア
リールアミン誘導体，ジアリールアミン誘導体，トリア
リールアミン誘導体，スチルベン誘導体，ベンジジン誘
導体，ピラゾリン誘導体，ヒドラゾン誘導体，ブタジエ
ン誘導体等公知の材料が挙げられる。電荷輸送材料は１
種または２種以上組み合わせて用いることができる。
【００３９】電荷輸送材料を分散固定するためのバイン
ダー樹脂としては、ポリ塩化ビニル，ポリ酢酸ビニル，
ポリビニルブチラール，ポリビニルホマール，ポリエス
テル，ポリウレタン，ポリカーボネート，アクリル樹
脂，フェノール樹脂等が用いられる。これらの樹脂は１
種または２種以上組み合わせて用いることができる。
ダー樹脂としては、ポリ塩化ビニル，ポリ酢酸ビニル，
ポリビニルブチラール，ポリビニルホマール，ポリエス
テル，ポリウレタン，ポリカーボネート，アクリル樹
脂，フェノール樹脂等が用いられる。これらの樹脂は１
種または２種以上組み合わせて用いることができる。
【００４０】溶媒は、トルエン，キシレン，モノクロル
ベンゼン，メチルアルコール，エチルアルコール，酢酸
エチル，塩化メチレン，テトラヒドロフラン，シクロヘ
キサン等が用いられる。これらの溶媒も単独または混合
して用いられる。
ベンゼン，メチルアルコール，エチルアルコール，酢酸
エチル，塩化メチレン，テトラヒドロフラン，シクロヘ
キサン等が用いられる。これらの溶媒も単独または混合
して用いられる。
【００４１】電荷輸送層の膜厚は５〜４０μｍ，好まし
くは１５〜２５μｍ程度が適当である。電荷輸送層の塗
工方法は、スピンコーター，アプリケーター，スプレー
コーター，バーコーター，ディップコーター，ドクター
ブレード等公知の手法が用いられる。
くは１５〜２５μｍ程度が適当である。電荷輸送層の塗
工方法は、スピンコーター，アプリケーター，スプレー
コーター，バーコーター，ディップコーター，ドクター
ブレード等公知の手法が用いられる。
【００４２】上記のようにして得られる電子写真感光体
は、高温高湿条件を含めた幅広い環境条件下でかぶり発
生はもとより、微少な黒点等の欠陥の無い良好な画像特
性を有し、耐熱性に優れている。
は、高温高湿条件を含めた幅広い環境条件下でかぶり発
生はもとより、微少な黒点等の欠陥の無い良好な画像特
性を有し、耐熱性に優れている。
【００４３】次に本発明を実施例により具体的に説明す
るが、本発明はその趣旨を越えない限り以下の実施例に
限定されるものではない。
るが、本発明はその趣旨を越えない限り以下の実施例に
限定されるものではない。
【００４４】（実施例１）Ａｌ−Ｓｉ−Ｍｇ系のアルミ
ニウム合金からなる直径８０ｍｍ，肉厚１．２５ｍｍの
鏡面仕上げした円筒状パイプを有機溶剤で脱脂洗浄し、
エッチングを行った。続いて、水洗浄後、電解質溶液と
して１５０ｇ／ｌの硫酸を用い、直流電圧２０Ｖで液温
２５℃に維持しながら１５分間陽極酸化処理を行い、平
均膜厚７μｍの陽極酸化皮膜を形成した。
ニウム合金からなる直径８０ｍｍ，肉厚１．２５ｍｍの
鏡面仕上げした円筒状パイプを有機溶剤で脱脂洗浄し、
エッチングを行った。続いて、水洗浄後、電解質溶液と
して１５０ｇ／ｌの硫酸を用い、直流電圧２０Ｖで液温
２５℃に維持しながら１５分間陽極酸化処理を行い、平
均膜厚７μｍの陽極酸化皮膜を形成した。
【００４５】次に、水洗後、酢酸ニッケルを主成分とす
る封孔剤６ｇ／ｌ，５５℃の水溶液中に５分間浸積して
封孔処理を行った。続いて十分水洗後、乾燥した。
る封孔剤６ｇ／ｌ，５５℃の水溶液中に５分間浸積して
封孔処理を行った。続いて十分水洗後、乾燥した。
【００４６】このようにして得られた陽極酸化皮膜の単
位面積当たりのアドミッタンスを測定したところ、９．
０Ｓ／ｍ2 であり、純水による接触角は６５°であっ
た。これを基体ａとする。
位面積当たりのアドミッタンスを測定したところ、９．
０Ｓ／ｍ2 であり、純水による接触角は６５°であっ
た。これを基体ａとする。
【００４７】また、チタニルフタロシアニン２．５重量
部およびポリビニルブチラール２重量部をテトラヒドロ
フラン１００重量部に加えたものをボールミルで２４時
間分散した。この分散塗料を上記の基体ａ上に浸積塗布
し、加熱乾燥して約０．２μｍの電荷発生層を形成し
た。
部およびポリビニルブチラール２重量部をテトラヒドロ
フラン１００重量部に加えたものをボールミルで２４時
間分散した。この分散塗料を上記の基体ａ上に浸積塗布
し、加熱乾燥して約０．２μｍの電荷発生層を形成し
た。
【００４８】さらに、次式に示す電荷輸送材料２０重量
部およびポリカーボネート（Ｚ−２００，三菱瓦斯化学
製）２０重量部を塩化メチレン１００重量部に溶解し
て、電荷発生層上に浸積塗布した後、加熱乾燥して約２
０μｍの電荷輸送層を形成して電子写真感光体を作成し
た。このようにして得られた電子写真感光体をドラムＡ
とする。
部およびポリカーボネート（Ｚ−２００，三菱瓦斯化学
製）２０重量部を塩化メチレン１００重量部に溶解し
て、電荷発生層上に浸積塗布した後、加熱乾燥して約２
０μｍの電荷輸送層を形成して電子写真感光体を作成し
た。このようにして得られた電子写真感光体をドラムＡ
とする。
【００４９】
【００５０】（実施例２および３）実施例１と同様に陽
極酸化皮膜を形成し、水洗後、酢酸ニッケルを主成分と
する封孔剤６ｇ／ｌを用いて、表１に示す温度（実施例
２は６５℃、実施例３は５０℃）で７分間浸積して封孔
処理を行い、洗浄、乾燥した。
極酸化皮膜を形成し、水洗後、酢酸ニッケルを主成分と
する封孔剤６ｇ／ｌを用いて、表１に示す温度（実施例
２は６５℃、実施例３は５０℃）で７分間浸積して封孔
処理を行い、洗浄、乾燥した。
【００５１】このようにして得られた陽極酸化皮膜の単
位面積当たりのアドミッタンスと純水による接触角は表
１に示す通りであった。これらをそれぞれ基体ｂおよび
ｃとする。
位面積当たりのアドミッタンスと純水による接触角は表
１に示す通りであった。これらをそれぞれ基体ｂおよび
ｃとする。
【００５２】その後は、実施例１と同様な方法で電子写
真感光体を作成し、ドラムＢ（実施例２）およびドラム
Ｃ（実施例３）とする。
真感光体を作成し、ドラムＢ（実施例２）およびドラム
Ｃ（実施例３）とする。
【００５３】
【表１】
【００５４】（比較例１）実施例１と同様に陽極酸化皮
膜を形成し、水洗後、酢酸ニッケルを主成分とする封孔
剤６ｇ／ｌを用いて、９０℃の水溶液に６分間浸積して
封孔処理を行い、洗浄、乾燥した。このようにして得ら
れた陽極酸化皮膜の単位面積当たりのアドミッタンスを
測定したところ、０．２１Ｓ／ｍ2 であり、純水による
接触角は８６°であった。これを基体ｄとする。その後
は、実施例１と同様な方法で電子写真感光体を作成しド
ラムＤとした（表１参照）。
膜を形成し、水洗後、酢酸ニッケルを主成分とする封孔
剤６ｇ／ｌを用いて、９０℃の水溶液に６分間浸積して
封孔処理を行い、洗浄、乾燥した。このようにして得ら
れた陽極酸化皮膜の単位面積当たりのアドミッタンスを
測定したところ、０．２１Ｓ／ｍ2 であり、純水による
接触角は８６°であった。これを基体ｄとする。その後
は、実施例１と同様な方法で電子写真感光体を作成しド
ラムＤとした（表１参照）。
【００５５】（比較例２）実施例１と同様にして陽極酸
化皮膜を形成し、水洗後、封孔処理を施さずに純水で洗
浄し乾燥した。このようにして得られた陽極酸化皮膜の
単位面積当たりのアドミッタンスと純水による接触角は
表１に示す通りであった。これを、基体ｅとする。その
後は、実施例１と同様な方法で電子写真感光体を作成
し、ドラムＥとした。
化皮膜を形成し、水洗後、封孔処理を施さずに純水で洗
浄し乾燥した。このようにして得られた陽極酸化皮膜の
単位面積当たりのアドミッタンスと純水による接触角は
表１に示す通りであった。これを、基体ｅとする。その
後は、実施例１と同様な方法で電子写真感光体を作成
し、ドラムＥとした。
【００５６】（比較例３）実施例３で作成した基体ｃ
を、温度３０℃、湿度６０％に調節した恒温恒湿箱中に
１ヶ月間保管したものを基体ｆとした。このようにして
得られた陽極酸化皮膜の単位面積当たりのアドミッタン
スと純水による接触角は表１に示す通りであった。その
後は、実施例１と同様な方法で電子写真感光体を作成
し、ドラムＦとした。
を、温度３０℃、湿度６０％に調節した恒温恒湿箱中に
１ヶ月間保管したものを基体ｆとした。このようにして
得られた陽極酸化皮膜の単位面積当たりのアドミッタン
スと純水による接触角は表１に示す通りであった。その
後は、実施例１と同様な方法で電子写真感光体を作成
し、ドラムＦとした。
【００５７】（比較例４）実施例１と同様に陽極酸化皮
膜を形成し、水洗後、酢酸ニッケルを主成分とする封孔
剤６ｇ／ｌを用いて、６５℃の水溶液に３０分間浸積し
て封孔処理を行い、洗浄、乾燥した。このようにして得
られた陽極酸化皮膜の単位面積当たりのアドミッタンス
と純水による接触角は表１に示す通りであった。これを
基体ｇとする。その後は、実施例１と同様な方法で電子
写真感光体を作成し、ドラムＧとした。
膜を形成し、水洗後、酢酸ニッケルを主成分とする封孔
剤６ｇ／ｌを用いて、６５℃の水溶液に３０分間浸積し
て封孔処理を行い、洗浄、乾燥した。このようにして得
られた陽極酸化皮膜の単位面積当たりのアドミッタンス
と純水による接触角は表１に示す通りであった。これを
基体ｇとする。その後は、実施例１と同様な方法で電子
写真感光体を作成し、ドラムＧとした。
【００５８】以上のように作成した基体ａ〜ｇを、１３
５℃で６０分間加熱した後急冷し、それをさらに２回繰
り返して、クラック発生の有無を観察した。観察結果を
表２に示す。
５℃で６０分間加熱した後急冷し、それをさらに２回繰
り返して、クラック発生の有無を観察した。観察結果を
表２に示す。
【００５９】
【表２】
【００６０】また、ドラムＡ〜Ｇを用いてページプリン
タ（ＮＥＣ製）に搭載し、温度２５℃，湿度５０％の環
境下で露光部電位および保持率を測定するとともに、各
種環境下で画像特性を評価した。評価結果を表３および
４に示す。
タ（ＮＥＣ製）に搭載し、温度２５℃，湿度５０％の環
境下で露光部電位および保持率を測定するとともに、各
種環境下で画像特性を評価した。評価結果を表３および
４に示す。
【００６１】
【表３】
【００６２】
【表４】
【００６３】表２〜４を参照すると、基体ａ〜ｃおよび
ｅ，ｇには加熱によるクラックは発生しなかったが、基
体ｄおよびｆには無数のクラックが発生した。また、ド
ラムの電位特性のうち、露光部電位測定からドラムＡ〜
Ｃに比べ、ドラムＥは感度が低い結果が得られた。次に
帯電性の指標として保持率をみると、比較例のドラムＤ
〜Ｇはいずれも不十分な値であり、総合的に画像濃度に
問題のある値であった。
ｅ，ｇには加熱によるクラックは発生しなかったが、基
体ｄおよびｆには無数のクラックが発生した。また、ド
ラムの電位特性のうち、露光部電位測定からドラムＡ〜
Ｃに比べ、ドラムＥは感度が低い結果が得られた。次に
帯電性の指標として保持率をみると、比較例のドラムＤ
〜Ｇはいずれも不十分な値であり、総合的に画像濃度に
問題のある値であった。
【００６４】また、各種環境下で画像特性を評価したと
ころ、ドラムＡ〜Ｃは全ての環境下でかぶりや黒点とい
った欠陥のない良好な画像が得られたが、比較例のドラ
ムＤ〜Ｇはいずれも欠陥が存在し、特に高温高湿環境で
はかぶりがひどく実用に耐えられないものであった。
ころ、ドラムＡ〜Ｃは全ての環境下でかぶりや黒点とい
った欠陥のない良好な画像が得られたが、比較例のドラ
ムＤ〜Ｇはいずれも欠陥が存在し、特に高温高湿環境で
はかぶりがひどく実用に耐えられないものであった。
【００６５】これらの結果から、陽極酸化皮膜のアドミ
ッタンスが０．４Ｓ／ｍ2 未満では耐熱性が悪くなりク
ラック発生しやすくなる。８０Ｓ／ｍ2 より大きいと、
ブロッキング効果が十分働かなくなるため、帯電性が悪
くなってしまう。
ッタンスが０．４Ｓ／ｍ2 未満では耐熱性が悪くなりク
ラック発生しやすくなる。８０Ｓ／ｍ2 より大きいと、
ブロッキング効果が十分働かなくなるため、帯電性が悪
くなってしまう。
【００６６】また、接触角は光導電層を形成する際の塗
料の塗れ性をみる指標となるが、３０°より小さいと吸
着性が大きく空気中のコンタミ等を付着しやすくし、塗
料のレベリングが抑制されて塗工ムラや黒点などの欠陥
を生じやすくなる。逆に、８０°より大きいと吸着性が
小さくなるためレベリングしやすくなるが、画像濃度を
保つため塗料濃度や塗工スピードを変化させて対応して
みたが塗工ムラを生じやすい結果となった。
料の塗れ性をみる指標となるが、３０°より小さいと吸
着性が大きく空気中のコンタミ等を付着しやすくし、塗
料のレベリングが抑制されて塗工ムラや黒点などの欠陥
を生じやすくなる。逆に、８０°より大きいと吸着性が
小さくなるためレベリングしやすくなるが、画像濃度を
保つため塗料濃度や塗工スピードを変化させて対応して
みたが塗工ムラを生じやすい結果となった。
【００６７】アドミッタンスと接触角は傾向として比例
の関係にあるが、アドミッタンスが高めであると、経時
変化によってもアドミッタンス変化は少なく、接触角ば
かり変化して電子写真感光体を製造する上で問題とな
る。
の関係にあるが、アドミッタンスが高めであると、経時
変化によってもアドミッタンス変化は少なく、接触角ば
かり変化して電子写真感光体を製造する上で問題とな
る。
【００６８】次に、請求項１から３に係る本発明の実施
の形態について説明する。
の形態について説明する。
【００６９】光導電層を積層する前処理として、陽極酸
化皮膜形成時の残留不純物や移動時に付着した不純物，
時間的に間隔が開くときには保管中に付着するコンタミ
等が存在するため洗浄工程を行うが、不純物を取り去る
物理的な洗浄力が必要であり、液体洗浄を行う。使用さ
れる液体としては有機溶剤や界面活性剤、それらを含有
した水溶液や純水等が用いられる。いずれも、余計な不
純物の少ないものを使用する。
化皮膜形成時の残留不純物や移動時に付着した不純物，
時間的に間隔が開くときには保管中に付着するコンタミ
等が存在するため洗浄工程を行うが、不純物を取り去る
物理的な洗浄力が必要であり、液体洗浄を行う。使用さ
れる液体としては有機溶剤や界面活性剤、それらを含有
した水溶液や純水等が用いられる。いずれも、余計な不
純物の少ないものを使用する。
【００７０】次に、細部に残存する微量な不純物を除去
するため、広帯域紫外線光源を用いて少なくとも１分以
上、表面を均一に照射する。照射装置の概略は、図３に
示すように、回転支持台１６に支持されたアルミニウム
基体１０に紫外線発生部１７から紫外線を一様に照射す
る。照射装置の持つ紫外線強度により、必要な照射時間
は変化する。
するため、広帯域紫外線光源を用いて少なくとも１分以
上、表面を均一に照射する。照射装置の概略は、図３に
示すように、回転支持台１６に支持されたアルミニウム
基体１０に紫外線発生部１７から紫外線を一様に照射す
る。照射装置の持つ紫外線強度により、必要な照射時間
は変化する。
【００７１】表面の洗浄度評価には、接触角測定により
判断でき、表面付着物を除去することで接触角の値が小
さくなる。接触角測定に用いる溶媒は、ぬれ指数標準液
（和光純薬工業製）等その値分布により選択されるが、
より広範囲の値が測定可能な７０ｄｙｎｅ／ｃｍ以上の
溶媒、例えば純水が測定に適している。
判断でき、表面付着物を除去することで接触角の値が小
さくなる。接触角測定に用いる溶媒は、ぬれ指数標準液
（和光純薬工業製）等その値分布により選択されるが、
より広範囲の値が測定可能な７０ｄｙｎｅ／ｃｍ以上の
溶媒、例えば純水が測定に適している。
【００７２】上記のようにして、電子写真感光体の基体
に施されている陽極酸化皮膜の耐熱性を損なわずに微量
な不純物を除去することが可能になり、該陽極酸化皮膜
の純水により接触角が３０°〜８０°の範囲で、かつア
ドミッタンスが０．４Ｓ／ｍ2 以上である条件を満たす
ことにより、全ての環境下で微少な黒点等の欠陥のない
優れた画像特性を有する電子写真感光体が得られる。
に施されている陽極酸化皮膜の耐熱性を損なわずに微量
な不純物を除去することが可能になり、該陽極酸化皮膜
の純水により接触角が３０°〜８０°の範囲で、かつア
ドミッタンスが０．４Ｓ／ｍ2 以上である条件を満たす
ことにより、全ての環境下で微少な黒点等の欠陥のない
優れた画像特性を有する電子写真感光体が得られる。
【００７３】（実施例４）Ａｌ−Ｓｉ−Ｍｇ系のアルミ
ニウム合金からなる直径３０ｍｍ、肉厚１．０５ｍｍの
鏡面仕上げした円筒状パイプを有機溶剤で脱脂洗浄し、
エッチングを行った。続いて、水洗浄後、電解質溶液と
して１５０ｇ／ｌの硫酸を用い、直流電圧２０Ｖで液温
２５℃に維持しながら１５分間陽極酸化処理を行い、平
均膜圧６μｍの陽極酸化皮膜を形成した。
ニウム合金からなる直径３０ｍｍ、肉厚１．０５ｍｍの
鏡面仕上げした円筒状パイプを有機溶剤で脱脂洗浄し、
エッチングを行った。続いて、水洗浄後、電解質溶液と
して１５０ｇ／ｌの硫酸を用い、直流電圧２０Ｖで液温
２５℃に維持しながら１５分間陽極酸化処理を行い、平
均膜圧６μｍの陽極酸化皮膜を形成した。
【００７４】次に、水洗後、酢酸ニッケルを主成分とす
る封孔剤６ｇ／ｌ，７０℃の水溶液中に６分間浸漬して
封孔処理を行った。続いて純水を用いて洗浄，乾燥し
た。
る封孔剤６ｇ／ｌ，７０℃の水溶液中に６分間浸漬して
封孔処理を行った。続いて純水を用いて洗浄，乾燥し
た。
【００７５】このようにして得られたアルミニウム基体
を回転台に固定して４０ｒｐｍで回転し、紫外線（低圧
水銀ランプ使用，ＵＶ出力１２ｍＷ／ｃｍ2 ，センエン
ジニアリング製）を基体全体に２分間照射した。これを
基体ｈとする。照射後、得られた基体ｈの陽極酸化皮膜
の単位面積当たりのアドミッタンスを測定したところ、
０．７５Ｓ／ｍ2 であり、純水による接触角は４８°で
あった。
を回転台に固定して４０ｒｐｍで回転し、紫外線（低圧
水銀ランプ使用，ＵＶ出力１２ｍＷ／ｃｍ2 ，センエン
ジニアリング製）を基体全体に２分間照射した。これを
基体ｈとする。照射後、得られた基体ｈの陽極酸化皮膜
の単位面積当たりのアドミッタンスを測定したところ、
０．７５Ｓ／ｍ2 であり、純水による接触角は４８°で
あった。
【００７６】続いて、チタニルフタロシアニン２．５重
量部およびポリビニルブチラール２重量部をテトラヒド
ロフラン１００重量部に加えたものをボールミルで２４
時間分散し、この分散塗料を基体ｈ上に浸積塗布し、加
熱乾燥して約０．２μｍの電荷発生層を形成した。
量部およびポリビニルブチラール２重量部をテトラヒド
ロフラン１００重量部に加えたものをボールミルで２４
時間分散し、この分散塗料を基体ｈ上に浸積塗布し、加
熱乾燥して約０．２μｍの電荷発生層を形成した。
【００７７】次に、次式に示す電荷輸送材料２０重量部
およびポリカーボネート（Ｚ−２００，三菱瓦斯化学
製）２０重量部を塩化メチレン１００重量部に溶解し
て、電荷発生層上に浸積塗布した後、加熱乾燥して約２
０μｍの電荷輸送層を形成して電子写真感光体を作成し
た。このようにして得られた電子写真感光体をドラムＨ
とする。
およびポリカーボネート（Ｚ−２００，三菱瓦斯化学
製）２０重量部を塩化メチレン１００重量部に溶解し
て、電荷発生層上に浸積塗布した後、加熱乾燥して約２
０μｍの電荷輸送層を形成して電子写真感光体を作成し
た。このようにして得られた電子写真感光体をドラムＨ
とする。
【００７８】
【００７９】（実施例５）実施例４と同様に陽極酸化皮
膜を形成し、封孔処理を行い、洗浄、乾燥した。得られ
たアルミニウム基体を温度８０℃，湿度８０％に調節し
た恒温恒湿箱内に２４時間放置し、加速試験を行った。
その後、純水で洗浄、乾燥し、実施例４と同様にして紫
外線を３分間照射した。これを基体ｉとする。照射後、
得られた基体ｉの陽極酸化皮膜の単位面積当たりのアド
ミッタンスおよび純水による接触角は表５に示す通りで
あった。その後は、実施例４と同様な方法で電子写真感
光体を作成し、ドラムＩとした。
膜を形成し、封孔処理を行い、洗浄、乾燥した。得られ
たアルミニウム基体を温度８０℃，湿度８０％に調節し
た恒温恒湿箱内に２４時間放置し、加速試験を行った。
その後、純水で洗浄、乾燥し、実施例４と同様にして紫
外線を３分間照射した。これを基体ｉとする。照射後、
得られた基体ｉの陽極酸化皮膜の単位面積当たりのアド
ミッタンスおよび純水による接触角は表５に示す通りで
あった。その後は、実施例４と同様な方法で電子写真感
光体を作成し、ドラムＩとした。
【００８０】
【表５】
【００８１】（実施例６）実施例４と同様に陽極酸化皮
膜を形成し、酢酸ニッケルを主成分とする封孔剤６ｇ／
ｌを用いて、５５℃の水溶液中に５分間浸積して封孔処
理を行い、洗浄、乾燥した。得られたアルミニウム基体
を梱包箱に入れ密封し、常温常湿環境下で２ヶ月放置し
た。放置後、純水で洗浄、乾燥し、実施例５と同様にし
て紫外線を４分間照射した。これを基体ｊとする。照射
後、得られた基体ｊの陽極酸化皮膜の単位面積当たりの
アドミッタンスと純水による接触角は表５に示す通りで
あった。その後は、実施例４と同様な方法で電子写真感
光体を作成し、ドラムＪとした。
膜を形成し、酢酸ニッケルを主成分とする封孔剤６ｇ／
ｌを用いて、５５℃の水溶液中に５分間浸積して封孔処
理を行い、洗浄、乾燥した。得られたアルミニウム基体
を梱包箱に入れ密封し、常温常湿環境下で２ヶ月放置し
た。放置後、純水で洗浄、乾燥し、実施例５と同様にし
て紫外線を４分間照射した。これを基体ｊとする。照射
後、得られた基体ｊの陽極酸化皮膜の単位面積当たりの
アドミッタンスと純水による接触角は表５に示す通りで
あった。その後は、実施例４と同様な方法で電子写真感
光体を作成し、ドラムＪとした。
【００８２】（比較例５）実施例４と同様に陽極酸化処
理および封孔処理を行い、純水による洗浄のみ行った。
これを基体ｋとする。得られた基体ｋの陽極酸化皮膜の
単位面積当たりのアドミッタンスと純水による接触角を
測定した（表５参照）。その後は、実施例４と同様な方
法で電子写真感光体を作成し、ドラムＫとした。
理および封孔処理を行い、純水による洗浄のみ行った。
これを基体ｋとする。得られた基体ｋの陽極酸化皮膜の
単位面積当たりのアドミッタンスと純水による接触角を
測定した（表５参照）。その後は、実施例４と同様な方
法で電子写真感光体を作成し、ドラムＫとした。
【００８３】（比較例６）実施例５と同様にして陽極酸
化処理および封孔処理を行い、加速試験を行った後、純
水による洗浄のみ行った。これを基体ｌとする。得られ
た基体ｌの陽極酸化皮膜の単位面積当たりのアドミッタ
ンスと純水による接触角を測定した（表５参照）。その
後は、実施例４と同様な方法で電子写真感光体を作成
し、ドラムＬとした。
化処理および封孔処理を行い、加速試験を行った後、純
水による洗浄のみ行った。これを基体ｌとする。得られ
た基体ｌの陽極酸化皮膜の単位面積当たりのアドミッタ
ンスと純水による接触角を測定した（表５参照）。その
後は、実施例４と同様な方法で電子写真感光体を作成
し、ドラムＬとした。
【００８４】（比較例７）実施例６と同様にして陽極酸
化処理および封孔処理を行い、２ケ月の放置後、純水に
よる洗浄のみ行った。これを基体ｍとする。得られた基
体ｍの陽極酸化皮膜の単位面積当たりのアドミッタンス
と純水による接触角を測定した（表５参照）。その後
は、実施例４と同様な方法で電子写真感光体を作成し、
ドラムＭとした。
化処理および封孔処理を行い、２ケ月の放置後、純水に
よる洗浄のみ行った。これを基体ｍとする。得られた基
体ｍの陽極酸化皮膜の単位面積当たりのアドミッタンス
と純水による接触角を測定した（表５参照）。その後
は、実施例４と同様な方法で電子写真感光体を作成し、
ドラムＭとした。
【００８５】上記のアルミニウム基体ｈ〜ｍを、１３５
℃で６０分間加熱した後急冷し、それをさらに２回繰り
返して、クラック発生の有無を観察した。観察結果を表
６に示す。また、ドラムＨ〜Ｍを用いてページプリンタ
（ＮＥＣ製）に搭載し、各種環境下で画像特性を評価し
た。評価結果を表７に示す。
℃で６０分間加熱した後急冷し、それをさらに２回繰り
返して、クラック発生の有無を観察した。観察結果を表
６に示す。また、ドラムＨ〜Ｍを用いてページプリンタ
（ＮＥＣ製）に搭載し、各種環境下で画像特性を評価し
た。評価結果を表７に示す。
【００８６】
【表６】
【００８７】
【表７】
【００８８】表６および表７を参照すると、基体ｈ〜
ｊ，ｍに加熱によるクラックは発生しなかったが、基体
ｋおよびｌには無数のクラックが発生した。それらの基
体を用いて、感光体にして各種環境下で画像特性を評価
したところ、クラック発生の起こったドラムＫおよびＬ
には塗工ムラが起こった。また、紫外線照射を行わなか
った全てのドラムでの画像に黒点等がみられたが、紫外
線照射を行ったドラムＨ〜Ｊは全ての環境下で画像欠陥
のない良好な画像が得られた。
ｊ，ｍに加熱によるクラックは発生しなかったが、基体
ｋおよびｌには無数のクラックが発生した。それらの基
体を用いて、感光体にして各種環境下で画像特性を評価
したところ、クラック発生の起こったドラムＫおよびＬ
には塗工ムラが起こった。また、紫外線照射を行わなか
った全てのドラムでの画像に黒点等がみられたが、紫外
線照射を行ったドラムＨ〜Ｊは全ての環境下で画像欠陥
のない良好な画像が得られた。
【００８９】これらの結果から、アルミニウム基体に光
導電層を形成する際の前処理として、液体洗浄に併せて
紫外線照射による表面洗浄を行うと、画像欠陥となる微
量な不純物を除去することが可能である。また、紫外線
照射は陽極酸化皮膜が時間的変化によって自然酸化して
耐熱性が劣化した状態でも、回復させる効果がある。
導電層を形成する際の前処理として、液体洗浄に併せて
紫外線照射による表面洗浄を行うと、画像欠陥となる微
量な不純物を除去することが可能である。また、紫外線
照射は陽極酸化皮膜が時間的変化によって自然酸化して
耐熱性が劣化した状態でも、回復させる効果がある。
【００９０】耐熱性は、陽極酸化皮膜のアドミッタンス
が０．４Ｓ／ｍ2 未満で悪くなり、クラック発生が起こ
る。接触角は基体表面の洗浄度をみる指標である他に、
光導電層を形成する際の塗料の塗れ性をみる目安となる
が、３０°より小さいと吸着性が大きく空気中のコンタ
ミ等を付着しやすくし、塗料のレベリングが抑制されて
塗工ムラや黒点などの欠陥を生じやすくなる。逆に、８
０°より大きいと吸着性が小さくなりレベリングしやす
くなるが、画像濃度を保つため塗料濃度や塗工スピード
を変化させて対応してみたが塗工ムラや濃淡ムラを生じ
やすい結果となった。
が０．４Ｓ／ｍ2 未満で悪くなり、クラック発生が起こ
る。接触角は基体表面の洗浄度をみる指標である他に、
光導電層を形成する際の塗料の塗れ性をみる目安となる
が、３０°より小さいと吸着性が大きく空気中のコンタ
ミ等を付着しやすくし、塗料のレベリングが抑制されて
塗工ムラや黒点などの欠陥を生じやすくなる。逆に、８
０°より大きいと吸着性が小さくなりレベリングしやす
くなるが、画像濃度を保つため塗料濃度や塗工スピード
を変化させて対応してみたが塗工ムラや濃淡ムラを生じ
やすい結果となった。
【００９１】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
電子写真感光体に用いられるアルミニウム基体の陽極酸
化皮膜のアドミッタンスおよび接触角の範囲を規定する
ことにより、基体の耐熱性を良好にし、かつ帯電性や各
環境下で欠陥のない良好な画像を有する優れた電子写真
感光体を提供することができる。
電子写真感光体に用いられるアルミニウム基体の陽極酸
化皮膜のアドミッタンスおよび接触角の範囲を規定する
ことにより、基体の耐熱性を良好にし、かつ帯電性や各
環境下で欠陥のない良好な画像を有する優れた電子写真
感光体を提供することができる。
【００９２】また、アルミニウム基体に紫外線による照
射を行い、陽極酸化皮膜のアドミッタンスおよび接触角
の範囲を規定することにより、基体の耐熱性を良好に
し、かつ各環境下で欠陥のない良好な画像を有する優れ
た電子写真感光体を提供することができる。
射を行い、陽極酸化皮膜のアドミッタンスおよび接触角
の範囲を規定することにより、基体の耐熱性を良好に
し、かつ各環境下で欠陥のない良好な画像を有する優れ
た電子写真感光体を提供することができる。
【図１】本発明による電子写真感光体の構造を示す説明
図。
図。
【図２】接触角の概要を示す説明図。
【図３】紫外線照射装置の概略を示す説明図。
１０ アルミニウム基体 １１ 陽極酸化皮膜 １２ 電荷発生層 １３ 電荷輸送層 １５ 接触角 １７ 紫外線発生部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平７−295266（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−248662（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−84391（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−233550（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−262774（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−278652（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G03G 5/00
Claims (3)
- 【請求項１】 アルミニウムまたはアルミニウム合金か
らなるアルミニウム基体上に陽極酸化皮膜を形成して封
孔処理を施し，さらに光導電層を設けて成る電子写真感
光体において、前記光導電層を設ける前処理に際し液体
洗浄後に紫外線を照射することを特徴とする電子写真感
光体。 - 【請求項２】 請求項１記載の電子写真感光体におい
て、前記前処理後の陽極酸化皮膜の純水による接触角が
３０〜８０°，かつアドミッタンスが０．４Ｓ／ｍ2以
上であることを特徴とする電子写真感光体。 - 【請求項３】 アルミニウムまたはアルミニウム合金か
らなるアルミニウム基体上に陽極酸化皮膜を形成して封
孔処理を施し、さらに液体洗浄後に紫外線を照射し、続
いて光導電層を塗布することを特徴とする電子写真感光
体の製造方法。
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|---|---|---|---|
| JP8308084A JP3012537B2 (ja) | 1996-11-19 | 1996-11-19 | 電子写真感光体およびその製造方法 |
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|---|---|---|---|
| JP8308084A JP3012537B2 (ja) | 1996-11-19 | 1996-11-19 | 電子写真感光体およびその製造方法 |
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|---|---|---|---|
| JP8308084A Expired - Fee Related JP3012537B2 (ja) | 1996-11-19 | 1996-11-19 | 電子写真感光体およびその製造方法 |
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| JPH08278652A (ja) * | 1995-04-06 | 1996-10-22 | Fuji Electric Co Ltd | 電子写真感光体用アルミニウム基体およびその製造方法 |
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| JPH09244288A (ja) * | 1996-03-14 | 1997-09-19 | Showa Alum Corp | 電子写真感光体 |
| JP3240951B2 (ja) * | 1997-03-26 | 2001-12-25 | 三菱電機株式会社 | 電子写真用感光体 |
| JP3037196B2 (ja) * | 1997-05-01 | 2000-04-24 | 新潟日本電気株式会社 | 電子写真感光体およびその製造方法 |
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1996
- 1996-11-19 JP JP8308084A patent/JP3012537B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1997
- 1997-11-18 US US08/972,886 patent/US6051357A/en not_active Expired - Lifetime
-
2000
- 2000-03-29 US US09/537,090 patent/US20020006565A1/en not_active Abandoned
Also Published As
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| US6051357A (en) | 2000-04-18 |
| JPH10148958A (ja) | 1998-06-02 |
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