JPH08278652A - 電子写真感光体用アルミニウム基体およびその製造方法 - Google Patents
電子写真感光体用アルミニウム基体およびその製造方法Info
- Publication number
- JPH08278652A JPH08278652A JP8095995A JP8095995A JPH08278652A JP H08278652 A JPH08278652 A JP H08278652A JP 8095995 A JP8095995 A JP 8095995A JP 8095995 A JP8095995 A JP 8095995A JP H08278652 A JPH08278652 A JP H08278652A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- aluminum substrate
- electrophotographic photoreceptor
- nickel
- layer
- anodized film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】”黒点”、”黒すじ”および”地かぶり”の画
像不良が発生しない電子写真感光体用アルミニウム基体
とその製造方法を提供する。 【構成】表面に酢酸ニッケルによる封孔処理がされた陽
極酸化皮膜を下引き層２とする電子写真感光体用アルミ
ニウム基体１において、前記陽極酸化皮膜の残留ニッケ
ルの濃度は１．０ａｔ％以下である。３は電荷発生層、
４は電荷移動層である。前記アルミニウム基体１の製造
方法は、前記陽極酸化皮膜は、封孔処理後に水による超
音波洗浄が行われるものである。
像不良が発生しない電子写真感光体用アルミニウム基体
とその製造方法を提供する。 【構成】表面に酢酸ニッケルによる封孔処理がされた陽
極酸化皮膜を下引き層２とする電子写真感光体用アルミ
ニウム基体１において、前記陽極酸化皮膜の残留ニッケ
ルの濃度は１．０ａｔ％以下である。３は電荷発生層、
４は電荷移動層である。前記アルミニウム基体１の製造
方法は、前記陽極酸化皮膜は、封孔処理後に水による超
音波洗浄が行われるものである。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は電子写真感光体に使用す
る、表面にアルミニウム陽極酸化皮膜を有する電子写真
感光体用アルミニウム基体に関するものである。
る、表面にアルミニウム陽極酸化皮膜を有する電子写真
感光体用アルミニウム基体に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】電子写真の技術は従来から複写機の分野
で発展を遂げ、最近では、レーザプリンターなどにも応
用され、従来のインパクトプリンターとは比較にならな
いほど高画質、高速、静粛性を特色として、急速に広ま
っている。これらの装置に使用される感光体は導電性基
体表面に光導電層を設けて形成される。光導電層の材料
としては、最近、有機材料を使用したものが主流であ
る。図１は機能分離型構造の有機電子写真感光体の断面
図である。導電性支持基体１の上に、下引き層２、電荷
発生層３および電荷移動層４が順次積層されている。
で発展を遂げ、最近では、レーザプリンターなどにも応
用され、従来のインパクトプリンターとは比較にならな
いほど高画質、高速、静粛性を特色として、急速に広ま
っている。これらの装置に使用される感光体は導電性基
体表面に光導電層を設けて形成される。光導電層の材料
としては、最近、有機材料を使用したものが主流であ
る。図１は機能分離型構造の有機電子写真感光体の断面
図である。導電性支持基体１の上に、下引き層２、電荷
発生層３および電荷移動層４が順次積層されている。
【０００３】導電性支持基体１としてアルミニウムが使
用されることが多い。アルミニウム基体の場合、基体か
らの電荷の注入を避けるため下引き層２を設けることが
多い。下引き層２としては、ポリアミドを代表とする樹
脂系材料の塗布層とアルミニウム基体の表面に形成され
た陽極酸化皮膜などのように、大きく分けて有機系と無
機系の２種類があるが、高温高湿環境下における信頼性
では後者の方が優っている。
用されることが多い。アルミニウム基体の場合、基体か
らの電荷の注入を避けるため下引き層２を設けることが
多い。下引き層２としては、ポリアミドを代表とする樹
脂系材料の塗布層とアルミニウム基体の表面に形成され
た陽極酸化皮膜などのように、大きく分けて有機系と無
機系の２種類があるが、高温高湿環境下における信頼性
では後者の方が優っている。
【０００４】従来の陽極酸化皮膜の下引き層の製造工程
は大別して、清浄化工程、陽極酸化工程および封孔処理
工程である。清浄化工程は機械加工後のアルミニウム基
体の表面の脱脂が目的であり、アルカリ（ＮａＯＨ、Ｋ
ＯＨなど）エッチングと純水洗浄が主である。陽極酸化
工程は、例えば、硫酸浴により数μm の厚さの陽極酸化
皮膜を形成する工程とその後の水洗工程からなる。封孔
工程は酢酸ニッケルにより行い陽極酸化皮膜の微細な孔
を封じ、表面を平滑化する工程であり、その後の純水を
用いての浸漬やシャワーによる洗浄、乾燥工程からな
る。
は大別して、清浄化工程、陽極酸化工程および封孔処理
工程である。清浄化工程は機械加工後のアルミニウム基
体の表面の脱脂が目的であり、アルカリ（ＮａＯＨ、Ｋ
ＯＨなど）エッチングと純水洗浄が主である。陽極酸化
工程は、例えば、硫酸浴により数μm の厚さの陽極酸化
皮膜を形成する工程とその後の水洗工程からなる。封孔
工程は酢酸ニッケルにより行い陽極酸化皮膜の微細な孔
を封じ、表面を平滑化する工程であり、その後の純水を
用いての浸漬やシャワーによる洗浄、乾燥工程からな
る。
【０００５】上記の工程により形成された下引き層に
は、有機感光体材料よりなる、感光層が形成され、その
上に電荷移動層が積層されて、有機感光体が完成され
る。
は、有機感光体材料よりなる、感光層が形成され、その
上に電荷移動層が積層されて、有機感光体が完成され
る。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】このような感光体はプ
リンターや複写機などにおいて電子写真プロセスが適用
されるが、リンターなどへの適用のように反転現像の場
合には、コピー後の紙の本来白地であるべき部分に、”
黒点”、”黒すじ”および”地かぶり”のコピー不良が
発生することがある。感光体のこれら不良に対応する部
分は電荷が帯電できない部分、すなわち、正孔が陽極酸
化皮膜から注入される部分である。感光体の製造工程と
の対応を調査した結果、この帯電不良部は封孔処理に密
接な関係のあることが判った。
リンターや複写機などにおいて電子写真プロセスが適用
されるが、リンターなどへの適用のように反転現像の場
合には、コピー後の紙の本来白地であるべき部分に、”
黒点”、”黒すじ”および”地かぶり”のコピー不良が
発生することがある。感光体のこれら不良に対応する部
分は電荷が帯電できない部分、すなわち、正孔が陽極酸
化皮膜から注入される部分である。感光体の製造工程と
の対応を調査した結果、この帯電不良部は封孔処理に密
接な関係のあることが判った。
【０００７】一方、ＥＳＣＡにより、陽極酸化皮膜を分
析すると、この不良部分からは酸素との結合しているＮ
ｉが検出され、このニッケルの酸化物を除去すれば、前
記不良部が改善されることが判った。ところが、純水の
浸漬やシャワーによる洗浄では、このニッケルの酸化物
を完全に除去するのは困難であった。したがって、感光
層を塗布する直前にアルカリ系洗浄剤等のような強力な
洗剤で洗浄し、表面の残留物（スマット等）を除去する
のが望ましいが、一度乾燥して固着した残留物に対して
は、アルカリ系洗剤による洗浄でも除去効率が悪く完全
に除去できないという問題がある。
析すると、この不良部分からは酸素との結合しているＮ
ｉが検出され、このニッケルの酸化物を除去すれば、前
記不良部が改善されることが判った。ところが、純水の
浸漬やシャワーによる洗浄では、このニッケルの酸化物
を完全に除去するのは困難であった。したがって、感光
層を塗布する直前にアルカリ系洗浄剤等のような強力な
洗剤で洗浄し、表面の残留物（スマット等）を除去する
のが望ましいが、一度乾燥して固着した残留物に対して
は、アルカリ系洗剤による洗浄でも除去効率が悪く完全
に除去できないという問題がある。
【０００８】本発明の目的は、”黒点”、”黒すじ”お
よび”地かぶり”のコピー不良が発生しない電子写真感
光体用アルミニウム基体とその製造方法を提供すること
にある。
よび”地かぶり”のコピー不良が発生しない電子写真感
光体用アルミニウム基体とその製造方法を提供すること
にある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】これらの課題を解決する
ため、表面に酢酸ニッケルによる封孔処理がされた陽極
酸化皮膜を有する電子写真感光体用アルミニウム基体に
おいて、前記陽極酸化皮膜の残留ニッケルの濃度は１．
０ａｔ％以下であるものとする。前記陽極酸化皮膜は、
封孔処理後に水による超音波洗浄を行うことにより得ら
れ。
ため、表面に酢酸ニッケルによる封孔処理がされた陽極
酸化皮膜を有する電子写真感光体用アルミニウム基体に
おいて、前記陽極酸化皮膜の残留ニッケルの濃度は１．
０ａｔ％以下であるものとする。前記陽極酸化皮膜は、
封孔処理後に水による超音波洗浄を行うことにより得ら
れ。
【００１０】
【作用】本発明によれば、残留ニッケル濃度が１at％以
下の陽極酸化皮膜を用いるので、ニッケルの酸化物に起
因する陽極酸化皮膜からの正孔の有機感光層への注入は
極めて少なく、目視検査で検出できるような大きさのあ
るいは濃度の”黒点”、”黒すじ”および”地かぶり”
のコピー不良は発生しない。
下の陽極酸化皮膜を用いるので、ニッケルの酸化物に起
因する陽極酸化皮膜からの正孔の有機感光層への注入は
極めて少なく、目視検査で検出できるような大きさのあ
るいは濃度の”黒点”、”黒すじ”および”地かぶり”
のコピー不良は発生しない。
【００１１】また、Ｘ線光電子分光法により陽極酸化皮
膜中のニッケルの結合状態を調べると、酸素と結合して
いることが判るので、陽極酸化皮膜の酢酸ニッケルによ
る封孔処理の後、純水中で超音波洗浄を行うため、陽極
酸化皮膜中に混入している酸化ニッケル分子が超音波に
より水中に叩き出されて、残留ニッケル濃度は極めて低
下すると推定される。
膜中のニッケルの結合状態を調べると、酸素と結合して
いることが判るので、陽極酸化皮膜の酢酸ニッケルによ
る封孔処理の後、純水中で超音波洗浄を行うため、陽極
酸化皮膜中に混入している酸化ニッケル分子が超音波に
より水中に叩き出されて、残留ニッケル濃度は極めて低
下すると推定される。
【００１２】
実施例１ ＪＩＳ６００３のアルミニウム円筒の表面を平滑に機械
加工した後、脱脂剤（日本パーカーライジング（株）
製、ファインクリーナー３１５）の水溶液（温度５０
℃）に浸漬し脱脂を行い、次に水洗して脱脂剤を除去し
た。その後、ＨＮＯ 3 に浸漬エッチングしさらに脱脂を
行った。エッチングは大きなエッチングピットが生じに
くい酸によるエッチングが好ましい。
加工した後、脱脂剤（日本パーカーライジング（株）
製、ファインクリーナー３１５）の水溶液（温度５０
℃）に浸漬し脱脂を行い、次に水洗して脱脂剤を除去し
た。その後、ＨＮＯ 3 に浸漬エッチングしさらに脱脂を
行った。エッチングは大きなエッチングピットが生じに
くい酸によるエッチングが好ましい。
【００１３】陽極酸化は、硫酸水溶液中での処理とし
た。硫酸濃度は１６０〜２００g/l が最適である。電解
処理中の温度は１８〜２２℃が最適であるが、特に２０
℃以上が好ましい。硫酸中の溶存アルミ量は１０g/l 以
下、望ましくは３〜７g/l が良い。電流密度は約１A/dm
2 とした。封孔処理は酢酸ニッケル水溶液（日本化学産
業（株）製、アルマイトシーラー）を用いて、温度は７
０℃で８．５分間行った後、純水で洗浄した。
た。硫酸濃度は１６０〜２００g/l が最適である。電解
処理中の温度は１８〜２２℃が最適であるが、特に２０
℃以上が好ましい。硫酸中の溶存アルミ量は１０g/l 以
下、望ましくは３〜７g/l が良い。電流密度は約１A/dm
2 とした。封孔処理は酢酸ニッケル水溶液（日本化学産
業（株）製、アルマイトシーラー）を用いて、温度は７
０℃で８．５分間行った後、純水で洗浄した。
【００１４】封孔処理後、純水中で４０ｋＨｚの超音波
洗浄を３分間行った。超音波洗浄の周波数は２８ｋＨ
ｚ、４０ｋＨｚで良いが、特に４０ｋＨｚが好ましく、
強度は高いほうが良く、アルミニウム円筒の直下に発振
器を設置するのが効率的である。超音波洗浄の後、熱風
空気乾燥させた。
洗浄を３分間行った。超音波洗浄の周波数は２８ｋＨ
ｚ、４０ｋＨｚで良いが、特に４０ｋＨｚが好ましく、
強度は高いほうが良く、アルミニウム円筒の直下に発振
器を設置するのが効率的である。超音波洗浄の後、熱風
空気乾燥させた。
【００１５】こうして得られた表面のアルミニウム円筒
および比較例として、封孔処理後は純水洗浄のみとした
表面のアルミニウム円筒について、電子プローブマイク
ロアナライザ（ＥＰＭＡ）により陽極酸化皮膜中のニッ
ケル濃度（ａｔ％）を測定した。その結果は表１に示
す。次いで、超音波洗浄および純水洗浄のみのアルミニ
ウム円筒に感光層を塗布してそれぞれ感光体を完成し
た。電荷発生層としてＸ型無金属フタロシアニンを塩化
ビニル酢酸ビニル共重合体に１対１の比率で分散させた
もの、電荷移動層としてポリカーボネートとヒドラゾン
系材料を混合したものを用いて、順に塗布した。
および比較例として、封孔処理後は純水洗浄のみとした
表面のアルミニウム円筒について、電子プローブマイク
ロアナライザ（ＥＰＭＡ）により陽極酸化皮膜中のニッ
ケル濃度（ａｔ％）を測定した。その結果は表１に示
す。次いで、超音波洗浄および純水洗浄のみのアルミニ
ウム円筒に感光層を塗布してそれぞれ感光体を完成し
た。電荷発生層としてＸ型無金属フタロシアニンを塩化
ビニル酢酸ビニル共重合体に１対１の比率で分散させた
もの、電荷移動層としてポリカーボネートとヒドラゾン
系材料を混合したものを用いて、順に塗布した。
【００１６】これらの感光体をコピー機にセットし、画
像品質を調べた。表１は実施例と比較例の画像品質およ
び陽極酸化皮膜中のニッケル濃度である。
像品質を調べた。表１は実施例と比較例の画像品質およ
び陽極酸化皮膜中のニッケル濃度である。
【００１７】
【表１】 表１から、”地かぶり”、”黒点”および”黒すじ”は
封孔処理後の洗浄方法として、純水の浸漬による洗浄に
比べ、超音波により洗浄した方が著しく少ないことが判
る。また、これは陽極酸化皮膜中のニッケル濃度に対応
していることが判る。
封孔処理後の洗浄方法として、純水の浸漬による洗浄に
比べ、超音波により洗浄した方が著しく少ないことが判
る。また、これは陽極酸化皮膜中のニッケル濃度に対応
していることが判る。
【００１８】
【発明の効果】本発明によれば、ニッケル濃度の低い陽
極酸化皮膜を下引き層として用いるので、そこからの正
孔の注入は極めて少なくなり、”地かぶり”、”黒点”
および”黒すじ”などが実用的には認められない画像が
得られる。また、陽極酸化皮膜は純水中での超音波洗浄
が施されるので、陽極酸化皮膜中のニッケルは除去さ
れ、有機感光層に適した下引き層が得られる。
極酸化皮膜を下引き層として用いるので、そこからの正
孔の注入は極めて少なくなり、”地かぶり”、”黒点”
および”黒すじ”などが実用的には認められない画像が
得られる。また、陽極酸化皮膜は純水中での超音波洗浄
が施されるので、陽極酸化皮膜中のニッケルは除去さ
れ、有機感光層に適した下引き層が得られる。
【図１】機能分離型構造電子写真感光体の断面図
１ 導電性支持基体 ２ 下引き層 ３ 電荷発生層 ４ 電荷移動層
Claims (2)
- 【請求項１】表面に酢酸ニッケルによる封孔処理がされ
た陽極酸化皮膜を有する電子写真感光体用アルミニウム
基体において、前記陽極酸化皮膜の残留ニッケルの濃度
は１．０ａｔ％以下であることを特徴する電子写真感光
体用アルミニウム基体。 - 【請求項２】請求項１に記載の電子写真感光体用アルミ
ニウム基体の製造方法において、前記陽極酸化皮膜は、
封孔処理後に水による超音波洗浄が行われることを特徴
するアルミニウム基体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8095995A JPH08278652A (ja) | 1995-04-06 | 1995-04-06 | 電子写真感光体用アルミニウム基体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8095995A JPH08278652A (ja) | 1995-04-06 | 1995-04-06 | 電子写真感光体用アルミニウム基体およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08278652A true JPH08278652A (ja) | 1996-10-22 |
Family
ID=13733057
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8095995A Pending JPH08278652A (ja) | 1995-04-06 | 1995-04-06 | 電子写真感光体用アルミニウム基体およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08278652A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6051357A (en) * | 1996-11-19 | 2000-04-18 | Nec Corporation | Photoconductor for electrophotography |
| JP2005036315A (ja) * | 2003-06-19 | 2005-02-10 | Toyo Roki Mfg Co Ltd | アルミニウム又はアルミニウム合金への酸化皮膜の形成方法 |
| US7473506B2 (en) | 2005-08-26 | 2009-01-06 | Fuji Electric Device Technology Co., Ltd. | Method of producing an electrophotographic photoconductor and an electrophotographic photoconductor produced by this method |
| WO2014112298A1 (ja) * | 2013-01-15 | 2014-07-24 | 株式会社オートネットワーク技術研究所 | コネクタ端子およびコネクタ端子の製造方法 |
-
1995
- 1995-04-06 JP JP8095995A patent/JPH08278652A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6051357A (en) * | 1996-11-19 | 2000-04-18 | Nec Corporation | Photoconductor for electrophotography |
| JP2005036315A (ja) * | 2003-06-19 | 2005-02-10 | Toyo Roki Mfg Co Ltd | アルミニウム又はアルミニウム合金への酸化皮膜の形成方法 |
| US7473506B2 (en) | 2005-08-26 | 2009-01-06 | Fuji Electric Device Technology Co., Ltd. | Method of producing an electrophotographic photoconductor and an electrophotographic photoconductor produced by this method |
| WO2014112298A1 (ja) * | 2013-01-15 | 2014-07-24 | 株式会社オートネットワーク技術研究所 | コネクタ端子およびコネクタ端子の製造方法 |
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