JPH09197697A - 電子写真感光体用基板および電子写真感光体 - Google Patents
電子写真感光体用基板および電子写真感光体Info
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- JPH09197697A JPH09197697A JP626496A JP626496A JPH09197697A JP H09197697 A JPH09197697 A JP H09197697A JP 626496 A JP626496 A JP 626496A JP 626496 A JP626496 A JP 626496A JP H09197697 A JPH09197697 A JP H09197697A
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Abstract
(57)【要約】
【要約】
表面の汚染物が容易に確実に除去でき、その上に良好な
光導電層を形成できる電子写真感光体用基板を提供し、
この基板を用いて画像品質の良好な電子写真感光体を得
る。 【解決手段】アルミニウム系材料からなり、その表面に
下引き層として陽極酸化皮膜を有する電子写真感光体用
基板の皮膜表面に存在するピットの形状を、最大径２０
μｍ以下，平均径１０μｍ以下で、かつ、皮膜の表面粗
さの幾何学的中心線に対する深さが５μｍ以下，高さが
３μｍ以下に限定する。このような基板を用いることに
より、画像品質の良好な電子写真感光体が得られる。
光導電層を形成できる電子写真感光体用基板を提供し、
この基板を用いて画像品質の良好な電子写真感光体を得
る。 【解決手段】アルミニウム系材料からなり、その表面に
下引き層として陽極酸化皮膜を有する電子写真感光体用
基板の皮膜表面に存在するピットの形状を、最大径２０
μｍ以下，平均径１０μｍ以下で、かつ、皮膜の表面粗
さの幾何学的中心線に対する深さが５μｍ以下，高さが
３μｍ以下に限定する。このような基板を用いることに
より、画像品質の良好な電子写真感光体が得られる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、電子写真感光体
用基板およびその基板を使用した電子写真感光体に関
し、詳しくはアルミニウム系材料からなり表面に下引き
層としてアルミニウム陽極酸化皮膜が形成された基板お
よびその基板を使用した有機系の電子写真感光体に関す
る。
用基板およびその基板を使用した電子写真感光体に関
し、詳しくはアルミニウム系材料からなり表面に下引き
層としてアルミニウム陽極酸化皮膜が形成された基板お
よびその基板を使用した有機系の電子写真感光体に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】複写機やプリンターなどの電子写真応用
装置に像形成部材として用いられる電子写真感光体は、
導電性基板表面に光導電層が設けられてなる。最近で
は、光導電性材料として有機系材料を用いた，いわゆ
る，有機感光体が主流となり、層構成としては、光導電
層を電荷発生層と電荷輸送層に機能分離しこれらの層を
積層した機能分離型が一般的である。
装置に像形成部材として用いられる電子写真感光体は、
導電性基板表面に光導電層が設けられてなる。最近で
は、光導電性材料として有機系材料を用いた，いわゆ
る，有機感光体が主流となり、層構成としては、光導電
層を電荷発生層と電荷輸送層に機能分離しこれらの層を
積層した機能分離型が一般的である。
【０００３】このような感光体は、導電性基板上に有機
系光導電性材料を含む有機系材料の塗布液を塗布して光
導電層を成膜することにより製造されるが、光導電層を
成膜ムラなく、密着性良く形成するために、また、基板
から光導電層への電荷キャリアの注入性を制御するため
に、通常、下引き層が設けられる。下引き層としては、
ポリアミドなどの樹脂層を利用する場合と、アルミニウ
ム系材料からなる基板の表面に形成した陽極酸化皮膜を
利用する場合とがあるが、高温，高湿環境下での信頼性
では後者の方が一般的に勝っている。
系光導電性材料を含む有機系材料の塗布液を塗布して光
導電層を成膜することにより製造されるが、光導電層を
成膜ムラなく、密着性良く形成するために、また、基板
から光導電層への電荷キャリアの注入性を制御するため
に、通常、下引き層が設けられる。下引き層としては、
ポリアミドなどの樹脂層を利用する場合と、アルミニウ
ム系材料からなる基板の表面に形成した陽極酸化皮膜を
利用する場合とがあるが、高温，高湿環境下での信頼性
では後者の方が一般的に勝っている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】アルミニウム系材料か
らなる基板の表面に陽極酸化皮膜を形成するには、表面
機械加工−脱脂−エッチング−陽極酸化−封孔処理とい
う通常の陽極酸化法が採られる。この処理工程における
エッチング工程は、前工程の脱脂不足を補うことを目的
とする場合が多く、アルカリ（ＮａＯＨ，ＫＯＨなど）
を使用するのが一般的であるが、アルカリでエッチング
を行った際、アルミニウム系材料によっては大きなエッ
チピットが生じる。また、アルミニウム系材料によって
は陽極酸化時に陽極酸化ピットが生じる。このようなピ
ットが生じると、そのピット内にスマットなどの汚染物
が蓄積し残留して、その状態で光導電層を塗布生成する
と、得られた感光体の画像に黒点，黒すじ，地かぶりな
どの欠陥が発生する原因となることが知られている。こ
のため、封孔処理の後に純水による浸漬洗浄，シャワー
洗浄が行われている。
らなる基板の表面に陽極酸化皮膜を形成するには、表面
機械加工−脱脂−エッチング−陽極酸化−封孔処理とい
う通常の陽極酸化法が採られる。この処理工程における
エッチング工程は、前工程の脱脂不足を補うことを目的
とする場合が多く、アルカリ（ＮａＯＨ，ＫＯＨなど）
を使用するのが一般的であるが、アルカリでエッチング
を行った際、アルミニウム系材料によっては大きなエッ
チピットが生じる。また、アルミニウム系材料によって
は陽極酸化時に陽極酸化ピットが生じる。このようなピ
ットが生じると、そのピット内にスマットなどの汚染物
が蓄積し残留して、その状態で光導電層を塗布生成する
と、得られた感光体の画像に黒点，黒すじ，地かぶりな
どの欠陥が発生する原因となることが知られている。こ
のため、封孔処理の後に純水による浸漬洗浄，シャワー
洗浄が行われている。
【０００５】ところが、純水による浸漬洗浄，シャワー
洗浄を行っても、ピット内のスマットなどの汚染物を完
全に除去することは難しい。従って、光導電層を塗布す
る直前にアルカリ系洗浄剤などで洗浄し、汚染物を除去
することが望ましい。しかしながら、表面に存在するピ
ットの形状によっては、アルカリ系洗浄剤などによる洗
浄を行っても汚染物が残留するという問題があった。
洗浄を行っても、ピット内のスマットなどの汚染物を完
全に除去することは難しい。従って、光導電層を塗布す
る直前にアルカリ系洗浄剤などで洗浄し、汚染物を除去
することが望ましい。しかしながら、表面に存在するピ
ットの形状によっては、アルカリ系洗浄剤などによる洗
浄を行っても汚染物が残留するという問題があった。
【０００６】この発明は、上述の問題点を解消して、表
面の汚染物が容易に確実に除去でき、その上に光導電層
を良好に形成できる電子写真感光体用基板を提供し、こ
の基板を用いることにより画像品質の良好な電子写真感
光体を提供することを目的とする。
面の汚染物が容易に確実に除去でき、その上に光導電層
を良好に形成できる電子写真感光体用基板を提供し、こ
の基板を用いることにより画像品質の良好な電子写真感
光体を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記の課題は、この発明
によれば、アルミニウム系材料からなる基板の表面に下
引き層として形成する陽極酸化皮膜に存在するピット
（エッチピットおよび陽極酸化ピット）の形状を、最大
径が２０μｍ以下，平均径が１０μｍ以下で、かつ、陽
極酸化皮膜表面粗さの幾何学的中心線からの深さが５μ
ｍ以下，高さが３μｍ以下とし、このような基板を用い
て電子写真感光体を製造することによって解決される。
によれば、アルミニウム系材料からなる基板の表面に下
引き層として形成する陽極酸化皮膜に存在するピット
（エッチピットおよび陽極酸化ピット）の形状を、最大
径が２０μｍ以下，平均径が１０μｍ以下で、かつ、陽
極酸化皮膜表面粗さの幾何学的中心線からの深さが５μ
ｍ以下，高さが３μｍ以下とし、このような基板を用い
て電子写真感光体を製造することによって解決される。
【０００８】このように、陽極酸化皮膜のピット形状，
すなわち，基板表面のピット形状を限定することによ
り、光導電層形成前のアルカリ系洗浄剤などによる洗浄
により汚染物を確実に除去することができ、その上に良
好な光導電層を形成することができて、高温高湿環境を
含めた広い環境下で黒点，黒すじ，地かぶりなどの画像
欠陥が発生しない良好な特性の感光体が得られる。
すなわち，基板表面のピット形状を限定することによ
り、光導電層形成前のアルカリ系洗浄剤などによる洗浄
により汚染物を確実に除去することができ、その上に良
好な光導電層を形成することができて、高温高湿環境を
含めた広い環境下で黒点，黒すじ，地かぶりなどの画像
欠陥が発生しない良好な特性の感光体が得られる。
【０００９】基板材料としては、Ｆｅの含有量が０．５
重量％以下，Ｓｉの含有量が０．５重量％以下のアルミ
ニウム合金が望ましい。このような材料を用いることに
より、大きなピットの発生を抑制することができる。
重量％以下，Ｓｉの含有量が０．５重量％以下のアルミ
ニウム合金が望ましい。このような材料を用いることに
より、大きなピットの発生を抑制することができる。
【００１０】
【発明の実施の形態】感光体に用いた基板表面のピット
について、実施に画像欠陥を生じたピットと画像欠陥を
生じなかったピットについて、その形状を測定したとこ
ろ、表１に示すような結果が得られた。
について、実施に画像欠陥を生じたピットと画像欠陥を
生じなかったピットについて、その形状を測定したとこ
ろ、表１に示すような結果が得られた。
【００１１】
【表１】
【００１２】表１に見られるように、基板表面のピット
形状を上述のこの発明の範囲内に限定することが有効で
あることは明らかである。基板材料としては、アルミニ
ウム系材料はいずれでも使用可能であるが、特に、Ｆｅ
の含有量が０．５重量％以下，Ｓｉの含有量が０．５重
量％以下のアルミニウム合金を用いると大きなピットが
生じにくいので好適である。
形状を上述のこの発明の範囲内に限定することが有効で
あることは明らかである。基板材料としては、アルミニ
ウム系材料はいずれでも使用可能であるが、特に、Ｆｅ
の含有量が０．５重量％以下，Ｓｉの含有量が０．５重
量％以下のアルミニウム合金を用いると大きなピットが
生じにくいので好適である。
【００１３】このような材料からなる基板を表面機械加
工─脱脂─エッチング─陽極酸化─封孔処理─洗浄の順
に処理して陽極酸化皮膜を形成する。陽極酸化皮膜表面
に生じるピットの形状は、これらの各工程の条件により
異なってくる。エッチングは通常は脱脂効果を高めるた
めに苛性ソーダなどのアルカリを用いるが、大きなエッ
チピットの生じにくい酸を用いる方が好ましい。陽極酸
化は硫酸浴で硫酸濃度は１６０ｇ／リットル〜２００ｇ
／リットルが好ましい。処理中の浴温は１８℃〜２２℃
が好ましく、特に２０℃以上が好ましい。また、浴中の
溶存アルミニウム量は１０ｇ／リットル以下が良く，３
ｇ／リットル〜７ｇ／リットルが望ましい。封孔処理は
酢酸ニッケルを用い、処理温度は６０℃〜８０℃が望ま
しく、処理時間は５分〜１０分で８分〜１０分が好まし
い。
工─脱脂─エッチング─陽極酸化─封孔処理─洗浄の順
に処理して陽極酸化皮膜を形成する。陽極酸化皮膜表面
に生じるピットの形状は、これらの各工程の条件により
異なってくる。エッチングは通常は脱脂効果を高めるた
めに苛性ソーダなどのアルカリを用いるが、大きなエッ
チピットの生じにくい酸を用いる方が好ましい。陽極酸
化は硫酸浴で硫酸濃度は１６０ｇ／リットル〜２００ｇ
／リットルが好ましい。処理中の浴温は１８℃〜２２℃
が好ましく、特に２０℃以上が好ましい。また、浴中の
溶存アルミニウム量は１０ｇ／リットル以下が良く，３
ｇ／リットル〜７ｇ／リットルが望ましい。封孔処理は
酢酸ニッケルを用い、処理温度は６０℃〜８０℃が望ま
しく、処理時間は５分〜１０分で８分〜１０分が好まし
い。
【００１４】
【実施例】以下、具体的な実施例について説明する。 実施例１ Ｆｅ：０．２重量％，Ｓｉ：０．３１重量％，残部Ａｌ
の組成（組成ａとする）のアルミニウム合金からなる基
板の表面を精密加工旋盤により表面粗さがＲma x で０．
５μｍ〜１．２μｍとなるように加工し、続いて、次に
述べる陽極酸化処理を行った。脱脂剤（日本パーカーラ
イジング（株）製；商品名「ファインクリーナー」）で
温度５０℃で旋盤加工で付着した切削油の脱脂を３分間
行い、水洗して脱脂剤を除去する。続いて、ＨＮＯ3 に
よるエッチングでさらに脱脂を行う。陽極酸化は、硫酸
濃度１８０ｇ／リットルの硫酸浴で、浴温２０℃で２４
分間行い、厚さ７μｍの皮膜を形成し、その後純水で洗
浄する。続いて、酢酸ニッケル溶液（日本化学産業
（株）製；商品名「アルマイトシーラー」）を用いて、
温度７０℃で８．５分間封孔処理を行った後、純水で洗
浄する。得られた基板の表面のピットの形状の測定結果
を表２に示す。
の組成（組成ａとする）のアルミニウム合金からなる基
板の表面を精密加工旋盤により表面粗さがＲma x で０．
５μｍ〜１．２μｍとなるように加工し、続いて、次に
述べる陽極酸化処理を行った。脱脂剤（日本パーカーラ
イジング（株）製；商品名「ファインクリーナー」）で
温度５０℃で旋盤加工で付着した切削油の脱脂を３分間
行い、水洗して脱脂剤を除去する。続いて、ＨＮＯ3 に
よるエッチングでさらに脱脂を行う。陽極酸化は、硫酸
濃度１８０ｇ／リットルの硫酸浴で、浴温２０℃で２４
分間行い、厚さ７μｍの皮膜を形成し、その後純水で洗
浄する。続いて、酢酸ニッケル溶液（日本化学産業
（株）製；商品名「アルマイトシーラー」）を用いて、
温度７０℃で８．５分間封孔処理を行った後、純水で洗
浄する。得られた基板の表面のピットの形状の測定結果
を表２に示す。
【００１５】このようにして得られた基板上に、光導電
層を形成して感光体を作製する。光導電層を塗布形成す
る直前に、基板表面を洗浄剤（上村工業（株）製；商品
名「Ｕクリーナー」）で温度４０℃で３分間脱脂洗浄
し、続いてその上にＸ型無金属フタロシアニンと塩化ビ
ニル酢酸ビニル共重合体とを１：１の重量比で有機溶媒
に分散，溶解した塗布液を塗布して電荷発生層を形成
し、さらにその上にポリカーボネートとヒドラゾン系化
合物とを有機溶媒に溶解させた塗布液を塗布して電荷輸
送層を形成して感光体を作製した。
層を形成して感光体を作製する。光導電層を塗布形成す
る直前に、基板表面を洗浄剤（上村工業（株）製；商品
名「Ｕクリーナー」）で温度４０℃で３分間脱脂洗浄
し、続いてその上にＸ型無金属フタロシアニンと塩化ビ
ニル酢酸ビニル共重合体とを１：１の重量比で有機溶媒
に分散，溶解した塗布液を塗布して電荷発生層を形成
し、さらにその上にポリカーボネートとヒドラゾン系化
合物とを有機溶媒に溶解させた塗布液を塗布して電荷輸
送層を形成して感光体を作製した。
【００１６】実施例２ 実施例１において、基板材料をＦｅ：０．１２重量％，
Ｓｉ：０．１０重量％，残部Ａｌの組成（組成ｂとす
る）のアルミニウム合金に代えたこと以外は、実施例１
と同様にして基板表面に陽極酸化皮膜を形成した。得ら
れた基板の表面のピットの形状の測定結果を表２に示
す。その後、実施例１と同様に光導電層を形成して感光
体を作製した。
Ｓｉ：０．１０重量％，残部Ａｌの組成（組成ｂとす
る）のアルミニウム合金に代えたこと以外は、実施例１
と同様にして基板表面に陽極酸化皮膜を形成した。得ら
れた基板の表面のピットの形状の測定結果を表２に示
す。その後、実施例１と同様に光導電層を形成して感光
体を作製した。
【００１７】比較例１ 実施例１において、基板材料をＦｅ：０．３２重量％，
Ｓｉ：０．５２重量％，残部Ａｌの組成（組成ｃとす
る）のアルミニウム合金に代えたこと以外は、実施例１
と同様にして基板表面に陽極酸化皮膜を形成した。得ら
れた基板の表面のピットの形状の測定結果を表２に示
す。その後、実施例１と同様に光導電層を形成して感光
体を作製した。
Ｓｉ：０．５２重量％，残部Ａｌの組成（組成ｃとす
る）のアルミニウム合金に代えたこと以外は、実施例１
と同様にして基板表面に陽極酸化皮膜を形成した。得ら
れた基板の表面のピットの形状の測定結果を表２に示
す。その後、実施例１と同様に光導電層を形成して感光
体を作製した。
【００１８】このようにして得られた各感光体につい
て、画像品質を評価した結果を表２に示す。
て、画像品質を評価した結果を表２に示す。
【００１９】
【表２】
【００２０】表２に見られるように、この発明により限
定された表面ピット形状を有する基板の効果は明らかで
ある。 実施例３ 実施例２で述べた組成ｂのアルミニウム合金からなる基
板の表面を精密加工旋盤により表面粗さがＲmax ０．５
μｍ〜１．２μｍとなるように加工し、続いて、次に述
べる条件で陽極酸化処理を行った。脱脂剤（貴和化学
（株）製；商品名「アルキレンＦ−３００Ｋ」を用い、
温度５０℃で旋盤加工で付着した切削油の脱脂を３分間
行う。続いて脱脂剤を水洗除去した後、大きなエッチピ
ットを生じさせない酸（ＨＮＯ3 ）によるエッチングで
さらに脱脂を行い、水洗する。続いて、実施例１と同様
にして陽極酸化を行い厚さ７μｍの陽極酸化皮膜を形成
し、その後、濃度７ｇ／リットルの酢酸ニッケル溶液で
温度６５℃で８分間封孔処理を行い、水洗する。このよ
うな陽極酸化処理条件１で得られた基板の表面のピット
形状を表３に示す。
定された表面ピット形状を有する基板の効果は明らかで
ある。 実施例３ 実施例２で述べた組成ｂのアルミニウム合金からなる基
板の表面を精密加工旋盤により表面粗さがＲmax ０．５
μｍ〜１．２μｍとなるように加工し、続いて、次に述
べる条件で陽極酸化処理を行った。脱脂剤（貴和化学
（株）製；商品名「アルキレンＦ−３００Ｋ」を用い、
温度５０℃で旋盤加工で付着した切削油の脱脂を３分間
行う。続いて脱脂剤を水洗除去した後、大きなエッチピ
ットを生じさせない酸（ＨＮＯ3 ）によるエッチングで
さらに脱脂を行い、水洗する。続いて、実施例１と同様
にして陽極酸化を行い厚さ７μｍの陽極酸化皮膜を形成
し、その後、濃度７ｇ／リットルの酢酸ニッケル溶液で
温度６５℃で８分間封孔処理を行い、水洗する。このよ
うな陽極酸化処理条件１で得られた基板の表面のピット
形状を表３に示す。
【００２１】このようにして得られた基板上に、光導電
層を形成して感光体を作製する。光導電層を塗布形成す
る直前に、基板表面をアルカリ洗剤液で温度２５℃で浸
漬洗浄した後水洗乾燥し、続いてその上にＸ型無金属フ
タロシアニンと塩化ビニル酢酸ビニル共重合体を４：６
の重量比で有機溶媒に分散，溶解した塗布液を塗布して
電荷発生層を形成し、さらにその上にポリカーボネート
とヒドラゾン系化合物を有機溶媒に溶解させた塗布液を
塗布して電荷輸送層を形成して感光体を作製した。
層を形成して感光体を作製する。光導電層を塗布形成す
る直前に、基板表面をアルカリ洗剤液で温度２５℃で浸
漬洗浄した後水洗乾燥し、続いてその上にＸ型無金属フ
タロシアニンと塩化ビニル酢酸ビニル共重合体を４：６
の重量比で有機溶媒に分散，溶解した塗布液を塗布して
電荷発生層を形成し、さらにその上にポリカーボネート
とヒドラゾン系化合物を有機溶媒に溶解させた塗布液を
塗布して電荷輸送層を形成して感光体を作製した。
【００２２】比較例２ 実施例３において、陽極酸化処理条件１のうち、脱脂剤
による脱脂後の酸によるエッチング工程を、アルカリ
（濃度６０ｇ／リットルのＮａＯＨ溶液）による温度４
５℃で１５秒間のエッチングに代え、その後ＨＮＯ3 で
中和し水洗する工程に代えたこと以外が、実施例３と同
様にして基板の表面に陽極酸化皮膜を形成する。このよ
うな陽極酸化処理条件２で得られた基板の表面のピット
形状を表３に示す。
による脱脂後の酸によるエッチング工程を、アルカリ
（濃度６０ｇ／リットルのＮａＯＨ溶液）による温度４
５℃で１５秒間のエッチングに代え、その後ＨＮＯ3 で
中和し水洗する工程に代えたこと以外が、実施例３と同
様にして基板の表面に陽極酸化皮膜を形成する。このよ
うな陽極酸化処理条件２で得られた基板の表面のピット
形状を表３に示す。
【００２３】このようにして得られた基板上に、実施例
３と同様に光導電層を形成して感光体を作製した。この
ようにして得られた感光体の画像品質を評価した結果を
表３に示す。
３と同様に光導電層を形成して感光体を作製した。この
ようにして得られた感光体の画像品質を評価した結果を
表３に示す。
【００２４】
【表３】
【００２５】表３より、陽極酸化前のエッチングは酸で
行う方が、発生するエッチピットの形状が小さくなり好
ましことが判る。
行う方が、発生するエッチピットの形状が小さくなり好
ましことが判る。
【００２６】
【発明の効果】この発明によれば、アルミニウム系材料
からなりその表面に下引き層として陽極酸化皮膜を有す
る電子写真感光体用基板において、前記陽極酸化皮膜表
面に存在するピット（エッチピットおよび陽極酸化ピッ
ト）の形状を、最大径２０μｍ以下，平均径１０μｍ以
下，陽極酸化皮膜の表面粗さの幾何学的中心線に対する
ピットの深さが５μｍ以下，ピットの高さが３μｍ以下
に限定する。このようにピットの大きさを限定すること
により、基板表面の汚染物を容易に確実に除去でき、そ
の上に良好な光導電層を形成することができ、画像品質
の良好な感光体を得ることができる。
からなりその表面に下引き層として陽極酸化皮膜を有す
る電子写真感光体用基板において、前記陽極酸化皮膜表
面に存在するピット（エッチピットおよび陽極酸化ピッ
ト）の形状を、最大径２０μｍ以下，平均径１０μｍ以
下，陽極酸化皮膜の表面粗さの幾何学的中心線に対する
ピットの深さが５μｍ以下，ピットの高さが３μｍ以下
に限定する。このようにピットの大きさを限定すること
により、基板表面の汚染物を容易に確実に除去でき、そ
の上に良好な光導電層を形成することができ、画像品質
の良好な感光体を得ることができる。
Claims (3)
- 【請求項１】アルミニウム系材料からなりその表面に下
引き層として陽極酸化皮膜を有する電子写真感光体用基
板であって、前記陽極酸化皮膜表面に存在するピット
（エッチピットおよび陽極酸化ピット）の形状が、最大
径２０μｍ以下，平均径１０μｍ以下で、かつ、陽極酸
化皮膜の表面粗さの幾何学的中心線に対する深さが５μ
ｍ以下，高さが３μｍ以下であることを特徴とする電子
写真感光体用基板。 - 【請求項２】アルミニウム系材料がＦｅの含有量０．５
重量％以下，Ｓｉの含有量０．５重量％以下のアルミニ
ウム合金であることを特徴とする請求項１記載の電子写
真感光体用基板。 - 【請求項３】請求項１または２記載の電子写真感光体用
基板上に光導電層が形成されてなることを特徴とする電
子写真感光体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP626496A JPH09197697A (ja) | 1996-01-18 | 1996-01-18 | 電子写真感光体用基板および電子写真感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP626496A JPH09197697A (ja) | 1996-01-18 | 1996-01-18 | 電子写真感光体用基板および電子写真感光体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09197697A true JPH09197697A (ja) | 1997-07-31 |
Family
ID=11633600
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP626496A Withdrawn JPH09197697A (ja) | 1996-01-18 | 1996-01-18 | 電子写真感光体用基板および電子写真感光体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09197697A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7473506B2 (en) | 2005-08-26 | 2009-01-06 | Fuji Electric Device Technology Co., Ltd. | Method of producing an electrophotographic photoconductor and an electrophotographic photoconductor produced by this method |
-
1996
- 1996-01-18 JP JP626496A patent/JPH09197697A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
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|---|---|---|---|---|
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