JP2908657B2 - 半導体レーザアレイ記録装置 - Google Patents
半導体レーザアレイ記録装置Info
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Description
光源とし、複数ラインを同時に記録することが可能な半
導体レーザアレイ記録装置に関する。
ザアレイをレーザ走査光学系に用いた場合の出力制御に
関するものとして、特開昭59−19252号公報、特
開平1−106486号公報に開示されているものがあ
る。この場合、1ライン走査毎に次走査までの無効走査
期間内で半導体レーザアレイを構成する半導体レーザを
1個ずつ時系列で点灯させ、半導体レーザアレイパッケ
ージに内蔵されたバックビーム光量検出器(モニタP
D)により光量を検出し、このモニタPDの出力信号に
より各半導体レーザの出力を制御する方式である。
273862号公報に開示されているように、半導体レ
ーザアレイを構成する各半導体レーザ間の熱結合(熱的
な干渉)で発生する出力変動を低減するため、熱結合の
時定数よりも短い所定の時間毎に半導体レーザ駆動電流
をリセットし、所定の出力となるような各半導体のレー
ザ出力を制御する方式がある。
155676号公報に開示されているように、半導体レ
ーザ(LD)アレイのバックビームを、そのLDアレイ
のLD数に対応した受光素子で検出するLDアレイにお
いて、その受光素子の受光面に遮光部を設け、個々のL
Dの出力を独立した受光素子で検出し、それらLDのレ
ーザ出力を制御することによって、バックビーム間の光
クロストークを防止させるようにした方式がある。
わせたレーザプリンタは、普通紙が使用でき高速で高画
質な画像が得られるため、急速にコンピュータの出力装
置や、デジタル複写機として普及してきている。そこ
で、以下、レーザプリンタの具体例を図29〜図31に
基づいて説明する。
学系の構成を示すものである。画像信号に応じて変調さ
れた半導体レーザ1から出射されたレーザビームはコリ
メートレンズ2によりコリメートされ、回転多面鏡3で
反射され、結像レンズ4(fθレンズ)で感光体5上に
微小スポットとして結像される。この微小スポットが回
転多面鏡3と感光体5の回転により走査露光し、画像の
静電潜像が形成される。また、走査線上の走査開始側の
画像範囲外に置かれた受光素子6は、主走査方向の画像
書込み開始位置を制御するためにある。
間にA4サイズの画像を100枚出力するような光学系
を実現するためには、感光体5の速度は500mm/s
ec程度となり、回転多面鏡3の回転数R(rpm)
は、以下の式で与えられる。
PIは1インチ当たりに記録できるドット数で一般的に
は300〜400、Nは回転多面鏡3の反射面の数で一
般的には6〜10である。Vo=500、DPI=30
0、N=8を(1)式に代入すると回転多面鏡3の回転
数Rは44291(rpm)になる。
転数では、回転軸を支える軸受として従来のボールベア
リングを使用することができず、流体軸受、磁気軸受な
どの特殊な軸受が必要となりコストアップとなる。ま
た、光源であるレーザの変調周波数が高くなるためレー
ザ制御回路及びホストマシンからのデータ転送速度の高
速化が必要となり、回路が複雑になると同時にコストア
ップとなる。
の光源からのレーザビームを1個の回転多面鏡で偏向走
査し、これと同時に複数ラインを記録する方式がある。
複数のレーザビームで走査することによりレーザビーム
の本数がM本になれば、前述した回転多面鏡の回転数及
びレーザの変調周波数は1/Mとなり大幅なコウトダウ
ンを図ることができる。この場合、光源としては、1チ
ップ内に複数の発光素子(LD)を有し、個々のLDが
独立に変調が可能な半導体レーザアレイ(LDA)が多
く用いられる。このLDAが用いられる理由は、感光体
上での各レーザビームのピッチが半導体レーザチップの
加工精度で決まるため、熱変形等の影響で感光体上での
レーザビームのピッチが変動することが少ないことや、
コリメートレンズ、結像レンズなどが1組でよく光学系
がシンプルになるからである。図30は3個のLDをア
レイ化してなるLDA7の一例を示すものであり、独立
に駆動、変調可能なLD8a,8b,8cが一列に並ん
だ構造を示すものである。
調する場合、周辺の発光点の状態(ONかOFFか)に
よって、発光部間相互の熱的な干渉を受け発光部の温度
が変化してしまう。LD8a,8b,8cの電流−光出
力特性は温度により大きく変化するため、一定の電流に
よりLD8a,8b,8cを駆動してもLDA7の場
合、発光部間の相互の熱的な干渉によって光出力は大き
く変動してしまう。実験値によると、熱干渉の時定数
(熱結合時定数)は、発光点間距離が100μmで数m
sec、発光点間距離が50μmで数100μsecで
あった。
DA7を光源として使用した場合、中心のLD以外のL
Dビームは、コリメートレンズ、結像レンズの光軸外を
使用し、収差による記録ビーム形状の劣化、走査線曲が
りが発生するため、発光点間距離はできるだけ短い方が
よい。しかし、1走査毎に出力制御を行っている前記第
一の従来例の場合、レーザプリンタにおける走査周期は
数msec〜数100μsecであり、前記実験値から
分かるような熱干渉による出力変動が発生する。また、
前記第二の従来例においても、出力制御は走査周期以下
にすることは難しく、熱干渉による出力変動は発生して
しまう。さらに、前記第三の従来例の場合においては、
図31に示すように、LDアレイに発光点数に対応した
数の受光素子9a,9bを有し、LD10の発散ビーム
の重なりによる光クロストークを受光素子9a,9b間
に形成した遮光部材11により防いでいる。しかし、発
光点間を狭くすると、LD10のビーム間の出射ビーム
の重なりが非常に大きくなり、遮光部材11による分離
が不可能となる。従って、このようなことから、LD1
0の出力変動が生じて高品位な画像を提供することがで
きないという問題がある。
画像信号に応じて独立に変調される半導体レーザアレイ
の複数の発光部から出射する複数のレーザビームを微小
スポットに集光結像し、記録媒体を走査露光し記録を行
う半導体レーザアレイ記録装置において、前記半導体レ
ーザアレイの複数の発光部から出射する前記複数のレー
ザビームの光路中に前記レーザビームの光量の一部を出
力制御用のレーザビームとして分割するビーム分割手段
を配設し、このビーム分割手段により分割された複数の
レーザビームを前記半導体レーザアレイの発光部の数に
対応して独立して受光する複数個の受光素子を設け、こ
れら受光素子からの出力信号に応じて前記半導体レーザ
アレイの発光出力を制御する発光出力制御手段を設け、
この発光出力制御手段は、前記半導体レーザアレイから
の光出力を前記受光素子により検知してこの受光素子か
ら得られる前記半導体レーザアレイの光出力に比例した
受光信号と発光レベル指令信号とが等しくなるように前
記半導体レーザアレイの順方向電流を制御する光電気負
帰還ループと、前記受光信号と前記発光レベル指令信号
とが等しくなるように前記発光レベル指令信号を前記半
導体レーザの順方向電流に変換する順方向電流変換手段
とを有し、前記光電気負帰還ループからの制御電流と前
記順方向電流変換手段により生成された前記順方向電流
との和又は差により前記半導体レーザの発光出力を制御
するようにした。
独立に変調される半導体レーザアレイの複数の発光部か
ら出射する複数のレーザビームを微小スポットに集光結
像し、記録媒体を走査露光し記録を行う半導体レーザア
レイ記録装置において、前記半導体レーザアレイの複数
の発光部から出射する前記複数のレーザビームの光路中
に前記レーザビームの光量の一部を出力制御用のレーザ
ビームとして分割するビーム分割手段を配設し、このビ
ーム分割手段により分割された複数のレーザビームを前
記半導体レーザアレイの発光部の数に対応して独立して
受光する複数個の受光素子を設け、これら受光素子から
の出力信号に応じて前記半導体レーザアレイの発光出力
を制御する発光出力制御手段を設け、前記半導体レーザ
アレイのチップをマウントした半導体レーザアレイパッ
ケージ内にその半導体レーザアレイのバックビームを受
光する1個の前記受光素子を配設し、この1個の受光素
子からの出力と出力制御用のレーザビームを受光する複
数個の前記受光素子からの出力とを比較する出力比較検
出手段を設け、この出力比較検出手段からの比較信 号を
もとに前記出力制御用のレーザビームを受光する複数個
の前記受光素子からの出力の低下を検出しエラー信号を
発生させる出力信号低下検知手段を設けた。
独立に変調される半導体レーザアレイの複数の発光部か
ら出射する複数のレーザビームを微小スポットに集光結
像し、記録媒体を走査露光し記録を行う半導体レーザア
レイ記録装置において、前記半導体レーザアレイの複数
の発光部から出射する前記複数のレーザビームの光路中
に前記レーザビームの光量の一部を出力制御用のレーザ
ビームとして分割するビーム分割手段を配設し、このビ
ーム分割手段により分割された複数のレーザビームを前
記半導体レーザアレイの発光部の数に対応して独立して
受光する複数個の受光素子を設け、これら受光素子から
の出力信号に応じて前記半導体レーザアレイの発光出力
を制御する発光出力制御手段を設け、前記半導体レーザ
アレイのチップをマウントした半導体レーザアレイパッ
ケージ内にその半導体レーザアレイのバックビームを受
光する1個の前記受光素子を配設し、この1個の受光素
子からの出力と出力制御用のレーザビームを受光する複
数個の前記受光素子からの出力とを比較する出力比較検
出手段を設け、この出力比較検出手段からの比較信号を
もとに前記出力制御用のレーザビームを受光する複数個
の前記受光素子からの出力の低下を検出しエラー信号を
発生させる出力信号低下検知手段を設け、前記半導体レ
ーザアレイとこの半導体レーザアレイからの発散ビーム
を集光するコリメートレンズとこのコリメートレンズを
保持する保持部材と前記半導体レーザアレイの発光部の
数に対応した複数の前記受光素子と前記半導体レーザア
レイのレーザビーム出射方向の反対側に配置された半導
体レーザ駆動制御用プリント基板とが一体的に形成され
た半導体レーザアレイユニットを設け、この半導体レー
ザアレイユニット内の前記半導体レーザアレイから出射
された複数のレーザビームを前記受光素子に導くための
光路変換手段を設けた。
イのチップをマウントした半導体レーザアレイパッケー
ジ内にその半導体レーザアレイのバックビームを受光す
る1個の受光素子を配設し、この1個の受光素子からの
出力と出力制御用のレーザビ ームを受光する複数個の受
光素子からの出力とを比較する出力比較検出手段を設
け、この出力比較検出手段からの比較信号をもとに前記
出力制御用のレーザビームを受光する複数個の受光素子
からの出力の低下を検出しエラー信号を発生させる出力
信号低下検知手段を設けた。
独立に変調される半導体レーザアレイの複数の発光部か
ら出射する複数のレーザビームを微小スポットに集光結
像し、記録媒体を走査露光し記録を行う半導体レーザア
レイ記録装置において、前記半導体レーザアレイの複数
の発光部から出射する前記複数のレーザビームの光路中
に前記レーザビームの光量の一部を出力制御用のレーザ
ビームとして分割するビーム分割手段を配設し、このビ
ーム分割手段により分割された複数のレーザビームを前
記半導体レーザアレイの発光部の数に対応して独立して
受光する複数個の受光素子を設け、これら受光素子から
の出力信号に応じて前記半導体レーザアレイの発光出力
を制御する発光出力制御手段を設け、前記半導体レーザ
アレイと出力制御用のレーザビームを受光する複数個の
前記受光素子との間の光路中に光軸調整手段を配設し、
複数個の前記受光素子からの出力を検出し前記光軸調整
手段の光軸調整を行う光軸制御手段を設け、複数個の前
記受光素子のうちの少なくとも1個の前記受光素子を4
分割の受光面とした。
独立に変調される半導体レーザアレイの複数の発光部か
ら出射する複数のレーザビームを微小スポットに集光結
像し、記録媒体を走査露光し記録を行う半導体レーザア
レイ記録装置において、前記半導体レーザアレイの複数
の発光部から出射する前記複数のレーザビームの光路中
に前記レーザビームの光量の一部を出力制御用のレーザ
ビームとして分割するビーム分割手段を配設し、このビ
ーム分割手段により分割された複数のレーザビームを前
記半導体レーザアレイの発光部の数に対応して独立して
受光する複数個の受光素子を設け、これら受光素子から
の出力信号に応じて前記半導体レーザアレイの発光出力
を制御する発光出力制御手段を設け、前記半導体レーザ
アレイと出力制御用のレーザビームを受光する複数個の
前記受光素子との間の光路中に光軸調整手段を配設し、
複数個の前記受光素子からの出力を検出し前記光軸調整
手段の光軸調整を行う光軸制御手段を設け、複数個の前
記受光素子のうちの少なくとも1個の前記受光素子を分
割した受光面とし、前記半導体レーザアレイとこの半導
体レーザアレイからの発散ビームを集光するコリメート
レンズとこのコリメートレンズを保持する保持部材と前
記半導体レーザアレイの発光部の数に対応した複数の前
記受光素子と前記半導体レーザアレイのレーザビーム出
射方向の反対側に配置された半導体レーザ駆動制御用プ
リント基板とが一体的に形成された半導体レーザアレイ
ユニットを設け、この半導体レーザアレイユニット内の
前記半導体レーザアレイから出射された複数のレーザビ
ームを前記受光素子に導くための光路変換手段を設け
た。
イと出力制御用のレーザビームを受光する複数個の受光
素子との間の光路中に光軸調整手段を配設し、前記複数
個の受光素子からの出力を検出し前記光軸調整手段の光
軸調整を行う光軸制御手段を設け、前記複数個の受光素
子のうちの少なくとも1個の受光素子を分割した受光面
とした。
独立に変調される半導体レーザアレイの複数の発光部か
ら出射する複数のレーザビームを微小スポットに集光結
像し、記録媒体を走査露光し記録を行う半導体レーザア
レイ記録装置において、前記半導体レーザアレイの複数
の発光部から出射する前記複数のレーザビームの光路中
に前記レーザビームの光量の一部を出力制御用のレーザ
ビームとして分割するビーム分割手段を配設し、このビ
ーム分割手段により分割された複数のレーザビームを前
記半導体レーザアレイの発光部の数に対応して独立して
受光する複数個の受光素子を設け、これら受光素子から
の出力信号に応じて前記半導体レーザアレイの発光出力
を制御する発光出力制御手段を設け、前記半導体レーザ
アレイから出射されることにより出力制御され記録用と
なったレーザビームを回転偏向する回転多面鏡を設け、
この回転多面鏡を覆う鏡覆部材を設け、この鏡覆部材に
出力制御用のレーザビームとして分割することが可能な
ハーフミラーの機能をもつ 光透過性の入射窓と前記回転
多面鏡で偏向されたレーザビームを出射させるための光
透過性の出力窓とを形成した。
独立に変調される半導体レーザアレイの複数の発光部か
ら出射する複数のレーザビームを微小スポットに集光結
像し、記録媒体を走査露光し記録を行う半導体レーザア
レイ記録装置において、前記半導体レーザアレイの複数
の発光部から出射する前記複数のレーザビームの光路中
に前記レーザビームの光量の一部を出力制御用のレーザ
ビームとして分割するビーム分割手段を配設し、このビ
ーム分割手段により分割された複数のレーザビームを前
記半導体レーザアレイの発光部の数に対応して独立して
受光する複数個の受光素子を設け、これら受光素子から
の出力信号に応じて前記半導体レーザアレイの発光出力
を制御する発光出力制御手段を設け、前記半導体レーザ
アレイから出射されることにより出力制御され記録用と
なったレーザビームを回転偏向する回転多面鏡を設け、
この回転多面鏡を覆う鏡覆部材を設け、この鏡覆部材に
出力制御用のレーザビームとして分割することが可能な
ハーフミラーの機能をもつ光透過性の入射窓と前記回転
多面鏡で偏向されたレーザビームを出射させるための光
透過性の出力窓とを形成し、前記半導体レーザアレイと
この半導体レーザアレイからの発散ビームを集光するコ
リメートレンズとこのコリメートレンズを保持する保持
部材と前記半導体レーザアレイの発光部の数に対応した
複数の受光素子と前記半導体レーザアレイのレーザビー
ム出射方向の反対側に配置された半導体レーザ駆動制御
用プリント基板とが一体的に形成された半導体レーザア
レイユニットを設け、この半導体レーザアレイユニット
内の前記半導体レーザアレイから出射された複数のレー
ザビームを前記受光素子に導くための光路変換手段を設
けた。
レイから出射されることにより出力制御され記録用とな
ったレーザビームを回転偏向する回転多面鏡を設け、こ
の回転多面鏡を覆う鏡覆部材を設け、この鏡覆部材に出
力制御用のレーザビームとして分割することが可能なハ
ーフミラーの機能をもつ光透過性の入射窓と前記回転 多
面鏡で偏向されたレーザビームを出射させるための光透
過性の出力窓とを形成した。
ーザビームを独立に受光する複数個の受光素子のうちの
少なくとも2個の受光素子を光軸方向に異なった位置に
配設し、半導体レーザアレイとビーム分割手段との間の
光路中に前記少なくとも2個の受光素子を微小レーザス
ポットの光軸方向の結像位置を調整可能な結像位置調整
手段を設けた。
て独立に変調される半導体レーザアレイの複数の発光部
から出射する複数のレーザビームを微小スポットに集光
結像し、記録媒体を走査露光し記録を行う半導体レーザ
アレイ記録装置において、前記半導体レーザアレイの複
数の発光部から出射する前記複数のレーザビームの光路
中に前記レーザビームの光量の一部を出力制御用のレー
ザビームとして分割するビーム分割手段を配設し、この
ビーム分割手段により分割された複数のレーザビームを
集光する集光素子を設け、この集光素子により集光され
たレーザビームを前記半導体レーザアレイの発光部の数
に対応して独立して受光する複数個の受光素子を前記集
光素子の集光点から光軸方向にずらした位置に配設し、
これら集光点からずれた位置の受光素子からの出力信号
に応じて前記半導体レーザアレイの発光出力を制御する
発光出力制御手段を設けた。
点近傍に、個々の受光素子に対をなす半導体レーザアレ
イの発光部以外からのビームを遮光する遮光部材を配設
した。
レイとこの半導体レーザアレイからの発散ビームを集光
するコリメートレンズとこれらアレイ及びレンズをそれ
ぞれ保持する第一保持部材とレーザビーム出射方向の反
対側に半導体レーザ駆動制御手段を実装したプリント基
板とよりなる半導体レーザアレイ部を形成し、ビーム 分
割手段と集光素子とこれらビーム分割手段及び集光素子
を保持する第二保持部材とよりなる分割集光部を形成し
た。
この分割集光部を半導体レーザアレイ部に対してその半
導体レーザアレイの配列方向に微動調整し固定が可能な
微動調整機構を有するものとした。
により分割された記録用のレーザビームの光路中にビー
ム径を制限するアパーチャを配設した。
て独立に変調される半導体レーザアレイの複数の発光部
から出射する複数のレーザビームを微小スポットに集光
結像し、記録媒体を走査露光し記録を行う半導体レーザ
アレイ記録装置において、前記半導体レーザアレイの複
数の発光部から出射する前記複数のレーザビームの光路
中に前記レーザビームの光量の一部を出力制御用のレー
ザビームとして分割するビーム分割手段を配設し、この
ビーム分割手段により分割された複数のレーザビームを
集光する集光素子を設け、この集光素子により集光され
たレーザビームを前記半導体レーザアレイの発光部の数
に対応して独立して受光する複数個の受光素子の受光面
を前記集光素子の光軸に対して傾けて配設し、これら受
光素子からの出力信号に応じて前記半導体レーザアレイ
の発光出力を制御する発光出力制御手段を設けた。
の個々の半導体レーザの出力を高精度に検出でき、か
つ、高速・高精度・高分解能の半導体レーザ制御回路を
用いることにより、パルス幅が短くなっても露光光量を
精度良く制御することができる。
レイの個々の半導体レーザの出力を高精度に検出でき、
かつ、各半導体レーザの出力を半導体レーザアレイパッ
ケージ内のバックビームの受光素子と出力制御用の受光
素子の両方で検出比較することにより、熱変形などによ
って出力制御用のレーザビームの光軸が変動して出力制
御用の受光素子への入射位置がずれてその出力が低下し
ても、その低下による異常を検出することが可能とな
る。
レイの個々の半導体レーザの出力を高精度に検出でき、
かつ、各半導体レーザの出力を半導体レーザアレイパッ
ケージ内のバックビームの受光素子と出力制御用の受光
素子の両方で検出比較することにより、熱変形などによ
って出力制御用のレーザビームの光軸が変動して出力制
御用の受光素子への入射位置がずれてその出力が低下し
ても、その低下による異常を検出することが可能とな
り、受光素子がレーザ制御用のプリント基板上にあり数
100μA〜数mAの受光素子からの微弱信号を電線で
伝送しないでよいため、ノイズの影響を受けにくく、ま
た、信号の遅延が少ないためパルス幅が短くなっても露
光光量を精度良く制御することができる。
の出力を半導体レーザアレイパッケージ内のバックビー
ムの受光素子と出力制御用の受光素子の両方で検出比較
することにより、熱変形などによって出力制御用のレー
ザビームの光軸が変動して出力制御用の受光素子への入
射位置がずれてその出力が低下しても、その低下による
異常を検出することが可能となる。
レイの個々の半導体レーザの出力を高精度に検出でき、
かつ、出力制御用の受光素子の少なくとも1個を分割受
光素子としているため、出力制御用のレーザビームの熱
変形等による光軸のずれを検出することが可能となる。
レイの個々の半導体レーザの出力を高精度に検出でき、
かつ、出力制御用の受光素子の少なくとも1個を分割受
光素子としているため、出力制御用のレーザビームの熱
変形等による光軸のずれを検出することが可能となり、
受光素子がレーザ制御用のプリント基板上にあり数10
0μA〜数mAの受光素子からの微弱信号を電線で伝送
しないでよいため、ノイズの影響を受けにくく、また、
信号の遅延が少ないためパルス幅が短くなっても露光光
量を精度良く制御することができる。
光素子の少なくとも1個を分割受光素子としているた
め、出力制御用のレーザビームの熱変形等による光軸の
ずれを検出することが可能となる。
レイの個々の半導体レーザの出力を高精度に検出でき、
かつ、出力制御用のレーザビームの分割に回転多面鏡の
入射窓を利用しているため、部品点数を低減させること
が可能となる。
レイの個々の半導体レーザの出力を高精度に検出でき、
かつ、出力制御用のレーザビームの分割に回転多面鏡の
入射窓を利用しているため、部品点数を低減させること
が可能となり、受光素子がレーザ制御用のプリント基板
上にあり数100μA〜数mAの受光素子からの微弱信
号を電線で伝送しないでよいため、ノイズの影響を受け
にくく、また、信号の遅延が少ないためパルス幅が短く
なっても露光光量を精度良く制御することができる。
レーザビームの分割に回転多面鏡の入射窓を利用してい
るため、部品点数を低減させることが可能となる。
レーザビームを検出する受光素子の少なくとも2個を結
像位置から光軸方向にずらして配設し、その出力により
熱変形や半導体レーザの発振波長変動による結像位置の
ずれを検出でき、結像位置調整手段により記録材料上及
び出力制御用の受光素子の位置での結像位置を所定の 位
置に制御させることが可能となる。
光素子の集光点から光軸方向にずらした位置に配設した
ことにより、受光素子の局所的な感度ムラの影響を除去
し、半導体レーザアレイの個々の発光部のレーザ出力を
高精度に検出して制御することが可能となる。
設したことにより、対をなす半導体レーザ以外からのフ
レア光を遮光し、受光素子の出力のクロストークを低減
させ、半導体レーザアレイの個々の発光部のレーザ出力
を高精度に検出して制御することが可能となる。
アレイ部と分割集光部とを分離独立して設けることによ
り、パッケージ内に内蔵された発光点が1個の半導体レ
ーザからのバックビームを検出して出力制御を行う従来
の光源ユニットと半導体レーザアレイを保持する保持部
材とコリメートレンズを保持する保持部材との共通化が
行えるため、出射光軸の調整機構とコリメート性の調整
機構との流用が可能となる。
半導体レーザアレイ部に対して微動させる微動調整機構
を設けたことにより、レーザビーム出射方向の誤差やビ
ーム分割をするミラーの取付け時の機械的な誤差等を微
動調整して除去し、出力制御用のレーザビームを受光素
子に正確に入射させ、半導体レーザアレイの個々の発光
部の出力を高精度に検出して制御することが可能とな
る。
ザビームのビーム径を制限するアパーチャを設けたこと
により、光量損失を少なくさせ、レーザビーム制御部の
構成を簡略化させることが可能となる。
光面を入射光軸に対して傾斜して配置することにより、
受光面から発光部への戻り光の影響をなくすことが可能
となる。
に基づいて説明する。本発明の説明に入る前に、まず、
レーザ走査光学系の基本構成について述べる。図3は、
半導体レーザアレイ12(以下、LDAと呼ぶ)を光源
として用いたレーザ走査光学系の一例を示すものであ
る。今、LDA12の主走査方向(レーザビームが走査
される方向)、副走査方向(記録媒体が送られる方向)
に僅かに離れた発光部としての2個の半導体レーザ(以
下、LDと呼ぶ)12a,12bから発散し、これによ
り出射したレーザビームはコリメートレンズ13で平行
光となり、シリンダレンズ14によって回転多面鏡15
の反射面の近傍に副走査方向に絞り込まれる。回転多面
鏡15の回転によって偏向走査されたレーザビームは、
結像レンズ16(一般に、fθレンズと呼ばれる)で記
録媒体17上に微小ビームとして、かつ、各レーザビー
ムが記録密度に応じたピッチとなるように絞り込まれ
る。この結像レンズ16は、主走査方向と副走査方向で
焦点距離の異なるアナモフィックなレンズであり、副走
査方向には回転多面鏡15の反射面と記録媒体17が幾
何光学的に共役な関係となるように設計されている。こ
れは、回転多面鏡15の各反射面の回転軸に対する角度
誤差(反射面の倒れ)による走査線間のピッチの変動を
低減するための補正光学系を構成するためである。前記
シリンダレンズ14は、記録媒体17上での副走査方向
のレーザビーム径を適正な大きさとする機能をもつ。
いて説明する。なお、図3の構成と同一部分についての
説明は省略し、その同一部分については同一符号を用い
る。ここでは、2個の発光部としてのLD12a,12
bをもつLDA12で2ライン同時に記録する場合の例
について述べたものである。2個のLD12a,12b
から出射する2本のレーザビームの出射光路中には、レ
ーザビームの光量の一部を出力制御用のレーザビームと
して分割するビーム分割手段としてのハーフミラー18
が配設されている。また、このハーフミラー18により
分割された複数のレーザビームをLDA12のLD12
a,12bの数に対応して独立して受光する2個の受光
素子19a,19bが配設されている。これら受光素子
19a,19bからの出力信号に応じてLDA12の発
光出力を制御する発光出力制御手段としてのLD制御部
20a,20bが配設されている。また、前記ハーフミ
ラー18と前記受光素子19a,19bとの間の光路中
には、集光素子としての結像レンズ21が配置されてい
る。前記シリンダレンズ14と回転多面鏡15との間に
は、光路偏向用のミラー22が設けられている。さら
に、走査線上の走査開始側の画像範囲外の領域には、受
光素子6(図29参照)が配置されている。
2bから出射された光は、コリメートレンズ13により
平行化され、ハーフミラー18により分割され、これに
より反射された光(出力制御用のビーム)は結像レンズ
21により拡大結像され、その結像位置に配置されたビ
ーム数と同数の受光素子19a,19bによりビームを
受光する。これら個々の受光素子19a,19bで光電
変換された各LD12a,12bの光出力信号(受光信
号)は、LD制御部20a,20bに入力される。この
LD制御部20a,20bでは、各LD12a,12b
が所定の出力となるように駆動電流の制御をする。な
お、ハーフミラー18を透過した光は、シリンダレンズ
14、ミラー22を介して、回転多面鏡15に導かれる
ことにより、その後図3と同様な光路を辿り記録媒体1
7の面上に画像の記録が行われる。
12a,12bの出力を高精度に検出、制御することが
可能であり、これにより光量変化による濃度変動のない
高品位な画像が出力可能な半導体レーザアレイ記録装置
を提供することができる。
あり、ビーム分割手段としてハーフ凹面ミラー23を用
いたものであり、このように結像性をもつ分割素子を用
いることにより前記結像レンズ21は不要となる。
面走査型光学系について述べたが、他の方式、例えば、
回転する記録材料上を光学系が直線移動する円筒外面走
査方式、円筒内面走査方式の記録装置にも適用できる。
基づいて説明する。なお、前述した部分と同一部分につ
いての説明は省略し、その同一部分については同一符号
を用いる。
御手段としてのLD制御部24を、光電気負帰還ループ
25と、順方向電流変換手段としての電流変換器26と
から構成したものである。前記光電気負帰還ループ25
は、比較増幅器27と、LD12a,12bと、受光素
子19a,19bとより構成されている。なお、図4中
では、LD12aに対応する受光素子19aの関係を示
している。
a,12bからの光出力を受光素子19a,19bによ
り検知してこの受光素子19a,19bから得られるL
D12a,12bの光出力に比例した受光信号と発光レ
ベル指令信号とが等しくなるようにLD12a,12b
の順方向電流を制御する。また、前記電流変換器26
は、受光信号と発光レベル指令信号とが等しくなるよう
に、発光レベル指令信号をLD12a,12bの順方向
電流に変換する。さらに、LD制御部24は、光電気負
帰還ループ25からの制御電流と電流変換器26により
生成された順方向電流との和又は差によりLD12a,
12bの発光出力を制御する。
信号は、比較増幅器27と電流変換器26とに入力さ
れ、LD12aの光出力の一部が受光素子19aにより
モニターされる。比較増幅器27は受光素子19aに誘
起された光起電流(LD12aに比例する)に比例する
受光信号と発光レベル指令信号とを比較して、その結果
によりLD12aの順方向電流を受光信号と発光レベル
指令信号とが等しくなるように制御する。また、電流変
換器26は、受光信号と発光レベル指令信号とが等しく
なるように、発光レベル指令信号に従って予め設定され
た電流(LD12aの光出力・受光信号特性に基づいて
予め設定された電流)を出力する。そして、その電流変
換器26の出力電流と、比較増幅器27より出力される
制御電流との和の電流がLD12aの順方向電流とな
る。
の交差周波数をf0とし、DCゲインを10000とし
た場合、LD12aの光出力Pout のステップ応答特性
は、次のように近似することができる。
00としているため、設定誤差の許容範囲を0.1%以
下とした場合には、PLは設定した光量に等しいと考え
られる。
れた光量PSがPLに等しければ、瞬時にLD12aの
光出力がPLに等しくなる。また、外乱等によりPSが
5%変動したとしても、f0=40MHz程度であれ
ば、10ns後には、LD12aの光出力は設定値に対
する誤差が0.4%以下になる。
を発光部(LD)の数と同数だけ有し、個々の発光部の
出力を制御する。このようにして構成、動作される高
速、高精度、高分解能の半導体レーザ制御用の回路を用
いることにより、パルス幅が短くなっても露光光量を精
度良く制御することができるため、露光エネルギー制御
の精度の良い装置を提供することができる。
5及び図7に基づいて説明する。なお、前述した請求項
1記載の発明と同一部分についての説明は省略し、その
同一部分については同一符号を用いる。
構成した場合の例を示すものである。すなわち、図5に
示すように、半導体レーザ駆動制御用プリント基板28
上には、LD12a,12bと、発光部の数に対応した
受光素子19a,19bとが固定されている。前記LD
12a,12bは保持部材29に覆われており、さらに
その上部の保持部材30には発散ビームを集光するコリ
メートレンズ13が保持固定されている。このようにし
て半導体レーザ駆動制御用プリント基板28上に各種の
部材を一体化して取付けることにより、半導体レーザア
レイユニット31を構成している。
れたレーザビームの光路上にはハーフミラー18が配置
され、このハーフミラー18により分岐された光路上に
は結像レンズ21が配置されている。そして、この結像
レンズ21により集光された光路上には、レーザビーム
を前記受光素子19a,19bに導くための光路変換手
段33として、折返しミラー32が配置されている。
記光路変換手段33により前記受光素子19a,19b
に導かれて得られた出力信号に応じて前記LD12a,
12bの発光出力を制御する図示しない発光出力制御手
段(前述した図1のLD制御部20a,20b、図4の
LD制御部24の相当するもの)が設けられている。
2bの出力制御を行うためのレーザ出力用の制御回路
は、半導体レーザ駆動制御用プリント基板28上に実装
されている。その出力制御の動作についての説明は省略
する。図6は、半導体レーザ駆動制御用プリント基板2
8上の出射光源側の実際の保持状態を示すものである。
が半導体レーザ駆動制御用プリント基板28上に設けら
れ、数100μA〜数mAの微弱信号を受信するのに電
線で伝送しないでよいため、ノイズの影響を受けにくく
することが可能となり、また、信号の遅延が少ないため
パルス幅が短くなっても露光光量を精度良く制御するこ
とが可能となり、これにより露光エネルギー制御精度の
良い装置を提供することができる。
明する。なお、前述した請求項1、3記載の発明と同一
部分についての説明は省略し、その同一部分については
同一符号を用いる。
実施例(図5参照)における、半導体レーザアレイユニ
ット31のLD12a,12bからの出力制御用のレー
ザビームを半導体レーザ駆動制御用プリント基板28上
の受光素子19a,19bに入射させる光路変換手段3
3として、光ファイバ34a,34bを用いたものであ
る。
された光は結像レンズ21により拡大結像され、その結
像位置にビーム数と同数だけ配置された光ファイバ34
a,34bに各々のビームが入射する。この入射した光
はそれらファイバ内を導波して半導体レーザ駆動制御用
プリント基板28上に固定された受光素子19a,19
bに入射し、その後、レーザ出力制御の動作が行われ
る。
を電線で伝送せず光ファイバ34a,34bでガイドし
ているためノイズの影響を受けにくくすることができ
る。また、これにより、信号の遅延が少ないためパルス
幅が短くなっても露光光量を精度良く制御することがで
きる。
8及び図9に基づいて説明する。ここでは、図9に示す
ように、LD12a,12bのチップ35をマウントし
た半導体レーザアレイパッケージ36内に、LD12
a,12bのバックビームを受光する1個の受光素子3
7を配設し、また、図8に示すように、1個の受光素子
37からの出力と、出力制御用のレーザビームを受光す
る受光素子19a,19bからの出力とを比較する出力
比較検出手段38を、受光素子37と受光素子19a,
19bとの間で接続し、さらに、この出力比較検出手段
38からの比較信号をもとに、出力制御用のレーザビー
ムを受光する受光素子19a,19bからの出力の低下
を検出しエラー信号を発生させる図示しない出力信号低
下検知手段を設けたものである。
レイパッケージ36内の受光素子37は、LDA12と
接近した位置で、しかも、パッケージ内にあるため、そ
の受光素子37に伝達する光量はほとんど変化しない
が、出力制御用のビームが入射する受光素子19a,1
9bとLD12a,12bとの間の光路長は長く、光学
素子が介在するため、熱変形によって光軸ずれが生じ、
ビームの一部が検出位置からずれてしまい、これにより
出力制御用の受光素子19a,19bの出力の低下が生
じやすい。
2a,12bを点灯した場合のバックビームを受光する
受光素子37の出力と、点灯したLD12a,12bの
出力制御用のビームが入射する受光素子19a,19b
の出力とが、組付け初期の状態の関係にあるかどうかを
出力比較検出手段38により比較し、その出力の低下を
検出する。そして、その検出された出力の低下を出力信
号低下検知手段を用いてエラー信号を発生させる。ただ
し、このような出力比較の動作は、画像記録中は行えな
いため、画像記録間の休止期間若しくは記録装置の電源
投入時等の非記録時に行うようにする。
出力を半導体レーザアレイパッケージ36内のバックビ
ームの受光素子37と、出力制御用の受光素子19a,
19bの両方で検出比較することによって、熱変形など
によって出力制御用のレーザビームの光軸が変動して出
力制御用の受光素子19a,19bへの入射位置がずれ
てその出力が低下しても、その低下による異常を検出す
ることが可能となり、これにより、LD12a,12b
に過大な電流を流すことにより生じる破損を防止するこ
とができる。
10〜図13に基づいて説明する。ここでは、図10に
示すように、LDA12と出力制御用のレーザビームを
受光する受光素子19a,19bとの間の光路中に光軸
調整手段39を配設した。この光軸調整手段39は、保
持部材40に貼付けされた複数個のピエゾ素子41と、
これらピエゾ素子41の表面に固定されたミラー42と
からなっている。また、ここでは、図12に示すよう
に、前記受光素子19a,19bのうちの少なくとも1
個の受光素子19aを4分割の受光面a,b,c,dに
形成し、さらに、図13に示すように、受光素子19a
にこの受光面a,b,c,dからの出力を検出し前記光
軸調整手段39の光軸調整を行うための光軸制御手段と
しての光軸制御回路43を接続した。この光軸制御回路
43は、ピエゾ駆動回路44によりピエゾ素子41を駆
動制御している。また、前記光軸制御回路43には、L
D制御部45(図1のLD制御部20a,20bに相当
する)が接続されている。
の受光面a,b,c,dからの出力は光軸制御回路43
に送られることにより、出力制御用のビームがどの方向
にずれているかを検出し、これら4分割された出力がす
べて等しくなるように、光軸調整手段39を用いて出力
制御用のビームの光軸の調整を行う。この場合、ピエゾ
素子41に印加する電圧を選択することにより、出力制
御用のビームの光軸を上下左右方向に微動させることに
より光軸調整を行う。このような光軸調整の動作は、画
像記録中には行えないため、画像記録間の休止期間若し
くは記録装置の電源投入時等の非記録時に行う。また、
記録時のLD出力制御の際には、4分割された受光面
a,b,c,dからの受光信号は光軸制御回路43での
み加算され、LD制御部45に入力され、通常のLD出
力の制御に使用される。
9a,19bの少なくとも1個を4分割の受光面a,
b,c,dとしているため、出力制御用のレーザビーム
の熱変形等による光軸のずれを検出することが可能とな
り、これにより光軸調整手段39により光軸のずれを修
正でき、これにより信頼性の高い装置を提供することが
できる。
14及び図15に基づいて説明する。ここでは、図14
に示すように、出力制御され記録用となったレーザビー
ムを回転偏向する回転多面鏡15を覆って鏡覆部材46
a,46bが設け、この鏡覆部材46a,46bに、出
力制御用のレーザビームとして分割することが可能なハ
ーフミラーの特性をもつ光透過性の入射窓47と、前記
回転多面鏡15で偏向されたレーザビームを出射させる
ための光透過性の出力窓48とを形成した。この場合、
前記入射窓47は、ハーフミラーとされているため、出
力制御用のビームとして分割することができる。入射窓
47は、反射、分割される出力制御用のビームが入射方
向に戻らないように、角度を付けて配置されている。図
15は、前述した図1の構成におけるハーフミラー18
の代わりに、ハーフミラーの光学特性をもつ入射窓47
を配置した場合の様子を示すものである。
射されたビーム(出力制御用のビーム)は結像レンズ2
1によって拡大結像される。その結像位置には、ビーム
数と同数の受光素子19a,19bが配置され、各々の
ビームを受光する。そして、各々受光素子19a,19
bで光電変換された各LD12a,12bの光出力信号
(受光信号)は、各LD12a,12bのLD制御部2
0a,20bに入力される。このLD制御部20a,2
0bでは、各LD12a,12bが所定の出力となるよ
うに駆動電流を制御する。一方、入射窓47に入射した
記録用のビームは回転多面鏡15により反射され、出力
窓48から出射され、その後は通常の記録動作を行う。
ムの分割に回転多面鏡15の入射窓47を兼用させてい
るため、ハーフミラー18が不要となり部品点数を低減
させコストダウンを図ることができる。また、回転多面
鏡15は密閉されているため、騒音が一段と少ない装置
を提供することができる。
図16〜図18に基づいて説明する。ここでは、図16
に示すように、出力制御用のレーザビームを独立して受
光する受光素子のうちの少なくとも2個の受光素子19
a,19bを光軸方向に異なった位置に配設した。図1
7は、その異なった位置に配置した様子を示すものであ
る。また、LD12a,12bとハーフミラー18との
間の光路中には、受光素子19a,19bを微小レーザ
スポットの光軸方向の結像位置を調整可能な結像位置調
整手段49が配設されている。図18は、結像位置調整
手段49の構成を示すものであり、保持部材50,51
間にはピエゾ素子52が取付けられている。このピエゾ
素子52によりコリメートレンズ13を光軸方向に移動
調整させることができる。また、結像位置調整手段49
には、受光素子19a,19bからの出力信号によって
結像位置のずれた方向を検出する結像位置制御回路53
が接続されている。
19a,19bは、結像レンズ21による結像位置から
(集光位置)光軸方向にわずかに離れた位置に置かれて
いる。今、LDA12やコリメートレンズ13の保持部
材50,51の熱変形等で結像レンズ21による結像位
置が光軸方向に変動した場合、図17(a)に示すよう
に、入射ビーム径が変動する結像位置が遠ざかった側の
受光素子19a上では、ビーム径が増大しこれによりビ
ームの全ての領域を受光することができず、出力は低下
する。一方、図17(b)に示すように、受光素子19
bではビーム径が小さくなるためビームの全ての領域を
受光することができ、出力変化は生じない。このような
出力信号が結像位置制御回路53に送られることによ
り、結像位置のずれた方向が検出され、その検出値の補
正が行われる。そして、その補正値が結像位置調整手段
49に送られることにより、図18に示すピエゾ素子5
2が駆動される。このピエゾ素子52に印加する電圧を
制御することによって、LDA12とコリメートレンズ
13との間の距離を変化させることができ、これによ
り、コリメートレンズ13から出射するレーザビームの
平行性が変化し、出力制御用レーザビームと記録用レー
ザビームとの結像位置が変化する。
中は行えないため、画像記録間の休止期間若しくは記録
装置の電源投入時等の非記録時に行うようにする。ま
た、記録時のLD出力制御の際には、受光素子19a,
19bからの受光信号は、結像位置制御回路53をスル
ーし、LD制御部20a,20bに入力され、通常のL
D出力の制御に使用される。
ムを検出する受光素子の少なくとも2個の受光素子19
a,19bを結像位置から光軸方向にずらして配設する
ことによって、その出力により熱変形やLDA12の発
振波長変動による結像位置のずれを検出することができ
る。また、結像位置調整手段49により記録材料上及び
出力制御用の受光素子19a,19bの位置での結像位
置を所定の位置に制御させることができ、これにより信
頼性の高い、記録材料上でのビーム径の変動が少なく高
画質な装置を得ることができる。
19bで光電変換された光出力信号をLD制御部20
a,20bで各LD12a,12bが所定の出力となる
ように駆動電流を制御している。しかし、この場合、周
囲温度の変化によりLDA12、コリメートレンズ13
の保持部材等の熱変形により受光素子19a,19bに
おける入射位置が変動する。この入射位置の変動は受光
面内で局所的な感度バラツキとなって現れ、これにより
LDA12の光出力は経時的に変化してしまう。しか
も、入射するレーザビーム径が微小な場合には、受光素
子19a,19bのレーザ入射位置付近が飽和してしま
い、入射光量に比例した正確な出力が得られなくなって
しまう。そこで、上述した請求項8記載の発明では、受
光素子19a,19bを予め結像位置の前後方向にずら
して配置させ、レーザビーム径に変動が生じたらLDA
12とコリメートレンズ13との間の距離を変え、これ
により結像位置の調整を行うようにしている。しかし、
このような装置はその位置制御を行う調整機構が複雑化
し、コスト高となる。従って、このような理由から、以
下の各実施例に述べるような種々の制御機構を設けたも
のである。
図19に基づいて説明する。ここでは、前記請求項1記
載の発明の基本的構成の装置(図1参照)において、図
19に示すように、受光素子19a,19bを、結像レ
ンズ21の集光点P,Qから光軸方向にずらした位置に
配設し、これら集光点P,Qからずれた位置の受光素子
19a,19bからの出力信号に基づいてLD制御部2
0a,20bによりLDA12のLD12a,12bの
発光出力制御を行うようにしたものである。
a,19bには大きな径のレーザビームが入射するた
め、その受光面に局所的な感度ムラがあっても平均化さ
れた出力を得ることができる。これにより、周囲温度の
変化等によりLDA12、コリメートレンズ13の保持
部材等の熱変形により受光素子19a,19bにおける
入射位置の変動が発生しても、出力変動の少ない受光信
号を得ることができる。
度、高分解能のLD制御部20a,20bを用いること
により、パルス幅が短くなっても露光光量を精度良く制
御できるため、光量変化が少なく露光エネルギー制御の
精度の良い発光部を備えた装置を提供することができ
る。なお、本実施例では、受光素子19a,19bを集
光点P,Qの後方の光路中に配置しているが、これとは
逆に、集光点P,Qの前方の結像レンズ21との間の光
路中に配置するようにしてもよい。
図20及び図21に基づいて説明する。ここでは、前記
請求項12記載の発明の基本的構成の装置(図19参
照)において、図20に示すように、結像レンズ21の
集光点P,Qの近傍に、個々の受光素子19a,19b
に対をなすLDA12のLD12a,12b以外からの
ビームを遮光する遮光部材55を配設したものである。
この場合、結像レンズ21の集光点P,Qでは出力制御
用のレーザビームが最も小さく絞られ、かつ、ビーム間
隔が離れた状態となっているため必要なビームを蹴るこ
となく、遮光部材55を配置させることができる。図2
1は、その外観構成を示すものであり、受光素子19
a,19bはその裏面側で支持板56に固定されてい
る。
ることにより、LD12a,12b以外の領域からのレ
ーザビームのフレア光(すなわち、コリメートレンズ1
3、ハーフミラー18、結像レンズ21等の残反射、散
乱による)はカットされることになり、LD12a,1
2b−受光素子19a,19b間のクロストークが減
り、LD12a,12bの出力制御の精度を向上させる
ことができ、これにより光量変動の少ない光源部を備え
た装置を提供することができる。
図22及び図23に基づいて説明する。ここでは、前記
請求項9記載の発明の基本的構成の装置(図19参照)
において、図22に示すように、光源部を、半導体レー
ザアレイ部(LDA部)57と、分割集光部58とによ
り構成したものである。この場合、前記LDA部57
は、LDA12と、コリメートレンズ13と、第一保持
部材59a,59bと、レーザビーム出射方向の反対側
に図示しない半導体レーザ駆動制御手段を実装した半導
体レーザ駆動制御用プリント基板60とよりなってい
る。また、前記分割集光部58は、ハーフミラー18
と、折返しミラー61と、結像レンズ21と、これらミ
ラー等を保持する第二保持部材62とよりなっている。
また、これらLDA部57と分割集光部58とは、共通
の保持基板63上に固定保持されている。
示したように、ヒートシンク35a上にサブマウント3
5bを介してチップ35がボンディングされている。こ
の場合、ボンディングの精度上の制約等により、LA1
2a,12bの出射位置、出射方向はばらつく。このた
め本実施例では、第一保持部材59aを第一保持部材5
9bに対して光軸と直交する平面内で相対的に微動させ
てLD12a,12bの出射方向の調整を行ったり、コ
リメートレンズ13をこれを保持する第一保持部材59
b内で光軸方向に微動させることにより出射ビームのコ
リメート性の調整を行っている。
部58とを分離独立して設けることにより、パッケージ
に内蔵された発光点が1個のLDからのバックビームを
検出して出力制御を行う従来の光源ユニットとLDA1
2を保持する第一保持部材59aとコリメートレンズ1
3を保持する第一保持部材59bとの共通化が行え、出
射ビームの光軸調整機構とコリメート性の調整機構との
流用ができるようになり、これにより安価な光源部を備
えた装置を提供することができる。
であり、ここでは共通の保持基板63を用いずに、LD
A部57と分割集光部58とを直接結合して組付けるよ
うな構成としたものである。これにより、部品点数を削
減してスペースの省略化を図ることができる。
図24に基づいて説明する。ここでは、前記請求項14
記載の発明の基本的構成の装置(図22参照)におい
て、図24に示すように、分割集光部58に、この分割
集光部58をLDA部57に対してLDA12の配列方
向に微動調整して固定が可能な微動調整機構64を有す
るようにしたものである。この場合、微動調整可能な方
向は、LDA12の配列方向、すなわち、受光素子19
a,19bの配列方向である。
対して微動させる微動調整機構64を設け、レーザビー
ム出射方向の誤差や、ハーフミラー18、折返しミラー
61の取付け時の機械的な誤差等を微動調整して除去す
ることにより、出力制御用のレーザビームを受光素子1
9a,19bに正確に入射させることができると共にL
DA12の個々のLD12a,12bの出力を高精度に
検出して制御することができ、これにより光量変化の少
ない光源部を備えた装置を提供することができるもので
ある。
であり、ここでは共通の保持基板63を用いずに、LD
A部57と分割集光部58とを直接結合し組付けるよう
にしたものである。これにより、スペースの省略化を図
ることができる。
図26に基づいて説明する。ここでは、前記請求項14
記載の発明の基本的構成の装置(図23参照)におい
て、図26に示すように、ハーフミラー18により分割
された記録用のレーザビームaの光路中にそのビーム径
を制限するアパーチャ65を配設したものである。
発散ビームの発散角はLD毎に大きくばらつき、これに
より記録媒体上での最終的なビーム径も大きく変動して
しまうおそれがある。このような変動をなくすために従
来においては光束制限用のアパーチャをコリメートレン
ズ13の直後に配置していた。しかし、コリメートレン
ズ13の直後に配置すると、光量損失により受光素子1
9a,19bの出力電流が減ってしまい制御精度が低下
し、これに伴いLD制御部20a,20bの制御が複雑
化して高速の制御がしにくくなる。そこで、本実施例で
は、光源部からの出射部に出射用ビームのビーム径を制
限するアパーチャ65を配置させるようにした。これに
より、光量損失が少なくて、LD制御部20a,20b
の制御が簡単になり、高速の出力制御が可能な光源部を
備えた装置を提供することができる。
図27及び図28に基づいて説明する。ここでは、受光
素子19a,19bの受光面を結像レンズ21の光軸に
対して傾けて配設したものである。このように受光面を
光軸に対して傾斜させることにより、その受光面により
反射された反射光bは図28に示すように結像レンズ2
1側に戻らず、これによりLD12a,12bへの戻り
光がなくなり出力変動や波長変動等の特性変化(ノイ
ズ)を防止させることができる。
ため発光部(LD)が2個の場合におけるLDAについ
て示したが、発光部の数はこの2個に限るものではな
い。
て独立に変調される半導体レーザアレイの複数の発光部
から出射する複数のレーザビームを微小スポットに集光
結像し、記録媒体を走査露光し記録を行う半導体レーザ
アレイ記録装置において、前記半導体レーザアレイの複
数の発光部から出射する前記複数のレーザビームの光路
中に前記レーザビームの光量の一部を出力制御用のレー
ザビームとして分割するビーム分割手段を配設し、この
ビーム分割手段により分割された複数のレーザビームを
前記半導体レーザアレイの発光部の数に対応して独立し
て受光する複数個の受光素子を設け、これら受光素子か
らの出力信号に応じて前記半導体レーザアレイの発光出
力を制御する発光出力制御手段を設け、この発光出力制
御手段は、前記半導体レーザアレイからの光出力を前記
受光素子により検知してこの受光素子から得られる前記
半導体レーザアレイの光出力に比例した受光信号と発光
レベル指令信号とが等しくなるように前記半導体レーザ
アレイの順方向電流を制御する光電気負帰還ループと、
前記受光信号と前記発光レベル指令信号とが等しくなる
ように前記発光レベル指令信号を前記半導体レーザの順
方向電流に変換する順方向電流変換手段とを有し、前記
光電気負帰還ループからの制御電流と前記順方向電流変
換手段により生成された前記順方向電流との和又は差に
より前記半導体レーザの発光出力を制御するようにした
ので、半導体レーザアレイの個々の半導体レーザの出力
を高精度に検出でき、かつ、高速・高精度・高分解能の
半導体レーザ制御回路を用いることにより、パルス幅が
短くなっても露光光量を精度良く制御することができ
る。
独立に変調される半導体レーザアレイの複数の発光部か
ら出射する複数のレーザビームを微小スポットに集光結
像し、記録媒体を走査露光し記録を行う半導体レーザア
レイ記録装置において、前記 半導体レーザアレイの複数
の発光部から出射する前記複数のレーザビームの光路中
に前記レーザビームの光量の一部を出力制御用のレーザ
ビームとして分割するビーム分割手段を配設し、このビ
ーム分割手段により分割された複数のレーザビームを前
記半導体レーザアレイの発光部の数に対応して独立して
受光する複数個の受光素子を設け、これら受光素子から
の出力信号に応じて前記半導体レーザアレイの発光出力
を制御する発光出力制御手段を設け、前記半導体レーザ
アレイのチップをマウントした半導体レーザアレイパッ
ケージ内にその半導体レーザアレイのバックビームを受
光する1個の前記受光素子を配設し、この1個の受光素
子からの出力と出力制御用のレーザビームを受光する複
数個の前記受光素子からの出力とを比較する出力比較検
出手段を設け、この出力比較検出手段からの比較信号を
もとに前記出力制御用のレーザビームを受光する複数個
の前記受光素子からの出力の低下を検出しエラー信号を
発生させる出力信号低下検知手段を設けたので、半導体
レーザアレイの個々の半導体レーザの出力を高精度に検
出でき、かつ、各半導体レーザの出力を半導体レーザア
レイパッケージ内のバックビームの受光素子と出力制御
用の受光素子の両方で検出比較することにより、熱変形
などによって出力制御用のレーザビームの光軸が変動し
て出力制御用の受光素子への入射位置がずれてその出力
が低下しても、その低下による異常を検出することが可
能となる。
独立に変調される半導体レーザアレイの複数の発光部か
ら出射する複数のレーザビームを微小スポットに集光結
像し、記録媒体を走査露光し記録を行う半導体レーザア
レイ記録装置において、前記半導体レーザアレイの複数
の発光部から出射する前記複数のレーザビームの光路中
に前記レーザビームの光量の一部を出力制御用のレーザ
ビームとして分割するビーム分割手段を配設し、このビ
ーム分割手段により分割された複数のレーザビームを前
記半導体レーザアレイの発光部の数に対応して独立して
受光する複数個の受光素子を設け、これら受光素子から
の出力信号に応じて前記半導体レーザアレイの発光出力
を制御する発光出力制御手段を設け、前記半導体レーザ
アレイのチップをマウントした半導体レーザアレイパッ
ケージ内にその半導体レーザアレ イのバックビームを受
光する1個の前記受光素子を配設し、この1個の受光素
子からの出力と出力制御用のレーザビームを受光する複
数個の前記受光素子からの出力とを比較する出力比較検
出手段を設け、この出力比較検出手段からの比較信号を
もとに前記出力制御用のレーザビームを受光する複数個
の前記受光素子からの出力の低下を検出しエラー信号を
発生させる出力信号低下検知手段を設け、前記半導体レ
ーザアレイとこの半導体レーザアレイからの発散ビーム
を集光するコリメートレンズとこのコリメートレンズを
保持する保持部材と前記半導体レーザアレイの発光部の
数に対応した複数の前記受光素子と前記半導体レーザア
レイのレーザビーム出射方向の反対側に配置された半導
体レーザ駆動制御用プリント基板とが一体的に形成され
た半導体レーザアレイユニットを設け、この半導体レー
ザアレイユニット内の前記半導体レーザアレイから出射
された複数のレーザビームを前記受光素子に導くための
光路変換手段を設けたので、半導体レーザアレイの個々
の半導体レーザの出力を高精度に検出でき、かつ、各半
導体レーザの出力を半導体レーザアレイパッケージ内の
バックビームの受光素子と出力制御用の受光素子の両方
で検出比較することにより、熱変形などによって出力制
御用のレーザビームの光軸が変動して出力制御用の受光
素子への入射位置がずれてその出力が低下しても、その
低下による異常を検出することが可能となり、受光素子
がレーザ制御用のプリント基板上にあり数100μA〜
数mAの受光素子からの微弱信号を電線で伝送しないで
よいため、ノイズの影響を受けにくく、また、信号の遅
延が少ないためパルス幅が短くなっても露光光量を精度
良く制御することができる。
イのチップをマウントした半導体レーザアレイパッケー
ジ内にその半導体レーザアレイのバックビームを受光す
る1個の受光素子を配設し、この1個の受光素子からの
出力と出力制御用のレーザビームを受光する複数個の受
光素子からの出力とを比較する出力比較検出手段を設
け、この出力比較検出手段からの比較信号をもとに前記
出力制御用のレーザビームを受光する複数個の受光素子
からの出力の低下を検出しエラー信号を発生させる出力
信号低下検知手段を設けたので、各半導体レーザの出力
を半導体レーザア レイパッケージ内のバックビームの受
光素子と出力制御用の受光素子の両方で検出比較するこ
とにより、熱変形などによって出力制御用のレーザビー
ムの光軸が変動して出力制御用の受光素子への入射位置
がずれてその出力が低下しても、その低下による異常を
検出することが可能となる。
独立に変調される半導体レーザアレイの複数の発光部か
ら出射する複数のレーザビームを微小スポットに集光結
像し、記録媒体を走査露光し記録を行う半導体レーザア
レイ記録装置において、前記半導体レーザアレイの複数
の発光部から出射する前記複数のレーザビームの光路中
に前記レーザビームの光量の一部を出力制御用のレーザ
ビームとして分割するビーム分割手段を配設し、このビ
ーム分割手段により分割された複数のレーザビームを前
記半導体レーザアレイの発光部の数に対応して独立して
受光する複数個の受光素子を設け、これら受光素子から
の出力信号に応じて前記半導体レーザアレイの発光出力
を制御する発光出力制御手段を設け、前記半導体レーザ
アレイと出力制御用のレーザビームを受光する複数個の
前記受光素子との間の光路中に光軸調整手段を配設し、
複数個の前記受光素子からの出力を検出し前記光軸調整
手段の光軸調整を行う光軸制御手段を設け、複数個の前
記受光素子のうちの少なくとも1個の前記受光素子を分
割した受光面としたので、半導体レーザアレイの個々の
半導体レーザの出力を高精度に検出でき、かつ、出力制
御用の受光素子の少なくとも1個を4分割受光素子とし
ているため、出力制御用のレーザビームの熱変形等によ
る光軸のずれを検出することが可能となる。
独立に変調される半導体レーザアレイの複数の発光部か
ら出射する複数のレーザビームを微小スポットに集光結
像し、記録媒体を走査露光し記録を行う半導体レーザア
レイ記録装置において、前記半導体レーザアレイの複数
の発光部から出射する前記複数のレーザビームの光路中
に前記レーザビームの光量の一部を出力制御用のレーザ
ビームとして分割するビーム分割手段を配設し、このビ
ーム分割手段により分割された複数のレーザビームを前
記半導体レーザアレイの発光部の数に対応して独立して
受光する複数個 の受光素子を設け、これら受光素子から
の出力信号に応じて前記半導体レーザアレイの発光出力
を制御する発光出力制御手段を設け、前記半導体レーザ
アレイと出力制御用のレーザビームを受光する複数個の
前記受光素子との間の光路中に光軸調整手段を配設し、
複数個の前記受光素子からの出力を検出し前記光軸調整
手段の光軸調整を行う光軸制御手段を設け、複数個の前
記受光素子のうちの少なくとも1個の前記受光素子を分
割した受光面とし、前記半導体レーザアレイとこの半導
体レーザアレイからの発散ビームを集光するコリメート
レンズとこのコリメートレンズを保持する保持部材と前
記半導体レーザアレイの発光部の数に対応した複数の前
記受光素子と前記半導体レーザアレイのレーザビーム出
射方向の反対側に配置された半導体レーザ駆動制御用プ
リント基板とが一体的に形成された半導体レーザアレイ
ユニットを設け、この半導体レーザアレイユニット内の
前記半導体レーザアレイから出射された複数のレーザビ
ームを前記受光素子に導くための光路変換手段を設けた
ので、半導体レーザアレイの個々の半導体レーザの出力
を高精度に検出でき、かつ、出力制御用の受光素子の少
なくとも1個を4分割受光素子としているため、出力制
御用のレーザビームの熱変形等による光軸のずれを検出
することが可能となり、受光素子がレーザ制御用のプリ
ント基板上にあり数100μA〜数mAの受光素子から
の微弱信号を電線で伝送しないでよいため、ノイズの影
響を受けにくく、また、信号の遅延が少ないためパルス
幅が短くなっても露光光量を精度良く制御することがで
きる。
イと出力制御用のレーザビームを受光する複数個の受光
素子との間の光路中に光軸調整手段を配設し、前記複数
個の受光素子からの出力を検出し前記光軸調整手段の光
軸調整を行う光軸制御手段を設け、前記複数個の受光素
子のうちの少なくとも1個の受光素子を分割した受光面
としたので、出力制御用の受光素子の少なくとも1個を
分割受光素子としているため、出力制御用のレーザビー
ムの熱変形等による光軸のずれを検出することが可能と
なる。
独立に変調される半導体レーザアレ イの複数の発光部か
ら出射する複数のレーザビームを微小スポットに集光結
像し、記録媒体を走査露光し記録を行う半導体レーザア
レイ記録装置において、前記半導体レーザアレイの複数
の発光部から出射する前記複数のレーザビームの光路中
に前記レーザビームの光量の一部を出力制御用のレーザ
ビームとして分割するビーム分割手段を配設し、このビ
ーム分割手段により分割された複数のレーザビームを前
記半導体レーザアレイの発光部の数に対応して独立して
受光する複数個の受光素子を設け、これら受光素子から
の出力信号に応じて前記半導体レーザアレイの発光出力
を制御する発光出力制御手段を設け、前記半導体レーザ
アレイから出射されることにより出力制御され記録用と
なったレーザビームを回転偏向する回転多面鏡を設け、
この回転多面鏡を覆う鏡覆部材を設け、この鏡覆部材に
出力制御用のレーザビームとして分割することが可能な
ハーフミラーの機能をもつ光透過性の入射窓と前記回転
多面鏡で偏向されたレーザビームを出射させるための光
透過性の出力窓とを形成したので、半導体レーザアレイ
の個々の半導体レーザの出力を高精度に検出でき、か
つ、出力制御用のレーザビームの分割に回転多面鏡の入
射窓を利用しているため、部品点数を低減させることが
可能となる。
独立に変調される半導体レーザアレイの複数の発光部か
ら出射する複数のレーザビームを微小スポットに集光結
像し、記録媒体を走査露光し記録を行う半導体レーザア
レイ記録装置において、前記半導体レーザアレイの複数
の発光部から出射する前記複数のレーザビームの光路中
に前記レーザビームの光量の一部を出力制御用のレーザ
ビームとして分割するビーム分割手段を配設し、このビ
ーム分割手段により分割された複数のレーザビームを前
記半導体レーザアレイの発光部の数に対応して独立して
受光する複数個の受光素子を設け、これら受光素子から
の出力信号に応じて前記半導体レーザアレイの発光出力
を制御する発光出力制御手段を設け、前記半導体レーザ
アレイから出射されることにより出力制御され記録用と
なったレーザビームを回転偏向する回転多面鏡を設け、
この回転多面鏡を覆う鏡覆部材を設け、この鏡覆部材に
出力制御用のレーザビームとして分割することが可能な
ハーフミラーの機能をもつ光透過性の入射窓と前記回転
多面鏡で偏向されたレーザビームを出射させるため の光
透過性の出力窓とを形成し、前記半導体レーザアレイと
この半導体レーザアレイからの発散ビームを集光するコ
リメートレンズとこのコリメートレンズを保持する保持
部材と前記半導体レーザアレイの発光部の数に対応した
複数の受光素子と前記半導体レーザアレイのレーザビー
ム出射方向の反対側に配置された半導体レーザ駆動制御
用プリント基板とが一体的に形成された半導体レーザア
レイユニットを設け、この半導体レーザアレイユニット
内の前記半導体レーザアレイから出射された複数のレー
ザビームを前記受光素子に導くための光路変換手段を設
けたので、半導体レーザアレイの個々の半導体レーザの
出力を高精度に検出でき、かつ、出力制御用のレーザビ
ームの分割に回転多面鏡の入射窓を利用しているため、
部品点数を低減させることが可能となり、受光素子がレ
ーザ制御用のプリント基板上にあり数100μA〜数m
Aの受光素子からの微弱信号を電線で伝送しないでよい
ため、ノイズの影響を受けにくく、また、信号の遅延が
少ないためパルス幅が短くなっても露光光量を精度良く
制御することができる。
レイから出射されることにより出力制御され記録用とな
ったレーザビームを回転偏向する回転多面鏡を設け、こ
の回転多面鏡を覆う鏡覆部材を設け、この鏡覆部材に出
力制御用のレーザビームとして分割することが可能なハ
ーフミラーの機能をもつ光透過性の入射窓と前記回転多
面鏡で偏向されたレーザビームを出射させるための光透
過性の出力窓とを形成したので、出力制御用のレーザビ
ームの分割に回転多面鏡の入射窓を利用しているため、
部品点数を低減させることが可能となる。
ーザビームを独立に受光する複数個の受光素子のうちの
少なくとも2個の受光素子を光軸方向に異なった位置に
配設し、半導体レーザアレイとビーム分割手段との間の
光路中に前記少なくとも2個の受光素子を微小レーザス
ポットの光軸方向の結像位置を調整可能な結像位置調整
手段を設けたので、出力制御用のレーザビームを検出す
る受光素子の少なくとも2個を結像位置から光軸方向に
ずらして配設し、その出力により熱変形や半導体レーザ
の発振波長変動による結像位置のずれを検出でき、結像
位置調整手段に より記録材料上及び出力制御用の受光素
子の位置での結像位置を所定の位置に制御させることが
可能となる。
て独立に変調される半導体レーザアレイの複数の発光部
から出射する複数のレーザビームを微小スポットに集光
結像し、記録媒体を走査露光し記録を行う半導体レーザ
アレイ記録装置において、前記半導体レーザアレイの複
数の発光部から出射する前記複数のレーザビームの光路
中に前記レーザビームの光量の一部を出力制御用のレー
ザビームとして分割するビーム分割手段を配設し、この
ビーム分割手段により分割された複数のレーザビームを
集光する集光素子を設け、この集光素子により集光され
たレーザビームを前記半導体レーザアレイの発光部の数
に対応して独立して受光する複数個の受光素子を前記集
光素子の集光点から光軸方向にずらした位置に配設し、
これら集光点からずれた位置の受光素子からの出力信号
に応じて前記半導体レーザアレイの発光出力を制御する
発光出力制御手段を設けたので、受光素子を集光素子の
集光点から光軸方向にずらした位置に配設したことによ
り、受光素子の局所的な感度ムラの影響を除去し、半導
体レーザアレイの個々の発光部のレーザ出力を高精度に
検出して制御することが可能となる。
点近傍に、個々の受光素子に対をなす半導体レーザアレ
イの発光部以外からのビームを遮光する遮光部材を配設
したので、遮光部材を配設したことにより、対をなす半
導体レーザ以外からのフレア光を遮光し、受光素子の出
力のクロストークを低減させ、半導体レーザアレイの個
々の発光部のレーザ出力を高精度に検出して制御するこ
とが可能となる。
レイとこの半導体レーザアレイからの発散ビームを集光
するコリメートレンズとこれらアレイ及びレンズをそれ
ぞれ保持する第一保持部材とレーザビーム出射方向の反
対側に半導体レーザ駆動制御手段を実装したプリント基
板とよりなる半導体レーザアレイ部を形成し、ビーム分
割手段と集光素子とこれらビーム分割手段及び集光素子
を保持する第二保持部 材とよりなる分割集光部を形成し
たので、半導体レーザアレイ部と分割集光部とを分離独
立して設けることにより、パッケージ内に内蔵された発
光点が1個の半導体レーザからのバックビームを検出し
て出力制御を行う従来の光源ユニットと半導体レーザア
レイを保持する保持部材とコリメートレンズを保持する
保持部材との共通化が行えるため、出射光軸の調整機構
とコリメート性の調整機構との流用が可能となる。
この分割集光部を半導体レーザアレイ部に対してその半
導体レーザアレイの配列方向に微動調整し固定が可能な
微動調整機構を有するものとしたので、分割集光部を半
導体レーザアレイ部に対して微動させる微動調整機構を
設けたことにより、レーザビーム出射方向の誤差やビー
ム分割をするミラーの取付け時の機械的な誤差等を微動
調整して除去し、出力制御用のレーザビームを受光素子
に正確に入射させ、半導体レーザアレイの個々の発光部
の出力を高精度に検出して制御することが可能となる。
により分割された記録用のレーザビームの光路中にビー
ム径を制限するアパーチャを配設したので、記録用のレ
ーザビームのビーム径を制限するアパーチャを設けたこ
とにより、光量損失を少なくさせ、レーザビーム制御部
の構成を簡略化させることが可能となる。
て独立に変調される半導体レーザアレイの複数の発光部
から出射する複数のレーザビームを微小スポットに集光
結像し、記録媒体を走査露光し記録を行う半導体レーザ
アレイ記録装置において、前記半導体レーザアレイの複
数の発光部から出射する前記複数のレーザビームの光路
中に前記レーザビームの光量の一部を出力制御用のレー
ザビームとして分割するビーム分割手段を配設し、この
ビーム分割手段により分割された複数のレーザビームを
集光する集光素子を設け、この集光素子により集光され
たレーザビームを前記半導体レーザアレイの発光部の数
に対応して独立して受光する複数個の受光素子の受光面
を前記集光素子の光軸に対して傾けて配設し、これら受
光素子か らの出力信号に応じて前記半導体レーザアレイ
の発光出力を制御する発光出力制御手段を設けたので、
受光素子の受光面を入射光軸に対して傾斜して配置する
ことにより、受光面から発光部への戻り光の影響をなく
すことが可能となる。
ーザアレイ記録装置の構成を示す構成図である。
る。
る。
ある。
面図である。
ある。
切欠いた斜視図である。
である。
ある。
である。
す構成図である。
図である。
る。
図である。
図である。
図である。
図である。
図である。
図である。
進行方向の様子を示す光路図である。
である。
である。
基板 29,30 保持部材 31 半導体レーザアレイユニット 33 光路変換手段 34a,34b 光ファイバ 35 チップ 36 半導体レーザアレイパッケージ 37 受光素子 38 出力比較検出手段 39 光軸調整手段 43 光軸制御手段 46a,46b 鏡覆部材 47 入射窓 48 出力窓 49 結像位置調整手段 55 遮光部材 57 半導体レーザアレイ部 58 分割集光部 59a,59b 第一保持部材 60 プリント基板 62 第二保持部材 64 微動調整機構 65 アパーチャ
Claims (17)
- 【請求項1】 画像信号に応じて独立に変調される半導
体レーザアレイの複数の発光部から出射する複数のレー
ザビームを微小スポットに集光結像し、記録媒体を走査
露光し記録を行う半導体レーザアレイ記録装置におい
て、前記半導体レーザアレイの複数の発光部から出射す
る前記複数のレーザビームの光路中に前記レーザビーム
の光量の一部を出力制御用のレーザビームとして分割す
るビーム分割手段を配設し、このビーム分割手段により
分割された複数のレーザビームを前記半導体レーザアレ
イの発光部の数に対応して独立して受光する複数個の受
光素子を設け、これら受光素子からの出力信号に応じて
前記半導体レーザアレイの発光出力を制御する発光出力
制御手段を設け、この発光出力制御手段は、前記半導体
レーザアレイからの光出力を前記受光素子により検知し
てこの受光素子から得られる前記半導体レーザアレイの
光出力に比例した受光信号と発光レベル指令信号とが等
しくなるように前記半導体レーザアレイの順方向電流を
制御する光電気負帰還ループと、前記受光信号と前記発
光レベル指令信号とが等しくなるように前記発光レベル
指令信号を前記半導体レーザの順方向電流に変換する順
方向電流変換手段とを有し、前記光電気負帰還ループか
らの制御電流と前記順方向電流変換手段により生成され
た前記順方向電流との和又は差により前記半導体レーザ
の発光出力を制御するようにしたことを特徴とする半導
体レーザアレイ記録装置。 - 【請求項2】 画像信号に応じて独立に変調される半導
体レーザアレイの複数の発光部から出射する複数のレー
ザビームを微小スポットに集光結像し、記録媒体を走査
露光し記録を行う半導体レーザアレイ記録装置におい
て、前記半導体レーザアレイの複数の発光部から出射す
る前記複数のレーザビームの光路中に前記レーザビーム
の光量の一部を出力制御用のレーザビームとして分割す
るビーム分割手段を配設し、このビーム分割手段により
分割された複数のレーザビームを前記半導体レーザアレ
イの発光部の数に対応して独立して受光する複数個の受
光素子を設け、これら受光素子からの出力信号に応じて
前記半導体レーザアレイの 発光出力を制御する発光出力
制御手段を設け、前記半導体レーザアレイのチップをマ
ウントした半導体レーザアレイパッケージ内にその半導
体レーザアレイのバックビームを受光する1個の前記受
光素子を配設し、この1個の受光素子からの出力と出力
制御用のレーザビームを受光する複数個の前記受光素子
からの出力とを比較する出力比較検出手段を設け、この
出力比較検出手段からの比較信号をもとに前記出力制御
用のレーザビームを受光する複数個の前記受光素子から
の出力の低下を検出しエラー信号を発生させる出力信号
低下検知手段を設けたことを特徴とする半導体レーザア
レイ記録装置。 - 【請求項3】 画像信号に応じて独立に変調される半導
体レーザアレイの複数の発光部から出射する複数のレー
ザビームを微小スポットに集光結像し、記録媒体を走査
露光し記録を行う半導体レーザアレイ記録装置におい
て、前記半導体レーザアレイの複数の発光部から出射す
る前記複数のレーザビームの光路中に前記レーザビーム
の光量の一部を出力制御用のレーザビームとして分割す
るビーム分割手段を配設し、このビーム分割手段により
分割された複数のレーザビームを前記半導体レーザアレ
イの発光部の数に対応して独立して受光する複数個の受
光素子を設け、これら受光素子からの出力信号に応じて
前記半導体レーザアレイの発光出力を制御する発光出力
制御手段を設け、前記半導体レーザアレイのチップをマ
ウントした半導体レーザアレイパッケージ内にその半導
体レーザアレイのバックビームを受光する1個の前記受
光素子を配設し、この1個の受光素子からの出力と出力
制御用のレーザビームを受光する複数個の前記受光素子
からの出力とを比較する出力比較検出手段を設け、この
出力比較検出手段からの比較信号をもとに前記出力制御
用のレーザビームを受光する複数個の前記受光素子から
の出力の低下を検出しエラー信号を発生させる出力信号
低下検知手段を設け、前記半導体レーザアレイとこの半
導体レーザアレイからの発散ビームを集光するコリメー
トレンズとこのコリメートレンズを保持する保持部材と
前記半導体レーザアレイの発光部の数に対応した複数の
前記受光素子と前記半導体レーザアレイのレーザビーム
出射方向の反対側に配置された半導体レーザ駆動制御用
プリント基板とが一体的に形成された半導体レーザアレ
イユニットを設け、この半導体レーザアレイユニット内
の前記半導体レーザアレイから出射された複数のレーザ
ビームを前記受光素子に導くための光路変換手段を設け
たことを特徴とする半導体レーザアレイ記録装置。 - 【請求項4】 半導体レーザアレイのチップをマウント
した半導体レーザアレイパッケージ内にその半導体レー
ザアレイのバックビームを受光する1個の受光素子を配
設し、この1個の受光素子からの出力と出力制御用のレ
ーザビームを受光する複数個の受光素子からの出力とを
比較する出力比較検出手段を設け、この出力比較検出手
段からの比較信号をもとに前記出力制御用のレーザビー
ムを受光する複数個の受光素子からの出力の低下を検出
しエラー信号を発生させる出力信号低下検知手段を設け
たことを特徴とする請求項1記載の半導体レーザアレイ
記録装置。 - 【請求項5】 画像信号に応じて独立に変調される半導
体レーザアレイの複数の発光部から出射する複数のレー
ザビームを微小スポットに集光結像し、記録媒体を走査
露光し記録を行う半導体レーザアレイ記録装置におい
て、前記半導体レーザアレイの複数の発光部から出射す
る前記複数のレーザビームの光路中に前記レーザビーム
の光量の一部を出力制御用のレーザビームとして分割す
るビーム分割手段を配設し、このビーム分割手段により
分割された複数のレーザビームを前記半導体レーザアレ
イの発光部の数に対応して独立して受光する複数個の受
光素子を設け、これら受光素子からの出力信号に応じて
前記半導体レーザアレイの発光出力を制御する発光出力
制御手段を設け、前記半導体レーザアレイと出力制御用
のレーザビームを受光する複数個の前記受光素子との間
の光路中に光軸調整手段を配設し、複数個の前記受光素
子からの出力を検出し前記光軸調整手段の光軸調整を行
う光軸制御手段を設け、複数個の前記受光素子のうちの
少なくとも1個の前記受光素子を分割した受光面とした
ことを特徴とする半導体レーザアレイ記録装置。 - 【請求項6】 画像信号に応じて独立に変調される半導
体レーザアレイの複数の発光部から出射する複数のレー
ザビームを微小スポットに集光結像し、記録媒体を走査
露光し記録を行う半導体レーザアレイ記録装置におい
て、前記半導体レーザアレイの複数の発光部から出射す
る前記複数のレーザビームの光路中に前記レーザビーム
の光量の一部を出力制御用のレーザビームとして分割す
るビーム 分割手段を配設し、このビーム分割手段により
分割された複数のレーザビームを前記半導体レーザアレ
イの発光部の数に対応して独立して受光する複数個の受
光素子を設け、これら受光素子からの出力信号に応じて
前記半導体レーザアレイの発光出力を制御する発光出力
制御手段を設け、前記半導体レーザアレイと出力制御用
のレーザビームを受光する複数個の前記受光素子との間
の光路中に光軸調整手段を配設し、複数個の前記受光素
子からの出力を検出し前記光軸調整手段の光軸調整を行
う光軸制御手段を設け、複数個の前記受光素子のうちの
少なくとも1個の前記受光素子を分割した受光面とし、
前記半導体レーザアレイとこの半導体レーザアレイから
の発散ビームを集光するコリメートレンズとこのコリメ
ートレンズを保持する保持部材と前記半導体レーザアレ
イの発光部の数に対応した複数の前記受光素子と前記半
導体レーザアレイのレーザビーム出射方向の反対側に配
置された半導体レーザ駆動制御用プリント基板とが一体
的に形成された半導体レーザアレイユニットを設け、こ
の半導体レーザアレイユニット内の前記半導体レーザア
レイから出射された複数のレーザビームを前記受光素子
に導くための光路変換手段を設けたことを特徴とする半
導体レーザアレイ記録装置。 - 【請求項7】 半導体レーザアレイと出力制御用のレー
ザビームを受光する複数個の受光素子との間の光路中に
光軸調整手段を配設し、前記複数個の受光素子からの出
力を検出し前記光軸調整手段の光軸調整を行う光軸制御
手段を設け、前記複数個の受光素子のうちの少なくとも
1個の受光素子を分割した受光面としたことを特徴とす
る請求項1記載の半導体レーザアレイ記録装置。 - 【請求項8】 画像信号に応じて独立に変調される半導
体レーザアレイの複数の発光部から出射する複数のレー
ザビームを微小スポットに集光結像し、記録媒体を走査
露光し記録を行う半導体レーザアレイ記録装置におい
て、前記半導体レーザアレイの複数の発光部から出射す
る前記複数のレーザビームの光路中に前記レーザビーム
の光量の一部を出力制御用のレーザビームとして分割す
るビーム分割手段を配設し、このビーム分割手段により
分割された複数のレーザビームを前記半導体レーザアレ
イの発光部の数に対応して独立して受光する複数個の受
光素子を設け、これら受光素子からの出力信号に応じて
前記半導体レーザアレイの発光出力を制御する発光出力
制御手段を設け、前記半導体レーザアレイから出射 され
ることにより出力制御され記録用となったレーザビーム
を回転偏向する回転多面鏡を設け、この回転多面鏡を覆
う鏡覆部材を設け、この鏡覆部材に出力制御用のレーザ
ビームとして分割することが可能なハーフミラーの機能
をもつ光透過性の入射窓と前記回転多面鏡で偏向された
レーザビームを出射させるための光透過性の出力窓とを
形成したことを特徴とする半導体レーザアレイ記録装
置。 - 【請求項9】 画像信号に応じて独立に変調される半導
体レーザアレイの複数の発光部から出射する複数のレー
ザビームを微小スポットに集光結像し、記録媒体を走査
露光し記録を行う半導体レーザアレイ記録装置におい
て、前記半導体レーザアレイの複数の発光部から出射す
る前記複数のレーザビームの光路中に前記レーザビーム
の光量の一部を出力制御用のレーザビームとして分割す
るビーム分割手段を配設し、このビーム分割手段により
分割された複数のレーザビームを前記半導体レーザアレ
イの発光部の数に対応して独立して受光する複数個の受
光素子を設け、これら受光素子からの出力信号に応じて
前記半導体レーザアレイの発光出力を制御する発光出力
制御手段を設け、前記半導体レーザアレイから出射され
ることにより出力制御され記録用となったレーザビーム
を回転偏向する回転多面鏡を設け、この回転多面鏡を覆
う鏡覆部材を設け、この鏡覆部材に出力制御用のレーザ
ビームとして分割することが可能なハーフミラーの機能
をもつ光透過性の入射窓と前記回転多面鏡で偏向された
レーザビームを出射させるための光透過性の出力窓とを
形成し、前記半導体レーザアレイとこの半導体レーザア
レイからの発散ビームを集光するコリメートレンズとこ
のコリメートレンズを保持する保持部材と前記半導体レ
ーザアレイの発光部の数に対応した複数の受光素子と前
記半導体レーザアレイのレーザビーム出射方向の反対側
に配置された半導体レーザ駆動制御用プリント基板とが
一体的に形成された半導体レーザアレイユニットを設
け、この半導体レーザアレイユニット内の前記半導体レ
ーザアレイから出射された複数のレーザビームを前記受
光素子に導くための光路変換手段を設けたことを特徴と
する半導体レーザアレイ記録装置。 - 【請求項10】 半導体レーザアレイから出射されるこ
とにより出力制御され記録用となったレーザビームを回
転偏向する回転多面鏡を設け、この回転多面鏡を覆う鏡
覆部材を設け、この鏡覆部材に出力制御用のレーザビー
ムとして分割 することが可能なハーフミラーの機能をも
つ光透過性の入射窓と前記回転多面鏡で偏向されたレー
ザビームを出射させるための光透過性の出力窓とを形成
したことを特徴とする請求項1記載の半導体レーザアレ
イ記録装置。 - 【請求項11】 出力制御用のレーザビームを独立に受
光する複数個の受光素子のうちの少なくとも2個の受光
素子を光軸方向に異なった位置に配設し、半導体レーザ
アレイとビーム分割手段との間の光路中に前記少なくと
も2個の受光素子を微小レーザスポットの光軸方向の結
像位置を調整可能な結像位置調整手段を設けたことを特
徴とする請求項1記載の半導体レーザアレイ記録装置。 - 【請求項12】 画像信号に応じて独立に変調される半
導体レーザアレイの複数の発光部から出射する複数のレ
ーザビームを微小スポットに集光結像し、記録媒体を走
査露光し記録を行う半導体レーザアレイ記録装置におい
て、前記半導体レーザアレイの複数の発光部から出射す
る前記複数のレーザビームの光路中に前記レーザビーム
の光量の一部を出力制御用のレーザビームとして分割す
るビーム分割手段を配設し、このビーム分割手段により
分割された複数のレーザビームを集光する集光素子を設
け、この集光素子により集光されたレーザビームを前記
半導体レーザアレイの発光部の数に対応して独立して受
光する複数個の受光素子を前記集光素子の集光点から光
軸方向にずらした位置に配設し、これら集光点からずれ
た位置の受光素子からの出力信号に応じて前記半導体レ
ーザアレイの発光出力を制御する発光出力制御手段を設
けたことを特徴とする半導体レーザアレイ記録装置。 - 【請求項13】 集光素子の集光点近傍に、個々の受光
素子に対をなす半導体レーザアレイの発光部以外からの
ビームを遮光する遮光部材を配設したことを特徴とする
請求項12記載の半導体レーザアレイ記録装置。 - 【請求項14】 半導体レーザアレイとこの半導体レー
ザアレイからの発散ビームを集光するコリメートレンズ
とこれらアレイ及びレンズをそれぞれ保持する第一保持
部材とレーザビーム出射方向の反対側に半導体レーザ駆
動制御手段を実装したプリント基板とよりなる半導体レ
ーザアレイ部を形成し、ビーム分割手段と集光素子とこ
れらビーム分割手段及び集光素子を保持する第二保持部
材とよりなる分割集光部を形成したことを特徴とする請
求項12記載の半導体レーザアレイ記録装置。 - 【請求項15】 分割集光部は、この分割集光部を半導
体レーザアレイ部に対してその半導体レーザアレイの配
列方向に微動調整し固定が可能な微動調整機構を有する
ことを特徴とする請求項14記載の半導体レーザアレイ
記録装置。 - 【請求項16】 ビーム分割手段により分割された記録
用のレーザビームの光路中にビーム径を制限するアパー
チャを配設したことを特徴とする請求項14又は15記
載の半導体レーザアレイ記録装置。 - 【請求項17】 画像信号に応じて独立に変調される半
導体レーザアレイの複数の発光部から出射する複数のレ
ーザビームを微小スポットに集光結像し、記録媒体を走
査露光し記録を行う半導体レーザアレイ記録装置におい
て、前記半導体レーザアレイの複数の発光部から出射す
る前記複数のレーザビームの光路中に前記レーザビーム
の光量の一部を出力制御用のレーザビームとして分割す
るビーム分割手段を配設し、このビーム分割手段により
分割された複数のレーザビームを集光する集光素子を設
け、この集光素子により集光されたレーザビームを前記
半導体レーザアレイの発光部の数に対応して独立して受
光する複数個の受光素子の受光面を前記集光素子の光軸
に対して傾けて配設し、これら受光素子からの出力信号
に応じて前記半導体レーザアレイの発光出力を制御する
発光出力制御手段を設けたことを特徴とする半導体レー
ザアレイ記録装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5009934A JP2908657B2 (ja) | 1992-05-18 | 1993-01-25 | 半導体レーザアレイ記録装置 |
| US08/062,575 US5432537A (en) | 1992-05-18 | 1993-05-17 | Optical recording apparatus capable of controlling optical power of laser diode array |
| US08/184,481 US5671077A (en) | 1992-05-18 | 1994-01-21 | Multi-beam light source device and optical scanning apparatus using the multi-beam source device |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4-124699 | 1992-05-18 | ||
| JP12469992 | 1992-05-18 | ||
| JP5009934A JP2908657B2 (ja) | 1992-05-18 | 1993-01-25 | 半導体レーザアレイ記録装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0631980A JPH0631980A (ja) | 1994-02-08 |
| JP2908657B2 true JP2908657B2 (ja) | 1999-06-21 |
Family
ID=26344750
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5009934A Expired - Fee Related JP2908657B2 (ja) | 1992-05-18 | 1993-01-25 | 半導体レーザアレイ記録装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5432537A (ja) |
| JP (1) | JP2908657B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7936492B2 (en) | 2007-03-28 | 2011-05-03 | Ricoh Company, Ltd. | Light source device, optical scanning device, and image forming apparatus |
Families Citing this family (44)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5671077A (en) * | 1992-05-18 | 1997-09-23 | Ricoh Company, Ltd. | Multi-beam light source device and optical scanning apparatus using the multi-beam source device |
| JP3031801B2 (ja) * | 1993-08-20 | 2000-04-10 | 富士写真フイルム株式会社 | 熱記録方法および装置 |
| US6158659A (en) * | 1994-08-17 | 2000-12-12 | Metrologic Instruments, Inc. | Holographic laser scanning system having multiple laser scanning stations for producing a 3-D scanning volume substantially free of spatially and temporally coincident scanning planes |
| JP3276284B2 (ja) * | 1996-01-12 | 2002-04-22 | 旭光学工業株式会社 | マルチビーム光走査装置 |
| US5809050A (en) * | 1996-01-25 | 1998-09-15 | Hewlett-Packard Company | Integrated controlled intensity laser-based light source using diffraction, scattering and transmission |
| US5771254A (en) * | 1996-01-25 | 1998-06-23 | Hewlett-Packard Company | Integrated controlled intensity laser-based light source |
| JPH1098238A (ja) * | 1996-09-24 | 1998-04-14 | Minolta Co Ltd | 半導体レーザアレイユニット |
| US5854705A (en) * | 1997-01-17 | 1998-12-29 | Xerox Corporation | Micropositioned laser source for raster output scanners |
| JP2000141769A (ja) * | 1998-09-10 | 2000-05-23 | Fuji Xerox Co Ltd | 画像形成装置 |
| JP4368961B2 (ja) | 1998-12-15 | 2009-11-18 | 株式会社東芝 | ビーム光走査装置および画像形成装置 |
| JP3732059B2 (ja) * | 1998-12-17 | 2006-01-05 | 株式会社リコー | 画像形成装置および画像形成システム |
| US6108116A (en) * | 1999-04-29 | 2000-08-22 | Xerox Corporation | High precision collimating system |
| JP3667205B2 (ja) * | 1999-07-30 | 2005-07-06 | キヤノン株式会社 | 画像形成装置 |
| JP2001169067A (ja) * | 1999-12-10 | 2001-06-22 | Ricoh Co Ltd | 画像処理装置、画像情報管理方法およびその方法をコンピュータに実行させるプログラムを記憶したコンピュータ読み取り可能な記憶媒体 |
| JP2001284703A (ja) * | 2000-03-31 | 2001-10-12 | Ricoh Co Ltd | 半導体レーザ制御装置、画像形成装置及び光ディスク装置 |
| DE60124484T2 (de) | 2000-09-29 | 2007-09-06 | Ricoh Company, Ltd. | Datenverarbeitungsvorrichtung und DMA-Datenübertragungsverfahren |
| US6603498B1 (en) | 2000-11-28 | 2003-08-05 | Coherent, Inc. | Printer head with linear array of individually addressable diode-lasers |
| JP2003101741A (ja) | 2001-06-29 | 2003-04-04 | Ricoh Co Ltd | 画像処理装置、及びその制御方法、並びに制御装置 |
| US7034838B2 (en) * | 2001-12-27 | 2006-04-25 | Ricoh Company, Ltd. | Information processing apparatus |
| KR100452852B1 (ko) * | 2002-01-09 | 2004-10-14 | 삼성전자주식회사 | 확대 광학계 및 그것을 갖는 화상형성 장치 |
| US7185151B2 (en) | 2002-09-19 | 2007-02-27 | Ricoh Company, Ltd. | Data processing device characterized in its data transfer method, program for executing on a computer to perform functions of the device, and computer readable recording medium storing such a program |
| US7097297B2 (en) * | 2002-10-23 | 2006-08-29 | Konica Minolta Holdings Inc. | Ink jet printer, and image printing apparatus having the printer |
| JP2005027109A (ja) * | 2003-07-03 | 2005-01-27 | Ricoh Co Ltd | カラー画像形成装置およびカラー画像形成方法 |
| JP2005116583A (ja) * | 2003-10-03 | 2005-04-28 | Pentax Corp | 光半導体装置 |
| JP3755882B2 (ja) * | 2003-11-28 | 2006-03-15 | Tdk株式会社 | 永久磁石用合金粉末の製造装置及び製造方法 |
| US7119825B2 (en) * | 2004-01-21 | 2006-10-10 | Xerox Corporation | Parallel beam to beam power correction |
| JP2006060032A (ja) * | 2004-08-20 | 2006-03-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 露光方法および装置 |
| JP2006116968A (ja) * | 2004-10-21 | 2006-05-11 | Heidelberger Druckmas Ag | 記録材料上に描画可能な描画装置 |
| JP4642627B2 (ja) * | 2005-10-12 | 2011-03-02 | キヤノン株式会社 | 走査光学装置及びそれを用いた画像形成装置 |
| WO2008011398A1 (en) * | 2006-07-17 | 2008-01-24 | Lester Wallis Martin | Layout laser assembly |
| JP2008225058A (ja) * | 2007-03-13 | 2008-09-25 | Ricoh Co Ltd | モニタ装置、光源装置、光走査装置及び画像形成装置 |
| US8081203B2 (en) * | 2007-03-02 | 2011-12-20 | Ricoh Company, Ltd. | Light-amount detecting device, light source device, optical scanning unit and image forming apparatus |
| JP5252832B2 (ja) * | 2007-05-15 | 2013-07-31 | キヤノン株式会社 | 露光装置及び画像形成装置 |
| US7889993B2 (en) * | 2007-08-17 | 2011-02-15 | Avago Technologies Fiber Ip (Singapore) Pte. Ltd | Optical transceiver module having a front facet reflector and methods for making and using a front facet reflector |
| JP5333982B2 (ja) * | 2008-03-17 | 2013-11-06 | 株式会社リコー | 光源装置、光走査装置及び画像形成装置 |
| JP2010085965A (ja) * | 2008-09-05 | 2010-04-15 | Ricoh Co Ltd | 光走査装置及び画像形成装置 |
| JP5078811B2 (ja) * | 2008-09-09 | 2012-11-21 | 株式会社リコー | 光源装置、光走査装置及び画像形成装置 |
| JP2010107561A (ja) * | 2008-10-28 | 2010-05-13 | Ricoh Co Ltd | 光ビーム走査装置および画像形成装置 |
| JP5321915B2 (ja) * | 2010-02-18 | 2013-10-23 | 株式会社リコー | 光源装置、光走査装置及び画像形成装置 |
| JP2012103411A (ja) * | 2010-11-09 | 2012-05-31 | Fuji Xerox Co Ltd | 画像形成装置 |
| US9097513B2 (en) * | 2011-09-15 | 2015-08-04 | William Frank Budleski | Optical laser scanning micrometer |
| JP6147042B2 (ja) * | 2012-04-25 | 2017-06-14 | キヤノン株式会社 | 画像形成装置 |
| JP7121289B2 (ja) * | 2019-02-05 | 2022-08-18 | 日本電信電話株式会社 | 波長選択型光受信装置 |
| CN112332214A (zh) * | 2019-08-02 | 2021-02-05 | 苏州旭创科技有限公司 | 一种可调谐激光器及光模块 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4063226A (en) * | 1974-03-18 | 1977-12-13 | Harris Corporation | Optical information storage system |
| JPS5919252A (ja) * | 1982-07-21 | 1984-01-31 | Ricoh Co Ltd | 半導体レ−ザ−アレイ出力制御方法 |
| DE3590327T1 (de) * | 1984-07-05 | 1986-06-26 | Ricoh Co., Ltd., Tokio/Tokyo | Verfahren zum Regeln der Temperatur eines Halbleiterlasers in einer optischen Abtasteinrichtung |
| JP2665219B2 (ja) * | 1986-05-23 | 1997-10-22 | 株式会社リコー | 半導体レーザアレイの出力制御装置 |
| US4733253A (en) * | 1986-07-03 | 1988-03-22 | Xerox Corporation | Apparatus and method for detecting and eliminating diode laser mode hopping |
| JPH01106486A (ja) * | 1987-10-19 | 1989-04-24 | Fuji Xerox Co Ltd | 半導体レーザアレイの光量モニタ方法 |
| JP2682641B2 (ja) * | 1988-06-03 | 1997-11-26 | 株式会社リコー | 半導体レーザー光源装置 |
| US5002348A (en) * | 1989-05-24 | 1991-03-26 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Scanning beam optical signal processor |
-
1993
- 1993-01-25 JP JP5009934A patent/JP2908657B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1993-05-17 US US08/062,575 patent/US5432537A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7936492B2 (en) | 2007-03-28 | 2011-05-03 | Ricoh Company, Ltd. | Light source device, optical scanning device, and image forming apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5432537A (en) | 1995-07-11 |
| JPH0631980A (ja) | 1994-02-08 |
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