JP2863175B2 - ｔｒａｎｓ又はｃｉｓ構造のカロン酸セミアルデヒド誘導体のエナンチオ選択的製造方法 - Google Patents
ｔｒａｎｓ又はｃｉｓ構造のカロン酸セミアルデヒド誘導体のエナンチオ選択的製造方法Info
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Description
【発明の詳細な説明】 ［技術分野］ この発明は、trans又はcis構造のカロン酸セミアルデ
ヒド誘導体の新規のエナンチオ選択的製造方法に関す
る。
ヒド誘導体の新規のエナンチオ選択的製造方法に関す
る。
［発明の具体的な説明］ この発明は、次式（Ｉ）： （式中、Ｒは水素原子、１〜４個の炭素原子を有する
アルキル基又は12個までの炭素原子を有するアリール基
を表わす） のcis又はtrans構造の化合物のラセミ体又は光学活性体
の製造方法であって、 次式（II′）： （式中、Ｒは前記の通りであり、 二重結合はＺ配置である） の化合物の異性体、ラセミ体又は光学活性体のいずれか
１種に、 Ａ）イソプロピリデンジフェニルスルフランを作用させ
て次式（IIIb）： （式中、Ｒは前記の通りであり、 シクロプロパン環はcis配置を有する） の化合物を得るか 又は Ｂ）イソプロピリデントリフェニルホスホランを作用さ
せて次式（IIIa）： （式中、Ｒは前記の通りであり、 シクロプロパン環はtrans配置を有する） の化合物を得るか、 のいずれかであり、そして ａ）これら式（IIIa）又は（IIIb）の化合物のジオキソ
ラン残基を加水分解して次式（IV）： （式中、Ｒは前記の通りであり、 波線はＺ又はＥ配置を示し、式（IIIa）又は（IIIb）に
おける配置に対応する） の化合物を得て、この式（IV）の化合物の４−５位の結
合を解裂して式（Ｉ）の目的化合物を得るか、 又は ｂ）前記ジオキソラン残基を加水分解し且つ同時に４−
５位の結合を解裂して式（Ｉ）の目的化合物を得るか のいずれかであることを特徴とする前記製造方法を主題
とする。
アルキル基又は12個までの炭素原子を有するアリール基
を表わす） のcis又はtrans構造の化合物のラセミ体又は光学活性体
の製造方法であって、 次式（II′）： （式中、Ｒは前記の通りであり、 二重結合はＺ配置である） の化合物の異性体、ラセミ体又は光学活性体のいずれか
１種に、 Ａ）イソプロピリデンジフェニルスルフランを作用させ
て次式（IIIb）： （式中、Ｒは前記の通りであり、 シクロプロパン環はcis配置を有する） の化合物を得るか 又は Ｂ）イソプロピリデントリフェニルホスホランを作用さ
せて次式（IIIa）： （式中、Ｒは前記の通りであり、 シクロプロパン環はtrans配置を有する） の化合物を得るか、 のいずれかであり、そして ａ）これら式（IIIa）又は（IIIb）の化合物のジオキソ
ラン残基を加水分解して次式（IV）： （式中、Ｒは前記の通りであり、 波線はＺ又はＥ配置を示し、式（IIIa）又は（IIIb）に
おける配置に対応する） の化合物を得て、この式（IV）の化合物の４−５位の結
合を解裂して式（Ｉ）の目的化合物を得るか、 又は ｂ）前記ジオキソラン残基を加水分解し且つ同時に４−
５位の結合を解裂して式（Ｉ）の目的化合物を得るか のいずれかであることを特徴とする前記製造方法を主題
とする。
Ｒはメチル、エチル、直鎖状若しくは分枝鎖状のプロ
ピル又は直鎖状若しくは分枝鎖状のブチル基であること
ができる。
ピル又は直鎖状若しくは分枝鎖状のブチル基であること
ができる。
イソプロピリデンジフェニルスルフランとは、次式： の化合物である。
本発明に従う方法の好ましい実施条件において： ・ジオキソラン残基の加水分解剤は塩酸、硫酸、酢酸、
過塩素酸又はｐ−トルエンスルホン酸のような無機又は
有機酸化合物であり； ・４−５位の結合の解裂剤は、過沃素酸塩、四酢酸鉛又
は過マンガン酸カリウムのような酸化剤であり； ・ジオキソラン残基を加水分解し且つ４−５位の結合を
解裂し得る化合物は、硫酸の存在下における過沃素酸塩
又は過沃素酸のような酸化剤である。
過塩素酸又はｐ−トルエンスルホン酸のような無機又は
有機酸化合物であり； ・４−５位の結合の解裂剤は、過沃素酸塩、四酢酸鉛又
は過マンガン酸カリウムのような酸化剤であり； ・ジオキソラン残基を加水分解し且つ４−５位の結合を
解裂し得る化合物は、硫酸の存在下における過沃素酸塩
又は過沃素酸のような酸化剤である。
本発明は特に、次式（IA）： （式中、Ｒは前記の通りである） のtrans構造の化合物のラセミ体又は光学活性体を製造
方法であって、前記式（II′）の化合物の異性体、ラセ
ミ体又は光学活性体のいずれか１種にイソプロピリデン
トリフェニルホスホランを作用させて次式（IIIa）： （式中、Ｒは前記の通りであり、 シクロプロパン環はtrans配置を有する） の化合物を得て、そして ａ）この式（IIIa）の化合物のジオキソラン残基を加水
分解して次式（IVa）： （式中、Ｒ及びシクロプロパン環の配置は前記の通り
である） の化合物を得て、この式（IVa）の化合物の４−５位の
結合を解裂して式（IA）の目的化合物を得るか、 又は ｂ）前記ジオキソラン残基を加水分解し且つ同時に４−
５位の結合を解裂して式（IA）の目的化合物を得るか のいずれかであることを特徴とする前記製造方法を主
題とする。
方法であって、前記式（II′）の化合物の異性体、ラセ
ミ体又は光学活性体のいずれか１種にイソプロピリデン
トリフェニルホスホランを作用させて次式（IIIa）： （式中、Ｒは前記の通りであり、 シクロプロパン環はtrans配置を有する） の化合物を得て、そして ａ）この式（IIIa）の化合物のジオキソラン残基を加水
分解して次式（IVa）： （式中、Ｒ及びシクロプロパン環の配置は前記の通り
である） の化合物を得て、この式（IVa）の化合物の４−５位の
結合を解裂して式（IA）の目的化合物を得るか、 又は ｂ）前記ジオキソラン残基を加水分解し且つ同時に４−
５位の結合を解裂して式（IA）の目的化合物を得るか のいずれかであることを特徴とする前記製造方法を主
題とする。
また、本発明は特に、次式（IB）： （式中、Ｒは前記の通りである） のcis構造の化合物のラセミ体又は光学活性体の製造方
法であって、次式（II′）： （式中、Ｒは前記の通りであり、 二重結合はＺ配置である） の化合物にイソプロピリデンジフェニルスルフランを作
用させて次式（IIIb）： （式中、Ｒは前記の通りであり、 シクロプロパン環はcis配置を有する） の化合物を得て、そして ａ）この式（IIIb）の化合物のジオキソラン残基を加水
分解して次式（IVb）： （式中、Ｒ及びシクロプロパン環の配置は前記の通り
である） の化合物を得て、この式（IVb）の化合物の４−５位の
結合を解裂して式（IB）の目的化合物を得るか、 又は ｂ）前記ジオキソラン残基を加水分解し且つ同時に４−
５位の結合を解裂して式（IB）の目的化合物を得るか のいずれかであることを特徴とする前記製造方法をも主
題とする。
法であって、次式（II′）： （式中、Ｒは前記の通りであり、 二重結合はＺ配置である） の化合物にイソプロピリデンジフェニルスルフランを作
用させて次式（IIIb）： （式中、Ｒは前記の通りであり、 シクロプロパン環はcis配置を有する） の化合物を得て、そして ａ）この式（IIIb）の化合物のジオキソラン残基を加水
分解して次式（IVb）： （式中、Ｒ及びシクロプロパン環の配置は前記の通り
である） の化合物を得て、この式（IVb）の化合物の４−５位の
結合を解裂して式（IB）の目的化合物を得るか、 又は ｂ）前記ジオキソラン残基を加水分解し且つ同時に４−
５位の結合を解裂して式（IB）の目的化合物を得るか のいずれかであることを特徴とする前記製造方法をも主
題とする。
より特定的には、本発明の主題は、（1R,cis）配置の式
（IB）の化合物の製造方法であって、次式（II′１）： （式中、Ｒは前記の通りであり、 二重結合はＺ配置である） の（4S）配置を有する化合物にイソプロピリデンジフェ
ニルスルフランを作用させて次式（IIIb1）： （式中、Ｒは前記の通りである） の（4S）配置及びシクロプロパン環における（1R,cis）
配置を有する化合物を得て、そして ａ）この式（IIIb1）の化合物のジオキソラン残基を加
水分解して次式（IVb1）： （式中、Ｒは前記の通りである） の（4S）配置及びシクロプロパン環における（1R,cis）
配置を有する化合物を得て、この式（IVb1）の化合物の
４−５位の結合を酸化剤の作用によって解裂して（1R,c
is）配置の式（IB）の化合物を得るか、 又は ｂ）前記ジオキソラン残基を加水分解し且つ同時に４−
５位の結合を解裂して（1R,cis）配置の式（IB）の化合
物を得るか のいずれかであることを特徴とする前記製造方法にあ
る。
（IB）の化合物の製造方法であって、次式（II′１）： （式中、Ｒは前記の通りであり、 二重結合はＺ配置である） の（4S）配置を有する化合物にイソプロピリデンジフェ
ニルスルフランを作用させて次式（IIIb1）： （式中、Ｒは前記の通りである） の（4S）配置及びシクロプロパン環における（1R,cis）
配置を有する化合物を得て、そして ａ）この式（IIIb1）の化合物のジオキソラン残基を加
水分解して次式（IVb1）： （式中、Ｒは前記の通りである） の（4S）配置及びシクロプロパン環における（1R,cis）
配置を有する化合物を得て、この式（IVb1）の化合物の
４−５位の結合を酸化剤の作用によって解裂して（1R,c
is）配置の式（IB）の化合物を得るか、 又は ｂ）前記ジオキソラン残基を加水分解し且つ同時に４−
５位の結合を解裂して（1R,cis）配置の式（IB）の化合
物を得るか のいずれかであることを特徴とする前記製造方法にあ
る。
また、より特定的には、本発明は、（1R,trans）配置
の式（IA）の化合物の製造方法であって、 次式（II′１）： （式中、Ｒは前記の通りであり、 二重結合はＺ配置である） の（4R）構造を有する化合物にイソプロピリデントリフ
ェニルホスホランを作用させて次式（IIIa1）： （式中、Ｒは前記の通りである） の（4R）配置及びシクロプロパン環における（1R,tran
s）配置を有する化合物を得て、そして ａ）この式（IIIa1）の化合物のジオキソラン残基を加
水分解して次式（IVa1）： （式中、Ｒは前記の通りである） の（4R）配置及びシクロプロパン環における（1R,tran
s）配置を有する化合物を得て、この式（IVa1）の化合
物の４−５位の結合を酸化剤の作用によって解裂して
（1R,trans）配置の式（IA）の化合物を得るか、 又は ｂ）前記ジオキソラン残基を加水分解し且つ同時に４−
５位の結合を解裂して（1R,trans）配置の式（IA）の化
合物を得るか のいずれかであることを特徴とする前記製造方法にもあ
る。
の式（IA）の化合物の製造方法であって、 次式（II′１）： （式中、Ｒは前記の通りであり、 二重結合はＺ配置である） の（4R）構造を有する化合物にイソプロピリデントリフ
ェニルホスホランを作用させて次式（IIIa1）： （式中、Ｒは前記の通りである） の（4R）配置及びシクロプロパン環における（1R,tran
s）配置を有する化合物を得て、そして ａ）この式（IIIa1）の化合物のジオキソラン残基を加
水分解して次式（IVa1）： （式中、Ｒは前記の通りである） の（4R）配置及びシクロプロパン環における（1R,tran
s）配置を有する化合物を得て、この式（IVa1）の化合
物の４−５位の結合を酸化剤の作用によって解裂して
（1R,trans）配置の式（IA）の化合物を得るか、 又は ｂ）前記ジオキソラン残基を加水分解し且つ同時に４−
５位の結合を解裂して（1R,trans）配置の式（IA）の化
合物を得るか のいずれかであることを特徴とする前記製造方法にもあ
る。
なお、次式（II） （式中、Ｒは前記の通りであり、 波線はＺ又はＥ配置を示す） において破線がＥ配置を示す化合物から出発して同様の
反応を行なった場合には、イソプロピリデントリフェニ
ルホスホランを用いてもイソプロピリデンジフェニルス
ルフランを用いても同様に式（Ｉ）のtrans構造の化合
物が得られる。
反応を行なった場合には、イソプロピリデントリフェニ
ルホスホランを用いてもイソプロピリデンジフェニルス
ルフランを用いても同様に式（Ｉ）のtrans構造の化合
物が得られる。
式（II）のキラル化合物を用いて出発してイソプロピ
リデントリフェニルホスホラン又はイソプロピリデンジ
フェニルスルフランのいずれかを用いて、cis又はtrans
配置の得られる式（Ｉ）の化合物並びに単離される中間
体の得られる配置を下記の表に示す。また、便宜上、出
発のグリセリンアルデヒドアセトニドの配置も示す。
リデントリフェニルホスホラン又はイソプロピリデンジ
フェニルスルフランのいずれかを用いて、cis又はtrans
配置の得られる式（Ｉ）の化合物並びに単離される中間
体の得られる配置を下記の表に示す。また、便宜上、出
発のグリセリンアルデヒドアセトニドの配置も示す。
カロン酸セミアルデヒドの名称の下に知られている式
（Ｉ）の化合物は、菊酸又はその類似体、特にハロゲン
化物の合成における有用な中間体である。
（Ｉ）の化合物は、菊酸又はその類似体、特にハロゲン
化物の合成における有用な中間体である。
式（II）のエステルは既知の化合物であり、グリセリ
ンアルデヒドアセトニドから出発して製造することがで
きる。
ンアルデヒドアセトニドから出発して製造することがで
きる。
［実施例］ 以下の実施例は本発明を例示するためのものであり、
その範囲を何ら限定しない。
その範囲を何ら限定しない。
例1:（1R,cis）３−ホルミル−2,2−ジメチルシクロプ
ロパンカルボン酸メチル 工程A:3−［（4S）2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラン
−４−イル］−2,2−ジメチル−1R,3S−シクロプロパン
カルボン酸メチル 無水ジメトキシエタン12ml中にテトラフルオロ硼素酸
イソプロピルジフェニルスルホニウム0.574g及び無水ジ
クロルメタン0.128gを含有させて−78℃に冷却し且つ不
活性ガス下に置いた溶液に、ジメトキシエタン5ml中の
ジイソプロピルアミン0.172gをヘキサン中1.55M濃度の
ｎ−ブチルリチウム1.05mlによって−78℃において15分
間処理することによって得られたリチウムジイソプロピ
ルアミドの溶液を添加した。−78℃において15分間攪拌
した後に、ジメトキシエタン2ml中に３（Ｚ）−［（4
S）2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラン−４−イル］−
プロペン酸メチル0.186gを含有させた溶液を添加した。
この反応性混合物を−78℃において15分間攪拌し、次い
で−65〜−50℃において45分間攪拌した。最後にこれを
再び加熱し、水5mlを添加した。有機相をエーテルで希
釈し、水相から分離し、水で洗浄し、乾燥させた。真空
下で溶媒を蒸発させて未精製物質0.4gが得られた。これ
をシリカを用いたクロマトグラフィー（溶出液はペンタ
ンとエーテルとの比75:25の混合物）にかけて、目的化
合物0.192gが得られた。
ロパンカルボン酸メチル 工程A:3−［（4S）2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラン
−４−イル］−2,2−ジメチル−1R,3S−シクロプロパン
カルボン酸メチル 無水ジメトキシエタン12ml中にテトラフルオロ硼素酸
イソプロピルジフェニルスルホニウム0.574g及び無水ジ
クロルメタン0.128gを含有させて−78℃に冷却し且つ不
活性ガス下に置いた溶液に、ジメトキシエタン5ml中の
ジイソプロピルアミン0.172gをヘキサン中1.55M濃度の
ｎ−ブチルリチウム1.05mlによって−78℃において15分
間処理することによって得られたリチウムジイソプロピ
ルアミドの溶液を添加した。−78℃において15分間攪拌
した後に、ジメトキシエタン2ml中に３（Ｚ）−［（4
S）2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラン−４−イル］−
プロペン酸メチル0.186gを含有させた溶液を添加した。
この反応性混合物を−78℃において15分間攪拌し、次い
で−65〜−50℃において45分間攪拌した。最後にこれを
再び加熱し、水5mlを添加した。有機相をエーテルで希
釈し、水相から分離し、水で洗浄し、乾燥させた。真空
下で溶媒を蒸発させて未精製物質0.4gが得られた。これ
をシリカを用いたクロマトグラフィー（溶出液はペンタ
ンとエーテルとの比75:25の混合物）にかけて、目的化
合物0.192gが得られた。
NMRスペクトル（CCl4） δ0.9〜1.8（ｍ、14H、ＣH ３及びシクロプロパン上の
Ｈ） 3.2〜3.65（3.6におけるCO2CH ３のｓを伴うｍ、CO2C
H ３、４H、CO2CH ３及びジオキソランのＨの１つ） 3.95（dd、1H、ジオキソランのＨの１つ） 4.25〜4.66（ｍ、1H、ジオキソランのＨの１つ） 工程B:（1R,cis）３−ホルミル−2,2−ジメチルシクロ
プロパンカルボン酸メチル 工程Ａにおいて得られた生成物0.15gをTHF8ml中に溶
解させ、20℃において2.5M過塩素酸水溶液4mlを添加
し、20℃において３時間攪拌した。次いで塩基性のpHが
得られるまで固体状重炭酸ナトリウムを添加し、次いで
この反応混合物をエーテルで抽出した。有機相を乾燥さ
せ、真空下で溶媒を蒸発させた。得られた未精製ジオー
ルをそのまま次の工程に使用する。
Ｈ） 3.2〜3.65（3.6におけるCO2CH ３のｓを伴うｍ、CO2C
H ３、４H、CO2CH ３及びジオキソランのＨの１つ） 3.95（dd、1H、ジオキソランのＨの１つ） 4.25〜4.66（ｍ、1H、ジオキソランのＨの１つ） 工程B:（1R,cis）３−ホルミル−2,2−ジメチルシクロ
プロパンカルボン酸メチル 工程Ａにおいて得られた生成物0.15gをTHF8ml中に溶
解させ、20℃において2.5M過塩素酸水溶液4mlを添加
し、20℃において３時間攪拌した。次いで塩基性のpHが
得られるまで固体状重炭酸ナトリウムを添加し、次いで
この反応混合物をエーテルで抽出した。有機相を乾燥さ
せ、真空下で溶媒を蒸発させた。得られた未精製ジオー
ルをそのまま次の工程に使用する。
未精製ジオールをメタノール6ml及び燐酸塩緩衝液（p
H7.2）3ml中に溶解させ、過剰（即ち0.214g）の過沃素
酸ナトリウムを20℃において一度に添加して処理した。
20℃において30分間攪拌した後に、揮発性のメタノール
を真空下で蒸発させた。次いで残渣をエーテル60mlの存
在下で攪拌した。有機相をデカンテーションし、水5ml
で洗浄し、乾燥させた。真空下で溶媒を蒸発させた後
に、未精製混合物をシリカゲルを用いたクロマトグラフ
ィーによって精製して、目的化合物0.06gが得られた。
H7.2）3ml中に溶解させ、過剰（即ち0.214g）の過沃素
酸ナトリウムを20℃において一度に添加して処理した。
20℃において30分間攪拌した後に、揮発性のメタノール
を真空下で蒸発させた。次いで残渣をエーテル60mlの存
在下で攪拌した。有機相をデカンテーションし、水5ml
で洗浄し、乾燥させた。真空下で溶媒を蒸発させた後
に、未精製混合物をシリカゲルを用いたクロマトグラフ
ィーによって精製して、目的化合物0.06gが得られた。
例2:（1R,trans）３−ホルミル−2,2−ジメチルシクロ
プロパンカルボン酸メチル（参考例） 工程A:3−［（4R）2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラン
−４−イル］−2,2−ジメチル−1R,3R−シクロプロパン
カルボン酸メチル 出発時に３（Ｅ）−［（4R）−2,2−ジメチル−1,3−
ジオキソラン−４−イル］−プロペン酸メチル0.186gを
用いて、例１の工程Ａに記載したように操作を実施し
た。
プロパンカルボン酸メチル（参考例） 工程A:3−［（4R）2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラン
−４−イル］−2,2−ジメチル−1R,3R−シクロプロパン
カルボン酸メチル 出発時に３（Ｅ）−［（4R）−2,2−ジメチル−1,3−
ジオキソラン−４−イル］−プロペン酸メチル0.186gを
用いて、例１の工程Ａに記載したように操作を実施し
た。
シリカを用いたクロマトグラフィー（溶出液はペンタ
ンとエーテルとの比7:3の混合物）の後に、目的化合物
0.21gが得られた。
ンとエーテルとの比7:3の混合物）の後に、目的化合物
0.21gが得られた。
NMRスペクトル（CCl4） δ1.70〜0.9（1.2及び1.35における2sを伴うｍ、12H、
ＣH ３及びシクロプロパンのＣH 3.8〜4.25（3.8におけるｓを伴うｍ、6H、CO2CH3、ＣH
‐Ｏ及びＣH ２Ｏ） 工程B:（1R,trans）３−ホルミル−2,2−ジメチルシク
ロプロパンカルボン酸メチル 出発時に工程Ａにおいて得られた生成物0.15gを用い
て、例１の工程Ｂに記載したように操作を実施して、目
的化合物0.065gが得られた。
ＣH ３及びシクロプロパンのＣH 3.8〜4.25（3.8におけるｓを伴うｍ、6H、CO2CH3、ＣH
‐Ｏ及びＣH ２Ｏ） 工程B:（1R,trans）３−ホルミル−2,2−ジメチルシク
ロプロパンカルボン酸メチル 出発時に工程Ａにおいて得られた生成物0.15gを用い
て、例１の工程Ｂに記載したように操作を実施して、目
的化合物0.065gが得られた。
例3:（1R,trans）３−ホルミル−2,2−ジメチルシクロ
プロパンカルボン酸メチル 工程A:3−［（4R）2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラン
−４−イル］−2,2−ジメチル−1R,3R−シクロプロパン
カルボン酸メチル テトラヒドロフラン中の沃化イソプロピルトリフェニ
ルホスホニウムの懸濁液にヘキサン中のｎ−ブチルリチ
ウムの溶液を添加することによって、テトラヒドロフラ
ン中のイソプロピリデントリフェニルホスホランの溶液
（1.5×10-3M）を調製した。
プロパンカルボン酸メチル 工程A:3−［（4R）2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラン
−４−イル］−2,2−ジメチル−1R,3R−シクロプロパン
カルボン酸メチル テトラヒドロフラン中の沃化イソプロピルトリフェニ
ルホスホニウムの懸濁液にヘキサン中のｎ−ブチルリチ
ウムの溶液を添加することによって、テトラヒドロフラ
ン中のイソプロピリデントリフェニルホスホランの溶液
（1.5×10-3M）を調製した。
テトラヒドロフラン４cm3中に溶解させた３（Ｚ）−
［（4R）−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラン−４−イ
ル］−プロペン酸メチル0.186g中に０℃において上記の
溶液６cm3を導入し、この全体を０℃において１時間、
次いで20℃に戻した後に１時間攪拌した。この反応媒体
を水５cm3で希釈し、エーテルで抽出し、乾燥させ、減
圧下で溶媒を除去して、未精製物質0.25gが得られた。
シリカを用いたクロマトグラフィー（溶出液はペンタン
とエーテルとの比8:2の混合物）によって精製した後
に、目的化合物0.15gが得られた。
［（4R）−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラン−４−イ
ル］−プロペン酸メチル0.186g中に０℃において上記の
溶液６cm3を導入し、この全体を０℃において１時間、
次いで20℃に戻した後に１時間攪拌した。この反応媒体
を水５cm3で希釈し、エーテルで抽出し、乾燥させ、減
圧下で溶媒を除去して、未精製物質0.25gが得られた。
シリカを用いたクロマトグラフィー（溶出液はペンタン
とエーテルとの比8:2の混合物）によって精製した後
に、目的化合物0.15gが得られた。
NMRスペクトル（CCl4） 4.25〜3.8ppm（ｍ）：CO2CH3、−CH-O及び−CH2-OのＨ 1.7〜0.9ppm（ｍ）：メチル及びシクロプロパンのＨ 工程B:（1R,trans）３−ホルミル−2,2−ジメチルシク
ロプロパンカルボン酸メチル 出発時に工程Ａにおいて得られた生成物0.15gを用い
て、例１の工程Ｂに記載したように操作を実施して、未
精製物質0.085gが得られ、これをシリカを用いたクロマ
トグラフィー（溶出液はペンタンとエーテルとの比7:3
の混合物）にかけた。
ロプロパンカルボン酸メチル 出発時に工程Ａにおいて得られた生成物0.15gを用い
て、例１の工程Ｂに記載したように操作を実施して、未
精製物質0.085gが得られ、これをシリカを用いたクロマ
トグラフィー（溶出液はペンタンとエーテルとの比7:3
の混合物）にかけた。
例4:（1S,trans）３−ホルミル−2,2−ジメチルシクロ
プロパンカルボン酸メチル 工程A:3−［（4S）2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラン
−４−イル］−2,2−ジメチル−1S,3R−シクロプロパン
カルボン酸メチル 出発時に３（Ｚ）−［（4S）−2,2−ジメチル−1,3−
ジオキソラン−４−イル］−プロペン酸メチル0.186gを
用いて、例３におけるのと同様にして操作を実施した。
精製した後に、目的化合物0.15gが得られた。
プロパンカルボン酸メチル 工程A:3−［（4S）2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラン
−４−イル］−2,2−ジメチル−1S,3R−シクロプロパン
カルボン酸メチル 出発時に３（Ｚ）−［（4S）−2,2−ジメチル−1,3−
ジオキソラン−４−イル］−プロペン酸メチル0.186gを
用いて、例３におけるのと同様にして操作を実施した。
精製した後に、目的化合物0.15gが得られた。
工程B:（1S,trans）３−ホルミル−2,2−ジメチルシク
ロプロパンカルボン酸メチル 出発時に工程Ａにおいて得られた生成物0.15gを用い
て、例１の工程Ｂに記載したように操作を実施して、未
精製物質0.08gが得られ、これをシリカを用いたクロマ
トグラフィー（溶出液はペンタンとエーテルとの比7:3
の混合物）によって精製した。
ロプロパンカルボン酸メチル 出発時に工程Ａにおいて得られた生成物0.15gを用い
て、例１の工程Ｂに記載したように操作を実施して、未
精製物質0.08gが得られ、これをシリカを用いたクロマ
トグラフィー（溶出液はペンタンとエーテルとの比7:3
の混合物）によって精製した。
上記の例において出発物質として用いた式IIの化合物
は、例えば「ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル
・ソサエティー（Journal of the American Chemical S
ociety）」、第104巻、（1982年）、第1109頁｛M.ミナ
ミ（MINAMI）及びY.コスキシ（KOSS KISHI）｝；並びに
「アンゲバンテ・ヒェミー（Angewandte Chemie）、国
際版」、第22巻（1983年）、第63頁｛J.ミュルツァー
（MULZER）及びM.カッペルト（KAPPERT）｝に記載され
ている。
は、例えば「ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル
・ソサエティー（Journal of the American Chemical S
ociety）」、第104巻、（1982年）、第1109頁｛M.ミナ
ミ（MINAMI）及びY.コスキシ（KOSS KISHI）｝；並びに
「アンゲバンテ・ヒェミー（Angewandte Chemie）、国
際版」、第22巻（1983年）、第63頁｛J.ミュルツァー
（MULZER）及びM.カッペルト（KAPPERT）｝に記載され
ている。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭53−84946（ＪＰ，Ａ) 特開 昭51−127049（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−22776（ＪＰ，Ａ) 西独国特許公開3229537（ＤＥ，Ａ１) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C07C 69/74 C07C 69/757 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (5)
- 【請求項１】次式（Ｉ）： （式中、Ｒは水素原子、１〜４個の炭素原子を有するア
ルキル基又は12個までの炭素原子を有するアリール基を
表わす） のcis又はtrans構造の化合物のラセミ体又は光学活性体
の製造方法であって、 次式（II′）： （式中、Ｒは前記の通りであり、 二重結合はＺ配置である） の化合物の異性体、ラセミ体又は光学活性体のいずれか
１種に、 Ａ）イソプロピリデンジフェニルスルフランを作用させ
て次式（IIIb）： （式中、Ｒは前記の通りであり、 シクロプロパン環はcis配置を有する） の化合物を得るか 又は Ｂ）イソプロピリデントリフェニルホスホランを作用さ
せて次式（IIIa）： （式中、Ｒは前記の通りであり、 シクロプロパン環はtrans配置を有する） の化合物を得るか、 のいずれかであり、そして ａ）これら式（IIIa）又は（IIIb）の化合物のジオキソ
ラン残基を加水分解して次式（IV）： （式中、Ｒは前記の通りであり、 波線はＺ又はＥ配置を示し、式（IIIa）又は（IIIb）に
おける配置に対応する） の化合物を得て、この式（IV）の化合物の４−５位の結
合を解裂して式（Ｉ）の目的化合物を得るか、 又は ｂ）前記ジオキソラン残基を加水分解し且つ同時に４−
５位の結合を解裂して式（Ｉ）の目的化合物を得るか のいずれかであることを特徴とする前記製造方法。 - 【請求項２】次式（IA）： （式中、Ｒは特許請求の範囲第１項記載の通りである） のtrans構造の化合物のラセミ体又は光学活性体を製造
するための特許請求の範囲第１項記載の方法であって、 前記式（II′）の化合物の異性体、ラセミ体又は光学活
性体のいずれか１種にイソプロピリデントリフェニルホ
スホランを作用させて次式（IIIa）： （式中、Ｒは前記の通りであり、 シクロプロパン環はtrans配置を有する） の化合物を得て、そして ａ）この式（IIIa）の化合物のジオキソラン残基を加水
分解して次式（IVa）： （式中、Ｒ及びシクロプロパン環の配置は前記の通りで
ある） の化合物を得て、この式（IVa）の化合物の４−５位の
結合を解裂して式（IA）の目的化合物を得るか、 又は ｂ）前記ジオキソラン残基を加水分解し且つ同時に４−
５位の結合を解裂して式（IA）の目的化合物を得るか のいずれかであることを特徴とする前記製造方法。 - 【請求項３】次式（IB）： （式中、Ｒは特許請求の範囲第１項記載の通りである） のcis構造の化合物のラセミ体又は光学活性体を製造す
るための特許請求の範囲第１項記載の方法であって、 前記式（II′）の化合物にイソプロピリデンジフェニル
スルフランを作用させて次式（IIIb）： （式中、Ｒは前記の通りであり、 シクロプロパン環はcis配置を有する） の化合物を得て、そして ａ）この式（IIIb）の化合物のジオキソラン残基を加水
分解して次式（IVb）： （式中、Ｒは前記の通りであり、 シクロプロパン環はcis配置を有する） の化合物を得て、この式（IVb）の化合物の４−５位の
結合を解裂して式（IB）の目的化合物を得るか、 又は ｂ）前記ジオキソラン残基を加水分解し且つ同時に４−
５位の結合を解裂して式（IB）の目的化合物を得るか のいずれかであることを特徴とする前記製造方法。 - 【請求項４】（1R,cis）配置の式（IB）の化合物を製造
するための特許請求の範囲第３項記載の方法であって、
次式（II′１）： （式中、Ｒは特許請求の範囲第３項記載の通りであり、 二重結合はＺ配置である） の（4S）配置を有する化合物にイソプロピリデンジフェ
ニルスルフランを作用させて次式（IIIb1）： （式中、Ｒは前記の通りである） の（4S）配置及びシクロプロパン環における（1R,cis）
配置を有する化合物を得て、そして ａ）この式（IIIb1）の化合物のジオキソラン残基を加
水分解して次式（IVb1）： （式中、Ｒは前記の通りである） の（4S）配置及びシクロプロパン環における（1R,cis）
配置を有する化合物を得て、この式（IVb1）の化合物の
４−５位の結合を酸化剤の作用によって解裂して（1R,c
is）配置の式（IB）の化合物を得るか、 又は ｂ）前記ジオキソラン残基を加水分解し且つ同時に４−
５位の結合を解裂して（1R,cis）配置の式（IB）の化合
物を得るか のいずれかであることを特徴とする前記製造方法。 - 【請求項５】（1R,trans）配置の式（IA）の化合物を製
造するための特許請求の範囲第２項記載の方法であっ
て、 次式（II′１）： （式中、Ｒは特許請求の範囲第３項記載の通りであり、 二重結合はＺ配置である） の（4R）配置を有する化合物にイソプロピリデントリフ
ェニルホスホランを作用させて次式（IIIa1）： （式中、Ｒは前記の通りである） の（4R）配置及びシクロプロパン環における（1R,tran
s）配置を有する化合物を得て、そして ａ）この式（IIIa1）の化合物のジオキソラン残基を加
水分解して次式（IVa1）： （式中、Ｒは前記の通りである） の（4R）配置及びシクロプロパン環における（1R,tran
s）配置を有する化合物を得て、この式（IVa1）の化合
物の４−５位の結合を酸化剤の作用によって解裂して
（1R,trans）配置の式（IA）の化合物を得るか、 又は ｂ）前記ジオキソラン残基を加水分解し且つ同時に４−
５位の結合を解裂して（1R,trans）配置の式（IA）の化
合物を得るか のいずれかであることを特徴とする前記製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR8717296A FR2624511B1 (fr) | 1987-12-11 | 1987-12-11 | Procede enantioselectif pour preparer des derives de l'aldehyde hemicaronique de structure trans ou cis |
| FR87-17296 | 1987-12-11 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9195216A Division JP2895462B2 (ja) | 1987-12-11 | 1997-07-07 | 新規のシクロプロパンカルボン酸系化合物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01265059A JPH01265059A (ja) | 1989-10-23 |
| JP2863175B2 true JP2863175B2 (ja) | 1999-03-03 |
Family
ID=9357776
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63309009A Expired - Lifetime JP2863175B2 (ja) | 1987-12-11 | 1988-12-08 | ｔｒａｎｓ又はｃｉｓ構造のカロン酸セミアルデヒド誘導体のエナンチオ選択的製造方法 |
| JP9195216A Expired - Lifetime JP2895462B2 (ja) | 1987-12-11 | 1997-07-07 | 新規のシクロプロパンカルボン酸系化合物 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9195216A Expired - Lifetime JP2895462B2 (ja) | 1987-12-11 | 1997-07-07 | 新規のシクロプロパンカルボン酸系化合物 |
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|---|---|
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| EP (1) | EP0320402B1 (ja) |
| JP (2) | JP2863175B2 (ja) |
| AT (1) | ATE75721T1 (ja) |
| DE (1) | DE3870829D1 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004087633A1 (ja) * | 2003-03-31 | 2004-10-14 | Sumitomo Chemical Company, Limited | アルデヒド化合物の製造方法 |
| ITMI20041211A1 (it) * | 2004-06-16 | 2004-09-16 | Endura Spa | Catalizzatori a base di complessi metallici per la sintesi di acido crisantemico otticamente attivo |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3229537A1 (de) | 1982-08-07 | 1984-02-09 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Verfahren zur herstellung von (1r,3r)-trans-caronaldehydester |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE827652A (fr) * | 1975-04-07 | 1975-10-07 | Nouveau procede de preparation d'esters d'alcoyle inferieur de l'aldehyde hemicaronique | |
| FR2376119A1 (fr) * | 1976-12-30 | 1978-07-28 | Roussel Uclaf | Procede de preparation d'esters d'alcoyle inferieur d'acides trans cyclopropane-1,3-dicarboxyliques 2,2-disubstitues racemiques et nouveaux esters desdits acides |
| FR2549470B1 (fr) * | 1983-07-21 | 1985-12-27 | Roussel Uclaf | Procede de preparation d'esters d'alcoyle de l'acide cis-chrysanthemique et nouveaux intermediaires obtenus |
-
1987
- 1987-12-11 FR FR8717296A patent/FR2624511B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
1988
- 1988-12-08 JP JP63309009A patent/JP2863175B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1988-12-09 HU HU886376A patent/HU203519B/hu not_active IP Right Cessation
- 1988-12-09 DE DE8888403136T patent/DE3870829D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1988-12-09 EP EP88403136A patent/EP0320402B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1988-12-09 AT AT88403136T patent/ATE75721T1/de not_active IP Right Cessation
- 1988-12-09 US US07/282,382 patent/US5004840A/en not_active Expired - Fee Related
-
1997
- 1997-07-07 JP JP9195216A patent/JP2895462B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3229537A1 (de) | 1982-08-07 | 1984-02-09 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Verfahren zur herstellung von (1r,3r)-trans-caronaldehydester |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5004840A (en) | 1991-04-02 |
| JPH10101616A (ja) | 1998-04-21 |
| ATE75721T1 (de) | 1992-05-15 |
| JPH01265059A (ja) | 1989-10-23 |
| DE3870829D1 (de) | 1992-06-11 |
| EP0320402A1 (fr) | 1989-06-14 |
| EP0320402B1 (fr) | 1992-05-06 |
| HUT49561A (en) | 1989-10-30 |
| JP2895462B2 (ja) | 1999-05-24 |
| HU203519B (en) | 1991-08-28 |
| FR2624511B1 (fr) | 1990-09-21 |
| FR2624511A1 (fr) | 1989-06-16 |
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