JP2798388B2 - 平版印刷版前駆物質 - Google Patents
平版印刷版前駆物質Info
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
- B41N3/00—Preparing for use and conserving printing surfaces
- B41N3/03—Chemical or electrical pretreatment
- B41N3/034—Chemical or electrical pretreatment characterised by the electrochemical treatment of the aluminum support, e.g. anodisation, electro-graining; Sealing of the anodised layer; Treatment of the anodic layer with inorganic compounds; Colouring of the anodic layer
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/06—Silver salts
- G03F7/07—Silver salts used for diffusion transfer
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Description
【発明の詳細な説明】 本発明は平版印刷版前駆物質に関するもので、また本
発明は銀拡散転写として知られているシステムに用いる
のに適当な上記前駆物質に関するものである。
発明は銀拡散転写として知られているシステムに用いる
のに適当な上記前駆物質に関するものである。
銀錯体沈殿核で、必要に応じて被覆された粗面および
陽極酸化処理シートが銀錯体拡散転写アセンブリにおけ
る受容体シート（receptor sheet）として作用できるこ
とは知られている。この方法では、ハロゲン化銀の非露
光粒子（unexposed grains）を現像成分、通常、銀を錯
化できるハイポで溶解している。次いで、銀錯体を受容
体シートに拡散し、金属銀に還元させる。
陽極酸化処理シートが銀錯体拡散転写アセンブリにおけ
る受容体シート（receptor sheet）として作用できるこ
とは知られている。この方法では、ハロゲン化銀の非露
光粒子（unexposed grains）を現像成分、通常、銀を錯
化できるハイポで溶解している。次いで、銀錯体を受容
体シートに拡散し、金属銀に還元させる。
ハロゲン化銀は受容体シートと接触する別のシート上
に被覆できる。あるいは、またハロゲン化銀エマルショ
ン層を積層システムにおける核形成層の頂部に被覆する
ことができる。いずれの場合においても、基板は銀錯体
の還元を触媒し得る核で被覆できる。この核は、一般に
銀または金のような金属ゾル、または硫化ニッケルまた
は硫化銀のような金属硫化物ゾルからなる。ある条件、
特に低い陽極酸化量（low anodic weight）下で、アル
ミニウム基板それ自体は銀錯体の還元に対して触媒とし
て作用できる。
に被覆できる。あるいは、またハロゲン化銀エマルショ
ン層を積層システムにおける核形成層の頂部に被覆する
ことができる。いずれの場合においても、基板は銀錯体
の還元を触媒し得る核で被覆できる。この核は、一般に
銀または金のような金属ゾル、または硫化ニッケルまた
は硫化銀のような金属硫化物ゾルからなる。ある条件、
特に低い陽極酸化量（low anodic weight）下で、アル
ミニウム基板それ自体は銀錯体の還元に対して触媒とし
て作用できる。
ハロゲン化銀エマルションの露光後、アセンブリはハ
ロゲン化銀現像剤、一般にヒドロキノンおよびフェニド
ン、並びにハロゲン化銀溶剤、通常、チオ硫酸ナトリウ
ムを含有する現像剤において処理する。現像中、非露光
ハロゲン化銀粒子は銀錯体の形成により溶解され、次い
でかかる銀錯体は陽極酸化アルミニウム受容体シート上
の核形成層に拡散でき、ここで銀錯体は金属銀像に還元
される。次いで、銀像は核銀像に吸収できる有機化合物
で処理し、これによって銀の親油性を高める。次いで、
板はインキを銀像上に受理させることによって平版印刷
版として作用でき、および数千の刷りを得ることができ
る。
ロゲン化銀現像剤、一般にヒドロキノンおよびフェニド
ン、並びにハロゲン化銀溶剤、通常、チオ硫酸ナトリウ
ムを含有する現像剤において処理する。現像中、非露光
ハロゲン化銀粒子は銀錯体の形成により溶解され、次い
でかかる銀錯体は陽極酸化アルミニウム受容体シート上
の核形成層に拡散でき、ここで銀錯体は金属銀像に還元
される。次いで、銀像は核銀像に吸収できる有機化合物
で処理し、これによって銀の親油性を高める。次いで、
板はインキを銀像上に受理させることによって平版印刷
版として作用でき、および数千の刷りを得ることができ
る。
これらのシステムにおける問題点は、インキ受理面を
形成する金属銀像をアルミニウム基板と密接させること
であり、これにより起電力が金属間に存在し、銀像区域
に腐食を起こす。陽極酸化表面はこのプロセスに対する
バリヤーとして作用する。しかしながら、陽極酸化層に
おける不規則性のために、弱く被着した銀の区域で囲ま
れたピンホールとして生ずる腐食はん点を形成せしめる
陽極酸化欠陥に相当する像の種々の部分に腐食を生ず
る。上記はん点は約0.1〜2mm直径である。
形成する金属銀像をアルミニウム基板と密接させること
であり、これにより起電力が金属間に存在し、銀像区域
に腐食を起こす。陽極酸化表面はこのプロセスに対する
バリヤーとして作用する。しかしながら、陽極酸化層に
おける不規則性のために、弱く被着した銀の区域で囲ま
れたピンホールとして生ずる腐食はん点を形成せしめる
陽極酸化欠陥に相当する像の種々の部分に腐食を生ず
る。上記はん点は約0.1〜2mm直径である。
この手段における腐食はプレス性能の損失および印刷
物品質の低下を招く。腐食作用は、板を処理後、ただち
に腐食抑制剤で処理することによって最小にできる。１
−フェニル−５−メルカプトテトラゾールのようなメル
カプト化合物は腐食の発生を極めてよく低下する。しか
しながら、腐食抑制剤の使用にもかかわらず、なお腐食
が低いプレス性能で版を印刷する程度に生ずる。
物品質の低下を招く。腐食作用は、板を処理後、ただち
に腐食抑制剤で処理することによって最小にできる。１
−フェニル−５−メルカプトテトラゾールのようなメル
カプト化合物は腐食の発生を極めてよく低下する。しか
しながら、腐食抑制剤の使用にもかかわらず、なお腐食
が低いプレス性能で版を印刷する程度に生ずる。
アルミニウム基板の粗面化（graining）および陽極酸
化条件を適当に調整することによって、腐食の生成を除
去でき、これによって版に改良プレス性能を与えること
ができる。
化条件を適当に調整することによって、腐食の生成を除
去でき、これによって版に改良プレス性能を与えること
ができる。
粗面化により生ずる粗さは、しばしば中心線平均（CL
A）値で測定され、この値はミクロンで測定される粗さ
を示し、算術平均で表される。陽極酸化プロセスにおけ
る単位面積当たりに形成される酸化アルミニウムの量は
陽極酸化量を化学的ストリッピングによって測定でき、
ｇ・m-2で表わす。
A）値で測定され、この値はミクロンで測定される粗さ
を示し、算術平均で表される。陽極酸化プロセスにおけ
る単位面積当たりに形成される酸化アルミニウムの量は
陽極酸化量を化学的ストリッピングによって測定でき、
ｇ・m-2で表わす。
固定陽極酸化量（fixed anodic weight）において、
腐食発生率は0.3〜0.9μの範囲にわたる高いCLA値にお
いて悪くなる。同様に、固定CLAにおいて、腐食は1.5〜
6g/m-2の範囲にわたる低い陽極酸化量で悪くなる。
腐食発生率は0.3〜0.9μの範囲にわたる高いCLA値にお
いて悪くなる。同様に、固定CLAにおいて、腐食は1.5〜
6g/m-2の範囲にわたる低い陽極酸化量で悪くなる。
従って、本発明は銀錯体を金属銀に還元する核を含む
ゾルの被覆を有する粗面化および陽極酸化アルミニウム
基板からなる平版印刷版を提供するもので、上記基板は
６以上または６に等しい陽極酸化量（An.Wt）（ｇ・
m-2）対表面粗さ（μ）比を有する。
ゾルの被覆を有する粗面化および陽極酸化アルミニウム
基板からなる平版印刷版を提供するもので、上記基板は
６以上または６に等しい陽極酸化量（An.Wt）（ｇ・
m-2）対表面粗さ（μ）比を有する。
この比は８以上が好ましい。
次に、本発明を実施例に基づいて説明する。
実施例１ アルミニウムシート（1Sグレード）を、塩酸および酢
酸からなる電解液中で交流により電気化学的粗面化する
前に、苛性ソーダ溶液中でゆすいだ。このプロセスにお
いて、均一な無方向粒子（non-directional grain）を
得た。異なるCLA値を電流および電圧を変えることによ
って得た。粗面化後、硫酸電解液を含有する陽極酸化セ
ルに浸す前に、シートをりん酸のタンク中でゆすいだ。
異なる陽極酸化量を電圧条件を変えて得た。
酸からなる電解液中で交流により電気化学的粗面化する
前に、苛性ソーダ溶液中でゆすいだ。このプロセスにお
いて、均一な無方向粒子（non-directional grain）を
得た。異なるCLA値を電流および電圧を変えることによ
って得た。粗面化後、硫酸電解液を含有する陽極酸化セ
ルに浸す前に、シートをりん酸のタンク中でゆすいだ。
異なる陽極酸化量を電圧条件を変えて得た。
CLAをティラー・ホプソン粗さ測定計を用いて測定
し、および陽極酸化量を54g/lのクロム酸および70ml/l
のりん酸の温溶液中でストリッピングすることによって
調べた。
し、および陽極酸化量を54g/lのクロム酸および70ml/l
のりん酸の温溶液中でストリッピングすることによって
調べた。
各基板に、カレー レー法（Carey Lea method）によ
り調製した銀ゾルを含むゼラチン結合剤（Ag:ゼラチン
1:1重量）の薄い層を約3mg Ag/m-2の塗布量に被着して
平版印刷版の前駆体を得た。かようにして得た前駆体
に、30モル％の塩化物および70％の臭化物からなり、か
つ1:1の銀：ゼラチン比を有する高コントラスト銀クロ
ロブロマイドエマルションを被着した。かかるエマルシ
ョンには安定化剤として６−メチル−４−ヒドロキシ−
1,3,3a,7−テトラアザインデンおよび保存剤として商品
名「パーメトールA23（Parmetol A23）」を含有させ、
次いでエマルションを銀／ゼラチン層に流し4.0g/m
-2（1.5g Ag/m-2）の塗布量を得た。パーメトールA23は
スターリングケミカルス（Sterling Chemicals）の市販
品として入手でき、ハロゲン化アミンの混合物である。
り調製した銀ゾルを含むゼラチン結合剤（Ag:ゼラチン
1:1重量）の薄い層を約3mg Ag/m-2の塗布量に被着して
平版印刷版の前駆体を得た。かようにして得た前駆体
に、30モル％の塩化物および70％の臭化物からなり、か
つ1:1の銀：ゼラチン比を有する高コントラスト銀クロ
ロブロマイドエマルションを被着した。かかるエマルシ
ョンには安定化剤として６−メチル−４−ヒドロキシ−
1,3,3a,7−テトラアザインデンおよび保存剤として商品
名「パーメトールA23（Parmetol A23）」を含有させ、
次いでエマルションを銀／ゼラチン層に流し4.0g/m
-2（1.5g Ag/m-2）の塗布量を得た。パーメトールA23は
スターリングケミカルス（Sterling Chemicals）の市販
品として入手でき、ハロゲン化アミンの混合物である。
前駆体の非露光片を次に示す成分を含む現像液中、20
℃で30秒間処理して銀像を基板に被着した。
℃で30秒間処理して銀像を基板に被着した。
現像液：亜硫酸ナトリウム 50g/l ヒドロキノン 12g/l フェニドンＢ 6g/l 水酸化ナトリウム 12g/l チオ硫酸ナトリウム 10g/l ２−メチルアミノエタノール 40ml/l 臭化カリウム 0.5g/l pH〜13.0 フェニドンＢ＝４−メチル−１−フェニル−３−ピラゾ
リドン 現像後、各片を温水中で洗浄して残留被膜を除去し、
常温で乾燥した。腐食がはん点の状態で、粗面化および
陽極酸化条件によって生じ、これらのはん点を単位面積
に対して計算した。
リドン 現像後、各片を温水中で洗浄して残留被膜を除去し、
常温で乾燥した。腐食がはん点の状態で、粗面化および
陽極酸化条件によって生じ、これらのはん点を単位面積
に対して計算した。
上記表は陽極酸化量対CLA比が約６以下になる場合に
腐食が急速に悪くなることを示している。
腐食が急速に悪くなることを示している。
実施例２ 1Sグレードアルミニウムのシートを塩酸および酢酸を
含む電解液中で電気化学的に粗面化し、次いで硫酸およ
びりん酸を含む電解液中で異なる条件下で電気化学的に
陽極酸化処理して異なる表面粗さおよび塗布量を得た。
この陽極酸化方法によって化学的攻撃および物理的摩耗
する傾向の小さい陽極酸化層を形成した。
含む電解液中で電気化学的に粗面化し、次いで硫酸およ
びりん酸を含む電解液中で異なる条件下で電気化学的に
陽極酸化処理して異なる表面粗さおよび塗布量を得た。
この陽極酸化方法によって化学的攻撃および物理的摩耗
する傾向の小さい陽極酸化層を形成した。
基板にカレー レー銀ゾルを被着し、次いで実施例１
に記載するように銀クロロブロマイド エマルションを
被着した。処理後、腐食の程度を調べた。
に記載するように銀クロロブロマイド エマルションを
被着した。処理後、腐食の程度を調べた。
上表から、陽極酸化量対CLA比が８以上では腐食が生
じないことがわかる。しかしながら、８の比以下での腐
食の程度は、混酸電解液を陽極酸化に用いる場合より小
さい。
じないことがわかる。しかしながら、８の比以下での腐
食の程度は、混酸電解液を陽極酸化に用いる場合より小
さい。
実施例３ 基板を塩酸および酢酸からなる電解液中で電気化学的
に粗面化し、および硫酸電解液中で異なる条件下で陽極
酸化して異なる表面粗さおよび異なる陽極酸化量を得
た。板に実施例１に記載するようにカレー レー ゾル
および銀クロロブロマイド エマルションを被着した。
得られた前駆体をターゲットを介して露光し、実施例１
に記載する現像液中で処理し、洗浄し、次の仕上剤中で
定着した。
に粗面化し、および硫酸電解液中で異なる条件下で陽極
酸化して異なる表面粗さおよび異なる陽極酸化量を得
た。板に実施例１に記載するようにカレー レー ゾル
および銀クロロブロマイド エマルションを被着した。
得られた前駆体をターゲットを介して露光し、実施例１
に記載する現像液中で処理し、洗浄し、次の仕上剤中で
定着した。
ホウ砂 10g/l パーメトールA23 3ml/l １−フェニル−５−メルカプ トテトラゾールをPEG 200に 100ml/l 溶解した２％溶液 トリプシン 20g/l アラビアゴム 7.5g/l 得られた印刷版をオフセット印刷機上に配置し、ラー
ンレングス（run lengths）を比較した。
ンレングス（run lengths）を比較した。
上表から、腐食の程度が最小である（すなわち、陽極
酸化量/CLA比8.2において）板は最良のラーンレングス
を示すことがわかる。
酸化量/CLA比8.2において）板は最良のラーンレングス
を示すことがわかる。
実施例４ 基板を、アルミニウムシートを塩酸および酢酸からな
る電解液で電気化学的に粗面化し、硫酸電解液または硫
酸およびりん酸の混合物からなる電解液中で陽極酸化し
て粗さおよび陽極酸化量の範囲を与えるようにして作っ
た。基板に実施例１に記載するようにカレー レー銀ゾ
ルおよび銀クロロブロマイド エマルションを被着し
た。得られた板を次の低い苛性現像液中で処理した。
る電解液で電気化学的に粗面化し、硫酸電解液または硫
酸およびりん酸の混合物からなる電解液中で陽極酸化し
て粗さおよび陽極酸化量の範囲を与えるようにして作っ
た。基板に実施例１に記載するようにカレー レー銀ゾ
ルおよび銀クロロブロマイド エマルションを被着し
た。得られた板を次の低い苛性現像液中で処理した。
亜硫酸ナトリウム 50g/l ヒドロキノン 12g/l フェニドンＢ 6g/l 水酸化ナトリウム 2g/l チオ硫酸ナトリウム 10g/l ２−メチルアミノエタノール 40ml/l 臭化カリウム 0.5g/l pH 11.4 上表から、腐食は低い苛性条件にもかかわらず生ずる
ことがわかる。
ことがわかる。
実施例５ アルミニウム基板を塩酸および酢酸の混合物中で粗面
化し、硫酸中において異なる条件下で陽極酸化した。次
いで、基板にカレー レー銀ゾルを被着し、沸騰水中に
５分間浸して陽極酸化量を水和シール（bydration sea
l）して細孔の少ない陽極酸化層を形成した。、次い
で、この層に銀クロロブロマイド ゼラチン エマルシ
ョンを実施例１に記載するように被着した。腐食の程度
の差がシールした基板とシールしない基板との間に観察
された。
化し、硫酸中において異なる条件下で陽極酸化した。次
いで、基板にカレー レー銀ゾルを被着し、沸騰水中に
５分間浸して陽極酸化量を水和シール（bydration sea
l）して細孔の少ない陽極酸化層を形成した。、次い
で、この層に銀クロロブロマイド ゼラチン エマルシ
ョンを実施例１に記載するように被着した。腐食の程度
の差がシールした基板とシールしない基板との間に観察
された。
実施例６ アルミニウム基板を硝酸中で電気化学的に粗面化し、
次いで稀硫酸中で異なる条件下で電解的に陽極酸化し
た。
次いで稀硫酸中で異なる条件下で電解的に陽極酸化し
た。
各基板に、上述する実施例に記載すると同様にしてゾ
ルおよびエマルションを被着し、処理後腐食の程度を評
価した。
ルおよびエマルションを被着し、処理後腐食の程度を評
価した。
実施例７ 上述する実施例においては、基板にゾル、次いでハロ
ゲン化銀エマルションを被着している。しかしながら、
ハロゲン化銀エマルション層を別の層として、例えば
紙、プラスチック材料またはアルミニウムのような適当
な支持シートに被着することができる。これらの２つの
シートシステムはコダック社のAgFaゲバード（AgFa Gev
aert）およびPMT IIのコピーラピッドオフセット（Copy
Rapid Offset）のような市販製品である。
ゲン化銀エマルションを被着している。しかしながら、
ハロゲン化銀エマルション層を別の層として、例えば
紙、プラスチック材料またはアルミニウムのような適当
な支持シートに被着することができる。これらの２つの
シートシステムはコダック社のAgFaゲバード（AgFa Gev
aert）およびPMT IIのコピーラピッドオフセット（Copy
Rapid Offset）のような市販製品である。
上述する実施例に記載すると同様にして粗面化および
陽極酸化し、かつカレーレー銀ゾルを被着したアルミニ
ウム基板からなる前駆体を用いて試験を行った。これら
の試験において、負非露光AgFaゲバード コピーラピッ
ドCRRA（AgFa Gevaert CopyRapid CRRA negative unexp
osed）のシートを各基板と一緒にコピーラピッド オフ
セット0422プロセッサにおいてコピーラピッドCR166現
像液を用いて導いた。30秒接触後、２つのシートを別々
にはがし、水でゆすぎ、常温で乾燥した。アルミニウム
基板の腐食は上述する実施例におけると同様に粗面化お
よび陽極酸化条件に影響されることを確かめた。得られ
た結果を次に示す： 同様の試験を、上述するアルミニウム基板の代わりに
コピーラピッド オフセットCRRAアルミニウム基板を用
いて行った。CRRAアルミニウム基板は1.8g/m2の陽極酸
化量および0.6μｍのCLAを有していた。この場合、腐食
が著しく生じたことを確かめた。
陽極酸化し、かつカレーレー銀ゾルを被着したアルミニ
ウム基板からなる前駆体を用いて試験を行った。これら
の試験において、負非露光AgFaゲバード コピーラピッ
ドCRRA（AgFa Gevaert CopyRapid CRRA negative unexp
osed）のシートを各基板と一緒にコピーラピッド オフ
セット0422プロセッサにおいてコピーラピッドCR166現
像液を用いて導いた。30秒接触後、２つのシートを別々
にはがし、水でゆすぎ、常温で乾燥した。アルミニウム
基板の腐食は上述する実施例におけると同様に粗面化お
よび陽極酸化条件に影響されることを確かめた。得られ
た結果を次に示す： 同様の試験を、上述するアルミニウム基板の代わりに
コピーラピッド オフセットCRRAアルミニウム基板を用
いて行った。CRRAアルミニウム基板は1.8g/m2の陽極酸
化量および0.6μｍのCLAを有していた。この場合、腐食
が著しく生じたことを確かめた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) B41N 3/00 - 3/03
Claims (9)
- 【請求項１】銀錯体を金属銀に還元するための核を含有
するゾルで塗布された粗面化および陽極酸化したアルミ
ニウム基板からなる平版印刷版の前駆体において、基板
が６以上または６に等しい陽極酸化量（ｇ・m-2）対表
面粗さ（μ）比を有することを特徴とする、平版印刷版
の前駆体。 - 【請求項２】前記比を８以上とした請求項１記載の平版
印刷版の前駆体。 - 【請求項３】ゾルを金属ゾルとした請求項１または２記
載の平版印刷版の前駆体。 - 【請求項４】金属ゾルを銀または金ゾルとした請求項３
記載の平版印刷版の前駆体。 - 【請求項５】ゾルを金属硫化物ゾルとした請求項１また
は２記載の平版印刷版の前駆体。 - 【請求項６】金属硫化物ゾルを硫化ニッケルゾルまたは
硫化銀ゾルとした請求項５記載の平版印刷版の前駆体。 - 【請求項７】ゾルがハロゲン化銀エマルション層で塗布
されている請求項１〜６のいずれか一つの項記載の平版
印刷版の前駆体。 - 【請求項８】基板を硝酸、または塩酸および酢酸の混合
物からなる電解液中で電解的に粗面化した基板とした請
求項１〜７のいずれか一つの項記載の平版印刷版の前駆
体。 - 【請求項９】基板を硫酸、または硫酸およびりん酸の混
合物からなる電解液中で陽極酸化した基板とした請求項
１〜７のいずれか一つの項記載の平版印刷版の前駆体。
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|---|---|---|---|
| GB8703376 | 1987-02-13 | ||
| GB878703376A GB8703376D0 (en) | 1987-02-13 | 1987-02-13 | Printing plate precursors |
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|---|---|
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ID=10612270
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| EP0483415B1 (en) * | 1990-11-02 | 1997-02-12 | Agfa-Gevaert N.V. | Method of making lithographic aluminium offset printing plates |
| EP0546598B1 (en) * | 1991-12-09 | 1995-01-11 | Agfa-Gevaert N.V. | Image receiving layer for use in a silver salt diffusion transfer process |
| EP0567178B1 (en) * | 1992-04-22 | 1996-03-13 | Agfa-Gevaert N.V. | A method for preparing an aluminium foil for use as a support in lithographic printing plates |
| EP0637779B1 (en) * | 1993-08-05 | 1997-02-12 | Agfa-Gevaert N.V. | Imaging element and method for making aluminum lithographic printing plates according to the silver salt diffusion transfer process |
| US5436110A (en) * | 1993-08-05 | 1995-07-25 | Agfa-Gevaert, N.V. | Imaging element and method for making aluminum lithographic printing plates according to the silver salt diffusion transfer process |
| DE4428661B4 (de) * | 1993-08-13 | 2004-07-01 | Mitsubishi Paper Mills Limited | Lithographische Druckplatte |
| JP3244880B2 (ja) * | 1993-08-13 | 2002-01-07 | 三菱製紙株式会社 | 平版印刷版 |
| GB2290880B (en) * | 1994-06-30 | 1998-07-01 | Du Pont | Image formation |
| DE69512392T2 (de) | 1995-06-23 | 2000-04-13 | Agfa-Gevaert N.V., Mortsel | Bildelement und Verfahren zur Herstellung lithographischen Druckplatten nach dem Silbersalz-Diffusionübertragungsverfahren |
| JP3522923B2 (ja) | 1995-10-23 | 2004-04-26 | 富士写真フイルム株式会社 | ハロゲン化銀感光材料 |
| US6071668A (en) * | 1998-07-09 | 2000-06-06 | Agfa-Gevaert, N.V. | Method for preparing an imaging element for making an improved printing plate according to the silver salt diffusion transfer process |
| US6103444A (en) * | 1998-07-09 | 2000-08-15 | Agfa-Gevaert, N.V. | Method for preparing an imaging element for making an improved printing plate according to the silver salt diffusion transfer process |
| DE69808896D1 (de) * | 1998-07-09 | 2002-11-28 | Agfa Gevaert Nv | Verfahren zur Herstellung eines Bildelements zur Herstellung einer verbesserten Druckplatte nach dem Silbersalz-Diffusionsübertragungsverfahren |
| EP0971269B1 (en) * | 1998-07-09 | 2002-05-02 | Agfa-Gevaert | A method for preparing an imaging element for making an improved printing plate according to the silver salt diffusion transfer process |
| DE69805518D1 (de) * | 1998-07-09 | 2002-06-27 | Agfa Gevaert Nv | Verfahren zur Herstellung eines Bildelements zur Herstellung einer verbesserten Druckplatte nach dem Silbersalz-Diffusionsübertragungsverfahren |
| EP0971266B1 (en) * | 1998-07-09 | 2002-12-18 | Agfa-Gevaert | A method for preparing an imaging element for making an improved printing plate according to the silver salt diffusion transfer process |
| US6096474A (en) * | 1998-07-09 | 2000-08-01 | Agfa-Gevaert, N.V. | Method for preparing an imaging element for making an improved printing plate according to the silver salt diffusion transfer process |
| GB9820662D0 (en) * | 1998-09-23 | 1998-11-18 | Agfa Geveart Limited | Processing method and apparatus for production of lithographic printing plates |
| US20030221572A1 (en) | 2002-02-26 | 2003-12-04 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Aluminum support for lithographic printing plate, method of preparing the same and presensitized plate using the same |
| CN102839412B (zh) * | 2012-09-05 | 2015-05-06 | 上海强邦印刷器材有限公司 | 一种新型的ctp版铝版基的电化学磨版电解液 |
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| DE2607207C2 (de) * | 1976-02-23 | 1983-07-14 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Verfahren zur Herstellung von Flachdruckformen mit Laserstrahlen |
| DE2728947C2 (de) * | 1977-06-27 | 1983-10-20 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Verfahren zur Herstellung von Flachdruckformen mit Laserstrahlen |
| DE3222967A1 (de) * | 1982-06-19 | 1983-12-22 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Verfahren zur abtragenden modifizierung von elektrochemisch aufgerauhten traegermaterialien aus aluminium nd deren verwendung bei der herstellung von offsetdruckplatten |
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| EP0088899B1 (de) * | 1982-03-15 | 1986-09-03 | American Hoechst Corporation | Trägermaterial für Offsetdruckplatten aus Aluminium, ein Verfahren zu seiner Herstellung und seine Verwendung zum rasterlosen Drucken |
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| DE3413899A1 (de) * | 1984-04-13 | 1985-10-17 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Verfahren zur anodischen oxidation von aluminium und dessen verwendung als traegermaterial fuer offsetdruckplatten |
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1987
- 1987-02-13 GB GB878703376A patent/GB8703376D0/en active Pending
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