JPS63260491A - 平版印刷版前駆物質 - Google Patents
平版印刷版前駆物質Info
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- JPS63260491A JPS63260491A JP63028992A JP2899288A JPS63260491A JP S63260491 A JPS63260491 A JP S63260491A JP 63028992 A JP63028992 A JP 63028992A JP 2899288 A JP2899288 A JP 2899288A JP S63260491 A JPS63260491 A JP S63260491A
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
- B41N3/00—Preparing for use and conserving printing surfaces
- B41N3/03—Chemical or electrical pretreatment
- B41N3/034—Chemical or electrical pretreatment characterised by the electrochemical treatment of the aluminum support, e.g. anodisation, electro-graining; Sealing of the anodised layer; Treatment of the anodic layer with inorganic compounds; Colouring of the anodic layer
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/06—Silver salts
- G03F7/07—Silver salts used for diffusion transfer
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は平版印刷版前駆物質に関するもので、また本発
明は銀拡散転写として知られているシステムに用いるの
に適当な上記前駆物質に関するものである。
明は銀拡散転写として知られているシステムに用いるの
に適当な上記前駆物質に関するものである。
銀錯体沈殿核で、必要に応じて被覆された粗面および陽
極酸化処理シートが銀錯体拡散転写アセンブリにおける
受容体シート（ｒｅｃｅｐｔｏｒ ５ｈｅｅｔ）として
作用できることは知られている。この方法では、ハロゲ
ン化銀の非露光粒子（ｕｎｅｘｐｏｓｅｄｇｒａｉｎｓ
）を現像成分、通常、銀を錯化できるハイポで溶解して
いる。次いで、銀錯体を受容体シートに拡散し、金属銀
に還元させる。
極酸化処理シートが銀錯体拡散転写アセンブリにおける
受容体シート（ｒｅｃｅｐｔｏｒ ５ｈｅｅｔ）として
作用できることは知られている。この方法では、ハロゲ
ン化銀の非露光粒子（ｕｎｅｘｐｏｓｅｄｇｒａｉｎｓ
）を現像成分、通常、銀を錯化できるハイポで溶解して
いる。次いで、銀錯体を受容体シートに拡散し、金属銀
に還元させる。
ハロゲン化銀は受容体シートと接触する別のシート上に
被覆できる。あるいは、またハロゲン化銀エマルション
層を完全システム（ｉｎｔｅｇｒａｌ ｓｙｓ−ｔｅｍ
）における核生成層の頂部に被覆することができる。い
ずれの場合においても、基板は銀錯体の還元を触媒作用
できる核で被覆できる。この核は、一般に銀または金の
ような金属ゾル、または硫化ニッケルまたは硫化銀のよ
うな金属硫化物ゾルからなる。ある条件、特に低い陽極
酸化量（ｌｏｗ ａｎｏ−ｄｉｃ ｗｅｉｇｈｔ）下で
、アルミニウム基板それ自体は銀錯体の還元に対して触
媒として作用できる。
被覆できる。あるいは、またハロゲン化銀エマルション
層を完全システム（ｉｎｔｅｇｒａｌ ｓｙｓ−ｔｅｍ
）における核生成層の頂部に被覆することができる。い
ずれの場合においても、基板は銀錯体の還元を触媒作用
できる核で被覆できる。この核は、一般に銀または金の
ような金属ゾル、または硫化ニッケルまたは硫化銀のよ
うな金属硫化物ゾルからなる。ある条件、特に低い陽極
酸化量（ｌｏｗ ａｎｏ−ｄｉｃ ｗｅｉｇｈｔ）下で
、アルミニウム基板それ自体は銀錯体の還元に対して触
媒として作用できる。
ハロゲン化銀エマルションの露光後、アセンブリはハロ
ゲン化銀現像剤、一般にヒドロキノンおよびフェニドン
、並びにハロゲン化銀溶剤、通常、チオ硫酸すｌ−ＩＪ
ウムを含有する現像剤において処理する。現像中、非露
光ハロゲン化銀粒子は銀錯体の形成により溶解され、次
いでかかる銀錯体は陽極酸化アルミニウム受容体シート
上の核形成層に拡散でき、ここで銀錯体は金属銀像に還
元される。次いで、銀像は該銀像に吸収できる有機化合
物で処理し、これによって銀の親油性を高める。
ゲン化銀現像剤、一般にヒドロキノンおよびフェニドン
、並びにハロゲン化銀溶剤、通常、チオ硫酸すｌ−ＩＪ
ウムを含有する現像剤において処理する。現像中、非露
光ハロゲン化銀粒子は銀錯体の形成により溶解され、次
いでかかる銀錯体は陽極酸化アルミニウム受容体シート
上の核形成層に拡散でき、ここで銀錯体は金属銀像に還
元される。次いで、銀像は該銀像に吸収できる有機化合
物で処理し、これによって銀の親油性を高める。
次いで、板はインキを銀像上に受理させることによって
平版印刷版として作用でき、および数１０００の圧こん
（ｉｍｐｒｅｓｓ １ｏｎｓ）を得ることができる。
平版印刷版として作用でき、および数１０００の圧こん
（ｉｍｐｒｅｓｓ １ｏｎｓ）を得ることができる。
これらのシステムにおける問題点は、インキ受理面を形
成する金属銀像をアルミニウム基板と密接させることで
あり、これにより起電力が金属間に存在し、銀像区域に
腐食を起こす。陽極酸化表面はこのプロセスに対するバ
リヤーとして作用する。しかしながら、陽極酸化層にお
ける不規則性のために、弱く被着した銀の区域で囲まれ
たピンホールとして生ずる腐食はん点を形成せしめる陽
極酸化欠陥に相当する像の種々の部分に腐食を生ずる。
成する金属銀像をアルミニウム基板と密接させることで
あり、これにより起電力が金属間に存在し、銀像区域に
腐食を起こす。陽極酸化表面はこのプロセスに対するバ
リヤーとして作用する。しかしながら、陽極酸化層にお
ける不規則性のために、弱く被着した銀の区域で囲まれ
たピンホールとして生ずる腐食はん点を形成せしめる陽
極酸化欠陥に相当する像の種々の部分に腐食を生ずる。
上記はん点は約０．１〜２ｍ１１１直径である。
この手段における腐食はプレス性能の損失および印刷物
品質の低下を招く。腐食作用は、板を処理後、ただちに
腐食抑制剤で処理することによって最小にできる。１−
フェニル−５−メルカプトテトラゾールのようなメルカ
プト化合物は腐食の発生を極めてよく低下する。しかし
ながら、腐食抑制剤の使用にもかかわらず、なお腐食が
低いプレス性能で版を印刷する程度に生ずる。
品質の低下を招く。腐食作用は、板を処理後、ただちに
腐食抑制剤で処理することによって最小にできる。１−
フェニル−５−メルカプトテトラゾールのようなメルカ
プト化合物は腐食の発生を極めてよく低下する。しかし
ながら、腐食抑制剤の使用にもかかわらず、なお腐食が
低いプレス性能で版を印刷する程度に生ずる。
アルミニウム基板の粗面化（ｇｒａｉｎｉｎｇ）および
陽極酸化条件を適当に調整することによって、腐食の生
成を除去でき、これによって版に改良プレス性能を与え
ることができる。
陽極酸化条件を適当に調整することによって、腐食の生
成を除去でき、これによって版に改良プレス性能を与え
ることができる。
粗面化により生ずる粗さは、しばしば中心線平均（ＣＬ
Ａ）値で測定され、この値はミクロンで測定される算術
平均粗さである。陽極酸化プロセスにおける単位面積当
たりに形成される酸化アルミニウムの量は陽極酸化層を
化学的ストリッピングによって測定でき、ｇ 、 ｍ−
２で表わす。
Ａ）値で測定され、この値はミクロンで測定される算術
平均粗さである。陽極酸化プロセスにおける単位面積当
たりに形成される酸化アルミニウムの量は陽極酸化層を
化学的ストリッピングによって測定でき、ｇ 、 ｍ−
２で表わす。
固定陽極酸化量（ｆｉｘｅｄ ａｎｏｄｉｃ ｗｅｉｇ
ｈｔ）において、腐食発生率は０．３〜０．９μの範囲
にわたる高いＣＬＡ値において悪くなる。同様に、固定
Ｃし＾において、腐食は１．５〜６ｇ／ｍ−”の範囲に
わたる低い陽極酸化量で悪くなる。
ｈｔ）において、腐食発生率は０．３〜０．９μの範囲
にわたる高いＣＬＡ値において悪くなる。同様に、固定
Ｃし＾において、腐食は１．５〜６ｇ／ｍ−”の範囲に
わたる低い陽極酸化量で悪くなる。
従って、本発明は銀錯体を金属銀に還元する核を含むゾ
ルの被覆を有する粗面化および陽極酸化アルミニウム基
板からなる平版印刷版を提供するもので、上記基板は６
以上または６に等しい陽極酸化量（Ａｎ、Ｗｔ、）
（ｇ−ｍ−２）対表面粗さくμ）比を有する。
ルの被覆を有する粗面化および陽極酸化アルミニウム基
板からなる平版印刷版を提供するもので、上記基板は６
以上または６に等しい陽極酸化量（Ａｎ、Ｗｔ、）
（ｇ−ｍ−２）対表面粗さくμ）比を有する。
この比は８以上が好ましい。
次に、本発明を実施例に基づいて説明する。
実施例１
アルミニウムシート（ＩＳグレード）を、塩酸および酢
酸からなる電解液中で交流により電気化学的粗面化する
前に、苛性ソーダ溶液中でゆすいだ。このプロセスにお
いて、均一な無方向粒子（ｎｏｎ−ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ
ａｌ ｇｒａｉｎ）を得た。異なるＣＬＡ値を電流およ
び電圧を変えることによって得た。粗面化後、硫酸電解
液を含有する陽極酸化セルに浸す前に、シートをりん酸
のタンク中でゆすいだ。
酸からなる電解液中で交流により電気化学的粗面化する
前に、苛性ソーダ溶液中でゆすいだ。このプロセスにお
いて、均一な無方向粒子（ｎｏｎ−ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ
ａｌ ｇｒａｉｎ）を得た。異なるＣＬＡ値を電流およ
び電圧を変えることによって得た。粗面化後、硫酸電解
液を含有する陽極酸化セルに浸す前に、シートをりん酸
のタンク中でゆすいだ。
異なる陽極酸化量を電圧条件を変えて得た。
ＣＬＡをティラー・ホプソン粗さ測定計を用いて測定し
、および陽極酸化量を５４ｇ／Ａのクロム酸および７０
ｍβ／ｌのりん酸の温溶液中でストリッピングするこ
とによって調べた。
、および陽極酸化量を５４ｇ／Ａのクロム酸および７０
ｍβ／ｌのりん酸の温溶液中でストリッピングするこ
とによって調べた。
各基板に、カレーシー法（Ｃａｒｅｙ Ｌｅａ ｍｅｔ
ｂｏｄ）により調製した銀ゾルを含むゼラチン結合剤（
Ａｇ：ゼラチン １；１重量）の薄い層を約３ｍｇＡｇ
／ｍ−２の塗布量に被着して平版印刷版前駆物質を得た
。かようにして得た前駆物質に、３０モル％の塩化物お
よび７０モル％の臭化物からなり、かつｌ：１の銀：ゼ
ラチン比を有する高コントラスト銀クロロブロマイド
エマルションを被着した。かかるエマルションには安定
化剤として６−メチル−４−ヒドロキシ−１，３，３ａ
、 ？−テトラアザインデンおよび保存剤として商品名
「パーメトールＡ２３（Ｐａｒｍｅｔｏｌ Ａ２３）
Ｊを含有させ、およびエマルションを銀／ゼラチン層に
４．０ ｇ／ｍ−２（１，５ｇ Ａｇ ／ｍ−２）の
塗布量で流延した。パーメトールＡ２３はスターリング
ケミカルス（ＳｔｅｒｌｉｎｇＣｈｅｍｉｃａｌｓ）
の市販品として人手でき、ハロゲン化アミンの混合物で
ある。
ｂｏｄ）により調製した銀ゾルを含むゼラチン結合剤（
Ａｇ：ゼラチン １；１重量）の薄い層を約３ｍｇＡｇ
／ｍ−２の塗布量に被着して平版印刷版前駆物質を得た
。かようにして得た前駆物質に、３０モル％の塩化物お
よび７０モル％の臭化物からなり、かつｌ：１の銀：ゼ
ラチン比を有する高コントラスト銀クロロブロマイド
エマルションを被着した。かかるエマルションには安定
化剤として６−メチル−４−ヒドロキシ−１，３，３ａ
、 ？−テトラアザインデンおよび保存剤として商品名
「パーメトールＡ２３（Ｐａｒｍｅｔｏｌ Ａ２３）
Ｊを含有させ、およびエマルションを銀／ゼラチン層に
４．０ ｇ／ｍ−２（１，５ｇ Ａｇ ／ｍ−２）の
塗布量で流延した。パーメトールＡ２３はスターリング
ケミカルス（ＳｔｅｒｌｉｎｇＣｈｅｍｉｃａｌｓ）
の市販品として人手でき、ハロゲン化アミンの混合物で
ある。
前駆物質の非露光片を次に示す成分を含む現像液中、２
０℃で３０秒間処理して銀像を基板に被着した。
０℃で３０秒間処理して銀像を基板に被着した。
現像液：亜硫酸ナトリウム ５０ｇ／Ｉ！ヒ
ドロキノン １２ｇ／βフェニドン８
５ ｇ ／ １水酸化ナトリウム
１２ｇ／ｌチオ硫酸ナトリウム １
０ｇ／Ｒ２−メチルアミノエタノール ４０ｍ ｌ ／ １ 臭化カリウム ０．５ ｇ ／βｐＨ−
１３，０ フェニドンＢ＝４−メチルー１−フェニル−３−ピラゾ
リドン 現像後、各片を温水中で洗浄して残留被膜を除去し、常
温で乾燥した。腐食がはん点の状態で、粗面化および陽
極酸化条件によって生じ、これらのはん点を単位面積に
対して計算した。
ドロキノン １２ｇ／βフェニドン８
５ ｇ ／ １水酸化ナトリウム
１２ｇ／ｌチオ硫酸ナトリウム １
０ｇ／Ｒ２−メチルアミノエタノール ４０ｍ ｌ ／ １ 臭化カリウム ０．５ ｇ ／βｐＨ−
１３，０ フェニドンＢ＝４−メチルー１−フェニル−３−ピラゾ
リドン 現像後、各片を温水中で洗浄して残留被膜を除去し、常
温で乾燥した。腐食がはん点の状態で、粗面化および陽
極酸化条件によって生じ、これらのはん点を単位面積に
対して計算した。
Ａｎ、Ｗｔ、 ＣＬ八
Ａｎ、Ｗｔ、 腐食（ｇｍ／ｍ２）
（μｍ ） ／ＣＬＡ （
Ｎｏ、 ／３００ｃｍ’）上記表は陽極酸化量対ＣＬＡ
比が約６以下になる場合に腐食が急速に悪くなることを
示している。
Ａｎ、Ｗｔ、 腐食（ｇｍ／ｍ２）
（μｍ ） ／ＣＬＡ （
Ｎｏ、 ／３００ｃｍ’）上記表は陽極酸化量対ＣＬＡ
比が約６以下になる場合に腐食が急速に悪くなることを
示している。
実施例２
１Ｓグレードアルミニウムのシートを塩酸および酢酸を
含む電解液中で電気化学的に粗面化し、次いで硫酸およ
びりん酸を含む電解液中で異なる条件下で電気化学的に
陽極酸化処理して異なる表面粗さおよび塗布量を得た。
含む電解液中で電気化学的に粗面化し、次いで硫酸およ
びりん酸を含む電解液中で異なる条件下で電気化学的に
陽極酸化処理して異なる表面粗さおよび塗布量を得た。
この陽極酸化方法によって化学的攻撃および物理的摩耗
する傾向の小さい陽極酸化層を形成した。
する傾向の小さい陽極酸化層を形成した。
基板にカレー レー銀ゾルを被着し、次いで実施例１に
記載するように銀クロロブロマイド エマルションを被
着した。処理後、腐食の程度を調べた。
記載するように銀クロロブロマイド エマルションを被
着した。処理後、腐食の程度を調べた。
上表から、陽極酸化量対ＣＬＡ比が約８以上では腐食が
生じないことがわかる。しかしながら、８の比以下での
腐食の程度は、混酸電解液を陽極酸化に用いる場合より
小さい。
生じないことがわかる。しかしながら、８の比以下での
腐食の程度は、混酸電解液を陽極酸化に用いる場合より
小さい。
実施例３
基板を塩酸および酢酸からなる電解液中で電気化学的に
粗面化し、および硫酸電解液中で異なる条件下で陽極酸
化して異なる表面粗さおよび異なる陽極酸化量を得た。
粗面化し、および硫酸電解液中で異なる条件下で陽極酸
化して異なる表面粗さおよび異なる陽極酸化量を得た。
板に実施例１に記載するようにカレー レー ゾルおよ
び銀クロロブロマイド エマルションを被着した。得ら
れた前駆物質をターゲットを介して露光し、実施例１に
記載する現像液中で処理し、洗浄し、次の仕上剤中で定
着した。
び銀クロロブロマイド エマルションを被着した。得ら
れた前駆物質をターゲットを介して露光し、実施例１に
記載する現像液中で処理し、洗浄し、次の仕上剤中で定
着した。
ホウ砂 ｌＯｇ／ｌパーメ
トールＡ２３ ３ｍｌ！／１トリ
プシン ２０ ｇ／βアラビ
アゴム Ｔ、５ｇ／ｌ得られた印
刷版をオフセット印刷機上に配置し、ラーンレングス（
ｒｕｎ ｌｅｎｇｔｈｓ）を比較した。
トールＡ２３ ３ｍｌ！／１トリ
プシン ２０ ｇ／βアラビ
アゴム Ｔ、５ｇ／ｌ得られた印
刷版をオフセット印刷機上に配置し、ラーンレングス（
ｒｕｎ ｌｅｎｇｔｈｓ）を比較した。
＾ｎ、１１ｔ、 ＣＬＡ
Ａｎ、Ｗｔ、 ラーン レングス（ｇ
ｍ／ｒｎ２） （ｌｔｍ ）
／ＣＬＡ （Ｎｏ、 圧こみ）
４．５ ０．５５ ｇ、２
６０．０００３．７ ０．８０ ４
．６ ２０，０００２．８ Ｑ、７
０ ４．０ １０，０００上表から、
腐食の程度が最小である（すなわち、陽極酸化量／ＣＬ
Ａ比８．２において）板は最良のラーンレングスを示す
ことがわかる。
Ａｎ、Ｗｔ、 ラーン レングス（ｇ
ｍ／ｒｎ２） （ｌｔｍ ）
／ＣＬＡ （Ｎｏ、 圧こみ）
４．５ ０．５５ ｇ、２
６０．０００３．７ ０．８０ ４
．６ ２０，０００２．８ Ｑ、７
０ ４．０ １０，０００上表から、
腐食の程度が最小である（すなわち、陽極酸化量／ＣＬ
Ａ比８．２において）板は最良のラーンレングスを示す
ことがわかる。
実施例４
基板を、アルミニウムシートを塩酸および酢酸 。
を含む電解液で電気化学的に粗面化し、硫酸電解液また
は硫酸およびりん酸の混合物からなる電解液中で陽極酸
化して粗さおよび陽極酸化量の範囲を与えるようにして
作った。基板に実施例１に記載するようにカレー レー
銀ゾルおよび銀クロロブロマイド エマルションを被着
した。得られた板を次の低い苛性現像液中で処理した。
は硫酸およびりん酸の混合物からなる電解液中で陽極酸
化して粗さおよび陽極酸化量の範囲を与えるようにして
作った。基板に実施例１に記載するようにカレー レー
銀ゾルおよび銀クロロブロマイド エマルションを被着
した。得られた板を次の低い苛性現像液中で処理した。
亜硫酸ナトリウム ５０ ｇ ／ Ｉ
ｔヒドロキノン １２ ｇ ／
ｌフェニドン８ ６ ｇ ／
１水酸化ナトリウム ２ｇ／Ｉｔ
チオ硫酸ナトリウム ｌＯｇ／ｌＩ２−
メチルアミノエタノール ４０ｍ Ｉｌ／ １臭化
カリウム ０．５ ｇ ／ Ｉ！
ｐＨ１１，４ 饗極震化 Ａｎ、Ｗｔ、ＣＬＡ Ａｎ、Ｗｔ、
腐食解 （ｇｍ／ｍ”） （
μｍ） ／ＣＬＡ （Ｎｏ、３０℃ｃ
ｍ２）Ｈ，ＳＯ４４，９０，７０７，０５ Ｈ，ＳＯ４４，５０，５５８，２０ Ｈ２Ｓｏ、 ２．９’ Ｑ、８０ ３
．６ ＞ｔｏ。
ｔヒドロキノン １２ ｇ ／
ｌフェニドン８ ６ ｇ ／
１水酸化ナトリウム ２ｇ／Ｉｔ
チオ硫酸ナトリウム ｌＯｇ／ｌＩ２−
メチルアミノエタノール ４０ｍ Ｉｌ／ １臭化
カリウム ０．５ ｇ ／ Ｉ！
ｐＨ１１，４ 饗極震化 Ａｎ、Ｗｔ、ＣＬＡ Ａｎ、Ｗｔ、
腐食解 （ｇｍ／ｍ”） （
μｍ） ／ＣＬＡ （Ｎｏ、３０℃ｃ
ｍ２）Ｈ，ＳＯ４４，９０，７０７，０５ Ｈ，ＳＯ４４，５０，５５８，２０ Ｈ２Ｓｏ、 ２．９’ Ｑ、８０ ３
．６ ＞ｔｏ。
Ｈ２ＳＯ４３，２０，７５４，３５
／Ｈ，ＰＯ。
上表から、腐食は低い苛性条件にもかかわらず生ずるこ
とがわかる。
とがわかる。
実施例５
アルミニウム基板を塩酸および酢酸の混合物中で粗面化
し、硫酸中において異なる条件下で陽極酸化した。次い
で、基板にカレー レー銀ゾルを被着し、沸騰水中に５
分間浸して陽極酸化層を水和シール（ｂｙｄｒａｔｉｏ
ｎ ５ｅａｌ） して細孔の少ない陽極酸化層を形成
した。、次いで、この層に銀クロロブロマイド ゼラチ
ン エマルションを実施例１に記載するように被着した
。腐食の程度の差がシールした基板と同等のシールしな
い基板との間に観察された。
し、硫酸中において異なる条件下で陽極酸化した。次い
で、基板にカレー レー銀ゾルを被着し、沸騰水中に５
分間浸して陽極酸化層を水和シール（ｂｙｄｒａｔｉｏ
ｎ ５ｅａｌ） して細孔の少ない陽極酸化層を形成
した。、次いで、この層に銀クロロブロマイド ゼラチ
ン エマルションを実施例１に記載するように被着した
。腐食の程度の差がシールした基板と同等のシールしな
い基板との間に観察された。
４．９ ０．７ ７．０ ５１．
６ ０．７５ ２．１ ＞１００
実施例６ アルミニウム基板を硝酸中で電気化学的に粗面化し、次
いで稀硫酸中で異なる条件下で電解的に陽極酸化した。
６ ０．７５ ２．１ ＞１００
実施例６ アルミニウム基板を硝酸中で電気化学的に粗面化し、次
いで稀硫酸中で異なる条件下で電解的に陽極酸化した。
各基板に、上述する実施例に記載すると同様にしてゾル
およびエマルションを被着し、処理後腐食の程度を評価
した。
およびエマルションを被着し、処理後腐食の程度を評価
した。
Ａｎ、Ｗｔ、 ＣＬＡ Ａｎ、 Ｗｔ、
腐食（ｇｍ／ｍ２） （μｍ ）
／ＣＬＡ （Ｎｏ、／３００ｃｍ２）５、６
０．５５ １０．２ ０３．
２ ０．５５ ５．８ ６０
２．７ ０．５５ ４．９ 〜１
００１．０ ０．５５ １．８
＞ １００４．０ ０．３５ １１．
４ ０２．６ ０．３５
７．４ ０１．８ ０．３５
５、ｌ ５０実施例７ 上述する実施例においては、基板にゾル、次いでハロゲ
ン化銀エマルションを被着している。しかしながら、ハ
ロゲン化銀エマルション層を別の層として、例えば紙、
プラスチック材料またはアルミニウムのような適当な支
持シートに被着することができる。これらの２つのシー
ト システムはコダック社のＡｇＦａゲバード（＾ｇＦ
ａ Ｇｅｖａｅｒｔ）およびＰＭＴ Ｉ［のコピーラピ
ッド オフセット（ＣｏｐｙＲａｐｉｄＯｆｆｓｅｔ）
のような市販製品である。
腐食（ｇｍ／ｍ２） （μｍ ）
／ＣＬＡ （Ｎｏ、／３００ｃｍ２）５、６
０．５５ １０．２ ０３．
２ ０．５５ ５．８ ６０
２．７ ０．５５ ４．９ 〜１
００１．０ ０．５５ １．８
＞ １００４．０ ０．３５ １１．
４ ０２．６ ０．３５
７．４ ０１．８ ０．３５
５、ｌ ５０実施例７ 上述する実施例においては、基板にゾル、次いでハロゲ
ン化銀エマルションを被着している。しかしながら、ハ
ロゲン化銀エマルション層を別の層として、例えば紙、
プラスチック材料またはアルミニウムのような適当な支
持シートに被着することができる。これらの２つのシー
ト システムはコダック社のＡｇＦａゲバード（＾ｇＦ
ａ Ｇｅｖａｅｒｔ）およびＰＭＴ Ｉ［のコピーラピ
ッド オフセット（ＣｏｐｙＲａｐｉｄＯｆｆｓｅｔ）
のような市販製品である。
上述する実施例に記載すると同様にして粗面化および陽
極酸化し、かつカレー レー銀ゾルを被着したアルミニ
ウム基板からなる前駆物質を用いて試験を行った。これ
らの試験において、負非露光＾ｇｆａゲバード コピー
ラピッドＣＲＲＡ （ＡｇｆａＧｅｖａｅｒｔ Ｃｏｐ
ｙＲａｐｉｄ ＣＲＲＡ ｎｅｇａｔｉｖｅ ｕｎｅｘ
ｐｏｓｅｄ）のシートを各基板と一緒にコピーラピッド
オフセット０４２２プロセツサにおいてコピーラピッ
ドＣＲ１６６現像液を用いて導いた。３０秒接触後、２
つのシートを別々にはがし、水でゆすぎ、常温で乾燥し
た。アルミニウム基板の腐食は上述する実施例における
と同様に粗面化および陽極酸化条件に影響されることを
確かめた。得られた結果を次に示す： ” 〃３．４ ０．６４ ５．３ １５〃
硫酸／ ４．５ ０．５８ ７．７ ０
りん酸 ” ” ２．６ ０．５８ ｔｒ、
、５ｇ硝酸 硫酸 ５．４ ０．６２ ８．７
０” ” ２．６ ０．６２ ４．
２ １３０同様の試験を、上述するアルミニウム基板の
代わりにコピーラッド オフセットＣＲＲＡアルミニウ
ム基板を用いて行った。ＣＲＲ＾アルミニウム基板は１
．８ｇ／ｍ２の陽極酸化量および０．６ μｍのＣＬＡ
を有していた。この場合、腐食が著しく生じたことを確
かめた。
極酸化し、かつカレー レー銀ゾルを被着したアルミニ
ウム基板からなる前駆物質を用いて試験を行った。これ
らの試験において、負非露光＾ｇｆａゲバード コピー
ラピッドＣＲＲＡ （ＡｇｆａＧｅｖａｅｒｔ Ｃｏｐ
ｙＲａｐｉｄ ＣＲＲＡ ｎｅｇａｔｉｖｅ ｕｎｅｘ
ｐｏｓｅｄ）のシートを各基板と一緒にコピーラピッド
オフセット０４２２プロセツサにおいてコピーラピッ
ドＣＲ１６６現像液を用いて導いた。３０秒接触後、２
つのシートを別々にはがし、水でゆすぎ、常温で乾燥し
た。アルミニウム基板の腐食は上述する実施例における
と同様に粗面化および陽極酸化条件に影響されることを
確かめた。得られた結果を次に示す： ” 〃３．４ ０．６４ ５．３ １５〃
硫酸／ ４．５ ０．５８ ７．７ ０
りん酸 ” ” ２．６ ０．５８ ｔｒ、
、５ｇ硝酸 硫酸 ５．４ ０．６２ ８．７
０” ” ２．６ ０．６２ ４．
２ １３０同様の試験を、上述するアルミニウム基板の
代わりにコピーラッド オフセットＣＲＲＡアルミニウ
ム基板を用いて行った。ＣＲＲ＾アルミニウム基板は１
．８ｇ／ｍ２の陽極酸化量および０．６ μｍのＣＬＡ
を有していた。この場合、腐食が著しく生じたことを確
かめた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、銀錯体を金属銀に還元する核を含有するゾルを被着
した粗面化および陽極酸化したアルミニウム基板からな
る平版印刷版前駆物質において、基板が６以上または６
に等しい陽極酸化量（ｇ・ｍ＾−＾２）対表面粗さ（μ
）比を有することを特徴とする平版印刷版前駆物質。 ２、前記比を８以上とした請求項１記載の平版印刷版前
駆物質。 ３、ゾルを金属ゾルとした請求項１または２記載の平版
印刷版前駆物質。 ４、金属ゾルを銀または金ゾルとした請求項３記載の平
版印刷版前駆物質。 ５、ゾルを金属硫化物ゾルとした請求項１または２記載
の平版印刷版前駆物質。 ６、金属硫化物ゾルを硫化ニッケルゾルまたは硫化銀ゾ
ルとした請求項５記載の平版印刷版前駆物質。 ７、ゾルをハロゲン化銀エマルション層に担持した請求
項１〜６のいずれか一つの項記載の平版印刷版前駆物質
。 ８、基板を硝酸、または塩酸および酢酸の混合物からな
る電解液中で電解的に粗面化した基板とした請求項１〜
７のいずれか一つの項記載の平版印刷版前駆物質。 ９、基板を硫酸、または硫酸およびりん酸の混合物から
なる電解液中で陽極酸化した基板とした請求項１〜７の
いずれか一つの項記載の平版印刷版前駆物質。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB8703376 | 1987-02-13 | ||
| GB878703376A GB8703376D0 (en) | 1987-02-13 | 1987-02-13 | Printing plate precursors |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63260491A true JPS63260491A (ja) | 1988-10-27 |
| JP2798388B2 JP2798388B2 (ja) | 1998-09-17 |
Family
ID=10612270
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63028992A Expired - Fee Related JP2798388B2 (ja) | 1987-02-13 | 1988-02-12 | 平版印刷版前駆物質 |
Country Status (14)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4859290A (ja) |
| EP (1) | EP0278766B1 (ja) |
| JP (1) | JP2798388B2 (ja) |
| AT (1) | ATE125048T1 (ja) |
| AU (1) | AU593716B2 (ja) |
| CA (1) | CA1284597C (ja) |
| DE (1) | DE3854133T2 (ja) |
| DK (1) | DK74888A (ja) |
| ES (1) | ES2074437T3 (ja) |
| FI (1) | FI87496C (ja) |
| GB (1) | GB8703376D0 (ja) |
| NO (1) | NO880633L (ja) |
| NZ (1) | NZ223496A (ja) |
| ZA (1) | ZA88959B (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0777805A (ja) * | 1993-08-05 | 1995-03-20 | Agfa Gevaert Nv | 銀塩拡散転写法によりアルミニウム平版印刷版を作るための像形成材料及び方法 |
| EP0770911A1 (en) | 1995-10-23 | 1997-05-02 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Light-sensitive sheet having aluminum alloy support and silver halide light-sensitive material using the same |
| EP1338436A2 (en) | 2002-02-26 | 2003-08-27 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Aluminum support for lithographic printing plate, method of preparing the same and presensitized plate using the same |
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| EP0483415B1 (en) * | 1990-11-02 | 1997-02-12 | Agfa-Gevaert N.V. | Method of making lithographic aluminium offset printing plates |
| EP0546598B1 (en) * | 1991-12-09 | 1995-01-11 | Agfa-Gevaert N.V. | Image receiving layer for use in a silver salt diffusion transfer process |
| EP0567178B1 (en) * | 1992-04-22 | 1996-03-13 | Agfa-Gevaert N.V. | A method for preparing an aluminium foil for use as a support in lithographic printing plates |
| EP0637779B1 (en) * | 1993-08-05 | 1997-02-12 | Agfa-Gevaert N.V. | Imaging element and method for making aluminum lithographic printing plates according to the silver salt diffusion transfer process |
| JP3244880B2 (ja) * | 1993-08-13 | 2002-01-07 | 三菱製紙株式会社 | 平版印刷版 |
| US5427889A (en) * | 1993-08-13 | 1995-06-27 | Mitsubishi Paper Mills Ltd. | Lithographic printing plate with pitted aluminum support |
| GB2290880B (en) * | 1994-06-30 | 1998-07-01 | Du Pont | Image formation |
| DE69512392T2 (de) | 1995-06-23 | 2000-04-13 | Agfa Gevaert Nv | Bildelement und Verfahren zur Herstellung lithographischen Druckplatten nach dem Silbersalz-Diffusionübertragungsverfahren |
| DE69808896D1 (de) * | 1998-07-09 | 2002-11-28 | Agfa Gevaert Nv | Verfahren zur Herstellung eines Bildelements zur Herstellung einer verbesserten Druckplatte nach dem Silbersalz-Diffusionsübertragungsverfahren |
| US6103444A (en) * | 1998-07-09 | 2000-08-15 | Agfa-Gevaert, N.V. | Method for preparing an imaging element for making an improved printing plate according to the silver salt diffusion transfer process |
| US6071668A (en) * | 1998-07-09 | 2000-06-06 | Agfa-Gevaert, N.V. | Method for preparing an imaging element for making an improved printing plate according to the silver salt diffusion transfer process |
| EP0971269B1 (en) * | 1998-07-09 | 2002-05-02 | Agfa-Gevaert | A method for preparing an imaging element for making an improved printing plate according to the silver salt diffusion transfer process |
| EP0971266B1 (en) * | 1998-07-09 | 2002-12-18 | Agfa-Gevaert | A method for preparing an imaging element for making an improved printing plate according to the silver salt diffusion transfer process |
| US6096474A (en) * | 1998-07-09 | 2000-08-01 | Agfa-Gevaert, N.V. | Method for preparing an imaging element for making an improved printing plate according to the silver salt diffusion transfer process |
| EP0971267B1 (en) * | 1998-07-09 | 2002-05-22 | Agfa-Gevaert | A method for preparing an imaging element for making an improved printing plate according to the silver salt diffusion transfer process |
| GB9820662D0 (en) * | 1998-09-23 | 1998-11-18 | Agfa Geveart Limited | Processing method and apparatus for production of lithographic printing plates |
| CN102839412B (zh) * | 2012-09-05 | 2015-05-06 | 上海强邦印刷器材有限公司 | 一种新型的ctp版铝版基的电化学磨版电解液 |
Family Cites Families (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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