JP2000141938A - 平版印刷版支持体の製造 - Google Patents
平版印刷版支持体の製造Info
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- B41N3/00—Preparing for use and conserving printing surfaces
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D11/00—Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
- C25D11/02—Anodisation
- C25D11/04—Anodisation of aluminium or alloys based thereon
- C25D11/16—Pretreatment, e.g. desmutting
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 有意に向上した性質を有する平版印刷版を提
供すること。 【解決手段】 金属性基質の少なくとも１つの表面を粗
面化し、基質の少なくとも１つの粗面化された表面に陽
極酸化層を適用し、基質の少なくとも１つの粗面化され
且つ陽極酸化された表面を、定電圧又は定電流を適用し
ながら、アクリル酸とビニルホスホン酸のコポリマーを
含む水溶液で処理することを含む平版印刷版前駆体のた
めの支持体の製造法を提供する。現像の時及び印刷機上
の両方において摩耗、腐食、汚染及びスカム形成に対し
て優れた抵抗性を示す版を与える平版印刷版前駆体の製
造法も開示する。さらに、該版は非常に優れた露出寛容
度及び溶剤抵抗性と一緒に画像領域における優れたコー
ティング接着性を示す。
供すること。 【解決手段】 金属性基質の少なくとも１つの表面を粗
面化し、基質の少なくとも１つの粗面化された表面に陽
極酸化層を適用し、基質の少なくとも１つの粗面化され
且つ陽極酸化された表面を、定電圧又は定電流を適用し
ながら、アクリル酸とビニルホスホン酸のコポリマーを
含む水溶液で処理することを含む平版印刷版前駆体のた
めの支持体の製造法を提供する。現像の時及び印刷機上
の両方において摩耗、腐食、汚染及びスカム形成に対し
て優れた抵抗性を示す版を与える平版印刷版前駆体の製
造法も開示する。さらに、該版は非常に優れた露出寛容
度及び溶剤抵抗性と一緒に画像領域における優れたコー
ティング接着性を示す。
Description
【０００１】
【発明の分野】本発明は平版印刷版用の基質として用い
るための金属性支持体の製造法に関する。さらに特定的
には、本発明は、特に好ましい平版印刷性を有する基質
を得ることができるような金属性シート、最も特定的に
はアルミニウムシートの表面処理のための方法を提供す
る。
るための金属性支持体の製造法に関する。さらに特定的
には、本発明は、特に好ましい平版印刷性を有する基質
を得ることができるような金属性シート、最も特定的に
はアルミニウムシートの表面処理のための方法を提供す
る。
【０００２】通常、平版印刷版及びその前駆体のための
支持体材料として用いることを目的とするアルミニウム
基質は一般に感光性コーティング材料の適用の前に表面
処理に供されている。これらの処理はアルミニウムの平
版印刷性、特にその親水性を向上させるように働く。平
版印刷の基礎は、平版印刷版が画像領域においてインキ
を受容でき、該背景（非−画像）領域においてインキに
反発し且つ水を受容でき、印刷される画像が該背景領域
における汚れ及び他の汚染を含まないで残ることなの
で、これは印刷運転の間に重要である。かくして、平版
印刷版前駆体の感光性コーティングは放射線に画像通り
に露出され、放射線が当たった領域においてコーティン
グの溶解性が変化する。可溶性の領域は続いて現像液を
用いる処理により溶解して除去され、アルミニウム表面
が露出され、それはインキに反発し且つ水を受容できな
ければならない。
支持体材料として用いることを目的とするアルミニウム
基質は一般に感光性コーティング材料の適用の前に表面
処理に供されている。これらの処理はアルミニウムの平
版印刷性、特にその親水性を向上させるように働く。平
版印刷の基礎は、平版印刷版が画像領域においてインキ
を受容でき、該背景（非−画像）領域においてインキに
反発し且つ水を受容でき、印刷される画像が該背景領域
における汚れ及び他の汚染を含まないで残ることなの
で、これは印刷運転の間に重要である。かくして、平版
印刷版前駆体の感光性コーティングは放射線に画像通り
に露出され、放射線が当たった領域においてコーティン
グの溶解性が変化する。可溶性の領域は続いて現像液を
用いる処理により溶解して除去され、アルミニウム表面
が露出され、それはインキに反発し且つ水を受容できな
ければならない。
【０００３】典型的な表面処理は、アルミニウム表面が
機械的又は電気化学的手段により粗面化される最初の粗
面化処理ならびに続く陽極酸化処理を含んでなり、陽極
酸化処理を用いてアルミニウムの表面上に酸化アルミニ
ウムの層が形成される。陽極酸化処理は、例えば、粗面
化されたアルミニウムウェブを適した陽極酸化酸、例え
ば硫酸もしくはリン酸又はそれらの混合物の浴に、電流
を陽極酸化浴に流し、ウェブを陽極として働かせながら
通過させることにより行うことができる。
機械的又は電気化学的手段により粗面化される最初の粗
面化処理ならびに続く陽極酸化処理を含んでなり、陽極
酸化処理を用いてアルミニウムの表面上に酸化アルミニ
ウムの層が形成される。陽極酸化処理は、例えば、粗面
化されたアルミニウムウェブを適した陽極酸化酸、例え
ば硫酸もしくはリン酸又はそれらの混合物の浴に、電流
を陽極酸化浴に流し、ウェブを陽極として働かせながら
通過させることにより行うことができる。
【０００４】表面陽極酸化層の存在はアルミニウム表面
の親水性を非常に向上させ、陽極酸化の前にアルミニウ
ムの表面を粗面化処理に供すると、続いて形成される画
像層の接着性がずっと向上することが見いだされた。
の親水性を非常に向上させ、陽極酸化の前にアルミニウ
ムの表面を粗面化処理に供すると、続いて形成される画
像層の接着性がずっと向上することが見いだされた。
【０００５】さらに、陽極酸化法に続くさらなる表面処
理の必要性がしばしばある。そのような処理−陽極酸化
後浸漬（ｐｏｓｔ−ａｎｏｄｉｃ ｄｉｐ）と呼ばれる
−は一般に、背景領域の清浄化、コーティング接着性又
は腐食抵抗性などの基質の特定の平版印刷性の向上のた
めに適用され、典型的には選ばれる試薬の溶液、多くの
場合は水溶液にアルミニウムを通過させることを含む。
通常用いられる陽極酸化後浸漬は、例えば炭酸もしくは
重炭酸ナトリウム、ポリ（アクリル酸）又は種々の水溶
性コポリマーを含有する水溶液を含む。
理の必要性がしばしばある。そのような処理−陽極酸化
後浸漬（ｐｏｓｔ−ａｎｏｄｉｃ ｄｉｐ）と呼ばれる
−は一般に、背景領域の清浄化、コーティング接着性又
は腐食抵抗性などの基質の特定の平版印刷性の向上のた
めに適用され、典型的には選ばれる試薬の溶液、多くの
場合は水溶液にアルミニウムを通過させることを含む。
通常用いられる陽極酸化後浸漬は、例えば炭酸もしくは
重炭酸ナトリウム、ポリ（アクリル酸）又は種々の水溶
性コポリマーを含有する水溶液を含む。
【０００６】通常、陽極酸化後浸漬の適用は、記載した
ばかりの方法で粗面化され、陽極酸化された基質を単に
浸漬することにより行われてきた。しかしながら、本発
明者等は、今回驚くべきことに、前記の処理をアクリル
酸とビニルホスホン酸のコポリマーを含む浸漬剤を用い
て行いながら、浸漬処理の経過の間、系に電気力を適用
することにより、有意に向上した版の性質を得られ得る
ことを見いだした。この方法で、有意に向上した清浄
性、強化されたランレングス及び優れた腐食抵抗性を示
す版を作製することができる。
ばかりの方法で粗面化され、陽極酸化された基質を単に
浸漬することにより行われてきた。しかしながら、本発
明者等は、今回驚くべきことに、前記の処理をアクリル
酸とビニルホスホン酸のコポリマーを含む浸漬剤を用い
て行いながら、浸漬処理の経過の間、系に電気力を適用
することにより、有意に向上した版の性質を得られ得る
ことを見いだした。この方法で、有意に向上した清浄
性、強化されたランレングス及び優れた腐食抵抗性を示
す版を作製することができる。
【０００７】かくして、本発明に従えば、 （ａ）金属性基質を準備し； （ｂ）該基質の少なくとも１つの表面を粗面化し； （ｃ）該基質の少なくとも１つの粗面化された表面に陽
極酸化層を適用し； （ｄ）該基質の少なくとも１つの粗面化され且つ陽極酸
化された表面を、定電圧又は定電流を適用しながら、ア
クリル酸とビニルホスホン酸のコポリマーを含む水溶液
で処理する段階を含んでなる平版印刷版前駆体のための
支持体の製造法が提供される。
極酸化層を適用し； （ｄ）該基質の少なくとも１つの粗面化され且つ陽極酸
化された表面を、定電圧又は定電流を適用しながら、ア
クリル酸とビニルホスホン酸のコポリマーを含む水溶液
で処理する段階を含んでなる平版印刷版前駆体のための
支持体の製造法が提供される。
【０００８】該金属性基質はいずれの導電性金属性基質
を含んでなることもできるが、最も好ましくは、それは
アルミニウムあるいは少量の例えばマンガン、ニッケ
ル、コバルト、亜鉛、鉄、ケイ素又はジルコニウムを含
有するアルミニウム合金を含んでなる。該基質は一般に
金属もしくは金属合金の連続ウェブ又はロールの形態で
与えられる。
を含んでなることもできるが、最も好ましくは、それは
アルミニウムあるいは少量の例えばマンガン、ニッケ
ル、コバルト、亜鉛、鉄、ケイ素又はジルコニウムを含
有するアルミニウム合金を含んでなる。該基質は一般に
金属もしくは金属合金の連続ウェブ又はロールの形態で
与えられる。
【０００９】好ましくは、該基質は該粗面化処理の前に
脱脂処理に供される。該脱脂処理は、水性アルカリ性溶
液を用いて最も簡単に行われる。典型的には、該処理は
該基質を例えば水酸化ナトリウムもしくはカリウムの５
〜２０％ｗ／ｖ溶液を含有する浴に通過させることを含
む。該脱脂処理に続き、さらなる処理の前に該基質を水
で濯ぐ。
脱脂処理に供される。該脱脂処理は、水性アルカリ性溶
液を用いて最も簡単に行われる。典型的には、該処理は
該基質を例えば水酸化ナトリウムもしくはカリウムの５
〜２０％ｗ／ｖ溶液を含有する浴に通過させることを含
む。該脱脂処理に続き、さらなる処理の前に該基質を水
で濯ぐ。
【００１０】アクリル酸とビニルホスホン酸のコポリマ
ーを含む水溶液を用いる該粗面化され且つ陽極酸化され
た単数もしくは複数の表面の該処理は、好ましくは該基
質を、好ましくは０．００１％〜５．０％（ｗ／ｗ）
（より好ましくは０．０１％〜１．０％）の該コポリマ
ーを含有する水溶液中に、５o〜８０℃（より好ましく
は１５o〜４０℃）の好ましい温度で、１秒〜６０分
（より好ましくは１５秒〜５分）の好ましい滞留時間の
間、０〜１３（好ましくは１〜５そして最も好ましくは
３近辺）のｐＨで浸すことにより行われる。該水溶液は
好ましくはアルミニウムイオンも０．１〜５０，０００
ｐｐｍの量で含有し；該アルミニウムイオンはいずれか
の便利なアルミニウム塩の形態で該水溶液に加えること
ができ、あるいはアルミニウム基質の場合は該基質から
の溶解の結果として存在していることができる。
ーを含む水溶液を用いる該粗面化され且つ陽極酸化され
た単数もしくは複数の表面の該処理は、好ましくは該基
質を、好ましくは０．００１％〜５．０％（ｗ／ｗ）
（より好ましくは０．０１％〜１．０％）の該コポリマ
ーを含有する水溶液中に、５o〜８０℃（より好ましく
は１５o〜４０℃）の好ましい温度で、１秒〜６０分
（より好ましくは１５秒〜５分）の好ましい滞留時間の
間、０〜１３（好ましくは１〜５そして最も好ましくは
３近辺）のｐＨで浸すことにより行われる。該水溶液は
好ましくはアルミニウムイオンも０．１〜５０，０００
ｐｐｍの量で含有し；該アルミニウムイオンはいずれか
の便利なアルミニウム塩の形態で該水溶液に加えること
ができ、あるいはアルミニウム基質の場合は該基質から
の溶解の結果として存在していることができる。
【００１１】アクリル酸とビニルホスホン酸の該コポリ
マーは当該技術分野において既知の標準的重合法、例え
ば溶液重合、懸濁重合又は乳化重合のいずれによっても
製造することができる。本発明の方法で用いるために適
したコポリマーは、典型的には１００００〜１００００
０、好ましくは３００００〜７００００の範囲内そして
最も好ましくは５００００近辺の重量平均分子量を有
し；コポリマー中のアクリル酸単位対ビニルホスホン酸
単位の比率は典型的には０．５：１〜１．５：１、好ま
しくは０．８５：１〜１．３０：１の範囲内にある。
マーは当該技術分野において既知の標準的重合法、例え
ば溶液重合、懸濁重合又は乳化重合のいずれによっても
製造することができる。本発明の方法で用いるために適
したコポリマーは、典型的には１００００〜１００００
０、好ましくは３００００〜７００００の範囲内そして
最も好ましくは５００００近辺の重量平均分子量を有
し；コポリマー中のアクリル酸単位対ビニルホスホン酸
単位の比率は典型的には０．５：１〜１．５：１、好ま
しくは０．８５：１〜１．３０：１の範囲内にある。
【００１２】定電圧又は定電流の適用は、好ましくは、
基質を１つの電極として用い、他の電気導体、例えば白
金、アルミニウム、炭素、ステンレス鋼又は軟鋼を他の
電極として用い、処理浴を横切って０．１〜１０００Ｖ
（好ましくは１Ｖ〜１００Ｖ）の定直流、パルス状直
流、交流（正弦及び矩形波形態）、バイアスがかけられ
た交流（ｂｉａｓｅｄ ａ．ｃ．）又は半波１−６相整
流交流（ｈａｌｆ−ｗａｖｅ １−６ ｐｈａｓｅｓ
ｒｅｃｔｉｆｉｅｄ ａ．ｃ．）電圧を適用することに
より実現される。かくして、例えば、アルミニウム基質
が陰極を形成し、他の電気導体が陽極となることができ
る；しかしながら好ましくはアルミニウム基質が陽極を
形成し、他の電気導体が陰極となる。典型的には、交流
は１〜５０００Ｈｚ、好ましくは３０〜７０Ｈｚの周波
数で供給される。出力は電気化学的処理の開始時に完全
に適用することができるか、あるいは別の場合、処理の
間に漸進的に比率（ｒａｔｅ）を増して供給することが
できる。該処理に続き、該基質上に表面フィルムが現
れ、該フィルムは１〜５００ｎｍの厚さを有する。場合
により、該表面フィルムを型押表面仕上げ（ｔｅｘｔｕ
ｒｅｄ ｓｕｒｆａｃｅｆｉｎｉｓｈ）を以て形成する
ことができる。
基質を１つの電極として用い、他の電気導体、例えば白
金、アルミニウム、炭素、ステンレス鋼又は軟鋼を他の
電極として用い、処理浴を横切って０．１〜１０００Ｖ
（好ましくは１Ｖ〜１００Ｖ）の定直流、パルス状直
流、交流（正弦及び矩形波形態）、バイアスがかけられ
た交流（ｂｉａｓｅｄ ａ．ｃ．）又は半波１−６相整
流交流（ｈａｌｆ−ｗａｖｅ １−６ ｐｈａｓｅｓ
ｒｅｃｔｉｆｉｅｄ ａ．ｃ．）電圧を適用することに
より実現される。かくして、例えば、アルミニウム基質
が陰極を形成し、他の電気導体が陽極となることができ
る；しかしながら好ましくはアルミニウム基質が陽極を
形成し、他の電気導体が陰極となる。典型的には、交流
は１〜５０００Ｈｚ、好ましくは３０〜７０Ｈｚの周波
数で供給される。出力は電気化学的処理の開始時に完全
に適用することができるか、あるいは別の場合、処理の
間に漸進的に比率（ｒａｔｅ）を増して供給することが
できる。該処理に続き、該基質上に表面フィルムが現
れ、該フィルムは１〜５００ｎｍの厚さを有する。場合
により、該表面フィルムを型押表面仕上げ（ｔｅｘｔｕ
ｒｅｄ ｓｕｒｆａｃｅｆｉｎｉｓｈ）を以て形成する
ことができる。
【００１３】本発明の方法に従って行われる粗面化処理
は機械的粗面化を含むことができ、その方法では基質の
表面を機械的力に供し、それは例えば非常に小さい金属
球のスラリの使用によるかあるいはブラシ粗面化法を介
して行うことができる。別の場合、そして最も好ましく
は、電気化学的粗面化を用いることができる；該方法は
基質を無機もしくは有機酸又はその混合物、例えば塩酸
と酢酸の混合物の溶液中に、該酸溶液に電流を適用しな
がら通過させることを含んでなる。典型的な粗面化条件
は１〜１０ｇ／ｌの濃度及び５〜５０℃の温度におい
て、１〜６０秒の滞留時間及び１〜４０Ｖの適用電位で
塩酸水溶液の浴を用いることを含む。粗面化された基質
を次いでさらなる処理の前に水で濯ぐ。
は機械的粗面化を含むことができ、その方法では基質の
表面を機械的力に供し、それは例えば非常に小さい金属
球のスラリの使用によるかあるいはブラシ粗面化法を介
して行うことができる。別の場合、そして最も好ましく
は、電気化学的粗面化を用いることができる；該方法は
基質を無機もしくは有機酸又はその混合物、例えば塩酸
と酢酸の混合物の溶液中に、該酸溶液に電流を適用しな
がら通過させることを含んでなる。典型的な粗面化条件
は１〜１０ｇ／ｌの濃度及び５〜５０℃の温度におい
て、１〜６０秒の滞留時間及び１〜４０Ｖの適用電位で
塩酸水溶液の浴を用いることを含む。粗面化された基質
を次いでさらなる処理の前に水で濯ぐ。
【００１４】電気化学的粗面化に続き、該粗面化された
基質を好ましくはデスマット処理（ｄｅｓｍｕｔｔｉｎ
ｇ ｔｒｅａｔｍｅｎｔ）に供し、該電気粗面化処理の
経過中に生成し、基質の表面上に付着した副生成物を除
去する。典型的には、該方法は粗面化された基質を当該
技術分野において周知の方法に従って酸もしくはアルカ
リ水溶液で処理することを含む。デスマッティングに続
いて基質を水で濯ぐ。
基質を好ましくはデスマット処理（ｄｅｓｍｕｔｔｉｎ
ｇ ｔｒｅａｔｍｅｎｔ）に供し、該電気粗面化処理の
経過中に生成し、基質の表面上に付着した副生成物を除
去する。典型的には、該方法は粗面化された基質を当該
技術分野において周知の方法に従って酸もしくはアルカ
リ水溶液で処理することを含む。デスマッティングに続
いて基質を水で濯ぐ。
【００１５】粗面化され、場合によりデスマットされた
基質を次いで陽極酸化処理に供し、基質の粗面化された
単数もしくは複数の表面上に酸化アルミニウムの陽極酸
化フィルムを与える。陽極酸化法は当該技術分野におい
て周知であり、典型的には、硫酸、リン酸、硝酸、フッ
化水素酸又はクロム酸などの無機酸水溶液、あるいは有
機酸、例えばシュウ酸、酒石酸、クエン酸又はオレイン
酸の水溶液、あるいはこれらの酸の混合物を含有する浴
に、陽極酸化浴に電流を適用しながら基質を通過させる
ことを含む。典型的な陽極酸化条件は、１０〜３００ｇ
／ｌ、好ましくは１２０ｇ／ｌ近辺の濃度及び２０o〜
６０℃の範囲内、好ましくは４０℃近辺の温度におい
て、５〜１２０秒、好ましくは約４０秒の滞留時間及び
１０〜２５Ｖ、好ましくは約２０Ｖの適用電位及び１０
００〜２０００Ａ／ｍ2、好ましくは１４００Ａ／ｍ2近
辺の電流密度で硫酸の浴を用いることを含む。粗面化さ
れ且つ陽極酸化された基質を次いでさらなる処理の前に
水で濯ぐ。
基質を次いで陽極酸化処理に供し、基質の粗面化された
単数もしくは複数の表面上に酸化アルミニウムの陽極酸
化フィルムを与える。陽極酸化法は当該技術分野におい
て周知であり、典型的には、硫酸、リン酸、硝酸、フッ
化水素酸又はクロム酸などの無機酸水溶液、あるいは有
機酸、例えばシュウ酸、酒石酸、クエン酸又はオレイン
酸の水溶液、あるいはこれらの酸の混合物を含有する浴
に、陽極酸化浴に電流を適用しながら基質を通過させる
ことを含む。典型的な陽極酸化条件は、１０〜３００ｇ
／ｌ、好ましくは１２０ｇ／ｌ近辺の濃度及び２０o〜
６０℃の範囲内、好ましくは４０℃近辺の温度におい
て、５〜１２０秒、好ましくは約４０秒の滞留時間及び
１０〜２５Ｖ、好ましくは約２０Ｖの適用電位及び１０
００〜２０００Ａ／ｍ2、好ましくは１４００Ａ／ｍ2近
辺の電流密度で硫酸の浴を用いることを含む。粗面化さ
れ且つ陽極酸化された基質を次いでさらなる処理の前に
水で濯ぐ。
【００１６】本発明の方法により与えられる支持体に、
続いて感光性コーティングを塗布し、平版印刷版前駆体
を得ることができる。
続いて感光性コーティングを塗布し、平版印刷版前駆体
を得ることができる。
【００１７】当該技術分野における熟練者に周知の種々
の型のコーティング、例えばキノンジアジド誘導体が導
入されたポジティブ−作用性コーティング、ジアゾもし
くはアジド樹脂又は光架橋可能な樹脂が導入されたネガ
ティブ−作用性コーティングあるいはハロゲン化銀に基
づくコーティングをこの目的のために適用することがで
きる。コーティングは熟練者に既知の標準的コーティン
グ法、例えばカーテンコーティング、浸漬コーティン
グ、メニスカスコーティング、逆ロールコーティングな
どのいずれによっても適用することができる。
の型のコーティング、例えばキノンジアジド誘導体が導
入されたポジティブ−作用性コーティング、ジアゾもし
くはアジド樹脂又は光架橋可能な樹脂が導入されたネガ
ティブ−作用性コーティングあるいはハロゲン化銀に基
づくコーティングをこの目的のために適用することがで
きる。コーティングは熟練者に既知の標準的コーティン
グ法、例えばカーテンコーティング、浸漬コーティン
グ、メニスカスコーティング、逆ロールコーティングな
どのいずれによっても適用することができる。
【００１８】かくして得られる平版印刷版前駆体を次い
で画像通りに露出し、現像により非−画像領域を除去し
て平版印刷版を得ることができ、それを続いて印刷機上
で用いてコピーを作成することができる。
で画像通りに露出し、現像により非−画像領域を除去し
て平版印刷版を得ることができ、それを続いて印刷機上
で用いてコピーを作成することができる。
【００１９】本発明の方法により得られるアルミニウム
支持体から作製される平版印刷版は、版現像の時及び印
刷機上の両方で優れた摩耗抵抗性、腐食抵抗性、汚染抵
抗性及びスカム形成抵抗性を示す。本発明の方法に従う
処理により形成される表面フィルムは画像領域における
優れたコーティング接着性を示す。さらに、該版は非常
に優れた露出寛容度及び溶剤抵抗性を示し、先行技術の
陽極酸化後浸漬処理に供された粗面化され且つ陽極酸化
された基質と比較するとその全体的性質は有意に向上し
ている。
支持体から作製される平版印刷版は、版現像の時及び印
刷機上の両方で優れた摩耗抵抗性、腐食抵抗性、汚染抵
抗性及びスカム形成抵抗性を示す。本発明の方法に従う
処理により形成される表面フィルムは画像領域における
優れたコーティング接着性を示す。さらに、該版は非常
に優れた露出寛容度及び溶剤抵抗性を示し、先行技術の
陽極酸化後浸漬処理に供された粗面化され且つ陽極酸化
された基質と比較するとその全体的性質は有意に向上し
ている。
【００２０】ここで以下の実施例に言及して本発明を例
示するが、本発明を制限するものではない：
示するが、本発明を制限するものではない：
【００２１】
【実施例】実施例１ 通常通りに脱脂され、粗面化され、デスマットされ、陽
極酸化されたアルミニウム基質を、炭素電極が取り付け
られ、アクリル酸とビニルホスホン酸のコポリマー
（１：１）（Ｍw ５００００）（１０ｇ／ｌ）の水溶
液を含有する浴中に室温で１２０秒間浸した。６０Ｖの
定直流電圧を炭素電極とアルミニウム基質により形成さ
れるアルミニウム電極を横切って適用し、炭素電極は陰
極として働き、アルミニウム電極は陽極として働いた。
極酸化されたアルミニウム基質を、炭素電極が取り付け
られ、アクリル酸とビニルホスホン酸のコポリマー
（１：１）（Ｍw ５００００）（１０ｇ／ｌ）の水溶
液を含有する浴中に室温で１２０秒間浸した。６０Ｖの
定直流電圧を炭素電極とアルミニウム基質により形成さ
れるアルミニウム電極を横切って適用し、炭素電極は陰
極として働き、アルミニウム電極は陽極として働いた。
【００２２】得られる基質を水で濯ぎ、２−メトキシプ
ロパノール中のナフトキノンジアジド感光性樹脂及びク
レゾールノボラック支持体樹脂の溶液をコーティングし
て感光性コーティング層を形成し、コーティングされた
基質を１３０℃で５分間焼いた。得られる平版印刷版前
駆体を１００〜３００ｍＪ／ｃｍ2においてＵＶ光に画
像通りに露出し、水性アルカリ性現像液を用い、２０℃
で３０秒間浸すことにより現像して非−画像領域を除去
した。得られる平版印刷版を水で濯ぎ、冷空気流中で乾
燥し、続いてＤｒｅｎｔ Ｗｅｂ Ｏｆｆｓｅｔ印刷機
上で２５０，０００枚の優れた質のコピーを作成した。
該版は摩耗、腐食及び汚染／スカム形成に対し、現像の
間及び印刷機上の両方において優れた抵抗性を示した。
ロパノール中のナフトキノンジアジド感光性樹脂及びク
レゾールノボラック支持体樹脂の溶液をコーティングし
て感光性コーティング層を形成し、コーティングされた
基質を１３０℃で５分間焼いた。得られる平版印刷版前
駆体を１００〜３００ｍＪ／ｃｍ2においてＵＶ光に画
像通りに露出し、水性アルカリ性現像液を用い、２０℃
で３０秒間浸すことにより現像して非−画像領域を除去
した。得られる平版印刷版を水で濯ぎ、冷空気流中で乾
燥し、続いてＤｒｅｎｔ Ｗｅｂ Ｏｆｆｓｅｔ印刷機
上で２５０，０００枚の優れた質のコピーを作成した。
該版は摩耗、腐食及び汚染／スカム形成に対し、現像の
間及び印刷機上の両方において優れた抵抗性を示した。
【００２３】実施例２ 通常通りに脱脂され、粗面化され、デスマットされ、陽
極酸化されたアルミニウム基質を、炭素電極が取り付け
られ、アクリル酸とビニルホスホン酸のコポリマー
（１：１）（Ｍw ５００００）（１０ｇ／ｌ）の水溶
液を含有する浴中に室温で１０秒間浸した。１０Ｖの交
流電圧を炭素電極とアルミニウム基質により形成される
アルミニウム電極を横切って適用し、炭素電極は陰極と
して働き、アルミニウム電極は陽極として働いた。
極酸化されたアルミニウム基質を、炭素電極が取り付け
られ、アクリル酸とビニルホスホン酸のコポリマー
（１：１）（Ｍw ５００００）（１０ｇ／ｌ）の水溶
液を含有する浴中に室温で１０秒間浸した。１０Ｖの交
流電圧を炭素電極とアルミニウム基質により形成される
アルミニウム電極を横切って適用し、炭素電極は陰極と
して働き、アルミニウム電極は陽極として働いた。
【００２４】得られる基質を実施例１に関して記載した
と正確に同じ方法でコーティングし、焼き、露出し、現
像して平版印刷版を得、それはＤｒｅｎｔ Ｗｅｂ Ｏ
ｆｆｓｅｔ印刷機上で２５０，０００枚の優れた質のコ
ピーを与えた。該版は摩耗、腐食及び汚染／スカム形成
に対し、現像の間及び印刷機上の両方において優れた抵
抗性を示した。
と正確に同じ方法でコーティングし、焼き、露出し、現
像して平版印刷版を得、それはＤｒｅｎｔ Ｗｅｂ Ｏ
ｆｆｓｅｔ印刷機上で２５０，０００枚の優れた質のコ
ピーを与えた。該版は摩耗、腐食及び汚染／スカム形成
に対し、現像の間及び印刷機上の両方において優れた抵
抗性を示した。
【００２５】実施例３ 通常通りに脱脂され、粗面化され、デスマットされたア
ルミニウム基質を、炭素電極が取り付けられ、アクリル
酸とビニルホスホン酸のコポリマー（０．９：１）（Ｍ
w ５５０００）（５ｇ／ｌ）の水溶液を含有する浴中
に室温で１２０秒間浸した。２０Ｖの整流交流電圧を炭
素電極とアルミニウム基質により形成されるアルミニウ
ム電極を横切って適用し、炭素電極は陰極として働き、
アルミニウム電極は陽極として働いた。
ルミニウム基質を、炭素電極が取り付けられ、アクリル
酸とビニルホスホン酸のコポリマー（０．９：１）（Ｍ
w ５５０００）（５ｇ／ｌ）の水溶液を含有する浴中
に室温で１２０秒間浸した。２０Ｖの整流交流電圧を炭
素電極とアルミニウム基質により形成されるアルミニウ
ム電極を横切って適用し、炭素電極は陰極として働き、
アルミニウム電極は陽極として働いた。
【００２６】得られる基質を実施例１に関して記載した
と正確に同じ方法でコーティングし、焼き、露出し、現
像して平版印刷版を得、それはＤｒｅｎｔ Ｗｅｂ Ｏ
ｆｆｓｅｔ印刷機上で２５０，０００枚の優れた質のコ
ピーを与えた。該版は摩耗、腐食及び汚染／スカム形成
に対し、現像の間及び印刷機上の両方において優れた抵
抗性を示した。本発明の主たる特徴及び態様は以下の通
りである。
と正確に同じ方法でコーティングし、焼き、露出し、現
像して平版印刷版を得、それはＤｒｅｎｔ Ｗｅｂ Ｏ
ｆｆｓｅｔ印刷機上で２５０，０００枚の優れた質のコ
ピーを与えた。該版は摩耗、腐食及び汚染／スカム形成
に対し、現像の間及び印刷機上の両方において優れた抵
抗性を示した。本発明の主たる特徴及び態様は以下の通
りである。
【００２７】１．（ａ）金属性基質を準備し； （ｂ）該基質の少なくとも１つの表面を粗面化し； （ｃ）該基質の少なくとも１つの粗面化された表面に陽
極酸化層を適用し； （ｄ）該基質の少なくとも１つの粗面化され且つ陽極酸
化された表面を、定電圧又は定電流を適用しながら、ア
クリル酸とビニルホスホン酸のコポリマーを含んでなる
水溶液で処理する段階を含んでなる平版印刷版前駆体の
ための支持体の製造法。
極酸化層を適用し； （ｄ）該基質の少なくとも１つの粗面化され且つ陽極酸
化された表面を、定電圧又は定電流を適用しながら、ア
クリル酸とビニルホスホン酸のコポリマーを含んでなる
水溶液で処理する段階を含んでなる平版印刷版前駆体の
ための支持体の製造法。
【００２８】２．該金属性基質がアルミニウム又は少量
のマンガン、ニッケル、コバルト、亜鉛、鉄、ケイ素も
しくはジルコニウムの少なくとも１つを含有するアルミ
ニウム合金を含んでなる上記１項に定義した方法。
のマンガン、ニッケル、コバルト、亜鉛、鉄、ケイ素も
しくはジルコニウムの少なくとも１つを含有するアルミ
ニウム合金を含んでなる上記１項に定義した方法。
【００２９】３．アクリル酸とビニルホスホン酸の該コ
ポリマーが１０，０００〜１００，０００の範囲内の重
量平均分子量を有する上記１又は２項に定義した方法。
ポリマーが１０，０００〜１００，０００の範囲内の重
量平均分子量を有する上記１又は２項に定義した方法。
【００３０】４．該重量平均分子量が５０，０００近辺
である上記３項に定義した方法。
である上記３項に定義した方法。
【００３１】５．該コポリマー中のアクリル酸単位対ビ
ニルホスホン酸単位の比率が０．５：１〜１．５：１の
範囲内にある上記１〜４項のいずれかに定義した方法。
ニルホスホン酸単位の比率が０．５：１〜１．５：１の
範囲内にある上記１〜４項のいずれかに定義した方法。
【００３２】６．アクリル酸単位対ビニルホスホン酸単
位の該比率が０．８５〜１．３０：１の範囲内にある上
記５項に定義した方法。
位の該比率が０．８５〜１．３０：１の範囲内にある上
記５項に定義した方法。
【００３３】７．該水溶液がさらに０．１〜５０，００
０ｐｐｍの量でアルミニウムイオンを含有する上記１〜
６項のいずれかに定義した方法。
０ｐｐｍの量でアルミニウムイオンを含有する上記１〜
６項のいずれかに定義した方法。
【００３４】８．該水溶液が０．００１〜５．０％（ｗ
／ｗ）の該コポリマーを含有する上記１〜７項のいずれ
かに定義した方法。
／ｗ）の該コポリマーを含有する上記１〜７項のいずれ
かに定義した方法。
【００３５】９．該処理を５o〜８０℃の温度で行う上
記１〜８項のいずれかに定義した方法。
記１〜８項のいずれかに定義した方法。
【００３６】１０．該処理を１５秒〜５分の滞留時間の
間で行う上記１〜９項のいずれかに定義した方法。
間で行う上記１〜９項のいずれかに定義した方法。
【００３７】１１．該処理を１〜５のｐＨで行う上記１
〜１０項のいずれかに定義した方法。
〜１０項のいずれかに定義した方法。
【００３８】１２．定電圧又は定電流の該適用を、処理
浴を横切る０．１〜１０００Ｖの定直流、パルス状直
流、交流（正弦もしくは矩形波形態）、バイアスがかけ
られた交流又は半波１−６相整流交流電圧を適用するこ
とにより実現する上記１〜１１項のいずれかに定義した
方法。
浴を横切る０．１〜１０００Ｖの定直流、パルス状直
流、交流（正弦もしくは矩形波形態）、バイアスがかけ
られた交流又は半波１−６相整流交流電圧を適用するこ
とにより実現する上記１〜１１項のいずれかに定義した
方法。
【００３９】１３．該交流を３０〜７０Ｈｚの周波数で
適用する上記１２項に定義した方法。
適用する上記１２項に定義した方法。
【００４０】１４．基質が１つの電極を構成し、白金、
アルミニウム、炭素、ステンレス鋼又は軟鋼が他の電極
を構成する上記１２又は１３項に定義した方法。
アルミニウム、炭素、ステンレス鋼又は軟鋼が他の電極
を構成する上記１２又は１３項に定義した方法。
【００４１】１５．該基質がアルミニウムを含んでな
り、陽極を形成する上記１４項に定義した方法。
り、陽極を形成する上記１４項に定義した方法。
【００４２】１６．該粗面化処理が電気化学的粗面化を
含む上記１〜１５項のいずれかに定義した方法。
含む上記１〜１５項のいずれかに定義した方法。
【００４３】１７．該電気化学的粗面化が、無機酸又は
有機酸あるいはそれらの混合物の溶液に、そこに電流を
適用しながら、該基質を通過させることを含んでなる上
記１６項に定義した方法。
有機酸あるいはそれらの混合物の溶液に、そこに電流を
適用しながら、該基質を通過させることを含んでなる上
記１６項に定義した方法。
【００４４】１８．該溶液が塩酸と酢酸の混合物を含ん
でなる上記１７項に定義した方法。
でなる上記１７項に定義した方法。
【００４５】１９．該電気化学的粗面化処理に続いて該
基質をデスマット処理に供する上記１７又は１８項に定
義した方法。
基質をデスマット処理に供する上記１７又は１８項に定
義した方法。
【００４６】２０．無機酸又は有機酸あるいはそれらの
混合物を含有する浴に、そこに電流を適用しながら、該
基質を通過させることにより、該基質の該粗面化された
単数もしくは複数の表面に該陽極酸化フィルムを適用す
る上記１〜１９項のいずれかに定義した方法。
混合物を含有する浴に、そこに電流を適用しながら、該
基質を通過させることにより、該基質の該粗面化された
単数もしくは複数の表面に該陽極酸化フィルムを適用す
る上記１〜１９項のいずれかに定義した方法。
【００４７】２１．該浴が硫酸を含有する上記２０項に
定義した方法。
定義した方法。
【００４８】２２．該粗面化処理の前に該基質を脱脂処
理に供する上記１〜２１項のいずれかに定義した方法。
理に供する上記１〜２１項のいずれかに定義した方法。
【００４９】２３．該脱脂処理を水性アルカリ性溶液を
用いて行う上記２２項に定義した方法。
用いて行う上記２２項に定義した方法。
【００５０】２４．（ａ）上記１〜２３項のいずれかに
定義した方法に従って平版印刷版前駆体のための支持体
を準備し； （ｂ）該支持体の表面の処理された表面に感光性コーテ
ィングを適用する段階を含んでなる平版印刷版前駆体の
製造法。
定義した方法に従って平版印刷版前駆体のための支持体
を準備し； （ｂ）該支持体の表面の処理された表面に感光性コーテ
ィングを適用する段階を含んでなる平版印刷版前駆体の
製造法。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 フエルトン・ルドルフ・マイヤース イギリス・ウエストヨークシヤー エルエ ス17 ５デイエフ・リーズ・ムーアタウ ン・ウエストリーガーデンズ26
Claims (3)
- 【請求項１】 （ａ）金属性基質を準備し；（ｂ）該基
質の少なくとも１つの表面を粗面化し；（ｃ）該基質の
少なくとも１つの粗面化された表面に陽極酸化層を適用
し；（ｄ）該基質の少なくとも１つの粗面化され且つ陽
極酸化された表面を、定電圧又は定電流を適用しなが
ら、アクリル酸とビニルホスホン酸のコポリマーを含ん
でなる水溶液で処理する段階を含むことを特徴とする平
版印刷版前駆体のための支持体の製造法。 - 【請求項２】 該水溶液がさらに０．１〜５０，０００
ｐｐｍの量でアルミニウムイオンを含有する請求項１に
記載の方法。 - 【請求項３】 （ａ）請求項１に定義した方法に従って
平版印刷版前駆体のための支持体を準備し；（ｂ）該支
持体の表面の処理された表面に感光性コーティングを適
用する段階を含むことを特徴とする平版印刷版前駆体の
製造法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB9825822.1 | 1998-11-16 | ||
| GBGB9825822.1A GB9825822D0 (en) | 1998-11-16 | 1998-11-16 | Production of lithographic printing plate support |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000141938A true JP2000141938A (ja) | 2000-05-23 |
Family
ID=10843020
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32119499A Pending JP2000141938A (ja) | 1998-11-16 | 1999-11-11 | 平版印刷版支持体の製造 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP1000768B1 (ja) |
| JP (1) | JP2000141938A (ja) |
| DE (1) | DE69915211T2 (ja) |
| GB (1) | GB9825822D0 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4856075B2 (ja) * | 2004-08-20 | 2012-01-18 | イーストマン コダック カンパニー | 平版印刷版前駆体のための基板 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1642746A1 (en) * | 2004-10-01 | 2006-04-05 | Agfa-Gevaert | Method of making a negative-working lithographic printing plate. |
| EP2301760B1 (en) | 2009-09-28 | 2013-08-14 | Fujifilm Corporation | Method of producing aluminum substrate for planographic printing plate and method of recycling planographic printing plate |
| US8632940B2 (en) | 2011-04-19 | 2014-01-21 | Eastman Kodak Company | Aluminum substrates and lithographic printing plate precursors |
| US9074162B1 (en) | 2014-02-07 | 2015-07-07 | Ecolab Usa Inc. | Detergent compositions comprising vinylidene diphosphonic acid polymers |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE606888A (ja) * | 1960-08-05 | 1900-01-01 | ||
| DE3406101A1 (de) * | 1984-02-21 | 1985-08-22 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Verfahren zur zweistufigen hydrophilierenden nachbehandlung von aluminiumoxidschichten mit waessrigen loesungen und deren verwendung bei der herstellung von offsetdruckplattentraegern |
| DE4023267A1 (de) * | 1990-07-21 | 1992-01-23 | Hoechst Ag | Platten-, folien- oder bandfoermiges traegermaterial fuer offsetdruckplatten, verfahren zu seiner herstellung und seine verwendung |
| US5262244A (en) * | 1990-07-21 | 1993-11-16 | Hoechst Aktiengesellschaft | Hydrophilic copolymers and their use in reprography |
-
1998
- 1998-11-16 GB GBGB9825822.1A patent/GB9825822D0/en not_active Ceased
-
1999
- 1999-11-03 EP EP19990203681 patent/EP1000768B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-11-03 DE DE1999615211 patent/DE69915211T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-11-11 JP JP32119499A patent/JP2000141938A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4856075B2 (ja) * | 2004-08-20 | 2012-01-18 | イーストマン コダック カンパニー | 平版印刷版前駆体のための基板 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP1000768A2 (en) | 2000-05-17 |
| GB9825822D0 (en) | 1999-01-20 |
| DE69915211D1 (de) | 2004-04-08 |
| DE69915211T2 (de) | 2005-01-13 |
| EP1000768A3 (en) | 2001-02-21 |
| EP1000768B1 (en) | 2004-03-03 |
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