JP2779450B2 - シリカ―アルミナゲル - Google Patents
シリカ―アルミナゲルInfo
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- B01J21/12—Silica and alumina
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- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
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- C07C2/06—Preparation of hydrocarbons from hydrocarbons containing a smaller number of carbon atoms by addition between unsaturated hydrocarbons by oligomerisation of well-defined unsaturated hydrocarbons without ring formation of alkenes, i.e. acyclic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond
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- C07C2521/00—Catalysts comprising the elements, oxides or hydroxides of magnesium, boron, aluminium, carbon, silicon, titanium, zirconium or hafnium
- C07C2521/12—Silica and alumina
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Description
【発明の詳細な説明】 本発明は、触媒として活性なシリカ−アルミナゲル及
びその製法に係る。
びその製法に係る。
本発明は、該シリカ−アルミナゲルを炭化水素の変換
反応における触媒としての使用にも係る。
反応における触媒としての使用にも係る。
当分野では、吸着等による分離において、又は炭化水
素の各種変換反応における触媒としてゼオライトを使用
することが知られている。これらゼオライト(モレキュ
ラーシーブとしても公知)は、結晶性の天然又は合成ア
ルミノシリケートである。この公知の技術に関して、Ki
rk−Othmer「エンサイクロペデア・オブ・ケミカル・テ
クノロジー(Encyclopaedia of Chemical Technolog
y)」第3版,15巻,638−669頁における記載を参照す
る。
素の各種変換反応における触媒としてゼオライトを使用
することが知られている。これらゼオライト(モレキュ
ラーシーブとしても公知)は、結晶性の天然又は合成ア
ルミノシリケートである。この公知の技術に関して、Ki
rk−Othmer「エンサイクロペデア・オブ・ケミカル・テ
クノロジー(Encyclopaedia of Chemical Technolog
y)」第3版,15巻,638−669頁における記載を参照す
る。
当分野では、触媒活性が付与されたいくつかの無定形
シリカ−アルミナゲルが開示されている。たとえば、ヨ
ーロッパ特許公開第160,145号には、無定形であって、
孔の直径が代表的には50ないし500Åであり、シリカ/
アルミナの比が代表的には1/1ないし10/1であるシリカ
−アルミナゲルでなる触媒を使用する芳香族炭化水素の
アルキル化法が開示されている。さらに、M.R.S.Manton
及びJ.C.Davidtzは、「ジャーナル・オブ・キャタリシ
ス(Journal of Catalysis)」60,156−166(1979)に
おいて、制御された孔容積を有し、直径3.7ないし15mm
(37ないし150Å)の孔を有するシリカ/アルミナ無定
形触媒の合成法を開示している。
シリカ−アルミナゲルが開示されている。たとえば、ヨ
ーロッパ特許公開第160,145号には、無定形であって、
孔の直径が代表的には50ないし500Åであり、シリカ/
アルミナの比が代表的には1/1ないし10/1であるシリカ
−アルミナゲルでなる触媒を使用する芳香族炭化水素の
アルキル化法が開示されている。さらに、M.R.S.Manton
及びJ.C.Davidtzは、「ジャーナル・オブ・キャタリシ
ス(Journal of Catalysis)」60,156−166(1979)に
おいて、制御された孔容積を有し、直径3.7ないし15mm
(37ないし150Å)の孔を有するシリカ/アルミナ無定
形触媒の合成法を開示している。
発明者らは、x線分析において無定形であり、炭化水
素の変換法において目的反応生成物に対する極めて良好
な選択率を示す細孔性の触媒活性シリカ−アルミナゲル
を新たに見出し、本発明に至った。
素の変換法において目的反応生成物に対する極めて良好
な選択率を示す細孔性の触媒活性シリカ−アルミナゲル
を新たに見出し、本発明に至った。
これによれば、本発明は、X線分析において無定形で
あり、モル比SiO1/Al2O3 30/1ないし500/1、表面積500
ないし1000m2/g、孔の総容積0.3ないし0.6ml/g、孔の平
均直径10Å以下を有し、直径30Åより大の孔を含有せず
又は実質的に含有しないシリカ−アルミナゲルであっ
て、(a)テトラアルキルアンモニウムヒドロキシド
(TAA−OH)(アルキル基はエチル基、n−プロピル基
及びn−ブチル基の中から選ばれるものである)、加水
分解によってAl2O3を生成する可溶性アルミニウム化合
物及び加水分解によってSiO2を生成する可溶性ケイ素化
合物の水溶液であって、該水溶液の構成成分の量が下記
モル比 SiO2/Al2O3 30/1ないし500/1 TAA−OH/SiO2 0.05/1ないし0.2/1 H2O/SiO2 5/1ないし40/1 を満足するものである水溶液を調製し、(b)得られた
溶液を加熱してゲル化を生ぜしめ、(c)得られたゲル
を乾燥させ、(d)乾燥したゲルを不活性雰囲気におい
て、ついで酸化雰囲気においてか焼することによって得
られたものであることを特徴とするシリカ−アルミナゲ
ルに係る。
あり、モル比SiO1/Al2O3 30/1ないし500/1、表面積500
ないし1000m2/g、孔の総容積0.3ないし0.6ml/g、孔の平
均直径10Å以下を有し、直径30Åより大の孔を含有せず
又は実質的に含有しないシリカ−アルミナゲルであっ
て、(a)テトラアルキルアンモニウムヒドロキシド
(TAA−OH)(アルキル基はエチル基、n−プロピル基
及びn−ブチル基の中から選ばれるものである)、加水
分解によってAl2O3を生成する可溶性アルミニウム化合
物及び加水分解によってSiO2を生成する可溶性ケイ素化
合物の水溶液であって、該水溶液の構成成分の量が下記
モル比 SiO2/Al2O3 30/1ないし500/1 TAA−OH/SiO2 0.05/1ないし0.2/1 H2O/SiO2 5/1ないし40/1 を満足するものである水溶液を調製し、(b)得られた
溶液を加熱してゲル化を生ぜしめ、(c)得られたゲル
を乾燥させ、(d)乾燥したゲルを不活性雰囲気におい
て、ついで酸化雰囲気においてか焼することによって得
られたものであることを特徴とするシリカ−アルミナゲ
ルに係る。
本発明による化合物の合成における工程(a)に当た
り、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラ−
n−プロピルアンモニウムヒドロキシド又はテトラ−n
−ブチルアンモニウムヒドロキシドを使用することは必
須の要件である。事実、テトラエチルアンモニウムヒド
ロキシドの如き類似のアンモニウム化合物を使用する場
合には、中間孔(mesopore)(孔サイズ30Åより大)を
有し、触媒活性の無い又は触媒活性に乏しいシリカ−ア
ルミナゲルが生成することになる。
り、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラ−
n−プロピルアンモニウムヒドロキシド又はテトラ−n
−ブチルアンモニウムヒドロキシドを使用することは必
須の要件である。事実、テトラエチルアンモニウムヒド
ロキシドの如き類似のアンモニウム化合物を使用する場
合には、中間孔(mesopore)(孔サイズ30Åより大)を
有し、触媒活性の無い又は触媒活性に乏しいシリカ−ア
ルミナゲルが生成することになる。
前記工程(a)において使用できる好適な可溶性アル
ミニウム化合物は、たとえばアルミニウムトリ−n−プ
ロポキシド及びアルミニウムトリイソプロポキシドの如
きアルミニウムトリアルコキシドである。
ミニウム化合物は、たとえばアルミニウムトリ−n−プ
ロポキシド及びアルミニウムトリイソプロポキシドの如
きアルミニウムトリアルコキシドである。
一方、前記工程(a)において使用できる好適な可溶
性ケイ素化合物は、たとえばテトラエチルシリケートの
如きテトラアルキルシリケートである。
性ケイ素化合物は、たとえばテトラエチルシリケートの
如きテトラアルキルシリケートである。
該工程(a)は、室温(20−25℃)、又は室温以上、
ゲリ化開始温度(約50℃)に近い温度以下で行われる。
ゲリ化開始温度(約50℃)に近い温度以下で行われる。
工程(a)における溶液の構成成分の添加順序は問題
にはならない。
にはならない。
しかしながら、初めにテトラアルキルアンモニウムヒ
ドロキシド及び可溶性アルミニウム化合物を含有する水
溶液を調製し、ついで該溶液に可溶性ケイ素化合物を添
加することが好適である。
ドロキシド及び可溶性アルミニウム化合物を含有する水
溶液を調製し、ついで該溶液に可溶性ケイ素化合物を添
加することが好適である。
いずれにしても、得られた溶液において下記のモル比
が満足されなければならない。
が満足されなければならない。
SiO2/Al2O3 30/1ないし500/1 TAA−OH/SiO2 0.05/1ないし0.2/1 H2O/SiO2 5/1ないし40/1 該モル比について好適な値は次のとおりである。
SiO2/Al2O3 50/1ないし300/1 TAA−OH/SiO2 0.05/1ないし0.2/1 H2O/SiO2 10/1ないし25/1 工程(b)におけるゲル化は、溶液を温度50ないし70
℃、好ましくは約60℃に加熱することによって行われ
る。ゲル化を完了させるために必要な時間は、温度、濃
度又は他のパラメータに左右され、通常15分ないし5時
間であり、代表的には25分ないし60分である。溶液を単
に加熱することによってゲル化できることは重要であ
る。
℃、好ましくは約60℃に加熱することによって行われ
る。ゲル化を完了させるために必要な時間は、温度、濃
度又は他のパラメータに左右され、通常15分ないし5時
間であり、代表的には25分ないし60分である。溶液を単
に加熱することによってゲル化できることは重要であ
る。
事実、従来技術の場合のように酸性条件下で操作を行
う場合には、特に多孔度及び孔サイズの分布に関して望
ましくない特性を有するシリカ−アルミナゲルが得られ
る。
う場合には、特に多孔度及び孔サイズの分布に関して望
ましくない特性を有するシリカ−アルミナゲルが得られ
る。
上述の如くして得られたゲルを、本発明に従い、工程
(c)において乾燥処理する。かかる乾燥処理は、約15
0℃以下、好ましくは90−100℃の温度、完全に又は実質
的に完全に水を除去するに充分な時間で行なわれる。
(c)において乾燥処理する。かかる乾燥処理は、約15
0℃以下、好ましくは90−100℃の温度、完全に又は実質
的に完全に水を除去するに充分な時間で行なわれる。
本発明の好適な1具体例によれば、乾燥工程(c)は
スプレー乾燥法によって実施される。この場合、ゲルを
滴として噴出させ、不活性ガスと接触させるスプレー乾
燥装置を使用でき、ガス入口温度230−250℃、ガス出口
温度140−160℃で作動させる。
スプレー乾燥法によって実施される。この場合、ゲルを
滴として噴出させ、不活性ガスと接触させるスプレー乾
燥装置を使用でき、ガス入口温度230−250℃、ガス出口
温度140−160℃で作動させる。
いずれの場合にも、乾燥したゲルを工程(d)におい
てか焼処理する。かかる処理は、まず不活性雰囲気(た
とえば窒素中)で、ついで酸化雰囲気(たとえば空気
中)で行われる。か焼温度は500ないし700℃、好ましく
は550−600℃である。か焼時間は4ないし20時間、代表
的には6−16時間である。
てか焼処理する。かかる処理は、まず不活性雰囲気(た
とえば窒素中)で、ついで酸化雰囲気(たとえば空気
中)で行われる。か焼温度は500ないし700℃、好ましく
は550−600℃である。か焼時間は4ないし20時間、代表
的には6−16時間である。
このようにして、本発明のシリカ−アルミナゲルが得
られるが、かかるゲルは、X線分析において完全に無定
形の構造を示し、初めに充填したケイ素及びアルミニウ
ムの化合物に由来するものと同じSiO2/Al2O3比(30/1な
いし500/1、好ましくは50/1ないし300/1)を示す。
られるが、かかるゲルは、X線分析において完全に無定
形の構造を示し、初めに充填したケイ素及びアルミニウ
ムの化合物に由来するものと同じSiO2/Al2O3比(30/1な
いし500/1、好ましくは50/1ないし300/1)を示す。
該シリカ−アルミナゲルは、大きい表面積(比表面積
の値(BET測定法)は500ないし1000m2/gである)を有す
る。孔の総容積は0.3ないし0.6ml/gである。孔はミクロ
孔の範囲のサイズを有し、平均直径は10Å以下であり、
サイズ分布は狭い。特に、30Åより大の直径を有する孔
は存在しないか、又は実質的に存在せず、一般に、20Å
より大の直径を有する孔は存在しない。
の値(BET測定法)は500ないし1000m2/gである)を有す
る。孔の総容積は0.3ないし0.6ml/gである。孔はミクロ
孔の範囲のサイズを有し、平均直径は10Å以下であり、
サイズ分布は狭い。特に、30Åより大の直径を有する孔
は存在しないか、又は実質的に存在せず、一般に、20Å
より大の直径を有する孔は存在しない。
本発明によるシリカ−アルミナゲルは、炭化水素の変
換反応において触媒として活性である。使用し際して、
該ゲルはそのままで、又は結合剤として作用する好適な
金属酸化物と組合せて使用される。かかる目的に使用さ
れる好適な酸化物は、シリカ、アルミナ及びチタン、マ
ンガン及びジルコニウムの酸化物である。シリカ−アル
ミナゲル及び結合剤を、約50:50ないし95:5、好ましく
は70:30ないし90:10の重量比で混合できる。2つの成分
を常法の混合法によって混合でき、得られたブレンドを
圧縮して、たとえば押出し成形物又は粒状の如き所望の
最終形状とすることができる。このように操作すること
によって、触媒に良好な機械特性を付与できる。
換反応において触媒として活性である。使用し際して、
該ゲルはそのままで、又は結合剤として作用する好適な
金属酸化物と組合せて使用される。かかる目的に使用さ
れる好適な酸化物は、シリカ、アルミナ及びチタン、マ
ンガン及びジルコニウムの酸化物である。シリカ−アル
ミナゲル及び結合剤を、約50:50ないし95:5、好ましく
は70:30ないし90:10の重量比で混合できる。2つの成分
を常法の混合法によって混合でき、得られたブレンドを
圧縮して、たとえば押出し成形物又は粒状の如き所望の
最終形状とすることができる。このように操作すること
によって、触媒に良好な機械特性を付与できる。
本発明によるシリカ−アルミナゲルが触媒作用を発揮
する反応としては、オレフィン、特に炭素原子4ないし
15個の鎖長の線状オレフィンの二量化反応、異性化(た
とえばブテンの異性化)、炭化水素のオレフィンによる
アルキル化、脱ワックス化がある。これらの反応におい
て、本発明による触媒は良好な活性を示し、中でも所望
の反応生成物に対する高い選択率を示す。
する反応としては、オレフィン、特に炭素原子4ないし
15個の鎖長の線状オレフィンの二量化反応、異性化(た
とえばブテンの異性化)、炭化水素のオレフィンによる
アルキル化、脱ワックス化がある。これらの反応におい
て、本発明による触媒は良好な活性を示し、中でも所望
の反応生成物に対する高い選択率を示す。
以下の実施例は本発明を説明するためのものである。
実施例1 30.6重量%のテトラ−n−プロピルアンモニウムヒド
ロキシド(TPA−OH)50gにアルミニウムトリプロポキシ
ド[Al(O−n−C3H7)3]1.4gを溶解させ、つづいて
脱塩水56gを添加した。
ロキシド(TPA−OH)50gにアルミニウムトリプロポキシ
ド[Al(O−n−C3H7)3]1.4gを溶解させ、つづいて
脱塩水56gを添加した。
これらの操作を室温(約20℃)で行った。
得られた溶液を60℃まで加熱し、撹拌しながら、テト
ラエチルシリケート(TES)(104g)を添加した。
ラエチルシリケート(TES)(104g)を添加した。
得られた混合物は、下記のモル比を有する。
SiO2/Al2O3 = 145/1 TPA−OH/SiO2 = 0.15/1 H2O/SiO2 = 10/1 混合物を60℃で撹拌し、30分後、均質なゲルを得た。
得られたゲルを、ローターベーパー内、空気流中におい
て、恒温浴を温度90℃に維持して乾燥させ、ついでオー
ブン内、100℃において乾燥させた。
得られたゲルを、ローターベーパー内、空気流中におい
て、恒温浴を温度90℃に維持して乾燥させ、ついでオー
ブン内、100℃において乾燥させた。
乾燥したゲルを、600℃において、窒素流下で3時
間、ついで空気流下で10時間か焼した。
間、ついで空気流下で10時間か焼した。
初期充填ケイ素及びアルミニウムに関して定量的収率
でシリカ−アルミナゲル30gが得られた。
でシリカ−アルミナゲル30gが得られた。
化学分析により、SiO2/Al2O3のモル比が反応体充填後
の反応混合物のものと同じであることを確認した。
の反応混合物のものと同じであることを確認した。
粉末X線回折(CuKα線を使用する縦形Phillipsゴニ
オメーターによる)によって、シリカ−アルミナゲルが
完全に無定形であることを確認した。
オメーターによる)によって、シリカ−アルミナゲルが
完全に無定形であることを確認した。
ゲルのIRスペクトル(Perkin Elmer社製の分光計FTIR
−1730により測定)を添付図面に示す。
−1730により測定)を添付図面に示す。
該ゲルの表面積(Carlo Erba社製のSorptomatic1800
によって測定)は800m2/gであった。
によって測定)は800m2/gであった。
ゲルの多孔度は0.44ml/gであり、直径20Åより大の孔
は存在せず、孔の平均直径は10Å以下であった。なお、
孔に関する測定値Carlo Erba社製のSorptomatic1800に
よって求めたものである。
は存在せず、孔の平均直径は10Å以下であった。なお、
孔に関する測定値Carlo Erba社製のSorptomatic1800に
よって求めたものである。
実施例2 30重量%のTPA−OH27gにアルミニウムトリプロポキシ
ド2gを添加し、溶解後、脱塩水85gを添加した。
ド2gを添加し、溶解後、脱塩水85gを添加した。
このようにして得られた溶液を20℃から60℃まで加熱
し、ついでTES104gを添加した。
し、ついでTES104gを添加した。
得られた混合物における各モル比の値は次のとおりで
ある。
ある。
SiO2/Al2O3 = 102 TPA−OH/SiO2 = 0.08 H2O/SiO2 = 11.5 透明でかつ緻密なゲルが得られるまで(所要時間は約
30分である)混合物を60℃で撹拌し、得られたゲルをま
ずローターベーパー内で、ついでオーブン内において10
0℃で1時間乾燥させた。
30分である)混合物を60℃で撹拌し、得られたゲルをま
ずローターベーパー内で、ついでオーブン内において10
0℃で1時間乾燥させた。
その後、550℃において、窒素流下で1時間、ついで
空気流下でさらに5時間か焼を行った。
空気流下でさらに5時間か焼を行った。
上述の比SiO2/Al2O3を有し、X線分析において完全に
無定形であり、表面積658m2/g(ただし、多孔度0.46ml/
gであり、直径20Åより大の孔は存在せず、孔の平均直
径は10Å以下である)を有するシリカ−アルミナゲル27
gを得た。
無定形であり、表面積658m2/g(ただし、多孔度0.46ml/
gであり、直径20Åより大の孔は存在せず、孔の平均直
径は10Å以下である)を有するシリカ−アルミナゲル27
gを得た。
実施例3 室温(約20℃)で操作して、25重量%のTPA−OH40.5g
中にアルミニウムトリプロポキシド2gを溶解させ、つい
で脱塩水146gを添加することによって透明な溶液を調製
した。
中にアルミニウムトリプロポキシド2gを溶解させ、つい
で脱塩水146gを添加することによって透明な溶液を調製
した。
溶液を60℃まで加熱し、ついでTES104gを添加した。
これにより、各モル比が下記のとおりである混合物を得
た。
これにより、各モル比が下記のとおりである混合物を得
た。
SiO2/Al2O3 = 102 TPA−OH/SiO2 = 0.10 H2O/SiO2 = 21 混合物を60℃において1時間撹拌して均質なゲルを得
た。このゲルを室温(約20℃)に50時間放置し、ロータ
ーベーパー内において、大気圧下、わずかに流動する空
気流中で、恒温浴を90℃に維持して乾燥させた。最後
に、ゲルを150℃で1時間乾燥させ、550℃、窒素流下で
3時間、ついで600℃、空気流下で13時間か焼した。
た。このゲルを室温(約20℃)に50時間放置し、ロータ
ーベーパー内において、大気圧下、わずかに流動する空
気流中で、恒温浴を90℃に維持して乾燥させた。最後
に、ゲルを150℃で1時間乾燥させ、550℃、窒素流下で
3時間、ついで600℃、空気流下で13時間か焼した。
上述の比SiO2/Al2O3を有し、X線分析において完全に
無定形であり、表面積760m2/g、多孔度0.44ml/gを有
し、直径20Åより大の孔を含有せず、ただし孔の平均直
径が10Å以下であるシリカ−アルミナゲル30gを得た。
無定形であり、表面積760m2/g、多孔度0.44ml/gを有
し、直径20Åより大の孔を含有せず、ただし孔の平均直
径が10Å以下であるシリカ−アルミナゲル30gを得た。
実施例4 室温(約20℃)で操作して、30重量%のTPA−OH51g中
にアルミニウムトリプロポキシド2gを溶解させ、ついで
脱塩水180.0gを添加した。
にアルミニウムトリプロポキシド2gを溶解させ、ついで
脱塩水180.0gを添加した。
溶液を60℃まで加熱し、ついでTES 104.2gを添加し
た。これにより、各モル比が下記のとおりである混合物
を得た。
た。これにより、各モル比が下記のとおりである混合物
を得た。
SiO2/Al2O3 = 102 TPA−OH/SiO2 = 0.15 H2O/SiO2 = 24 混合物を60℃において4時間撹拌し、室温(約20℃)
に11日間放置し、流速4.5ml(ゲル)/分において、乾
燥機に導入するガスが入口温度240℃及び出口温度150℃
を有するように調節してスプレー乾燥させた。乾燥させ
たゲルを、550℃において、窒素流下で1時間、ついで
空気流下で5時間か焼した。
に11日間放置し、流速4.5ml(ゲル)/分において、乾
燥機に導入するガスが入口温度240℃及び出口温度150℃
を有するように調節してスプレー乾燥させた。乾燥させ
たゲルを、550℃において、窒素流下で1時間、ついで
空気流下で5時間か焼した。
上述の比SiO2/Al2O3を有し、X線分析において完全に
無定形であり、表面積541m2/g、多孔度0.47ml/gを有
し、直径20Åより大の孔を含有せず、ただし孔の平均直
径が10Å以下であるシリカ−アルミナゲル29gを得た。
無定形であり、表面積541m2/g、多孔度0.47ml/gを有
し、直径20Åより大の孔を含有せず、ただし孔の平均直
径が10Å以下であるシリカ−アルミナゲル29gを得た。
実施例5 室温(約20℃)で操作して、30.6重量%のTPA−OH50g
中にアルミニウムトリプロポキシド0.68gを溶解させ
た。この溶液に脱塩水56gを添加し、50℃まで加熱した
後、TES104gを添加した。
中にアルミニウムトリプロポキシド0.68gを溶解させ
た。この溶液に脱塩水56gを添加し、50℃まで加熱した
後、TES104gを添加した。
これにより、各モル比が下記のとおりである混合物を
得た。
得た。
SiO2/Al2O3 = 300 TPA−OH/SiO2 = 0.15 H2O/SiO2 = 10 混合物を50℃において1.5時間撹拌して透明でかつ緻
密なゲルを得た。このゲルをまずローターベーパー内に
おいて、恒温80℃で3時間、ついでオーブン内において
120℃で1時間乾燥させた。
密なゲルを得た。このゲルをまずローターベーパー内に
おいて、恒温80℃で3時間、ついでオーブン内において
120℃で1時間乾燥させた。
最後に、乾燥させたゲルを600℃おいて、窒素流下で
3時間、ついで空気流下で7時間か焼した。
3時間、ついで空気流下で7時間か焼した。
上述の比SiO2/Al2O3を有し、X線分析において完全に
無定形であり、表面積974m2/g、多孔度0.45ml/gを有
し、直径20Åより大の孔を含有せず、ただし孔の平均直
径が10Å以下であるシリカ−アルミナゲル30gを得た。
無定形であり、表面積974m2/g、多孔度0.45ml/gを有
し、直径20Åより大の孔を含有せず、ただし孔の平均直
径が10Å以下であるシリカ−アルミナゲル30gを得た。
実施例6 室温(約20℃)で操作して、25重量%のTPA−OH48.5g
中にアルミニウムトリプロポキシド4gを溶解させた。こ
の溶液に水170gを添加し、60℃まで加熱した後、TES104
gを添加した。
中にアルミニウムトリプロポキシド4gを溶解させた。こ
の溶液に水170gを添加し、60℃まで加熱した後、TES104
gを添加した。
これにより、各モル比が下記のとおりである混合物を
得た。
得た。
SiO2/Al2O3 = 51 TPA−OH/SiO2 = 0.12 H2O/SiO2 = 23 混合物を60℃において25分間撹拌して透明でかつ緻密
なゲルを得た。このゲルを室温に10時間放置し、ロータ
ーベーパー内において、空気流中で、恒温浴を90℃に維
持して3時間乾燥させ、ついでオーブン内において100
℃で乾燥させた。
なゲルを得た。このゲルを室温に10時間放置し、ロータ
ーベーパー内において、空気流中で、恒温浴を90℃に維
持して3時間乾燥させ、ついでオーブン内において100
℃で乾燥させた。
乾燥させたゲルを、600℃において、窒素流下で3時
間、ついで空気流下で13時間か焼した。
間、ついで空気流下で13時間か焼した。
上述の比SiO2/Al2O3を有し、表面積810m2/g、多孔度
0.44ml/gを有し、直径20Åより大の孔を含有せず、ただ
し孔の平均直径が10Å以下であるシリカ−アルミナゲル
28gを得た。
0.44ml/gを有し、直径20Åより大の孔を含有せず、ただ
し孔の平均直径が10Å以下であるシリカ−アルミナゲル
28gを得た。
比較例 実施例1と同様に操作して、ただし、TPA−OHの代わ
りにテトラメチルアンモニウムヒドロキシド(TMA−O
H)を使用して反応を行った。
りにテトラメチルアンモニウムヒドロキシド(TMA−O
H)を使用して反応を行った。
TESの添加後、下記の各モル比を有する混合物を得
た。
た。
SiO2/Al2O3 =145 TMA−OH/SiO2 = 0.15 H2O/SiO2 = 10 上述の比SiO2/Al2O3を有し、X線分析において完全に
無定形であり、表面積231m2/g、多孔度0.44ml/gを有
し、ただし孔の平均直径が≦10Åから100Åの範囲であ
るシリカ−アルミナゲル29gを得た。
無定形であり、表面積231m2/g、多孔度0.44ml/gを有
し、ただし孔の平均直径が≦10Åから100Åの範囲であ
るシリカ−アルミナゲル29gを得た。
実施例7 実施例1と同様に操作して、ただし、TPA−OHの代わ
りにテトラエチルアンモニウムヒドロキシド(TEA−O
H)を使用して反応を行った。
りにテトラエチルアンモニウムヒドロキシド(TEA−O
H)を使用して反応を行った。
TESの添加後、下記の各モル比を有する混合物を得
た。
た。
SiO2/Al2O3 = 145 TEA−OH/SiO2 = 0.15 H2O/SiO2 = 10 上述の比SiO2/Al2O3を有し、X線分析において完全に
無定形であり、表面積539m2/g、多孔度0.40ml/gを有
し、直径30Åより大の孔を含有せず、ただし孔の平均直
径が10Å以下であるシリカ−アルミナゲルを定量的収率
で得た。
無定形であり、表面積539m2/g、多孔度0.40ml/gを有
し、直径30Åより大の孔を含有せず、ただし孔の平均直
径が10Å以下であるシリカ−アルミナゲルを定量的収率
で得た。
実施例8 実施例1と同様に操作して、ただし、TPA−OHの代わ
りにテトラブチルアンモニウムヒドロキシド(TBA−O
H)を使用して反応を行った。
りにテトラブチルアンモニウムヒドロキシド(TBA−O
H)を使用して反応を行った。
TESの添加後、下記の各モル比を有する混合物を得
た。
た。
SiO2/Al2O3 = 145 TBA−OH/SiO2 = 0.15 H2O/SiO2 = 10 上述の比SiO2/Al2O3を有し、X線分析において完全に
無定形であり、表面積929m2/g、多孔度0.45ml/gを有
し、直径20Åより大の孔を含有せず、ただし孔の平均直
径が10Å以下であるシリカ−アルミナゲル30gを得た。
無定形であり、表面積929m2/g、多孔度0.45ml/gを有
し、直径20Åより大の孔を含有せず、ただし孔の平均直
径が10Å以下であるシリカ−アルミナゲル30gを得た。
実施例9 上記実施例で調製したシリカ−アルミナゲルのいくつ
かを、予じめ20たな段の蒸留塔を使用する蒸留によって
精製した(a)テトラデセンの直鎖異性体混合物、
(b)7−テトラデセン(Aldrich社製の生成物;純度9
8%)、(c)1−オクテンから選ばれる線状オレフィ
ンの二量化反応用の触媒として使用した。
かを、予じめ20たな段の蒸留塔を使用する蒸留によって
精製した(a)テトラデセンの直鎖異性体混合物、
(b)7−テトラデセン(Aldrich社製の生成物;純度9
8%)、(c)1−オクテンから選ばれる線状オレフィ
ンの二量化反応用の触媒として使用した。
詳述すれば、二量化反応を次の操作法に従って実施し
た。すなわち、触媒0.2−0.4g及びオレフィン6mlを小形
のパイレックスガラス製オートクレーブに充填した。混
合物を撹拌しながら、恒温浴により所望の温度に加熱し
た。反応時間の経過後、反応生成物を定量ガスクロマト
グラフィー分析によって分析した。これらの生成物の性
質を質量スペクトル分析によって確認した。次表に、反
応条件を二量体及び三量体の収率(%)と共に報告す
る。残部(%)は原料オレフィンの直鎖異性体で構成さ
れる。
た。すなわち、触媒0.2−0.4g及びオレフィン6mlを小形
のパイレックスガラス製オートクレーブに充填した。混
合物を撹拌しながら、恒温浴により所望の温度に加熱し
た。反応時間の経過後、反応生成物を定量ガスクロマト
グラフィー分析によって分析した。これらの生成物の性
質を質量スペクトル分析によって確認した。次表に、反
応条件を二量体及び三量体の収率(%)と共に報告す
る。残部(%)は原料オレフィンの直鎖異性体で構成さ
れる。
図面は本発明によるシリカ−アルミナゲルのIRスペクト
ルを示すチャートである。
ルを示すチャートである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C07C 5/25 C07C 5/25 11/02 11/02 // C07B 61/00 300 C07B 61/00 300 (72)発明者 ファブリージオ・カバーニ イタリー国モデーナ市ビア・サン・ジョ バンニ・ボスコ 78
Claims (14)
- 【請求項1】X線分析において無定形であり、モル比Si
O2/Al2O3 30/1ないし500/1、表面積500ないし1000m2/
g、孔の総容積0.3ないし0.6ml/g、孔の平均直径10Å以
下を有し、直径30Åより大の孔を含有せず又は実質的に
含有しないシリカ−アルミナゲルであって、(a)テト
ラアルキルアンモニウムヒドロキシド(TAA−OH)(ア
ルキル基はエチル基、n−プロピル基及びn−ブチル基
の中から選ばれるものである)、加水分解によってAl2O
3を生成する可溶性アルミニウム化合物及び加水分解に
よってSiO2を生成する可溶性ケイ素化合物の水溶液であ
って、該水溶液の構成成分の量が下記モル比 SiO2/Al2O3 30/1ないし500/1 TAA−OH/SiO2 0.05/1ないし0.2/1 H2O/SiO2 5/1ないし40/1 を満足するものである水溶液を調製し、(b)得られた
溶液を加熱してゲル化を生ぜしめ、(c)得られたゲル
を乾燥させ、(d)乾燥したゲルを不活性雰囲気におい
て、ついで酸化雰囲気においてか焼することによって得
られたものであることを特徴とする、シリカ−アルミナ
ゲル。 - 【請求項2】請求項1記載のものにおいて、前記工程
(a)で使用する可溶性アルミニウム化合物がアルミニ
ウルトリアルコキシドであり、可溶性ケイ素化合物がテ
トラアルキルシリケートであることを特徴とする、シリ
カ−アルミナゲル。 - 【請求項3】請求項2記載のものにおいて、前記可溶性
アルミニウム化合物がアルミニウムトリ−n−プロポキ
シド又はアルミニウムトリイソプロポキシドであり、前
記可溶性ケイ素化合物がテトラエチルシリケートである
ことを特徴とする、シリカ−アルミナゲル。 - 【請求項4】請求項1記載のものにおいて、前記工程
(a)の溶液中の各成分が、下記モル比 SiO2/Al2O3 50/1ないし300/1 TAA−OH/SiO2 0.05/1ないし0.2/1 H2O/SiO2 10/1ないし25/1 を満足する量で存在することを特徴とする、シリカ−ア
ルミナゲル。 - 【請求項5】請求項1記載のものにおいて、前記工程
(a)における操作を、室温(25−25℃)ないしゲル化
開始温度(約50℃)に近い値の温度で行うことを特徴と
する、シリカ−アルミナゲル。 - 【請求項6】請求項1記載のものにおいて、前記工程
(b)におけるゲルを、温度50ないし70℃、時間15分な
いし5時間で行うことを特徴とする、シリカ−アルミナ
ゲル。 - 【請求項7】請求項6記載のものにおいて、前記ゲル化
を温度60℃、時間25ないし60分で行うことを特徴とす
る、シリカ−アルミナゲル。 - 【請求項8】請求項1記載のものにおいて、前記乾燥工
程(c)を150℃以下の温度で行うことを特徴とする、
シリカ−アルミナゲル。 - 【請求項9】請求項8記載のものにおいて、前記乾燥工
程(c)を温度90ないし100℃で行うことを特徴とす
る、シリカ−アルミナゲル。 - 【請求項10】請求項1記載のものにおいて、前記乾燥
工程(c)をスプレー乾燥法によって行うことを特徴と
する、シリカ−アルミナゲル。 - 【請求項11】請求項1記載のものにおいて、前記か焼
工程(d)を温度500ないし700℃、時間4ないし20時間
で行うことを特徴とする、シリカ−アルミナゲル。 - 【請求項12】請求項11記載のものにおいて、前記か焼
工程(d)を温度約550ないし600℃、時間約6ないし16
時間で行うことを特徴とする、シリカ−アルミナゲル。 - 【請求項13】請求項1−12のいずれか1項に記載のシ
リカ−アルミナゲルを炭化水素の触媒変換反応に使用す
ることを特徴とする、シリカ−アルミナゲルの使用法。 - 【請求項14】請求項13記載の方法において、前記触媒
変換反応が、分子中に炭素原子4ないし15個を含有する
直鎖状オレフィンの二量化反応であることを特徴とす
る、シリカ−アルミナゲルの使用法。
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