JPH01320214A - シリカ―アルミナゲル - Google Patents
シリカ―アルミナゲルInfo
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- JPH01320214A JPH01320214A JP1112374A JP11237489A JPH01320214A JP H01320214 A JPH01320214 A JP H01320214A JP 1112374 A JP1112374 A JP 1112374A JP 11237489 A JP11237489 A JP 11237489A JP H01320214 A JPH01320214 A JP H01320214A
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- C07C2/04—Preparation of hydrocarbons from hydrocarbons containing a smaller number of carbon atoms by addition between unsaturated hydrocarbons by oligomerisation of well-defined unsaturated hydrocarbons without ring formation
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- C07C2/10—Catalytic processes with metal oxides
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- Silicates, Zeolites, And Molecular Sieves (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
ゲル及びその製法に係る。
本発明は、該シリカ−アルミナゲルを炭化水素の変換反
応における触媒としての使用にも係る。
応における触媒としての使用にも係る。
当分野では、吸着等による分離において、又は炭化水素
の各種変換反応における触媒としてゼオライトを使用す
ることが知られている。これらゼオライト(モレキュラ
ーンーブとしても公知)は、結晶性の天然又は合成アル
ミノシリケートである。
の各種変換反応における触媒としてゼオライトを使用す
ることが知られている。これらゼオライト(モレキュラ
ーンーブとしても公知)は、結晶性の天然又は合成アル
ミノシリケートである。
この公知の技術に関して、Kirk−Othmer r
エンサイクロペデア・オブ・ケミカル・テクノロジー(
Encyclopaedia or Chemical
Technology)J第3版,15巻,63L−
669頁における記載を参照する。
エンサイクロペデア・オブ・ケミカル・テクノロジー(
Encyclopaedia or Chemical
Technology)J第3版,15巻,63L−
669頁における記載を参照する。
当分野では、触媒活性が付与されたいくつかの無定形シ
リカ−アルミナゲルが開示されている。
リカ−アルミナゲルが開示されている。
たとえば、ヨーロッパ特許公開第160,145号には
、無定形であって、孔の直径が代表的には50ないし5
00人であり、シリカ/アルミナの比が代表的には1/
lないし10/lであるシリカ−アルミナゲルでなる触
媒を使用する芳香族炭化水素のアルキル化法が開示され
ている。さらに、M.R.S.Manton及びJ.C
.Davidtzは、「ジャーナル・才ブ・キャタリソ
ス(Journal of Catalysis)J
60, 156−166(1979)において、制御さ
れた孔容積を有し、直径3、7ないし15ix(37な
いし150人)の孔を有するシリカ/アルミナ無定形触
媒の合成法を開示している。
、無定形であって、孔の直径が代表的には50ないし5
00人であり、シリカ/アルミナの比が代表的には1/
lないし10/lであるシリカ−アルミナゲルでなる触
媒を使用する芳香族炭化水素のアルキル化法が開示され
ている。さらに、M.R.S.Manton及びJ.C
.Davidtzは、「ジャーナル・才ブ・キャタリソ
ス(Journal of Catalysis)J
60, 156−166(1979)において、制御さ
れた孔容積を有し、直径3、7ないし15ix(37な
いし150人)の孔を有するシリカ/アルミナ無定形触
媒の合成法を開示している。
発明者らは、X線分析において無定形であり、炭化水素
の変換法において目的反応生成物に対する極めて良好な
選択率を示す細孔性の触媒活性シリカ−アルミナゲルを
新たに見出し、本発明に至った。
の変換法において目的反応生成物に対する極めて良好な
選択率を示す細孔性の触媒活性シリカ−アルミナゲルを
新たに見出し、本発明に至った。
これによれば、本発明は、X線分析において無定形であ
り、モル比SiO,/Aム0. 30/ 1ないし50
0/ 1 、表面積500ないしio00m’/9、孔
の総容積0、3ないし0 、 6ml/g、孔の平均直
径10Å以下を有し、直径30人より大の孔を含有せず
又は実質的に含有しないシリカ−アルミナゲルであって
、(a)テトラアルキルアンモニウムヒドロキンド(T
AA−OH)(アルキル基はエチル基、n−プロピル基
及びn−ブチル基の中から選ばれるものである)、加水
分解によってA12203を生成する可溶性アルミニウ
ム化合物及び加水分解によって5iOzを生成する可溶
性ケイ素化合物の水溶液であって、該水溶液の構成成分
の量が下記モル比 5ift/ ALOa 、 30/ lないし50
0/ ITAA−01i/Si0. 0.05/Iない
し0.2/ IH!O/ 5lO= 5 / I
ないし40/1を満足するものである水溶液を調製し、
(b)得られた溶液を加熱してゲル化を生ぜしめ、(c
)得られたゲルを乾燥させ、(d)乾燥したゲルを不活
性雰囲気において、ついで酸化雰囲気においてか焼する
ことによって得られたものであることを特徴とするノリ
カーアルミナゲルに係る。
り、モル比SiO,/Aム0. 30/ 1ないし50
0/ 1 、表面積500ないしio00m’/9、孔
の総容積0、3ないし0 、 6ml/g、孔の平均直
径10Å以下を有し、直径30人より大の孔を含有せず
又は実質的に含有しないシリカ−アルミナゲルであって
、(a)テトラアルキルアンモニウムヒドロキンド(T
AA−OH)(アルキル基はエチル基、n−プロピル基
及びn−ブチル基の中から選ばれるものである)、加水
分解によってA12203を生成する可溶性アルミニウ
ム化合物及び加水分解によって5iOzを生成する可溶
性ケイ素化合物の水溶液であって、該水溶液の構成成分
の量が下記モル比 5ift/ ALOa 、 30/ lないし50
0/ ITAA−01i/Si0. 0.05/Iない
し0.2/ IH!O/ 5lO= 5 / I
ないし40/1を満足するものである水溶液を調製し、
(b)得られた溶液を加熱してゲル化を生ぜしめ、(c
)得られたゲルを乾燥させ、(d)乾燥したゲルを不活
性雰囲気において、ついで酸化雰囲気においてか焼する
ことによって得られたものであることを特徴とするノリ
カーアルミナゲルに係る。
本発明による化合物の合成における工程(a)に当たり
、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラ−n
−プロピルアンモニウムヒドロキシド又はテトラ−n−
プチルアンモニウムヒドロキンドを使用することは必須
の要件である。事実、テトラエチルアンモニウムヒドロ
キシドの如き類似のアンモニウム化合物を使用する場合
には、中間孔(mesopore) (孔サイズ30人
上り大)を有し、触媒活性の無い又は触媒活性に乏しい
シリカ−アルミナゲルが生成することになる。
、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラ−n
−プロピルアンモニウムヒドロキシド又はテトラ−n−
プチルアンモニウムヒドロキンドを使用することは必須
の要件である。事実、テトラエチルアンモニウムヒドロ
キシドの如き類似のアンモニウム化合物を使用する場合
には、中間孔(mesopore) (孔サイズ30人
上り大)を有し、触媒活性の無い又は触媒活性に乏しい
シリカ−アルミナゲルが生成することになる。
前記工程(a)において使用できる好適な可溶性アルミ
ニウム化合物は、たとえばアルミニウムトリ−n−プロ
ポキシド及びアルミニウムトリイソプロポキシドの如き
アルミニウムトリアルコキシドである。
ニウム化合物は、たとえばアルミニウムトリ−n−プロ
ポキシド及びアルミニウムトリイソプロポキシドの如き
アルミニウムトリアルコキシドである。
一方、前記工程(a)において使用できる好適な可溶性
ケイ素化合物は、たとえばテトラエチルシリケートの如
きテトラアルキルシリケートである。
ケイ素化合物は、たとえばテトラエチルシリケートの如
きテトラアルキルシリケートである。
該工程(a)は、室温(20−25℃)、又は室温以上
、ゲル化開始温度(約50℃)に近い温度以下で行われ
る。
、ゲル化開始温度(約50℃)に近い温度以下で行われ
る。
工程(a)における溶液の構成成分の添加順序は問題に
はならない。
はならない。
しかしながら、初めにテトラアルキルアンモニウムヒド
ロキシド及び可溶性アルミニウム化合物を含有する水溶
液を調製し、ついで該溶液に可溶性ケイ素化合物を添加
することが好適である。
ロキシド及び可溶性アルミニウム化合物を含有する水溶
液を調製し、ついで該溶液に可溶性ケイ素化合物を添加
することが好適である。
いずれにしてら、得られた溶液において下記のモル比が
満足されなければならない。
満足されなければならない。
S+Ot/Δρ、0. 30/ 1ないし500/
ITAA o++、/5io2 0.05/ lない
し02/IH,O/ 5in25 / Iないし40/
I該モル比について好適な値は次のとおりである。
ITAA o++、/5io2 0.05/ lない
し02/IH,O/ 5in25 / Iないし40/
I該モル比について好適な値は次のとおりである。
SiO,/AC20350/ Iないし300/ IT
AA OH/ 5hot 0.05/ Iないし0
.2/111.0/Si0. 10/ Iないし2
5/1工程(b)におけるゲル化は、溶液を温度50な
いし70℃1好ましくは約60℃に加熱することによっ
て行われる。ゲル化を完了させるために必要な時間は、
温度、濃度又は他のパラメータに左右され、通常15分
ないし5時間であり、代表的には25分ないし60分で
ある。溶液を単に加熱することによってゲル化できるこ
とは重要である。
AA OH/ 5hot 0.05/ Iないし0
.2/111.0/Si0. 10/ Iないし2
5/1工程(b)におけるゲル化は、溶液を温度50な
いし70℃1好ましくは約60℃に加熱することによっ
て行われる。ゲル化を完了させるために必要な時間は、
温度、濃度又は他のパラメータに左右され、通常15分
ないし5時間であり、代表的には25分ないし60分で
ある。溶液を単に加熱することによってゲル化できるこ
とは重要である。
事実、従来技術の場合のように酸性条件下で操作を行う
場合には、特に多孔度及び孔サイズの分布に関して望ま
しくない特性を有するシリカ−アルミナゲルが得られる
。
場合には、特に多孔度及び孔サイズの分布に関して望ま
しくない特性を有するシリカ−アルミナゲルが得られる
。
上述の如くして得られたゲルを、本発明に従い、工程(
c)において乾燥処理する。かかる乾燥処理は、約15
0℃以下、好ましくは90−100’Cの温度、完全に
又は実質的に完全に水を除去するに充分な時間で行なわ
れる。
c)において乾燥処理する。かかる乾燥処理は、約15
0℃以下、好ましくは90−100’Cの温度、完全に
又は実質的に完全に水を除去するに充分な時間で行なわ
れる。
本発明の好適なl具体例によれば、乾燥工程(c)はス
プレー乾燥法によって実施される。この場合、ゲルを滴
として噴出させ、不活性ガスと接触させるスプレー乾燥
装置を使用でき、ガス入口温度230−250℃、ガス
出口温度140−160℃で作動させる。
プレー乾燥法によって実施される。この場合、ゲルを滴
として噴出させ、不活性ガスと接触させるスプレー乾燥
装置を使用でき、ガス入口温度230−250℃、ガス
出口温度140−160℃で作動させる。
いずれの場合にも、乾燥したゲルを工程(d)において
か焼処理する。かかる処理は、まず不活性雰囲気(たと
えば窒素中)で、ついで酸化雰囲気(たとえば空気中)
で行われる。か焼温度は500ないし700℃、好まし
くは550−600℃である。か焼時間は4ないし20
時間、代表的には6−16時間である。
か焼処理する。かかる処理は、まず不活性雰囲気(たと
えば窒素中)で、ついで酸化雰囲気(たとえば空気中)
で行われる。か焼温度は500ないし700℃、好まし
くは550−600℃である。か焼時間は4ないし20
時間、代表的には6−16時間である。
このようにして、本発明のシリカ−アルミナゲルが得ら
れるが、かかるゲルは、X線分析において完全に無定形
の構造を示し、初めに充填したケイ素及びアルミニウム
の化合物に由来するものと同じ5ift/^Q、03比
(30/1ないし50Q/ l 、好ましくは50/1
ないし300/ 1 )を示す。
れるが、かかるゲルは、X線分析において完全に無定形
の構造を示し、初めに充填したケイ素及びアルミニウム
の化合物に由来するものと同じ5ift/^Q、03比
(30/1ないし50Q/ l 、好ましくは50/1
ないし300/ 1 )を示す。
該シリカ−アルミナゲルは、大きい表面積(比表面積の
値(BET測定法)は500ないしtoooz”/9で
ある)を有する。孔の総容積は0.3ないし0.6xQ
/gである。孔はミクロ孔の範囲のサイズを有し、平均
直径は10Å以下であり、サイズ分布は狭い。特に、3
0人より大の直径を有する孔は存在しないか、又は実質
的に存在せず、一般に、20人より大の直径を有する孔
は存在しない。
値(BET測定法)は500ないしtoooz”/9で
ある)を有する。孔の総容積は0.3ないし0.6xQ
/gである。孔はミクロ孔の範囲のサイズを有し、平均
直径は10Å以下であり、サイズ分布は狭い。特に、3
0人より大の直径を有する孔は存在しないか、又は実質
的に存在せず、一般に、20人より大の直径を有する孔
は存在しない。
本発明によるシリカ−アルミナゲルは、炭化水素の変換
反応において触媒として活性である。使用し際して、該
ゲルはそのままで、又は結合剤として作用する好適な金
属酸化物と組合せて使用される。かかる目的に使用され
る好適な酸化物は、シリカ、アルミナ及びチタン、マン
ガン及びジルコニウムの酸化物である。ノリカーアルミ
ナゲル及び結合剤を、約50 : 50ないし95;5
、好ましくは70:30ないし90:10の重量比で混
合できる。2つの成分を常法の混合法によって混合でき
、得られたブレンドを圧縮して、たとえば押出し成形物
又は粒状の如き所望の最終形状とすることができる。
反応において触媒として活性である。使用し際して、該
ゲルはそのままで、又は結合剤として作用する好適な金
属酸化物と組合せて使用される。かかる目的に使用され
る好適な酸化物は、シリカ、アルミナ及びチタン、マン
ガン及びジルコニウムの酸化物である。ノリカーアルミ
ナゲル及び結合剤を、約50 : 50ないし95;5
、好ましくは70:30ないし90:10の重量比で混
合できる。2つの成分を常法の混合法によって混合でき
、得られたブレンドを圧縮して、たとえば押出し成形物
又は粒状の如き所望の最終形状とすることができる。
このように操作することによって、触媒に良好な機械特
性を付与できる。
性を付与できる。
本発明によるシリカ−アルミナゲルが触媒作用を発揮す
る反応としては、オレフィン、特に炭素原子4ないし1
5個の鎖長の線状オレフィンの二重化反応、異性化(た
とえばブテンの異性化)、炭化水素のオレフィンによる
アルキル化、脱ワツクス化がある。これらの反応におい
て、本発明による触媒は良好な活性を示し、中でも所望
の反応生成物に対する高い選択率を示す。
る反応としては、オレフィン、特に炭素原子4ないし1
5個の鎖長の線状オレフィンの二重化反応、異性化(た
とえばブテンの異性化)、炭化水素のオレフィンによる
アルキル化、脱ワツクス化がある。これらの反応におい
て、本発明による触媒は良好な活性を示し、中でも所望
の反応生成物に対する高い選択率を示す。
以下の実施例は本発明を説明するためのものである。
実施例1
30.6重量%のテトラ−n−プロビルアンモニウムヒ
ドロキンド(TPA−Of()50gにアルミニウムト
リプロポキシド[^(1(On C3H7)3コ1.
4gを溶解させ、つづいて脱塩水569を添加した。
ドロキンド(TPA−Of()50gにアルミニウムト
リプロポキシド[^(1(On C3H7)3コ1.
4gを溶解させ、つづいて脱塩水569を添加した。
これらの操作を室温(約20℃)で行った。
得られた溶液を60℃まで加熱し、撹拌しながら、テト
ラエヂルシリケート(TBS) (l O49)を添加
した。
ラエヂルシリケート(TBS) (l O49)を添加
した。
得られた混合物は、下記のモル比を有する。
SiO*/AQ−0−= 145/ITPA OH
/5iOz = 0.15/1)1.0/5iOt
= 10/1 混合物を60℃で撹拌し、30分後、均質なゲルを得た
。得られたゲルを、ローターベーパー内、空気流中にお
いて、恒温浴を温度90℃に推持して乾燥させ、ついで
オーブン内、100℃において乾燥させた。
/5iOz = 0.15/1)1.0/5iOt
= 10/1 混合物を60℃で撹拌し、30分後、均質なゲルを得た
。得られたゲルを、ローターベーパー内、空気流中にお
いて、恒温浴を温度90℃に推持して乾燥させ、ついで
オーブン内、100℃において乾燥させた。
乾燥したゲルを、600℃において、窒素流下で3時間
、ついで空気流下で10時間か焼した。
、ついで空気流下で10時間か焼した。
初期充填ケイ素及びアルミニウムに関して定量的収率で
シリカ−アルミナゲル3hが得られた。
シリカ−アルミナゲル3hが得られた。
化学分析により、5iOz/ A(2tOsのモル比が
反応体充填後の反応混合物のものと同じであることを確
認した。
反応体充填後の反応混合物のものと同じであることを確
認した。
粉末X線回折(CuKα線を使用する縦形Ph1lli
psゴニオメータ−による)によって、ノリカーアルミ
ナゲルが完全に無定形であることを確認した。
psゴニオメータ−による)によって、ノリカーアルミ
ナゲルが完全に無定形であることを確認した。
ゲルのIRスペクトル(Perkin E1mer社製
の分光計FTIR−1730により測定)を添付図面に
示す。
の分光計FTIR−1730により測定)を添付図面に
示す。
該ゲルの表面積(Carlo Erba社製のSorp
tomat 1c1800によって測定)は800m”
7gであった。
tomat 1c1800によって測定)は800m”
7gであった。
ゲルの多孔度は0,44RQ/9であり、直径20人よ
り大の孔は存在せず、孔の平均直径は10Å以下であっ
た。なお、孔に関する測定値はCarlo Erba社
製のSorptomatic 1800によって求めた
ものである。
り大の孔は存在せず、孔の平均直径は10Å以下であっ
た。なお、孔に関する測定値はCarlo Erba社
製のSorptomatic 1800によって求めた
ものである。
実施例2
30重量%のTPA−OH219にアルミニウムトリプ
ロポキシド29を添加し、溶解後、脱塩水859を添加
した。
ロポキシド29を添加し、溶解後、脱塩水859を添加
した。
このようにして得られた溶液を20℃から60℃まで加
熱し、ついでTBS 104gを添加した。
熱し、ついでTBS 104gを添加した。
得られた混合物における各モル比の値は次のとおりであ
る。
る。
S+Ot/八LChへ = 102TP
A oi+、/ Stow = 0.08H2
0/SiO,−11,5 透明でかつ緻密なゲルが得られるまで(所要時間は約3
0分である)、混合物を60℃で撹拌し、得られたゲル
をまずローターベーパー内で、ついでオーブン内におい
て100℃で1時間乾燥させた。
A oi+、/ Stow = 0.08H2
0/SiO,−11,5 透明でかつ緻密なゲルが得られるまで(所要時間は約3
0分である)、混合物を60℃で撹拌し、得られたゲル
をまずローターベーパー内で、ついでオーブン内におい
て100℃で1時間乾燥させた。
その後、550℃において、窒素流下で1時間、ついで
空気流下でさらに5時間か焼を行った。
空気流下でさらに5時間か焼を行った。
」一連の比SlO,/ AQtOsを有し、X線分析に
おいて完全に無定形であり、表面積658jI″/9(
ただし、多孔度0.46mQ/9であり、直径20人よ
り大の孔は存在せず、孔の平均直径は10Å以下である
)を有するシリカ−アルミナゲル279を得た。
おいて完全に無定形であり、表面積658jI″/9(
ただし、多孔度0.46mQ/9であり、直径20人よ
り大の孔は存在せず、孔の平均直径は10Å以下である
)を有するシリカ−アルミナゲル279を得た。
実施例3
室温(約20’C)で操作して、25重量%のTF’八
−0H4059中にアルミニウムトリプロポキシド2g
を溶解させ、ついで脱塩水146gを添加することによ
って透明な溶液を調製した。
−0H4059中にアルミニウムトリプロポキシド2g
を溶解させ、ついで脱塩水146gを添加することによ
って透明な溶液を調製した。
溶液を60℃まで加熱し、ついでTES 1049を添
加した。これにより、各モル比か下記のとおりである混
合物を得た。
加した。これにより、各モル比か下記のとおりである混
合物を得た。
5iOt/A(!to3= 102
TPA OH/ Sto!= O,LO+f、O/
5iOt= 21 混合物を60℃において1時間撹拌して均質なゲルを得
た。このゲルを室温(約20℃)に50時間放置し、ロ
ーターペーパー内において、大気圧下、わずかに流動す
る空気流中で、恒温浴を90℃に維持して乾燥させた。
5iOt= 21 混合物を60℃において1時間撹拌して均質なゲルを得
た。このゲルを室温(約20℃)に50時間放置し、ロ
ーターペーパー内において、大気圧下、わずかに流動す
る空気流中で、恒温浴を90℃に維持して乾燥させた。
最後に、ゲルを150℃で1時間乾燥させ、550℃、
窒素流下で3時間、ついで600℃、空気流下で13時
間か焼した。
窒素流下で3時間、ついで600℃、空気流下で13時
間か焼した。
上述の比5ift/^Q、03を有し、X線分析におい
て完全に無定形であり、表面積160m”7g、多孔度
0.44MQ/9を有し、直径20人より大の孔を含有
せず、ただし孔の平均直径が10Å以下であるシリカ−
アルミナゲル309を得た。
て完全に無定形であり、表面積160m”7g、多孔度
0.44MQ/9を有し、直径20人より大の孔を含有
せず、ただし孔の平均直径が10Å以下であるシリカ−
アルミナゲル309を得た。
実施例4
室in (約20℃)で操作して、30重量%のTPA
−OH51g中にアルミニウムトリプロポキシド2gを
溶解させ、ついで脱塩水180.0gを添加した。
−OH51g中にアルミニウムトリプロポキシド2gを
溶解させ、ついで脱塩水180.0gを添加した。
溶液を60℃まで加熱し、ついでTES 104.2g
ヲ添加した。これにより、各モル比が下記のとおりであ
る混合物を得た。
ヲ添加した。これにより、各モル比が下記のとおりであ
る混合物を得た。
SiO2/Al2tO* = 102TPA
OH/5hot = 0.15H=O/ 5102
= 24混合物を60℃において4時間撹拌
し、室温(約20℃)に11日間放置し、流速4.5R
QCゲル)7分において、乾燥機に導入するガスが入口
温度240℃及び出口温度150℃を有するように調節
してスプレー乾燥させた。乾燥させたゲルを、550℃
において、窒素流下で1時間、ついで空気流下で5時間
か焼した。
OH/5hot = 0.15H=O/ 5102
= 24混合物を60℃において4時間撹拌
し、室温(約20℃)に11日間放置し、流速4.5R
QCゲル)7分において、乾燥機に導入するガスが入口
温度240℃及び出口温度150℃を有するように調節
してスプレー乾燥させた。乾燥させたゲルを、550℃
において、窒素流下で1時間、ついで空気流下で5時間
か焼した。
上述の比5t02/ A(2203を有し、X線分析に
おいて完全に無定形であり、表面積541.w”/9、
多孔度0.47mQ/9を有し、直径20人より大の孔
を含有せず、ただし孔の平均直径が10Å以下であるシ
リカ−アルミナゲル29gを得た。
おいて完全に無定形であり、表面積541.w”/9、
多孔度0.47mQ/9を有し、直径20人より大の孔
を含有せず、ただし孔の平均直径が10Å以下であるシ
リカ−アルミナゲル29gを得た。
X施例5
室/A(約20℃)で操作して、30.6重量%のTP
A−OH50g中にアルミニウムトリプロポキシド0゜
68gを溶解させた。この溶液に脱塩水569を添加し
、50℃まで加熱した後、TES 1049を添加した
。
A−OH50g中にアルミニウムトリプロポキシド0゜
68gを溶解させた。この溶液に脱塩水569を添加し
、50℃まで加熱した後、TES 1049を添加した
。
これにより、各モル比が下記のとおりである混合物を得
た。
た。
5iOt/A(!to3= 300
TPA−OH/Sin、 = 0.15HtO/S
+Ot = 10 混合物を50℃において1.5時間撹拌して透明でかつ
緻密なゲルを得た。このゲルをまずローターベーパー内
において、恒温80℃で3時間、ついでオーブン内にお
いて120℃で1時間乾燥させた。
+Ot = 10 混合物を50℃において1.5時間撹拌して透明でかつ
緻密なゲルを得た。このゲルをまずローターベーパー内
において、恒温80℃で3時間、ついでオーブン内にお
いて120℃で1時間乾燥させた。
最後に、乾燥させたゲルを600℃おいて、窒素流下で
3時間、ついで空気流下で7時間か焼した。
3時間、ついで空気流下で7時間か焼した。
上述の比5hot/ IQtO+を有し、X線分析にお
いて完全に無定形であり、表面積974m”/9、多孔
度0.4511Q/9を有し、直径20人より大の孔を
含有せず、ただし孔の平均直径が10Å以下であるシリ
カ−アルミナゲル309を得た。
いて完全に無定形であり、表面積974m”/9、多孔
度0.4511Q/9を有し、直径20人より大の孔を
含有せず、ただし孔の平均直径が10Å以下であるシリ
カ−アルミナゲル309を得た。
実施例6
室温(約20℃)で操作して、25重量%のTPA−O
H4859中にアルミニウムトリプロポキシド49を溶
解させた。この溶液に水170gを添加し、60℃まで
加熱した後、TES to4gを添加した。
H4859中にアルミニウムトリプロポキシド49を溶
解させた。この溶液に水170gを添加し、60℃まで
加熱した後、TES to4gを添加した。
これにより、各モル比が下記のとおりである混合物を得
た。
た。
Slow/A(!20a = 51TPA −O
H/ Sin、 = 0.12H,O/SiO,=
23 混合物を60℃において25分間撹拌して透明でかつ緻
密なゲルを得た。このゲルを室温に10時間放置し、ロ
ーターペーパー内において、空気流中で、恒温浴を90
℃に維持して3時間乾燥させ、ついでオーブン内におい
て100℃で乾燥させた。
H/ Sin、 = 0.12H,O/SiO,=
23 混合物を60℃において25分間撹拌して透明でかつ緻
密なゲルを得た。このゲルを室温に10時間放置し、ロ
ーターペーパー内において、空気流中で、恒温浴を90
℃に維持して3時間乾燥させ、ついでオーブン内におい
て100℃で乾燥させた。
乾燥させたゲルを、600℃において、窒素流下で3時
間、ついで空気流下で13時間か焼した。
間、ついで空気流下で13時間か焼した。
上述の比5ift/ Acto3を有し、表面積810
j!2/9、多孔度Q、44RQ19を有し、直径20
人より大の孔を含有せず、ただし孔の平均直径が10Å
以下であるシリカ−アルミナゲル289を得た。
j!2/9、多孔度Q、44RQ19を有し、直径20
人より大の孔を含有せず、ただし孔の平均直径が10Å
以下であるシリカ−アルミナゲル289を得た。
比較例
実施例1と同様に操作して、ただし、TPA−OHの代
わりにテトラエチルアンモニウムヒドロキシド(TMΔ
−0H)を使用して反応を行った。
わりにテトラエチルアンモニウムヒドロキシド(TMΔ
−0H)を使用して反応を行った。
TBSの添加後、下記の各モル比を有する混合物を得た
。
。
5iOJA(2203= 145
TMA OH/5102 = 0.15H,O/
SiO,” 10 上述の比5ift/ A(hchを有し、X線分析にお
いて完全に無定形であり、表面積231 、w ” /
9、多孔度0.44ttrQ/9を有し、ただし孔の
平均直径が610人から100人の範囲であるシリカ−
アルミナゲル29gを得た。
SiO,” 10 上述の比5ift/ A(hchを有し、X線分析にお
いて完全に無定形であり、表面積231 、w ” /
9、多孔度0.44ttrQ/9を有し、ただし孔の
平均直径が610人から100人の範囲であるシリカ−
アルミナゲル29gを得た。
実施例7
実施例1と同様に操作して、ただし、TPA−OHの代
わりにテトラエチルアンモニウムヒドロキシド(TEA
−OH)を使用して反応を行った。
わりにテトラエチルアンモニウムヒドロキシド(TEA
−OH)を使用して反応を行った。
TBSの添加後、下記の各モル比を有する混合物を得た
。
。
5ift/八QtO3= 145TEA −OH
/ Sin、−0,15HtO/5iot =
10 上述の比5ide/ A(lto3を有し、X線分析に
おいて完全に無定形であり、表面積539z″/9、多
孔度0.40x(1/9を有し、直径30人より大の孔
を含有せず、ただし孔の平均直径が10Å以下であるシ
リカ−アルミナゲルを定量的収率で得た。
/ Sin、−0,15HtO/5iot =
10 上述の比5ide/ A(lto3を有し、X線分析に
おいて完全に無定形であり、表面積539z″/9、多
孔度0.40x(1/9を有し、直径30人より大の孔
を含有せず、ただし孔の平均直径が10Å以下であるシ
リカ−アルミナゲルを定量的収率で得た。
実施例8
実施例1と同様に操作して、ただし、TPA−OHの代
わりにテトラエチルアンモニウムヒドロキシド(TBA
−OH)を使用して反応を行った。
わりにテトラエチルアンモニウムヒドロキシド(TBA
−OH)を使用して反応を行った。
TBSの添加後、下記の各モル比を有する混合物を得た
。
。
5iOz/八σtos = 145TBA
OH/5iOz = O,L5uto/5ho
t = t。
OH/5iOz = O,L5uto/5ho
t = t。
上述の比5iOt/AffitO*を有し、X線分析に
おいて完全に無定形であり、表面積929J12/g、
多孔度0.4釦り7gを有し、直径20人より大の孔を
含有せず、ただし孔の平均直径が10Å以下であるシリ
カ−アルミナゲル30gを得た。
おいて完全に無定形であり、表面積929J12/g、
多孔度0.4釦り7gを有し、直径20人より大の孔を
含有せず、ただし孔の平均直径が10Å以下であるシリ
カ−アルミナゲル30gを得た。
実施例9
上記実施例で調製したシリカ−アルミナゲルのいくつか
を、予じめ20たな段の蒸留塔を使用する蒸留によって
精製した(a)テトラデセンの直鎖異性体混合物、(b
)7−テトラデセン(Aldrich社製の生成物;純
度98%)、(c)1−オクテンから選ばれる線状オレ
フィンの二重化反応用の触媒として使用した。
を、予じめ20たな段の蒸留塔を使用する蒸留によって
精製した(a)テトラデセンの直鎖異性体混合物、(b
)7−テトラデセン(Aldrich社製の生成物;純
度98%)、(c)1−オクテンから選ばれる線状オレ
フィンの二重化反応用の触媒として使用した。
詳述すれば、二m化反応を次の操作法に従って実施した
。すなわち、触媒0.2−0.49及びオレフィン8v
tQを小形のパイレックスガラス製オートクレーブに充
項した。混合物を撹拌しながら、恒温浴により所望の温
度に加熱した。反応時間の経過後、反応生成物を定量ガ
スクロマトグラフィー分析によって分析した。これらの
生成物の性質を質1スペクトル分析によって確認した。
。すなわち、触媒0.2−0.49及びオレフィン8v
tQを小形のパイレックスガラス製オートクレーブに充
項した。混合物を撹拌しながら、恒温浴により所望の温
度に加熱した。反応時間の経過後、反応生成物を定量ガ
スクロマトグラフィー分析によって分析した。これらの
生成物の性質を質1スペクトル分析によって確認した。
次表に、反応条件を二重体及び三量体の収率(%ンと共
に報告する。
に報告する。
残部(%)は原料オレフィンの直鎖異性体で構成される
。
。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 X線分析において無定形であり、モル比SiO_2
/Al_2O_3 30/1ないし500/1、表面積
500ないし1000m^2/g、孔の総容積0.3な
いし0.6ml/g、孔の平均直径10Å以下を有し、
直径30Åより大の孔を含有せず又は実質的に含有しな
いシリカ−アルミナゲルであって、 (a)テトラアルキルアンモニウムヒドロキシド(TA
A−OH)(アルキル基はエチル基、n−プロピル基及
びn−ブチル基の中から選ばれるものである)、加水分
解によってAl_2O_3を生成する可溶性アルミニウ
ム化合物及び加水分解によってSiO_2を生成する可
溶性ケイ素化合物の水溶液であって、該水溶液の構成成
分の量が下記モル比 SiO_2/Al_2O_3 30/1ないし500/
1TAA−OH/SiO_2 0.05/1ないし0.
2/1H_2O/SiO_2 5/1ないし40/1を
満足するものである水溶液を調製し、 (b)得られた溶液を加熱してゲル化を生ぜしめ、 (c)得られたゲルを乾燥させ、 (d)乾燥したゲルを不活性雰囲気において、ついで酸
化雰囲気においてか焼することによって得られたもので
あることを特徴とする、シリカ−アルミナゲル。 2 請求項1記載のものにおいて、前記工程(a)で使
用する可溶性アルミニウム化合物がアルミニウムトリア
ルコキシドであり、可溶性ケイ素化合物がテトラアルキ
ルシリケートであることを特徴とする、シリカ−アルミ
ナゲル。 3 請求項2記載のものにおいて、前記可溶性アルミニ
ウム化合物がアルミニウムトリ−n−プロポキシド又は
アルミニウムトリイソプロポキシドであり、前記可溶性
ケイ素化合物がテトラエチルシリケートであることを特
徴とする、シリカ−アルミナゲル。 4 請求項1記載のものにおいて、前記工程(a)の溶
液中の各成分が、下記モル比 SiO_2/Al_2O_3 50/1ないし300/
1TAA−OH/SiO_2 0.05/1ないし0.
2/1H_2O/SiO_2 10/1ないし25/1
を満足する量で存在することを特徴とする、シリカ−ア
ルミナゲル。 5 請求項1記載のものにおいて、前記工程(a)にお
ける操作を、室温(25−25℃)ないしゲル化開始温
度(約50℃)に近い値の温度で行うことを特徴とする
、シリカ−アルミナゲル。 6 請求項1記載のものにおいて、前記工程(b)にお
けるゲル化を、温度50ないし70℃、時間15分ない
し5時間で行うことを特徴とする、シリカ−アルミナゲ
ル。 7 請求項6記載のものにおいて、前記ゲル化を温度6
0℃、時間25ないし60分で行うことを特徴とする、
シリカ−アルミナゲル。 8 請求項1記載のものにおいて、前記乾燥工程(c)
を150℃以下の温度で行うことを特徴とする、シリカ
−アルミナゲル。 9 請求項8記載のものにおいて、前記乾燥工程(c)
を温度90ないし100℃で行うことを特徴とする、シ
リカ−アルミナゲル。 10 請求項1記載のものにおいて、前記乾燥工程(c
)をスプレー乾燥法によって行うことを特徴とする、シ
リカ−アルミナゲル。 11 請求項1記載のものにおいて、前記か焼工程(d
)を温度500ないし700℃、時間4ないし20時間
で行うことを特徴とする、シリカ−アルミナゲル。 12 請求項11記載のものにおいて、前記か焼工程(
d)を温度約550ないし600℃、時間約6ないし1
6時間で行うことを特徴とする、シリカ−アルミナゲル
。 13 請求項1−12のいずれか1項に記載のシリカ−
アルミナゲルを炭化水素の触媒変換反応に使用すること
を特徴とする、シリカ−アルミナゲルの使用法。 14 請求項13記載の方法において、前記触媒変換反
応が、分子中に炭素原子4ないし15個を含有する直鎖
状オレフィンの二量化反応であることを特徴とする、シ
リカ−アルミナゲルの使用法。
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