JP2778046B2 - 歯磨組成物 - Google Patents
歯磨組成物Info
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Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、アニオン界面活性剤の存在下において、α
−ビサボロール，グリチルレチン酸及びその誘導体，コ
レステロール及びその誘導体，ヒドロキサム酸及びその
誘導体，イソプロピルメチルフェノール類並びにヒノキ
チオールの経時的な残存率の低下を可及的に防止した歯
磨組成物に関する。
−ビサボロール，グリチルレチン酸及びその誘導体，コ
レステロール及びその誘導体，ヒドロキサム酸及びその
誘導体，イソプロピルメチルフェノール類並びにヒノキ
チオールの経時的な残存率の低下を可及的に防止した歯
磨組成物に関する。
従来の技術及び発明が解決しようとする課題 従来より、歯磨組成物の容器としては、気密性および
押し出し性の良好なアルミニウム箔をラミネートした積
層フィルムが一般的に使用されている。この積層フィル
ムは、その最内層が低密度ポリエチレンにて形成され、
該フィルムにて形成した容器に歯磨組成物を収容した場
合、歯磨組成物が最内層の低密度ポリエチレンと接する
ようになっている。
押し出し性の良好なアルミニウム箔をラミネートした積
層フィルムが一般的に使用されている。この積層フィル
ムは、その最内層が低密度ポリエチレンにて形成され、
該フィルムにて形成した容器に歯磨組成物を収容した場
合、歯磨組成物が最内層の低密度ポリエチレンと接する
ようになっている。
しかしながら、本発明者らの検討によると、かかる低
密度ポリエチレンを最内層とする容器にアニオン界面活
性剤と、α−ビサボロール，グリチルレチン酸及びその
誘導体，コレステロール及びその誘導体，ヒドロキサム
酸及びその誘導体，イソプロピルメチルフェノール類，
ヒノキチオールといった非水溶性有効成分とを含む歯磨
組成物を収容した場合、これら有効成分が低密度ポリエ
チレンに吸着，吸収し、長期保存中にこれら有効成分が
減少するという問題が生じることを知見した。
密度ポリエチレンを最内層とする容器にアニオン界面活
性剤と、α−ビサボロール，グリチルレチン酸及びその
誘導体，コレステロール及びその誘導体，ヒドロキサム
酸及びその誘導体，イソプロピルメチルフェノール類，
ヒノキチオールといった非水溶性有効成分とを含む歯磨
組成物を収容した場合、これら有効成分が低密度ポリエ
チレンに吸着，吸収し、長期保存中にこれら有効成分が
減少するという問題が生じることを知見した。
この場合、アニオン界面活性剤を配合しない系ではか
かる問題は生じず、上記有効成分は低密度ポリエチレン
を最内層とする容器中に安定に保持されるが、アニオン
界面活性剤は通常歯磨にとって必須成分であり、アニオ
ン界面活性剤を除くことは問題の解決にならない。
かる問題は生じず、上記有効成分は低密度ポリエチレン
を最内層とする容器中に安定に保持されるが、アニオン
界面活性剤は通常歯磨にとって必須成分であり、アニオ
ン界面活性剤を除くことは問題の解決にならない。
なお、従来より歯磨をプラスチック容器に収容する場
合の問題を解決するための手段として種々の方法が提案
されている（特公昭56−11685号，同62−40326号，同63
−2529号，特開昭62−149671号，同62−161715号公報）
が、上述した有効成分の安定性を保持することについて
は提案がない。
合の問題を解決するための手段として種々の方法が提案
されている（特公昭56−11685号，同62−40326号，同63
−2529号，特開昭62−149671号，同62−161715号公報）
が、上述した有効成分の安定性を保持することについて
は提案がない。
課題を解決するための手段及び作用 本発明者らは、上記事情に鑑み、アニオン界面活性剤
と、α−ビサボロール，グリチルレチン酸及びその誘導
体，コレステロール及びその誘導体，ヒドロキサム酸及
びその誘導体，イソプロピルメチルフェノール類並びに
ヒノキチオールから選ばれる非水溶性有効成分とを含有
した歯磨組成物において、上記有効成分の保存安定性を
向上させることについて鋭意研究を進めた結果、この組
成物を収容する容器として、歯磨組成物が接触する胴部
及び肩部が、高密度ポリエチレン、ポリプロピレン又は
金属にて架橋した低密度ポリエチレンからなる最内層に
アルミニウム箔を介して高密度ポリエチレン、ポリプロ
ピレン又は金属にて架橋した低密度ポリエチレンを積層
したもので形成された容器を用いた場合、上記有効成分
の容器への吸着，吸収が可及的に防止され、長期保存後
においても上記有効成分の効果が発揮されることを知見
したものである。
と、α−ビサボロール，グリチルレチン酸及びその誘導
体，コレステロール及びその誘導体，ヒドロキサム酸及
びその誘導体，イソプロピルメチルフェノール類並びに
ヒノキチオールから選ばれる非水溶性有効成分とを含有
した歯磨組成物において、上記有効成分の保存安定性を
向上させることについて鋭意研究を進めた結果、この組
成物を収容する容器として、歯磨組成物が接触する胴部
及び肩部が、高密度ポリエチレン、ポリプロピレン又は
金属にて架橋した低密度ポリエチレンからなる最内層に
アルミニウム箔を介して高密度ポリエチレン、ポリプロ
ピレン又は金属にて架橋した低密度ポリエチレンを積層
したもので形成された容器を用いた場合、上記有効成分
の容器への吸着，吸収が可及的に防止され、長期保存後
においても上記有効成分の効果が発揮されることを知見
したものである。
以下、本発明につき更に詳しく説明する。
本発明に係る歯磨組成物はアニオン界面活性剤と非水
溶性の有効成分とを併用してなるものであるが、アニオ
ン界面活性剤としてはその組成物の種類や使用目的等に
より選定することができ、具体的には、ラウリル硫酸ナ
トリウム，ミリスチル硫酸ナトリウム等のアルキル硫酸
エステル塩，モノグリセリド硫酸塩，アルキルエーテル
硫酸塩，石けん，エーテルカルボン酸塩，アシルサルコ
シネート，アシルグルタメート，α−オレフィンスルホ
ン酸塩，アルカンスルホン酸塩，ジアルキルスルホコハ
ク酸塩，アシルアミノスルホン酸塩，アルキルアリルス
ルホン酸塩，アルキルリン酸エステル塩，ポリオキシエ
チレンアルキルエーテルリン酸塩などが挙げられ、これ
らの１種又は２種以上を使用することができる。これら
アニオン界面活性剤の配合量も適宜選定し得るが、通常
組成物全体の0.1〜５％（重量％、以下同じ）である。
溶性の有効成分とを併用してなるものであるが、アニオ
ン界面活性剤としてはその組成物の種類や使用目的等に
より選定することができ、具体的には、ラウリル硫酸ナ
トリウム，ミリスチル硫酸ナトリウム等のアルキル硫酸
エステル塩，モノグリセリド硫酸塩，アルキルエーテル
硫酸塩，石けん，エーテルカルボン酸塩，アシルサルコ
シネート，アシルグルタメート，α−オレフィンスルホ
ン酸塩，アルカンスルホン酸塩，ジアルキルスルホコハ
ク酸塩，アシルアミノスルホン酸塩，アルキルアリルス
ルホン酸塩，アルキルリン酸エステル塩，ポリオキシエ
チレンアルキルエーテルリン酸塩などが挙げられ、これ
らの１種又は２種以上を使用することができる。これら
アニオン界面活性剤の配合量も適宜選定し得るが、通常
組成物全体の0.1〜５％（重量％、以下同じ）である。
一方、非水溶性有効成分としては、α−ビサボロー
ル，グリチルレチン酸及びその誘導体，コレステロール
及びその誘導体，ヒドロキサム酸及びその誘導体，イソ
プロピルメチルフェノール類並びにヒノキチオールから
選ばれる１種又は２種以上を使用するものである。
ル，グリチルレチン酸及びその誘導体，コレステロール
及びその誘導体，ヒドロキサム酸及びその誘導体，イソ
プロピルメチルフェノール類並びにヒノキチオールから
選ばれる１種又は２種以上を使用するものである。
ここで、グリチルレチン酸及びその誘導体としてはβ
−グリチルレチ酸，グリチルレチン酸ステアリル等が挙
げられ、コレステロールの誘導体としてはジヒドロコレ
ステロール，エピジヒドロコレステロール等が挙げられ
る。また、ヒドロキサム酸及びその誘導体は一般式Ｒ″
−CH2−CONHOHで示されるものが使用でき、その誘導体
として２−（４−ブトキシフェニル）アセトヒドロキサ
ム酸,2−（４−メトキシフェニル）アセトヒドロキサム
酸，カプリロヒドロキサム酸，ラウロヒドロキサム酸等
を用いることができる。更に、イソプロピルメチルフェ
ノール類としてはイソプロピルメチルフェノール（ビオ
ゾール），チモール，カルバクロール等を用いることが
できる。
−グリチルレチ酸，グリチルレチン酸ステアリル等が挙
げられ、コレステロールの誘導体としてはジヒドロコレ
ステロール，エピジヒドロコレステロール等が挙げられ
る。また、ヒドロキサム酸及びその誘導体は一般式Ｒ″
−CH2−CONHOHで示されるものが使用でき、その誘導体
として２−（４−ブトキシフェニル）アセトヒドロキサ
ム酸,2−（４−メトキシフェニル）アセトヒドロキサム
酸，カプリロヒドロキサム酸，ラウロヒドロキサム酸等
を用いることができる。更に、イソプロピルメチルフェ
ノール類としてはイソプロピルメチルフェノール（ビオ
ゾール），チモール，カルバクロール等を用いることが
できる。
これらの非水溶性有効成分の配合量は有効量であり、
特に制限されないが、α−ビサボロールの場合は0.001
〜５％、特に0.005〜２％、グリチルレチン酸及びその
誘導体の場合は0.001〜１％、特に0.005〜0.1％、コレ
ステロール及びその誘導体の場合は0.001〜１％、特に
0.01〜0.5％、ヒドロキサム酸及びその誘導体の場合は
0.001〜１％、特に0.01〜0.5％、イソプロピルメチルフ
ェノール類の場合は0.005〜１％、特に0.01〜0.1％、ヒ
ノキチオールの場合は0.001〜１％、特に0.005〜0.1％
が好ましい。
特に制限されないが、α−ビサボロールの場合は0.001
〜５％、特に0.005〜２％、グリチルレチン酸及びその
誘導体の場合は0.001〜１％、特に0.005〜0.1％、コレ
ステロール及びその誘導体の場合は0.001〜１％、特に
0.01〜0.5％、ヒドロキサム酸及びその誘導体の場合は
0.001〜１％、特に0.01〜0.5％、イソプロピルメチルフ
ェノール類の場合は0.005〜１％、特に0.01〜0.1％、ヒ
ノキチオールの場合は0.001〜１％、特に0.005〜0.1％
が好ましい。
なお、本発明の歯磨組成物のその他の成分としては、
組成物の種類等に応じた適宜な成分を使用することがで
きる。例えば、練歯磨の場合には、第２リン酸カルシウ
ム，炭酸カルシウム，ピロリン酸カルシウム，不溶性メ
タリン酸ナトリウム，非晶質シリカ，結晶質シリカ，ア
ルミノシリケート，酸化アルミニウム，水酸化アルミニ
ウム，レジン等の研磨剤，カルボキシメチルセルロー
ス，ヒドロキシエチルセルロース，アルギン酸塩，カラ
ゲナン，アラビアガム，ポリビニルアルコール，ポリア
クリル酸塩，キサンタンガム等の粘結剤、ポリエチレン
グリコール，ソルビトール，グリセリン，プロピレング
リコール等の粘稠剤、サッカリンナトリウム，ステビオ
サイド，ネオヘスペリジルジヒドロカルコン，ペリラル
チン,p−メトキシシンナミックアルデヒド，安息香酸ナ
トリウム，パラオキシ安息香酸アルキル等の甘味剤や防
腐剤、スペアミント油，カルボン，アネトール等の香料
などを配合することができる。
組成物の種類等に応じた適宜な成分を使用することがで
きる。例えば、練歯磨の場合には、第２リン酸カルシウ
ム，炭酸カルシウム，ピロリン酸カルシウム，不溶性メ
タリン酸ナトリウム，非晶質シリカ，結晶質シリカ，ア
ルミノシリケート，酸化アルミニウム，水酸化アルミニ
ウム，レジン等の研磨剤，カルボキシメチルセルロー
ス，ヒドロキシエチルセルロース，アルギン酸塩，カラ
ゲナン，アラビアガム，ポリビニルアルコール，ポリア
クリル酸塩，キサンタンガム等の粘結剤、ポリエチレン
グリコール，ソルビトール，グリセリン，プロピレング
リコール等の粘稠剤、サッカリンナトリウム，ステビオ
サイド，ネオヘスペリジルジヒドロカルコン，ペリラル
チン,p−メトキシシンナミックアルデヒド，安息香酸ナ
トリウム，パラオキシ安息香酸アルキル等の甘味剤や防
腐剤、スペアミント油，カルボン，アネトール等の香料
などを配合することができる。
また、本発明の歯磨組成物には、上述した非水溶性有
効成分に加えて水溶性の有効成分、例えば、塩化リゾチ
ーム，アラントイン，デキストラナーゼ，ムタナーゼ，
溶菌酵素，クロルヘキシジン塩，ソルビン酸，セチルピ
リジニウムクロライド，ε−アミノカプロン酸，トラネ
キサム酸，モノフルオロリン酸ナトリウム，フッ化ナト
リウム，フッ化第１錫，水溶性第１又は第２リン酸塩，
第４級アンモニウム化合物，塩化ナトリウム，ポリリン
酸ナトリウム，ヘキサメタリン酸ナトリウム，オルソリ
ン酸ナトリウム，銅クロロフィリンナトリウム等を適宜
配合しても差し支えない。
効成分に加えて水溶性の有効成分、例えば、塩化リゾチ
ーム，アラントイン，デキストラナーゼ，ムタナーゼ，
溶菌酵素，クロルヘキシジン塩，ソルビン酸，セチルピ
リジニウムクロライド，ε−アミノカプロン酸，トラネ
キサム酸，モノフルオロリン酸ナトリウム，フッ化ナト
リウム，フッ化第１錫，水溶性第１又は第２リン酸塩，
第４級アンモニウム化合物，塩化ナトリウム，ポリリン
酸ナトリウム，ヘキサメタリン酸ナトリウム，オルソリ
ン酸ナトリウム，銅クロロフィリンナトリウム等を適宜
配合しても差し支えない。
本発明の歯磨組成物は、上述したように胴部及び肩部
の最内層、より好ましくは胴部及び肩部を含み、内容物
が接する全最内層を高密度ポリエチレン、ポリプロピレ
ン又は金属にて架橋した低密度ポリエチレンにて形成す
ると共に、この最内層上にアルミニウム箔を介して高密
度ポリエチレン、ポリプロピレン又は金属にて架橋され
た低密度ポリエチレンを積層した容器に収容される。
の最内層、より好ましくは胴部及び肩部を含み、内容物
が接する全最内層を高密度ポリエチレン、ポリプロピレ
ン又は金属にて架橋した低密度ポリエチレンにて形成す
ると共に、この最内層上にアルミニウム箔を介して高密
度ポリエチレン、ポリプロピレン又は金属にて架橋され
た低密度ポリエチレンを積層した容器に収容される。
ここで、高密度ポリエチレンは密度0.94（g/cm3）以
上の一般的なものが使用され、また、ポリプロピレンも
一般的なものが使用される。金属にて架橋した低密度ポ
リエチレンとしては、その金属として２価の金属を用い
たものが好ましく、特にマグネシウム、亜鉛が好適であ
る。
上の一般的なものが使用され、また、ポリプロピレンも
一般的なものが使用される。金属にて架橋した低密度ポ
リエチレンとしては、その金属として２価の金属を用い
たものが好ましく、特にマグネシウム、亜鉛が好適であ
る。
上記素材を用いた容器の形態は特に制限はなく、その
種類、使用態様に応じて種々の形態がとられる。例え
ば、プラスチックラミネートチューブ、機械的又は差圧
によるディスペンサー、ピロー包装等のフィルム包装容
器、射出，中空，プレス，真空等の成形によるボトルな
どの容器が挙げられる。ここで、プラスチックラミネー
トチューブは上述したようにアルミニウム箔をラミネー
トした積層チューブであり、これは香料の透過等を防止
でき、例えば外層より順に、ポリプロピレン、オレフィ
ン系樹脂、アルミニウム、オレフィン系樹脂、ポリプロ
ピレンとしたものなどが使用できる。
種類、使用態様に応じて種々の形態がとられる。例え
ば、プラスチックラミネートチューブ、機械的又は差圧
によるディスペンサー、ピロー包装等のフィルム包装容
器、射出，中空，プレス，真空等の成形によるボトルな
どの容器が挙げられる。ここで、プラスチックラミネー
トチューブは上述したようにアルミニウム箔をラミネー
トした積層チューブであり、これは香料の透過等を防止
でき、例えば外層より順に、ポリプロピレン、オレフィ
ン系樹脂、アルミニウム、オレフィン系樹脂、ポリプロ
ピレンとしたものなどが使用できる。
発明の効果 本発明の歯磨組成物は、胴部及び肩部が、高密度ポリ
エチレン、ポリプロピレン又は金属にて架橋した低密度
ポリエチレンからなる最内層にアルミニウム箔を介して
高密度ポリエチレン、ポリプロピレン又は金属にて架橋
した低密度ポリエチレンを積層したもので形成された容
器に収容されていることにより、α−ビサボロール，グ
リチルレチン端及びその誘導体，コレステロール及びそ
の誘導体，ヒドロキサム酸及びその誘導体，イソプロピ
ルメチルフェノール類並びにヒノキチオールがアニオン
界面活性剤の存在下でも安定して保持され、高温で長期
間保存しても上記有効成分の残存率が低下しないもので
ある。
エチレン、ポリプロピレン又は金属にて架橋した低密度
ポリエチレンからなる最内層にアルミニウム箔を介して
高密度ポリエチレン、ポリプロピレン又は金属にて架橋
した低密度ポリエチレンを積層したもので形成された容
器に収容されていることにより、α−ビサボロール，グ
リチルレチン端及びその誘導体，コレステロール及びそ
の誘導体，ヒドロキサム酸及びその誘導体，イソプロピ
ルメチルフェノール類並びにヒノキチオールがアニオン
界面活性剤の存在下でも安定して保持され、高温で長期
間保存しても上記有効成分の残存率が低下しないもので
ある。
次に実施例と比較例を示し、本発明を具体的に説明す
るが、本発明は下記の実施例に制限されるものではな
い。
るが、本発明は下記の実施例に制限されるものではな
い。
〔実施例１〜6,比較例１〜６〕 有効成分としてα−ビサボロール，イソプロピルメチ
ルフェノール，トラネキサム酸を用いた第１表に示す処
方の練歯磨を常法により調製し、下記チューブＡ〜Ｄに
それぞれ充填し、これを50℃で１カ月保存した後、練歯
磨中の各有効成分の残存率を調べた。結果を第１表に併
記する。
ルフェノール，トラネキサム酸を用いた第１表に示す処
方の練歯磨を常法により調製し、下記チューブＡ〜Ｄに
それぞれ充填し、これを50℃で１カ月保存した後、練歯
磨中の各有効成分の残存率を調べた。結果を第１表に併
記する。
チューブＡ 胴部の層構成を外層より順次ポリプロピレン、アルミ
ニウム箔、ポリプロピレンとしたもの。その最内層のポ
リプロピレンの厚さは40μｍであり、チューブ肩部も同
一のポリプロピレンで構成した。
ニウム箔、ポリプロピレンとしたもの。その最内層のポ
リプロピレンの厚さは40μｍであり、チューブ肩部も同
一のポリプロピレンで構成した。
チューブＢ 胴部の層構成を外層より順次高密度ポリエチレン、ア
ルミニウム箔、高密度ポリエチレン（密度0.94g/cm3）
としたもの。その最内層の高密度ポリエチレンの厚さは
40μｍであり、チューブ肩部も同一の高密度ポリエチレ
ンで構成した。
ルミニウム箔、高密度ポリエチレン（密度0.94g/cm3）
としたもの。その最内層の高密度ポリエチレンの厚さは
40μｍであり、チューブ肩部も同一の高密度ポリエチレ
ンで構成した。
チューブＣ 胴部の層構成を外層より順次マグネシウムで架橋した
低密度ポリエチレン、アルミニウム箔、マグネシウムで
架橋した低密度ポリエチレンとしたもの。その最内層の
マグネシウムで架橋した低密度ポリエチレンの厚さは40
μｍであり、チューブ肩部も同一のマグネシウムで架橋
した低密度ポリエチレンで構成した。
低密度ポリエチレン、アルミニウム箔、マグネシウムで
架橋した低密度ポリエチレンとしたもの。その最内層の
マグネシウムで架橋した低密度ポリエチレンの厚さは40
μｍであり、チューブ肩部も同一のマグネシウムで架橋
した低密度ポリエチレンで構成した。
チューブＤ（比較チューブ） 胴部の層構成を外層より順次低密度ポリエチレン、ア
ルミニウム箔、低密度ポリエチレン（密度0.91g/cm3）
としたもの。その最内層の低密度ポリエチレンの厚さは
40μｍであり、チューブ肩部も同一の低密度ポリエチレ
ンで構成した。
ルミニウム箔、低密度ポリエチレン（密度0.91g/cm3）
としたもの。その最内層の低密度ポリエチレンの厚さは
40μｍであり、チューブ肩部も同一の低密度ポリエチレ
ンで構成した。
なお、第１表に示した結果において、α−ビサボロー
ル，イソプロピルメチルフェノールの分析方法は下記の
通りである。
ル，イソプロピルメチルフェノールの分析方法は下記の
通りである。
α−ビサボロール 歯磨に塩化バリウム溶液及びヘキサンを加えて分散し
た後、遠心分離を行い、ヘキサン相を得る。ヘキサン相
に内部標準としてアジピン酸ジ−ｎ−ブチルエステルを
加えて、ガスクロマトグラフにて定量した。
た後、遠心分離を行い、ヘキサン相を得る。ヘキサン相
に内部標準としてアジピン酸ジ−ｎ−ブチルエステルを
加えて、ガスクロマトグラフにて定量した。
イソプロピルメチルフェノール 歯磨に水−エタノール混合液を加えて分散した後、遠
心分離を行い、上澄液を得る。上澄液にアセトニトリル
を加えて濾過（0.45μｍ）した後、濾液を液体クロマト
グラフにて定量した。
心分離を行い、上澄液を得る。上澄液にアセトニトリル
を加えて濾過（0.45μｍ）した後、濾液を液体クロマト
グラフにて定量した。
有効成分残存率の計算は下記の通りである。
A:有効成分の50℃,1カ月保存後の量 A0:有効成分の歯磨調製初期の量 また、有効成分残存率の評価は下記の通りである。
○：残存率90％以上 △：残存率80〜90％ x:残存率80％未満 ストロベリーフレーバー 0.01 エタノール 0.01 合 計 1.00％ 第１表の結果より、従来の最内層を低密度ポリエチレ
ンとした容器（容器Ｄ）を用いた場合、アニオン界面活
性剤（ラウリル硫酸ナトリウム）を配合しない系（比較
例５）では有効成分の吸着がなく、高温で長期間保存し
た後もその残存率が高いものであり、また有効成分とし
て水溶性のトラネキサム酸を配合した場合（比較例６）
には、アニオン界面活性剤を含む系にあっても、高温長
期保存後の有効成分残存率が高いものであったが、アニ
オン界面活性剤を含む系において非水溶性のα−ビサボ
ロール，イソプロピルメチルフェノールを配合した系
（比較例１〜４）では、これらの有効成分が吸着し、長
期保存後の残存率が低下した。
ンとした容器（容器Ｄ）を用いた場合、アニオン界面活
性剤（ラウリル硫酸ナトリウム）を配合しない系（比較
例５）では有効成分の吸着がなく、高温で長期間保存し
た後もその残存率が高いものであり、また有効成分とし
て水溶性のトラネキサム酸を配合した場合（比較例６）
には、アニオン界面活性剤を含む系にあっても、高温長
期保存後の有効成分残存率が高いものであったが、アニ
オン界面活性剤を含む系において非水溶性のα−ビサボ
ロール，イソプロピルメチルフェノールを配合した系
（比較例１〜４）では、これらの有効成分が吸着し、長
期保存後の残存率が低下した。
これに対し、最内層をそれぞれ高密度ポリエチレン
（チューブＢ）、ポリプロピレン（チューブＡ）、マグ
ネシウムにて架橋した低密度ポリエチレン（チューブ
Ｃ）にて構成したチューブを用いた場合（実施例１〜
６）、アニオン界面活性剤と非水溶性有効成分とが共存
する系にあっても、これら有効成分の吸着が可及的に防
止され、長期保存後の有効成分の残存率が高いことが認
められた。
（チューブＢ）、ポリプロピレン（チューブＡ）、マグ
ネシウムにて架橋した低密度ポリエチレン（チューブ
Ｃ）にて構成したチューブを用いた場合（実施例１〜
６）、アニオン界面活性剤と非水溶性有効成分とが共存
する系にあっても、これら有効成分の吸着が可及的に防
止され、長期保存後の有効成分の残存率が高いことが認
められた。
〔実施例７〕 練歯磨 第２リン酸カルシウム 45.0％ 無水ケイ酸 3.0 カルボキシメチルセルロースナトリウム 1.0 カラゲナン 0.2 ソルビット液 18.0 プロピレングリコール 2.0 アルキル硫酸ナトリウム＊（C10〜C16） 1.8 ラウロイルサルコシン酸ナトリウム 0.3 サッカリンナトリウム 0.1 安息香酸ナトリウム 0.3 ε−アミノカプロン酸 0.05 β−グリチルレチン酸 0.1 香料 1.0 精製水 残 合 計 100.0％ この練歯磨を上述したチューブＢに充填した。
＊下記の組成により全炭素数分布のうち98％以上を
占めている。
占めている。
C10: 0〜20％ C12:50〜80％ C14:10〜30％ C16: 0〜15％ 〔実施例８〕 練歯磨 水酸化アルミニウム 50.0％ グリセリン 8.0 ソルビット液 15.0 プロピレングリコール 2.0 カルボキシメチルセルロースナトリウム 1.2 ラウリル硫酸ナトリウム 1.6 サッカリンナトリウム 0.2 パラオキシ安息香酸エチル 0.2 モノフルオロリン酸ナトリウム 0.76 ヒノキチオール 0.1 ジヒドロコレステロール 0.1 香料 1.0 精製水 残 合 計 100.0％ この練歯磨を上述したチューブＡに充填した。
〔実施例９〕 練歯磨 中性化処理水酸化アルミニウム 42.0％ 無水ケイ酸 2.5 グリセリン 25.0 カラゲナン 0.5 アルギン酸ナトリウム 0.5 ミリスチル硫酸ナトリウム 1.5 サッカリンナトリウム 0.1 パラオキシ安息香酸メチル 0.1 ミリスチン酸ジエタノールアミド 0.3 デキストラナーゼ 2000〔u/g〕 チモール 0.2 塩酸クロルヘキシジン 0.01 モノフルオロリン酸ナトリウム 0.76 香料 1.0 精製水 残 合 計 100.0％ この練歯磨を上述したチューブＣに充填した。
〔実施例10〕 練歯磨 ジルコノシリケート 20.0％ グリセリン 20.0 ソルビット液 40.0 プロピレングリコール 2.5 カルボキシメチルセルロースナトリウム 1.0 ゼラチン 0.3 無水ケイ酸 1.0 酸化チタン 1.0 Ｎ−ラウロイルタウレート 1.2 フィチン酸５ナトリウム 0.8 水酸化ナトリウム 0.1 フッ化第１錫 0.41 イソプロピルメチルフェノール 0.05 酢酸トコフェロール 0.1 香料 1.0 精製水 残 合 計 100.0％ この練歯磨を上述したチューブＢに充填した。
〔実施例11〕 練歯磨 アルミニウム結合ケイ酸塩 25.0％ 無水ケイ酸 2.0 ソルビット液 40.0 ポリエチレングリコール400 5.0 キサンタンガム 0.5 アルギン酸ナトリウム 0.5 ラウリル硫酸ナトリウム 1.0 サッカリンナトリウム 0.1 パラオキシ安息香酸メチル 0.3 パラオキシ安息香酸ブチル 0.05 グルコン酸クロルヘキシジン 0.05 ポリリン酸ナトリウム 1.0 カルバクロール 0.05 香料 1.0 精製水 残 合 計 100.0％ この練歯磨を上述したチューブＣに充填した。
〔実施例12〕 練歯磨 第２リン酸カルシウム 45.0％ ソルビット液 20.0 プロピレングリコール 3.0 カルボキシメチルセルロースナトリウム 1.0 カラゲナン 0.2 安息香酸ナトリウム 0.3 パラオキシ安息香酸メチル 0.2 無水ケイ酸 2.5 ラウリル硫酸ナトリウム 1.5 サッカリンナトリウム 0.2 トラネキサム酸 0.05 α−ビサボロール 0.05 香料 1.0 精製水 残 合 計 100.0％ この練歯磨を上述したチューブＡに充填した。
実施例７〜12の歯磨組成物は、いずれも高温で長期保
存した後の非水溶性有効成分の残存率が高いものであ
る。
存した後の非水溶性有効成分の残存率が高いものであ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) A61K 7/00 - 7/50
Claims (1)
- 【請求項１】アニオン界面活性剤と、α−ビサボロー
ル，グリチルレチン酸及びその誘導体，コレステロール
及びその誘導体，ヒドロキサム酸及びその誘導体，イソ
プロピルメチルフェノール類並びにヒノキチオールから
選ばれる１種又は２種以上の非水溶性有効成分とを含有
し、かつ、胴部及び肩部が、高密度ポリエチレン、ポリ
プロピレン又は金属にて架橋した低密度ポリエチレンか
らなる最内層にアルミニウム箔を介して高密度ポリエチ
レン、ポリプロピレン又は金属にて架橋した低密度ポリ
エチレンを積層したもので形成された容器に収容されて
なることを特徴とする歯磨組成物。
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|---|---|---|---|
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|---|---|---|---|---|
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-
1988
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