JP2023178289A5 - - Google Patents

Info

Publication number
JP2023178289A5
JP2023178289A5 JP2023152347A JP2023152347A JP2023178289A5 JP 2023178289 A5 JP2023178289 A5 JP 2023178289A5 JP 2023152347 A JP2023152347 A JP 2023152347A JP 2023152347 A JP2023152347 A JP 2023152347A JP 2023178289 A5 JP2023178289 A5 JP 2023178289A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polyimide
containing precursor
substrate
wiring terminals
bonding
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2023152347A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2023178289A (ja
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP2023522543A external-priority patent/JP7354479B1/ja
Application filed filed Critical
Publication of JP2023178289A publication Critical patent/JP2023178289A/ja
Publication of JP2023178289A5 publication Critical patent/JP2023178289A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

JP2023152347A 2021-12-23 2023-09-20 接合体の製造方法、接合体、積層体の製造方法、積層体、デバイスの製造方法、及び、デバイス、並びに、ポリイミド含有前駆体部形成用組成物 Pending JP2023178289A (ja)

Applications Claiming Priority (8)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021209029 2021-12-23
JP2021209029 2021-12-23
JP2022158712 2022-09-30
JP2022158712 2022-09-30
JP2022181282 2022-11-11
JP2022181282 2022-11-11
JP2023522543A JP7354479B1 (ja) 2021-12-23 2022-11-25 接合体の製造方法、接合体、積層体の製造方法、積層体、デバイスの製造方法、及び、デバイス、並びに、ポリイミド含有前駆体部形成用組成物
PCT/JP2022/043600 WO2023120037A1 (ja) 2021-12-23 2022-11-25 接合体の製造方法、接合体、積層体の製造方法、積層体、デバイスの製造方法、及び、デバイス、並びに、ポリイミド含有前駆体部形成用組成物

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2023522543A Division JP7354479B1 (ja) 2021-12-23 2022-11-25 接合体の製造方法、接合体、積層体の製造方法、積層体、デバイスの製造方法、及び、デバイス、並びに、ポリイミド含有前駆体部形成用組成物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2023178289A JP2023178289A (ja) 2023-12-14
JP2023178289A5 true JP2023178289A5 (https=) 2025-12-01

Family

ID=86902047

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2023522543A Active JP7354479B1 (ja) 2021-12-23 2022-11-25 接合体の製造方法、接合体、積層体の製造方法、積層体、デバイスの製造方法、及び、デバイス、並びに、ポリイミド含有前駆体部形成用組成物
JP2023152347A Pending JP2023178289A (ja) 2021-12-23 2023-09-20 接合体の製造方法、接合体、積層体の製造方法、積層体、デバイスの製造方法、及び、デバイス、並びに、ポリイミド含有前駆体部形成用組成物

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2023522543A Active JP7354479B1 (ja) 2021-12-23 2022-11-25 接合体の製造方法、接合体、積層体の製造方法、積層体、デバイスの製造方法、及び、デバイス、並びに、ポリイミド含有前駆体部形成用組成物

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20240339368A1 (https=)
EP (1) EP4456133A4 (https=)
JP (2) JP7354479B1 (https=)
KR (1) KR102949337B1 (https=)
TW (1) TW202348726A (https=)
WO (1) WO2023120037A1 (https=)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW202600623A (zh) * 2024-02-22 2026-01-01 日商富士軟片股份有限公司 樹脂組成物、硬化物、積層體、硬化物之製造方法、積層體之製造方法、半導體元件之製造方法、半導體元件及聚醯亞胺前驅物之製造方法
WO2026004705A1 (ja) * 2024-06-25 2026-01-02 富士フイルム株式会社 樹脂組成物、接合体の製造方法、接合体、及び、デバイスの製造方法
WO2026070909A1 (ja) * 2024-09-27 2026-04-02 富士フイルム株式会社 基材接合用樹脂組成物、積層体の製造方法及び半導体デバイスの製造方法
WO2026070803A1 (ja) * 2024-09-27 2026-04-02 富士フイルム株式会社 接合体の製造方法、接合体、デバイスの製造方法、及び、樹脂組成物

Family Cites Families (73)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4841708B1 (https=) 1970-01-13 1973-12-07
DE2064079C2 (de) 1970-12-28 1982-09-09 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Photopolymerisierbares Gemisch
DE2361041C3 (de) 1973-12-07 1980-08-14 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Photopolymerisierbares Gemisch
JPS5311314B2 (https=) 1974-09-25 1978-04-20
DE2822190A1 (de) 1978-05-20 1979-11-22 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch
DE2822189A1 (de) 1978-05-20 1980-04-17 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch
DE3036694A1 (de) 1980-09-29 1982-06-03 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Gummielastische, ethylenisch ungesaettigte polyurethane und dieselben enthaltendes durch strahlung polymerisierbares gemisch
DE3048502A1 (de) 1980-12-22 1982-07-22 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Durch strahlung polymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
DE3710282A1 (de) 1987-03-28 1988-10-13 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
DE3710279A1 (de) 1987-03-28 1988-10-06 Hoechst Ag Polymerisierbare verbindungen und diese enthaltendes durch strahlung polymerisierbares gemisch
DE3710281A1 (de) 1987-03-28 1988-10-06 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
JPH0216765A (ja) 1988-07-05 1990-01-19 Fujitsu Ltd 半導体装置
JPH0232293A (ja) 1988-07-22 1990-02-02 Nippon Atom Ind Group Co Ltd 沸騰水型原子炉
TW452575B (en) 1996-12-06 2001-09-01 Ciba Sc Holding Ag New Α-aminoacetophenone photoinitiators and photopolymerizable compositions comprising these photoinitiators
SG77689A1 (en) 1998-06-26 2001-01-16 Ciba Sc Holding Ag New o-acyloxime photoinitiators
DK199901098A (da) 1998-08-18 2000-02-19 Ciba Sc Holding Ag Sylfonyloximer til i-linie-fotoresists med høj følsomhed og høj resisttykkelse
NL1016815C2 (nl) 1999-12-15 2002-05-14 Ciba Sc Holding Ag Oximester-fotoinitiatoren.
US7189489B2 (en) 2001-06-11 2007-03-13 Ciba Specialty Chemicals Corporation Oxime ester photoiniators having a combined structure
CN100437354C (zh) 2001-08-21 2008-11-26 西巴特殊化学品控股有限公司 红移单-和双-酰基氧化膦和硫化膦及其作为光引发剂的应用
JP4502784B2 (ja) 2004-06-07 2010-07-14 富士フイルム株式会社 カラーフィルター、カラーフィルターの製造方法、及び液晶表示装置
JP4841816B2 (ja) 2004-08-03 2011-12-21 富士フイルム株式会社 遮光膜付基板、及び該遮光膜付基板を用いたエレクトロルミネッセンス表示装置
JP5354863B2 (ja) 2006-02-24 2013-11-27 富士フイルム株式会社 オキシム誘導体、光重合性組成物、カラーフィルタおよびその製造方法
JP2008063554A (ja) 2006-08-11 2008-03-21 Fujifilm Corp 分解性樹脂組成物、パターン形成材料およびパターン形成方法
JP2008239802A (ja) * 2007-03-27 2008-10-09 Hitachi Chem Co Ltd 感光性接着剤組成物、及び、基板の接着方法
JP2008250074A (ja) 2007-03-30 2008-10-16 Fujifilm Corp 感光性樹脂組成物、感光性フィルム、感光性積層体、永久パターン形成方法、及びプリント基板
WO2008138733A1 (en) 2007-05-11 2008-11-20 Basf Se Oxime ester photoinitiators
JP5496482B2 (ja) 2007-08-27 2014-05-21 富士フイルム株式会社 新規化合物、光重合性組成物、カラーフィルタ用光重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、並びに、平版印刷版原版
JP5553827B2 (ja) 2008-06-06 2014-07-16 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア 光開始剤混合物
JP2010164965A (ja) 2008-12-19 2010-07-29 Mitsubishi Chemicals Corp カラーフィルタ画素形成用組成物、カラーフィルタ、液晶表示装置及び有機elディスプレイ
KR101678028B1 (ko) 2009-06-17 2016-11-21 토요잉크Sc홀딩스주식회사 옥심에스테르 화합물, 라디칼 중합개시제, 중합성 조성물, 네가티브형 레지스트 및 화상 패턴
MY160024A (en) * 2009-07-10 2017-02-15 Toray Industries Adhesive composition, adhesive sheet, circuit board and semiconductor device both produced using these, and processes for producing these
JP5577688B2 (ja) 2009-12-17 2014-08-27 日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社 ポジ型感光性樹脂組成物、それを用いた硬化膜及び電子部品
US20120295085A1 (en) * 2010-01-25 2012-11-22 Mitsui Chemicals, Inc. Polymide resin composition, adhesive agent and laminate each comprising same, and device
JP2012003225A (ja) 2010-01-27 2012-01-05 Fujifilm Corp ソルダーレジスト用重合性組成物及びソルダーレジストパターンの形成方法
WO2011119272A2 (en) 2010-03-22 2011-09-29 Henkel Corporation Macro-photoinitiators and curable compositions thereof
JP2012014052A (ja) 2010-07-02 2012-01-19 Fujifilm Corp 着色感光性樹脂組成物、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、及び液晶表示装置
US8759989B2 (en) * 2010-07-09 2014-06-24 Toray Industries, Inc. Photosensitive adhesive composition, photosensitive adhesive film, and semiconductor device using each
JP5831092B2 (ja) 2011-09-27 2015-12-09 東レ株式会社 ポジ型感光性樹脂組成物
KR102013541B1 (ko) 2012-05-09 2019-08-22 바스프 에스이 옥심 에스테르 광개시제
JP6170673B2 (ja) 2012-12-27 2017-07-26 富士フイルム株式会社 カラーフィルタ用組成物、赤外線透過フィルタ及びその製造方法、並びに赤外線センサー
JP6065596B2 (ja) 2013-01-16 2017-01-25 Jsr株式会社 感放射線性着色組成物、着色硬化膜及び表示素子
JP6048257B2 (ja) 2013-03-25 2016-12-21 東レ株式会社 耐熱性樹脂及びその前駆体組成物
JP6469669B2 (ja) 2013-07-08 2019-02-13 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se オキシムエステル光開始剤
US9159547B2 (en) 2013-09-17 2015-10-13 Deca Technologies Inc. Two step method of rapid curing a semiconductor polymer layer
JP6167018B2 (ja) 2013-10-31 2017-07-19 富士フイルム株式会社 積層体、有機半導体製造用キットおよび有機半導体製造用レジスト組成物
JP5898172B2 (ja) 2013-12-27 2016-04-06 コダマ樹脂工業株式会社 耐薬品性吹込み成形積層容器
KR102301297B1 (ko) 2014-02-19 2021-09-10 에이치디 마이크로시스템즈 가부시키가이샤 수지 조성물, 그에 따라 형성되는 경화막 및 패턴 경화막, 및 그들의 제조 방법
CN103819583B (zh) 2014-03-18 2016-05-18 常州强力电子新材料股份有限公司 一种含硝基双肟酯类光引发剂及其制备方法和应用
JP6167089B2 (ja) 2014-03-27 2017-07-19 富士フイルム株式会社 感光性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜の製造方法および半導体デバイス
US10189847B2 (en) 2014-04-04 2019-01-29 Adeka Corporation Oxime ester compound and photopolymerization initiator containing said compound
TWI671343B (zh) 2014-06-27 2019-09-11 Fujifilm Corporation 熱硬化性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜的製造方法以及半導體裝置
CN104076606B (zh) 2014-07-15 2019-12-03 常州强力电子新材料股份有限公司 一种含肟酯类光引发剂的感光性组合物及其应用
US10113075B2 (en) 2014-09-04 2018-10-30 Igm Malta Limited Polycyclic photoinitiators
WO2017033680A1 (ja) 2015-08-26 2017-03-02 パナソニックヘルスケアホールディングス株式会社 超低温フリーザ
TWI694101B (zh) 2015-08-28 2020-05-21 日商富士軟片股份有限公司 硬化膜的製造方法、再配線層用層間絕緣膜的製造方法及半導體元件的製造方法
JP6799540B2 (ja) 2015-09-25 2020-12-16 株式会社Adeka オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する重合開始剤
JP6750249B2 (ja) 2016-02-26 2020-09-02 東洋インキScホールディングス株式会社 感光性着色組成物およびカラーフィルタ
JP6762739B2 (ja) 2016-03-17 2020-09-30 株式会社Dnpファインケミカル カラーフィルタ用感光性着色樹脂組成物、カラーフィルタ、表示装置
US20190056662A1 (en) 2016-03-25 2019-02-21 Toray Industries, Inc. Colored resin composition, color filter substrate and liquid crystal display device
JP6860978B2 (ja) 2016-04-27 2021-04-21 東京応化工業株式会社 感光性組成物
WO2017209176A1 (ja) * 2016-06-02 2017-12-07 富士フイルム株式会社 積層体の製造方法、半導体素子の製造方法および積層体
KR102212731B1 (ko) 2016-08-25 2021-02-08 후지필름 가부시키가이샤 적층체의 제조 방법 및 전자 디바이스의 제조 방법
CN109689624B (zh) 2016-12-13 2021-10-12 日油株式会社 过氧化肉桂酸酯衍生物、含有该化合物的聚合性组合物
WO2018173764A1 (ja) * 2017-03-21 2018-09-27 富士フイルム株式会社 積層デバイス、積層体および積層デバイスの製造方法
JP7069557B2 (ja) 2017-03-31 2022-05-18 Hdマイクロシステムズ株式会社 感光性樹脂組成物、パターン硬化物の製造方法、硬化物、層間絶縁膜、カバーコート層、表面保護膜、及び電子部品
JP7021668B2 (ja) 2017-06-01 2022-02-17 日油株式会社 トリアジンペルオキシド誘導体、該化合物を含有する重合性組成物
JP6923130B2 (ja) 2017-08-31 2021-08-18 学校法人東京理科大学 ペルオキシエステル基を有するベンゾフェノン誘導体、該化合物を含有する重合性組成物およびその硬化物、当該硬化物の製造方法
JP6995309B2 (ja) 2017-08-31 2022-01-14 学校法人東京理科大学 ペルオキシエステル基を有するチオキサントン誘導体を含有する重合性組成物およびその硬化物、当該硬化物の製造方法
JP6970922B2 (ja) 2018-03-26 2021-11-24 日油株式会社 ペルオキシシンナメート誘導体、該化合物を含有する重合性組成物およびその硬化物、並びに当該硬化物の製造方法
JP7042353B2 (ja) 2018-09-10 2022-03-25 富士フイルム株式会社 感光性樹脂組成物、硬化膜、積層体、硬化膜の製造方法、および半導体デバイス
KR102571972B1 (ko) 2018-09-28 2023-08-29 후지필름 가부시키가이샤 감광성 수지 조성물, 경화막, 적층체, 경화막의 제조 방법, 및 반도체 디바이스
TWI895274B (zh) 2019-07-30 2025-09-01 日商富士軟片股份有限公司 著色樹脂組成物、膜、濾色器、固體攝像元件及圖像顯示裝置
TWI859372B (zh) 2019-12-05 2024-10-21 日商富士軟片股份有限公司 硬化性樹脂組成物、硬化膜、積層體、硬化膜的製造方法、半導體器件及樹脂

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2023178289A5 (https=)
JP5617991B2 (ja) 電子部品装置およびその製造方法
US8794498B2 (en) Electronic component device and method for producing the same
KR102574378B1 (ko) 파워모듈
TWI870361B (zh) 接合基板之方法
JPWO2022244717A5 (https=)
CN102484100B (zh) 在晶片上接合芯片的方法
CN103346097A (zh) 基于tsv的三维封装方法和封装结构
TW202236541A (zh) 半導體封裝結構、方法、器件和電子產品
JP2017152603A (ja) パワー半導体モジュール及びその製造方法
JPH01185947A (ja) 半導体装置製造方法
CN111739869B (zh) 一种背板及其制作方法、显示装置及其制作方法
CN113675098A (zh) 半导体结构及其形成方法
JP6087046B2 (ja) 薄膜素子の転写方法及び回路基板の製造方法
CN104538313B (zh) 一种氧化铝陶瓷基板贯穿孔内填充金属铜的方法
WO2011148445A1 (ja) 半導体装置及びその製造方法
JP6383208B2 (ja) 半導体装置の製造方法、接合材および接合材の形成方法
JPH07142858A (ja) セラミックス配線基板の製造方法
JPS5874043A (ja) 半導体装置
CN117253779B (zh) 一种半导体晶片的背面刷胶方法
JP7770335B2 (ja) 熱電変換モジュールの製造方法
JP2015225997A (ja) 配線基板の製造方法
JPH01137652A (ja) 平板接着法
JP2012129482A (ja) 半導体装置の製造方法
KR20250155381A (ko) 금속 페이스트 조성물 및 이를 포함하는 금속-세라믹 복합 기판