JP2022179582A - 希土類酸化物粒子 - Google Patents
希土類酸化物粒子 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2022179582A JP2022179582A JP2022157882A JP2022157882A JP2022179582A JP 2022179582 A JP2022179582 A JP 2022179582A JP 2022157882 A JP2022157882 A JP 2022157882A JP 2022157882 A JP2022157882 A JP 2022157882A JP 2022179582 A JP2022179582 A JP 2022179582A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- slurry
- rare earth
- earth oxide
- less
- oxide particles
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000002245 particle Substances 0.000 title claims abstract description 166
- 229910001404 rare earth metal oxide Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 92
- 239000002002 slurry Substances 0.000 claims abstract description 153
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims abstract description 58
- 239000000725 suspension Substances 0.000 claims abstract description 53
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims abstract description 47
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 20
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 claims abstract description 15
- 238000007751 thermal spraying Methods 0.000 claims description 61
- 238000007750 plasma spraying Methods 0.000 claims description 39
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 27
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 21
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 claims description 21
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 claims description 6
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 claims description 6
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 claims description 6
- 229910052692 Dysprosium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052689 Holmium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052775 Thulium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 5
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052765 Lutetium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 238000002459 porosimetry Methods 0.000 claims description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 37
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 34
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 abstract description 14
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 abstract description 14
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 18
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 18
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 18
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 17
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 13
- 239000000463 material Substances 0.000 description 11
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 11
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 10
- -1 rare earth compounds Chemical class 0.000 description 10
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 8
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 7
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 6
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 5
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 5
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 5
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 3
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 3
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 2
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 2
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 2
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N isophorone Chemical compound CC1=CC(=O)CC(C)(C)C1 HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 2
- NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOC(C)=O NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003902 SiCl 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052789 astatine Inorganic materials 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 239000011362 coarse particle Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000003997 cyclic ketones Chemical class 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000004880 explosion Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007561 laser diffraction method Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000011325 microbead Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoyttriooxy)yttrium Chemical compound O=[Y]O[Y]=O SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 230000000750 progressive effect Effects 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011163 secondary particle Substances 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
- C23C4/04—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the coating material
- C23C4/10—Oxides, borides, carbides, nitrides or silicides; Mixtures thereof
- C23C4/11—Oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01F—COMPOUNDS OF THE METALS BERYLLIUM, MAGNESIUM, ALUMINIUM, CALCIUM, STRONTIUM, BARIUM, RADIUM, THORIUM, OR OF THE RARE-EARTH METALS
- C01F17/00—Compounds of rare earth metals
- C01F17/20—Compounds containing only rare earth metals as the metal element
- C01F17/206—Compounds containing only rare earth metals as the metal element oxide or hydroxide being the only anion
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01F—COMPOUNDS OF THE METALS BERYLLIUM, MAGNESIUM, ALUMINIUM, CALCIUM, STRONTIUM, BARIUM, RADIUM, THORIUM, OR OF THE RARE-EARTH METALS
- C01F17/00—Compounds of rare earth metals
- C01F17/20—Compounds containing only rare earth metals as the metal element
- C01F17/206—Compounds containing only rare earth metals as the metal element oxide or hydroxide being the only anion
- C01F17/218—Yttrium oxides or hydroxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
- C23C4/12—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the method of spraying
- C23C4/134—Plasma spraying
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Geology (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Coating By Spraying Or Casting (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Compounds Of Alkaline-Earth Elements, Aluminum Or Rare-Earth Metals (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
Description
1.分散媒と希土類酸化物粒子とを含み、該希土類酸化物粒子の粒子径D50が1.5μm以上5μm以下、かつBET比表面積が1m2/g未満であり、上記希土類酸化物粒子の含有率が10質量%以上45質量%以下であることを特徴とするサスペンションプラズマ溶射用スラリー。
2.上記希土類酸化物粒子の粒子径D10が0.9μm以上、かつ粒子径D90が6μm以下であることを特徴とする1に記載のサスペンションプラズマ溶射用スラリー。
3.上記希土類酸化物粒子のX線回折法によって測定される(431)面における結晶子サイズが700nm以上であることを特徴とする1又は2に記載のサスペンションプラズマ溶射用スラリー。
4.上記希土類酸化物粒子の水銀圧入法により測定される細孔直径10μm以下の細孔容積が0.5cm3/g以下であることを特徴とする1~3のいずれかに記載のサスペンションプラズマ溶射用スラリー。
5.上記希土類酸化物を構成する希土類元素が、Y、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb及びLuから選ばれる1種以上の希土類元素を含むことを特徴とする1~4のいずれかに記載のサスペンションプラズマ溶射用スラリー。
6.上記分散媒が、水及びアルコールから選ばれる1種又は2種を含むことを特徴とする1~5のいずれかに記載のサスペンションプラズマ溶射用スラリー。
7.分散剤を3質量%以下の含有率で含むことを特徴とする1~6のいずれかに記載のサスペンションプラズマ溶射用スラリー。
8.粘度が15mPa・s未満であることを特徴とする1~7のいずれかに記載のサスペンションプラズマ溶射用スラリー。
9.粒子の沈降速度が50μm/秒以上であることを特徴とする1~8のいずれかに記載のサスペンションプラズマ溶射用スラリー。
10.1~9のいずれかに記載のサスペンションプラズマ溶射用スラリーを用い、サスペンションプラズマ溶射により、基材上に、希土類酸化物を含む溶射皮膜を形成することを特徴とする溶射皮膜の形成方法。
本発明の溶射用スラリーは、分散媒と希土類酸化物粒子とを含み、微粒子をスラリーの形態で溶射するサスペンションプラズマ溶射に好適に用いられる。本発明の溶射用スラリーは、希土類酸化物を主相とする溶射皮膜を、安定して形成することができるものである。サスペンションプラズマ溶射に用いる微粒子を含有するスラリーには、従来、スラリー供給装置中の配管内でのスラリー循環や、スラリー供給装置から溶射ガンへのスラリー供給において使用時間が長くなると、配管内壁に残留する微粒子によって、配管の閉塞が起こりやすくなり、安定したスラリー供給を継続し難いという問題を有していたが、本発明の溶射用スラリーを用いることにより、配管が閉塞することなく、安定した供給が継続できる。
表1に示される分散媒と希土類酸化物粒子とを含む溶射用スラリーを作製した。希土類酸化物粒子の含有率は表1に示されるとおりとし、実施例2以外においては、表1に示される分散剤を表1に示される含有率で添加した。
得られた溶射用スラリー中の希土類酸化物粒子について、体積基準の粒子径分布をレーザー回折法により測定し、粒子径D10、粒子径D50及び粒子径D90を評価した。測定には、マイクロトラック・ベル(株)製、レーザー回折・散乱式粒子径分布測定装置、マイクロトラック MT3300EX IIを用いた。溶射用スラリーを純水30mlに添加して超音波を照射(40W、1分間)したものを評価サンプルとした。測定装置の循環系に、上記測定装置の仕様に適合する濃度指数DV(Diffraction Volume)が0.01~0.09となるようにサンプルを滴下して測定した。
得られた溶射用スラリー中の希土類酸化物粒子について、(株)マウンテック製、全自動比表面積測定装置Macsorb HM model-1208を用いて測定した。
得られた溶射用スラリー中の希土類酸化物粒子について、X線回折法(特性X線:CuのKα線)により回折プロファイルを得、(431)面に帰属するピークにおける回折ピークの広がり(半値幅)を測定し、シェラーの式から算出した値を結晶子サイズとした。
得られた溶射用スラリー中の希土類酸化物粒子について、マイクロメリティックス製、水銀圧入式細孔分布測定装置Auto Pore IIIを用いて水銀圧入法により測定し、得られた細孔直径に対する積算細孔容積分布から、径10μm以下の細孔の累積容積(総容積)を算出した。
得られた溶射用スラリーについて、東機産業(株)製、TVB-10型粘度計を用い、回転速度を60rpm、回転時間を1分間に設定して測定した。
得られた溶射用スラリーについて、スラリーを十分に分散させた後に、700mLを1Lの透明ガラスビーカーに入れ、沈殿が生じるまでの時間を測定し、スラリーの高さから算出した。沈殿が生じた時点は、沈殿と沈降スラリー界面をビーカー外側から目視で確認できた時点とした。
得られた溶射皮膜(下層皮膜及び表層皮膜)について、試験片を樹脂に埋め込み、断面を切り出して、その表面を研磨して鏡面(面粗度Ra=0.1μm)とした後、電子顕微鏡により断面の写真(倍率:1000倍)を撮影した。5視野(1視野の撮影面積:0.01mm2)の撮影を行った後、画像解析ソフトウェア「ImageJ」(National Institutes of Healthによるパブリックソフトウェア)を使って気孔率の定量化を行い、画像全体の面積に対する気孔面積の百分率を気孔率として、5視野の平均値として評価した。
得られた溶射皮膜(下層皮膜及び表層皮膜)について、(株)東京精密製、表面粗さ測定器HANDYSURF E-35Aを用いて測定した。
得られた溶射皮膜(表層皮膜)について、試験片の表面を研磨して鏡面(面粗度Ra=0.1μm)とし、(株)ミツトヨ製のマイクロビッカース硬度計AVK-C1を用いて試験片の表面で測定し(荷重:300gf(2.94N)、荷重時間:10秒間)、5箇所の平均値として評価した。
1.粒子径D10が0.9μm以上、粒子径D50が1.5μm以上5μm以下、粒子径D90が6μm以下、かつBET比表面積が1m 2 /g未満であることを特徴とする希土類酸化物粒子。
2.X線回折法によって測定される(431)面における結晶子サイズが700nm以上であることを特徴とする1に記載の希土類酸化物粒子。
3.水銀圧入法により測定される細孔直径10μm以下の細孔容積が0.5cm 3 /g以下であることを特徴とする1又は2に記載の希土類酸化物粒子。
4.上記希土類酸化物を構成する希土類元素が、Y、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb及びLuから選ばれる1種以上の希土類元素を含むことを特徴とする1~3のいずれかに記載の希土類酸化物粒子。
5.溶射皮膜の形成用であることを特徴とする1~4のいずれかに記載の希土類酸化物粒子。
Claims (10)
- 分散媒と希土類酸化物粒子とを含み、該希土類酸化物粒子の粒子径D50が1.5μm以上5μm以下、かつBET比表面積が1m2/g未満であり、上記希土類酸化物粒子の含有率が10質量%以上45質量%以下であることを特徴とするサスペンションプラズマ溶射用スラリー。
- 上記希土類酸化物粒子の粒子径D10が0.9μm以上、かつ粒子径D90が6μm以下であることを特徴とする請求項1に記載のサスペンションプラズマ溶射用スラリー。
- 上記希土類酸化物粒子のX線回折法によって測定される(431)面における結晶子サイズが700nm以上であることを特徴とする請求項1又は2に記載のサスペンションプラズマ溶射用スラリー。
- 上記希土類酸化物粒子の水銀圧入法により測定される細孔直径10μm以下の細孔容積が0.5cm3/g以下であることを特徴とする請求項1~3のいずれか1項に記載のサスペンションプラズマ溶射用スラリー。
- 上記希土類酸化物を構成する希土類元素が、Y、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb及びLuから選ばれる1種以上の希土類元素を含むことを特徴とする請求項1~4のいずれか1項に記載のサスペンションプラズマ溶射用スラリー。
- 上記分散媒が、水及びアルコールから選ばれる1種又は2種を含むことを特徴とする請求項1~5のいずれか1項に記載のサスペンションプラズマ溶射用スラリー。
- 分散剤を3質量%以下の含有率で含むことを特徴とする請求項1~6のいずれか1項に記載のサスペンションプラズマ溶射用スラリー。
- 粘度が15mPa・s未満であることを特徴とする請求項1~7のいずれか1項に記載のサスペンションプラズマ溶射用スラリー。
- 粒子の沈降速度が50μm/秒以上であることを特徴とする請求項1~8のいずれか1項に記載のサスペンションプラズマ溶射用スラリー。
- 請求項1~9のいずれか1項に記載のサスペンションプラズマ溶射用スラリーを用い、サスペンションプラズマ溶射により、基材上に、希土類酸化物を含む溶射皮膜を形成することを特徴とする溶射皮膜の形成方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018151437 | 2018-08-10 | ||
JP2018151437 | 2018-08-10 | ||
JP2019142739A JP7156203B2 (ja) | 2018-08-10 | 2019-08-02 | サスペンションプラズマ溶射用スラリー及び溶射皮膜の形成方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019142739A Division JP7156203B2 (ja) | 2018-08-10 | 2019-08-02 | サスペンションプラズマ溶射用スラリー及び溶射皮膜の形成方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2022179582A true JP2022179582A (ja) | 2022-12-02 |
JP7367824B2 JP7367824B2 (ja) | 2023-10-24 |
Family
ID=69405578
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019142739A Active JP7156203B2 (ja) | 2018-08-10 | 2019-08-02 | サスペンションプラズマ溶射用スラリー及び溶射皮膜の形成方法 |
JP2022157882A Active JP7367824B2 (ja) | 2018-08-10 | 2022-09-30 | 希土類酸化物粒子 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019142739A Active JP7156203B2 (ja) | 2018-08-10 | 2019-08-02 | サスペンションプラズマ溶射用スラリー及び溶射皮膜の形成方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11149339B2 (ja) |
JP (2) | JP7156203B2 (ja) |
KR (2) | KR102501941B1 (ja) |
CN (2) | CN110819933B (ja) |
TW (1) | TWI823980B (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7331762B2 (ja) | 2019-04-12 | 2023-08-23 | 信越化学工業株式会社 | 溶射材料、その製造方法、及び溶射皮膜の形成方法 |
CN112063956A (zh) * | 2020-08-10 | 2020-12-11 | 暨南大学 | 一种悬浮液等离子喷涂高纯y2o3耐侵蚀涂层及其制备方法与应用 |
CN112501539A (zh) * | 2020-10-27 | 2021-03-16 | 沈阳富创精密设备股份有限公司 | 一种耐腐蚀涂层的制备方法 |
EP4071267A1 (en) | 2021-04-07 | 2022-10-12 | Treibacher Industrie AG | Suspension for thermal spray coatings |
CN114703463B (zh) * | 2022-03-24 | 2023-06-09 | 扬州大学 | 一种基于喷涂-化学气相沉积法制备纳米结构气敏薄膜的方法 |
KR102685027B1 (ko) | 2022-10-20 | 2024-07-17 | 주식회사 한탑 | 플라즈마 용사 코팅을 이용한 세라믹 나노분말 박막 형성법 및 이 방법으로 형성된 세라믹 나노분말 박막 |
CN117626159A (zh) * | 2023-11-20 | 2024-03-01 | 江苏凯威特斯半导体科技有限公司 | 一种高纯度y2o3立方相涂层的制备方法 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002363724A (ja) * | 2001-03-08 | 2002-12-18 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 溶射用球状粒子および溶射部材 |
JP2006037238A (ja) * | 2001-03-08 | 2006-02-09 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 溶射用球状粒子の製造方法 |
JP2006089338A (ja) * | 2004-09-24 | 2006-04-06 | Kyocera Corp | 耐食性部材とその製造方法、およびこれを用いた半導体・液晶製造装置用部材 |
JP2008088556A (ja) * | 2006-10-02 | 2008-04-17 | Sulzer Metco Ag | 柱状構造を有するコーティングの製造方法 |
JP2010150617A (ja) * | 2008-12-25 | 2010-07-08 | Fujimi Inc | 溶射用スラリー、溶射皮膜の形成方法、及び溶射皮膜 |
JP2010150616A (ja) * | 2008-12-25 | 2010-07-08 | Fujimi Inc | 溶射用粉末、溶射皮膜の形成方法、及び溶射皮膜 |
WO2014142017A1 (ja) * | 2013-03-13 | 2014-09-18 | 株式会社 フジミインコーポレーテッド | 溶射用スラリー、溶射皮膜、及び溶射皮膜の形成方法 |
JP2016138309A (ja) * | 2015-01-27 | 2016-08-04 | 日本イットリウム株式会社 | 溶射用粉末及び溶射材料 |
Family Cites Families (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3216683B2 (ja) * | 1993-10-08 | 2001-10-09 | 宇部興産株式会社 | セラミックス複合材料 |
JP3672833B2 (ja) | 2000-06-29 | 2005-07-20 | 信越化学工業株式会社 | 溶射粉及び溶射被膜 |
DE60127035T2 (de) * | 2000-06-29 | 2007-11-08 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Thermisches Sprühbeschichtungsverfahren und Pulver aus Oxyden der seltenen Erden dafür |
JP4231990B2 (ja) | 2001-03-21 | 2009-03-04 | 信越化学工業株式会社 | 希土類酸化物溶射用粒子およびその製造方法、溶射部材ならびに耐食性部材 |
DE60226370D1 (de) * | 2001-03-21 | 2008-06-19 | Shinetsu Chemical Co | Partikel aus Oxyden der seltenen Erden für das thermische Spritzen, gespritzte Objekte und Korrosionsbetändige Objekte |
US6596397B2 (en) * | 2001-04-06 | 2003-07-22 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Thermal spray particles and sprayed components |
JP4240928B2 (ja) | 2002-07-09 | 2009-03-18 | 住友金属鉱山株式会社 | 酸化物透明導電膜及びその製法 |
JP5159204B2 (ja) * | 2006-10-31 | 2013-03-06 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 溶射用粉末、溶射皮膜の形成方法、耐プラズマ性部材、及びプラズマ処理チャンバー |
KR20140108307A (ko) | 2011-12-28 | 2014-09-05 | 가부시키가이샤 후지미인코퍼레이티드 | 산화이트륨 피막 |
JP5939084B2 (ja) * | 2012-08-22 | 2016-06-22 | 信越化学工業株式会社 | 希土類元素オキシフッ化物粉末溶射材料の製造方法 |
JP6159792B2 (ja) | 2013-03-13 | 2017-07-05 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 溶射用スラリー及び溶射皮膜の形成方法 |
EP3031944A4 (en) | 2013-08-08 | 2017-02-01 | Nippon Yttrium Co., Ltd. | Slurry for thermal spraying |
JP5894198B2 (ja) * | 2014-01-06 | 2016-03-23 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 溶射用スラリー及び溶射皮膜の形成方法 |
JP6291069B2 (ja) | 2014-09-03 | 2018-03-14 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 溶射用スラリー、溶射皮膜および溶射皮膜の形成方法 |
JP5987097B2 (ja) * | 2015-09-07 | 2016-09-06 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 溶射皮膜 |
JP2017061735A (ja) | 2015-09-25 | 2017-03-30 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 溶射用スラリー |
JP6681168B2 (ja) | 2015-10-20 | 2020-04-15 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 溶射用スラリー、溶射皮膜および溶射皮膜の形成方法 |
JP6384536B2 (ja) * | 2015-10-23 | 2018-09-05 | 信越化学工業株式会社 | フッ化イットリウム溶射材料及びオキシフッ化イットリウム成膜部品の製造方法 |
JP6315151B1 (ja) * | 2016-07-14 | 2018-04-25 | 信越化学工業株式会社 | サスペンションプラズマ溶射用スラリー、及び希土類酸フッ化物溶射膜の形成方法 |
JP6650385B2 (ja) * | 2016-11-07 | 2020-02-19 | 東京エレクトロン株式会社 | 溶射用材料、溶射皮膜および溶射皮膜付部材 |
-
2019
- 2019-08-02 JP JP2019142739A patent/JP7156203B2/ja active Active
- 2019-08-07 KR KR1020190095863A patent/KR102501941B1/ko active IP Right Grant
- 2019-08-07 US US16/534,022 patent/US11149339B2/en active Active
- 2019-08-08 TW TW108128206A patent/TWI823980B/zh active
- 2019-08-09 CN CN201910732028.7A patent/CN110819933B/zh active Active
- 2019-08-09 CN CN202310729094.5A patent/CN116752075A/zh active Pending
-
2022
- 2022-09-30 JP JP2022157882A patent/JP7367824B2/ja active Active
-
2023
- 2023-02-15 KR KR1020230019778A patent/KR20230029720A/ko active IP Right Grant
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002363724A (ja) * | 2001-03-08 | 2002-12-18 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 溶射用球状粒子および溶射部材 |
JP2006037238A (ja) * | 2001-03-08 | 2006-02-09 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 溶射用球状粒子の製造方法 |
JP2006089338A (ja) * | 2004-09-24 | 2006-04-06 | Kyocera Corp | 耐食性部材とその製造方法、およびこれを用いた半導体・液晶製造装置用部材 |
JP2008088556A (ja) * | 2006-10-02 | 2008-04-17 | Sulzer Metco Ag | 柱状構造を有するコーティングの製造方法 |
JP2010150617A (ja) * | 2008-12-25 | 2010-07-08 | Fujimi Inc | 溶射用スラリー、溶射皮膜の形成方法、及び溶射皮膜 |
JP2010150616A (ja) * | 2008-12-25 | 2010-07-08 | Fujimi Inc | 溶射用粉末、溶射皮膜の形成方法、及び溶射皮膜 |
WO2014142017A1 (ja) * | 2013-03-13 | 2014-09-18 | 株式会社 フジミインコーポレーテッド | 溶射用スラリー、溶射皮膜、及び溶射皮膜の形成方法 |
JP2016138309A (ja) * | 2015-01-27 | 2016-08-04 | 日本イットリウム株式会社 | 溶射用粉末及び溶射材料 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN116752075A (zh) | 2023-09-15 |
US20200048752A1 (en) | 2020-02-13 |
US11149339B2 (en) | 2021-10-19 |
KR20200018300A (ko) | 2020-02-19 |
JP7156203B2 (ja) | 2022-10-19 |
CN110819933A (zh) | 2020-02-21 |
CN110819933B (zh) | 2023-07-04 |
JP7367824B2 (ja) | 2023-10-24 |
KR102501941B1 (ko) | 2023-02-22 |
TWI823980B (zh) | 2023-12-01 |
KR20230029720A (ko) | 2023-03-03 |
TW202022140A (zh) | 2020-06-16 |
JP2020026579A (ja) | 2020-02-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7156203B2 (ja) | サスペンションプラズマ溶射用スラリー及び溶射皮膜の形成方法 | |
JP6939853B2 (ja) | 溶射皮膜、溶射皮膜の製造方法、及び溶射部材 | |
JP6128362B2 (ja) | 成膜用粉末及び成膜用材料 | |
US9988702B2 (en) | Component for plasma processing apparatus and method for manufacturing component for plasma processing apparatus | |
JP7331762B2 (ja) | 溶射材料、その製造方法、及び溶射皮膜の形成方法 | |
JP2002080954A (ja) | 溶射粉及び溶射被膜 | |
KR102459191B1 (ko) | 서스펜션 플라스마 용사용 슬러리, 희토류산 불화물 용사막의 형성 방법 및 용사 부재 | |
US20190152863A1 (en) | Thermal spray material and thermal spray coated article | |
JP2006037238A (ja) | 溶射用球状粒子の製造方法 | |
JP4560387B2 (ja) | 溶射用粉末、溶射方法及び溶射皮膜 | |
JP2024028425A (ja) | 溶射皮膜、溶射部材、溶射皮膜の形成方法、及び溶射部材の製造方法 | |
JP2017061737A (ja) | 溶射材料 | |
JP2017061738A (ja) | 溶射材料 | |
CN115516124A (zh) | 悬浮等离子体热喷涂用浆料组合物、其制备方法及悬浮等离子体热喷涂涂膜 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20221027 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20221027 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20230824 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230912 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230925 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7367824 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |