JP2021103787A5 - 基板を搬送する方法 - Google Patents
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Description
本発明は、基板を搬送する方法に関する。
本発明の1つの側面は、減圧処理装置と接続されるトランスファー室に対してローダー室からロードロック装置を介して基板を搬送する方法に係り、前記ロードロック装置は、前記トランスファー室と接続される第1搬送口、および、前記ローダー室と接続される第2搬送口とを有するロードロック室と、前記ロードロック室の中で基板を保持する基板ホルダと、前記基板ホルダを昇降させるように前記ロードロック室の下方に配置され、連結部材を介して前記基板ホルダに連結された駆動機構と、前記ロードロック室の下部から側方に延長された延長室と、前記延長室の下方に配置され前記延長室を介して前記ロードロック室のガスを排出するポンプと、前記第1搬送口を通して前記基板が前記トランスファー室に搬送される状態における前記基板ホルダと前記トランスファー室との間の経路の上方に配置されたガス導入部と、を備え、前記延長室は、前記基板ホルダの鉛直下方からずれた位置に開口を有する底面を有し、前記開口に前記ポンプが接続され、前記基板ホルダの側面と前記ロードロック室の内側面との間隙の面積が前記第2搬送口の断面積より小さく、前記方法は、前記ローダー室から前記第2搬送口を通して前記ロードロック室の内部空間に前記基板を搬送する際に、前記ガス導入部から前記ロードロック室の前記内部空間に導入されたガスの一部が前記間隙を通して前記ポンプによって排出されることを含む。
Claims (19)
- 減圧処理装置と接続されるトランスファー室に対してローダー室からロードロック装置を介して基板を搬送する方法であって、
前記ロードロック装置は、
前記トランスファー室と接続される第1搬送口、および、前記ローダー室と接続される第2搬送口とを有するロードロック室と、
前記ロードロック室の中で基板を保持する基板ホルダと、
前記基板ホルダを昇降させるように前記ロードロック室の下方に配置され、連結部材を介して前記基板ホルダに連結された駆動機構と、
前記ロードロック室の下部から側方に延長された延長室と、
前記延長室の下方に配置され前記延長室を介して前記ロードロック室のガスを排出するポンプと、
前記第1搬送口を通して前記基板が前記トランスファー室に搬送される状態における前記基板ホルダと前記トランスファー室との間の経路の上方に配置されたガス導入部と、を備え、
前記延長室は、前記基板ホルダの鉛直下方からずれた位置に開口を有する底面を有し、前記開口に前記ポンプが接続され、
前記基板ホルダの側面と前記ロードロック室の内側面との間隙の面積が前記第2搬送口の断面積より小さく、
前記方法は、
前記ローダー室から前記第2搬送口を通して前記ロードロック室の内部空間に前記基板を搬送する際に、前記ガス導入部から前記ロードロック室の前記内部空間に導入されたガスの一部が前記間隙を通して前記ポンプによって排出されることを含む、
ことを特徴とする方法。 - 減圧処理装置と接続されるトランスファー室に対してローダー室からロードロック装置を介して基板を搬送する方法であって、
前記ロードロック装置は、
前記トランスファー室と接続される第1搬送口、および、前記ローダー室と接続される第2搬送口とを有するロードロック室と、
前記ロードロック室の中で基板を保持する基板ホルダと、
前記基板ホルダを昇降させるように前記ロードロック室の下方に配置され、連結部材を介して前記基板ホルダに連結された駆動機構と、
前記ロードロック室の下部から側方に延長された延長室と、
前記延長室の下方に配置され前記延長室を介して前記ロードロック室のガスを排出するポンプと、
前記第1搬送口を通して前記基板が前記トランスファー室に搬送される状態における前記基板ホルダと前記トランスファー室との間の経路の上方に配置されたガス導入部と、を備え、
前記延長室は、前記基板ホルダの鉛直下方からずれた位置に開口を有する底面を有し、前記開口に前記ポンプが接続され、
前記基板ホルダの側面と前記ロードロック室の内側面との間隙の面積が前記第2搬送口の断面積の1/2より小さく、
前記方法は、
前記ローダー室から前記第2搬送口を通して前記ロードロック室の内部空間に前記基板を搬送する際に、前記ガス導入部から前記ロードロック室の前記内部空間に導入されたガスの一部が前記間隙を通して前記ポンプによって排出されることを含む、
ことを特徴とする方法。 - 減圧処理装置と接続されるトランスファー室に対してローダー室からロードロック装置を介して基板を搬送する方法であって、
前記ロードロック装置は、
前記トランスファー室と接続される第1搬送口、および、前記ローダー室と接続される第2搬送口とを有するロードロック室と、
前記ロードロック室の中で基板を保持する基板ホルダと、
前記基板ホルダを昇降させるように前記ロードロック室の下方に配置され、連結部材を介して前記基板ホルダに連結された駆動機構と、
前記ロードロック室の下部から側方に延長された延長室と、
前記延長室の下方に配置され前記延長室を介して前記ロードロック室のガスを排出するポンプと、を備え、
前記延長室は、前記基板ホルダの鉛直下方からずれた位置に開口を有する底面を有し、前記開口に前記ポンプが接続され、
前記基板ホルダの側面と前記ロードロック室の内側面との間隙の面積は、前記開口の断面積より小さく、
前記方法は、
前記ローダー室から前記第2搬送口を通して前記ロードロック室の内部空間に前記基板を搬送する際に、前記ロードロック室の前記内部空間のガスの一部が前記間隙を通して前記ポンプによって排出されることを含む、
ことを特徴とする方法。 - 減圧処理装置と接続されるトランスファー室に対してローダー室からロードロック装置を介して基板を搬送する方法であって、
前記ロードロック装置は、
減圧処理装置と接続されるトランスファー室と接続される第1搬送口、および、ローダー室と接続される第2搬送口とを有するロードロック室と、
前記ロードロック室の中で基板を保持する基板ホルダと、
前記基板ホルダを昇降させるように前記ロードロック室の下方に配置され、連結部材を介して前記基板ホルダに連結された駆動機構と、
前記ロードロック室の下部から側方に延長された延長室と、
前記延長室の下方に配置され前記延長室を介して前記ロードロック室のガスを排出するポンプと、を備え、
前記延長室は、前記基板ホルダの鉛直下方からずれた位置に開口を有する底面を有し、前記開口に前記ポンプが接続され、
前記基板ホルダの側面と前記ロードロック室の内側面との間隙の面積は、前記ロードロック室と前記延長室との間の接続部分の断面積より小さく、
前記方法は、
前記ローダー室から前記第2搬送口を通して前記ロードロック室の内部空間に前記基板を搬送する際に、前記ロードロック室の前記内部空間のガスの一部が前記間隙を通して前記ポンプによって排出される工程を含む、
ことを特徴とする方法。 - 前記ロードロック装置は、前記第1搬送口を通して前記基板が前記トランスファー室に搬送される状態における前記基板ホルダと前記トランスファー室との間の経路の上方に配置されたガス導入部を更に備え、
前記方法は、前記ローダー室から前記第2搬送口を通して前記ロードロック室の内部空間に前記基板を搬送する際に、前記ガス導入部から前記ロードロック室の前記内部空間にガスを導入することを含む、
ことを特徴とする請求項3に記載の方法。 - 前記ロードロック装置は、前記第1搬送口を通して前記基板が前記トランスファー室に搬送される状態における前記基板ホルダと前記トランスファー室との間の経路の上方に配置されたガス導入部を更に備え、
前記方法は、前記ローダー室から前記第2搬送口を通して前記ロードロック室の内部空間に前記基板を搬送する際に、前記ガス導入部から前記ロードロック室の前記内部空間にガスを導入することを含む、
ことを特徴とする請求項4に記載の方法。 - 前記第1搬送口の高さは、前記第2搬送口の高さより低い、
ことを特徴とする請求項5または6に記載の方法。 - 前記ガス導入部は、ガスを分散させるガス分散部を含み、
前記ガス分散部は、前記第2搬送口に対向する位置に配置されている、
ことを特徴とする請求項1、2、5及び6のいずれか1項に記載の方法。 - 前記基板ホルダの高さ方向の寸法は、前記基板ホルダの側面と前記ロードロック室の内側面との間隙の寸法より大きい、
ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の方法。 - 前記基板ホルダの高さ方向の寸法は、前記基板ホルダの側面と前記ロードロック室の内側面との間隙の最大寸法の3倍以上かつ115倍以下である、
ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の方法。 - 前記延長室の高さ方向の寸法は、前記基板ホルダの高さ方向の寸法より大きい、
ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の方法。 - 前記第1搬送口を通して前記ロードロック室と前記トランスファー室との間で基板が移動する状態において、前記基板ホルダの下端の高さが前記延長室の天井面の高さより高い、
ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の方法。 - 前記延長室の少なくとも一部は、前記第2搬送口と前記ポンプとの間に配置される、
ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の方法。 - 前記延長室の少なくとも一部は、前記ローダー室と前記ポンプとの間に配置される、
ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の方法。 - 前記ガス導入部は、前記ロードロック室の内部空間にガスを分散させるガス分散部を含み、
前記ガス分散部は、前記第2搬送口に対向するように配置され、
前記延長室の少なくとも一部は、前記第2搬送口と前記ポンプとの間に配置される、
ことを特徴とする請求項1、2、5及び6のいずれか1項に記載の方法。 - 前記ガス導入部は、前記ロードロック室の内部空間にガスを分散させるガス分散部を含み、
前記ガス分散部は、前記第2搬送口に対向するように配置され、
前記延長室の少なくとも一部は、前記ローダー室と前記ポンプとの間に配置される、
ことを特徴とする請求項1、2、5及び6のいずれか1項に記載の方法。 - 前記基板ホルダが配置されうる位置は、前記基板ホルダによって保持された前記基板の側面の一部が前記ガス分散部に対向する位置を含む、
ことを特徴とする請求項16に記載の方法。 - 前記ガス導入部は、前記ロードロック室の内部空間にガスを分散させるガス分散部を含み、
前記ロードロック装置が配置された床に対する正射影において、前記ガス分散部と前記延長室との間に前記基板ホルダが位置する、
ことを特徴とする請求項1、2、5及び6のいずれか1項に記載の方法。 - 前記ガス導入部は、前記ロードロック室の内部空間にガスを分散させるガス分散部を含み、
前記ロードロック装置が配置された床に対する正射影において、前記ガス分散部と前記開口との間に前記基板ホルダが位置する、
ことを特徴とする請求項1、2、5及び6のいずれか1項に記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/JP2019/035247 WO2021044622A1 (ja) | 2019-09-06 | 2019-09-06 | ロードロック装置 |
WOPCT/JP2019/035247 | 2019-09-06 | ||
JP2020154841A JP6861317B2 (ja) | 2019-09-06 | 2020-09-15 | ロードロック装置 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020154841A Division JP6861317B2 (ja) | 2019-09-06 | 2020-09-15 | ロードロック装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021103787A JP2021103787A (ja) | 2021-07-15 |
JP2021103787A5 true JP2021103787A5 (ja) | 2023-07-06 |
JP7474219B2 JP7474219B2 (ja) | 2024-04-24 |
Family
ID=74164574
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020146981A Active JP6815554B1 (ja) | 2019-09-06 | 2020-09-01 | ロードロック装置 |
JP2020154841A Active JP6861317B2 (ja) | 2019-09-06 | 2020-09-15 | ロードロック装置 |
JP2021050232A Active JP7474219B2 (ja) | 2019-09-06 | 2021-03-24 | 基板を搬送する方法 |
Family Applications Before (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020146981A Active JP6815554B1 (ja) | 2019-09-06 | 2020-09-01 | ロードロック装置 |
JP2020154841A Active JP6861317B2 (ja) | 2019-09-06 | 2020-09-15 | ロードロック装置 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20220139729A1 (ja) |
EP (1) | EP4027372A4 (ja) |
JP (3) | JP6815554B1 (ja) |
KR (1) | KR20220025881A (ja) |
CN (2) | CN118213259A (ja) |
TW (2) | TWI754371B (ja) |
WO (2) | WO2021044622A1 (ja) |
Family Cites Families (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06158284A (ja) * | 1992-11-17 | 1994-06-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 真空装置 |
JP2932946B2 (ja) * | 1993-09-17 | 1999-08-09 | 株式会社日立製作所 | プラズマ処理装置 |
JPH1050802A (ja) * | 1996-08-05 | 1998-02-20 | Kokusai Electric Co Ltd | 基板処理装置 |
JP4116149B2 (ja) | 1997-11-25 | 2008-07-09 | 株式会社日本製鋼所 | 枚葉式ロードロック装置 |
JPH11186355A (ja) * | 1997-12-22 | 1999-07-09 | Tokyo Electron Ltd | ロードロック機構、基板処理装置および基板処理方法 |
JP3914684B2 (ja) * | 2000-04-05 | 2007-05-16 | サンデン株式会社 | 自動販売機 |
US6562141B2 (en) * | 2000-07-03 | 2003-05-13 | Andrew Peter Clarke | Dual degas/cool loadlock cluster tool |
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JP4841035B2 (ja) * | 2000-11-27 | 2011-12-21 | 東京エレクトロン株式会社 | 真空処理装置 |
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JP2004087781A (ja) * | 2002-08-27 | 2004-03-18 | Ulvac Japan Ltd | 真空処理装置及び真空処理方法 |
JP4118189B2 (ja) * | 2003-05-20 | 2008-07-16 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | ロードロック装置 |
JP4619854B2 (ja) * | 2005-04-18 | 2011-01-26 | 東京エレクトロン株式会社 | ロードロック装置及び処理方法 |
KR100665855B1 (ko) * | 2006-02-01 | 2007-01-09 | 삼성전자주식회사 | 반도체 디바이스 제조설비의 진공장치 및 이를 이용한진공방법 |
JP4985031B2 (ja) * | 2007-03-29 | 2012-07-25 | 東京エレクトロン株式会社 | 真空処理装置、真空処理装置の運転方法及び記憶媒体 |
JP5193904B2 (ja) * | 2009-02-27 | 2013-05-08 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | プラズマ処理装置 |
JP2011049507A (ja) * | 2009-08-29 | 2011-03-10 | Tokyo Electron Ltd | ロードロック装置及び処理システム |
JP2011127136A (ja) * | 2009-12-15 | 2011-06-30 | Canon Anelva Corp | スパッタリング装置および、該スパッタリング装置を用いた半導体デバイスの製造方法 |
WO2012077547A1 (ja) * | 2010-12-09 | 2012-06-14 | 東京エレクトロン株式会社 | ロードロック装置 |
JP2012195427A (ja) | 2011-03-16 | 2012-10-11 | Ulvac Japan Ltd | 基板処理装置及び基板処理方法 |
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JP2016004834A (ja) | 2014-06-13 | 2016-01-12 | 東京エレクトロン株式会社 | 真空処理装置 |
CN105789091B (zh) * | 2016-03-16 | 2020-04-24 | 沈阳拓荆科技有限公司 | 负载腔室及其使用该负载腔室之多腔室处理系统 |
US11948810B2 (en) * | 2017-11-15 | 2024-04-02 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Apparatus for processing substrates or wafers |
-
2019
- 2019-09-06 WO PCT/JP2019/035247 patent/WO2021044622A1/ja active Application Filing
-
2020
- 2020-09-01 JP JP2020146981A patent/JP6815554B1/ja active Active
- 2020-09-02 CN CN202410335147.XA patent/CN118213259A/zh active Pending
- 2020-09-02 CN CN202080051147.7A patent/CN114127332B/zh active Active
- 2020-09-02 KR KR1020227003150A patent/KR20220025881A/ko active IP Right Grant
- 2020-09-02 EP EP20861735.7A patent/EP4027372A4/en active Pending
- 2020-09-02 WO PCT/JP2020/033160 patent/WO2021045069A1/ja unknown
- 2020-09-04 TW TW109130336A patent/TWI754371B/zh active
- 2020-09-04 TW TW111101618A patent/TWI790094B/zh active
- 2020-09-15 JP JP2020154841A patent/JP6861317B2/ja active Active
-
2021
- 2021-03-24 JP JP2021050232A patent/JP7474219B2/ja active Active
-
2022
- 2022-01-14 US US17/576,111 patent/US20220139729A1/en active Pending
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