TWI754371B - 負載鎖定裝置 - Google Patents

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TWI754371B
TWI754371B TW109130336A TW109130336A TWI754371B TW I754371 B TWI754371 B TW I754371B TW 109130336 A TW109130336 A TW 109130336A TW 109130336 A TW109130336 A TW 109130336A TW I754371 B TWI754371 B TW I754371B
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Abstract

本發明提供的負載鎖定裝置，係具備：具有連接於與減壓處理裝置相連接的轉送室之第1搬運口、和連接於裝載室的第2搬運口之負載鎖定室；在前述負載鎖定室中，用來保持基板之基板保持具；配置在前述負載鎖定室的下方，經由連結構件而連結在前述基板保持具之用來使前述基板保持具進行昇降之驅動機構；從前述負載鎖定室的下部往側方延長之延長室；以及配置在前述延長室的下方，且經由前述延長室來將前述負載鎖定室的氣體予以排出之泵浦。而前述延長室係具備：在偏離開前述基板保持具的鉛直下方的位置處設有開口之底面，而前述泵浦係連接於前述開口。

Description

負載鎖定裝置
本發明係關於：負載鎖定裝置。
專利文獻1所揭示的負載鎖定裝置，係具有：真空容器、在真空容器之中進行昇降的基板平台、以及透過被配置在真空容器的底面中之位於基板平台下方的開口來與真空容器相連接的高真空泵浦。
然而，在這種設置有：透過被配置在真空容器的底面中之位於基板平台下方的開口來與真空容器相連接的泵浦的構造中，泵浦所產生的微粒子、或者受到泵浦所吸引且撞擊到泵浦而反彈回來的微粒子將會往上飛揚，抵達到基板上方側的空間而有附著在基板上的可能。這種微粒子很有可能會導致使用這種基板所製造出來的物品的製造不良(亦即，降低製品良率)。基於為了要減少微粒子往上飛揚到基板的上方的空間之考量，而將基板平台的側面與真空容器的內面之間的間隙予以縮小的話，將會降低泵浦可達成的排氣效率。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開平11-217670號公報
本發明係提供：能夠有效地減少來自泵浦的微粒子往基板的上方的空間飛揚之技術。
本發明的其中一種面向，係關於：負載鎖定裝置，前述負載鎖定裝置係具備：具有連接於與減壓處理裝置相連接的轉送室之第1搬運口、和連接於裝載室的第2搬運口之負載鎖定室；在前述負載鎖定室中，用來保持基板之基板保持具；配置在前述負載鎖定室的下方，經由連結構件而連結在前述基板保持具之用來使前述基板保持具進行昇降之驅動機構；從前述負載鎖定室的下部往側方延長之延長室；以及配置在前述延長室的下方，且經由前述延長室來將前述負載鎖定室的氣體予以排出之泵浦，而前述延長室係具備：在偏離開前述基板保持具的鉛直下方的位置處設有開口之底面，而前述泵浦係連接於前述開口。
茲佐以圖面詳細說明實施方式如下。再者，以下的實施方式並不是用來限定申請專利範圍所記載的發明。在實施方式中雖然記載著複數個特徵，但這些複數個特徵並非全部都是發明的必要構件，也可以將這些複數個特徵依照實際的需要來加以組合。此外，在圖面中，針對於同一個構件或同樣的構件，都標註同一個元件符號，並且省略其重複的說明。
圖1係顯示具備本發明的其中一種實施方式的負載鎖定裝置100的處理裝置的構成要件之示意圖。負載鎖定裝置100係可具有：配置於裝載室30與轉送室20之間的負載鎖定室110。裝載室30內係可以被保持在大氣環境的狀態。在裝載室30內，例如：係可以從載具來提供基板S。或者，也可以從前處理裝置將基板S提供到裝載室30內。裝載室30係可在其頂棚具備濾清器32，而從頂棚通過濾清器32將氣體往下供給到裝載室30的內部空間。在裝載室30中係配置有搬運用機械人34，可以利用搬運用機械人34來搬運基板S。搬運用機械人34係可通過閥門50而將基板S從裝載室30搬運到負載鎖定室110。基板S被搬運到負載鎖定室110內之後，就將該室內充分地進行減壓。然後，配置在轉送室20內的搬運用機械人22，係可通過閥門40而將基板S從負載鎖定室110搬運到轉送室20。然後，搬運用機械人22係可通過閥門60而從轉送室20將基板S搬運到減壓處理裝置10。減壓處理裝置10，可以是例如：化學氣相沉積(CVD)裝置、物理氣相沉積(PVD)裝置、蝕刻裝置、電漿處理裝置以及電子束描繪裝置的其中一種。
負載鎖定室110，係可以具有：連接於與減壓處理裝置10相連接的轉送室20之第1搬運口111、以及連接於裝載室30之第2搬運口112。在一種例子中，第1搬運口111的高度(例如：第1搬運口111之下端的高度)係低於第2搬運口112的高度(例如：第2搬運口112之下端的高度)。第1搬運口111係可以被配置成：可通過閥門40來與轉送室20的內部空間相連通。第2搬運口112係可以被配置成：可通過閥門50來與裝載室30的內部空間相連通。
負載鎖定裝置100，係可以具備：在負載鎖定室110中，用來保持基板S之基板保持具120。基板保持具120係可以具有例如：與基板S進行接觸且用來保持基板S之複數個接觸部124。負載鎖定裝置100係可以具備：驅動機構130。驅動機構130，係被配置在負載鎖定室110的下方，且用來使基板保持具120進行昇降。驅動機構130係可經由連結構件122來連結於基板保持具120。
負載鎖定室110，係可以具備：從負載鎖定室110的下部往側方延長之延長室140、以及被配置在延長室140的下方且經由延長室140來將負載鎖定室110內的氣體予以排出之泵浦150。延長室140，係可以具備：具有設在偏離開基板保持具120的鉛直下方的位置處的開口142之底面144。泵浦150，係可連接於開口142。雖然沒有圖示出來，但可以在泵浦150與開口142之間，配置閥門。
泵浦150係可以包含例如：旋轉泵浦、以及被配置在該旋轉泵浦與開口142之間的渦輪分子泵浦。渦輪分子泵浦的渦輪，在作動時係進行高速旋轉。被渦輪分子泵浦所吸引過來的微粒子與渦輪發生撞擊的話，將會被渦輪彈飛出去。此外，無論泵浦150是否為渦輪分子泵浦，泵浦150本身都會產生微粒子。因此，係將泵浦150連接於：開設在從負載鎖定室110的下部往側方延長之延長室140的底面144的開口142為佳。如此一來，可以減少來自泵浦150的微粒子通過基板保持具120的側面與負載鎖定室的內側面之間隙G而抵達基板S的上方的空間，因而附著在基板S上之情事。
負載鎖定裝置100，係可以具備用來將氣體(例如：淨化後的乾空氣或氮氣)導入負載鎖定室110之氣體導入部160。氣體導入部160，係可以配置在例如：基板S通過第1搬運口111而被搬運到轉送室20的狀態時之基板保持具120與轉送室20之間的通道的上方。在一種例子中，氣體導入部160係可以配置在第1搬運口111的上方。氣體導入部160，係可以包含用來將氣體分散到負載鎖定室110的內部空間之氣體分散部162。氣體分散部162之至少一部分，係可以配置在負載鎖定室110的內部。氣體分散部162，係可以配置於與第2搬運口112相對向的位置。氣體導入部160，係可以包含用來調整氣體的導入量之流量調整閥門164。
配置在負載鎖定室110的第2搬運口112與裝載室30之間的閥門50，係可以連接於氣體排出管路52。位於第2搬運口112附近的空間內的氣體，係可以通過氣體排出管路52而排出到負載鎖定室110的外部空間。氣體排出管路52，係可以連接於未圖示的泵浦。 第2搬運口112之至少一部分，係可以配置在延長室140之上方(鉛直上方)。或者，延長室140之至少一部分，係可以配置在第2搬運口112與泵浦150之間。這樣的結構，係有助於縮小負載鎖定裝置100的設置面積。 裝載室30之至少一部分，係可以配置在延長室140的上方(鉛直上方)。或者，延長室140之至少一部分，係可以配置在裝載室30與泵浦150之間。這樣的結構，也有助於縮小負載鎖定裝置100的設置面積。 如圖1~圖5所示，基板保持具120，係可配置在負載鎖定室110的內部空間中的複數個位置。如圖1所示，該複數個位置，係可以包含：被基板保持具120所保持的基板S的側面的一部分面對於氣體分散部162的位置。此處，被基板保持具120所保持的基板S的側面(外周面)的該一部分，係可以沿著與基板S的表面平行的方向，面對於氣體分散部162。 圖6係顯示負載鎖定室110、延長室140以及氣體分散部162的配置之平面圖。這個平面圖，係可以視為：對於配置了負載鎖定裝置100的地板面的正投影。基板保持具120，係可以在該平面圖或該正投影中，位於氣體分散部162與延長室140之間。或者，開口142，係可以在該平面圖或該正投影中，位於氣體分散部162與延長室140之間。 被基板保持具120所保持的基板S，係可以具有矩形形狀。或者，被基板保持具120所保持的基板S，係可以具有已設置了用來表示基準方位的缺口部之圓形形狀。此外，被基板保持具120所保持的基板S，也可以是具有別種的形狀。
基板保持具120的側面與負載鎖定室110的內側面之間隙G的面積，係小於第2搬運口112的截面積為佳。間隙G的面積，係小於第2搬運口112的截面積的1/2、1/3或1/4更好。這樣的結構，當從裝載室30通過第2搬運口112將基板S搬運到負載鎖定室110的內部空間時，可以有助於：將從氣體分散部162導入到負載鎖定室110的內部空間內的氣體通過第2搬運口112以及氣體排出管路52而排出的氣體量，設定成大於從基板S上方的空間通過間隙G而被排出到基板保持具120下方的空間的氣體量。如此一來，可以很有效地抑制：微粒子從裝載室30通過第2搬運口112進入到負載鎖定室110的內部空間內。
基板保持具120的側面與負載鎖定室110的內側面之間隙G的面積，係小於設在延長室140的底面144的開口142的截面積為佳。這樣的結構，係可以有助於減少來自泵浦150的微粒子通過間隙G到達基板S上方的空間而附著在基板S上。間隙G的面積，係小於負載鎖定室110與延長室140之間的連接部分146的截面積(在鉛直面中的截面積)為佳。這樣的結構，也可以有助於減少來自泵浦150的微粒子通過間隙G到達基板S上方的空間而附著在基板S上。
基板保持具120之高度方向的尺寸Hh，係大於基板保持具120的側面與負載鎖定室110的內側面之間隙G的尺寸Lg(基板保持具120的側面與負載鎖定室110的內側面之距離)為佳。這樣的結構，係可以有助於抑制來自泵浦150的微粒子通過間隙G。基板保持具120的高度方向的尺寸Hh，是間隙G的最大尺寸的3倍以上且115倍以下為佳。這樣的結構，係可以有助於抑制來自泵浦150的微粒子通過間隙G，又可以抑制負載鎖定室110的大型化。
延長室140之高度方向的尺寸He，係大於基板保持具120的高度方向Hh的尺寸為佳。這樣的結構，係可以有助於提高泵浦150所達成之排出氣體的效率。在基板S通過第1搬運口111而在負載鎖定室110與轉送室20之間移動的狀態下，基板保持具120之下端的高度，係高於延長室140之頂棚面145的高度為佳。這樣的結構，係可以有助於在該狀態下之泵浦150所達成之排出氣體的效率。
圖2、圖3、圖4以及圖5係顯示圖1所示的處理裝置的作動之例子。首先，氣體是從氣體導入部160導入(供給)到負載鎖定室110的內部空間，同時又可以利用泵浦150將該內部空間的氣體排出到負載鎖定室110的外部空間。此時，係可以將從氣體導入部160導入該內部空間的氣體的導入量，設定成大於泵浦150所達成之氣體的排出量，以使得該內部空間的壓力上昇。該內部空間的壓力達到大氣壓以上的話，就如圖2所示般地，將閥門50打開，並且可以開始利用氣體排出管路52將氣體予以排出。然後，可以利用搬運用機械人34將基板S從裝載室30搬運到負載鎖定室110的內部空間的基板保持具120。
然後，如圖3所示般地，將閥門50關閉，可以利用驅動機構130來將基板保持具120往上方驅動。又，在氣體被從氣體導入部160導入到負載鎖定室110的內部空間的狀態下，提高利用泵浦150將氣體從該內部空間排出的氣體量，來對於該內部空間進行減壓。然後，停止從氣體導入部160對於該內部空間導入氣體，並且可以更加提高泵浦150從該內部空間排出氣體的量。
將負載鎖定室110的內部空間的壓力充分地減壓之後，就如圖4所示般地，可以利用驅動機構130將基板保持具120往下方驅動，直到抵達可將基板S往轉送室20進行搬運的高度為止。然後，如圖5所示般地，將閥門40打開，可以利用搬運用機械人22將基板S從負載鎖定室110的內部空間搬運到轉送室20，並且再搬運到減壓處理裝置10。然後，將閥門40關閉，並且在減壓處理裝置10中對於基板S進行加工處理。
然後，將閥門40打開，如圖5所示般地，可以利用搬運用機械人22將減壓處理裝置10中的基板S搬運到負載鎖定室110的內部空間。然後，可以將閥門40關閉。
然後，從氣體導入部160將氣體導入到負載鎖定室110的內部空間，並且可以利用泵浦150將該內部空間的氣體排出到負載鎖定室110的外部空間。這個時候，係可以將從氣體導入部160導入到該內部空間的氣體量設定成大於泵浦150所排出的氣體量，以使得該內部空間的壓力上昇。該內部空間的壓力上昇到達大氣壓以上的話，就如圖2所示般地，係可以打開閥門50並且開始利用氣體排出管路52來排出氣體。然後，可以利用搬運用機械人34將基板S從負載鎖定室110的內部空間的基板保持具120搬運到裝載室30。然後，係可以將閥門50關閉，來停止利用氣體排出管路52排出氣體。
本發明並不侷限於上述實施方式，只要是不脫離本發明的精神及範圍的話，都可以做各種的變更及變形。因此，佐以請求項來將本發明的範圍予以公開。
10:減壓處理裝置 20:轉送室 22:搬運用機械人 30:裝載室 32:濾清器 34:搬運用機械人 40:閥門 50:閥門 52:氣體排出管路 60:閥門 100:負載鎖定裝置 110:負載鎖定室 111:第1搬運口 112:第2搬運口 120:基板保持具 122:連結構件 124:接觸部 130:驅動機構 140:延長室 142:開口 144:底面 145:頂棚面 146:連接部分 150:泵浦 160:氣體導入部 162:氣體分散部 164:流量調整閥門 S:基板 G:間隙 Lg:間隙G的尺寸 Hh:基板保持具120之高度方向的尺寸 He:延長室140之高度方向的尺寸
[圖1]係顯示具備本發明的其中一種實施方式的負載鎖定裝置之處理裝置的構成要件之示意圖。 [圖2]係顯示具備本發明的其中一種實施方式的負載鎖定裝置之處理裝置的動作之例示圖。 [圖3]係顯示具備本發明的其中一種實施方式的負載鎖定裝置之處理裝置的動作之例示圖。 [圖4]係顯示具備本發明的其中一種實施方式的負載鎖定裝置之處理裝置的動作之例示圖。 [圖5]係顯示具備本發明的其中一種實施方式的負載鎖定裝置之處理裝置的動作之例示圖。 [圖6]係顯示負載鎖定室、延長室及氣體分散部的配置之平面圖。
10:減壓處理裝置
20:轉送室
22:搬運用機械人
30:裝載室
32:濾清器
34:搬運用機械人
40:閥門
50:閥門
52:氣體排出管路
60:閥門
100:負載鎖定裝置
110:負載鎖定室
111:第1搬運口
112:第2搬運口
120:基板保持具
122:連結構件
124:接觸部
130:驅動機構
140:延長室
142:開口
144:底面
145:頂棚面
146:連接部分
150:泵浦
160:氣體導入部
162:氣體分散部
164:流量調整閥門
S:基板
G:間隙
Lg:間隙G的尺寸
Hh:基板保持具120之高度方向的尺寸
He:延長室140之高度方向的尺寸

Claims (22)

  1. 一種負載鎖定裝置，其特徵為，其係具備：具有連接於與減壓處理裝置相連接的轉送室之第1搬運口、和連接於裝載室的第2搬運口之負載鎖定室；在前述負載鎖定室中，用來保持基板之基板保持具；配置在前述負載鎖定室的下方，經由連結構件而連結在前述基板保持具之用來使前述基板保持具進行昇降之驅動機構；從前述負載鎖定室的下部往側方延長之延長室；以及配置在前述延長室的下方，且經由前述延長室來將前述負載鎖定室的氣體予以排出之泵浦，前述延長室係具備：在偏離開前述基板保持具的鉛直下方的位置處設有開口之底面，而前述泵浦係連接於前述開口；前述第2搬運口的至少一部分配置於前述延長室的上方。
  2. 一種負載鎖定裝置，其特徵為，其係具備：具有連接於與減壓處理裝置相連接的轉送室之第1搬運口、和連接於裝載室的第2搬運口之負載鎖定室；在前述負載鎖定室中，用來保持基板之基板保持具；配置在前述負載鎖定室的下方，經由連結構件而連結在前述基板保持具之用來使前述基板保持具進行昇降之驅 動機構；從前述負載鎖定室的下部往側方延長之延長室；以及配置在前述延長室的下方，且經由前述延長室來將前述負載鎖定室的氣體予以排出之泵浦，前述延長室係具備：在偏離開前述基板保持具的鉛直下方的位置處設有開口之底面，而前述泵浦係連接於前述開口；前述裝載室的至少一部分配置於前述延長室的上方。
  3. 一種負載鎖定裝置，其特徵為，其係具備：具有連接於與減壓處理裝置相連接的轉送室之第1搬運口、和連接於裝載室的第2搬運口之負載鎖定室；在前述負載鎖定室中，用來保持基板之基板保持具；配置在前述負載鎖定室的下方，經由連結構件而連結在前述基板保持具之用來使前述基板保持具進行昇降之驅動機構；從前述負載鎖定室的下部往側方延長之延長室；配置在前述延長室的下方，且經由前述延長室來將前述負載鎖定室的氣體予以排出之泵浦；以及使氣體分散到前述負載鎖定室的內部空間的氣體分散部，前述延長室係具備：在偏離開前述基板保持具的鉛直下方的位置處設有開口之底面，而前述泵浦係連接於前述開口； 前述氣體分散部，配置成與前述第2搬運口相對向；前述第2搬運口的至少一部分配置於前述延長室的上方。
  4. 一種負載鎖定裝置，其特徵為，其係具備：具有連接於與減壓處理裝置相連接的轉送室之第1搬運口、和連接於裝載室的第2搬運口之負載鎖定室；在前述負載鎖定室中，用來保持基板之基板保持具；配置在前述負載鎖定室的下方，經由連結構件而連結在前述基板保持具之用來使前述基板保持具進行昇降之驅動機構；從前述負載鎖定室的下部往側方延長之延長室；配置在前述延長室的下方，且經由前述延長室來將前述負載鎖定室的氣體予以排出之泵浦；以及使氣體分散到前述負載鎖定室的內部空間的氣體分散部，前述延長室係具備：在偏離開前述基板保持具的鉛直下方的位置處設有開口之底面，而前述泵浦係連接於前述開口；前述氣體分散部，配置成與前述第2搬運口相對向；前述裝載室的至少一部分配置於前述延長室的上方。
  5. 如請求項1至4中任一項所述之負載鎖定裝置，其中，還具備氣體導入部，其係配置在：通過前述第1搬運口來將前述基板搬運到前述轉送室的狀態時之前 述基板保持具與前述轉送室之間的路徑的上方。
  6. 如請求項5所述之負載鎖定裝置，其中，前述第1搬運口的高度，係低於前述第2搬運口的高度。
  7. 如請求項5所述之負載鎖定裝置，其中，前述氣體導入部，係具備用來分散氣體之氣體分散部，前述氣體分散部，係配置在與前述第2搬運口相對向的位置。
  8. 一種負載鎖定裝置，其特徵為，其係具備：具有連接於與減壓處理裝置相連接的轉送室之第1搬運口、和連接於裝載室的第2搬運口之負載鎖定室；在前述負載鎖定室中，用來保持基板之基板保持具；配置在前述負載鎖定室的下方，經由連結構件而連結在前述基板保持具之用來使前述基板保持具進行昇降之驅動機構；從前述負載鎖定室的下部往側方延長之延長室；配置在前述延長室的下方，且經由前述延長室來將前述負載鎖定室的氣體予以排出之泵浦；以及氣體導入部；前述氣體導入部配置在：通過前述第1搬運口來將前述基板搬運到前述轉送室的狀態時之前述基板保持具與前述轉送室之間的路徑的上方；前述延長室係具備：在偏離開前述基板保持具的鉛直下方的位置處設有開口之底面，而前述泵浦係連接於前述 開口；前述基板保持具的側面與前述負載鎖定室的內側面之間隙的面積，係小於前述第2搬運口的截面積。
  9. 一種負載鎖定裝置，其特徵為，其係具備：具有連接於與減壓處理裝置相連接的轉送室之第1搬運口、和連接於裝載室的第2搬運口之負載鎖定室；在前述負載鎖定室中，用來保持基板之基板保持具；配置在前述負載鎖定室的下方，經由連結構件而連結在前述基板保持具之用來使前述基板保持具進行昇降之驅動機構；從前述負載鎖定室的下部往側方延長之延長室；配置在前述延長室的下方，且經由前述延長室來將前述負載鎖定室的氣體予以排出之泵浦；以及氣體導入部；前述氣體導入部配置在：通過前述第1搬運口來將前述基板搬運到前述轉送室的狀態時之前述基板保持具與前述轉送室之間的路徑的上方；前述延長室係具備：在偏離開前述基板保持具的鉛直下方的位置處設有開口之底面，而前述泵浦係連接於前述開口；前述基板保持具的側面與前述負載鎖定室的內側面之間隙的面積，係小於前述第2搬運口的1/2截面積。
  10. 一種負載鎖定裝置，其特徵為，其係具 備：具有連接於與減壓處理裝置相連接的轉送室之第1搬運口、和連接於裝載室的第2搬運口之負載鎖定室；在前述負載鎖定室中，用來保持基板之基板保持具；配置在前述負載鎖定室的下方，經由連結構件而連結在前述基板保持具之用來使前述基板保持具進行昇降之驅動機構；從前述負載鎖定室的下部往側方延長之延長室；以及配置在前述延長室的下方，且經由前述延長室來將前述負載鎖定室的氣體予以排出之泵浦；前述延長室係具備：在偏離開前述基板保持具的鉛直下方的位置處設有開口之底面，而前述泵浦係連接於前述開口；前述基板保持具的側面與前述負載鎖定室的內側面之間隙的面積，係小於前述開口的截面積。
  11. 一種負載鎖定裝置，其特徵為，其係具備：具有連接於與減壓處理裝置相連接的轉送室之第1搬運口、和連接於裝載室的第2搬運口之負載鎖定室；在前述負載鎖定室中，用來保持基板之基板保持具；配置在前述負載鎖定室的下方，經由連結構件而連結在前述基板保持具之用來使前述基板保持具進行昇降之驅動機構；從前述負載鎖定室的下部往側方延長之延長室；以及 配置在前述延長室的下方，且經由前述延長室來將前述負載鎖定室的氣體予以排出之泵浦；前述延長室係具備：在偏離開前述基板保持具的鉛直下方的位置處設有開口之底面，而前述泵浦係連接於前述開口；前述基板保持具的側面與前述負載鎖定室的內側面之間隙的面積，係小於前述負載鎖定室與前述延長室之間的連接部分的截面積。
  12. 如請求項1至4及8至11中任一項所述之負載鎖定裝置，其中，前述基板保持具之高度方向的尺寸，係大於前述基板保持具的側面與前述負載鎖定室的內側面之間隙的尺寸。
  13. 如請求項1至4及8至11中任一項所述之負載鎖定裝置，其中，前述基板保持具之高度方向的尺寸，係落在前述基板保持具的側面與前述負載鎖定室的內側面之間隙的最大尺寸之3倍以上且115倍以下。
  14. 如請求項1至4及8至11中任一項所述之負載鎖定裝置，其中，前述延長室之高度方向的尺寸，係大於前述基板保持具之高度方向的尺寸。
  15. 如請求項1所述之負載鎖定裝置，其中，在通過前述第1搬運口而在前述負載鎖定室與前述轉送室之間移動基板的狀態下，前述基板保持具之下端的高度，係高於前述延長室之頂棚面的高度。
  16. 如請求項1至4及8至11中任一項所述之 負載鎖定裝置，其中，前述延長室之至少一部分，係配置在前述第2搬運口與前述泵浦之間。
  17. 如請求項1至4及8至11中任一項所述之負載鎖定裝置，其中，前述延長室之至少一部分，係配置在前述裝載室與前述泵浦之間。
  18. 如請求項1、2、10及11中任一項所述之負載鎖定裝置，其中，還具備用來將氣體分散到前述負載鎖定室的內部空間之氣體分散部，前述氣體分散部係被配置成與前述第2搬運口相對向，前述延長室之至少一部分，係配置在前述第2搬運口與前述泵浦之間。
  19. 如請求項1、2、10及11中任一項所述之負載鎖定裝置，其中，還具備用來將氣體分散到前述負載鎖定室的內部空間之氣體分散部，前述氣體分散部係被配置成與前述第2搬運口相對向，前述延長室之至少一部分，係配置在前述裝載室與前述泵浦之間。
  20. 如請求項3或4所述之負載鎖定裝置，其中，可以配置前述基板保持具的位置，係包含：被前述基板保持具所保持的前述基板的側面的一部分與前述氣體分散部相對向的位置。
  21. 如請求項1、2、10及11中任一項所述之 負載鎖定裝置，其中，還具備用來將氣體分散到前述負載鎖定室的內部空間之氣體分散部，在對於配置了前述負載鎖定裝置之地板的正投影中，前述基板保持具是位於前述氣體分散部與前述延長室之間。
  22. 如請求項1、2、10及11中任一項所述之負載鎖定裝置，其中，還具備用來將氣體分散到前述負載鎖定室的內部空間之氣體分散部，在對於配置了前述負載鎖定裝置之地板的正投影中，前述基板保持具是位於前述氣體分散部與前述開口之間。
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