JP2017139274A - 基板収納容器の連結機構および連結方法 - Google Patents
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Abstract
Description
図1は、本発明の一実施形態に係る連結機構を備えたマルチチャンバタイプの基板処理システムを概略的に示す水平断面図である。
次に、ウエハ収納容器であるFOUP10について説明する。
図2はFOUP10の一部を切り欠いて示す斜視図であり、図3はその底部を示す断面図である。
次に、ウエハ収納容器であるFOUPを常圧搬送室8に連結する連結機構であるロードポート11について説明する。
図4はロードポート11を示す斜視図、図5はロードポート11を示す縦断面図、図6はロードポート11を示す平面図、図7はロードポート11にFOUP10をドックした状態を示す縦断面図である。図4に示すように、3つのロードポート11は、それぞれ、ウエハ搬送口40と、基台41と、その上に設けられたFOUP10を載置するステージ(載置台)42と、ウエハ搬送口40を塞ぐ開閉ドア43とを備えている。ステージ42は、ステージ移動機構(図示せず)によって、前後方向に伸びるレール44に沿って前進および後退されるようになっている。ステージ42の進退動作により、FOUP10は後退位置であるアンロード位置と前進位置であるロード位置との間で移動する。図4、図5ではFOUP10がアンロード位置に置かれた状態を示している。FOUP10は、適宜の搬送装置により把持部25を把持された状態で、アンロード位置にあるステージ42上に搬送される。そして、ステージ42が前進され、ロード位置にて、FOUP10と常圧搬送室8とが連結され、搬送装置16によるウエハWの受け渡しが可能となる。
最初に、図8に示すように、例えば25枚のウエハWが収納されたウエハ収納容器であるFOUP10を搬送機構により、アンロード位置に位置するステージ42の上に載置し、ステージ42上に設けられた3本のキネマティックピン49により位置決めし、クランプ部材81によりクランプする。このとき、FOUP10の容器本体20と蓋体22とは、直動部27によりロックされている。
なお、本発明は上記実施の形態に限定されることなく、本発明の思想の範囲内において種々変形可能である。例えば、上記実施の形態では、ウエハ搬送口40の周縁を枠体46で構成し、枠体46と常圧搬送室の壁部8aとを別体とした例について示したが、これらは一体的に設けてもよい。
5;真空搬送室
6;ロードロック室
8;常圧搬送室
8a;壁部
10;FOUP(基板収納容器)
11;ロードポート(連結機構)
19;制御部
20;容器本体
22;蓋体
31;ガス供給口
37;排気口
40;ウエハ搬送口
41;基台
42;ステージ(載置部)
43;開閉ドア
46;枠体
47,71,72;シール部材
51;ガス供給用コネクタ
52;ガス供給管
54;排気用コネクタ
55;排気管
61;排気・ガス供給溝
62;第1排気口排気ライン
63;搬送口パージガスライン
64;連通配管
65;排気溝
66;第2排気口排気ライン
V1,V2,V3,V5,V6,V7;バルブ
V4;連通バルブ
W;半導体ウエハ
Claims (10)
- 複数の基板を収納する容器本体と前記容器本体の開口部を開閉する蓋体とを有する基板収納容器を、内部にパージガスが循環され、基板を処理する処理部に基板を搬送する常圧搬送室に連結する基板収納容器の連結機構であって、
前記基板収納容器を載置する載置部と、
前記常圧搬送室の壁部に設けられた基板搬送口と、
前記基板搬送口の前記常圧搬送室側で前記基板搬送口を塞ぐように設けられ、前記常圧搬送室側に移動して前記基板搬送口を開放するように構成された開閉ドアと、
前記載置部に載置された前記基板収納容器を前記開閉ドアに密着させ、前記基板収納容器の前記蓋体と前記開閉ドアとを結合させる結合機構と、
前記基板収納容器が前記結合機構により前記開閉ドアに結合している状態で、前記基板収納容器内を排気するとともに、前記基板収納容器内にパージガスを供給する排気・パージ機構と、
前記基板搬送口の周縁と前記開閉ドアとをシールする第1のシール部と、
前記開閉ドアと前記基板収納容器の蓋体との間をシールする第2のシール部材と、
前記基板搬送口の周縁と前記基板収納容器の前記容器本体とをシールする第3のシール部材と、
前記第1〜第3のシール部材により形成された、前記開閉ドアと前記基板収納容器の蓋体との間の空間、および前記開閉ドアと前記基板搬送口の周縁との間の空間を排気する排気手段と
を具備し、
前記排気手段により、前記開閉ドアと前記基板収納容器の蓋体との間の空間、および前記開閉ドアと前記基板搬送口の周縁との間の空間を排気することにより、これら空間に、前記排気・パージ機構から前記基板収納容器に供給されたパージガスが供給されることを特徴とする基板収納容器の連結機構。 - 前記排気手段は、前記開閉ドアと前記基板収納容器の蓋体との間の密閉された第1空間を排気する第1の排気機構と、前記開閉ドアと前記基板搬送口の周縁との間の密閉された第2空間を排気する第2の排気機構とを有することを特徴とする請求項1に記載の基板収納容器の連結機構。
- 前記常圧搬送室と前記第2空間とを連通する連通配管と、前記連通配管に設けられた連通バルブとをさらに具備することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の基板収納容器の連結機構。
- 前記第2空間にパージガスを供給するパージガス供給機構をさらに具備することを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の基板収納容器の連結機構。
- 前記基板搬送口の周縁は、前記常圧搬送室の前記壁部とは別個に構成された枠体で構成され、前記枠体と前記開閉ドアとが前記第1のシール部材でシールされ、前記第2の排気機構の排気溝が前記枠体の内周に設けられていることを特徴とする請求項2に記載の基板収納容器の連結機構。
- 前記開閉ドアの前記基板収納容器と対向する面に排気溝が形成されており、前記第1の排気機構は前記排気溝を介して前記第1空間を排気することを特徴とする請求項2に記載の基板収納容器の連結機構。
- 複数の基板を収納する容器本体と前記容器本体の開口部を開閉する蓋体とを有する基板収納容器を、内部にパージガスが循環され、基板を処理する処理部に基板を搬送する常圧搬送室に連結する基板収納容器の連結方法であって、
前記常圧搬送室の壁部に形成された基板搬送口を開閉ドアで塞いだ状態とすることと、
前記基板収納容器を、前記開閉ドアに密着させ、前記基板収納容器の前記蓋体と前記開閉ドアとを結合させることと、
前記基板搬送口の周縁と前記開閉ドアの間、前記開閉ドアと前記基板収納容器の蓋体との間、および前記基板搬送口の周縁と前記基板収納容器の前記容器本体との間をシールし、これらの間の空間を密閉空間とすることと、
前記基板収納容器が前記開閉ドアに結合している状態で、前記基板収納容器内を排気するとともに、前記基板収納容器内にパージガスを供給することと、
前記密閉空間を排気することにより、前記密閉空間に、前記基板収納容器に供給されたパージガスを供給させることと
を有することを特徴とする基板収納容器の連結方法。 - 前記密閉空間を排気してパージした後、前記密閉空間の排気を停止し、前記開閉ドア内と前記常圧搬送室とを連通させて、これらの圧力が等しくなるようにした後、前記開閉ドアを前記常圧搬送室側に移動させて前記基板搬送口を開放することを特徴とする請求項7に記載の基板収納容器の連結方法。
- 前記密閉空間の排気は、前記開閉ドアと前記基板収納容器の蓋体との間の第1空間と、前記開閉ドアと前記基板搬送口の周縁との間の第2空間とで個別的に行うことを特徴とする請求項7または請求項8に記載の基板収納容器の連結方法。
- 前記密閉空間を排気してパージした後、前記開閉ドアと前記基板搬送口の周縁との間の第2空間の排気を停止し、前記第2空間にパージガスを供給し、その後、前記開閉ドアと前記基板収納容器の蓋体との間の第1空間の排気および前記第2空間へのパージガスの供給を停止し、引き続き、前記開閉ドア内と前記常圧搬送室とを連通させて、これらの圧力が等しくなるようにし、その後、前記開閉ドアを前記常圧搬送室側に移動させて前記基板搬送口を開放することを特徴とする請求項9に記載の基板収納容器の連結方法。
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KR1020170014475A KR101903270B1 (ko) | 2016-02-02 | 2017-02-01 | 기판 수납 용기의 연결 기구 및 연결 방법 |
US15/423,483 US10134619B2 (en) | 2016-02-02 | 2017-02-02 | Connecting mechanism and connecting method of substrate container |
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Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019062191A (ja) * | 2017-09-26 | 2019-04-18 | 株式会社Kokusai Electric | 基板処理装置及び半導体装置の製造方法 |
JP2019102617A (ja) * | 2017-11-30 | 2019-06-24 | Tdk株式会社 | 仮置きストッカ |
WO2020131641A1 (en) * | 2018-12-19 | 2020-06-25 | Applied Materials, Inc. | Selectable-rate bottom purge apparatus and methods |
WO2020235455A1 (ja) * | 2019-05-20 | 2020-11-26 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理装置および処理方法 |
JP2022505396A (ja) * | 2018-10-26 | 2022-01-14 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 高流速でガスパージされる側部収納ポッド装置、アセンブリ、及び方法 |
JP7422577B2 (ja) | 2020-03-23 | 2024-01-26 | 平田機工株式会社 | ロードポート及び制御方法 |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6226190B2 (ja) * | 2014-02-20 | 2017-11-08 | Tdk株式会社 | パージシステム、及び該パージシステムに供せられるポッド及びロードポート装置 |
TWI727562B (zh) * | 2015-08-04 | 2021-05-11 | 日商昕芙旎雅股份有限公司 | 裝載埠 |
TWI746204B (zh) * | 2015-08-04 | 2021-11-11 | 日商昕芙旎雅股份有限公司 | 門開閉系統及具備門開閉系統之載入埠 |
JP6561700B2 (ja) * | 2015-09-04 | 2019-08-21 | シンフォニアテクノロジー株式会社 | ガス注入装置 |
JP2017108049A (ja) * | 2015-12-11 | 2017-06-15 | Tdk株式会社 | Efemにおけるウエハ搬送部及びロードポート部の制御方法 |
DE102016205597B4 (de) * | 2016-04-05 | 2022-06-23 | Fabmatics Gmbh | Purge-Messsystem für FOUPs |
US10262884B2 (en) | 2016-11-10 | 2019-04-16 | Applied Materials, Inc. | Systems, apparatus, and methods for an improved load port |
US10446428B2 (en) | 2017-03-14 | 2019-10-15 | Applied Materials, Inc. | Load port operation in electronic device manufacturing apparatus, systems, and methods |
JP7132483B2 (ja) * | 2018-03-15 | 2022-09-07 | シンフォニアテクノロジー株式会社 | 密閉設備 |
WO2019194327A1 (ko) * | 2018-04-02 | 2019-10-10 | 우범제 | 웨이퍼 수납용기 |
KR102128483B1 (ko) * | 2018-09-27 | 2020-06-30 | 크린팩토메이션 주식회사 | 웨이퍼 퍼지형 선반 어셈블리 및 그를 구비하는 버퍼 모듈 |
KR102126466B1 (ko) * | 2018-09-27 | 2020-06-24 | 크린팩토메이션 주식회사 | 이에프이엠 |
WO2020065968A1 (ja) * | 2018-09-28 | 2020-04-02 | ミライアル株式会社 | 基板収納容器 |
KR102212996B1 (ko) * | 2019-01-02 | 2021-02-08 | 피에스케이홀딩스 (주) | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 |
JP7299474B2 (ja) * | 2019-03-13 | 2023-06-28 | シンフォニアテクノロジー株式会社 | Efem |
KR102389879B1 (ko) * | 2020-06-29 | 2022-04-22 | 송춘기 | 질소 누출 방지 기능을 구비한 이에프이엠 시스템 |
US11545379B2 (en) * | 2020-07-31 | 2023-01-03 | Nanya Technology Corporation | System and method for controlling semiconductor manufacturing equipment |
US20220130698A1 (en) * | 2020-10-22 | 2022-04-28 | Nanya Technology Corporation | Gas purge device and gas purging method |
JP2022122205A (ja) * | 2021-02-09 | 2022-08-22 | 株式会社ディスコ | シートの貼着装置 |
CN117080134B (zh) * | 2023-10-13 | 2024-01-30 | 泓浒(苏州)半导体科技有限公司 | 一种具有充气密封抗氧化作用晶圆片传送载具 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006140516A (ja) * | 2005-12-22 | 2006-06-01 | Toshiba Corp | 基板収納容器 |
JP2012195438A (ja) * | 2011-03-16 | 2012-10-11 | Tokyo Electron Ltd | 蓋体開閉装置 |
JP2015126203A (ja) * | 2013-12-27 | 2015-07-06 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板受け渡し装置及び基板受け渡し方法 |
WO2017022431A1 (ja) * | 2015-08-04 | 2017-02-09 | シンフォニアテクノロジー株式会社 | ドア開閉システムおよびドア開閉システムを備えたロードポート |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5169272A (en) | 1990-11-01 | 1992-12-08 | Asyst Technologies, Inc. | Method and apparatus for transferring articles between two controlled environments |
JP3277550B2 (ja) * | 1992-05-21 | 2002-04-22 | 神鋼電機株式会社 | 可搬式密閉コンテナ用ガスパージユニット |
US5586585A (en) * | 1995-02-27 | 1996-12-24 | Asyst Technologies, Inc. | Direct loadlock interface |
JP3796782B2 (ja) * | 1995-11-13 | 2006-07-12 | アシスト シンコー株式会社 | 機械的インターフェイス装置 |
JP2000216175A (ja) | 1999-01-26 | 2000-08-04 | Sony Corp | 密閉コンテナ及び雰囲気置換装置並びにこれらの製造方法 |
JP3769417B2 (ja) * | 1999-06-30 | 2006-04-26 | 株式会社東芝 | 基板収納容器 |
US9010384B2 (en) * | 2004-06-21 | 2015-04-21 | Right Mfg. Co. Ltd. | Load port |
EP1780785A4 (en) * | 2004-06-21 | 2009-04-01 | Right Mfg Co Ltd | LOADING PORT |
US20080236487A1 (en) * | 2004-09-15 | 2008-10-02 | Hitachi Kokusai Electric Inc., | Semiconductor Manufacturing Apparatus And Semiconductor Device Manufacturing Method |
JP5410794B2 (ja) * | 2009-03-17 | 2014-02-05 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置 |
JP5041348B2 (ja) * | 2010-02-26 | 2012-10-03 | Tdk株式会社 | 清浄ガスの置換機能を備えた基板収納ポッド |
JP2012204645A (ja) * | 2011-03-25 | 2012-10-22 | Tokyo Electron Ltd | 蓋体開閉装置 |
JP6099945B2 (ja) * | 2012-11-22 | 2017-03-22 | 東京エレクトロン株式会社 | 蓋開閉機構、遮蔽機構及び容器の内部パージ方法 |
JP6349750B2 (ja) | 2014-01-31 | 2018-07-04 | シンフォニアテクノロジー株式会社 | Efem |
TWI635552B (zh) | 2013-12-13 | 2018-09-11 | 昕芙旎雅股份有限公司 | 設備前端模組(efem) |
WO2016035675A1 (ja) * | 2014-09-05 | 2016-03-10 | ローツェ株式会社 | ロードポート及びロードポートの雰囲気置換方法 |
KR20210080633A (ko) * | 2014-11-25 | 2021-06-30 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 기판 캐리어 및 퍼지 챔버 환경 제어들을 이용하는 기판 프로세싱 시스템들, 장치, 및 방법들 |
JP6459682B2 (ja) * | 2015-03-20 | 2019-01-30 | Tdk株式会社 | ガスパージ装置、ロードポート装置およびガスパージ方法 |
-
2016
- 2016-02-02 JP JP2016017628A patent/JP6632403B2/ja active Active
-
2017
- 2017-01-23 TW TW106102447A patent/TWI723122B/zh active
- 2017-02-01 KR KR1020170014475A patent/KR101903270B1/ko active IP Right Grant
- 2017-02-02 US US15/423,483 patent/US10134619B2/en active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006140516A (ja) * | 2005-12-22 | 2006-06-01 | Toshiba Corp | 基板収納容器 |
JP2012195438A (ja) * | 2011-03-16 | 2012-10-11 | Tokyo Electron Ltd | 蓋体開閉装置 |
JP2015126203A (ja) * | 2013-12-27 | 2015-07-06 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板受け渡し装置及び基板受け渡し方法 |
WO2017022431A1 (ja) * | 2015-08-04 | 2017-02-09 | シンフォニアテクノロジー株式会社 | ドア開閉システムおよびドア開閉システムを備えたロードポート |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019062191A (ja) * | 2017-09-26 | 2019-04-18 | 株式会社Kokusai Electric | 基板処理装置及び半導体装置の製造方法 |
JP7018370B2 (ja) | 2017-09-26 | 2022-02-10 | 株式会社Kokusai Electric | 基板処理装置及び半導体装置の製造方法及びプログラム |
JP2019102617A (ja) * | 2017-11-30 | 2019-06-24 | Tdk株式会社 | 仮置きストッカ |
JP7077593B2 (ja) | 2017-11-30 | 2022-05-31 | Tdk株式会社 | 仮置きストッカ |
JP2022505396A (ja) * | 2018-10-26 | 2022-01-14 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 高流速でガスパージされる側部収納ポッド装置、アセンブリ、及び方法 |
JP7137697B2 (ja) | 2018-10-26 | 2022-09-14 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 高流速でガスパージされる側部収納ポッド装置、アセンブリ、及び方法 |
WO2020131641A1 (en) * | 2018-12-19 | 2020-06-25 | Applied Materials, Inc. | Selectable-rate bottom purge apparatus and methods |
US11061417B2 (en) | 2018-12-19 | 2021-07-13 | Applied Materials, Inc. | Selectable-rate bottom purge apparatus and methods |
WO2020235455A1 (ja) * | 2019-05-20 | 2020-11-26 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理装置および処理方法 |
JP7422577B2 (ja) | 2020-03-23 | 2024-01-26 | 平田機工株式会社 | ロードポート及び制御方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR101903270B1 (ko) | 2018-10-01 |
US20170221743A1 (en) | 2017-08-03 |
TW201740496A (zh) | 2017-11-16 |
US10134619B2 (en) | 2018-11-20 |
KR20170092120A (ko) | 2017-08-10 |
TWI723122B (zh) | 2021-04-01 |
JP6632403B2 (ja) | 2020-01-22 |
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